JP2000502384A - 高温オレフィン重合方法 - Google Patents

高温オレフィン重合方法

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Abstract

(57)【要約】 オレフィン性又はアセチレン性不飽和モノマーの重合方法が開示される。当該方法は、長鎖線状アルキル・リガンド含有有機アルミニウム化合物の存在下において、一種以上のモノマーを、適切なイオン性触媒系と接触させることを含む。好ましいイオン性触媒は、1)架橋ハフニウム化合物、2)珪素架橋モノシクロペンタジエニルチタニウム化合物、及び3)未架橋の嵩高い15族を含有する嵩高いモノシクロペンタジエニルチタニウム化合物、及び非配位陰イオン前駆体化合物から得られる。好ましい陰イオン前駆体の一つの種類は、1又は2族陽イオンと非配位陰イオンとを含む水和された塩からなる。好ましいイオン性触媒を用いて、高分子量でコモノマー有量が高いポリオレフィン類、特にエチレン・コポリマー類を調製するために、例えば90℃以上での高温方法が行われ得る。

Description

【発明の詳細な説明】 高温オレフィン重合方法発明の分野 本発明は、エチレン性又はアセチレン性不飽和を含むモノマー類の重合のため の、触媒系の選択及び高温方法の条件(ここにおいて、当該触媒系は、一部位で あり、且つ、遷移金属陽イオン及び安定化共存性(コンパティブル)非配位陰イ オンを含む)に関する。発明の背景 メタロセン化合物等の遷移金属化合物に基づくオレフィン重合のためのイオン 性触媒系は、最近のものであるが、現在はよく知られている。そのようなメタロ セン化合物は、一般的にはシクロペンタジエニル又は置換シクロペンタジエニル ・リガンドといった、少なくとも一つのπ結合芳香族リガンドと、触媒として活 性な陽イオン構造を形成するように引き抜かれ得る、少なくとも一つのその他の リガンドとを支持できる遷移金属に基づいている。助触媒陰イオンは、非常に反 応性の高いこれらの陽イオンを安定化するために必要とされる。しかし、それら の陰イオンは、その反応性、そして従って重合活性、が減少されている陽イオン と緊密に配位することなしに、あるいは、陰イオン性フラグメントを陽イオンに 転位させてその重合性能を変えることなしに、陽イオンを安定化できなければな らない。硼素又はアルミニウム等のIIIA又は13族元素に基づく一配位錯体 及び多核配位錯体は、有効な助触媒陰イオン源として特に適切であることが示さ れている。欧州特許公開公報第0277003号、同第0277004号及びそ れらの等価物、米国特許第5,198,401号及び同第5,278,119号 、特に実施例27及び32、における開示を参照されたい。米国特許第5,27 8,119号の実施例32は、メタロセン化合物としてのビス(トリメチルシ リルシクロペンタジエニル)ハフニウム ジメチルの使用を開示する。米国特許 第5,198,401号の実施例27は、第9欄第16行に、ジメチルシリルビ ス(インデニル)ジルコニウム ジメチルを挙げている。 そのような触媒系を用いる高圧高温重合方法(500バール以上での方法等) 等の均質方法は、これらの系が、160℃以上において、アルモキサン助触媒を 用いる系に比べてより優れた安定性を示すので、特に適切であることが示されて いる。これは、高温において、より大きな反応性に伴なわれて生じるより大きな 生産性を可能とする。尚、高圧は、より高温を可能にしつつ、本質的に単相の反 応媒体を維持する。米国特許第5,408,017号及びその等価物である国際 公開93/05732を参照されたい。適切な陰イオン前駆体の一般的な記述と して、適切なメタロセン化合物の一般的で広い記述が与えられている。その例は 、メタロセン化合物であるジメチルシリルビス(4,5,6,7−テトラヒドロ インデニル)ジルコニウム ジメチルとジメチルシリルビス(4,5,6,7− テトラヒドロインデニル)ハフニウム ジメチルを包含する。表2において、前 者は、100〜160の範囲内の著しく高い触媒生産性(kg−ポリエチレン/ g−活性化剤として表現される)を示した。一方、ハフニウム化合物の触媒生産 性は、わずかに60であった。高温高圧で操業され得る同様のオレフィン重合方 法が、国際公開95/07941に開示されている。焦点があてられている本質 的な問題は、反応器の再循環流れ中における極性物質の蓄積である。その解決手 段は、嵩高い掃去剤、例えば、トリイソブチルアルモキサン等の少なくとも一つ の3級炭素原子を有するもの、の使用である。Me2Si(Ind)2HfMe2 が、比較例3及び実施例4中に示されており、且つ、それは、より長く活性であ り且つ高い転化率の実例であると言われている。 メタロセン化合物中のπ−結合シクロペンタジエニル・リガンド上の置換基の 選択は、オレフィン重合方法において性能を高める手段として認定されている。 例えば、米国特許第5,304,614号を参照されたい。当該特許には、具体 的な置換インデニル・リガンド類及びそれらの調製方法が記載されている。高活 性状態で、著しく高分子量のポリエチレンは、IVB、Vb又はVIB族金属の いずれかに基づく、記載されたメタロセン化合物の使用によって可能であると言 われている。ジルコニウム及びハフニウムは、好ましいと言われており、且つ、 好ましい置換基構造は、1)金属原子に結合した二つのシクロペンタジエニル・ リガンドを架橋するアルキレン又はシリレン基と、2)同じシクロペンタジエニ ル基上のH−又は二つのC2〜C4置換基に向かい合ったそれそれの側において縮 合した4,7−置換ベンゾ基によって特徴付けられる。実施例14〜18は、7 0℃の温度で、5バールのエチレン圧で、アルモキサン助触媒と共に、特に置換 されたビス(インデニル)ジルコノセンを用いたポリエチレン・ホモポリマーの 例である。生産性は、重合反応1時間あたり、35〜56g−ポリエチレンの範 囲であった。最も高い生産性は、Me2Si(3,4,7−Me3Ind)3Zr Cl2について報告された。 欧州特許公開公報第0612768号では、アルキルアルミニウム助触媒を用 いて活性化された後に、非配位陰イオンによって安定化された、架橋及び未架橋 のハフニウム・メタロセン化合物は、120℃以上の温度における方法で使用さ れると、そのジルコニウム・アナログよりも高い触媒活性を示すと言われている 。中圧溶液方法は、好ましくは500〜3500kg/cm2の圧力で行われる 。挙げられたハフノセンすべてが、ジクロリド置換の態様であり、発明の実施例 の各々は、シクロペンタジエニル、インデニル、又はフルオレニルπ結合リガン ドが、アルキレン架橋されている。 高分子量で高α−オレフィン含有量のエチレンーα−オレフィン・コポリマー の調製に適する、アルモキサンで活性化されたモノシクロペンタジエニルチタニ ウム化合物に基づく触媒系は、米国特許第5,264,405号に記載されてい る。この特許は、シクロペンタジエニル基はメチル基で十分に置換されているべ きであり、且つ、1°又は2°炭素を通して結合されている脂肪族又は脂環族ヒ ドロカルビル・リガンドを有するアミノ基に架橋されているべきであることを教 示する。実施例45における、架橋モノシクロペンタジエニル4族金属触媒化合 物を用いた80℃でのエチレンとプロピレンとの共重合は、エチレンが20重量 %で、数平均分子量が約20,080のコポリマーを生じた。実施例45で用い たと同じ触媒を用いた実施例55では、反応温度140℃において、非晶質エチ レン・コポリマーであることを示す、密度が0.863のエチレンープロピレン ・コポリマーが、約46,500の数平均分子量を示した。 極性不純物に対するイオン性触媒系の感受性のために、例えばアルキルアルミ ニウム化合物又はアルキルアルモキサンといった掃去化合物を利用する、溶液重 合法が記載されている。IIIA族金属掃去化合物及びそれを用いる方法を記載 している、例えば米国特許第5,153,157号及び同5,241,025号 を参照されたい。国際公開94/07927は、モノシクロペンタジエニル触媒 系用に改変したものである、類似の方法を提示している。それは、モノシクロペ ンタジエニル触媒化合物が掃去化合物との相互作用を妨害するための嵩高い置換 基を含まないときの、嵩高い掃去剤の利点を記載する。適切な嵩高い掃去剤とし て、トリ−n−オクチル一及びトリ−n−ヘキシルーアルミニウムの他に、トリ イソプレニルアルミニウムが例示され、且つ、トリイソブチルアルミニウムが挙 げられている。 オレフィン重合のためのメタロセンの使用と、一方でコモノマーの組み込み率 と高分子量のポリマーを調製する能力の両者を維持しながら、高められた生産性 を手に入れるために、最も有効な触媒及び方法を採用するという一般的な工業上 の必要性とに関する開示の範囲の観点において、更なる研究の努力が必要とされ た。特に、当該分野における報告に基づく一般的な知見は、約80℃を超える温 度の下では、メタロセン触媒を用いてコモノマーの組み込み率を高めると、より 低分子量のポリマーがもたらされるという従来の見解を生じさせた。発明の開示 溶液及び高圧方法において、必要としている高温条件に供されたときでさえ、 安定な一部位引き抜きイオン性触媒系、例えば、1)架橋された、末置換又は置 換のインデニルー又はフルオレニル基を含有するハフニウム化合物類;2)架橋 された、ヘテロ原子を含有する、置換又は未置換のモノシクロペンタジエニルチ タニウム化合物類;3)未架橋の、嵩高い15族を含有する、嵩高いモノシクロ ペンタジエニルチタニウム化合物類;4)嵩高く、キレート化しているジアミド 補助(アンシラリー)リガンドを含有する4又は5族化合物類;及び5)8族金 属ジイミン化合物類(但し、金属は、Pd(II)及びNi(II)等のように 、+2の酸化状態にある)からなる遷移金属化合物群から得られる陽イオンを有 する触媒系、の存在下で、高分子量エチレン・コポリマー(メルトインデックス が10以下、好ましくは1以下)が重合され得ることが、研究の結果として発見 された。従って、本発明は、部分的には、エチレンと少なくとも一種のより高級 なオレフィン、即ち、C3〜C20(好ましくはC4〜C8)のα−オレフィン、ジ オレフィン、又はC4〜C20の環状オレフィン、とを共重合する方法であって、 90℃以上の反応媒体温度で、且つ、任意に、溶液法の場合には50バールを超 える(好ましくは75バールを超える)、高圧超臨界相法の場合には500バー ルを超える圧力での重合反応において、前記モノマー類を、上記陽イオン及び安 定化共存性(コンパティブル)非配位陰イオンを含む一種以上の安定な一部位イ オン性触媒系と接触させる工程を含む、方法である。本発明は、部分的には、重 合反応の前に、極性不純物用掃去剤、最も好ましくはトリアルキルアルミニウム (但し、各アルキルは、長鎖線状アルキルである)を、反応媒体、再循環流れ又 はモノマー供給材料に導人するという追加の工程を含む、修飾された方法でもあ る。発明の詳細な説明及び最も優れた態様 本発明の架橋されたハフニウム化合物は、ハフニウム金属中心のシクロペンタ ジエニル(Cp)リガンド(当該リガンドは、炭化水素置換基一つ以上を任意に 含有する)二つを架橋している炭素、珪素又はゲルマニウム原子を一つ以上有す るハフニウム化合物類を包含する。Cpリガンドがインデニル又はフルオレニル 基であるとき、置換は、5又は6員環炭素原子上で行われ得る。置換基は、一般 的には、線状、分岐鎖状、環状の、脂肪族、芳香族又はそれらが複合した基(縮 合環又はペンダント配置において)から選択される、一種以上のC1〜C30炭化 水素基類を包含する。この出願のために、「炭化水素」という用語は、本質的に 炭化水素の特徴を有し、任意に約10モル%以下の非炭素極性原子類(酸素、硫 黄、窒素及び燐等)を含有する化合物類又は基類を包含することを意図している 。同様に、この明細書のために、ヘテロ原子含有シクロペンタジエニル環(当該 環においては、非炭素原子が、環を構成する炭素の中の一つに置き換わっている )の使用は、「シクロペンタジエニル」、「インデニル」及び「フルオレニル」と いう用語の範囲内であると考えられる。 具体的な架橋ハフニウム触媒は、(1)ジメチルシリル ビス(インデニル) ハフニウム ジメチル、ジメチルシリル ビス(4,5,6,7−テトラヒドロ インデニル)ハフニウム ジメチル、ジメチルシリル ビス(2−メチルインデ ニル)ハフニウム ジメチル、ジメチルシリル ビス(2−プロピルインデニル )ハフニウム ジメチル、ジメチルシリル ビス(4−メチル,2−フェニルイ ンデニル)ハフニウム ジメチルのラセミ−又はメソ−異性体等の、インデ二ル に基づく錯体類、(2)ジメチルシリル (シクロペンタジエニル)(テトラメ チルシクロペンタジエニル)ハフニウム ジベンジル、ジメチルシリル ビス( シクロペンタジエニル)ハフニウム ジメチル等の、シクロペンタジエニル錯体 類、及び(3)ジブチルシリル (フルオレニル)(シクロペンタジエニル)ハ フニウム ジメチル及びジメチルシリル (インデニル)(フルオレニル)ハフ ニウム ジヒドリド、又はイソプロピル (シクロペンタジエニル)(フルオレ ニル)ハフニウム ジメチル等の、フルオレニルに基づく錯体類から得られるも のを包含する。 特に、架橋ビス(インデニル)ハフニウム化合物について、当該技術分野にお ける一般的な知見の観点からは、驚くべき効果である、インデニル・リガンド上 の置換の程度の上昇は、コモノマーの組み込み率の上昇に有効であることが見出 されている。つまり、インデニル置換基が、環原子上の水素原子に置き換わって 少なくとも二つのσ−結合炭化水素基を含むとき、性能は、置換基がゼロである か、又は置換基が正に一つだけ存在する場合を超える。例えば、ジメチルシリル ビス(2−メチル,4−フェニルインデニル)ハフニウム ジメチルは、ジメチ ルシリル ビス(2−メチルインデニル)ハフニウム ジメチルに比べて、より 高いコモノマーの組み込みとより高い分子量の一方又は両者を提供することが見 出されている。なお、ジメチルシリル ビス(2−メチルインデニル)ハフニウ ム ジメチルは、これらの特徴の一方又は両者について、ジメチルシリル ビス (インデニル)ハフニウム ジメチルよりも優れる。つまり、好ましくは、嵩高 いハフニウム化合物におけるインデニル基上の置換基は、一般的には、上で定義 したようなC1〜C30炭化水素置換基二つ以上を含むであろう。 本発明の、珪素で架橋された、ヘテロ原子を含有する、置換又は未置換のモノ シクロペンタジエニルチタニウム化合物とは、当該技術分野で説明されているそ のような化合物のいずれかである。例えば、米国特許第5,264,405号、 国際公開92/00333、及び来国特許第5,408,017号に記載されて いる化合物を参照されたい。置換シクロペンタジエニル・リガンドは、上記架橋 ハフニウム化合物のシクロペンタジエニル、インデニル、及びフルオレニル・リ ガンドについて定義された、炭化水素置換基を有するものである。各書類は、米 国特許プラクティスのために、ここに援用される。 本発明の、末架橋の、嵩高い15族を含有する、嵩高いモノシクロペンタジエ ニルチタニウム化合物は、補助リガンド[置換された嵩高いシクロペンタジエニ ル・リガンド、置換された嵩高い15族ヘテロ原子リガンド、及び二つの一価陰 性の活性化反応性リガンド(それらの中の一つは、残りの金属化合物を触媒とし て活性な状態に活性化するために引き抜かれ得、且つ、それらの中の一つは、同 様に引き抜かれ得るか、あるいは、配位重台のためにオレフィン又はジオレフィ ンが挿入し得る遷移金属に対するσ−結合を有している)を包含する]を有する 未架橋のチタニウム化合物である。一般的には、本発明の触媒類のいずれかの ために、一価陰性の活性化反応性リガンドは、ヒドリド、低級アルキル(例えば C1〜C4)、又はシリルからなる群から選択される。嵩高いシクロペンタジエニ ル・リガンドは、上記架橋ハフニウム化合物のシクロペンタジエニル、インデニ ル又はフルオレニル・リガンドについて定義された置換基を有するリガンド、特 に、テトラメチル−及びペンタメチルシクロペンタジエニル・リガンド等の低級 アルキルで置換されたリガンドである。嵩高い、15族ヘテロ原子リガンドは、 一般的には、炭化水素で置換された15族元素(好ましくは窒素)であって、こ こにおいて、炭化水素置換基は、二級又は三級の炭素又は珪素原子を通じてヘテ ロ原子に共有結合しているものである。同じく係属している出願である、199 5年10月20日に出願された米国特許出願番号08/545,973号(代理 人の一覧番号:95B059)(米国特許プラクティスのために、ここに援用され る)も参照されたい。 IVB族金属前駆体であって、その補助リガンド系がシクロペンタジエニル・ リガンドを含有しないものから得られるイオン性触媒も、本発明で使用され得る 。一般的には、これらの系は、イオン性活性化剤又はルイス酸活性化剤と、次の 一般式を有するIVB族金属含有前駆体から調製されるであろう: ここにおいて、: Aは、任意の架橋置換基であり、 L1及びL2は、同じであるか又は異なる、Cpではない補助リガンドで あり、 Mは、IVB族金属であり、且つ R1及びR2は、同じであるか又は異なる、ヒドリド又はヒドロカルビル 等のσ−結合した基である。 適切なCpではない補助リガンド系の一例は、「配座的に堅いジアミド錯体類 :タンタル(III)アルキン誘導体の合成及び構造」、ディー・エイチ・マク コンバイル(D.H.McConville)等、有機金属化合物(Organometallics)、199 5年、14巻、3154−3156頁、に記載されている。4族金属類の中で、 特にチタン金属の4族金属類が好ましい。4族金属化合物は、更に、少なくとも 二つの一価陰性の活性化反応性リガンドであって、それらの中の少なくとも一つ は、残りの金属化合物を触媒として活性な状態に活性化するために引き抜かれ得 、且つ、それらの中の一つは、同様に引き抜かれ得るか、あるいは、配位重合の ために、オレフィン又はジオレフィンが挿入し得る遷移金属に対するσ−結合を 有しているものを含むであろう。説明したリガンドを有する4族金属化合物は、 5族金属ハロゲン化物が4族の四ハロゲン化物で置き換えられることを除いて、 有機金属化合物(Organometallics)の論文において説明されたように調製され 得る。 本発明のNi2+及びPd2+錯体は、「エチレン及びα−オレフィン類の重合の ための新しいPd(II)−及びNi(II)−に基づく触媒」、エム・ブルッ クハート(M.Brookhart)等、アメリカ化学学会誌(J.Am.Chem.Soc.)、199 5年、117巻、6414−6415頁に記載された化合物のために使用された 方法と等価の方法によって調製され得る、ジイミン錯体である。これらは、本発 明に係る陰イオン前駆体によって陽イオン状態に活性化され得る記載された二ハ ロゲン化物錯体の、説明されたようなジアルキルエーテル付加物又はアルキル化 反応生成物であることができる。 一般的に、イオン性重合触媒のために有効な掃去化合物は、米国特許第5,1 53,157号及び同第5,241,025号に挙げられているアルミニウムア ルキル化合物類を包含する。「掃去剤」という用語は、重合のための供給材料流 れ又は反応媒体中において偶発的に生じる極性の汚染物及び不純物に配位するの に十分なルイス酸酸性であるというように、その技術分野で認識されている意味 で使用される。特に、再加工のために転化されなかったモノマーの再循環流れを 使用する方法については、触媒不活化剤又は「殺触媒剤」として水又は低級アル コール類等の極性化合物を使用する必要性があり、それが、モノマーの供給材料 流れ中に極性の不純物を自然に発生させるので、事実上掃去剤の使用を余儀なく させる。しかしながら、掃去剤の過剰な使用は、触媒性能に有害な影響を有し、 且つ、有害な影響を最少化するためには、掃去剤の適切な選択が重要であること が発見された。掃去剤の過剰な添加は、より低い生産性、より低い分子量及びよ り低いコモノマー組み込み率をもたらす。この影響は、実施例の項の表1中の例 1.2、1.6、1.7及び1.8を比較することにより、容易に理解され得る 。それにおいては、6当量のトリエチルアルミニウム(TEAL)の添加は、生 産性の増加をもたらしたが、それより多くのTEALが添加された場合には、生 産性は低下し、生成物の分子量及びコモノマー含有率も低下した。TEALをト リイソブチルアルミニウム(TIBA)で置き換える(例1.9−1.12)と 、掃去剤が過剰であるという条件下において、触媒性能は改良された。しかし、 その状況は、完全には改善されなかった。 高温条件下での実験は、同様の傾向を示した。イオン性触媒系の性能を更に改 良するために、より多く置換された掃去剤の体系的な研究が行われた。TIBA がTEALよりも良く機能するという結果に基づいて、Al(CH2CMe32 Me(ここで、Meはメチルである)等のより高度に置換されたアルミニウムア ルキル化合物は、Al原子の周りの立体的な容積の増加のために、TIBAより も優れるであろうということが期待された。高温条件下での比較試験は、Al( CH2CMe32MeはTIBAよりも劣ることを示し、且つ、掃去剤の量が非 常に少ない時に、生産性の突然の低下を生じた。更に、好ましい掃去剤は、長鎖 、線状トリアルキルアルミニウム化合物であり、より長い鎖は、より短い鎖より も好ましいということを、研究は示した。 有効な長鎖線状トリアルキル・リガンド含有掃去剤の非限定例は、式M′R′ R″R″′[ここで、M′はAlであり、R基の各々は、独立に、C4又はそれ 以上(好ましくはC6又はそれ以上、最も好ましくはC8又はそれ以上)の線状、 分岐鎖状又は環状アルキル基である]によって定義される群に含まれるものを含 む。長鎖線状アルキルアルミニウム類(各アルキル置換基は、C8又はそれ以上 の、好ましくはC9又はそれ以上の長さのものである)は、次のパラグラフで説 明するように、最適量よりも多い量で用いられる時に最小の有害な影響を有する として定義される、最適の性能を示すことが観察された。具体的に包含されるも のは、トリ−n−オクチルアルミニウム、トリ−n−デシルアルミニウム、トリ −n−ドデシルアルミニウム、トリ−n−ヘキサデシルアルミニウム、及び例え ば(C203Alといった炭素数がより多いこれらの等価物類であり、また、置 換基が混合型のもの及び掃去剤化合物混合物も包含される。更に加えて、これら のアルキル・リガンド含有有機アルミニウム化合物類の加水分解誘導体類は、適 切であろう。加えて、長鎖線状で且つ嵩高いリガンド類又は混合線状リガンド類 (各リガンドは、前記の通りである)を含む掃去剤化合物も、適切であろうとい うことが、しかし、恐らく、より複雑な又はより高価な合成のために、より望ま しくはないということが、明らかであろう。 前のパラグラフの長鎖線状アルキル・リガンド含有掃去剤類は、当該技術分野 で公知の又は開発中のイオン性触媒系(当該触媒系において、非配位陰イオンの 使用及び得られる触媒の感受性は、極性不純物の除去を要求する)のいずれかを 用いる、オレフィン性又はアセチレン性不飽和モノマー類の挿入(インサーショ ン)重合方法において、有用であろう。適切な触媒系は、この出願の背景の欄に 挙げた触媒の参考文献中に載っている。その他の触媒は、1993年7月1日に 出願された米国特許出願番号08/086,772(その開示事項は、米国特許 プラクティスのために、ここに援用される)に基づく国際公開94/01471 の5族及び6族遷移金属触媒系を包含する。適切なプロセス条件の例は、エチレ ン、プロピレン、C4−C20α−オレフィン類、ひずみ環環状オレフィン類、1 位にオレフィン性不飽和を有するモノマー単位が100まで又はそれを超えるマ クロマー類、又はアセチレン性不飽相モノマー類からなる群から選択されるモノ マーのポリマオ又はそのようなモノマー2種類以上のコポリマーのための、気 相、溶液、スラリー又はバルク重合方法の条件を包含する。そのような方法は、 −50℃〜300℃の温度及び0〜3000バールの圧力を利用する。100以 下のメルト・インデックスに等価である分子量を有するポリマー類及びコポリマ ー類が、これらの方法で調製され得る。 いずれが選択されても、掃去剤類は、得ようとする生産性、ポリマーの分子量 及びポリマーのコモノマー含有量と調和するように使用されるべきである。特に 、偶発的に生じる触媒毒の影響を中和するのに正に十分な量だけ、使用されるべ きである。反応器へのコモノマー供給材料流れがより精製されていれば、そして 、他の供給材料流れも、あるいは添加された反応体及び再循環も、より精製され ていれば、より少ない掃去剤が必要とされるであろう。その量は、好ましくは可 能な限り少なく、且つ、反応速度、断熱的(アディアバティック)温度上昇速度 、及び重合方法において観察され得る反応効率の他の指標(掃去剤の添加以外の すべての変数を一定として、各々が最大化されている)を観察することにより、 実験的に調整され得る。過剰な掃去剤は、生産性、分子量及びコモノマー組み込 み率の低下を引き起こすことが観察されている。 先に説明した遷移金属化合物の陽イオンと適切な非配位陰イオンとを含むイオ ン性触媒系を調製する手段は、従来から公知である。例えば、米国特許第5,1 98,401号及び国際公開92/00333を参照されたい。一般的には、当 該方法は、選択した、例えばヒドリド、アルキル又はシリル基といった引き抜き 可能なリガンドを含む遷移金属化合物を、市販晶から得るか又は合成し、且つ、 芳香族溶剤中で、それらをイオン化非配位陰イオン源又は当該陰イオン前駆体と 接触させることを含む。陰イオン源は、その総原子価を完全なもの(0)にして いる一価ヒドリド、アルキル又はシリル・リガンドを引き抜くことにより、遷移 金属化合物をイオン化するように作用する。引き抜きは、遷移金属化合物を、+ 1の陽イオン状態にさせ、これは、安定な共存性で嵩高い非配位陰イオンによっ て釣り合わされる。先に参照した、米国特許第5,198,401号中のより完 全な説明を参照されたい。高圧において実施される等の断熱(アディア バティック)重合方法の条件は、160℃を超える温度をもたらす。これらのよ り高い操業温度は、不安定さを益々増加させ、それは、高級オレフィン・コポリ マーの組み込みがより困難なことと、分子量が低下されたポリマーが得られるこ とに反映されている。しかしながら、その同じ条件下において、本発明の一部位 触媒は、以下において表にして示した報告中に明示されているように、より高い 安定性、より大きいコモノマー組み込み率、及びより高く保持された分子量を明 示する。 本発明の非配位陰イオン源は、シクロペンタジエニルを一つ含む4族遷移金属 を用いた時に有用であることが知られているものを含めて、メタロセンを用いる オレフィン重合に有用であることが従来公知の非配位陰イオン源のすべてを包含 する。適切な陰イオンの代表的なリストは、米国特許第5,198,401号、 欧州特許公開公報第0426637号、欧州特許公開公報第0427697号、 欧州特許公開公報第0520732号、欧州特許公開公報第0573403号、 国際公開95/24268、及び米国特許第5,387,568号中にある。そ れらは、遷移金属化合物の非シクロペンタジエニル・リガンドを引き抜く陽イオ ンを有するイオン性化合物として、又は、非シクロペンタジエニル・リガンドの 引き抜きの際に、副生成物として非配位陰イオン部分を残す中性化合物として、 触媒調製工程に導入され得る。加えて、陰イオン源と共にアルキル化化合物を使 用すると、遷移金属中心に必要以上に強く結合している、陰イオン源によって引 き抜かれるリガンドを有する遷移金属化合物(例えば、遷移金属二ハロゲン化物 )の使用を、可能にすることが知られている。一般的には、アルキル化源は、炭 素数がより小さいアルキルアルミニウム類及びアルキルアルモキサン類等の、強 いルイス酸酸性の有機アルミニウム化合物のいずれかであってよい。活性化陰イ オン前駆体化合物の添加の前に又はその添加と共に行われる、アルキルアルミニ ウム化合物と二ロゲン置換メタロセン化合物との反応の特徴を述べている、イン ・サイツ・プロセスのための欧州特許公開公報第0500944号、欧州特許公 開公報第0570982号及び欧州特許公開公報第0612768号を参照され たい。上記書類のそれそれか、米国特許プラクティスのために、ここに援用 される。イン・サイツ・アルキル化プロセスは、本発明に従う高温条件下で、全 体としての重合効率を妨げる傾向がある、競合反応と相互作用をもたらし得るの で、最も好ましくは、金属中心にハロゲン化物リガンド類を有さない遷移金属化 合物が、本発明のイオン性触媒系のために使用される。 好ましい陰イオン前駆体化合物の一種は、前記の如く、1又は2族陽イオンと 非配位陰イオンとを含む水和塩類である。水和塩類は、金属陽イオン−非配位陰 イオン塩と水との反応により、例えば、市販の又は容易に合成されるLiB(p fp)4(ここで、(pfp)は、ペンター又はペル−フルオロフェニルである )の加水分解([Li・H2O][B(pfp)4]を生じる)により、調製され 得る。引き抜かれ得るリガンドを含有する遷移金属化合物の、この前駆体を用い るイオン化の副生成物は、LiOHである。LiOHは、不揮発性であり、従っ て、再循環に先立ってポリマーがモノマー及び稀釈剤から取り去られる分離相中 で、再循環されない。この低コストの前駆体は、[Ph3C][B(pfp)4] 及び[PhMe2NH][B(pfp)4](ここで、Phはフェニルを示し、M eはメチルを示す)で表される好ましい前駆体化合物を用いて形成されたイオン 性触媒と本質的に等価の性質を有するイオン性触媒を形成するように作用するこ とを、試験は示している。先に言及した長鎖線状アルキル・リガンド含有掃去剤 を用いるとき、この不揮発性副生成物を生じる陰イオン前駆体は、当該技術分野 で公知の又は開発中の、非配位陰イオン類を利用するイオン性触媒系のいずれか を用いる用途に適切であろう。陽イオン化が可能な触媒として適切な遷移金属化 合物は、先に述べた4〜6族及び8族の化合物を包含する。この場合もまた、そ の例は、エチレン、プロピレン、C4−C20α−オレフィン類、ひずみ環環状オ レフィン類、1位にオレフィン性不飽和を有するモノマー単位が100まで又は それを超えるマクロマー類、又はアセチレン性不飽和モノマー類からなる群から 選択されるモノマーのポリマー又はそのようなモノマー2種類以上のコポリマー のための、気相、溶液、スラリー及びバルク重合方法を包含する。そのような方 法は、−50℃〜300℃の温度及び0〜3000バールの圧力を利用する。 加えて、公知のアルキルアルモキサン類は、ハロゲン化物リガンドを含む本発 明の一部位遷移金属化合物用の触媒活性化剤として、適切である。しかしながら 、アルモキサン活性化剤は、約160℃以上で温度安定性がより劣るので、これ らはより好ましくない。アルモキサン成分は、触媒活性化剤として有用なものす べてを包含し、典型的には、それは、一般式(R−Al−O)n(これは環状化 合物である)又はR(R−Al−O)nAlR2(これは線状化合物である)で表 されるオリゴマー・アルミニウム化合物であろう。一般的なアルモキサンの式中 において、Rは、C1〜C5アルキル基、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブ チル又はペンチルであり、“n”は、1〜約50の整数である。最も好ましくは 、Rはメチルで“n”は少なくとも4である。アルモキサンは、当該技術分野で 公知の様々な手法により調製され得る。例えば、アルミニウムアルキルが、不活 性有機溶剤に溶解された水で処理されることができ、あるいは、それが、不活性 有機溶剤に懸濁された水和硫酸銅等の水和塩と接触されることができ、その結果 としてアルモキサンを生じる。しかしながら、一般的には、アルミニウムアルキ ルと限定された量の水との反応が、アルモキサンの線状種と環状種の混合物を生 じる。 好ましい重合方法は、高圧で行われる方法、即ち、200〜3000バール、 好ましくは500〜2500バールにて、均質単相又は二つの流動相中において 、不反応性稀釈剤又は溶剤を用いて又は用いずに、製造されるポリマーの融点よ りも一般的に高い温度にて行われる方法である。そのような方法は、一般的には 知られており、且つ、掃去剤化合物の使用と触媒不活化又は殺触媒工程を含むこ とができる。例えば、米国特許第5,408,017号、国際公開95/079 41、及び国際公開92/14766を参照されたい。これらの書類及び米国に おいてそれらに対応するものの各々は、米国特許プラクティスのために、ここに 援用される。好ましい触媒不活化剤又は殺触媒剤は、官能能力を示して触媒と複 合し、その結果、揮発性極性副生成物又は残留未反応化合物を生じること無しに 触媒を不活化する、ポリビニルアルコール等の高分子量で再循環できない 化合物を包含する。 この出願に開示の触媒、助触媒及び掃去剤の選択のいずれかが有利に実施され 得る、他の好ましい方法は、90℃〜120℃にて、あるいはそれを超える温度 にて、150℃を超える温度でさえも、あるいは160℃を超えて約300℃ま での温度で操業される、連続式溶液法である。一般的には、この方法は、不活性 炭化水素溶剤(線状、環状又は分岐鎖状の脂肪族、又は芳香族)中で、20〜2 00バールの圧力にて行われる。1995年4月21日に出願された米国特許出 願番号08/426,363及び1995年10月20日に出願された米国特許 出願番号08/545,973(代理人の一覧番号:95B059)の開示は、 この出願に開示された超臨界条件下において、高い温度範囲において操業された 時でさえも、関連ある説明を提供する。これらの書類も、米国特許プラクティス のために、ここに援用される。 最適な重合結果のために、重合方法は、助触媒成分類、即ち遷移金属化合物及 び陰イオン前駆体化合物が、選択された反応器内での重合での使用の正に直前ま で、あるいは、使用の間、別々に保持されるように設計されるべきであり、ある いは、そのように実施されるべきである。一例は、各触媒成分の反応器への直接 的な二元的注入方式の使用、又は、反応器への注入の正に直前でのT字−又はマ ルチ−継ぎ手混合室の使用である。替って、触媒は、イオン性活性化剤、リガン ド安定化金属ハロケン化物及び掃去剤の反応器への直接的な独立の添加により、 あるいは、反応器への注入の正に直前でのT字−又はマルチ−継ぎ手混合室の使 用により、その場(イン・サイツ)で形成され得る。その他の最適化は、掃去剤 化合物が、触媒系又は化合物類とは無関係に反応器に導入される時に達成され得 る。 具体的には、高温(特に高圧又は溶液)方法に向けられたけれども、重合体金 属又はメタロイド酸化物担体等の不均一担体物質の使用が、説明されたプロセス 工程及び成分のスラリー又は気相での使用を可能にするであろうこと、及び、 開示された共重合可能なモノマーを使用して製造され得るエチレン・コポリマー 生成物について、より高い生産性、より高い分子量及びより高い水準でのコモノ マーの組み込みという同様の利益を恐らくは達成するであろうことは、明らかで あろう。実例としての担体法は、国際公開91/09882、国際公開94/0 0500、国際公開94/03506、国際公開94/07928、及び199 5年6月7日に出願された米国特許出願番号08/474,948に基づく、同 様に、1994年8月3日に出願された米国特許出願番号08/285,380 に基づく、国際公開96/04319中に載っている。適切なスラリー法は、来 国特許第5,229,478号に記載されている。前記のものそれそれは、来国 特許プラクティスのために、ここに援用される。 次の例は、これまでの議諭を例証するために提供される。すべての部、割合及 び百分率は、特に示さない限り、重量基準である。例は、本発明のある種の態様 に向けられているかもしれないが、それらは、何らかの具体的な事項において、 本発明を限定するものとして考えられることはない。本発明の説明に役立つEP Cの例のための、GPCとNMRによる分子量とモノマー含有量の測定方法は、 米国特許第5,229,478号(米国特許プラクティスのために、ここに援用 される)に記載されている。次の例では、便宜上、ある種の略号が使用されてい る:Cp(シクロペンタジエニル)、Me(メチル)、Ind(インデニル)、Ph( フェニル)、pfp(ペンタフルオロフェニル)、r−(ラセミ体の)、Et(エチル )、Cp*(ペルメチル化シクロペンタジエニル)、Cod(シクロドデシル)、TO A(トリ−n−オクチルアルミニウム)、TEAL(トリエチルアルミニウム)及 びTIBA(トリイソブチルアルミニウム)。実施例 第1部: 研究室でのスクリーニング実験 バッチ式の研究室での試験で得られたデータを、表1に要約する。表1中の重 合はすべて、1リットルのステンレス・スチール製オートクレーブ中で、ヘキサ ン400cc及びヘキセン45cc中で、75psi(517.11kPa)の エチレン上部圧力の下、60℃にて行った。 各ケースにおいて、オートクレーブを、溶剤及びヘキセンで満たし、且つ、7 5psi(517.11kPa)のエチレンの下、急速な攪拌下、平衡に達する まで加熱した。触媒を、これらの条件下に反応器に導入し、操業の間ずっと、温 度を60℃±5℃に維持した。生成物を回収し、GPC及び13C−NMR分光分 析法によって解析し、分子量とコモノマー含有率とを決定した。表1中に含まれ ている情報を使用した連続法の例は、実施例1.1の後に続く。実施例 1.1 1リットルの機械的に攪拌されるステンレス・スチール製オートクレーブに、 400mlの乾燥され且つ脱酸素されたヘキサン及び45mlの脱酸素されたヘ キセンを満たした。反応器を急速に攪拌し、エチレンで75psi(517.1 1kPa)まで加圧し、60℃まで加熱した。1.42×10-5モルのr−Me2 Si(Ind)2HfMe2と4.99×10-5モルの[PhMe2NH][B( pfp)4]とを含む触媒のトルエン溶液を反応器に加え、重合反応を生ぜしめ た。30分後、反応器に通気させ、内容物をフラスコにあけた。溶剤を揮発させ たところ、重量平均分子量(Mw)が151,000ダルトンで、数平均分子量 (Mn)が74,000ダルトンで、ヘキセンを47.4重量%含むエチレン/ ヘキセン・コポリマー5gが生じていた。これは、714g−ポリエチレン/g −メタロセンの生産性を表す。 表1に集められたスクリーニング実験の結果は、幾つかの重要な傾向を示して いる。これらは、次の情報を含む。 ・ 架橋メタロセン 対 未架橋メタロセン + 架橋型は、コモノマーの取り込みが2〜3倍である (Cp2HfMe2 対 Et2SiCp2HfMe2、又は CpCp*HfMe2 対 Me2SiCpCp*HfMe2を 参照されたい)。 + 架橋錯体は、分子量がより高い生成物を生じる。 + 架橋錯体は、一般的により高い活性を示す。 ・ [PhMe2NH][Bpfp]4] 対 [Ph3C]Bpfp)4]対[L i・H2O]Bpfp)4] + すべてが、同じポリマーを同程度の速度で製造するように思える。 ・ 触媒性能への掃去剤の影響 + 量を多くすると、分子量及びコモノマー含有量の低下を引き起こす。 + 量を少なくすると、生成物に影響を与えることなく、生産性を改良 する。 + 掃去剤が多量の場合の生成物への影響の点で、TIBAはTEAL よりもよい + 量を多くすると、生産性が低下する。 ・ Me2Si(Ind)2HfMe2 対 Me2Si(4−Me,2−Phlnd)2HfMe2 + 置換系は、コモノマー含有量が高い場合でさえも、より高い分子量 を示す。 + 置換系は、コモノマーの組み込み率の著しい増加を示す。 ・ メタロセン・ジクロリド・ルート 対 メタロセン・ジアルキル・ルート + 塩化物を含まない方法では、分子量及びコモノマー含有量が高い生 成物が生じる。 ・ Zr 対 Hf + 分子量及びコモノマーの組み込み率の点で、ハフニウム系がより優 れる。 ・ モノシクロペンタジエニルチタニウム触媒 対 ビスシクロペンタジエニ ルハフニウム触媒 + ビスシクロペンタジエニルハフニウム系は、モノシクロペンタジエ ニル系と同様の性能を有するように、修飾され得る。第2部: 連続高圧操業 表2中の重合反応を、2000バールまでの圧力で且つ300℃までの温度で 、連続的なチグラー重合反応を行うために必要なものが備え付けられた、攪拌さ れている1.5リットルのスチール製オートクレーブ反応容器中で行った。反応 系には、連続的に温度と圧力を測定するための熱電対/圧力変換器と、連続的に 精製された圧縮エチレン及び1−ブテンを供給するための手段とを供給した。圧 力調整バルブで、圧力を制御した。測定された触媒溶液の流れを連続的に導入す るための装置と、急速に通気して反応を止めるための装置と、ポリマー生成物を 集めるための装置もまた、反応系の一部であった。反応器の前の新しい供給材料 に、掃去剤を添加する能力は、高圧ポンプによって与えた。コモノマーに対して エチレンを特定のモル比として、且つ、溶剤を添加することなく重合を行った。 エチレン及びコモノマーを含む反応器の温度を、所望の反応温度に平衡化させた 。不活性雰囲気下において、トルエン中で、特定量の固体のメタロセン成分を活 性化剤成分と混合することにより、触媒溶液を調製した。この触媒溶液を、高圧 ポンプにより、所望の反応器温度をもたらす速度で、反応器に連続的に供給した 。反応器内容物を、1000rpmで攪拌した。一般的に使用した反応器供給物 質流速は、40kg/時間であった。触媒調製メタロセン成分(M)(g)、活 性化剤成分(A)(g)、及び溶液の総容量(L)、掃去剤アルミニウム化合物 の遷移金属化合物に対するモル比(Al:M)、触媒製造ポリマー 製造速度(kg−ポリマー/時間)平均、コモノマーのモル供給比(例えば、C4 /C2)、反応器供給物質流速(kg/時間)を含む正確な操業条件、及びメルト ・インデックス(g/10分、190℃にて)とコモトマーの重量百分率(IR によって測定した)とを含むポリマーの特徴もまた、表2中に集めた。すべての 重合を、225℃、1300バールにて行った。乾燥され且つ脱酸素されたトル エンを用い、触媒溶液を調製した。表2に含まれている情報をどのように使用す るかという例は、実施例2.1の後に続く。実施例 2.1 先に説明したような反応器設計で、且つ、溶剤の添加無しにエチレンの1−ブ テンに対するモル比を0.55として、エチレンと1−ブテンとを含む清潔な反 応器の温度を、所望の反応温度である225℃に平衡化させた。トルエン20リ ットル中で、0.496gの固体化合物、即ち、r−Me2Si(Ind)2Hf Me2を、0.9788の活性化剤化合物、即ち、(Ph3C)+B(pfp)4 - と混合することにより、触媒溶液を調製した。この触媒溶液を、高圧ポンプによ り、反応機内の温度が225℃となるような速度で、反応器に連続的に供給した 。この操業の間、エチレン及び1−ブテンを、総圧力1300バールでオートク レーブに圧入した。反応器内容物を1000rpmで攪拌し、反応器を通る物質 供給流速を、40kg/時間で一定に保持した。重合を、60〜90秒の滞留時 間の間に行った。ポリマー生成物の収量は、エチレン/1−ブテン・コポリマー が6.6kg/時間であった。当該コポリマーは、メルト・インデックスが2. 85で、IRで測定して、コモノマーの組み込み率が13重量%−ブテンであっ た。遷移金属生産性は、267kg−ポリマー/g−メタロセンであると算出さ れた。 第3部: 連続式高温溶液法 重合反応を、連続的な挿入(インサーション)重合を行うための装備を備えた 、攪拌された、液体が充満された2リットルのジャケットを有するスチール製反 応器中で、不活性C6炭化水素(ナフサ)溶剤の存在下で、120バールまでの 圧力で、240℃までの温度で行った。重合の間、反応器を、一般的には100 0rpmで攪拌した。反応系には、連続的に温度及び圧力の変化を監視するため の熱電対と圧力変換器とを、そして、連続的に精製されたエチレン、1−オクテ ン及び溶剤を供給するための手段を供給した。この系では、炭化水素溶剤に溶解 されたエチレン、1−オクテン、掃去剤として使用されたトリ−n−オクチルア ルミニウム(TOA)、及び任意にH2を、別々にポンプ輸送し、混合し、且つ 一の流れとして反応器に供給し、冷媒として液体アンモニアを用いて−40℃ま で冷やした。遷移金属成分(TMC)を、溶剤/トルエン混合物(9/1、容量 /容量)に溶かし、一方、非配位陰イオン(NCA)活性化剤を、トルエンに溶 解するか又は炭化水素溶剤中でスラリー化させた。両成分を、別々にポンプ輸送 し、室温で混合し、反応器に入れる前に−1℃まで冷却した。反応器温度を、反 応器壁ジャケットを通じて流れる油の貯留容器として使用した油浴の温度を合せ ることによって定めた。次に、ポリマーの分子量(MW)又はメルト・インデッ クスを、触媒流速を通じて反応器内のエチレン転化率(%C2)を調整すること により、独立に制御した。最後に、ポリマー密度を、供給材料中のエチレン/1 −オクテン重量比を調整することによって制御した。 3種の異なる遷移金属成分(A=ラセミ体ジメチルシリル ビス(1−インデ ニル)ハフニウム ジメチル、B=ジメチルシリル ビス(2−メチル−4−フ ェニル−1−インデニル)ハフニウム ジメチル、及びC=ジメチルシリル(テ トラメチルシクロペンタジエニル)ブチルアミノ チタニウム ジメチル)と、 活性化剤(NCA)としての[PhMe2NH]B(pfp)4]とを用い、上記 した反応器中で行った10回の重合実験の結果を、表1中に要約する。例えば、 操業番号1における重合反応は、150℃、86.4バールにて、Aを用 いて行った。溶剤、エチレン、及び1−オクテンを、それそれ7kg/時間、0 .53kg/時間の速度で、連続的に反応器に供給した。このケースでは、供給 材料中の1−オクテン/エチレン重量比は、0.431であった。9/1(容量 /容量)の溶剤/トルエン混合物中に溶解されたAを3.5mg/時間で、トル エン中に溶解されたNCAを4.9mg/時間で、反応器に連続的に供給したと ころ、エチレンの転化率は80.5%で1−オクテンの転化率は43%となった 。8分間の反応器滞留時間の間、これらの条件下において、ポリマーの収量は1 .22kg/時間であった。0.08ミリモル/時間の速度でTOAを供給材料 に添加することにより、触媒生産性は、348kg−ポリエチレン/g−Aあた りで直線からはずれた。この実験では、コモノマーを18.77重量%含み(F TIRによる)、重量平均分子量が88,000ル(GPCによる)で、多分散 指数が2.1(GPCによる)で、メルト・インデックスが1.4dg/分で、 密度が0.8991g/ccで、メルト・インデックス比(I21.6/I2) が34のエチレン/1−オクテン・コポリマーがもたらされた。 一定の反応器温度及び供給材料組成において、この低圧/高温重合法において 、触媒流量を通して反応器中のエチレン転化率を制御することにより、ポリマー の分子量は調整され得る(一般的には、エチレン転化率がより高いと、ポリマー の分子量はより低い(メルト・インデックスはより高い))。上記例は、驚くべき ことに、架橋されたビス(Cp)ハフノセン類(A及びB)が、両者共に、架橋 モノ(Cp)チタノセン(C)が示すよりも優れた分子量とコモノマーの組み込 み能力とを示すということを示した。例えば、140℃において、且つ、供給材 料中の1−オクテン/エチレン重量比が約0.43〜0.44に等しい時に、A とBは、それそれ、エチレン転化率87.9%(操業番号3)において、メルト ・インデックスが1.6で0.8937g/ccのコポリマーと、エチレン転化 率80.7%(操業番号6)において、メルト・インデックスが0.62で0. 8880g/ccのコポリマーとを製造し、一方、(C)は、実質的により低い エチレン転化率77.1%(操業番号9)において、メルト・インデック スが1.5で0.9035g/ccのコポリマーを製造した。同様に、130℃ において、且つ、供給材料中の1−オクテン/エチレン重量比が約0.93〜0 .94に等しい時に、Aは、エチレン転化率73.9%(操業番号4)において 、メルト・インデックスが1.23で0.8761g/ccのコポリマーを製造 し、一方、(C)は、実質的により低いエチレン転化率69.2%(操業番号1 0)において、メルト・インデックスが3.2で0.8866g/ccのコポリ マーを製造した。注: (1)すべての操業において、触媒活性化剤は[DMAH][B(pfp)4] で、掃去剤は、トリ−n−オクチルアルミニウムであった。 (2)上記の他の略号は、次の通りである: A =r−Me2Si(Ind)2HfMe2 B = Me2Si(2−Me−4−PhInd)2HfMe2 C = Me2SiCp*NブチルTiMe2 2 = エチレン C8 = 1−オクテン C6 = 炭化水素(ナフサ)溶剤
【手続補正書】特許法第184条の8第1項 【提出日】1997年10月17日(1997.10.17) 【補正内容】 翻訳文明細書第22乃至23頁の補正 翻訳文請求の範囲第29頁乃至第30頁の補正 1. エチレン・コポリマーの挿入(インサーション)重合のための方法であっ て、均質な高圧又は溶液重合方法条件下において、120℃以上の温度にて、2 0バール以上の圧力にて、長鎖線状アルキル・リガンド含有有機アルミニウム化 合物(ここで、各アルキル・リガンドは、C8以上である)の存在下にて、エチ レンと挿入重合を行うことができる一種以上のコモノマーとを、架橋ビスシクロ ペンタジエニル ハフニウム化合物から得られる陽イオンとそれと釣り合ってい る非配位陰イオンとを含むイオン性触媒系と接触させることを含む、方法。 2. 前記ハフニウム化合物が、ジメチルシリル ビス(インデニル)ハフニウ ム ジメチル、ジメチルシリル ビス(4,5,6,7−テトラヒドロインデニ ル)ハフニウム ジメチル、ジメチルシリル ビス(2−メチルインデニル)ハ フニウム ジメチル、ジメチルシリル ビス(2−プロピルインデニル)ハフニ ウム ジメチル、ジメチルシリル ビス(4−メチル,2−フェニルインデニル )ハフニウム ジメチル、ジメチルシリル (シクロペンタジエニル)(テトラ メチルシクロペンタジエニル)ハフニウム ジベンジル、ジメチルシリル ビス (シクロペンタジエニル)ハフニウム ジメチル、ジブチルシリル (フルオレ ニル)(シクロペンタジエニル)ハフニウム ジメチル、ジメチルシリル(イン デニル)(フルオレニル)ハフニウム ジヒドリド、又はイソプロピル(シクロ ペンタジエニル)(フルオレニル)ハフニウム ジメチルのラセミ又はメソ異性 体である、請求項1の方法。 3. 前記イオン性触媒系が、一価の水素化物、アルキル又はシリル・リガンド を有する前記架橋ビスシクロペンタジエニル ハフニウム化合物と、1又は2族 陽イオンと非配位陰イオンとを含む水和された塩との反応生成物である、請求項 1に従う方法。 4. 前記イオン性触媒系が、重合媒体中にてあるいは当該媒体への導入の直前 に、遷移金属化合物と陰イオン前駆体とを接触させることによって調製される、 請求項1−3のいずれかに従う方法。 5. 前記有機アルミニウム化合物が、触媒系及びその成分とは独立に反応容器 に導入される、請求項1−4のいずれかに従う方法。 6. オレフィン性又はアセチレン性不飽和モノマーの挿入(インサーション) 重合のための方法であって、前記モノマーの一種以上を、適切な重合方法条件下 において、一価の水素化物、アルキル又はシリル・リガンドを有し、触媒として 適する4、5、6又は8族遷移金属化合物と、1又は2族陽イオンと非配位陰イ オンとを含む水和された塩との反応生成物を含むイオン性触媒組成物と接触させ ることを含む、方法。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 フォリエ、バーナード・ジェイ アメリカ合衆国、テキサス州 77005、ヒ ューストン、ワーレイン 2621 (72)発明者 クラウザー、ダナ・ジェイ アメリカ合衆国、テキサス州 77521、ベ イタウン、カクタス・ドライブ 1104 (72)発明者 ウォルツァー、ジュニア、ジョン・エフ アメリカ合衆国、テキサス州 77586、シ ーブルック、ナンバー・261、ナサ・ロー ド・1、4101 (72)発明者 フィッシャー、リチャード・エイ アメリカ合衆国、テキサス州 77573、リ ーグ・シティ、フェアウォーター・パー ク・ドライブ 2216 (72)発明者 ヴォーン、ジョージ・エイ アメリカ合衆国、テキサス州 77019、ヒ ューストン、アレン・パークウェイ・ナン バー720、3601

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1. オレフィン性又はアセチレン性不飽和モノマーの挿入(インサーション) 重合のための方法であって、前記モノマーの一種以上を、適切な重合方法条件下 において、イオン性触媒系と接触させることを含む方法において、その改良は、 長鎖線状アルキル・リガンド含有有機アルミニウム化合物の存在下に前記接触を 行うことを含む、方法。 2. メルト・インデックスが100以下で、密度が0.92g/cc以下のエ チレン・コポリマーの調製に適する請求項1の方法であって、稀釈剤又は溶剤を 用いて又は用いずに、エチレンと、1)架橋ハフニウム化合物、2)珪素架橋モ ノシクロペンタジエニルチタニウム化合物、及び3)未架橋の嵩高い15族を含 有する嵩高いモノシクロペンタジエニルチタニウム化合物から選択されるイオン 性触媒系の存在下に挿入(インサーション)重合を行うことができる一種以上の コモノマーを接触させることを含み、当該接触が90℃以上の温度で行われる、 方法。 3. 前記イオン性触媒系が、一価の水素化物、アルキル又はシリル・リガンド を有する、触媒として適する4、5又は8族遷移金属化合物と、1又は2族陽イ オンと非配位陰イオンとを含む水和された塩との反応生成物である、請求項1に 従う方法。 4. 前記イオン性触媒系が、重合媒体中にてあるいは当該媒体への導入の直前 に、遷移金属化合物と陰イオン前駆体とを接触させることによって調製される、 請求項1−3のいずれかに従う方法。 5. 前記有機アルミニウム化合物が、触媒系及びその成分とは独立に反応容器 に導入される、請求項1−4のいずれかに従う方法。 6. オレフィン性又はアセチレン性不飽和モノマーの挿入(インサーション) 重合のための方法であって、前記モノマーの一種以上を、適切な重合方法条件下 において、一価の水素化物、アルキル又はシリル・リガンドを有し、触媒として 適する4、5、6又は8族遷移金属化合物と、1又は2族陽イオンと非配位陰イ オンとを含む水和された塩との反応生成物を含むイオン性触媒組成物と接触させ ることを含む、方法。
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