JP2008019148A - 無鉛低融点ガラス - Google Patents
無鉛低融点ガラス Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008019148A JP2008019148A JP2006194639A JP2006194639A JP2008019148A JP 2008019148 A JP2008019148 A JP 2008019148A JP 2006194639 A JP2006194639 A JP 2006194639A JP 2006194639 A JP2006194639 A JP 2006194639A JP 2008019148 A JP2008019148 A JP 2008019148A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- melting point
- low melting
- lead
- free low
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Glass Compositions (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Abstract
【課題】銀反応による黄変が抑制され、かつ可視光透過率の高い無鉛低融点ガラスを提供する。
【解決手段】 重量%でSiO2を0〜7、B2O3を13〜36、ZnOを5〜9.9、Bi2O3を20〜63、BaOを3〜27、R2O(Li2O+Na2O+K2O)を0〜10、RO(MgO+CaO+SrO)を0〜10、Al2O3を0〜8、CuOを0〜2、La2O3を0〜3、CeO2を0〜2、CoOを0〜1、MnO2を0〜1、TiO2を0〜5含むことを特徴とするB2O3−ZnO−BaO−Bi2O3系無鉛低融点ガラス。 重量%で、B2O3/ZnOの比が、1以上であることを特徴とする無鉛低融点ガラス。30℃〜300℃における熱膨張係数が(65〜95)×10−7/℃、軟化点が500℃以上600℃以下である特徴を有す。
【選択図】 なし
【解決手段】 重量%でSiO2を0〜7、B2O3を13〜36、ZnOを5〜9.9、Bi2O3を20〜63、BaOを3〜27、R2O(Li2O+Na2O+K2O)を0〜10、RO(MgO+CaO+SrO)を0〜10、Al2O3を0〜8、CuOを0〜2、La2O3を0〜3、CeO2を0〜2、CoOを0〜1、MnO2を0〜1、TiO2を0〜5含むことを特徴とするB2O3−ZnO−BaO−Bi2O3系無鉛低融点ガラス。 重量%で、B2O3/ZnOの比が、1以上であることを特徴とする無鉛低融点ガラス。30℃〜300℃における熱膨張係数が(65〜95)×10−7/℃、軟化点が500℃以上600℃以下である特徴を有す。
【選択図】 なし
Description
本発明は、プラズマディスプレイパネル、液晶表示パネル、エレクトロルミネッセンスパネル、蛍光表示パネル、エレクトロクロミック表示パネル、発光ダイオード表示パネル、ガス放電式表示パネル等に代表される電子材料基板用の絶縁性被膜材料及び封着材料として用いられる低融点ガラスに関する。
近年の電子部品の発達に伴い、プラズマディスプレイパネル、液晶表示パネル、エレクトロルミネッセンスパネル、蛍光表示パネル、エレクトロクロミック表示パネル、発光ダイオード表示パネル、ガス放電式表示パネル等、多くの種類の表示パネルが開発されている。その中でも、プラズマディスプレイパネル(以下、PDPと略す)が薄型かつ大型の平板型カラー表示装置として注目を集めている。PDPにおいては、表示面として使用される前面基板と背面基板の間に多くのセルを有し、そのセル中でプラズマ放電させることにより画像が形成される。このセルは、隔壁で区画形成されており、画像を形成する各画素での表示状態を制御するため、各画素単位に電極が形成されている。
このプラズマディスプレイパネルの前面ガラス板には、プラズマを放電させるための電極が形成され、電極として細い線状の銀が多く使われている。その電極の周りには、透明度の高い絶縁材料が配されている。この絶縁材料は、プラズマ耐久性に優れており、かつ透明であることが好ましい。このため、絶縁材料としては誘電体ガラスが使われていることが多い。またこの誘電体ガラスには、工程上、当然基体となるガラス板より低い融点が求められるため、低融点ガラスが使用される。
しかしながら、従来の低融点誘電体ガラスでは、450〜600℃といった低温焼成では、誘電体ガラスとバス電極の銀が反応して誘電体ガラスが黄色に着色(黄変)する現象が生じ、高透過率が得られないという大きな問題があった。
この黄変に関しては、ガラス成分を調整することにより解決しようとする種々の公知技術が存在する。SiO2、Al2O3等を必須成分とし、例えば、PbOとCuOの含有量を限定し、Cuによって銀の拡散を防ごうとしたプラズマディスプレイ用材料(例えば、特許文献1参照)、またCuOの他にさらにSrOを加えることで同様の効果を得、BaO+SrO+MgOの含有量を限定したプラズマディスプレイ用材料(例えば、特許文献2参照)、BaO+CaO+Bi2O3の含有量を限定したプラズマディスプレイ用材料(例えば、特許文献3参照)が開示されている。
特開2001−52621号公報
特開2001−80934号公報
特開2001−48577号公報
従来の誘電体材料(絶縁材料)では、ガラスと銀電極が反応して誘電体層が黄色に着色(黄変)する現象が生じ、可視光透過率が低下するという問題がある。この黄変現象に対する対応は難しく、まだ市場が望むレベルまでは対応できていない。
また従来、低融点ガラス、例えば基板被覆用低融点ガラスには鉛系のガラスが採用されてきた。鉛成分はガラスを低融点とするうえで重要な成分ではあるものの、人体や環境に与える弊害が大きく、近年その採用を避ける趨勢にあり、PDPを始めとする電子材料では無鉛化が検討されている。
すなわち、特開2001−52621号公報、特開2001−80934号公報、及び特開2001−48577号公報は、黄変に対してはかなりの改良が認められるが、鉛を含んでいるという基本的な問題がある。さらに、特開2003−226549号公報は、鉛を含んでおらず、黄変に対してかなりの改良が認められるが、鉛と同様に環境の見地から採用を避けられる趨勢のあるビスマスを含んでいる。
本発明は、透明絶縁性の無鉛低融点ガラスにおいて、重量%でSiO2を0〜7、B2O3を13〜36、ZnOを5〜9.9、Bi2O3を20〜63、BaOを3〜27、R2O(Li2O+Na2O+K2O)を0〜10、RO(MgO+CaO+SrO)を0〜10、Al2O3を0〜8、CuOを0〜2、La2O3を0〜3、CeO2を0〜2、CoOを0〜1、MnO2を0〜1、TiO2を0〜5含むことを特徴とするB2O3−ZnO−BaO−Bi2O3系無鉛低融点ガラスである。
また、重量%で、B2O3/ZnOの比が、1以上であることを特徴とする請求項1に記載の無鉛低融点ガラスである。
また、30℃〜300℃における熱膨張係数が(65〜95)×10−7/℃、軟化点が500℃以上600℃以下である上記の無鉛低融点ガラスである。
さらに、上記の無鉛低融点ガラスを使っている電子材料用基板である。
さらにまた、上記の無鉛低融点ガラスを使っているPDP用パネルである。
プラズマディスプレイパネル、液晶表示パネル、エレクトロルミネッセンスパネル、蛍光表示パネル、エレクトロクロミック表示パネル、発光ダイオード表示パネル、ガス放電式表示パネル等に代表される電子材料基板用の絶縁性被膜材料及び封着材料として用いられる低融点ガラスで、ガラスと銀電極が反応して誘電体層が黄色に着色(黄変)する現象を防ぐようなものを得ることができる。
本発明は、透明絶縁性の無鉛低融点ガラスにおいて、重量%でSiO2を0〜7、B2O3を13〜36、ZnOを5〜9.9、Bi2O3を20〜63、BaOを3〜27、R2O(Li2O+Na2O+K2O)を0〜10、RO(MgO+CaO+SrO)を0〜10、Al2O3を0〜8、CuOを0〜2、La2O3を0〜3、CeO2を0〜2、CoOを0〜1、MnO2を0〜1、TiO2を0〜5含むことを特徴とするB2O3−ZnO−BaO−Bi2O3系無鉛低融点ガラスである。
SiO2はガラス形成成分であり、安定したガラスを形成することができるもので、0〜7%(重量%、以下においても同様である)で含有させる。7%を越えると、ガラスの軟化点が上昇し、成形性、作業性が困難となる。より好ましくは、2〜5%の範囲である。
B2O3はSiO2同様のガラス形成成分であり、ガラス溶融を容易とし、ガラスの熱膨張係数において過度の上昇を抑え、かつ、焼付け時にガラスに適度の流動性を与え、SiO2とともにガラスの誘電率を低下させるものである。ガラス中に13〜36%で含有させるのが好ましい。13%未満ではガラスの流動性が不充分となり、焼結性が損なわれる。他方36%を越えるとガラスの安定性を低下させる。より好ましくは16〜30%の範囲である。
ZnOはガラスの軟化点を下げ、熱膨張係数を適宜範囲に調整するが、ペースト化時に混練される樹脂成分の揮発を阻害する成分で、ガラス中に5〜9.9%の範囲で含有させるのが好ましい。5%未満ではその作用を発揮し得ず、9.9%を超えると樹脂成分の揮発を阻害する。より好ましくは6〜9%の範囲である。
Bi2O3はガラス形成成分であり、ガラス溶融を容易とし、ガラスの軟化点を下げる。ガラス中に20〜63%で含有させるのが好ましい。20%未満ではガラスの軟化点の低下が不十分で、焼結性が損なわれる。他方63%を越えるとガラスの熱膨張係数が高くなりすぎる。より好ましくは30〜55%の範囲である。
R2O(Li2O、Na2O、K2O)はガラスの軟化点を下げ、適度に流動性を与え、熱膨張係数を適宜範囲に調整するものであり、0〜10%の範囲で含有させることが好ましい。10%を越えると熱膨張係数を過度に上昇させる。より好ましくは0〜7%の範囲である。
BaOはガラスの軟化点を下げ、焼結性を向上させる。ガラス中に3〜27%で含有させるのが好ましい。3%未満ではガラスの軟化点の低下が不十分で、焼結性が損なわれる。他方27%を越えるとガラスの熱膨張係数が高くなりすぎる。より好ましくは10〜22%の範囲である。
Al2O3はガラスの安定性を向上させる成分で、0〜8%の範囲で含有させることが好ましい。8%を越えると軟化点が高くなりすぎる。より好ましくは0〜6%の範囲である。
CuOはバス電極線として使われる銀電極と誘電体層とが反応し、誘電体層中に銀が拡散して、銀コロイド発色(黄変)するのを緩和させる効果があり、2%以下の範囲で含有させることが好ましい。2%を越えるとガラスが着色し、透明性が低下する。より好ましくは0〜1%の範囲である。
La2O3はバス電極線として使われる銀電極と誘電体層とが反応し、誘電体層中に銀が拡散して、銀コロイド発色(黄変)するのを緩和させる効果があり、3%以下の範囲で含有させることが好ましい。3%を越えるとガラスが不安定になる。より好ましくは0〜1%の範囲である。
CeO2はバス電極線として使われる銀電極と誘電体層とが反応し、誘電体層中に銀が拡散して、銀コロイド発色(黄変)するのを緩和させる効果があり、2%以下の範囲で含有させることが好ましい。2%を越えるとガラスが着色し、透明性が低下する。より好ましくは0〜1%の範囲である。
CoOはバス電極線として使われる銀電極と誘電体層とが反応し、誘電体層中に銀が拡散して、銀コロイド発色(黄変)するのを緩和させる効果があり、1%以下の範囲で含有させることが好ましい。1%を越えるとガラスが着色し、透明性が低下する。より好ましくは0〜0.7%の範囲である。
MnO2はバス電極線として使われる銀電極と誘電体層とが反応し、誘電体層中に銀が拡散して、銀コロイド発色(黄変)するのを緩和させる効果があり、1%以下の範囲で含有させることが好ましい。1%を越えるとガラスが着色し、透明性が低下する。より好ましくは0〜0.8%の範囲である。
TiO2はバス電極線として使われる銀電極と誘電体層とが反応し、誘電体層中に銀が拡散して、銀コロイド発色(黄変)するのを緩和させる効果があり、5%以下の範囲で含有させることが好ましい。5%を越えると結晶が析出し、透明性が低下する。より好ましくは0〜4%の範囲である。
CuO、La2O3、CeO2、CoO、MnO2、TiO2これらは同様の効果をもつので、合計にも適正な範囲があり、好ましくは0〜4%の範囲である。より好ましくは0.2〜2%の範囲である。
RO(MgO+CaO+SrO)はガラスに適度に流動性を与え、熱膨張係数を適宜範囲に調整するもので、0〜10%の範囲で含有させる。10%を越えると熱膨張係数が過度に上昇する。より好ましくは、0〜7%の範囲である。
RO(MgO+CaO+SrO)はガラスに適度に流動性を与え、熱膨張係数を適宜範囲に調整するもので、0〜10%の範囲で含有させる。10%を越えると熱膨張係数が過度に上昇する。より好ましくは、0〜7%の範囲である。
この他にも、一般的な酸化物で表すIn2O3、SnO2、TeO2、Fe2O3、ZrO2などを加えてもよい。
実質的にPbOを含まないことにより、人体や環境に与える影響を皆無とすることができる。ここで、実質的にPbOを含まないとは、PbOがガラス原料中に不純物として混入する程度の量を意味する。例えば、低融点ガラス中における0.3wt%以下の範囲であれば、先述した弊害、すなわち人体、環境に対する影響、絶縁特性等に与える影響は殆どなく、実質的にPbOの影響を受けないことになる。
30℃〜300℃における熱膨張係数が(65〜95)×10−7/℃、軟化点が500℃以上600℃以下である上記の無鉛低融点ガラスである。熱膨張係数が(65〜95)×10−7/℃を外れると厚膜形成時に被膜の剥離、基板の反り等の問題が発生する。好ましくは、(70〜85)×10−7/℃の範囲である。また、軟化点が600℃を越えると基板の軟化変形などの問題が発生する。好ましくは、500℃以上590℃以下である。 さらにまた、上記の低融点ガラスを使っている電子材料用基板である。上述の低融点ガラスを使うことにより、黄変が抑制された電子材料用基板とすることができる。
さらにまた、上記の低融点ガラスを使っているPDP用パネルである。上述の低融点ガラスを使うことにより、黄変が抑制されたPDP用パネルとすることができる。
本発明は銀との反応による黄変現象に対応する低融点ガラスの開示であり、その対象を銀電極に限定しているわけではない。
なお、本発明の無鉛低融点ガラスは、例えばPDP用ガラスの前面板でも背面板でも使用することができる。背面板として使用するときは、封着材、被覆材として用いられ、粉末化して使用されることが多い。この粉末化されたガラスは、必要に応じてムライトやアルミナに代表される低膨張セラミックスフィラー、耐熱顔料等と0.6{ガラス/(ガラス+フィラー)重量比}以上で混合され、次に有機オイルと混練してペースト化されるのが一般的である。
ガラス基板としては透明なガラス基板、特にソーダ石灰シリカ系ガラス、または、それに類似するガラス(高歪点ガラス)、あるいは、アルカリ分の少ない(又は殆ど無い)アルミノ石灰ホウ珪酸系ガラスが多用されている。
以下、実施例に基づき、説明する。
(低融点ガラス混合ペーストの作製)
SiO2源として微粉珪砂を、B2O3源としてほう酸を、ZnO源として亜鉛華を、Li2O源として炭酸リチウムを、Na2O源として炭酸ナトリウムを、K2O源として炭酸カリウムを、CuO源として酸化第二銅を、MnO2源として二酸化マンガンを、MgO源として炭酸マグネシウムを、CaO源として炭酸カルシウムを、SrO源として炭酸ストロンチウムを、BaO源として炭酸バリウムを、Bi2O3源として酸化ビスマスを要した。これらを所望の低融点ガラス組成となるべく調合したうえで、白金ルツボに投入し、電気加熱炉内で1000〜1300℃、1〜2時間で加熱溶融して表1の実施例1〜7、表2の比較例1〜5に示す組成のガラスを得た。
SiO2源として微粉珪砂を、B2O3源としてほう酸を、ZnO源として亜鉛華を、Li2O源として炭酸リチウムを、Na2O源として炭酸ナトリウムを、K2O源として炭酸カリウムを、CuO源として酸化第二銅を、MnO2源として二酸化マンガンを、MgO源として炭酸マグネシウムを、CaO源として炭酸カルシウムを、SrO源として炭酸ストロンチウムを、BaO源として炭酸バリウムを、Bi2O3源として酸化ビスマスを要した。これらを所望の低融点ガラス組成となるべく調合したうえで、白金ルツボに投入し、電気加熱炉内で1000〜1300℃、1〜2時間で加熱溶融して表1の実施例1〜7、表2の比較例1〜5に示す組成のガラスを得た。
次いで、αテルピネオールとブチルカルビトールアセテートからなるペーストオイルにバインダーとしてのエチルセルロースと上記ガラス粉を混合し、粘度、300±50ポイズ程度のペーストを調製した。
(絶縁性被膜の形成)
厚み2〜3mm、サイズ100mm角のソーダ石灰系ガラス基板に、焼付け後の膜厚が約20μmとなるべく勘案して、アプリケーターを用いて前記ペーストを塗布し、塗布層を形成した。 次いで、乾燥後、600℃以下で10〜60分間焼成することにより、クリアな誘電体層を形成させた。
厚み2〜3mm、サイズ100mm角のソーダ石灰系ガラス基板に、焼付け後の膜厚が約20μmとなるべく勘案して、アプリケーターを用いて前記ペーストを塗布し、塗布層を形成した。 次いで、乾燥後、600℃以下で10〜60分間焼成することにより、クリアな誘電体層を形成させた。
得られた試料について、肉眼および顕微鏡により観察し、従来よりも黄変現象が格段に抑制されたと判断できたものについては○を、それ以外については×とした。
なお、軟化点は、リトルトン粘度計を用い、粘度係数η=107.6 に達したときの温度とした。また、熱膨張係数は、熱膨張計を用い、5℃/分で昇温したときの30〜300℃での伸び量から求めた。
(結果)
低融点ガラス組成および、各種試験結果を表に示す。
低融点ガラス組成および、各種試験結果を表に示す。
表1における実施例1〜7に示すように、本発明の組成範囲内においては、黄変の発現が従来と比べて格段に抑制されていた。
他方、本発明の組成範囲を外れる表2における比較例1〜5は、従来と同様、黄変の発現が顕著である、或いは、好ましい物性値を示さず、PDP等の基板被覆用低融点ガラスとして適用し得ない。
Claims (5)
- 透明絶縁性の無鉛低融点ガラスにおいて、重量%でSiO2を0〜7、B2O3を13〜36、ZnOを5〜9.9、Bi2O3を20〜63、BaOを3〜27、R2O(Li2O+Na2O+K2O)を0〜10、RO(MgO+CaO+SrO)を0〜10、Al2O3を0〜8、CuOを0〜2、La2O3を0〜3、CeO2を0〜2、CoOを0〜1、MnO2を0〜1、TiO2を0〜5含むことを特徴とするB2O3−ZnO−BaO−Bi2O3系無鉛低融点ガラス。
- 重量%で、B2O3/ZnOの比が、1以上であることを特徴とする請求項1に記載の無鉛低融点ガラス。
- 30℃〜300℃における熱膨張係数が(65〜95)×10−7/℃、軟化点が500℃以上600℃以下であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の無鉛低融点ガラス。
- 請求項1乃至3のいずれかの無鉛低融点ガラスを絶縁性被膜材料及び封着材料として使っていることを特徴とする電子材料用基板。
- 請求項1乃至3のいずれかの無鉛低融点ガラスを絶縁性被膜材料及び封着材料として使っていることを特徴とするPDP用パネル。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006194639A JP2008019148A (ja) | 2006-07-14 | 2006-07-14 | 無鉛低融点ガラス |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006194639A JP2008019148A (ja) | 2006-07-14 | 2006-07-14 | 無鉛低融点ガラス |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008019148A true JP2008019148A (ja) | 2008-01-31 |
Family
ID=39075406
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006194639A Pending JP2008019148A (ja) | 2006-07-14 | 2006-07-14 | 無鉛低融点ガラス |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008019148A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010173868A (ja) * | 2009-01-27 | 2010-08-12 | Nissan Motor Co Ltd | 被覆用ガラスゾル |
KR20140113582A (ko) * | 2013-03-15 | 2014-09-24 | 쇼트 코포레이션 | 적외선 광학 용도를 위한 저연화점 광학 유리의 사용을 통한 광학 접합, 및 형성된 제품 |
KR20150090395A (ko) * | 2014-01-29 | 2015-08-06 | 엘지이노텍 주식회사 | 세라믹 광변환 부재용 유리 조성물 및 이를 이용한 세라믹 광변환 부재 |
RU2621235C2 (ru) * | 2011-02-22 | 2017-06-01 | Гардиан Индастриз Корп. | Улучшенные стеклоприпойные материалы и/или способ изготовления вакуумных стеклопакетов, содержащих эти материалы |
EP2746234B1 (en) * | 2011-10-13 | 2019-10-23 | Central Glass Company, Limited | Bismuth-containing glass composition |
-
2006
- 2006-07-14 JP JP2006194639A patent/JP2008019148A/ja active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010173868A (ja) * | 2009-01-27 | 2010-08-12 | Nissan Motor Co Ltd | 被覆用ガラスゾル |
RU2621235C2 (ru) * | 2011-02-22 | 2017-06-01 | Гардиан Индастриз Корп. | Улучшенные стеклоприпойные материалы и/или способ изготовления вакуумных стеклопакетов, содержащих эти материалы |
EP2746234B1 (en) * | 2011-10-13 | 2019-10-23 | Central Glass Company, Limited | Bismuth-containing glass composition |
KR20140113582A (ko) * | 2013-03-15 | 2014-09-24 | 쇼트 코포레이션 | 적외선 광학 용도를 위한 저연화점 광학 유리의 사용을 통한 광학 접합, 및 형성된 제품 |
JP2014181176A (ja) * | 2013-03-15 | 2014-09-29 | Schott Corp | 赤外光学用の低軟化点光学ガラスを用いたオプティカルボンディング及び形成された製造物 |
KR102215491B1 (ko) * | 2013-03-15 | 2021-02-10 | 쇼트 코포레이션 | 적외선 광학 용도를 위한 저연화점 광학 유리의 사용을 통한 광학 접합, 및 형성된 제품 |
KR20150090395A (ko) * | 2014-01-29 | 2015-08-06 | 엘지이노텍 주식회사 | 세라믹 광변환 부재용 유리 조성물 및 이를 이용한 세라믹 광변환 부재 |
KR102187045B1 (ko) | 2014-01-29 | 2020-12-04 | 엘지이노텍 주식회사 | 세라믹 광변환 부재용 유리 조성물 및 이를 이용한 세라믹 광변환 부재 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2006298733A (ja) | 無鉛低融点ガラス | |
JP5309629B2 (ja) | 耐酸性を有する無鉛ガラス組成物 | |
JP2008069033A (ja) | 無鉛低融点ガラス | |
JP5957847B2 (ja) | ビスマス系ガラス組成物 | |
JP2008019148A (ja) | 無鉛低融点ガラス | |
JP2007070196A (ja) | 無鉛低融点ガラス | |
JP2006169047A (ja) | 無鉛低融点ガラス | |
WO2012073662A1 (ja) | 無鉛低融点ガラス組成物 | |
JP4774746B2 (ja) | 無鉛低融点ガラス | |
JP4765269B2 (ja) | 無鉛低融点ガラス | |
JP2005231923A (ja) | 無鉛低融点ガラス | |
JP2006151763A (ja) | 無鉛低融点ガラス | |
JP2008019147A (ja) | 無鉛低融点ガラス | |
JP2008201596A (ja) | 無鉛低融点ガラス | |
JP4892860B2 (ja) | 無鉛低融点ガラス | |
JP2007008764A (ja) | 無鉛低融点ガラス | |
JP2006111512A (ja) | 無鉛低融点ガラス | |
JP2008201597A (ja) | 無鉛低融点ガラス | |
JP2006117440A (ja) | 無鉛低融点ガラス | |
JP2008201595A (ja) | 無鉛低融点ガラス | |
JP2007001782A (ja) | 低融点ガラス | |
JP2007070198A (ja) | 低融点ガラス | |
JP2009084137A (ja) | 無鉛低融点ガラス | |
JP2008069032A (ja) | 無鉛低融点ガラス | |
WO2005118500A1 (ja) | 無鉛低融点ガラス |