JP2000512060A - 基盤を乾燥する装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 紫外線を投射することによって基盤円板（３）を乾燥し、投射過程中、ガラス板（１１）が基盤円板（３）上に載せられるこの装置においては、簡単な技術的手段及び装置の簡単な操作で、完成した基盤円板の大きな歩留まり及びより良好な品質が、ガラス板（１１）を、下方部分（２３）上に位置する基盤円板（３）上に降下させる昇降可能な上方部分（６）によって、生ぜしめられる。

Description

【発明の詳細な説明】 基盤を乾燥する装置 本発明は、紫外線を投射することによって基盤円板を乾燥する装置であって、 投射過程中、ガラス板が基盤円板上に載せられる形式のものに関する。 このような乾燥装置は、特にコンパクト円板（コンパクトディスクあるいはＣ Ｄ）、ミニ円板（ミニディスク）、磁気光学的円板（マグネトオプティカルディ スク）、ＣＤ−ＲＯＭ、ＣＤ−Ｒ、フォト円板又はヴィデオ円板（フォトＣＤ及 び又はヴィデオディスク）及び又はデジタルヴィデオディスク（ＤＶＤ）の製作 の際に使用される。特に、互いに接着された２つの部分基盤から成る基盤円板を 製作する場合には、乾燥過程中、ガラス板が基盤円板上に載せられて、基盤が乾 燥過程中、波形になったり、あるいはその平らな形状を失うことが阻止される。 この場合、乾燥とは、例えば２つの基盤を互いに接着して１つの基盤円板にする 接着剤の硬化も意味する。乾燥せしめられる基盤円板は、普通は円形切り替えテ ーブル上にあって、この円形切り替えテーブルは断続的に回動して、基盤円板を 乾燥装置の乾燥領域に運ぶ。基盤円板が乾燥領域内に達する前に、ガラス板がガ ラス板操作器によって基盤円板上に載せられて、基盤円板が乾燥装置から回し出 されて乾燥過程が終わった後に、再び取り除かれる。ガラス板を基盤円板上にガ ラス板操作器によって載せることによって、基盤円板上に一様でない圧力が作用 せしめられることを回避することができない。これによって、接着される基盤の 間にある接着剤の層が変化し、接着剤の層が、まだ乾燥していない若しくはまだ 硬化していない状態で、その層厚を圧力によって変化せしめられる。このことは 、完成した基盤円板の歩留まりを低くし、品質を著しく損なうことが分かった。 したがって本発明の根底をなす課題は、簡単な技術的な手段によって、かつ装 置の簡単な操作によって、完成した基盤円板の高い歩留まり及びより良好な晶質 を可能にする、最初に述べた形式の乾燥装置を創出することである。 この課せられた課題は、本発明によれば、ガラス板を下方部分上に位置してい る基盤円板上に下ろす昇降可能な上方部分によって解決される。ガラス板を載せ ることは、要するに本発明によれば乾燥装置自体内で行われ、したがってガラス 板を載せることと、乾燥過程を開始することとの間の時間を極めてわずかにする ことができる。このことは製作される基盤円板の歩留まりと晶質とにとって極め て重要である。それは、前もって大きな装置技術的な費用をかけて、接着される 基盤の間に一様に塗布された接着剤がその一様性を失い、接着される基盤の間に 接着剤の種々の層厚が生じ 、基盤円板の低い歩留まり及び低い品質がもたらされるからである。乾燥過程の 前に接着剤層を一様に塗布するためには、大きな経費がかけられる。これによっ て達成される一様な接着剤層の利点を失わないようにするために、本発明による 装置では、ガラス板を載せることと、乾燥過程を開始することとの間の極めて短 い時間を達成することができる。 本発明の別の極めて有利な１実施形態では、上方部分は、上方部分がガラス板 を基盤上に下ろすために下降する際に基盤の下方に降下するガラス板保持部を有 している。この形式でガラス板は、付加的なかつ一様でない圧力負荷なしに、基 盤上に下ろされ、これによってガラス板の圧力は基盤の全表面にわたって極めて 一様である。それは、ガラス板の自重だけがこの載り圧力を作用させるからであ る。この形式で、前もって一様な厚さであった接着剤層が基盤円板の面全体にわ たってほぼ維持されたままになる。 有利にはガラス板保持部は複数の保持薄板を有しており、これらの保持薄板上 に、上方部分が下降せしめられていない状態で、ガラス板の縁範囲が接触してい る。したがってガラス板を基盤円板上に下ろすための装置的な手段は簡単に構成 することができ、特に、保持薄板ひいては保持部の位置及びガラス板の下降を簡 単に生ぜしめることが、簡単な手段によって可能である。 保持薄板は有利には、例えば高輝度研磨されていることによって、反射面とし て構成されている。これによって保持薄板は紫外線を特に乾燥される基盤円板の 縁範囲において適当な形式で反射し、したがってこれによって臨界的な縁部乾燥 が改善され、加速される。保持薄板はガラス板を基盤円板上に載せた後は基盤円 板の下方にあるので、これらの保持薄板を基盤円板の下方で使用することによっ て、上方から投射される紫外線を基盤円板の下縁領域にも向けることが可能であ る。 本発明の別の極めて有利な１実施形態では、ガラス板は基盤円板のための投射 室を上方に向かって閉鎖している。要するにガラス板は投射室のための閉鎖壁を 形成し、このことは、乾燥装置が別の１実施形態により、処理室内の空気を押し 出すガスを導入するため、例えば窒素を導入するためのガス流入装置を有してい る場合に、特に有利である。処理室内にある空気を押し出すことによって、空気 内に含まれている酸素が強度のＵＶ投射によって、ＵＶ線を強く吸収し、乾燥過 程を阻害又は遅延させるオゾンに変換することがない。本発明により昇降可能な 乾燥装置の上方部分によって、ガラス板を単に基盤円板上に載せるだけでなしに 、代替的に、基盤円板から所望の間隔をおかせることも可能であり、したがって ガラス円板とガラス板との間においてやはりそこにある空気を流入せしめられた ガスによって押し出すことができ、乾燥過程が基盤円板の面全体にわたって改善 又は加速される。特に本発明による装置によれば、迅速にかつ付加的な経費なし に、基盤円板の乾燥形式を変化させることも、すなわちガラス板を完全に基盤円 板上に載せるか、あるいはガラス板を乾燥過程中、基盤円板の上方に所望の間隔 をおいて保持することも可能である。 本発明の別の有利な１実施形態では、ガラス板と基盤との間にスペーサが設け られている。この場合このスペーサはガラス板保持部に設けておくことができ、 したがってこれによってガラス板は基盤円板上に載せられない。ガラス板と基盤 円板との間の所望の間隔に相応する所望の厚さを有することができるこのスペー サによって、スペーサをガラス板保持部に設けるだけで、本発明による装置を、 ガラス板を載せる機能形式から、ガラス板と基盤円板との間に中間室を形成する 機能形式に切り替えることも可能である。 本発明の特に有利な１実施形態では、持ち上げられた状態の上方部分を投射室 内に、又は投射室から回転又は旋回させる回転装置が設けられている。この場合 この回転装置は有利には、上方部分を昇降させるための昇降装置内に内蔵若しく は昇降装置と組み合わされていて、ガラス板操作のための駆動装置はコンパクト にかつ簡単に構成されている。 有利には、回転装置は複数の上方部分を備えた円形 回転テーブルを有している。これによって、前もって乾燥過程中に加熱されたガ ラス板を、本発明の別の１実施形態で設けられている冷却ステーションに運ぶこ とが可能である。要するに冷却ステーションは、乾燥装置の投射室内にないガラ ス板を冷却し、次いでこれらのガラス板は、別の乾燥過程の前に基盤円板上に載 せられる場合に、再び基盤円板に相応する温度になっている。載せられたガラス 板と基盤円板との温度が著しく相違している場合には、やはり基盤円板の製晶晶 質が損なわれ、歩留まりが減少する。 本発明の有利な１実施形態では、円形回転テーブルは４つの上方部分を有して おり、これらの上方部分のうちのその都度２つの上方部分が乾燥装置の投射室内 に、かつその都度２つの上方部分が冷却ステーション内にある。要するにこの実 施形態においては、円形回転テーブルは１８０°ずつ回転せしめられ、次いで下 方部分の上方にある両方の上方部分が同時に基盤円板上に降下せしめられる。次 いで乾燥過程が乾燥装置内で２つの基盤円板に対して同時に行われる。 冷却媒体としては任意の適当な流体を使用することができる。しかしながらこ の場合イオン化された空気が有利であり、このイオン化された空気は冷却ステー ション内に吹き込まれ、乾燥されるガラス板に沿って流れる。 本発明の別の有利な１実施形態では、乾燥装置の下 方部分は基盤円板のための回転可能な支持皿として構成されている。この形式で 、投射室内で皿上に位置する基盤円板は一様な投射条件におかれ、接着剤の一様 でかつ迅速な乾燥若しくは硬化が行われ、これによって製品品質がやはり改善さ れる。 以下においては、図面を参照して本発明を有利な１実施例について説明する。 図１は本発明による乾燥装置の概略的な平面図である。 図２は上方部分を持ち上げた状態での図１の断面線−に沿った横断面図を示す 。 図３は上方部分を下降させた状態での上方部分と下方部分との拡大横断面図を 示す。 図４は投射ステーション８において支持皿を回転させる装置を説明するための 図示の実施例の一部分の平面図である。 乾燥装置の図示の実施例は、図１によれば、乾燥される基盤円板３のための８ つの支持位置２を備えた円形切り替えテーブル１を有している。ガラス操作器４ は４つのアーム５を有しており、これらのアームの端部にはそれぞれ１つの、乾 燥装置の上方部分６が取り付けられている。ガラス操作器４は中央を支柱７によ って保持されており、この支柱は回転可能若しくは旋回可能であり、かつ上昇若 しくは降下させることができる。投射ステーション８は２つの支持位置２の範囲 内にあり、投射ステーション８内にない上方部分６の範囲内には冷却ステーショ ン９がある。 前もって先行の製作段階で２つの基盤を接着されて構成されている乾燥される 基盤円板３は基盤操作器１０によって円形切り替えテーブル１の支持位置２にお かれる。乾燥過程の前及び後の製作段階に関する重複を避けるために、本願権利 者による１９９７年４月３０日付け出願のまだ公開されていないDE-OS-197 1847 1を指摘しておく。 円形切り替えテーブル１は時計回り方向に断続的に４５°ずつ回転し、したが ってその都度２つの基体円板１０が投射ステーション８内に達する。次いでガラ ス操作器４が１８０°だけ回転せしめられ、それぞれ１つのガラス板１１を投射 ステーション８内にある基盤円板１０上に載せることができる。この回転運動の 際に冷却ステーション９内に達する両方の別のガラス板１１はそこで例えばイオ ン化された空気で冷却される。 乾燥せしめられた基盤円板１０は投射ステーション８から出た後に別の操作器 １２によってつかまれ、乾燥装置から取り出される。 特に図２から分かるように、投射ステーション８は上方のＵＶランプ２１と下 方のＵＶランプ２２とを有しており、これらのＵＶランプの間に上方部分６と下 方部分２３とが配置されている。上方のＵＶランプ２ １の下方のシャッタ２４と下方のＵＶランプ２２の上方のシャッタ２５とは、下 方部分２３上に位置している基盤円板１０の制御されたかつコントロールされた ＵＶ投射を可能にする。 下方部分２３は定置であるのに対し、上方部分６はアーム２６を介して、図２ において部分断面で概略的に示されている回転兼昇降装置２７と結合されており 、この回転兼昇降装置で、上方部分６が昇降せしめられ、並びに図平面に対して 垂直に投射室２８から回転若しくは旋回せしめられる。 図３は図２に示した装置の一部分、それも上方部分６と下方部分２３とを、上 方部分６が下方部分２３錠に下降せしめられた状態で、拡大して示す。 上方部分６は長方形の枠３１を有している。上方部分６の下側には、少なくと も側方の枠部分３１のところで、それぞれ１つのガラス板保持部３２，３３があ り、これらのガラス板保持部は図示の実施例では、ガラス板１１を支持するため の支持縁３４，３５を有する曲げられた薄板部分として構成されている。ガラス 板保持部３２，３３はねじ３６，３７によって上方部分６の下面に固定されてい る。 ガラス板１１は、上方部分６が持ち上げられている場合に（図２参照）、その 縁範囲がガラス板保持部３２，３３の支持縁３４，３５上に支えられているのに 対し、上方部分６が下降せしめられる場合には、支持 縁３４，３５から解放される。それは、支持縁は、ガラス板１１が上方部分６の 下降の際に図３において破線で示した基盤円板１０と接触するように、下方に向 かって下降するからである。要するにガラス板１１は基盤円板３上に柔らかく載 せられ、その自重で基盤円板上を一様に押し、したがってガラス板は、ガラス板 １１が載った直後に始まる乾燥過程中、基盤円板３を平らに保持する。 図３から最もよく分かるように、上方部分６の枠３１にはガス流入装置４０が あり、このガス流入装置を経て例えば窒素が投射室内に流入せしめられる。図３ に示した実施例では、ガラス板１１は基盤円板３上に位置している。これに対し 、ガラス板と基盤円板との間に中間室を存在させて、そこにおいても空気及び乾 燥装置において不利な空気内酸素を窒素によって押し出そうとする場合には、上 方部分５は距離を短く、すなわち所望の中間室がガラス板１１と基盤円板３との 間に残されるように、下降せしめられる。この場合、ガラス板１１はガラス板保 持部３２若しくは３３の支持縁３４若しくは３４上に位置したままであり、乾燥 過程中もこの位置に保たれる。 図示の実施例では、下方部分２３は支持ガラス板４２を備えた支持皿４１を有 しており、この支持ガラス板上に基盤円板３が位置している。支持皿４１はロー ラ４３，４４，４５によって回転可能に、かつ同時に その位置において案内されている。図示の実施例では３つのローラ４３，４４， ４５はそれぞれ１２０°ずつ角度をずらされて設けられている。しかしながら図 １においては単に２つのローラ４３，４４しか示されていない。 図４は、支持皿４１を有する円形切り替えテーブル１の一部分を示し、これら の支持皿はそれぞれそれらの縁部を、１２０°ずつずらされているローラ４３， ４４，４５によって案内されかつ支承されている。円形切り替えテーブル１が時 計回り方向に回転して、その上に基盤円板３を保持している支持皿４１が投射ス テーション８内に達すると、支持皿４１の縁部が、支持アーム４７の端部に支承 されていて駆動される駆動ローラ４６と接触する。乾燥過程中、支持皿４１ひい てはまた基盤円板３は、場合により基盤円板３上に位置しているガラス板１１と 一緒に、回転せしめられ、したがって一様でかつ迅速な基盤円板若しくは接着剤 の乾燥及び硬化が生ぜしめられる。見やすくするために、ガラス操作器４は図４ においては示されていない。 以上本発明は有利な実施例によって説明した。しかしながら本発明の範囲内で 、変化実施例が可能である。例えば乾燥される基盤円板を投射ステーション８の 下方に搬送するために、円形切り替えテーブル１の代わりに、直線的な搬送装置 を使用することもできる。

【手続補正書】特許法第１８４条の８第１項 【提出日】平成１１年３月２９日（１９９９．３．２９） 【補正内容】 明細書 基盤を乾燥する装置 本発明は、紫外線を投射することによって基盤円板を乾燥する装置であって、 投射過程中、ガラス板が基盤円板上に載せられる形式のものに関する。 このような乾燥装置は、特にコンパクト円板（コンパクトディスクあるいはＣ Ｄ）、ミニ円板（ミニディスク）、磁気光学的円板（マグネトオプティカルディ スク）、ＣＤ−ＲＯＭ、ＣＤ−Ｒ、フォト円板又はヴィデオ円板（フォトＣＤ及 び又はヴィデオディスク）及び又はデジタルヴィデオディスク（ＤＶＤ）の製作 の際に使用される。特に、互いに接着された２つの部分基盤から成る基盤円板を 製作する場合には、乾燥過程中、ガラス板が基盤円板上に載せられて、基盤が乾 燥過程中、波形になったり、あるいはその平らな形状を失うことが阻止される。 この場合、乾燥とは、例えば２つの基盤を互いに接着して１つの基盤円板にする 接着剤の硬化も意味する。乾燥せしめられる基盤円板は、普通は円形切り替えテ ーブル上にあって、この円形切り替えテーブルは断続的に回動して、基盤円板を 乾燥装置の乾燥領域に運ぶ。基盤円板が乾燥領域内に達する前に、ガラス板がガ ラス板操作器によって基盤円板上に載せられて、基盤円板が乾燥装置から回し出 されて乾燥過程が終わった後に、再び取り除かれる。ガラス板を基盤円板上にガ ラス板操作器によって載せることによって、基盤円板上に一様でない圧力が作用 せしめられることを回避することができない。これによって、接着される基盤の 間にある接着剤の層が変化し、接着剤の層が、まだ乾燥していない若しくはまだ 硬化していない状態で、その層厚を圧力によって変化せしめられる。このことは 、完成した基盤円板の歩留まりを低くし、品質を著しく損なうことが分かった。 文献JP-A-58 042-435から公知のデータ記録担体を製作する装置においては、 透明な平らな板がフォトプラスチック層上に載せられ、その際プラスチック層に 光が投射される。 文献EP-A-0 762 409は、基盤を接着する方法及び装置を示しかつ記載しており 、基盤は接着の後にＵＶ投射を受けて、接着剤を硬化せしめられる。 したがって本発明の根底をなす課題は、簡単な技術的な手段によって、かつ装 置の簡単な操作によって、完成した基盤円板の高い歩留まり及びより良好な品質 を可能にする、最初に述べた形式の乾燥装置を創出することである。 この課せられた課題は、本発明によれば、上方部分がガラス板保持部を有して おり、このガラス板保持部が、上方部分がガラス板を基盤円板上に下ろすために 下降する際に、基盤の下方に降下するようにすること によって、解決される。ガラス板を載せることは、要するに本発明によれば乾燥 装置自体内で行われ、したがってガラス板を載せることと、乾燥過程を開始する こととの間の時間を極めてわずかにすることができる。このことは製作される基 盤円板の歩留まりと品質とにとって極めて重要である。それは、前もって大きな 装置技術的な費用をかけて、接着される基盤の間に一様に塗布された接着剤がそ の一様性を失い、接着される基盤の間に接着剤の種々の層厚が生じ、基盤円板の 低い歩留まり及び低い晶質がもたらされるからである。乾燥過程の前に接着剤層 を一様に塗布するためには、大きな経費がかけられる。これによって達成される 一様な接着剤層の利点を失わないようにするために、本発明による装置では、ガ ラス板を載せることと、乾燥過程を開始することとの間の極めて短い時間を達成 することができる。 ガラス板保持部によって、ガラス板は、付加的なかつ一様でない圧力負荷なし に、基盤上に下ろされ、これによってガラス板の圧力は基盤の全表面にわたって 極めて一様である。それは、ガラス板の自重だけがこの載り圧力を作用させるか らである。この形式で、前もって一様な厚さであった接着剤層が基盤円板の面全 体にわたってほぼ維持されたままになる。 円形切り替えテーブル１は時計回り方向に断続的に４５°ずつ回転し、したが ってその都度２つの基体円板３が投射ステーション８内に達する。次いでガラス 操作器４が１８０°だけ回転せしめられ、それぞれ１つのガラス板１１を投射ス テーション８内にある基盤円板１０上に載せることができる。この回転運動の際 に冷却ステーション９内に達する両方の別のガラス板１１はそこで例えばイオン 化された空気で冷却される。 乾燥せしめられた基盤円板３は投射ステーション８から出た後に別の操作器１ ２によってつかまれ、乾燥装置から取り出される。 特に図２から分かるように、投射ステーション８は上方のＵＶランプ２１と下 方のＵＶランプ２２とを有しており、これらのＵＶランプの間に上方部分６と下 方部分２３とが配置されている。上方のＵＶランプ２１の下方のシャッタ２４と 下方のＵＶランプ２２の上方のシャッタ２５とは、下方部分２３上に位置してい る基盤円板３の制御されたかつコントロールされたＵＶ投射を可能にする。 下方部分２３は定置であるのに対し、上方部分６はアーム２６を介して、図２ において部分断面で概略的に示されている回転兼昇降装置２７と結合されており 、この回転兼昇降装置で、上方部分６が昇降せしめられ、並びに図平面に対して 垂直に投射室２８から回転 若しくは旋回せしめられる。 図３は図２に示した装置の一部分、それも上方部分６と下方部分２３とを、上 方部分６が下方部分２３錠に下降せしめられた状態で、拡大して示す。 上方部分６は長方形の枠３１を有している。上方部分６の下側には、少なくと も側方の枠部分３１のところで、それぞれ１つのガラス板保持部３２，３３があ り、これらのガラス板保持部は図示の実施例では、ガラス板１１を支持するため の支持縁３４，３５を有する曲げられた薄板部分として構成されている。ガラス 板保持部３２，３３はねじ３６，３７によって上方部分６の下面に固定されてい る。 ガラス板１１は、上方部分６が持ち上げられている場合に（図２参照）、その 縁範囲がガラス板保持部３２，３３の支持縁３４，３５上に支えられているのに 対し、上方部分６が下降せしめられる場合には、支持縁３４，３５から解放され る。それは、支持縁は、ガラス板１１が上方部分６の下降の際に図３において破 線で示した基盤円板３と接触するように、下方に向かって下降するからである。 要するにガラス板１１は基盤円板３上に柔らかく載せられ、その自重で基盤円板 上を一様に押し、したがってガラス板は、ガラス板１１が載った直後に始まる乾 燥過程中、基盤円板３を平らに保持する。 請求の範囲 1. 紫外線を投射して基盤円板（３）を乾燥する装置であって、投射過程中、ガ ラス板（１１）が基盤円板（３）上に載せられ、その際昇降可能な上方部分（６ ）がガラス板（１１）を、下方部分（２３）上に位置する基盤円板（３）上に降 下させる形式のものにおいて、上方部分（６）がガラス板保持部（３２，３３） を有しており、このガラス板保持部は、ガラス板（１１）を基盤円板上に載せる ために上方部分（６）が下降する際に、基盤円板の下方に降下することを特徴と する、基盤を乾燥する装置。 2. ガラス板保持部（３２，３３）が複数の保持薄板（３４，３５）を有してお り、これらの保持薄板上に、上方部分（６）が下降していない状態で、ガラス板 （１１）の縁領域が支えられることを特徴とする、請求項１記載の装置。 3. 少なくとも、ガラス板保持部（３２，３３）の部分範囲が、紫外線のための 反射面として構成されていることを特徴とする、請求項１又は２記載の装置。 4. ガラス板（１１）が基盤円板（３）のための投射室を上方に向かって閉鎖し ていることを特徴とする、 請求項１から３までのいずれか１項記載の装置。 5. 投射室内の空気を押し出すガスを導入するためにガス流入装置（４０）が設 けられていることを特徴とする、請求項４記載の装置。 6. ガスが窒素であることを特徴とする、請求項５記載の装置。 7. ガラス板（１１）と基盤円板（３）との間にスペーサが設けられていること を特徴とする、請求項１から７までのいずれか１項記載の装置。 8. スペーサがガラス板（１１）と一体に構成されていることを特徴とする、請 求項７記載の装置。 9. ガラス板（１１）を操作するためのガラス操作器（４）が設けられているこ とを特徴とする、請求項１から８までのいずれか１項記載の装置。 10．ガラス操作器（４）が回転装置（２７）を有していることを特徴とする、請 求項９記載の装置。 11．回転装置（２７）が上方いずれか１項記載の部分（６）を昇降させるための 昇降装置と組み合わされて いることを特徴とする、請求項１０記載の装置。 12．回転装置（２７）がその都度１つの上方部分（６）のための複数のアーム（ ５）を有していることを特徴とする、請求項９又は１０記載の装置。 13．乾燥過程中加熱されないガラス板（１１）を冷却するための冷却ステーショ ン（９）が設けられていることを特徴とする、請求項１から１２までのいずれか １項記載の装置。 14．回転装置）２７）がが４つの上方部分（６）を有しており、これらの上方部 分のうち、その都度２つの上方部分が投射ステーション（８）内にあり、その都 度２つの上方部分が冷却ステーション（９）内にあることを特徴とする、請求項 １０から１３までのいずれか１項記載の装置。 15．冷却手段がイオン化された空気であることを特徴とする、請求項１３又は１ ４記載の装置。 16．下方部分（２３）が基盤円板（３）のための支持皿（４１）を有しているこ とを特徴とする、請求項１から１５までのいずれか１項記載の装置。 17．支持皿（４１）が回転可能であることを特徴とする、請求項１６記載の装置 。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 1. 紫外線を投射して基盤円板（３）を乾燥する装置であって、投射過程中、ガ ラス板（１１）が基盤円板（３）上に載せられる形式のものにおいて、ガラス板 （１１）を、下方部分（２３）上に位置する基盤円板（３）上に降下させる昇降 可能な上方部分（６）が設けられていることを特徴とする、基盤を乾燥する装置 。 2. 上方部分（６）がガラス板保持部（３２，３３）を有しており、このガラス 板保持部は、ガラス板（１１）を基盤円板上に載せるために上方部分（６）が下 降する際に、基盤円板の下方に降下することを特徴とする、請求項１記載の装置 。 3. ガラス板保持部（３２，３３）が複数の保持薄板（３４，３５）を有してお り、これらの保持薄板上に、上方部分（６）が下降していない状態で、ガラス板 （１１）の縁領域が支えられていることを特徴とする、請求項２記載の装置。 4. 少なくとも、ガラス板保持部（３２，３３）の部分範囲が、紫外線のための 反射面として構成されていることを特徴とする、請求項２又は３記載の装置。 5. ガラス板（１１）が基盤円板（３）のための投射室を上方に向かって閉鎖し ていることを特徴とする、請求項１から４までのいずれか１項記載の装置。 6. 投射室内の空気を押し出すガスを導入するためにガス流入装置（４０）が設 けられていることを特徴とする、請求項１から５までのいずれか１項記載の装置 。 7. ガスが窒素であることを特徴とする、請求項６記載の装置。 8. ガラス板（１１）と基盤円板（３）との間にスペーサが設けられていること を特徴とする、請求項１から７までのいずれか１項記載の装置。 9. スペーサがガラス板（１１）と一体に構成されていることを特徴とする、請 求項８記載の装置。 10．持ち上げられた状態にある上方部分（６）を投射室内に及び投射室から回転 させる回転装置（２７）が設けられていることを特徴とする、請求項１から９ま でのいずれか１項記載の装置。 11．回転装置（２７）が上方部分（６）を昇降させる昇降装置と組み合わされて いることを特徴とする、請求項１０記載の装置。 12．回転装置（２７）が複数の上方部分（６）を備えた円形回転テーブルを有し ていることを特徴とする、請求項１０又は１１記載の装置。 13．投射室内にないガラス板（１１）を冷却するための冷却ステーション（９） が設けられていることを特徴とする、請求項１から１２までのいずれか１項記載 の装置。 14．円形回転テーブル（１）が４つの上方部分（６）を有しており、これらの上 方部分のうち、その都度２つの上方部分が投射ステーション（８）内にあり、そ の都度２つの上方部分が冷却ステーション（９）内にあることを特徴とする、請 求項１３記載の装置。 15．冷却手段がイオン化された空気であることを特徴とする、請求項１３又は１ ４記載の装置。 16．下方部分（２３）が基盤円板（３）のための支持皿（４１）を有しているこ とを特徴とする、請求項１から１５までのいずれか１項記載の装置。 17．支持皿（４１）が回転可能であることを特徴とする、請求項１６記載の装置 。