JP2000313635A - プラズマディスプレーパネル用材料 - Google Patents
プラズマディスプレーパネル用材料Info
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- JP2000313635A JP2000313635A JP11745599A JP11745599A JP2000313635A JP 2000313635 A JP2000313635 A JP 2000313635A JP 11745599 A JP11745599 A JP 11745599A JP 11745599 A JP11745599 A JP 11745599A JP 2000313635 A JP2000313635 A JP 2000313635A
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- display panel
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- electrode
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/062—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight
- C03C3/064—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing boron
- C03C3/066—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing boron containing zinc
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/12—Silica-free oxide glass compositions
- C03C3/14—Silica-free oxide glass compositions containing boron
Abstract
(57)【要約】
【課題】 低融点で、しかもAgによる着色が生じにく
い非鉛ガラスを用いたプラズマディスプレーパネル用材
料を提供する。 【解決手段】 本発明のプラズマディスプレーパネル用
材料は、K2Oを含むアルカリ含有非鉛ガラス粉末から
なる。例えば、重量百分率で、B2O3 26〜60%、
ZnO 15〜50%、SiO2 0〜30%、Al2O
3 0〜10%、K2O 3〜20%、Na2O+Li2O
0〜10%、CaO+BaO 0〜15%の組成を有
するガラスを使用する。
い非鉛ガラスを用いたプラズマディスプレーパネル用材
料を提供する。 【解決手段】 本発明のプラズマディスプレーパネル用
材料は、K2Oを含むアルカリ含有非鉛ガラス粉末から
なる。例えば、重量百分率で、B2O3 26〜60%、
ZnO 15〜50%、SiO2 0〜30%、Al2O
3 0〜10%、K2O 3〜20%、Na2O+Li2O
0〜10%、CaO+BaO 0〜15%の組成を有
するガラスを使用する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レーパネル用材料に関するものである。
レーパネル用材料に関するものである。
【0002】
【従来の技術】プラズマディスプレーパネルの前面ガラ
ス板には、プラズマ放電用の走査電極が形成され、その
上に放電維持のために約30〜40μmの透明な誘電体
層が形成される。走査電極にはAgが広く用いられ、ま
た透明誘電体層は高鉛ガラス粉末を主成分とする誘電体
材料を用いて形成される。誘電体層の形成に当たって
は、電極との反応を抑え、またガラス板の変形を防止す
るために500〜600℃程度の温度域で焼成される。
ス板には、プラズマ放電用の走査電極が形成され、その
上に放電維持のために約30〜40μmの透明な誘電体
層が形成される。走査電極にはAgが広く用いられ、ま
た透明誘電体層は高鉛ガラス粉末を主成分とする誘電体
材料を用いて形成される。誘電体層の形成に当たって
は、電極との反応を抑え、またガラス板の変形を防止す
るために500〜600℃程度の温度域で焼成される。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】近年、環境に対する影
響から、鉛の使用削減あるいは全廃が叫ばれている。こ
のような事情から、誘電体材料についても非鉛ガラスで
作成することが要求されている。
響から、鉛の使用削減あるいは全廃が叫ばれている。こ
のような事情から、誘電体材料についても非鉛ガラスで
作成することが要求されている。
【0004】一般に、非鉛ガラスは高融点であり、誘電
体材料として使用しにくいものである。そこで非鉛ガラ
スを低融点化させるためにガラス中にNa2Oを導入す
ることが考えられるが、この場合には電極とのイオン交
換反応によってAgがガラス中に拡散してコロイドとな
り、ガラスを変色させて透過率を低下させるという問題
が発生する。
体材料として使用しにくいものである。そこで非鉛ガラ
スを低融点化させるためにガラス中にNa2Oを導入す
ることが考えられるが、この場合には電極とのイオン交
換反応によってAgがガラス中に拡散してコロイドとな
り、ガラスを変色させて透過率を低下させるという問題
が発生する。
【0005】本発明の目的は、低融点で、しかもAgに
よる着色が生じにくい非鉛ガラスを用いたプラズマディ
スプレーパネル用材料を提供することである。
よる着色が生じにくい非鉛ガラスを用いたプラズマディ
スプレーパネル用材料を提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者等は種々検討し
た結果、アルカリ成分としてK2Oを選択することによ
り、上記目的が達成できることを見いだし、本発明とし
て提案するものである。
た結果、アルカリ成分としてK2Oを選択することによ
り、上記目的が達成できることを見いだし、本発明とし
て提案するものである。
【0007】即ち、本発明のプラズマディスプレーパネ
ル用材料は、Ag電極と接する透明誘電体層の形成に用
いられるプラズマディスプレーパネル用材料であって、
少なくともK2Oを含むアルカリ含有非鉛ガラス粉末か
らなることを特徴とする。
ル用材料は、Ag電極と接する透明誘電体層の形成に用
いられるプラズマディスプレーパネル用材料であって、
少なくともK2Oを含むアルカリ含有非鉛ガラス粉末か
らなることを特徴とする。
【0008】また本発明のプラズマディスプレーパネル
用ガラス組成物は、重量百分率で、B2O3 26〜60
%、ZnO 15〜50%、SiO2 0〜30%、A
l2O 3 0〜10%、K2O 3〜20%、Na2O+L
i2O 0〜10%、CaO+BaO 0〜15%の組
成を有することを特徴とする。
用ガラス組成物は、重量百分率で、B2O3 26〜60
%、ZnO 15〜50%、SiO2 0〜30%、A
l2O 3 0〜10%、K2O 3〜20%、Na2O+L
i2O 0〜10%、CaO+BaO 0〜15%の組
成を有することを特徴とする。
【0009】
【発明の実施の形態】本発明のプラズマディスプレーパ
ネル用材料は、K2Oを必須成分として含む非鉛ガラス
粉末を主成分とする。K2Oは、ガラスを低融点化させ
たり、熱膨張係数を調整する働きがあるが、他のアルカ
リ成分とは異なり、Agによる着色を起こしにくい成分
である。これは他のアルカリ元素に比べてイオン半径が
大きく、電極材料であるAgとのイオン交換が起こりに
くいためであると考えられる。
ネル用材料は、K2Oを必須成分として含む非鉛ガラス
粉末を主成分とする。K2Oは、ガラスを低融点化させ
たり、熱膨張係数を調整する働きがあるが、他のアルカ
リ成分とは異なり、Agによる着色を起こしにくい成分
である。これは他のアルカリ元素に比べてイオン半径が
大きく、電極材料であるAgとのイオン交換が起こりに
くいためであると考えられる。
【0010】またガラス中にK2Oが存在する場合、他
のアルカリ成分を添加しても、混合アルカリ効果により
電極との反応が抑えられ、Ag着色が起こりにくくな
る。特にモル比で(Na2O+Li2O)/K2O<1の
関係を満たす場合、Ag着色抑制効果が著しくなり好ま
しい。
のアルカリ成分を添加しても、混合アルカリ効果により
電極との反応が抑えられ、Ag着色が起こりにくくな
る。特にモル比で(Na2O+Li2O)/K2O<1の
関係を満たす場合、Ag着色抑制効果が著しくなり好ま
しい。
【0011】上記非鉛ガラスとしては、K2Oを3〜2
0%重量含有するB2O3−ZnO−K2O系ガラスが好
ましく、より具体的には重量百分率でB2O3 26〜6
0%、ZnO 15〜50%、SiO2 0〜30%、
Al2O3 0〜10%、K2O3〜20%、Na2O+L
i2O 0〜10%、CaO+BaO 0〜15%の組
成を有するガラスを使用することが望ましい。なおこの
系のガラス組成物は、走査電極としてAg電極が形成さ
れた前面ガラス基板の透明誘電体層の形成用として好適
なものであるが、この用途に限られるものではなく、例
えばCr−Cu−Cr電極が形成された前面ガラス基板
の透明誘電体層形成材料や、背面ガラス基板のアドレス
保護誘電体層形成材料や、隔壁材料等に使用することも
できる。
0%重量含有するB2O3−ZnO−K2O系ガラスが好
ましく、より具体的には重量百分率でB2O3 26〜6
0%、ZnO 15〜50%、SiO2 0〜30%、
Al2O3 0〜10%、K2O3〜20%、Na2O+L
i2O 0〜10%、CaO+BaO 0〜15%の組
成を有するガラスを使用することが望ましい。なおこの
系のガラス組成物は、走査電極としてAg電極が形成さ
れた前面ガラス基板の透明誘電体層の形成用として好適
なものであるが、この用途に限られるものではなく、例
えばCr−Cu−Cr電極が形成された前面ガラス基板
の透明誘電体層形成材料や、背面ガラス基板のアドレス
保護誘電体層形成材料や、隔壁材料等に使用することも
できる。
【0012】以下、組成範囲を上記のように限定した理
由を述べる。
由を述べる。
【0013】B2O3はガラスの骨格を形成するととも
に、ガラス化範囲を広げる成分であり、その含有量は2
6〜60%、好ましくは28〜50%である。B2O3が
26%より少ないと焼成時にガラスが結晶化しやすくな
って透明性が損なわれ、60%より多いとガラスの軟化
点が高くなりすぎて600℃以下での焼成が困難にな
る。
に、ガラス化範囲を広げる成分であり、その含有量は2
6〜60%、好ましくは28〜50%である。B2O3が
26%より少ないと焼成時にガラスが結晶化しやすくな
って透明性が損なわれ、60%より多いとガラスの軟化
点が高くなりすぎて600℃以下での焼成が困難にな
る。
【0014】ZnOはガラスを構成する主成分であると
ともに、軟化点を下げる働きがあり、その含有量は15
〜50%、好ましくは20〜40%である。ZnOが1
5%より少ないと上記効果が不十分となり、50%より
多いと焼成時にガラスが結晶化して透明性が損なわれ
る。
ともに、軟化点を下げる働きがあり、その含有量は15
〜50%、好ましくは20〜40%である。ZnOが1
5%より少ないと上記効果が不十分となり、50%より
多いと焼成時にガラスが結晶化して透明性が損なわれ
る。
【0015】SiO2はガラスの骨格を形成する成分で
あり、その含有量は0〜30%、好ましくは1〜25%
である。SiO2が30%より多いとガラスの軟化点が
高くなりすぎて600℃以下の温度で焼成できなくな
る。
あり、その含有量は0〜30%、好ましくは1〜25%
である。SiO2が30%より多いとガラスの軟化点が
高くなりすぎて600℃以下の温度で焼成できなくな
る。
【0016】Al2O3はガラスの分相性を制御する成分
であり、その含有量は0〜10%、好ましくは0.5〜
8%である。Al2O3が10%より多いと軟化点が高く
なりすぎて600℃以下の温度での焼成が困難になる。
であり、その含有量は0〜10%、好ましくは0.5〜
8%である。Al2O3が10%より多いと軟化点が高く
なりすぎて600℃以下の温度での焼成が困難になる。
【0017】K2Oはガラスを低融点化させたり、熱膨
張係数を調整する働きがあり、またAg着色を抑制する
成分であり、その含有量は3〜20%、好ましくは7〜
15%である。K2Oが3%より少ないと上記した効果
がなく、20%より多いと熱膨張係数がガラス基板より
大きくなり好ましくない。
張係数を調整する働きがあり、またAg着色を抑制する
成分であり、その含有量は3〜20%、好ましくは7〜
15%である。K2Oが3%より少ないと上記した効果
がなく、20%より多いと熱膨張係数がガラス基板より
大きくなり好ましくない。
【0018】Na2OやLi2Oはガラスを低融点化させ
たり、熱膨張係数を調整するために添加する成分であ
り、その含有量は合量で0〜10%、好ましくは0〜5
%である。これらの成分の合量が10%より多いとK2
Oを使用してもAg着色を防止することが困難になる。
たり、熱膨張係数を調整するために添加する成分であ
り、その含有量は合量で0〜10%、好ましくは0〜5
%である。これらの成分の合量が10%より多いとK2
Oを使用してもAg着色を防止することが困難になる。
【0019】CaOやBaOはガラスの軟化点を低下さ
せたり、熱膨張係数を調整するために添加する成分であ
り、その含有量は合量で0〜15%、好ましくは0〜1
0%である。これらの成分の合量が15%より多いと熱
膨張係数がガラス基板より大きくなり好ましくない。
せたり、熱膨張係数を調整するために添加する成分であ
り、その含有量は合量で0〜15%、好ましくは0〜1
0%である。これらの成分の合量が15%より多いと熱
膨張係数がガラス基板より大きくなり好ましくない。
【0020】さらに上記成分の他にも、例えばガラスの
軟化点を低下させたり、熱膨張係数を調整する目的でC
s2OやRb2Oを合量で10%まで、Ag着色をより一
層抑制する目的でCuO、Bi2O3、Sb2O3、Sb2
O5、CeO2を合量で3%まで添加してもよい。なおN
a2OやLi2Oと同様に、Cs2OやRb2Oは、Ag着
色を増大させるおそれがあるため、使用する場合には十
分に配慮する必要がある。
軟化点を低下させたり、熱膨張係数を調整する目的でC
s2OやRb2Oを合量で10%まで、Ag着色をより一
層抑制する目的でCuO、Bi2O3、Sb2O3、Sb2
O5、CeO2を合量で3%まで添加してもよい。なおN
a2OやLi2Oと同様に、Cs2OやRb2Oは、Ag着
色を増大させるおそれがあるため、使用する場合には十
分に配慮する必要がある。
【0021】また本発明のプラズマディスプレーパネル
用誘電体材料は、焼成後の強度の改善や外観の調節のた
めに、上記非鉛ガラス粉末に加えて、アルミナ、ジルコ
ン、ジルコニア、酸化チタン等のセラミック粉末を添加
することができる。ガラス粉末とセラミック粉末の割合
は、ガラス粉末90〜100重量%、セラミック粉末0
〜10重量%である。なおセラミック粉末が10%より
多いと可視光が散乱して不透明になりやすく好ましくな
い。
用誘電体材料は、焼成後の強度の改善や外観の調節のた
めに、上記非鉛ガラス粉末に加えて、アルミナ、ジルコ
ン、ジルコニア、酸化チタン等のセラミック粉末を添加
することができる。ガラス粉末とセラミック粉末の割合
は、ガラス粉末90〜100重量%、セラミック粉末0
〜10重量%である。なおセラミック粉末が10%より
多いと可視光が散乱して不透明になりやすく好ましくな
い。
【0022】
【実施例】以下、実施例に基づいて本発明を説明する。
【0023】表1は本発明の実施例(試料No.1〜
6)、表2は比較例(試料No.7〜9)をそれぞれ示
している。なお試料No.7は、鉛系ガラスからなる従
来品である。
6)、表2は比較例(試料No.7〜9)をそれぞれ示
している。なお試料No.7は、鉛系ガラスからなる従
来品である。
【0024】
【表1】
【0025】
【表2】
【0026】各試料は次のようにして調製した。まず表
に示す組成となるようにガラス原料を調合し、均一に混
合した後、白金坩堝に入れて1300℃で2時間溶融し
た。その後、溶融ガラスを粉砕し、分級して最大粒径が
15μm以下のガラス粉末からなる試料を得た。得られ
たガラスについて、軟化点を測定した。またNo.1の
ガラス粉末についてはアルミナ粉末と混合して試料(試
料No.6)とした。
に示す組成となるようにガラス原料を調合し、均一に混
合した後、白金坩堝に入れて1300℃で2時間溶融し
た。その後、溶融ガラスを粉砕し、分級して最大粒径が
15μm以下のガラス粉末からなる試料を得た。得られ
たガラスについて、軟化点を測定した。またNo.1の
ガラス粉末についてはアルミナ粉末と混合して試料(試
料No.6)とした。
【0027】次に各試料について、熱膨張係数及び電極
との反応によるガラスの着色を評価した。結果を各表に
示す。
との反応によるガラスの着色を評価した。結果を各表に
示す。
【0028】表から明らかなように、実施例であるN
o.1〜6の各試料は、ガラスの軟化点が570〜59
5℃、及び熱膨張係数が77〜85×10-7/℃であっ
た。またAg電極との反応によるガラスの着色は、従来
品であるNo.7の試料と同様に認められなかった。一
方、比較例であるNo.8及び9の試料は、ガラスの軟
化点及び熱膨張係数が実施例と同等であったものの、K
2Oを含有しないためにAg電極との反応によるガラス
の着色が認められた。
o.1〜6の各試料は、ガラスの軟化点が570〜59
5℃、及び熱膨張係数が77〜85×10-7/℃であっ
た。またAg電極との反応によるガラスの着色は、従来
品であるNo.7の試料と同様に認められなかった。一
方、比較例であるNo.8及び9の試料は、ガラスの軟
化点及び熱膨張係数が実施例と同等であったものの、K
2Oを含有しないためにAg電極との反応によるガラス
の着色が認められた。
【0029】なおガラスの軟化点はマクロ型示差熱分析
計を用いて測定し、第四の変曲点の値を軟化点とした。
熱膨張係数は、各試料を粉末プレス成型し、焼成した
後、直径4mm、長さ40mmの円柱状に研磨加工し、
JIS R3102に基づいて測定した後、30〜30
0℃の温度範囲における値を求めた。ガラスの着色の有
無は次のようにして測定した。まず各試料をエチルセル
ロースの5%ターピネオール溶液に混合し、3本ロール
ミルにて混練してペースト化した。次いでこのペースト
を、約30μmのガラス膜が得られるように、Ag電極
が形成されたソーダライムガラス板上にスクリーン印刷
し、乾燥させた。その後、電気炉中に入れ、ガラスの軟
化点で10分間保持した。このようにして得られたガラ
ス膜について、電極周辺部のガラスを観察し、着色の有
無を評価した。
計を用いて測定し、第四の変曲点の値を軟化点とした。
熱膨張係数は、各試料を粉末プレス成型し、焼成した
後、直径4mm、長さ40mmの円柱状に研磨加工し、
JIS R3102に基づいて測定した後、30〜30
0℃の温度範囲における値を求めた。ガラスの着色の有
無は次のようにして測定した。まず各試料をエチルセル
ロースの5%ターピネオール溶液に混合し、3本ロール
ミルにて混練してペースト化した。次いでこのペースト
を、約30μmのガラス膜が得られるように、Ag電極
が形成されたソーダライムガラス板上にスクリーン印刷
し、乾燥させた。その後、電気炉中に入れ、ガラスの軟
化点で10分間保持した。このようにして得られたガラ
ス膜について、電極周辺部のガラスを観察し、着色の有
無を評価した。
【0030】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の誘電体材
料は、Agによる着色が生じにくい非鉛ガラスを使用す
るため、透過率の高いプラズマディスプレーパネルを製
造することができる。
料は、Agによる着色が生じにくい非鉛ガラスを使用す
るため、透過率の高いプラズマディスプレーパネルを製
造することができる。
【0031】それゆえ特に前面基板の透明誘電体層の形
成材料として好適である。
成材料として好適である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 波多野 和夫 滋賀県大津市晴嵐2丁目7番1号 日本電 気硝子株式会社内 Fターム(参考) 4G062 AA08 AA09 AA15 BB05 BB08 DA01 DA02 DA03 DA04 DB01 DB02 DB03 DC04 DC05 DC06 DD01 DE04 DE05 DF01 EA01 EA02 EA03 EB01 EB02 EB03 EC03 EC04 ED01 EE01 EE02 EE03 EE04 EG01 EG02 EG03 EG04 FA01 FA10 FB01 FC01 FD01 FE01 FF01 FG01 FH01 FJ01 FK01 FL01 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM07 MM12 NN26 NN30 NN32 PP01 PP03 PP04 5C040 GD07 KA08 KA10 KB03 KB13 KB19 MA10
Claims (4)
- 【請求項1】 Ag電極と接する透明誘電体層の形成に
用いられるプラズマディスプレーパネル用材料であっ
て、少なくともK2Oを含むアルカリ含有非鉛ガラス粉
末からなることを特徴とするプラズマディスプレーパネ
ル用材料。 - 【請求項2】 非鉛ガラスが、モル比で(Na2O+L
i2O)/K2O<1の関係を満たすことを特徴とする請
求項1のプラズマディスプレーパネル用材料。 - 【請求項3】 非鉛ガラスが、K2Oを3〜20重量%
含有するB2O3−ZnO−K2O系ガラスからなること
を特徴とする請求項1又は2のプラズマディスプレーパ
ネル用材料。 - 【請求項4】 重量百分率で、B2O3 26〜60%、
ZnO 15〜50%、SiO2 0〜30%、Al2O
3 0〜10%、K2O 3〜20%、Na2O+Li2O
0〜10%、CaO+BaO 0〜15%の組成を有
することを特徴とするプラズマディスプレーパネル用ガ
ラス組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11745599A JP2000313635A (ja) | 1999-04-26 | 1999-04-26 | プラズマディスプレーパネル用材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11745599A JP2000313635A (ja) | 1999-04-26 | 1999-04-26 | プラズマディスプレーパネル用材料 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006183017A Division JP2006312581A (ja) | 2006-07-03 | 2006-07-03 | 透明誘電体層の形成方法及びその方法のより形成されてなるプラズマディスプレーパネル前面ガラス板 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000313635A true JP2000313635A (ja) | 2000-11-14 |
Family
ID=14712098
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11745599A Pending JP2000313635A (ja) | 1999-04-26 | 1999-04-26 | プラズマディスプレーパネル用材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000313635A (ja) |
Cited By (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003005401A1 (fr) * | 2001-07-03 | 2003-01-16 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Ecran d'affichage plasma et procede de production de celui-ci |
JP2005314201A (ja) * | 2003-07-18 | 2005-11-10 | Asahi Glass Co Ltd | 無鉛ガラス、電極被覆用ガラス粉末およびプラズマディスプレイ装置 |
JP2005314128A (ja) * | 2004-04-27 | 2005-11-10 | Nippon Electric Glass Co Ltd | プラズマディスプレイパネルの誘電体構造 |
WO2005118500A1 (ja) * | 2004-06-02 | 2005-12-15 | Central Glass Company, Limited | 無鉛低融点ガラス |
JP2005343730A (ja) * | 2004-06-02 | 2005-12-15 | Central Glass Co Ltd | 無鉛低融点ガラス |
JP2006206353A (ja) * | 2005-01-26 | 2006-08-10 | Central Glass Co Ltd | 無鉛低融点ガラス |
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