JP2000327131A - 扁平な基板用の真空チャンバ - Google Patents

扁平な基板用の真空チャンバ

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JP2000327131A
JP2000327131A JP2000109811A JP2000109811A JP2000327131A JP 2000327131 A JP2000327131 A JP 2000327131A JP 2000109811 A JP2000109811 A JP 2000109811A JP 2000109811 A JP2000109811 A JP 2000109811A JP 2000327131 A JP2000327131 A JP 2000327131A
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JP
Japan
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vacuum chamber
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support
supported
central
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JP2000109811A
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English (en)
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Thomas Gebele
ゲーベレ トーマス
Gert Roedling
レートリング ゲルト
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Leybold Systems GmbH
Original Assignee
Leybold Systems GmbH
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/001General methods for coating; Devices therefor
    • C03C17/002General methods for coating; Devices therefor for flat glass, e.g. float glass

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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 所定の基板サイズの場合にできるだけ僅かな
チャンバ容積を有するように、真空チャンバを改良する
ことにある。 【解決手段】 扁平な基板用の真空チャンバが、基板を
搬送するために搬送ローラを有している。搬送ローラ
は、側方で支承体3に保持されかつ付加的に支承体3の
間で少なくとも1つの中央の支承体5によって支持され
ている。中央の支承体はそれぞれ支柱8に配置されてい
て、該支柱が、真空チャンバ2の底部1の開口10を密
に貫通案内されていてかつ底部1の下側で支持部9に支
持されている。また、支柱8は折畳みベロー11を介し
て真空チャンバ2の底部1に結合されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、扁平な基板用の真
空チャンバであって、該真空チャンバ内に、基板を搬送
するために搬送ローラが設けられていて、該搬送ローラ
が、両端をそれぞれ1つの支承体によって保持されてい
てかつ真空チャンバの底部の上側に配置されている形式
のものに関する。
【0002】
【従来の技術】前記形式の真空チャンバは、特に平板ガ
ラス・コーティング装置用のスルースゲート式チャンバ
(Schleusenkammer)として使用されかつ一般に周知で
ある。このような装置においてできるだけ高いプロセス
速度を達成するために、真空チャンバをできるだけ迅速
に排気する必要がある。このことは、真空チャンバので
きるだけ僅かな容積によって及び真空チャンバを排気す
るポンプレベルのできるだけ高い出力によって達成され
る。
【0003】チャンバ容積を減少するための手段として
現在、引込み式チャンバカバー、搬送ローラの間の押し
退け体及び真空密な搬送ローラが公知である。これによ
って、チャンバ容積は著しく減少される。チャンバ容積
の別の著しい減少は、小さな直径の搬送ローラが使用さ
れる場合に可能である。しかしながらこれには、搬送ロ
ーラが端部でのみ支承されかつ数メータの長さを有する
ということが相対する。扁平な基板(サブストレート)
を確実にしかも方向を安定して搬送するために搬送ロー
ラの撓みは著しく制限されるので、自由長さが大きけれ
ば必然的に比較的大きな搬送ローラ直径が必要であり、
現在の装置では搬送ローラ直径はしばしば10cmを上
回る。真空チャンバの中央で搬送ローラを付加的に支承
することは、現在公知の手段では不可能である。それと
いうもの、チャンバ底部はダイヤフラムのように作用し
しかも排気及び換気時に1mm以上運動するからであ
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、所定
の基板サイズの場合にできるだけ僅かなチャンバ容積を
有するように、冒頭に述べた形式の真空チャンバを改良
することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】前記課題は本発明によれ
ば、搬送ローラが、外側の支承体の間で付加的に少なく
とも1つの中央の支承体によって支持されており、該中
央の支承体が、それぞれ支柱に配置されていて、該支柱
が、真空チャンバの底部の開口を密に貫通案内されてい
てかつ底部の下側で支持部に支持されていることによっ
て、解決された。
【0006】
【発明の効果】本発明によるように搬送ローラを外側の
支承体の間で付加的に支持することによって、搬送ロー
ラの直径は、不所望の著しい撓みを生ぜしめることなし
に、約半分に縮小される。中央の支承体を支持作用を有
する支柱によって真空チャンバの底部にではなく、真空
チャンバの外部、例えば土台に支持することによって、
チャンバ底部の運動により中央の支承体がずれ動くこと
が阻止されるので、底部は従来のように構成できしかも
底部を費用をかけて補強することも回避される。
【0007】真空チャンバの底部に対する中央の支承体
の支柱のシールは、通常のシールによって行われる。シ
ールを全く摩耗なくしかも安価に実現するために、本発
明の有利な構成では、支柱は折畳みベローを介して真空
チャンバの底部に結合されている。
【0008】特に高い気密性は、折畳みベローがばね鋼
から形成される場合に、得られる。
【0009】更に、中央の支承体がそれぞれの搬送ロー
ラの下面側に当て付けられる2つの支持ローラを有する
場合には、中央の支承体は構造的に特に簡単に構成され
る。
【0010】製作上の理由から、真空チャンバの幅全体
にわたって延びる搬送ローラの代わりに互いに整合する
それぞれ2つの搬送ローラが配置されると、有利であ
る。このことは本発明によれば、搬送ローラが外側の支
承体の間で中央の支承体の領域で分割される場合に、実
現される。このために中央の支承体は支柱に並べて2つ
の支承リングを有していて、該支承リング内には搬送ロ
ーラのそれぞれ1つのジャーナルが突入する。
【0011】
【発明の実施の形態】本発明は種々の実施例を許容す
る。以下に、真空チャンバの部分領域の断面図で基本原
理を詳述する。
【0012】図面では、真空チャンバ2の底部1が図示
されている。真空チャンバ2内には、搬送ローラ4を一
端で支承する外側の支承体3が設けられている。前記端
部とは反対側の搬送ローラ4の端部(詳細に図示せず)
では、搬送ローラは同じ支承体によって支承されてい
る。搬送ローラ4の下側には、支持支承体として構成さ
れた中央の支承体5が配置されていて、該支承体5は、
外側の支承体3の間で2つの支持ローラ6,7によって
搬送ローラ4を支持している。
【0013】本発明にとっては、土台を成す支持部9に
支持されている支柱(Stempel)8が重要である。支柱
8は、真空チャンバ2の底部1の開口10を介して案内
されていてかつ上端に中央の支承体5を支持している。
開口10を介して空気が真空チャンバ2の内部に達する
のを阻止するために、底部1と支持部9との間に、支柱
8を取り囲む鋼製の折畳みベロー11が配置されてい
る。
【0014】図示していないが、中央領域で支柱8に、
分割された搬送ローラのそれぞれ一端を支承する2つの
支承体を配置することもできる。
【図面の簡単な説明】
【図1】真空チャンバの部分領域の断面図。
【符号の説明】
1 底部、 2 真空チャンバ、 3 外側の支承体、
4 搬送ローラ、5 中央の支承体、 6,7 支持
ローラ、 8 支柱、 9 支持部、 10開口、 1
1 折畳みベロー

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 扁平な基板用の真空チャンバであって、
    該真空チャンバ内に、基板を搬送するために搬送ローラ
    が設けられていて、該搬送ローラが、両端をそれぞれ1
    つの支承体によって保持されていてかつ真空チャンバの
    底部の上側に配置されている形式のものにおいて、搬送
    ローラ(4)が、外側の支承体(3)の間で付加的に少
    なくとも1つの中央の支承体(5)によって支持されて
    おり、該中央の支承体が、それぞれ支柱(8)に配置さ
    れていて、該支柱が、真空チャンバ(2)の底部(1)
    の開口(10)を密に貫通案内されていてかつ底部
    (1)の下側で支持部(9)に支持されていることを特
    徴とする、扁平な基板用の真空チャンバ。
  2. 【請求項2】 支柱(8)が、折畳みベロー(11)を
    介して真空チャンバ(2)の底部(1)に結合されてい
    る、請求項1記載の真空チャンバ。
  3. 【請求項3】 折畳みベロー(11)が、ばね鋼から形
    成されている、請求項2記載の真空チャンバ。
  4. 【請求項4】 中央の支承体(5)が、支持支承体とし
    て構成されていてかつそれぞれの搬送ローラ(4)の下
    面側に当て付けられる2つの支持ローラ(6,7)を有
    している、請求項1から3までのいずれか1項記載の真
    空チャンバ。
  5. 【請求項5】 搬送ローラ(4)が、外側の支承体
    (3)の間で中央の支承体(5)の領域で分割されてい
    る、請求項1から4までのいずれか1項記載の真空チャ
    ンバ。
JP2000109811A 1999-04-14 2000-04-11 扁平な基板用の真空チャンバ Pending JP2000327131A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

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DE19916666A DE19916666C2 (de) 1999-04-14 1999-04-14 Vakuumkammer für flache Substrate
DE19916666.8 1999-04-14

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CN1275634A (zh) 2000-12-06
DE19916666C2 (de) 2001-06-21
DE19916666A1 (de) 2000-10-19
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