JP2000327367A - プラズマディスプレーパネル用材料及びガラス組成物 - Google Patents
プラズマディスプレーパネル用材料及びガラス組成物Info
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
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- C03C8/10—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form containing lead
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- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
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- C03C8/08—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form containing phosphorus
Abstract
(57)【要約】
【課題】 Ａｇ電極との反応による黄変が起こりにく
く、誘電体層の形成に好適なプラズマディスプレーパネ
ル用材料とガラス組成物を提供する。 【解決手段】 Ｐ2Ｏ5を０．２〜２０重量％含有するガ
ラス粉末を使用する。特に、重量百分率でＢａＯ＋Ｃａ
Ｏ＋Ｂｉ2Ｏ3 ２〜４５％、ＺｎＯ ５〜４５％、Ｂ2
Ｏ3 １０〜４０％、ＳｉＯ2 １〜１５％、ＰｂＯ ０
〜５５％、Ｐ2Ｏ5０．２〜２０％の組成を有するものが
好ましい。
く、誘電体層の形成に好適なプラズマディスプレーパネ
ル用材料とガラス組成物を提供する。 【解決手段】 Ｐ2Ｏ5を０．２〜２０重量％含有するガ
ラス粉末を使用する。特に、重量百分率でＢａＯ＋Ｃａ
Ｏ＋Ｂｉ2Ｏ3 ２〜４５％、ＺｎＯ ５〜４５％、Ｂ2
Ｏ3 １０〜４０％、ＳｉＯ2 １〜１５％、ＰｂＯ ０
〜５５％、Ｐ2Ｏ5０．２〜２０％の組成を有するものが
好ましい。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はプラズマディスプレ
ーパネル用材料に関し、特にプラズマディスプレーパネ
ルの透明誘電体層の形成に用いられるプラズマディスプ
レーパネル用材料に関するものである。
ーパネル用材料に関し、特にプラズマディスプレーパネ
ルの透明誘電体層の形成に用いられるプラズマディスプ
レーパネル用材料に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】プラズマディスプレーパネルは、自己発
光型のフラットディスプレーであり、軽量薄型、高視野
角等の優れた特性を備えており、また大画面化が可能で
あることから、最も将来性のある表示装置の一つとして
注目されている。
光型のフラットディスプレーであり、軽量薄型、高視野
角等の優れた特性を備えており、また大画面化が可能で
あることから、最も将来性のある表示装置の一つとして
注目されている。
【０００３】このプラズマディスプレーパネルの前面ガ
ラス板には、プラズマ放電用の走査電極が形成され、そ
の上に放電維持のために膜厚約３０〜４０μｍの透明な
誘電体層が形成される。走査電極にはＡｇが広く用いら
れ、また透明誘電体層はガラス粉末を主成分とする誘電
体材料を用いて形成される。
ラス板には、プラズマ放電用の走査電極が形成され、そ
の上に放電維持のために膜厚約３０〜４０μｍの透明な
誘電体層が形成される。走査電極にはＡｇが広く用いら
れ、また透明誘電体層はガラス粉末を主成分とする誘電
体材料を用いて形成される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
誘電体材料では、ガラスとＡｇ電極が反応して誘電体層
が黄色に着色（黄変）する現象が生じ、透過率が低下す
るという問題がある。
誘電体材料では、ガラスとＡｇ電極が反応して誘電体層
が黄色に着色（黄変）する現象が生じ、透過率が低下す
るという問題がある。
【０００５】本発明の目的は、Ａｇ電極との反応による
黄変が起こりにくく、誘電体層の形成に好適なプラズマ
ディスプレーパネル用材料とガラス組成物を提供するこ
とである。
黄変が起こりにくく、誘電体層の形成に好適なプラズマ
ディスプレーパネル用材料とガラス組成物を提供するこ
とである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明のプラズマディス
プレーパネル用材料は、ガラス粉末を構成成分として含
み、プラズマディスプレーパネルの誘電体層の形成に用
いられるプラズマディスプレーパネル用材料であって、
該ガラス粉末が、Ｐ2Ｏ5を０．２〜２０重量％含有する
ガラスからなることを特徴とする。
プレーパネル用材料は、ガラス粉末を構成成分として含
み、プラズマディスプレーパネルの誘電体層の形成に用
いられるプラズマディスプレーパネル用材料であって、
該ガラス粉末が、Ｐ2Ｏ5を０．２〜２０重量％含有する
ガラスからなることを特徴とする。
【０００７】また本発明のプラズマディスプレーパネル
用ガラス組成物は、重量百分率でＢａＯ＋ＣａＯ＋Ｂｉ
2Ｏ3 ２〜４５％、ＺｎＯ ５〜４５％、Ｂ2Ｏ3 １０
〜４０％、ＳｉＯ2 １〜１５％、ＰｂＯ ０〜５５
％、Ｐ2Ｏ5 ０．２〜２０％の組成を有することを特徴
とする。
用ガラス組成物は、重量百分率でＢａＯ＋ＣａＯ＋Ｂｉ
2Ｏ3 ２〜４５％、ＺｎＯ ５〜４５％、Ｂ2Ｏ3 １０
〜４０％、ＳｉＯ2 １〜１５％、ＰｂＯ ０〜５５
％、Ｐ2Ｏ5 ０．２〜２０％の組成を有することを特徴
とする。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明のプラズマディスプレーパ
ネル用材料は、Ｐ2Ｏ5を０．２〜２０重量％含有するガ
ラス粉末を主成分とする。Ｐ2Ｏ5を上記範囲で含むこと
により、電極材にＡｇを使用した場合でも、形成される
誘電体層が黄色に黄変しにくく、高い透過率を得ること
ができる。
ネル用材料は、Ｐ2Ｏ5を０．２〜２０重量％含有するガ
ラス粉末を主成分とする。Ｐ2Ｏ5を上記範囲で含むこと
により、電極材にＡｇを使用した場合でも、形成される
誘電体層が黄色に黄変しにくく、高い透過率を得ること
ができる。
【０００９】また誘電体用途には、電極との反応性以外
にも、熱膨張係数がガラス板に適合すること、５０
０〜６００℃で焼成できること、誘電体層は高い耐電
圧を有するとともに、高い透明性を有する必要があるた
め、泡が少ないこと等の特性を満たすことが重要であ
る。
にも、熱膨張係数がガラス板に適合すること、５０
０〜６００℃で焼成できること、誘電体層は高い耐電
圧を有するとともに、高い透明性を有する必要があるた
め、泡が少ないこと等の特性を満たすことが重要であ
る。
【００１０】このような条件を満たすガラス粉末とし
て、重量百分率でＢａＯ＋ＣａＯ＋Ｂｉ2Ｏ3 ２〜４５
％、ＺｎＯ ５〜４５％、Ｂ2Ｏ3 １０〜４０％、Ｓｉ
Ｏ2１〜１５％、ＰｂＯ ０〜５５％、Ｐ2Ｏ5 ０．２
〜２０％の組成を有するものを使用することができる。
また上記成分の他にも、例えば黄変をより一層抑える目
的でＣｕＯ、Ｂｉ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＣｅＯ2を合量で３
％まで添加しても良い。なおこのガラス組成物は、Ａｇ
電極が形成された前面ガラス基板の透明誘電体層形成用
として好適なものであるが、この用途に限られるもので
はなく、例えばＣｒ−Ｃｕ−Ｃｒ電極が形成された前面
ガラス基板の透明誘電体層形成材料や、背面ガラス基板
のアドレス保護誘電体形成材料や、隔壁材料等にも使用
することができる。
て、重量百分率でＢａＯ＋ＣａＯ＋Ｂｉ2Ｏ3 ２〜４５
％、ＺｎＯ ５〜４５％、Ｂ2Ｏ3 １０〜４０％、Ｓｉ
Ｏ2１〜１５％、ＰｂＯ ０〜５５％、Ｐ2Ｏ5 ０．２
〜２０％の組成を有するものを使用することができる。
また上記成分の他にも、例えば黄変をより一層抑える目
的でＣｕＯ、Ｂｉ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＣｅＯ2を合量で３
％まで添加しても良い。なおこのガラス組成物は、Ａｇ
電極が形成された前面ガラス基板の透明誘電体層形成用
として好適なものであるが、この用途に限られるもので
はなく、例えばＣｒ−Ｃｕ−Ｃｒ電極が形成された前面
ガラス基板の透明誘電体層形成材料や、背面ガラス基板
のアドレス保護誘電体形成材料や、隔壁材料等にも使用
することができる。
【００１１】上記範囲の中でも、ＢａＯ＋ＣａＯ＋Ｂｉ
2Ｏ3 ２〜２０％、ＺｎＯ ５〜３５％、Ｂ2Ｏ3 １０
〜４０％、ＳｉＯ2 １〜１５％、ＰｂＯ ２５〜５５
％、Ｐ2Ｏ5 ０．２〜２０％の組成を有するもの（ガラ
スＡ）や、ＢａＯ １５〜４５％、ＺｎＯ ２０〜４５
％、Ｂ2Ｏ3 １５〜３５％、ＳｉＯ2 ３〜１５％、Ｐ
ｂＯ ０〜２４．５％、Ｐ2Ｏ5 ０．２〜２０％の組成
を有するもの（ガラスＢ）が好適に使用できる。
2Ｏ3 ２〜２０％、ＺｎＯ ５〜３５％、Ｂ2Ｏ3 １０
〜４０％、ＳｉＯ2 １〜１５％、ＰｂＯ ２５〜５５
％、Ｐ2Ｏ5 ０．２〜２０％の組成を有するもの（ガラ
スＡ）や、ＢａＯ １５〜４５％、ＺｎＯ ２０〜４５
％、Ｂ2Ｏ3 １５〜３５％、ＳｉＯ2 ３〜１５％、Ｐ
ｂＯ ０〜２４．５％、Ｐ2Ｏ5 ０．２〜２０％の組成
を有するもの（ガラスＢ）が好適に使用できる。
【００１２】ガラスＡは、軟化点付近の粘性変化が急
（ショートなガラス）であり、泡の大半が焼成初期の比
較的低い温度で抜けるため、残存泡数が少ないという特
徴がある。以下、ガラスＡの組成範囲を限定した理由を
述べる。
（ショートなガラス）であり、泡の大半が焼成初期の比
較的低い温度で抜けるため、残存泡数が少ないという特
徴がある。以下、ガラスＡの組成範囲を限定した理由を
述べる。
【００１３】ＢａＯ、ＣａＯ、及びＢｉ2Ｏ3は、軟化点
を低下させるとともに、脱泡性に影響する高温粘性を調
整するための成分であり、その含有量は合量で２〜２０
％、好ましくは３〜１８％である。これら成分の合量が
２％より少ないと上記効果を得ることが困難になり、２
０％より多いと軟化点が低下しすぎて焼成時に発泡しや
すくなるとともに、熱膨張係数が高くなりすぎる。
を低下させるとともに、脱泡性に影響する高温粘性を調
整するための成分であり、その含有量は合量で２〜２０
％、好ましくは３〜１８％である。これら成分の合量が
２％より少ないと上記効果を得ることが困難になり、２
０％より多いと軟化点が低下しすぎて焼成時に発泡しや
すくなるとともに、熱膨張係数が高くなりすぎる。
【００１４】ＺｎＯは熱膨張係数を低下させるととも
に、軟化点を下げる成分であり、その含有量は５〜３５
％、好ましくは１０〜３０％である。ＺｎＯが５％より
少ないと上記効果を得ることができず、３５％より多い
と焼成時に失透しやすくなる。
に、軟化点を下げる成分であり、その含有量は５〜３５
％、好ましくは１０〜３０％である。ＺｎＯが５％より
少ないと上記効果を得ることができず、３５％より多い
と焼成時に失透しやすくなる。
【００１５】Ｂ2Ｏ3はガラス化範囲を広げる成分であ
り、その含有量は１０〜４０％、好ましくは１５〜３５
％である。Ｂ2Ｏ3が１０％より少ないとガラス化が困難
になり、４０％より多いとガラスが分相しやすくなって
好ましくない。
り、その含有量は１０〜４０％、好ましくは１５〜３５
％である。Ｂ2Ｏ3が１０％より少ないとガラス化が困難
になり、４０％より多いとガラスが分相しやすくなって
好ましくない。
【００１６】ＳｉＯ2はガラスの骨格を形成する成分で
あり、その含有量は１〜１５％、好ましくは２〜１３％
である。ＳｉＯ2 が１％より少ないとガラス化が困難に
なり、１５％より多いと軟化点が高くなりすぎ、またガ
ラスの粘性変化が緩やかになりすぎて泡が抜けにくくな
る。
あり、その含有量は１〜１５％、好ましくは２〜１３％
である。ＳｉＯ2 が１％より少ないとガラス化が困難に
なり、１５％より多いと軟化点が高くなりすぎ、またガ
ラスの粘性変化が緩やかになりすぎて泡が抜けにくくな
る。
【００１７】ＰｂＯは軟化点を下げる成分であり、その
含有量は２５〜５５％、好ましくは３０〜５０％であ
る。ＰｂＯが２５％より少ないと軟化点が高くなり、焼
成後にガラス中に泡が多数残存しやすくなり、５５％よ
り多いと熱膨張係数が高くなりすぎる。
含有量は２５〜５５％、好ましくは３０〜５０％であ
る。ＰｂＯが２５％より少ないと軟化点が高くなり、焼
成後にガラス中に泡が多数残存しやすくなり、５５％よ
り多いと熱膨張係数が高くなりすぎる。
【００１８】Ｐ2Ｏ5の含有量は０．２〜２０％、好まし
くは１〜１５％である。Ｐ2Ｏ5が０．２％より少ないと
その効果がなく、２０％より多いとガラスの耐水性が悪
くなる。
くは１〜１５％である。Ｐ2Ｏ5が０．２％より少ないと
その効果がなく、２０％より多いとガラスの耐水性が悪
くなる。
【００１９】また（ガラスＢ）は、焼成初期に抜けずに
残った泡が、温度上昇に伴って大泡に成長しないよう
に、ガラスＡに比べて粘性変化が緩やかになるように調
整したものである。このためガラスＡよりも大泡の数を
少なくできるというメリットがある。以下、ガラスＢの
組成範囲を上記のように限定した理由を述べる。
残った泡が、温度上昇に伴って大泡に成長しないよう
に、ガラスＡに比べて粘性変化が緩やかになるように調
整したものである。このためガラスＡよりも大泡の数を
少なくできるというメリットがある。以下、ガラスＢの
組成範囲を上記のように限定した理由を述べる。
【００２０】ＢａＯは脱泡性に影響を与える高温粘性を
調整するとともに、熱膨張係数を上昇させる成分であ
り、その含有量は１５〜４５％、好ましくは２０．５〜
４０％である。ＢａＯが１５％より少ないと脱泡性が低
下し、またガラスの熱膨張係数が低くなりすぎて高歪点
ガラスのそれと適合しなくなる。一方、ＢａＯが４５％
より多いと熱膨張係数が高くなりすぎて高歪点ガラスに
適合しなくなる。
調整するとともに、熱膨張係数を上昇させる成分であ
り、その含有量は１５〜４５％、好ましくは２０．５〜
４０％である。ＢａＯが１５％より少ないと脱泡性が低
下し、またガラスの熱膨張係数が低くなりすぎて高歪点
ガラスのそれと適合しなくなる。一方、ＢａＯが４５％
より多いと熱膨張係数が高くなりすぎて高歪点ガラスに
適合しなくなる。
【００２１】ＺｎＯは軟化点を低下させるとともに、熱
膨張係数を調整する成分であり、その含有量は２０〜４
５％、好ましくは２２〜４２％である。ＺｎＯが２０％
より少ないと上記効果を得ることができず、４５％より
多いと熱膨張係数が低くなりすぎる。
膨張係数を調整する成分であり、その含有量は２０〜４
５％、好ましくは２２〜４２％である。ＺｎＯが２０％
より少ないと上記効果を得ることができず、４５％より
多いと熱膨張係数が低くなりすぎる。
【００２２】Ｂ2Ｏ3はガラスの骨格を形成するとともに
ガラス化範囲を広げる成分であり、その含有量は１５〜
４０％、好ましくは１６〜３３％である。Ｂ2Ｏ3が１５
％より少ないと、焼成時にガラスが結晶化しやすくな
り、４０％より多いとガラスの軟化点が高くなりすぎて
６００℃以下での焼成が困難になる。
ガラス化範囲を広げる成分であり、その含有量は１５〜
４０％、好ましくは１６〜３３％である。Ｂ2Ｏ3が１５
％より少ないと、焼成時にガラスが結晶化しやすくな
り、４０％より多いとガラスの軟化点が高くなりすぎて
６００℃以下での焼成が困難になる。
【００２３】ＳｉＯ2はガラスの骨格を形成する成分で
あり、その含有量は３〜１５％、好ましくは４〜１３％
である。ＳｉＯ2 が３％より少ないと焼成時にガラスが
結晶化しやすくなる。一方、１５％より多いと軟化点が
高くなりすぎ、またガラスの粘性変化が緩やかになりす
ぎて泡が抜けにくくなる。
あり、その含有量は３〜１５％、好ましくは４〜１３％
である。ＳｉＯ2 が３％より少ないと焼成時にガラスが
結晶化しやすくなる。一方、１５％より多いと軟化点が
高くなりすぎ、またガラスの粘性変化が緩やかになりす
ぎて泡が抜けにくくなる。
【００２４】ＰｂＯは軟化点を下げる成分であり、その
含有量は０〜２４．５％、好ましくは０〜２４％であ
る。ＰｂＯが２４．５％より多いと粘性変化が急激にな
りすぎて泡が成長し易くなり、焼成後に３０μｍクラス
の大泡が残存してしまう。
含有量は０〜２４．５％、好ましくは０〜２４％であ
る。ＰｂＯが２４．５％より多いと粘性変化が急激にな
りすぎて泡が成長し易くなり、焼成後に３０μｍクラス
の大泡が残存してしまう。
【００２５】Ｐ2Ｏ5の含有量は０．２〜２０％、好まし
くは１〜１５％である。Ｐ2Ｏ5が０．２％より少ないと
その効果がなく、２０％より多いとガラスの耐水性が悪
くなる。
くは１〜１５％である。Ｐ2Ｏ5が０．２％より少ないと
その効果がなく、２０％より多いとガラスの耐水性が悪
くなる。
【００２６】本発明において使用するガラス粉末の粒度
は、平均粒径Ｄ50が３．０μｍ以下、最大粒径ＤMAXが
２０μｍ以下であることが好ましい。平均粒径Ｄ50又は
最大粒径ＤMAXがその上限を超えると、粉末間の隙間が
大きくなるために大泡が残存しやすくなる。
は、平均粒径Ｄ50が３．０μｍ以下、最大粒径ＤMAXが
２０μｍ以下であることが好ましい。平均粒径Ｄ50又は
最大粒径ＤMAXがその上限を超えると、粉末間の隙間が
大きくなるために大泡が残存しやすくなる。
【００２７】また本発明のプラズマディスプレーパネル
用材料は、焼成後の強度の改善や外観の調節のために、
上記ガラス粉末に加えて、アルミナ、ジルコン、ジルコ
ニア、酸化チタン等のセラミック粉末を添加することが
できる。なおセラミック粉末の最大粒径ＤMAXは１５μ
ｍ以下であることが好ましい。
用材料は、焼成後の強度の改善や外観の調節のために、
上記ガラス粉末に加えて、アルミナ、ジルコン、ジルコ
ニア、酸化チタン等のセラミック粉末を添加することが
できる。なおセラミック粉末の最大粒径ＤMAXは１５μ
ｍ以下であることが好ましい。
【００２８】ガラス粉末とセラミック粉末の割合は、ガ
ラス粉末９０〜１００重量％、セラミック粉末０〜１０
重量％である。なおセラミック粉末が１０％より多いと
可視光が散乱して不透明になりやすく好ましくない。
ラス粉末９０〜１００重量％、セラミック粉末０〜１０
重量％である。なおセラミック粉末が１０％より多いと
可視光が散乱して不透明になりやすく好ましくない。
【００２９】次に本発明のプラズマディスプレーパネル
材料の使用方法を説明する。この材料は、例えばペース
トやグリーンシートの形態で使用することができる。
材料の使用方法を説明する。この材料は、例えばペース
トやグリーンシートの形態で使用することができる。
【００３０】ペーストの形態で使用する場合、上述した
ガラス粉末やセラミック粉末とともに、樹脂、可塑剤、
溶剤等を使用する。
ガラス粉末やセラミック粉末とともに、樹脂、可塑剤、
溶剤等を使用する。
【００３１】ガラス粉末及びセラミック粉末の含有量は
３０〜９０重量％、特に５０〜８０重量％の範囲にある
ことが好ましい。
３０〜９０重量％、特に５０〜８０重量％の範囲にある
ことが好ましい。
【００３２】樹脂は、乾燥後の膜強度を高め、また柔軟
性を付与する成分であり、その含有量は０．１〜２０重
量％、特に０．５〜１０重量％の範囲にあることが好ま
しい。樹脂としてはポリブチルメタアクリレート、ポリ
ビニルブチラール、ポリメチルメタアクリレート、ポリ
エチルメタアクリレート、エチルセルロース等が使用可
能であり、これらを単独あるいは混合して使用する。
性を付与する成分であり、その含有量は０．１〜２０重
量％、特に０．５〜１０重量％の範囲にあることが好ま
しい。樹脂としてはポリブチルメタアクリレート、ポリ
ビニルブチラール、ポリメチルメタアクリレート、ポリ
エチルメタアクリレート、エチルセルロース等が使用可
能であり、これらを単独あるいは混合して使用する。
【００３３】可塑剤は、乾燥速度をコントロールすると
ともに、乾燥膜に柔軟性を与える成分であり、その含有
量は０〜１０重量％、特に０〜９重量％の範囲にあるこ
とが好ましい。可塑剤としてはブチルベンジルフタレー
ト、ジオクチルフタレート、ジイソオクチルフタレー
ト、ジカプリルフタレート、ジブチルフタレート等が使
用可能であり、これらを単独あるいは混合して使用す
る。
ともに、乾燥膜に柔軟性を与える成分であり、その含有
量は０〜１０重量％、特に０〜９重量％の範囲にあるこ
とが好ましい。可塑剤としてはブチルベンジルフタレー
ト、ジオクチルフタレート、ジイソオクチルフタレー
ト、ジカプリルフタレート、ジブチルフタレート等が使
用可能であり、これらを単独あるいは混合して使用す
る。
【００３４】溶剤は材料をペースト化するための成分で
あり、その含有量は１０〜３０重量％、特に１５〜２５
重量％の範囲にあることが好ましい。溶剤としては、例
えばターピネオール、ジエチレングリコールモノブチル
エーテルアセテート、２，２，４−トリメチル−１，３
−ペンタジオールモノイソブチレート等を単独または混
合して使用することができる。
あり、その含有量は１０〜３０重量％、特に１５〜２５
重量％の範囲にあることが好ましい。溶剤としては、例
えばターピネオール、ジエチレングリコールモノブチル
エーテルアセテート、２，２，４−トリメチル−１，３
−ペンタジオールモノイソブチレート等を単独または混
合して使用することができる。
【００３５】上記材料を用いてペーストを作製するに
は、まずガラス粉末、セラミック粉末、樹脂、可塑剤、
溶剤等を用意し、続いて各成分を所定の割合で混練すれ
ばよい。
は、まずガラス粉末、セラミック粉末、樹脂、可塑剤、
溶剤等を用意し、続いて各成分を所定の割合で混練すれ
ばよい。
【００３６】続いてこのペーストを用いて誘電体層を形
成する方法の一例について説明する。まず、プラズマデ
ィスプレーパネルに用いられる前面ガラス板を用意す
る。次にペーストをスクリーン印刷法や一括コート法等
を用いて塗布し、膜厚３０〜１００μｍの塗布層を形成
する。なお前面ガラス板には予め電極が形成されてお
り、ペーストの塗布はその上に行う。続いて塗布層を８
０〜１２０℃程度の温度で乾燥させる。その後、５００
〜６００℃で５〜１５分間焼成することにより、誘電体
層を形成することができる。
成する方法の一例について説明する。まず、プラズマデ
ィスプレーパネルに用いられる前面ガラス板を用意す
る。次にペーストをスクリーン印刷法や一括コート法等
を用いて塗布し、膜厚３０〜１００μｍの塗布層を形成
する。なお前面ガラス板には予め電極が形成されてお
り、ペーストの塗布はその上に行う。続いて塗布層を８
０〜１２０℃程度の温度で乾燥させる。その後、５００
〜６００℃で５〜１５分間焼成することにより、誘電体
層を形成することができる。
【００３７】グリーンシートの形態で使用する場合、上
記ガラス粉末とともに、樹脂、可塑剤等を使用する。
記ガラス粉末とともに、樹脂、可塑剤等を使用する。
【００３８】ガラス粉末及びセラミック粉末の含有量は
６０〜８０重量％、特に６５〜７７重量％の範囲にある
ことが好ましい。
６０〜８０重量％、特に６５〜７７重量％の範囲にある
ことが好ましい。
【００３９】樹脂は、グリーンシートに必要な強度と柔
軟性、及び自己接着性を付与するための材料であり、そ
の混合割合は５〜３０重量％、好ましくは１０〜２５重
量％である。樹脂としては、ポリブチルメタアクリレー
ト、ポリビニルブチラール、ポリメチルメタアクリレー
ト、ポリエチルメタアクリレート、エチルセルロース等
が使用可能であり、これらを単独あるいは混合して使用
する。
軟性、及び自己接着性を付与するための材料であり、そ
の混合割合は５〜３０重量％、好ましくは１０〜２５重
量％である。樹脂としては、ポリブチルメタアクリレー
ト、ポリビニルブチラール、ポリメチルメタアクリレー
ト、ポリエチルメタアクリレート、エチルセルロース等
が使用可能であり、これらを単独あるいは混合して使用
する。
【００４０】可塑剤は、グリーンシートに柔軟性を高め
るとともに自己接着性を付与するために添加する成分で
あり、その混合割合は０〜１０重量％、好ましくは０．
１〜７重量％である。可塑剤としてはブチルベンジルフ
タレート、ジオクチルフタレート、ジイソオクチルフタ
レート、ジカプリルフタレート、ジブチルフタレートが
使用可能であり、これらを単独あるいは混合して使用す
る。
るとともに自己接着性を付与するために添加する成分で
あり、その混合割合は０〜１０重量％、好ましくは０．
１〜７重量％である。可塑剤としてはブチルベンジルフ
タレート、ジオクチルフタレート、ジイソオクチルフタ
レート、ジカプリルフタレート、ジブチルフタレートが
使用可能であり、これらを単独あるいは混合して使用す
る。
【００４１】上記材料を用いてグリーンシートを作製す
るには、まずガラス粉末、セラミック粉末、樹脂、可塑
剤等を用意し、各成分を所定の割合で混合する。次いで
トルエン等の主溶媒や、イソプロピルアルコール等の補
助溶剤を添加してスラリーとし、このスラリーをドクタ
ーブレード法によって、ポリエチレンテレフタレート
（ＰＥＴ）等のフィルム上にシート成形する。このとき
乾燥後のシート厚が約２０〜１００μｍとなるように成
形することが好ましい。その後、乾燥させることによっ
て溶媒や溶剤を除去し、グリーンシートを得ることがで
きる。
るには、まずガラス粉末、セラミック粉末、樹脂、可塑
剤等を用意し、各成分を所定の割合で混合する。次いで
トルエン等の主溶媒や、イソプロピルアルコール等の補
助溶剤を添加してスラリーとし、このスラリーをドクタ
ーブレード法によって、ポリエチレンテレフタレート
（ＰＥＴ）等のフィルム上にシート成形する。このとき
乾燥後のシート厚が約２０〜１００μｍとなるように成
形することが好ましい。その後、乾燥させることによっ
て溶媒や溶剤を除去し、グリーンシートを得ることがで
きる。
【００４２】続いてこのグリーンシートを用いて誘電体
層を形成する方法の一例について説明する。まず、プラ
ズマディスプレーパネルに用いられる前面ガラス板を用
意する。前面ガラス板には、予め電極が形成されてお
り、その上に本発明の材料を熱圧着によって接着する。
熱圧着は、５０〜２００℃で１〜５ｋｇｆ／ｃｍ2 条件
で行うことが好ましい。その後、５００〜６００℃で５
〜１５分間焼成することにより、誘電体層を形成するこ
とができる。
層を形成する方法の一例について説明する。まず、プラ
ズマディスプレーパネルに用いられる前面ガラス板を用
意する。前面ガラス板には、予め電極が形成されてお
り、その上に本発明の材料を熱圧着によって接着する。
熱圧着は、５０〜２００℃で１〜５ｋｇｆ／ｃｍ2 条件
で行うことが好ましい。その後、５００〜６００℃で５
〜１５分間焼成することにより、誘電体層を形成するこ
とができる。
【００４３】
【実施例】以下、実施例に基づいて本発明を説明する。
【００４４】表１、２は、本発明の実施例（試料Ｎｏ．
１〜９）及び比較例（試料Ｎｏ．１０、１１）を示して
いる。
１〜９）及び比較例（試料Ｎｏ．１０、１１）を示して
いる。
【００４５】
【表１】
【００４６】
【表２】
【００４７】各試料は次のようにして調製した。まず表
に示す組成となるようにガラス原料を調合し、白金坩堝
に入れて１３００℃で２時間溶融した後、溶融ガラスを
薄板状に成形した。次いでこれを粉砕し、分級して平均
粒径Ｄ50が３．０μｍ以下、最大粒径ＤMAXが２０μｍ
以下のガラス粉末からなる試料を得、ガラスの軟化点を
測定した。さらにＮｏ．８のガラス粉末についてはアル
ミナ粉末と混合して試料とした。なお平均粒径Ｄ50及び
最大粒径ＤMAXは、日機装株式会社製のレーザー回折式
粒度分布計「マイクロトラックＳＰＡ」を用いて確認し
た。
に示す組成となるようにガラス原料を調合し、白金坩堝
に入れて１３００℃で２時間溶融した後、溶融ガラスを
薄板状に成形した。次いでこれを粉砕し、分級して平均
粒径Ｄ50が３．０μｍ以下、最大粒径ＤMAXが２０μｍ
以下のガラス粉末からなる試料を得、ガラスの軟化点を
測定した。さらにＮｏ．８のガラス粉末についてはアル
ミナ粉末と混合して試料とした。なお平均粒径Ｄ50及び
最大粒径ＤMAXは、日機装株式会社製のレーザー回折式
粒度分布計「マイクロトラックＳＰＡ」を用いて確認し
た。
【００４８】得られた試料について、熱膨張係数、焼成
温度、焼成後のガラス膜厚、Ａｇ電極との反応による黄
変の有無、及びガラス膜中に残存する直径３０μｍ以上
の大泡の個数を評価した。結果を各表に示す。
温度、焼成後のガラス膜厚、Ａｇ電極との反応による黄
変の有無、及びガラス膜中に残存する直径３０μｍ以上
の大泡の個数を評価した。結果を各表に示す。
【００４９】表から明らかなように、本発明の実施例で
あるＮｏ．１〜９の各試料がＡｇ電極との反応による黄
変が認められなかったのに対し、比較例であるＮｏ．１
０、１１の試料はＰ2Ｏ5を含まないために黄変が発生し
た。
あるＮｏ．１〜９の各試料がＡｇ電極との反応による黄
変が認められなかったのに対し、比較例であるＮｏ．１
０、１１の試料はＰ2Ｏ5を含まないために黄変が発生し
た。
【００５０】なおガラスの軟化点はマクロ型示差熱分析
計を用いて測定し、第一の変曲点の値を転移点、第四の
変曲点の値を軟化点とした。熱膨張係数は、各試料を粉
末プレス成型し、焼成した後、直径４ｍｍ、長さ４０ｍ
ｍの円柱状に研磨加工し、ＪＩＳ Ｒ３１０２に基づい
て測定した後、３０〜３００℃の温度範囲における値を
求めた。ガラス膜厚、Ａｇ電極との反応による黄変の有
無、及び大泡数は次のようにして測定した。まず各試料
をエチルセルロースの５％ターピネオール溶液に混合
し、３本ロールミルにて混練してペースト化した。次い
でこのペーストを、約３０μｍのガラス膜が得られるよ
うに、１．７ｍｍ厚のソーダライムガラス板上にスクリ
ーン印刷法で塗布し、電気炉に入れた後、焼成温度で１
０分間保持した。このようにして得られたガラス膜につ
いて、デジタルマイクロメータにて膜厚を確認した。大
泡の個数は、焼成されたガラス膜の表面を実体顕微鏡
（３０倍）にて観察し、３×４ｃｍの範囲の３０μｍ以
上の大泡をカウントした。
計を用いて測定し、第一の変曲点の値を転移点、第四の
変曲点の値を軟化点とした。熱膨張係数は、各試料を粉
末プレス成型し、焼成した後、直径４ｍｍ、長さ４０ｍ
ｍの円柱状に研磨加工し、ＪＩＳ Ｒ３１０２に基づい
て測定した後、３０〜３００℃の温度範囲における値を
求めた。ガラス膜厚、Ａｇ電極との反応による黄変の有
無、及び大泡数は次のようにして測定した。まず各試料
をエチルセルロースの５％ターピネオール溶液に混合
し、３本ロールミルにて混練してペースト化した。次い
でこのペーストを、約３０μｍのガラス膜が得られるよ
うに、１．７ｍｍ厚のソーダライムガラス板上にスクリ
ーン印刷法で塗布し、電気炉に入れた後、焼成温度で１
０分間保持した。このようにして得られたガラス膜につ
いて、デジタルマイクロメータにて膜厚を確認した。大
泡の個数は、焼成されたガラス膜の表面を実体顕微鏡
（３０倍）にて観察し、３×４ｃｍの範囲の３０μｍ以
上の大泡をカウントした。
【００５１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のプラズマ
ディスプレーパネル用材料は、Ａｇ電極との反応による
黄変が生じにくいため、透過率の高い透明誘電体層を形
成することができる。
ディスプレーパネル用材料は、Ａｇ電極との反応による
黄変が生じにくいため、透過率の高い透明誘電体層を形
成することができる。
【００５２】それゆえ、特にプラズマディスプレーパネ
ルの透明誘電体層の形成材料として好適である。
ルの透明誘電体層の形成材料として好適である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 應冶 雅彦 滋賀県大津市晴嵐２丁目７番１号 日本電 気硝子株式会社内 (72)発明者 波多野 和夫 滋賀県大津市晴嵐２丁目７番１号 日本電 気硝子株式会社内 Ｆターム(参考） 4G062 AA08 AA09 AA15 BB01 BB04 BB09 DA03 DA04 DB01 DC04 DC05 DD02 DD03 DD04 DE03 DE04 DE05 DF01 DF02 DF03 DF04 DF05 DF06 EA01 EB01 EC01 ED01 EE01 EE02 EE03 EE04 EE05 EF01 EG04 EG05 FA01 FA10 FB01 FC01 FD01 FE01 FF01 FG01 FH01 FJ01 FK01 FL01 GA01 GA02 GA03 GA04 GA05 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM07 NN26 PP01 PP03 PP04 PP05 PP13 PP14 5C040 GD07 KA09 KA10 KA11 KB03 KB19 KB28 MA10
Claims (5)
- 【請求項１】 ガラス粉末を構成成分として含み、プラ
ズマディスプレーパネルの誘電体層の形成に用いられる
プラズマディスプレーパネル用材料であって、該ガラス
粉末が、Ｐ2Ｏ5を０．２〜２０重量％含有するガラスか
らなることを特徴とするプラズマディスプレーパネル用
材料。 - 【請求項２】 ガラス粉末９０〜１００％とセラミック
粉末０〜１０％からなることを特徴とする請求項１のプ
ラズマディスプレーパネル用材料。 - 【請求項３】 重量百分率でＢａＯ＋ＣａＯ＋Ｂｉ2Ｏ3
２〜４５％、ＺｎＯ ５〜４５％、Ｂ2Ｏ3 １０〜４
０％、ＳｉＯ2 １〜１５％、ＰｂＯ ０〜５５％、Ｐ2
Ｏ5 ０．２〜２０％の組成を有することを特徴とする
プラズマディスプレーパネル用ガラス組成物。 - 【請求項４】 重量百分率でＢａＯ＋ＣａＯ＋Ｂｉ2Ｏ3
２〜２０％、ＺｎＯ ５〜３５％、Ｂ2Ｏ3 １０〜４
０％、ＳｉＯ2 １〜１５％、ＰｂＯ ２５〜５５％、
Ｐ2Ｏ5 ０．２〜２０％の組成を有することを特徴とす
る請求項３のプラズマディスプレーパネル用ガラス組成
物。 - 【請求項５】 重量百分率でＢａＯ １５〜４５％、Ｚ
ｎＯ ２０〜４５％、Ｂ2Ｏ3 １５〜３５％、ＳｉＯ2
３〜１５％、ＰｂＯ ０〜２４．５％、Ｐ2Ｏ5 ０．
２〜２０％の組成を有することを特徴とする請求項３の
プラズマディスプレーパネル用ガラス組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14518499A JP4114121B2 (ja) | 1999-05-25 | 1999-05-25 | プラズマディスプレーパネル用材料及びガラス組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14518499A JP4114121B2 (ja) | 1999-05-25 | 1999-05-25 | プラズマディスプレーパネル用材料及びガラス組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000327367A true JP2000327367A (ja) | 2000-11-28 |
| JP4114121B2 JP4114121B2 (ja) | 2008-07-09 |
Family
ID=15379378
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14518499A Expired - Fee Related JP4114121B2 (ja) | 1999-05-25 | 1999-05-25 | プラズマディスプレーパネル用材料及びガラス組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4114121B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008150269A (ja) * | 2006-12-20 | 2008-07-03 | Central Glass Co Ltd | 絶縁性保護被膜材料 |
| WO2008123648A1 (en) * | 2007-04-04 | 2008-10-16 | Lg Electronics Inc. | Dielectric composition and plasma display panel including the same |
| JP2009176727A (ja) * | 2008-01-23 | 2009-08-06 | Samsung Sdi Co Ltd | プラズマディスプレイパネル |
| JP2010275187A (ja) * | 2009-05-28 | 2010-12-09 | Schott Ag | 放射線遮蔽ガラスを屈曲および熱的にプレストレスするための方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5074781B2 (ja) | 2007-02-07 | 2012-11-14 | キヤノン株式会社 | 光走査装置 |
-
1999
- 1999-05-25 JP JP14518499A patent/JP4114121B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008150269A (ja) * | 2006-12-20 | 2008-07-03 | Central Glass Co Ltd | 絶縁性保護被膜材料 |
| WO2008123648A1 (en) * | 2007-04-04 | 2008-10-16 | Lg Electronics Inc. | Dielectric composition and plasma display panel including the same |
| JP2009176727A (ja) * | 2008-01-23 | 2009-08-06 | Samsung Sdi Co Ltd | プラズマディスプレイパネル |
| JP2010275187A (ja) * | 2009-05-28 | 2010-12-09 | Schott Ag | 放射線遮蔽ガラスを屈曲および熱的にプレストレスするための方法 |
| US8783065B2 (en) | 2009-05-28 | 2014-07-22 | Schott Ag | Method for bending and thermally prestressing radiation shielding glass |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4114121B2 (ja) | 2008-07-09 |
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