JP2000275407A - 光拡散型エポキシ系樹脂シート及びその連続製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光拡散性を示す部分を接着剤層の介在なく表
裏面の一方側に有し、その表面が平滑性に優れて配向膜
や透明電極等を安定して形成できると共に、液晶層の近
い部分に光拡散層を有する液晶セルを形成しうるエポキ
シ系樹脂の硬化シートの開発。 【解決手段】 エポキシ系樹脂の硬化層（１，１１，１
２）中に屈折率が相違する微小領域（１３）を含有して
光拡散性を示すシートからなり、かつ前記の微小領域が
シートの厚さ方向に濃度分布を有してシート表裏の一方
側に偏在し（１２）、その偏在側の表面が平滑である光
拡散型エポキシ系樹脂シート。 【効果】 微小領域含有側が光拡散性を示し、その含有
側の表面平滑性に優れ、液晶層の近い部分に光拡散層を
有する液晶セルを形成でき、視差や影による像の滲みを
防止しうる耐熱性の液晶セル基板として実用しうるエポ
キシ系樹脂の硬化シートが得られ、かかるシートが簡単
な操作を介し製造効率よく得られる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の技術分野】本発明は、液晶セル基板などに好適
な光拡散型のエポキシ系樹脂シート及びその連続製造法
に関する。

【０００２】

【発明の背景】液晶表示装置の大型化等に伴う薄型軽量
化の必要などから、これまでのガラス基板に代替しうる
樹脂基板が求められており、耐熱性や光学特性に優れる
硬化エポキシ系樹脂にその期待が寄せられている。また
その場合、反射型の液晶表示装置では、視差や影による
像の滲み防止等の点より液晶層に可及的に近い部分に光
拡散層のあることも望まれている。

【０００３】従来、液晶セル基板等に用いうる光拡散層
具備のエポキシ系樹脂の硬化シートとしては、前記硬化
シートと光拡散シートを接着剤を介して積層したものが
知られていた。しかしながら接着剤を介し接着する工程
等を要して製造効率に乏しいと共に、接着剤層の介在で
厚さが大きくなり、フレキシビリティが低下する問題点
があった。光拡散層に関しては、セル基板のカラーフィ
ルター上に設ける提案もあるが、製造に高度の技術を要
して量産には不向きである。また硬化シート上に微粒子
含有の樹脂液を塗工して光拡散層を形成する方式では、
その含有微粒子に基づいて表面が凹凸化し、配向膜や透
明電極等の形成に支障する。

【０００４】一方、エポキシ系樹脂の硬化シートの製造
方法としては、樹脂液を金型内に注入して硬化処理する
注形法が知られていたが、硬化シートの形成までに多工
程を要してシートの製造効率に乏しい問題点があった。

【０００５】

【発明の技術的課題】本発明は、光拡散性を示す部分を
接着剤層の介在なく表裏面の一方側に有し、その表面が
平滑性に優れて配向膜や透明電極等を安定して形成でき
ると共に、液晶層の近い部分に光拡散層を有する液晶セ
ルを形成しうるエポキシ系樹脂の硬化シートの開発を課
題とする。

【０００６】

【課題の解決手段】本発明は、エポキシ系樹脂の硬化層
中に屈折率が相違する微小領域を含有して光拡散性を示
すシートからなり、かつ前記の微小領域がシートの厚さ
方向に濃度分布を有してシート表裏の一方側に偏在し、
その偏在側の表面が平滑であることを特徴とする光拡散
型エポキシ系樹脂シートを提供するものである。

【０００７】

【発明の効果】本発明によれば、屈折率相違の微小領域
の含有側を介して光拡散性を示すと共に、その含有側を
接着剤層の介在なく表裏面の一方側に一体的に有してそ
の表面の平滑性にも優れ、配向膜や透明電極等を安定に
形成して液晶層の近い部分に光拡散層を有する液晶セル
を形成でき、視差や影による像の滲みを防止しうる耐熱
性の液晶セル基板として実用しうるエポキシ系樹脂の硬
化シートを得ることができる。また本発明の連続製造法
によれば、エポキシ系樹脂の塗工液を展開硬化処理する
簡単な操作を介して前記特長を有するエポキシ系樹脂の
硬化シートを製造効率よく得ることができる。

【０００８】

【発明の実施形態】本発明による光拡散型エポキシ系樹
脂シートは、エポキシ系樹脂の硬化層中に屈折率が相違
する微小領域を含有して光拡散性を示すシートからな
り、かつ前記の微小領域がシートの厚さ方向に濃度分布
を有してシート表裏の一方側に偏在し、その偏在側の表
面が平滑なものからなる。

【０００９】前記した光拡散型エポキシ系樹脂シートの
例を図１、図２に示した。１がエポキシ系樹脂の硬化層
で、１１が微小領域不含有層（側）、１２が微小領域含
有層（側）である。また２は剥離用の樹脂層である。図
例の如く微小領域不含有層１１と微小領域含有層１２
は、接着剤層の介在なく密着重畳する。また微小領域含
有層（側）１２は、微小領域不含有層（側）１１の表裏
一方側のいずれに存在していてもよい。

【００１０】光拡散型エポキシ系樹脂シートの製造は、
光拡散性を付与するための微小領域を含有するエポキシ
系樹脂の塗工液を用いて、例えばロールコート法やワイ
ヤバーコート法、エクストルージョンコート法やカーテ
ンコート法、スプレコート法やドクターブレード法など
の、エポキシ系樹脂塗工液を流動展開させてシート状に
成形しうる適宜な方式を適用して行うことができる。就
中、塗布効率や製造効率などの点より流延法、特にダイ
を介してエポキシ系樹脂塗工液を流動展開させるエクス
トルージョンコート法が好ましく適用することができ
る。

【００１１】図３、図４に前記のエクストルージョンコ
ート法による連続製造方式の工程例を示した。図３に例
示の方法では先ず、エンドレスベルト３からなる支持体
を駆動ドラム４と従動ドラム５を介し矢印方向に例えば
０．１〜５０ｍ／分、就中０．２〜５ｍ／分等の一定速
度で回転走行させつつ、その上にダイ２１を介し剥離用
の樹脂液を連続的にシート状に塗布し、その展開層２２
を乾燥、あるいは必要に応じ加熱又は光照射などにより
硬化処理して皮膜からなる樹脂層２とする。なお図例で
は、紫外線照射装置２３が配置されている。

【００１２】次に、前記により支持体上に樹脂層２を順
次形成しつつその樹脂層の上にダイ１５を介し、屈折率
と比重が相違する微小領域１３を含有するエポキシ系樹
脂の塗工液を順次塗布してシート状に展開し、その展開
層１６中の微小領域を比重差に基づいて沈降又は浮上さ
せ、展開層の厚さ方向に微小領域の濃度分布をもたせて
展開層の表裏の一方側に微小領域を偏在させた後、その
展開層を硬化装置１７を介し硬化処理して図１に例示の
層形態の光拡散型エポキシ系樹脂シートを連続的に得
る。なお図例では、エポキシ系樹脂よりも比重の大きい
微小領域１３を含有させてその微小領域が比重差に基づ
き展開層１６中で沈降するようになっており、硬化装置
１７の前部に設けた予備加熱ゾーンにおける予備加熱に
よる塗工液の粘度低下で微小領域の比重差に基づく沈降
を促進して、微小領域の偏在が速やかに起こるようにな
っている。

【００１３】一方、図４に例示の方法では、前記に準じ
て支持体３の上に剥離用の樹脂層２を順次形成しつつそ
の樹脂層の上にダイ６１を介し、微小領域を含有しない
エポキシ系樹脂の塗工液を順次塗布してシート状に展開
し、その展開層６２を硬化装置６３を介して半硬化処理
した後、その上にダイ６５を介し屈折率が相違する微小
領域１４を含有するエポキシ系樹脂の塗工液を順次塗布
してシート状に重畳展開し、その展開層６６を硬化装置
６７を介し先の半硬化処理層６４と共に硬化処理して図
２に例示の層形態の光拡散型エポキシ系樹脂シートを連
続的に得る。

【００１４】前記の方法によれば、光拡散型エポキシ系
樹脂シートを簡単な一連の操作を介し連続製造できて量
産性に優れており、支持体３の上に最初に形成する剥離
用の樹脂層２が、得られた光拡散型エポキシ系樹脂シー
トを支持体より容易に効率よく剥離回収することを可能
にする。また支持体を介した展開層の移動速度の調節で
量産速度を容易に制御でき、その移動速度や塗工液展開
量の調節で得られる光拡散型エポキシ系樹脂シートの厚
さも容易に制御することができる。

【００１５】前記において支持体としては、エンドレス
ベルトの如きベルト状物や板状物、ドラムなどの、エポ
キシ系樹脂塗工液を順次連続的に展開でき、その展開層
を支持してシート状に維持できる適宜なものを用いう
る。支持体を形成する材質は、エポキシ系樹脂の硬化処
理に耐えるものであればよく、従って例えばステンレス
や銅やアルミニウムの如き金属、ガラス、プラスチック
などの適宜なものであってよい。就中、耐久性などの点
よりステンレスが好ましい。

【００１６】また前記の方法によれば、支持体の表面形
態を前記の樹脂層を介し良好に転写反映させることがで
きる。従って支持体の表面は、形成目的の光拡散型エポ
キシ系樹脂シートの表面形態に応じて例えば平滑面、あ
るいは微細プリズム状や微細レンズ状等の凹凸面などの
適宜な形態とすることができる。一般には平滑面とさ
れ、表面粗さＲａが０．０２μm以下の支持体を用いて
表面が鏡面状の光拡散型エポキシ系樹脂シートを得るこ
とも可能である。なお図１に例示の如く樹脂層側が微小
領域の偏在側となる場合には、樹脂層の表面が平滑とな
るように形成される。

【００１７】支持体上に最初に設ける剥離用の樹脂層の
形成には、支持体と接着しないか、接着してもその接着
力が弱くて支持体より容易に剥離できる易剥離性の透明
樹脂が好ましく用いうる。その透明樹脂の種類について
は特に限定はなく、例えばウレタン系樹脂やアクリル系
樹脂、ポリエステル系樹脂やポリビニルアルコール、エ
チレンビニルアルコール共重合体の如きポリビニルアル
コール系樹脂、塩化ビニル系樹脂や塩化ビニリデン系樹
脂があげられる。

【００１８】またポリアリレート系樹脂やスルホン系樹
脂、アミド系樹脂やイミド系樹脂、ポリエーテルスルホ
ン系樹脂やポリエーテルイミド系樹脂、ポリカーボネー
ト系樹脂やシリコーン系樹脂、フッ素系樹脂やポリオレ
フィン系樹脂、スチレン系樹脂やビニルピロリドン系樹
脂、セルロース系樹脂やアクリロニトリル系樹脂なども
樹脂層の形成に用いうる。なお樹脂層の形成には、適宜
な透明樹脂の２種以上のブレンド物なども用いうる。

【００１９】樹脂層は、エポキシ系硬化シートと密着し
てそれと共に支持体より剥離回収されて光拡散型エポキ
シ系樹脂シートの片側表面層を形成することより、透明
性等の光学特性に優れるものであることが好ましい。か
かる光学特性及び前記の易剥離性、特にステンレス系支
持体に対する易剥離性などの点より樹脂層の形成に好ま
しく用いうるものは、ウレタン系樹脂である。

【００２０】前記の如く樹脂層は、光拡散型エポキシ系
樹脂シートの表面コート層として機能しうるものであ
る。かかる点より樹脂層の形成材は、例えば耐薬品性や
表面硬度、光学的異方性や低吸水性、低透湿性や低酸素
透過性等のガスバリア性などの機能付与を目的に選択す
ることもできる。従って樹脂層は、例えば易剥離性の付
与を目的としたウレタン系樹脂層の上にガスバリア性の
付与を目的としたポリビニルアルコール系樹脂層を設け
た重畳層の如く、易剥離性に加えて他の機能を付与する
ことなどを目的に複層構造物として形成されていてもよ
い。

【００２１】樹脂層の形成は、例えば樹脂を必要に応じ
有機溶媒や水等の適宜な溶媒にて溶液化して上記等の適
宜な方式で支持体の所定面に塗布し、必要に応じそれを
乾燥後、加熱処理や光照射等の樹脂に応じた方式にて硬
化処理する方式などの適宜な方式にて皮膜化することに
より行うことができる。樹脂溶液の粘度は、適宜に決定
しうるが、一般には塗工効率などの点より１〜１００ｃ
Ｐとされる。

【００２２】形成する樹脂層の厚さは、適宜に決定しう
るが一般には易剥離性や剥離の際にヒビ割れの生じるこ
とを防止する点などより、樹脂層を形成する各層単位に
基づいて１〜１０μm、就中８μm以下、特に２〜５μm
とすることが好ましい。なお前記したウレタン系樹脂等
の塗布層を光照射にて硬化処理する場合には、中心波長
が３６５nmや２５４nmの高圧や低圧の紫外線ランプを用
いることが処理効率などの点より好ましい。

【００２３】樹脂層の上に展開するエポキシ系樹脂塗工
液の調製には、光拡散型エポキシ系樹脂シートの使用目
的などに応じて熱硬化型や紫外線硬化型等の適宜なエポ
キシ系樹脂を用いることができ、その種類について特に
限定はない。ちなみにその例としては、ビスフェノール
Ａ型やビスフェノールＦ型、ビスフェノールＳ型やそれ
らの水添型の如きビスフェノール型、フェノールノボラ
ック型やクレゾールノボラック型の如きノボラック型、
トリグリシジルイソシアヌレート型やヒダントイン型の
如き含窒素環型、脂環式型や脂肪族型、ナフタレン型の
如き芳香族型やグリシジルエーテル型、ビフェニル型の
如き低吸水率タイプやジシクロ型、エステル型やエーテ
ルエステル型、それらの変性型などがあげられる。

【００２４】硬化変色を生じにくくて透明性等の光学特
性などの点より好ましく用いうるエポキシ系樹脂は、ビ
スフェノールＡ型や脂環式型、トリグリシジルイソシア
ヌレート型のものなどである。またセル基板等として用
いる場合における樹脂シートの剛性や強度等の物性など
の点より好ましく用いうるエポキシ系樹脂は、エポキシ
当量が１００〜１０００で、軟化点が１２０℃以下の硬
化樹脂を形成するものである。

【００２５】さらに塗工性やシート状への展開性等に優
れるエポキシ系樹脂塗工液を得る点などよりは、塗工時
の温度以下、就中、常温において液体状態を示す二液混
合型のものが好ましく用いうる。その場合、粘度調製や
強度、耐熱性の向上等を目的に固形状のエポキシ系樹脂
を併用することもできる。従ってエポキシ系樹脂は、１
種又は２種以上を用いることができる。

【００２６】一方、エポキシ系樹脂塗工液には必要に応
じて硬化剤を配合でき、熱硬化型のエポキシ系樹脂塗工
液の場合には通例、硬化剤が配合される。用いる硬化剤
については、特に限定はなく、併用のエポキシ系樹脂に
応じた適宜な硬化剤を１種又は２種以上用いることがで
きる。ちなみにその例としては、テトラヒドロフタル酸
やメチルテトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸
やメチルヘキサヒドロフタル酸の如き有機酸系化合物
類、エチレンジアミンやプロピレンジアミン、ジエチレ
ントリアミンやトリエチレンテトラミン、それらのアミ
ンアダクトやメタフェニレンジアミン、ジアミノジフェ
ニルメタンやジアミノジフェニルスルホンの如きアミン
系化合物類があげられる。

【００２７】また、ジシアンジアミドやポリアミドの如
きアミド系化合物類、ジヒドラジットの如きヒドラジド
系化合物類、メチルイミダゾールや２−エチル−４−メ
チルイミダゾール、エチルイミダゾールやイソプロピル
イミダゾール、２，４−ジメチルイミダゾールやフェニ
ルイミダゾール、ウンデシルイミダゾールやヘプタデシ
ルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾー
ルの如きイミダゾール系化合物類も前記硬化剤の例とし
てあげられる。

【００２８】さらに、メチルイミダゾリンや２−エチル
−４−メチルイミダゾリン、エチルイミダゾリンやイソ
プロピルイミダゾリン、２，４−ジメチルイミダゾリン
やフェニルイミダゾリン、ウンデシルイミダゾリンやヘ
プタデシルイミダゾリン、２−フェニル−４−メチルイ
ミダゾリンの如きイミダゾリン系化合物類、その他、フ
ェノール系化合物類やユリア系化合物類、ポリスルフィ
ド系化合物類も前記硬化剤の例としてあげられる。

【００２９】加えて、酸無水物系化合物類なども前記硬
化剤の例としてあげられ、低刺激性による作業環境性や
得られる光拡散型エポキシ系樹脂シートの耐熱性向上に
よる高温耐久性、変色防止性などの点よりは、かかる酸
無水物系硬化剤が好ましく用いうる。その例としては無
水フタル酸や無水マレイン酸、無水トリメリット酸や無
水ピロメリット酸、無水ナジック酸や無水グルタル酸、
テトラヒドロ無水フタル酸やメチルテトラヒドロ無水フ
タル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸やメチルヘキサヒド
ロ無水フタル酸、メチル無水ナジック酸やドデセニル無
水コハク酸、ジクロロ無水コハク酸やベンゾフェノン無
水テトラカルボン酸や無水クロレンディック酸などがあ
げられる。

【００３０】就中、前記の変色防止性などの点より無水
フタル酸やテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無
水フタル酸やメチルヘキサヒドロ無水フタル酸の如く無
色系ないし淡黄色系で、分子量が約１４０〜約２００の
酸無水物系硬化剤が好ましく用いうる。

【００３１】硬化剤の使用量は、その種類やエポキシ系
樹脂のエポキシ当量などに応じて適宜に決定でき、通例
のエポキシ系樹脂硬化の場合に準じうる。一般には、得
られる光拡散型エポキシ系樹脂シートの色相や耐湿性の
低下防止などの点よりエポキシ基１当量に対し、０．５
〜１．５当量、就中０．６〜１．４当量、特に０．７〜
１．２当量の割合で硬化剤を使用することが好ましい。

【００３２】エポキシ系樹脂塗工液の調製に際しては、
必要に応じて硬化促進剤やレベリング剤などの適宜な添
加剤を配合することもできる。硬化促進剤は、硬化速度
の促進による必要硬化処理時間の短縮を目的に配合さ
れ、その配合にて支持体の必要長を不配合の場合の数分
の１程度に短縮することもできる。従って量産性の向上
や連続製造設備の小型化などの点より硬化促進剤を配合
することが好ましい。

【００３３】用いる硬化促進剤については特に限定はな
く、エポキシ系樹脂や硬化剤の種類などに応じて例え
ば、第三級アミン類やイミダゾール類、第四級アンモニ
ウム塩類や有機金属塩類、リン化合物類や尿素系化合物
類の如き適宜なものを１種又は２種以上用いることがで
きる。硬化促進剤の使用量は、促進効果などに応じて適
宜に決定しうるが、一般には変色防止性などの点よりエ
ポキシ系樹脂１００重量部あたり、０．０５〜７重量
部、就中０．１〜５重量部、特に０．２〜３重量部が好
ましい。

【００３４】一方、レベリング剤は、エポキシ系樹脂塗
工液の展開層を空気との接触下に硬化処理する場合に、
硬化剤等の飛散による表面張力のバラツキなどで梨地状
の表面となることを防止して平滑な表面を形成すること
などを目的に配合するものであり、例えばシリコーン系
やアクリル系、フッ素系等の各種界面活性剤などの表面
張力を低下させうる適宜なものを１種又は２種以上用い
うる。

【００３５】また、例えばフェノール系やアミン系、有
機硫黄系やホスフィン系等の老化防止剤、グリコール類
やシリコーン類、アルコール類等の変性剤、発泡防止剤
や水酸基含有化合物、染料や変色防止剤、紫外線吸収剤
などの添加剤も配合することができる。前記の発泡防止
剤は、得られる光拡散型エポキシ系樹脂シート中に光学
特性の低下原因となる気泡が混入することの防止などを
目的に添加され、グリセリン等の多価アルコールなどが
好ましく用いうる。

【００３６】さらに紫外線照射により硬化処理するエポ
キシ系樹脂塗工液の場合には、光重合開始剤や増感剤な
どを配合することもできる。その光重合開始剤や増感剤
としては、例えばアリルジアゾニウム塩やベンゾフェノ
ン、ベンゾインなどの、エポキシ系樹脂の紫外線硬化処
理で公知の適宜なものを用いることができる。

【００３７】他方、光拡散性を付与するためにエポキシ
系樹脂塗工液に配合する微小領域の形成材には、屈折率
が相違する適宜な透明粒子等を用いることができ、特に
限定はない。従って従来の光拡散層で公知のいずれの透
明粒子も用いうる。ちなみにその例としては、シリカや
アルミナ、チタニアやジルコニア、酸化錫や酸化インジ
ウム、酸化カドミウムや酸化アンチモン等からなる導電
性のこともある無機系粒子、架橋又は未架橋のポリマー
等からなる有機系粒子などがあげられる。またエポキシ
系樹脂塗工液中に攪拌方式等の適宜な方式で混入させた
気泡なども微小領域の形成材として利用することができ
る。

【００３８】上記した図３に例示の方法の如く、エポキ
シ系樹脂塗工液のシート状展開層中にて微小領域を比重
差に基づいて沈降又は浮上させる場合には、併用のエポ
キシ系樹脂に対し前記の屈折率に加えて比重も相違する
微小領域の形成材が用いられる。

【００３９】微小領域の形成材は、１種又は２種以上を
用いることができ、その樹脂シート中における粒径は適
宜に決定しうるが、一般には光拡散性などの点より平均
粒径に基づいて５０μm以下、就中０．１〜２５μm、特
に０．５〜１０μmが好ましい。

【００４０】また微小領域形成材の使用量も光拡散性の
程度などに応じて適宜に決定しうるが、一般には透明粒
子の場合、エポキシ系樹脂１００重量部あたり２００重
量部以下、就中１〜１５０重量部、特に２〜１００重量
部が一般的である。なお気泡等も含めた場合には、樹脂
シート中で微小領域が偏在してなる微小領域の含有側な
いし含有層に基づいて８０容量％以下、就中２〜６０容
量％、特に５〜５０容量％の微小領域を含有する状態が
一般的である。

【００４１】エポキシ系樹脂塗工液は、配合成分を必要
に応じ溶媒を併用して流動展開しうる状態とすることに
より調製することができる。塗工液の粘度は、適宜に決
定しうるが、一般には厚さムラの抑制等による厚さ精度
の向上や塗工効率などの点より１００ポイズ以上、就中
１２０〜５００ポイズ、特に１５０〜３００ポイズの粘
度とすることが好ましい。なお厚さムラの抑制等の点よ
りエポキシ系樹脂塗工液の展開層を支持する支持体は、
可及的に水平状態に維持することが好ましい。

【００４２】エポキシ系樹脂塗工液の展開層の硬化処理
は、加熱硬化方式や紫外線硬化方式などのエポキシ系樹
脂に応じた適宜な方式にて行うことができ、２種以上の
硬化処理方式を併用することもできる。得られる硬化シ
ートの耐熱性の点よりは通例、加熱による硬化方式が好
ましい。

【００４３】加熱手段には、例えば熱風や赤外線ヒータ
などの適宜な手段を１種又は２種以上用いることができ
る。加熱条件としては、３０〜２５０℃、就中４５〜２
２０℃、特に６０〜１７０℃の加熱温度で、５〜６０分
間、就中１０〜４０分間、特に１５〜３０分間の加熱時
間などが一般的であるが、これに限定されない。光学特
性の向上等の点よりは通例、例えば１５〜３０分間等の
比較的短時間の加熱時間が好ましい。また厚さ精度の向
上の点よりは、展開層の幅方向における温度のバラツキ
を可及的に防止することが好ましい。

【００４４】光拡散型エポキシ系樹脂シートの厚さは、
セル基板等の使用目的などに応じて適宜に決定すること
ができる。一般には、曲げ強度等の剛直性ないし柔軟性
や表面平滑性、低位相差性や薄型軽量性などの点より１
mm以下、就中１００〜８００μm、特に２００〜５００
μmの厚さとされる。

【００４５】また上記した図３に例示の方法による展開
層中での微小領域の沈降又は浮上による偏在化方式、あ
るいは図４に例示の方法による微小領域含有液を用いた
重畳塗工方式にて形成する微小領域含有側ないし含有層
の厚さは、光拡散性の程度などに応じて適宜に決定しう
るが、一般には３００μm以下、就中１〜２００μm、特
に５〜１００μmとされる。

【００４６】なお上記した図３に例示の連続製造法にお
いて、微小領域の形成材としてエポキシ系樹脂よりも比
重の大きいものを用いることより、図１に例示の如き微
小領域含有側１２が樹脂層２の側に位置する単層形態の
光拡散型エポキシ系樹脂シートを得ることができる。一
方、微小領域の形成材としてエポキシ系樹脂よりも比重
の小さいものを用いることより、図２に例示の如き微小
領域含有側１２が樹脂層２側とは反対側に位置する単層
形態の光拡散型エポキシ系樹脂シートを得ることができ
る。

【００４７】他方、図４に例示の連続製造法において
は、微小領域を含有する塗工液と含有しない塗工液のい
ずれを先に塗工してもよい。微小領域を含有しない塗工
液を先に塗工することより、図２に例示の如き微小領域
含有層１２が樹脂層２側とは反対側に位置する形態の光
拡散型エポキシ系樹脂シートを得ることができ、微小領
域含有の塗工液を先に塗工することより、図１に例示の
如き微小領域含有層１２が樹脂層２の側に位置する形態
の光拡散型エポキシ系樹脂シートを得ることができる。

【００４８】また上記の図４に例示の連続製造法におい
て、図４の如く必要に応じ先の展開層を半硬化処理した
後に他方の展開層を重畳する方式とすることにより、微
小領域が他方の展開層内に侵入することを抑制ないし防
止でき、後続のエポキシ系樹脂の重畳層に対する硬化処
理を介してその重畳層が強固に密着した硬化層を形成で
きて、かかる重畳層が接着剤層の介在なく良好に密着重
畳した光拡散型エポキシ系樹脂シートを得ることができ
る。従って前記の先の展開層を半硬化処理する方式は、
微小領域不含有の展開層の上に沈降性の微小領域を含有
する展開層を重畳する場合などに有利に適用することが
できる。

【００４９】なお上記した図３，図４に例示の連続製造
法において、形成した光拡散型エポキシ系樹脂シートの
支持体よりの回収は、割れの防止などの点よりガラス転
移温度近傍等の高温雰囲気下にて剥離することが好まし
い。特に割れや亀裂と塑性変形や残留歪みの発生を防止
しうるバランスのとれた柔軟性を達成する点より、エポ
キシ系樹脂硬化層のガラス転移温度の２０℃低い温度以
上にて剥離することが好ましい。従って得られた樹脂シ
ートの回収は、ガラス転移温度近傍等の高温雰囲気にて
も塑性変形しない熱硬化状態となった後に行うことが前
記の割れや歪の発生防止などの点より好ましい。

【００５０】前記の支持体よりの光拡散型エポキシ系樹
脂シートの回収に際しては、必要に応じ剥離手段を用い
ることができる。ちなみに上記した樹脂層の形成後その
端部等に耐熱テープを接着し、その上に樹脂シートを形
成する方式などにより、その耐熱テープを把持持ち上げ
て光拡散型エポキシ系樹脂シートを支持体より効率よく
剥離回収することができる。また形成された光拡散型エ
ポキシ系樹脂シートの連続体は、必要に応じてレーザー
光線や超音波カッター、ダイシングやウォータージェッ
トなどの適宜な切断手段を介し適宜な寸法に切断して回
収することもできる。

【００５１】上記により、図１に例示の如く単層のエポ
キシ系樹脂硬化層１中で微小領域１３が偏在してなる光
拡散性を示す微小領域含有側１２と、前記の偏在化で微
小領域が低減ないし無くなって実質的に光拡散性を示さ
ない微小領域不含有側１１とに分離してなり、微小領域
含有側の表面の平滑性に優れる光拡散型エポキシ系樹脂
シート、あるいは図２に例示の如く微小領域含有層１２
と微小領域不含有層１１とを重畳密着させた複層のエポ
キシ系樹脂硬化層からなり、微小領域含有層側の表面の
平滑性に優れる光拡散型エポキシ系樹脂シートが得られ
る。

【００５２】本発明による光拡散型エポキシ系樹脂シー
トは、例えば液晶セル等の各種セルにおけるセル基板な
どに好ましく用いうる。特に耐熱性や光学特性、表面平
滑性等に優れて高温処理に耐え曲げ強度等に優れて位相
差が小さく軽量性に優れることなどが要求される液晶セ
ル基板の如く、光学用途のセル基板に好ましく用いるこ
とができる。

【００５３】液晶セル基板としては、液晶セルの製造過
程の高温雰囲気等に耐えるものとする点などよりガラス
転移温度が１７０℃以上、就中１８０℃以上、特に１８
５℃以上のエポキシ系樹脂硬化シートであることが好ま
しい。また複屈折による着色防止等による液晶セルの光
学特性などの点より、厚さ精度が±２０％以下、±１５
％以下、特に±１０％以下で、位相差（リタデーショ
ン）が３０nm以下、就中１５nm以下、特に５nm以下であ
ることが好ましい。なお前記のガラス転移温度は、ＴＭ
Ａ（熱機械分析法）による引張モードにて昇温速度２℃
／分の条件により測定することができる。

【００５４】本発明による光拡散型エポキシ系樹脂シー
トを用いた液晶セルの形成に際しては、従来に準じ必要
に応じて透明導電膜や配向膜、偏光板や位相差板等の種
々の機能層を重畳することもできる。また形成する液晶
セルは、例えばＴＮ型やＳＴＮ型、ＴＦＴ型や強誘電性
液晶型など任意であるが、そのセルの形成に際しては光
拡散型エポキシ系樹脂シートの光拡散性を示す微小領域
含有側をセルの内側として用いることが視差や影の発生
を防止ないし抑制する点などより好ましい。

【００５５】

【実施例】実施例１ 図３に例示した流延法にて、ウレタン系紫外線硬化型樹
脂（新中村化学社製、ＮＫオリゴＵＮ−０１）の１７重
量％トルエン溶液をダイより吐出させて０．２ｍ／分の
一定速度で回転走行するステンレス製鏡面エンドレスベ
ルト上に流延塗布し、トルエンを揮発乾燥後、紫外線照
射装置を介し硬化処理して（中心波長２５４nm、積算光
量２０００mJ／cm^２）、幅５００mm、厚さ２μmのウレ
タン系樹脂層を形成した。

【００５６】次に前記の操作を継続しつつ硬化したウレ
タン系樹脂層の上に、エポキシ系樹脂（比重約１．２）
１００部（重量部、以下同じ）あたり平均粒径３μmの
アルミナ（比重約３．９）４部を配合した熱硬化型のエ
ポキシ系樹脂塗工液をダイより１００ｇ／分の割合で連
続に吐出させてシート状に流延展開し、加熱装置を介し
予備加熱ゾーンでその展開層の粘度を下げた後、１２０
℃で２５分間加熱して硬化処理し、それを１５０℃に温
調した従動ドラム上で硬化シートに密着したウレタン系
樹脂層と共にエンドレスベルトより剥離回収した後、流
れ方向に４９０mmの間隔で切断して幅４９０mm、平均厚
さ４００μmの光拡散型エポキシ系樹脂シートを連続的
に得た。そのシートの厚さ精度は、±４０μm以下であ
った。

【００５７】なお前記した熱硬化型のエポキシ系樹脂塗
工液は、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，
４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート１００
部、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸１２５部、テトラ
−ｎ−ブチルホスホニウムｏ，ｏ−ジエチルホスホロジ
チオエート３．７５部、グリセリン２．２５部及びシリ
コーン系界面活性剤０．０７部を撹拌混合し、４９℃に
て９０分間エージングして調製した（以下同じ）。また
前記においてアルミナは、塗工液の塗工直後より沈降を
開始し、その後の予備加熱ゾーンでの粘度低下で沈降が
促進されて厚さ方向の下部側（ウレタン系樹脂層側）の
厚さ約５０μmの層内に殆どが偏在した分布となった。

【００５８】前記の光拡散型エポキシ系樹脂シートは、
表裏面のいずれもが表面平滑性に優れたものであり、薄
板性や耐久性、柔軟性等による取扱性に優れて、そのア
ルミナ偏在側を内側にして液晶セルを形成したところ、
散乱による液晶像の滲みが認められないものであった。

【００５９】実施例２ 図４に例示した流延法にて実施例１に準じウレタン系樹
脂層を形成しつつその上に、エポキシ系樹脂１００部あ
たり平均粒径３μmのアルミナ５０部を配合したエポキ
シ系樹脂塗工液をダイより１０ｇ／分の割合で連続に吐
出させてシート状に流延展開し、その展開層の上にアル
ミナ不含有のエポキシ系樹脂塗工液をダイより９５ｇ／
分の割合で連続に吐出させてシート状に流延展開させて
展開層の重畳層を形成した後、それを加熱装置を介し１
２０℃で２５分間加熱して厚さ３０μmのアルミナ含有
層の上に厚さ３５０μmのアルミナ不含有層が直接密着
重畳したエポキシ系樹脂の硬化シートを得、実施例１に
準じ剥離回収、切断処理して厚さ精度が±３５μm以下
の光拡散型エポキシ系樹脂シートを連続的に得た。

【００６０】前記の光拡散型エポキシ系樹脂シートは、
表裏面のいずれもが表面平滑性に優れたものであり、重
畳界面での相溶による密着一体性や薄板性、耐久性や柔
軟性等による取扱性に優れて、そのアルミナ偏在側を内
側にして液晶セルを形成したところ、散乱による液晶像
の滲みが認められないものであった。

【００６１】実施例２ アルミナ不含有のエポキシ系樹脂塗工液を先に展開して
その展開層を半硬化処理した後、その上にアルミナ含有
のエポキシ系樹脂塗工液を重畳展開させてその重畳展開
層を加熱装置を介し硬化処理したほかは実施例２に準じ
て光拡散型エポキシ系樹脂シートを連続的に得た。

【００６２】前記の光拡散型エポキシ系樹脂シートは、
表裏面のいずれもが表面平滑性に優れたものであり、重
畳界面での密着一体性や薄板性、耐久性や柔軟性等によ
る取扱性に優れて、そのアルミナ偏在側を内側にして液
晶セルを形成したところ、散乱による液晶像の滲みが認
められないものであった。

【００６３】比較例 実施例１に準じてアルミナ不含有のエポキシ系樹脂硬化
シートを形成し、そのエポキシ系樹脂硬化層の露出面上
に市販の光拡散シートを接着剤を介し接着して光拡散型
エポキシ系樹脂シートを得た。この光拡散型エポキシ系
樹脂シートは、光拡散シートの表面が凹凸化したもので
あり、接着剤層の介在で厚さが嵩高く、エポキシ系樹脂
硬化シートの単板に比べフレキシビリテイーに乏しくて
取扱性に劣るものであった。

【図面の簡単な説明】

【図１】光拡散型エポキシ系樹脂シート例の断面図

【図２】他の光拡散型エポキシ系樹脂シート例の断面図

【図３】製造工程例の説明図

【図４】他の製造工程例の説明図

【符号の説明】

１：光拡散型エポキシ系樹脂シート １１：微小領域不含有側（層） １２：微小領域含有側（層） １３，１４：微小領域 ２：剥離用の樹脂層 １５，２１，６１，６５：ダイ １６，６２，６６：エポキシ系樹脂塗工液の展開層 １７，２３，６３，６７：硬化装置

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宮武 稔 大阪府茨木市下穂積１丁目１番２号日東電 工株式会社内 Ｆターム(参考） 2H042 BA02 BA15 BA20 2H090 JA06 JB03 JB05 JC01 JC07 JD01

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 エポキシ系樹脂の硬化層中に屈折率が相
   違する微小領域を含有して光拡散性を示すシートからな
   り、かつ前記の微小領域がシートの厚さ方向に濃度分布
   を有してシート表裏の一方側に偏在し、その偏在側の表
   面が平滑であることを特徴とする光拡散型エポキシ系樹
   脂シート。
2. 【請求項２】 請求項１において、エポキシ系樹脂の硬
   化層が単層又は微小領域含有層と微小領域不含有層との
   密着重畳層からなる光拡散型エポキシ系樹脂シート。
3. 【請求項３】 屈折率と比重が相違する微小領域を含有
   するエポキシ系樹脂の塗工液をシート状に展開し、その
   展開層中の微小領域を比重差に基づいて沈降又は浮上さ
   せ、展開層の厚さ方向に微小領域の濃度分布をもたせて
   展開層の表裏の一方側に微小領域を偏在させた後、その
   展開層を硬化処理することを特徴とする光拡散型エポキ
   シ系樹脂シートの連続製造法。
4. 【請求項４】 屈折率が相違する微小領域を含有するエ
   ポキシ系樹脂の塗工液と、その微小領域を含有しないエ
   ポキシ系樹脂の塗工液を用いて、その一方の塗工液をシ
   ート状に展開してその展開層の上に他方の塗工液をシー
   ト状に重畳展開し、その重畳の展開層を硬化処理する操
   作を介して、微小領域含有層と微小領域不含有層とが接
   着剤層の介在なく密着重畳した硬化シートを得ることを
   特徴とする光拡散型エポキシ系樹脂シートの連続製造
   法。