JP2000507023A - 二重磁性層を有する高面密度磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 約１９．４〜約１２９．０Ｇｂ／ｃｍ²（約３〜約２０Ｇｂ／平方インチ）の高い面記録密度、、約０．３０〜約０．６０ｍｅｍｕ／ｃｍ²のＭｒｔと、２，５００エルステッド以上の高い保磁力、および約０．７０〜約０．９５の保磁力矩形比を有する磁気記録媒体が、磁気異方性層３２上に磁気等方性層３３を含む１対または複数対の磁性層３２、３３、３５、３６を直接付着させることによって得られる。それぞれの磁気等方性／異方性層対を分離するために、クロム中間層３４が使用される。一実施形態においては、磁気異方性層は、クロムとタンタルを含むコバルト基合金を含み、磁気等方性層は、クロム、白金およびタンタルを含むコバルト基合金の層を含む。

Description

【発明の詳細な説明】 二重磁性層を有する高面密度磁気記録媒体 技術分野 本発明は、磁気データの記録、記憶および読取りに関し、詳細には、薄膜磁気 ディスクなどの回転式磁気記録媒体に関する。本発明は、特に、比較的小さなＭ ｒｔにおいて高い保磁力と保磁力矩形比を示す高密度磁気記録媒体に応用するこ とができる。 背景技術 薄膜磁気記録ディスクおよびディスク・ドライブは、従来より大量のデータを 磁化可能な形で記憶するために使用される。データは、ディスクの表面上近くを 飛翔する磁気ヘッド変換器アセンブリによって、高速で回転する記録ディスクに 書き込まれ読み取られる。面記録密度要件が高まり、ディスク・ドライブが次第 に小型化しているため、薄膜磁気記録媒体の保磁力、残留磁気保磁力矩形比、低 い媒体雑音および狭いトラック記録性能に対する要件が次第に厳しくなってきて いる。近年、特に縦方向記録用の高い記録密度を有しそのような要件を満たす磁 気記録媒体を作成するために多大な努力が払われてきた。 従来の縦方向記録媒体は、図１に示すが、一般に、非結晶質のニッケル−リン （ＮｉＰ）層でめっきした、アルミニウム−マグネシウム（Ａｉ−Ｍｇ）合金な どのアルミニウム（Ａｌ）合金の基板１０を含む。代替の基板には、ガラス、ガ ラス−セラミック材料およびグラファイトがある。基板１０は、通常、その上に 連続して付着された、クロム（Ｃｒ）またはＣｒ合金下層１１、コバルト（Ｃｏ ）ベースの即ちコバルト基の合金磁性層１２、炭素保護膜１３および潤滑トップ コート１４を含む。Ｃｒ下層１１、Ｃｏベースの合金磁性層１２および炭素保護 膜１３は、通常、スパッタリング法によって付着される。従来のＡ１合金基板は 、主にＡ１基板の硬さを高めるためのＮｉＰめっきを備え、表面に必要な表面粗 さまたはテクスチャを提供するのに適切な研磨面として働く。これは実質的にデ ィスク表面上で再現される。 近年、高い面記録密度を達成するために多大な努力が払われてきた。記録密度 に影響を及ぼすことが認められた大きな要因には、残留磁気（Ｍｒ）、保磁力、 保磁力矩形比（Ｓ^*）、信号／雑音比、および飛翔高度即ちフライング高度 （flying height）（読取り／書込みヘッドが回転ディスク上に浮上している距 離）がある。縦方向記録の面記録密度を高めるための従来の手法には、テング（ Teng）他の米国特許第５，４６２，７９６号のような非磁性層で分離された二重 磁性層の利用と、ライ（Lai）他の米国特許第５，４３２，０１２号のような２ つの磁性層間に挟まれた傾斜磁性層の利用がある。 直径３．５インチのプロトタイプ・ハード・ディスク・ドライブで１２．９Ｇ ｂ／ｃｍ²（２ギガビット（Ｇｂ）／平方インチ）の面密度を持つ磁気記録媒体 が実現されたが、これは磁気ヘッド、記録媒体、位置決めおよび信号処理技術の 開発によるものであると報告されている。フタモト（Futamoto）他の 「Investigation of 2Gb/in² Magnetic Recording at a Track Density of 17 k TPI」、IEEET Transactions on Magnetics、Vol.27、No.6、1991年11月、pp.528 0〜5285。フタモト他が報告した磁気記録媒体は、ガラス基板を含み、その上に 連続して、クロム下層と、コバルト、クロム、白金およびシリコンを含み飽和磁 化（Ｍｓ）が小さく磁気的に等方性の第１の磁性層と、第１の磁性層上に付着さ れたクロムと白金を含み飽和磁化（Ｍｓ）が大きい第２の磁気的に等方性のコバ ルト層と、炭素保護膜とが形成されている。 しかしながら、約６４．５Ｇｂ／ｃｍ²（約１０Ｇｂ／平方インチ）の面記録 密度を持つ剛性ディスク磁気記録媒体を得る目標は、依然として達成されていな い。６４．５Ｇｂ／ｃｍ²（１０Ｇｂ／平方インチ）の記録密度の目標を達成す るためには、媒体技術の進歩に関する知識に基づく洞察が必要であることが報告 されている。マードック(Murdock)の「Roadmap for 10Gbit/in² Media Challeng es」、IEEE Transactions on Magnetics、vol.28、No.5、1992年9月、pp.3078〜 3083。マードックによって出された結論は、革命的な改善が必要になるというも のである。現存の媒体システムのいくつかの候補は有望であるが、現実的なもの にするためにはまだ多くの研究が必要であると結論している。 また、コダマ（kodama）の特公平５−１１４１２８号と、ツボイ（Tsuboi）の 特公平５−１０９０４１号に、磁性層が異なる保磁力を示す二重磁性層媒体が開 示されている。二重層磁気記録媒体は、また、モリタ（Morita）他の米国特許第 ４，６４２，２７０号、チェゼル（Chezel）他の米国特許第３，５０８，８８７ 号、エッゲンバーガー（Eggenberger）他の米国特許第３，０４７，４２３号、 およびナカシマ（Nakashima）他の米国特許第４，６２２，２７３号にも開示さ れ、後者は、垂直磁化の記録媒体を対象としている。 したがって、６４．５Ｇｂ／ｃｍ²（１０Ｇｂ／平方インチ）など１２．９Ｇ ｂ／ｃｍ²（２ＧＢ／平方インチ）を超え、好ましくは最大１２９．０Ｇｂ／ｃ ｍ²（２０Ｇｂ／平方インチ）の面記録密度を有し、高い保磁力および保磁力矩 形比と、比較的小さなＭｒｔ（残留磁気×厚さ）を示し、ＧＭＲ（巨大磁気抵抗 ）ヘッドを使用するハード・ディスク・ドライブに利用できる磁気記録媒体が求 められている。 発明の開示 本発明の目的は、高い面記録密度、高い保磁力および保磁力矩形比、小さなＭ ｒｔを示す磁気記録媒体を提供することである。 本発明の他の目的は、約１９．４〜約１２９．０Ｇｂ／ｃｍ²（約３〜約２０ Ｇｂ／平方インチ）の面密度と、高い保磁力および保磁力矩形比、小さなＭｒｔ を有する磁気記録媒体を提供することである。 本発明のその他の目的および特徴は、一部は以下の説明で述べ、一部は以下の 内容を検討すれば当業者には明らかになり、あるいは本発明を実施すれば理解す ることができよう。本発明の目的および利点は、併記の請求の範囲に詳細に指摘 したようにして実現し達成することができる。 上記その他の目的は、本発明によれば、非磁性基板と、基板上に形成されたク ロムまたはクロム合金の下層と、クロムまたはクロム合金下層に連続的に形成さ れた複数の磁性層とを含み、約１９．４〜約１２９．０Ｇｂ／ｃｍ²（約３〜約 ２０Ｇｂ／平方インチ）の面記録密度を有し、約０．３０〜約０．６０ｍｅｍｕ ／ｃｍ²のＭｒｔを示す磁気記録媒体によって部分的に達成される。 本発明のもう１つの態様は、非磁性基板と、基板上に形成されたＣｒまたはＣ ｒ合金の下層と、ＣｒまたはＣｒ合金下層上に形成された磁気異方性の第１の 磁性層と、第１の磁性層上に直接形成された磁気等方性の第２の磁性層とを含み 、約１９．４〜約１２９．０Ｇｂ／ｃｍ²（約３〜約２０Ｇｂ／平方インチ）の 面記録密度を有し、約０．３０〜約０．６０ｍｅｍｕ／ｃｍ²のＭｒｔを示す磁 気記録媒体である。 本発明のさらに他の態様は、非磁性基板と、基板上に形成されたＣｒまたはＣ ｒ合金の下層と、ＣｒまたはＣｒ合金下層上に形成され、クロムとタンタルを含 むコバルト基の合金を含む磁気異方性の第１の磁性層と、第１の磁性層上に直接 形成され、クロム、白金およびタンタルを含む磁気等方性のコバルト・ベースの 合金を含む第２の磁性層とを含み、約１９．４〜約１２９．０Ｇｂ／ｃｍ² （約３〜約２０Ｇｂ／平方インチ）の面記録密度を有し、約０．３０〜約０．６ ０ｍｅｍｕ／ｃｍ²のＭｒｔを示す磁気記録媒体である。 本発明のさらなる態様は、非磁性基板と、基板上に形成されたＣｒまたはＣｒ 合金の下層と、ＣｒまたはＣｒ合金下層上に形成された磁気異方性の第１の磁性 層と、第１の磁性層上に直接形成された磁気等方性の第２の磁性層と、第２の磁 性層上に形成された第１のクロムまたはクロム合金中間層と、第１の中間層上に 形成された磁気異方性の第３の磁性層と、第３の磁性層上に直接形成された磁気 等方性の第４の磁性層とを含み、約１９．４〜約１２９．０Ｇｂ／ｃｍ²（約３ 〜約２０Ｇｂ／平方インチ）の面記録密度を有し、約０．３０〜約０．６０ ｍｅｍｕ／ｃｍ²のＭｒｔを示す磁気記録媒体である。 本発明のもう１つの態様は、非磁性基板と、基板上に形成されたＣｒまたはＣ ｒ合金の下層と、ＣｒまたはＣｒ合金下層上に形成された磁気異方性の第１の磁 性層と、第１の磁性層上に直接形成された磁気等方性の第２の磁性層と、第２の 磁性層上に形成された第１のクロムまたはクロム合金中間層と、第１の中間層上 に形成された磁気異方性の第３の磁性層と、第３の磁性層上に直接形成された磁 気等方性の第４の磁性層と、第４の磁性層上に形成された第２のクロムまたはク ロム合金中間層と、第２の中間層上に形成された磁気異方性の第５の磁性層と、 第５の磁性層上に直接形成された磁気等方性の第６の磁性層とを含み、約１９． ４〜約１２９．０Ｇｂ／ｃｍ²（約３〜約２０Ｇｂ／平方インチ）の面記録密度 を有し、約０．３０〜約０．６０ｍｅｍｕ／ｃｍ²のＭｒｔを示す磁気記録媒体 である。 本発明のその他の目的および利点は、以下の詳細な説明から当業者には容易に 明らかになるであろう。以下の説明では、本発明の実施形態について、本発明を 実施するために考えられた最良の形態の単なる例示として説明する。本発明は、 他の様々な実施形態が可能であり、そのいくつかの細部は、すべて本発明から逸 脱せずに様々な明らかな点で修正可能であることを理解されたい。したがって、 図面および説明は、制限的ではなく例示的な性質のものと見なすべきである。 図面の簡単な説明 図１は、従来の磁気記録媒体構造を示す概略図である。 図２は、本発明の実施形態による磁気記録媒体を示す概略的である。 図３は、本発明のもう１つの実施形態による磁気記録媒体を示す概略的である 。 図４は、本発明のさらにもう１つの実施形態による磁気記録媒体を示す概略的 である。 図５は、本発明による二重磁性層の重畳ヒステリシス曲線と切換磁界分布（Ｓ ＦＤ：switching field distribution）を表わす図である。 図６は、本発明の二重層磁気記録媒体の保磁力と磁性層の合計Ｍｒｔの関係を 示すグラフである。 図７は、図２の実施形態の二重磁性層媒体のＳ^*およびＳＦＤと合計Ｍｒｔの 関係を示すグラフである。 発明の説明 本発明は、縦方向記録用の約１９． ４〜約１２９．０Ｇｂ／ｃｍ²（約３〜 約２０Ｇｂ／平方インチ）の範囲の高い面記録密度を有し、比較的小さなＭｒｔ で高い保磁力およびＳ^*を有する磁気記録媒体を提供する。そのような高い面記 録密度ならびに望ましい磁気特性は、二重磁性層の戦略的な使用によって達成さ れる。 本発明によれば、少なくとも１対の連続的に形成された磁性層を含む磁気記録 媒体が形成される。一実施形態においては、非磁性体の基板上に、ＣｒまたはＣ ｒ合金の下層が付着され、ＣｒまたはＣｒ合金下層上に磁気異方性の第１の磁性 層が付着され、第１の磁性層上に、磁気等方性の第２の磁性層が直接形成され る。本発明の磁気記録媒体の各磁性層は、一般に約５Å〜約２０Åの厚さに付着 され、第１の磁性層対を構成する第１と第２の磁性層は、実質上単一の保磁力を 示す。本発明による磁気記録媒体は、約３２．３〜約６４．５Ｇｂ／ｃｍ²（約 ５〜約１０Ｇｂ／平方インチ）の面記録密度で、約０．４０〜約０．５０ｍｅｍ ｕ／ｃｍ²など約０．３０〜約０．６０ｍｅｍｕ／ｃｍ²のＭｒｔを示す。本発明 は、約６４．５Ｇｂ／ｃｍ²（約１０Ｇｂ／平方インチ）の面記録密度、約０． ４０ｍｅｍｕ／ｃｍ²のＭｒｔ、約３，０００エルステッド以上の保持力、およ び約０．７０〜約０．９５のＳ^*を有する磁気記録媒体を容易に提供する。 本発明による二重磁性層を使用することによって、高い面記録密度、高い保磁 力およびＳ^*、ならびに小さなＭｒｔが達成される理由は解明されていない。し かしながら、そのような高い面記録密度と有利な磁気特性は磁気異方性層に直接 付着された磁気等方性層を含む実質上保磁力を示す１対の磁気合金層を使用する ことによるものではないかと思われる。磁気異方性状態は、配向比すなわち円周 方向の保磁力と半径方向の保磁力の比が１よりも大きいときに存在すると考えら れる。磁気等方性状態は、配向比が約１のときに存在すると考えられる。 本発明の磁性層は、Ｃｏベースの合金のような従来の磁性材料から形成するこ とができる。本発明の一実施形態においては、磁気異方性を示す第１の磁性層は 、コバルト、あるいはコバルト、クロムおよびタンタルの合金（ＣｏＣｒＴａ） を含む。磁気等方性を示す第２の磁性層は、コバルト−クロム−白金合金（Ｃｏ ＣｒＰｔ）やコバルト−クロム−白金−タンタル合金（ＣｏＣｒＰｔＴａ）など のコバルト・ベースの合金層を含む。 本発明によれば、基板と第１の磁性層の間に下層が設けられる。この下層は、 Ｃｒまたはクロム−バナジウム（ＣｒＶ）またはクロム−チタン（ＣｒＴｉ）な どのＣｒ合金、酸素ドープしたクロム（ＣｒＯ_X）、タングステン（Ｗ）または タングステン合金を含むことができる。本発明の磁気記録媒体には、磁気記録媒 体の作成に従来使用されている様々な基板のどれを使用することもできる。その ような従来の基板には、ＮｉＰめっきしたＡｌ合金、ガラス、ガラス・セラミッ ク材料、および導電性グラファイトなどの炭素基板がある。ガラス・セラミック 材料は、通常、表面を熱処理し、上にセラミックの薄い結晶層を形成することに よって形成される。保磁力を高めるためには、導電性グラファイトが望ましい。 本発明の一実施形態においては、基板としてＮｉＰめっきしたＡＬ−Ｍｇ合金を 使用する。 本発明の磁気記録媒体は、通常磁性層上の炭素保護膜と、炭素保護膜上の潤滑 トップコートを含む。ＣｒまたはＣｒ合金の下層、磁性層および炭素保護膜は、 磁気記録媒体の作成に使用される様々なスパッタリング技術など従来の方法で付 着させることができる。 図１に示したような従来の磁気記録媒体において、通常、Ｍｒｔが０．８〜１ ．１ｍｅｍｕ／ｃｍ²の付近で保磁力は最大に達する。Ｍｒｔが保磁力の最大値 から減少するにつれて、保磁力とＳ^*は、急激に減少し、１９．４Ｇｂ／ｃｍ² （３Ｇｂ／平方インチ）以上の面記録密度を持つ磁気記録には不十分な大きさに なる。本発明によれば、面密度が約３２．３〜約６４．５Ｇｂ／ｃｍ²（約５〜 約１０Ｇｂ／平方インチ）の場合に約０．４０〜約０．５０ｍｅｎｕ／ｃｍ²な ど、約０．３０〜約０．６０ｍｅｍｕ／ｃｍ²の比較的小さなＭｒｔで、高い保 磁力とＳ^*を有する約１９．４〜約１２９．０Ｇｂ／ｃｍ²（約３〜約２０Ｇｂ／ 平方インチ）の面記録密度の磁気記録媒体を得ることができる。 高い面密度を達成するためには、小さなＭｒｔを示す磁気記録媒体を提供する ことが必要である。本発明によれば、高い保磁力を有し比較的小さなＭｒｔを示 す磁気記録媒体が提供され、それにより、下の表１に示したように１９．４〜１ ２９．０Ｇｂ／ｃｍ²（３〜２０Ｇｂ／平方インチ）の面密度が可能になる。 本発明の一実施形態による磁気記録媒体は、図２に示すが、ＮｉＰめっきした Ａｌ−Ｍｇなどの基板２０と、約１００Å〜約２０００Åなど適切な厚さのＣｒ またはＣｒ合金下層などの下層２１とを含む。下層２１上にはＣｏＣｒＴａ合金 など磁気異方性の第１の磁性層２２と、第１の磁性層２２上に直接付着されたＣ ｏＣｒＰｔＴａ合金など磁気等方性の第２の磁性層２３を含む１対の磁性層が設 けられる。第２の磁性層２３上には、炭素保護層２４と潤滑トップコート２５が 連続して付着される。炭素保護膜は、約７５Å〜約２００Åなどの適切な厚さに 付着される。潤滑トップコートは、約１０Å〜約３０Åの適切な厚さに付着され る。磁性層２２および２３はそれぞれ、約５Å〜約２００Åの厚さを有する。１ 対の磁性層２２および２３は共に実質上単一の保磁力を示す。 本発明のもう１つの実施形態においては、第２の磁性層対が、ＣｒまたはＣｒ 合金中間体層を間に挟んで第１の磁性層対上に付着される。それぞれの磁性層対 は、磁気異方性層上に直接付着された磁気等方性層を含む。そのような一実施形 態は、図３に概略的に示すが、通常はＮｉＰめっきのＡｌ−Ｍｇの基板３０と、 ＣｒやＣｒ合金などの下層３１と、下層３１上に形成されたＣｏＣｒＴａなどの 磁気異方性の第１の磁性層３２と、第Ｉの磁性層３２上に直接形成された ＣｏＣｒＰｔＴａなどの磁気等方性の第２の磁性層３３とを含む。図３の実施形 態によれば、ＣｒやＣｒ合金層などの中間層３４が、二重磁性層３２および３３ の第１の対の上に形成される。Ｃｒ中間層３４の厚さは、約５Å〜約１００Åの 範囲でよい。次に、中間層３４上に第２の磁性層対が形成され、ＣｏＣｒＴａ合 金などの磁気異方性の第３磁性層３５と、第３の磁性層３５上に直接形成された ＣｏＣｒＰｔＴａなどの磁気等方性の第４の磁性層３６とを含む。図２の実施形 態と同様に、磁性層上には炭素保護膜３７と潤滑トップコート３８が連続して設 けられる。 図３の実施形態の磁性層３２、３３、３５、３６はそれぞれ、約５Å〜約２０ ０Åの厚さを有する。第１の磁性層３２と第２の磁性層３３は共に、実質上単一 の保磁力を示し、第３の磁性層３５と第４の磁性層３６も共に、実質上単一の保 磁力を示す。下層３１、炭素保護膜３７および潤滑トップコート３８の厚さは、 図２の実施形態における対応する層の厚さと同じでよい。 図３に示したような２つの磁性層対を含む実施形態において、Ｃｒ中間層３４ は、媒体雑音とＳ^*を減少させる傾向がある。しかしながら、第２の対の磁性層 ３５および３６は、保磁力とＳ^*を高める傾向がある。Ｓ^*が低すぎると、リード バック信号とオーバーライトの性能が低下する。Ｓ^*が高すぎると、媒体雑音が 増大する中間層３４と第２の対の磁性層３５および３６を設けることによって、 媒体性能が最適になる。 本発明のもう１つの実施形態においては、３つの磁性層対間に中間層が付着さ れる。そのような実施形態は、図４に概略的に示すが、通常ＮｉＰめっきしたＡ ｌ−Ｍｇの基板４０と、通常ＣｒまたはＣｒ合金の下層４１とを含む。第１の磁 性層対は、ＣｏＣｒＴａなど磁気異方性の第１の磁性層４２と、第１の磁性層４ ２上に直接付着されたＣｏＣｒＰｔＴａなど磁気等方性の第２の磁性層４３とを 含む。ＣｒやＣｒ合金など第１の中間層４４が、第２の磁性層４３上に設けられ る。次に、付着されたＣｏＣｒＴａなど磁気異方性の第３の磁性層４５と、第３ の磁性層４５上に直接付着されたＣｏＣｒＰｔＴａなどの磁気等方性の第４の磁 性層４６を含む第２の磁性層対が連続して付着される。ＣｒやＣｒベース合金即 ちＣｕ基合金などの第２の中間層４７が、第４の磁性層４６上に付着される。次 に、第３の磁性層対が付着され、ＣｏＣｒＴａなど磁気異方性の第５の磁性層４ ８と、第５の磁性層４８上に直接付着されたＣｏＣｒＰｔＴａなど磁気等方性の 第６の磁性層４９とを含む。図２および図３の実施形態と同様に、炭素保護膜５ ０と潤滑トップコート５１が付着される。 磁性層４２、４３、４５、４６、４８、４９の厚さはそれぞれ、約５Å〜約２ ００Åでよい。第１の磁性層４２と第２の磁性層４３は共に、実質上単一の保磁 力を示し、第３の磁性層４５と第４の磁性層４６は共に、実質上単一の保磁力を 示し、また第５の磁性層４８と第６の磁性層４９も、実質上単一の保磁力を示す 。それぞれの中間層４４および４７の厚さは、約５Å〜約１００Åの範囲でよい 。下層４１、炭素保護膜５０および潤滑トップコート５１の厚さは、図２の実施 形態における対応する層の厚さと同じでよい。 本発明の二重層構造は、約１０．４〜約１２９．０Ｇｂ／ｃｍ²（約３〜約２ ０Ｇｂ／平方インチ）の面記録密度の達成を可能にすると考えられる。各対の磁 性層は、磁気異方性層上に直接付着された磁気等方性層を含み、それぞれ約５Å 〜約２００Åなど適切な厚さを有し、その結果、磁性層の各対は、実質上単一の 保磁力を示す。図５に示したように、本発明の二重層構造は、振動試料磁力計（ ＶＳＭ）で測定したとき重畳ヒステリシス曲線とＳＦＤによって示されるように 実質上単一の保磁力を示す。 例 ＣｏＣｒＴａの第１の磁性層とその上に直接付着されたＣｏＣｒＰｔＴａの第 ２の磁性層を有する、図２に示した実施形態に対応する磁気記録媒体を作成した 。基板は、テクスチャ付きのＮｉＰめっきしたＡｌ−Ｍｇを含む。テクスチャ付 き基板上にＣｒ下層を付着した。図６に示したグラフは、ディスクの円周方向に 沿って、ＶＳＭおよび残留磁気モーメント磁力計（ＲＭＭ）によって測定した第 １と第２の磁性層の保磁力と合計Ｍｒｔの関係を示す。二重層媒体の保磁力は、 ０．３〜０．６ｍｅｍｕ／ｃｍ²の範囲で最低３，０００エルステッドであるこ とは明らかである。 図７のグラフは、ディスクの円周方向に沿ってＶＳＭで測定した、図２に示し た本発明の二重層磁気記録媒体の実施形態のＳ^*およびＳＦＤと合計Ｍｒｔの関 係を示す。Ｍｒｔが０．３ｍｅｍｕ／ｃｍ²のときでも、Ｓ^*は大きさが適切であ ることは明らかである。 したがって、本発明によれば、約１９．４〜約１２９．０Ｇｂ／ｃｍ²（約３ 〜約２０Ｇｂ／平方インチ）の面記録密度と、最低２，５００エルステッド、通 常は３，０００エルステッド以上の高い保磁力と、通常約０．７０〜約０．９５ の高いＳ^*とを有する磁気記録媒体が提供される。本発明による磁気記録媒体は 、ＧＭＲヘッドを使ってハード・ディスク・ドライブに有利に使用することがで きる。本発明の磁気記録媒体は、特定の基板材料、下層、中間膜、または保護膜 または潤滑層、あるいは任意の特定の磁性合金に限定されるものではない。 本発明において、本発明のいくつかの実施形態およびその多様性の二三の例の みを示し説明した。本発明は、他の様々な組合せおよび環境で使用することがで き、本明細書に示した本発明の概念の範囲内での変更および修正が可能であるこ とを理解されたい。

【手続補正書】特許法第１８４条の８第１項 【提出日】１９９７年１０月８日（１９９７．１０．８） 【補正内容】 請求の範囲 1. 非磁性基板と、 基板上に形成されたクロムまたはクロム合金の下層と、 クロムまたはクロム合金下層上に連続して形成された少なくとも１対の磁性層 とを含み、約１９．４〜約１２９．０Ｇｂ／ｃｍ²（約３〜約２０Ｇｂ／平方イ ンチ）の面記録密度を有し、約０．３０〜約０．６０ｍｅｍｕ／ｃｍ²のＭｒｔ を示し、磁性層対が、磁気異方性層上に形成された磁気等方性層を含むことを特 徴とする磁気記録媒体。 2. 約１９．４〜約６４．５Ｇｂ／ｃｍ²（約３〜約１０Ｇｂ／平方インチ） の面記録密度を有し、約０．４０〜約０．６０ｍｅｍｕ／ｃｍ²のＭｒｔを示す ことを特徴とする請求の範囲第１項に記載の磁気記録媒体。 3. 約３２．３〜約６４．５Ｇｂ／ｃｍ²（約５〜約１０Ｇｂ／平方インチ） の面記録密度を有し、約０．４０〜約０．５０ｍｅｍｕ／ｃｍ²のＭｒｔを示す ことを特徴とする請求の範囲第２項に記載の磁気記録媒体。 4. 縦方向記録に適切な、請求の範囲第１項に記載の磁気記録媒体。 5. 第１と第２の磁性層が共に、実質上単一の保磁力を示すことを特徴とする 請求の範囲第１項に記載の磁気記録媒体。 6. 第１と第２の磁性層がそれぞれ、約５Å〜約２００Åの厚さを有すること を特徴とする請求の範囲第５項に記載の磁気記録媒体。 7. 第１と第２の磁性層がそれぞれコバルトを含むことを特徴とする請求の範 囲第５項に記載の磁気記録媒体。 8. 第１の磁性層が、本質的にコバルトからなることを特徴とする請求の範囲 第７項に記載の磁気記録媒体。 9. 第１の磁性層が、クロムとタンタルを含むコバルト基合金を含むことを特 徴とする請求の範囲第７項に記載の磁気記録媒体。 10．第２の磁性層が、クロムと白金を含むコバルト基合金を含むことを特徴と する請求の範囲第９項に記載の磁気記録媒体。 11．第２の磁性層が、クロム、白金およびタンタルを含むコバルト基合金を含 むことを特徴とする請求の範囲第９項に記載の磁気記録媒体。 12．基板が、ニッケル−リンめっきしたアルミニユウム、ニッケル−リンめっ きしたアルミニウム基合金、ガラスまたはガラス・セラミック材料を含むことを 特徴とする請求の範囲第１項に記載の磁気記録媒体。 13．第２の磁性層上の炭素保護膜と、炭素保護膜上の潤滑トップコートとをさ らに含むことを特徴とする請求の範囲第１２項に記載の磁気記録媒体。 14．約２，５００エルステッド以上の保磁力と、約０．７０〜約０．９５の保 磁力矩形比を示すことを特徴とする請求の範囲第１項に記載の磁気記録媒体。 15．約３，０００〜約３，５００エルステッドの保磁力を示すことを特徴とす る請求の範囲第１４項に記載の磁気記録媒体。 16．第２の磁性層上の第１のクロムまたはクロム合金中間体層と、 第１の中間層上に形成された磁気異方性の第３の磁性層と、 第３の磁性層上に直接形成された磁気等方性の第４の磁性層と を含むことを特徴とする請求の範囲第１項に記載の磁気記録媒体。 17．非磁性基板上に形成されたクロム下層と、 第４の磁性層上に形成された炭素保護膜と、 炭素保護膜上に形成された潤滑トップコートとを さらに含むことを特徴とする請求の範囲第１６項に記載の磁気記録媒体。 18．第１と第２の磁性層が共に、実質上単一の保磁力を示し、第３と第４の磁 性層が共に実質上単一の保磁力を示すことを特徴とする請求の範囲第１６項に記 載の磁気記録媒体。 19．第１、第２、第３および第４の磁性層がそれぞれ、約５Å〜約２００Åの 厚さを有することを特徴とする請求の範囲第１８項に記載の磁気記録媒体。 20．第２の磁性層上に形成された第１のクロムまたはクロム合金中間層と、 第１の中間層上に形成され、クロムとタンタルを含むコバルト基合金を含む磁 気異方性の第３の磁性層と、 第３の磁性層上に直接形成され、クロム、白金およびタンタルを含むコバルト 基合金を含む磁気等方性の第４の磁性層と をさらに含むことを特徴とする請求の範囲第１１項に記載の磁気記録媒体、 21．非磁性体基板と第１の磁性層の間に形成されたクロムまたはクロム合金下 層と、第４の磁性層上に形成された炭素保護膜と、炭素保護膜上に形成された潤 滑トップコートとをさらに含むことを特徴とする請求の範囲第20項に記載の磁 気記録媒体。 22．第４の磁性層上に形成された第２のクロムまたはクロム合金中間層と、 第２の中間層上に形成された磁気異方性の第５の磁性層と、 第５の磁性層上に直接形成された磁気等方性の第６の磁性層と をさらに含む、請求の範囲第１６項に記載の磁気記録媒体。 23．非磁性体基板と第１の磁性層の間に形成されたクロムまたはクロム合金下 層と、第６の磁性層上に形成された炭素保護膜と、炭素保護膜上に形成された潤 滑トップコートとをさらに含むことを特徴とする請求の範囲第２２項に記載の磁 気記録媒体。 24．第１と第２の磁性層が共に、実質上単一の保磁力を示し、 第３と第４の磁性層が共に、実質上単一の保磁力を示し、 第５と第６の磁性層が共に、実質上単一の保磁力を示すことを特徴とする請求 の範囲第２２項に記載の磁気記録媒体。 25．第１、第２、第３、第４、第５、および第６の磁性層がそれぞれ、約５Å 〜約２００Åの厚さを有することを特徴とする請求の範囲第２４項に記載の磁気 記録媒体。 26．第４の磁性層上に形成された第２のクロムまたはクロム合金中間層と、第 ２の中間層上に形成され、クロムとタンタルを含むコバルト基合金を含む磁気異 方性の第５の磁性層と、 第５の磁性層上に直接形成され、クロム、白金およびタンタルを含むコバルト 基合金を含む磁気等方性の第６の磁性層と をさらに含むことを特徴とする請求の範囲第２０項に記載の磁気記録媒体。 27．非磁性体基板と第１の磁性層の間に形成されたクロムまたはクロム合金下 層と、第６の磁性層上に形成された炭素保護膜と、炭素保護膜上に形成された潤 滑トップコートとをさらに含むことを特徴とする請求の範囲第２６項に記載の磁 気記録媒体。 28．第１の中間層が、約５Å〜約１００Åの厚さを有することを特徴とする請 求の範囲第２０項に記載の磁気記録媒体。 29．第１と第２の中間層がそれぞれ、約５Å〜約１００Åの厚さを有すること を特徴とする請求の範囲第２２項に記載の磁気記録媒体。 30．請求の範囲第１項による巨大磁気抵抗記録ヘッドと磁気記録媒体を含むこ とを特徴とするディスク・ドライブ・システム。 31．非磁性基板と、 基板上に形成された下層と、 下層上に連続して形成された少なくとも１対の磁性層とを含み、 磁気記録媒体が、約１９．４〜約１２９．０Ｇｂ／ｃｍ²（約３〜約２０Ｇｂ ／平方インチ）の面記録密度を有し、約０．３０〜約０．６０ｍｅｍｕ／ｃｍ² のＭｒｔを示し、、磁性層対が、磁気異方性層上に形成された磁気等方性層を含 むことを特徴とする磁気記録媒体。 32．下層が、クロム、クロム合金、酸素ドープ・クロム、タングステンまたは タングステン合金を含むことを特徴とする請求の範囲第１項に記載の磁気記録媒 体。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 1. 非磁性基板と、 基板上に形成されたクロムまたはクロム合金の下層と、 クロムまたはクロム合金下層上に連続して形成された複数の磁性層とを含み、 約１９．４〜約１２９．０Ｇｂ／ｃｍ²（約３〜約２０Ｇｂ／平方インチ）の面 記録密度を有し、約０．３０〜約０．６０ｍｅｍｕ／ｃｍ²のＭｒｔを示すこと を特徴とする磁気記録媒体。 2. 約１９．４〜約６４．５Ｇｂ／ｃｍ²（約３〜約１０Ｇｂ／平方インチ） の面記録密度を有し、約０．４０〜約０．６０ｍｅｍｕ／ｃｍ²のＭｒｔを示す ことを特徴とする請求の範囲第１項に記載の磁気記録媒体。 3. 約３２．３〜約６４．５Ｇｂ／ｃｍ²（約５〜約１０Ｇｂ／平方インチ） の面記録密度を有し、約０．４０〜約０．５０ｍｅｍｕ／ｃｍ²のＭｒｔを示す ことを特徴とする請求の範囲第２項に記載の磁気記録媒体。 4. クロムまたはクロム合金下層上に形成された第１の磁性層と、第１の磁性 層上に直接形成された第２の磁性層とを含むことを特徴とする請求の範囲第１項 に記載の磁気記録媒体。 5. 第１の磁性層が、磁気異方性であり、第２の磁性層が、磁気等方性である ことを特徴とする請求の範囲第４項に記載の磁気記録媒体。 6. 第１と第２の磁性層が共に、実質上単一の保磁力を示すことを特徴とする 請求の範囲第４項に記載の磁気記録媒体。 7. 第１と第２の磁性層が共に、実質上単一の保磁力を示すことを特徴とする 請求の範囲第５項に記載の磁気記録媒体。 8. 第１と第２の磁性層がそれぞれ、約５Å〜約２００Åの厚さを有すること を特徴とする請求の範囲第７項に記載の磁気記録媒体。 9. 第１と第２の磁性層がそれぞれコバルトを含むことを特徴とする請求の範 囲第７項に記載の磁気記録媒体。 10．第１の磁性層が、本質的にコバルトからなることを特徴とする請求の範囲 第９項に記載の磁気記録媒体。 11．第１の磁性層が、クロムとタンタルを含むコバルト基合金を含むことを特 徴とする請求の範囲第９項に記載の磁気記録媒体。 12．第２の磁性層が、クロムと白金を含むコバルト基合金を含むことを特徴と する請求の範囲第１１項に記載の磁気記録媒体。 13．第２の磁性層が、クロム、白金およびタンタルを含むコバルト基合金を含 むことを特徴どする請求の範囲第１１項に記載の磁気記録媒体。 14．基板が、ニッケル−リンめっきしたアルミニウム、ニッケル−リンめっき したアルミニウム基の合金、ガラスまたはガラス・セラミック材料を含むことを 特徴とする請求の範囲第１項に記載の磁気記録媒体。 15．第２の磁性層上の炭素保護膜と、炭素保護膜上の潤滑トップコートとをさ らに含むことを特徴とする請求の範囲第１４項に記載の磁気記録媒体。 16．約２，５００エルステッド以上の保磁力と、約０．７０〜約０．９５の保 磁力矩形比を示すことを特徴とする請求の範囲第１項に記載の磁気記録媒体。 17．約３，０００〜約３，５００エルステッドの保磁力を示すことを特徴とす る請求の範囲第１６項に記載の磁気記録媒体。 18．第２の磁性層上の第１のクロムまたはクロム合金中間体層と、 第１の中間層上に形成された磁気異方性の第３の磁性層と、 第３の磁性層上に直接形成された磁気等方性の第４の磁性層と を含むことを特徴とする請求の範囲第５項に記載の磁気記録媒体。 19．非磁性基板上に形成されたクロム下層と、 第４の磁性層上に形成された炭素保護膜と、 炭素保護膜上に形成された潤滑トップコートとを さらに含むことを特徴とする請求の範囲第１８項に記載の磁気記録媒体。 20．第１と第２の磁性層が共に、実質上単一の保磁力を示し、第３と第４の磁 性層が共に実質上単一の保磁力を示すことを特徴とする請求の範囲第１８項に記 載の磁気記録媒体。 21．第１、第２、第３および第４の磁性層がそれぞれ、約５Å〜約２００Åの 厚さを有することを特徴とする請求の範囲第２０項に記載の磁気記録媒体。 22．第２の磁性層上に形成された第１のクロムまたはクロム合金中間層と、 第１の中間層上に形成され、クロムとタンタルを含むコバルト基合金を含む磁 気異方性の第３の磁性層と、 第３の磁性層上に直接形成され、クロム、白金およびタンタルを含むコバルト 基合金を含む磁気等方性の第４の磁性層と をさらに含むことを特徴とする請求の範囲第１３項に記載の磁気記録媒体、 23．非磁性体基板と第１の磁性層の間に形成されたクロムまたはクロム合金下 層と、第４の磁性層上に形成された炭素保護膜と、炭素保護膜上に形成された潤 滑トップコートとをさらに含むことを特徴とする請求の範囲第２２項に記載の磁 気記録媒体。 24．第４の磁性層上に形成された第２のクロムまたはクロム合金中間層と、 第２の中間層上に形成された磁気異方性の第５の磁性層と、 第５の磁性層上に直接形成された磁気等方性の第６の磁性層と をさらに含む、請求の範囲第１８項に記載の磁気記録媒体。 25．非磁性体基板と第１の磁性層の間に形成されたクロムまたはクロム合金下 層と、第６の磁性層上に形成された炭素保護膜と、炭素保護膜上に形成された潤 滑トップコートとをさらに含むことを特徴とする請求の範囲第２４項に記載の磁 気記録媒体。 26．第１と第２の磁性層が共に、実質上単一の保磁力を示し、 第３と第４の磁性層が共に、実質上単一の保磁力を示し、 第５と第６の磁性層が共に、実質上単一の保磁力を示すことを特徴とする請求 の範囲第２４項に記載の磁気記録媒体。 27．第１、第２、第３、第４、第５、および第６の磁性層がそれぞれ、約５Å 〜約２００Åの厚さを有することを特徴とする請求の範囲第２６項に記載の磁気 記録媒体。 28．第４の磁性層上に形成された第２のクロムまたはクロム合金中間層と、第 ２の中間層上に形成され、クロムとタンタルを含むコバルト基合金を含む磁気異 方性の第５の磁性層と、 第５の磁性層上に直接形成され、クロム、白金およびタンタルを含むコバルト 基合金を含む磁気等方性の第６の磁性層と をさらに含むことを特徴とする請求の範囲第２２項に記載の磁気記録媒体。 29．非磁性体基板と第１の磁性層の間に形成されたクロムまたはクロム合金下 層と、第６の磁性層上に形成された炭素保護膜と、炭素保護膜上に形成された潤 滑トップコートとをさらに含むことを特徴とする請求の範囲第２８項に記載の磁 気記録媒体。 30．第１の中間層が、約５Å〜約１００Åの厚さを有することを特徴とする請 求の範囲第２２項に記載の磁気記録媒体。 31．第１と第２の中間層がそれぞれ、約５Λ〜約１００Λの厚さを有すること を特徴とする請求の範囲第２４項に記載の磁気記録媒体。 32．請求の範囲第１項による巨大磁気抵抗記録ヘッドと磁気記録媒体を含むこ とを特徴とするディスク・ドライブ・システム。 33．非磁性基板と、 基板上に形成された下層と、 下層上に連続して形成された複数の磁性層とを含み、 磁気記録媒体が、約１９．４〜約１２９．０Ｇｂ／ｃｍ²（約３〜約２０Ｇｂ ／平方インチ）の面記録密度を有し、約０．３０〜約０．６０ｍｅｍｕ／ｃｍ² のＭｒｔを示すことを特徴とする磁気記録媒体。 34．下層が、クロム、クロム合金、酸素ドープ・クロム、タングステンまたは タングステン合金を含むことを特徴とする請求の範囲第１項に記載の磁気記録媒 体。