JP2000180745A - ビーム光走査装置 - Google Patents
ビーム光走査装置Info
- Publication number
- JP2000180745A JP2000180745A JP10356022A JP35602298A JP2000180745A JP 2000180745 A JP2000180745 A JP 2000180745A JP 10356022 A JP10356022 A JP 10356022A JP 35602298 A JP35602298 A JP 35602298A JP 2000180745 A JP2000180745 A JP 2000180745A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light beam
- light
- scanning
- detecting means
- output
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/435—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
- B41J2/47—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light
- B41J2/471—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light using dot sequential main scanning by means of a light deflector, e.g. a rotating polygonal mirror
- B41J2/473—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light using dot sequential main scanning by means of a light deflector, e.g. a rotating polygonal mirror using multiple light beams, wavelengths or colours
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
- G02B26/12—Scanning systems using multifaceted mirrors
- G02B26/127—Adaptive control of the scanning light beam, e.g. using the feedback from one or more detectors
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
- H04N1/04—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa
- H04N1/047—Detection, control or error compensation of scanning velocity or position
- H04N1/0473—Detection, control or error compensation of scanning velocity or position in subscanning direction, e.g. picture start or line-to-line synchronisation
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
- H04N1/04—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa
- H04N1/113—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa using oscillating or rotating mirrors
- H04N1/1135—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa using oscillating or rotating mirrors for the main-scan only
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
- H04N1/04—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa
- H04N1/19—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa using multi-element arrays
- H04N1/191—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa using multi-element arrays the array comprising a one-dimensional array, or a combination of one-dimensional arrays, or a substantially one-dimensional array, e.g. an array of staggered elements
- H04N1/1911—Simultaneously or substantially simultaneously scanning picture elements on more than one main scanning line, e.g. scanning in swaths
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N2201/00—Indexing scheme relating to scanning, transmission or reproduction of documents or the like, and to details thereof
- H04N2201/024—Indexing scheme relating to scanning, transmission or reproduction of documents or the like, and to details thereof deleted
- H04N2201/02406—Arrangements for positioning elements within a head
- H04N2201/02439—Positioning method
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N2201/00—Indexing scheme relating to scanning, transmission or reproduction of documents or the like, and to details thereof
- H04N2201/04—Scanning arrangements
- H04N2201/047—Detection, control or error compensation of scanning velocity or position
- H04N2201/04701—Detection of scanning velocity or position
- H04N2201/0471—Detection of scanning velocity or position using dedicated detectors
- H04N2201/04712—Detection of scanning velocity or position using dedicated detectors using unbroken arrays of detectors, i.e. detectors mounted on the same substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N2201/00—Indexing scheme relating to scanning, transmission or reproduction of documents or the like, and to details thereof
- H04N2201/04—Scanning arrangements
- H04N2201/047—Detection, control or error compensation of scanning velocity or position
- H04N2201/04701—Detection of scanning velocity or position
- H04N2201/04734—Detecting at frequent intervals, e.g. once per line for sub-scan control
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N2201/00—Indexing scheme relating to scanning, transmission or reproduction of documents or the like, and to details thereof
- H04N2201/04—Scanning arrangements
- H04N2201/047—Detection, control or error compensation of scanning velocity or position
- H04N2201/04701—Detection of scanning velocity or position
- H04N2201/04744—Detection of scanning velocity or position by detecting the scanned beam or a reference beam
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N2201/00—Indexing scheme relating to scanning, transmission or reproduction of documents or the like, and to details thereof
- H04N2201/04—Scanning arrangements
- H04N2201/047—Detection, control or error compensation of scanning velocity or position
- H04N2201/04701—Detection of scanning velocity or position
- H04N2201/04749—Detecting position relative to a gradient, e.g. using triangular-shaped masks, marks or gratings
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N2201/00—Indexing scheme relating to scanning, transmission or reproduction of documents or the like, and to details thereof
- H04N2201/04—Scanning arrangements
- H04N2201/047—Detection, control or error compensation of scanning velocity or position
- H04N2201/04753—Control or error compensation of scanning position or velocity
- H04N2201/04758—Control or error compensation of scanning position or velocity by controlling the position of the scanned image area
- H04N2201/0476—Control or error compensation of scanning position or velocity by controlling the position of the scanned image area using an optical, electro-optical or acousto-optical element
- H04N2201/04762—Control or error compensation of scanning position or velocity by controlling the position of the scanned image area using an optical, electro-optical or acousto-optical element using a reflecting element
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N2201/00—Indexing scheme relating to scanning, transmission or reproduction of documents or the like, and to details thereof
- H04N2201/04—Scanning arrangements
- H04N2201/047—Detection, control or error compensation of scanning velocity or position
- H04N2201/04753—Control or error compensation of scanning position or velocity
- H04N2201/04794—Varying the control or compensation during the scan, e.g. using continuous feedback or from line to line
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
- Laser Beam Printer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】広いレンジでビーム光の相対的、絶対的走査位
置を正確に検知でき、かつ、必要最小限のビーム光通過
位置制御用のアクチュエータでビーム光の走査位置を所
定位置に制御することのできるビーム光走査装置を提供
する。 【解決手段】デジタル複写機に用いられるマルチビーム
光学系を用いたビーム光走査装置において、感光体ドラ
ムの表面を走査する複数のビーム光の通過位置を検知す
るビーム光位置検知装置３８に、ビーム光の走査方向と
直交する方向の通過位置変化に対して、その出力が連続
的かつ広範囲に変化するセンサパターンＳ０を設け、こ
のセンサパターンＳ０の出力に基づき感光体ドラムの表
面を走査する複数のビーム光の通過位置を所定位置に制
御する。
置を正確に検知でき、かつ、必要最小限のビーム光通過
位置制御用のアクチュエータでビーム光の走査位置を所
定位置に制御することのできるビーム光走査装置を提供
する。 【解決手段】デジタル複写機に用いられるマルチビーム
光学系を用いたビーム光走査装置において、感光体ドラ
ムの表面を走査する複数のビーム光の通過位置を検知す
るビーム光位置検知装置３８に、ビーム光の走査方向と
直交する方向の通過位置変化に対して、その出力が連続
的かつ広範囲に変化するセンサパターンＳ０を設け、こ
のセンサパターンＳ０の出力に基づき感光体ドラムの表
面を走査する複数のビーム光の通過位置を所定位置に制
御する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、たとえば、複数の
レーザビーム光により単一の感光体ドラム上を同時に走
査露光して上記感光体ドラム上に単一の静電潜像を形成
するデジタル複写機やレーザプリンタなどの画像形成装
置において、上記複数のレーザビーム光を走査するビー
ム光走査装置に関する。
レーザビーム光により単一の感光体ドラム上を同時に走
査露光して上記感光体ドラム上に単一の静電潜像を形成
するデジタル複写機やレーザプリンタなどの画像形成装
置において、上記複数のレーザビーム光を走査するビー
ム光走査装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、たとえば、レーザビーム光による
走査露光と電子写真プロセスとにより画像形成を行なう
デジタル複写機が種々開発されている。
走査露光と電子写真プロセスとにより画像形成を行なう
デジタル複写機が種々開発されている。
【０００３】そして、最近では、さらに画像形成速度の
高速化を図るために、マルチビーム方式、つまり、複数
のレーザビーム光を発生させ、これら複数のレーザビー
ム光により複数ラインずつの同時走査が行なわれるよう
にしたデジタル複写機が開発されている。
高速化を図るために、マルチビーム方式、つまり、複数
のレーザビーム光を発生させ、これら複数のレーザビー
ム光により複数ラインずつの同時走査が行なわれるよう
にしたデジタル複写機が開発されている。
【０００４】このようなマルチビーム方式のデジタル複
写機においては、レーザビーム光を発生する複数の半導
体レーザ発振器、これら複数のレーザ発振器から出力さ
れる各レーザビーム光を感光体ドラムへ向けて反射し、
各レーザビーム光により感光体ドラム上を走査するポリ
ゴンミラーなどの多面回転ミラー、および、コリメータ
レンズやｆ−θレンズなどを主体に構成される、ビーム
光走査装置としての光学系ユニットを備えている。
写機においては、レーザビーム光を発生する複数の半導
体レーザ発振器、これら複数のレーザ発振器から出力さ
れる各レーザビーム光を感光体ドラムへ向けて反射し、
各レーザビーム光により感光体ドラム上を走査するポリ
ゴンミラーなどの多面回転ミラー、および、コリメータ
レンズやｆ−θレンズなどを主体に構成される、ビーム
光走査装置としての光学系ユニットを備えている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従来、このようなマル
チビーム方式のデジタル複写機においては、高画質で画
像を形成するために、前記光学ユニットにおいては、レ
ーザビーム光の走査方向露光位置制御（主走査方向ビー
ム光位置制御）およびレーザビーム光の通過位置制御
（副走査方向ビーム光位置制御）が行なわれている。
チビーム方式のデジタル複写機においては、高画質で画
像を形成するために、前記光学ユニットにおいては、レ
ーザビーム光の走査方向露光位置制御（主走査方向ビー
ム光位置制御）およびレーザビーム光の通過位置制御
（副走査方向ビーム光位置制御）が行なわれている。
【０００６】このような技術の具体的な例が、たとえ
ば、特公平１−４３２９４号公報、特公平３−５７４５
２号公報、特公平３−５７４５３号公報、実公平５−３
２８２４号公報、特開平７−７２３９９号公報、特開平
７−２２８０００号公報、特開平９−２１０８４９号公
報、特開平９−２５８１２５号公報、特開平９−３１４
９０１号公報、特開平１０−７６７０４号公報などに開
示されている。しかし、これらに開示された技術には、
以下に示すような課題があった。
ば、特公平１−４３２９４号公報、特公平３−５７４５
２号公報、特公平３−５７４５３号公報、実公平５−３
２８２４号公報、特開平７−７２３９９号公報、特開平
７−２２８０００号公報、特開平９−２１０８４９号公
報、特開平９−２５８１２５号公報、特開平９−３１４
９０１号公報、特開平１０−７６７０４号公報などに開
示されている。しかし、これらに開示された技術には、
以下に示すような課題があった。
【０００７】すなわち、主走査方向のビーム光位置制御
については、検知手段であるセンサがビーム光走査方向
に対して所定の関係（角度）で取付けられていることが
重要である。つまり、センサが所定の取付け状態から傾
いて取付けられると、正しく主走査方向のビーム光位置
（相対位置）が検知できなくなり、たとえば、縦線を真
っ直ぐに形成できないといったような不都合が生じる。
については、検知手段であるセンサがビーム光走査方向
に対して所定の関係（角度）で取付けられていることが
重要である。つまり、センサが所定の取付け状態から傾
いて取付けられると、正しく主走査方向のビーム光位置
（相対位置）が検知できなくなり、たとえば、縦線を真
っ直ぐに形成できないといったような不都合が生じる。
【０００８】しかしながら、センサ自身にビーム光の走
査方向との関係を検知する機能を備えているのは、特開
平９−３１４９０１号公報に示された例以外にはない。
ところが、この例の場合においても、その傾き検知レン
ジは非常に狭く、検知、調整がしずらいなどの課題があ
った。
査方向との関係を検知する機能を備えているのは、特開
平９−３１４９０１号公報に示された例以外にはない。
ところが、この例の場合においても、その傾き検知レン
ジは非常に狭く、検知、調整がしずらいなどの課題があ
った。
【０００９】また、副走査方向のビーム光位置制御につ
いては、特開平７−７２３９９号公報、特開平７−２２
８０００号公報、特開平９−２１０８４９号公報に副走
査方向のビーム光通過位置を、ビーム光がセンサを通過
する時間に置き換えて検知する例が示されている。
いては、特開平７−７２３９９号公報、特開平７−２２
８０００号公報、特開平９−２１０８４９号公報に副走
査方向のビーム光通過位置を、ビーム光がセンサを通過
する時間に置き換えて検知する例が示されている。
【００１０】しかしながら、光学系ユニットに搭載され
るｆ−θレンズのｆ−θ特性にばらつきが生じた場合
や、ポリゴンミラーの回転数にばらつきや変動が生じた
場合などには、センサ上のビーム光の走査速度にばらつ
きが生じることになり、ビーム光の通過時間を基にした
これらの検知方法では、検知誤差が生じる可能性があ
る。
るｆ−θレンズのｆ−θ特性にばらつきが生じた場合
や、ポリゴンミラーの回転数にばらつきや変動が生じた
場合などには、センサ上のビーム光の走査速度にばらつ
きが生じることになり、ビーム光の通過時間を基にした
これらの検知方法では、検知誤差が生じる可能性があ
る。
【００１１】また、特開平９−２５８１２５号公報、特
開平９−３１４９０１号公報、特願平１０−７６７０４
号公報には、センサ上に形成された特定のセンサパター
ン間にビーム光の通過位置を追い込むことで、ビーム光
の通過位置を所定の位置に制御する例が示されている
が、この構成では、それぞれのビーム光を独立に所定の
通過位置に追い込む必要があり、あるビーム光を基準に
して残りのビーム光の通過位置を制御する場合に比べ、
ビーム光の通過位置を制御するためのアクチュエータの
数が増え、コスト高になるという課題があった。
開平９−３１４９０１号公報、特願平１０−７６７０４
号公報には、センサ上に形成された特定のセンサパター
ン間にビーム光の通過位置を追い込むことで、ビーム光
の通過位置を所定の位置に制御する例が示されている
が、この構成では、それぞれのビーム光を独立に所定の
通過位置に追い込む必要があり、あるビーム光を基準に
して残りのビーム光の通過位置を制御する場合に比べ、
ビーム光の通過位置を制御するためのアクチュエータの
数が増え、コスト高になるという課題があった。
【００１２】さらに、上記ビーム光を所定の位置に追い
込むための検知パターンは、検知精度が高い反面、ビー
ム光の通過位置変化に対してセンサ出力が変化する範囲
（＝検知レンジ）が狭く、制御が複雑となったり、制御
に要する時間が長いといった問題があった。
込むための検知パターンは、検知精度が高い反面、ビー
ム光の通過位置変化に対してセンサ出力が変化する範囲
（＝検知レンジ）が狭く、制御が複雑となったり、制御
に要する時間が長いといった問題があった。
【００１３】また、複数の解像度に対応して各ビーム光
の通過位置を制御することを可能とする場合には、上記
各ビーム光を追い込むためのセンサパターンが増え、セ
ンサ構造が複雑化するといった課題があった。
の通過位置を制御することを可能とする場合には、上記
各ビーム光を追い込むためのセンサパターンが増え、セ
ンサ構造が複雑化するといった課題があった。
【００１４】以上、説明した従来技術に対する課題をま
とめると、（１）ビーム光の露光位置を制御するための
センサに、ビーム光の走査方向に対する取付け傾きを広
いレンジで検知する機能を持つこと、（２）センサ上の
ビーム光の走査速度に依存せず、正確にビーム光の通過
位置を検知できること、（３）ビーム光の通過位置検知
を広いレンジで可能とし、ビーム光の通過位置を制御す
るためのアクチュエータ数を必要最小限とすること、
（４）ビーム光の通過位置変化に対し、センサが応答す
る範囲（検知レンジ）を広げ、制御を単純化、高速化す
ること、（５）単純なセンサ構造で複数の解像度に対応
できること、となる。
とめると、（１）ビーム光の露光位置を制御するための
センサに、ビーム光の走査方向に対する取付け傾きを広
いレンジで検知する機能を持つこと、（２）センサ上の
ビーム光の走査速度に依存せず、正確にビーム光の通過
位置を検知できること、（３）ビーム光の通過位置検知
を広いレンジで可能とし、ビーム光の通過位置を制御す
るためのアクチュエータ数を必要最小限とすること、
（４）ビーム光の通過位置変化に対し、センサが応答す
る範囲（検知レンジ）を広げ、制御を単純化、高速化す
ること、（５）単純なセンサ構造で複数の解像度に対応
できること、となる。
【００１５】そこで、本発明は、広いレンジでビーム光
の相対的、絶対的走査位置を正確に検知でき、かつ、必
要最小限のビーム光通過位置制御用のアクチュエータで
ビーム光の走査位置を所定位置に制御することのできる
ビーム光走査装置を提供することを目的とする。
の相対的、絶対的走査位置を正確に検知でき、かつ、必
要最小限のビーム光通過位置制御用のアクチュエータで
ビーム光の走査位置を所定位置に制御することのできる
ビーム光走査装置を提供することを目的とする。
【００１６】
【課題を解決するための手段】本発明のビーム光走査装
置は、ビーム光を出力するビーム光発生手段と、このビ
ーム光発生手段から出力されたビーム光を被走査面に向
けて反射し、前記ビーム光により前記被走査面を走査す
る走査手段と、この走査手段により前記被走査面を走査
すべく導かれたビーム光を検知するもので、前記ビーム
光の前記走査手段による走査方向と直交する方向の通過
位置変化に対して、その出力が連続的に変化するよう構
成されたビーム光通過位置検知手段と、このビーム光通
過位置検知手段の検知結果に基づき前記走査手段により
走査されるビーム光の前記被走査面における通過位置を
所定位置に制御する制御手段とを具備している。
置は、ビーム光を出力するビーム光発生手段と、このビ
ーム光発生手段から出力されたビーム光を被走査面に向
けて反射し、前記ビーム光により前記被走査面を走査す
る走査手段と、この走査手段により前記被走査面を走査
すべく導かれたビーム光を検知するもので、前記ビーム
光の前記走査手段による走査方向と直交する方向の通過
位置変化に対して、その出力が連続的に変化するよう構
成されたビーム光通過位置検知手段と、このビーム光通
過位置検知手段の検知結果に基づき前記走査手段により
走査されるビーム光の前記被走査面における通過位置を
所定位置に制御する制御手段とを具備している。
【００１７】また、本発明のビーム光走査装置は、ビー
ム光を出力するビーム光発生手段と、このビーム光発生
手段から出力されたビーム光を被走査面に向けて反射
し、前記ビーム光により前記被走査面を走査する走査手
段と、この走査手段により前記被走査面を走査すべく導
かれたビーム光を検知するもので、前記ビーム光の前記
走査手段による走査方向と直交する方向の通過位置変化
に対して、その出力が連続的に変化するよう構成された
ビーム光通過位置検知手段と、このビーム光通過位置検
知手段よりも前記ビーム光の走査方向に対し上流側に配
設され、前記走査手段によって走査されるビーム光の通
過タイミングを検知するビーム光通過タイミング検知手
段と、このビーム光通過タイミング検知手段の検知結果
に基づき動作し、前記ビーム光通過位置検知手段の出力
を積分する積分手段と、この積分手段の積分結果に基づ
き前記走査手段により走査されるビーム光の前記被走査
面における通過位置を所定位置に制御する制御手段とを
具備している。
ム光を出力するビーム光発生手段と、このビーム光発生
手段から出力されたビーム光を被走査面に向けて反射
し、前記ビーム光により前記被走査面を走査する走査手
段と、この走査手段により前記被走査面を走査すべく導
かれたビーム光を検知するもので、前記ビーム光の前記
走査手段による走査方向と直交する方向の通過位置変化
に対して、その出力が連続的に変化するよう構成された
ビーム光通過位置検知手段と、このビーム光通過位置検
知手段よりも前記ビーム光の走査方向に対し上流側に配
設され、前記走査手段によって走査されるビーム光の通
過タイミングを検知するビーム光通過タイミング検知手
段と、このビーム光通過タイミング検知手段の検知結果
に基づき動作し、前記ビーム光通過位置検知手段の出力
を積分する積分手段と、この積分手段の積分結果に基づ
き前記走査手段により走査されるビーム光の前記被走査
面における通過位置を所定位置に制御する制御手段とを
具備している。
【００１８】また、本発明のビーム光走査装置は、ビー
ム光を出力するビーム光発生手段と、このビーム光発生
手段から出力されたビーム光を被走査面に向けて反射
し、前記ビーム光により前記被走査面を走査する走査手
段と、この走査手段により前記被走査面を走査すべく導
かれたビーム光を検知するもので、前記ビーム光の前記
走査手段による走査方向と直交する方向の通過位置変化
に対して、その出力が連続的に変化するよう構成された
ビーム光通過位置検知手段と、このビーム光通過位置検
知手段よりも前記ビーム光の走査方向に対し上流側に配
設され、前記走査手段によって走査されるビーム光の通
過タイミングを検知する第１のビーム光通過タイミング
検知手段と、前記ビーム光通過位置検知手段よりも前記
ビーム光の走査方向に対し下流側に配設され、前記走査
手段によって走査されるビーム光の通過タイミングを検
知する第２のビーム光通過タイミング検知手段と、前記
第１のビーム光通過タイミング検知手段の検知結果に基
づき動作し、前記ビーム光通過位置検知手段の出力を積
分する積分手段と、前記第２のビーム光通過タイミング
検知手段の検知結果に基づき動作し、前記積分手段の積
分結果をアナログ信号からデジタル信号に変換する変換
手段と、この変換手段で変換されたデジタル信号に基づ
き前記走査手段により走査されるビーム光の前記被走査
面における通過位置を所定位置に制御する制御手段とを
具備している。
ム光を出力するビーム光発生手段と、このビーム光発生
手段から出力されたビーム光を被走査面に向けて反射
し、前記ビーム光により前記被走査面を走査する走査手
段と、この走査手段により前記被走査面を走査すべく導
かれたビーム光を検知するもので、前記ビーム光の前記
走査手段による走査方向と直交する方向の通過位置変化
に対して、その出力が連続的に変化するよう構成された
ビーム光通過位置検知手段と、このビーム光通過位置検
知手段よりも前記ビーム光の走査方向に対し上流側に配
設され、前記走査手段によって走査されるビーム光の通
過タイミングを検知する第１のビーム光通過タイミング
検知手段と、前記ビーム光通過位置検知手段よりも前記
ビーム光の走査方向に対し下流側に配設され、前記走査
手段によって走査されるビーム光の通過タイミングを検
知する第２のビーム光通過タイミング検知手段と、前記
第１のビーム光通過タイミング検知手段の検知結果に基
づき動作し、前記ビーム光通過位置検知手段の出力を積
分する積分手段と、前記第２のビーム光通過タイミング
検知手段の検知結果に基づき動作し、前記積分手段の積
分結果をアナログ信号からデジタル信号に変換する変換
手段と、この変換手段で変換されたデジタル信号に基づ
き前記走査手段により走査されるビーム光の前記被走査
面における通過位置を所定位置に制御する制御手段とを
具備している。
【００１９】さらに、本発明のビーム光走査装置は、ビ
ーム光を出力するビーム光発生手段と、このビーム光発
生手段から出力されたビーム光を被走査面に向けて反射
し、前記ビーム光により前記被走査面を走査する走査手
段と、この走査手段により前記被走査面を走査すべく導
かれたビーム光を検知するもので、前記ビーム光の前記
走査手段による走査方向と直交する方向の通過位置変化
に対して、その出力が連続的に変化する構成された第１
のビーム光通過位置検知手段と、この第１のビーム光通
過位置検知手段の前記通過位置変化の方向に隣接して配
設され、前記走査手段により前記被走査面を走査すべく
導かれたビーム光を検知するもので、前記通過位置変化
に対して、その出力が連続的に増加するよう構成された
第２のビーム光通過位置検知手段と、前記第１のビーム
光通過位置検知手段の検知結果および前記第２のビーム
光通過位置検知手段の検知結果に基づき前記走査手段に
より走査されるビーム光の前記被走査面における通過位
置を所定位置に制御する制御手段とを具備している。
ーム光を出力するビーム光発生手段と、このビーム光発
生手段から出力されたビーム光を被走査面に向けて反射
し、前記ビーム光により前記被走査面を走査する走査手
段と、この走査手段により前記被走査面を走査すべく導
かれたビーム光を検知するもので、前記ビーム光の前記
走査手段による走査方向と直交する方向の通過位置変化
に対して、その出力が連続的に変化する構成された第１
のビーム光通過位置検知手段と、この第１のビーム光通
過位置検知手段の前記通過位置変化の方向に隣接して配
設され、前記走査手段により前記被走査面を走査すべく
導かれたビーム光を検知するもので、前記通過位置変化
に対して、その出力が連続的に増加するよう構成された
第２のビーム光通過位置検知手段と、前記第１のビーム
光通過位置検知手段の検知結果および前記第２のビーム
光通過位置検知手段の検知結果に基づき前記走査手段に
より走査されるビーム光の前記被走査面における通過位
置を所定位置に制御する制御手段とを具備している。
【００２０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。
て図面を参照して説明する。
【００２１】図１は、本実施の形態に係るビーム光走査
装置が適用される画像形成装置としてのデジタル複写機
の構成を模式的に示すものである。すなわち、このデジ
タル複写機は、たとえば、画像読取手段としてのスキャ
ナ部１、および、画像形成手段としてのプリンタ部２か
ら構成されている。スキャナ部１は、図示矢印方向に移
動可能な第１キャリジ３と第２キャリジ４、結像レンズ
５、および、光電変換素子６などから構成されている。
装置が適用される画像形成装置としてのデジタル複写機
の構成を模式的に示すものである。すなわち、このデジ
タル複写機は、たとえば、画像読取手段としてのスキャ
ナ部１、および、画像形成手段としてのプリンタ部２か
ら構成されている。スキャナ部１は、図示矢印方向に移
動可能な第１キャリジ３と第２キャリジ４、結像レンズ
５、および、光電変換素子６などから構成されている。
【００２２】図１において、原稿Ｏは透明ガラスからな
る原稿台７上に下向きに置かれ、その原稿Ｏの載置基準
は原稿台７の短手方向の正面右側がセンタ基準になって
いる。原稿Ｏは、開閉自在に設けられた原稿固定カバー
８によって原稿台７上に押え付けられる。
る原稿台７上に下向きに置かれ、その原稿Ｏの載置基準
は原稿台７の短手方向の正面右側がセンタ基準になって
いる。原稿Ｏは、開閉自在に設けられた原稿固定カバー
８によって原稿台７上に押え付けられる。
【００２３】原稿Ｏは光源９によって照明され、その反
射光はミラー１０，１１，１２、および、結像レンズ５
を介して光電変換素子６の受光面に集光されるように構
成されている。ここで、上記光源９およびミラー１０を
搭載した第１キャリジ３と、ミラー１１，１２を搭載し
た第２キャリジ４は、光路長を一定にするように２：１
の相対速度で移動するようになっている。第１キャリジ
３および第２キャリジ４は、キャリジ駆動用モータ（図
示せず）によって読取タイミング信号に同期して右から
左方向に移動する。
射光はミラー１０，１１，１２、および、結像レンズ５
を介して光電変換素子６の受光面に集光されるように構
成されている。ここで、上記光源９およびミラー１０を
搭載した第１キャリジ３と、ミラー１１，１２を搭載し
た第２キャリジ４は、光路長を一定にするように２：１
の相対速度で移動するようになっている。第１キャリジ
３および第２キャリジ４は、キャリジ駆動用モータ（図
示せず）によって読取タイミング信号に同期して右から
左方向に移動する。
【００２４】以上のようにして、原稿台７上に載置され
た原稿Ｏの画像は、スキャナ部１によって１ラインごと
に順次読取られ、その読取り出力は、図示しない画像処
理部において画像の濃淡を示す８ビットのデジタル画像
信号に変換される。
た原稿Ｏの画像は、スキャナ部１によって１ラインごと
に順次読取られ、その読取り出力は、図示しない画像処
理部において画像の濃淡を示す８ビットのデジタル画像
信号に変換される。
【００２５】プリンタ部２は、光学系ユニット１３、お
よび、被画像形成媒体である用紙Ｐ上に画像形成が可能
な電子写真方式を組合わせた画像形成部１４から構成さ
れている。すなわち、原稿Ｏからスキャナ部１で読取ら
れた画像信号は、図示しない画像処理部で処理が行なわ
れた後、半導体レーザ発振器からのレーザビーム光（以
降、単にビーム光と称す）に変換される。ここに、本実
施の形態では、半導体レーザ発振器を複数個（２個以
上）使用するマルチビーム光学系を採用している。
よび、被画像形成媒体である用紙Ｐ上に画像形成が可能
な電子写真方式を組合わせた画像形成部１４から構成さ
れている。すなわち、原稿Ｏからスキャナ部１で読取ら
れた画像信号は、図示しない画像処理部で処理が行なわ
れた後、半導体レーザ発振器からのレーザビーム光（以
降、単にビーム光と称す）に変換される。ここに、本実
施の形態では、半導体レーザ発振器を複数個（２個以
上）使用するマルチビーム光学系を採用している。
【００２６】光学系ユニット１３の構成については後で
詳細を説明するが、ユニット内に設けられた複数の半導
体レーザ発振器は、図示しない画像処理部から出力され
るレーザ変調信号にしたがって発光動作し、これらから
出力される複数のビーム光は、ポリゴンミラーで反射さ
れて走査光となり、ユニット外部へ出力されるようにな
っている。
詳細を説明するが、ユニット内に設けられた複数の半導
体レーザ発振器は、図示しない画像処理部から出力され
るレーザ変調信号にしたがって発光動作し、これらから
出力される複数のビーム光は、ポリゴンミラーで反射さ
れて走査光となり、ユニット外部へ出力されるようにな
っている。
【００２７】光学系ユニット１３から出力される複数の
ビーム光は、像担持体としての感光体ドラム１５上の露
光位置Ｘの地点に必要な解像度を持つスポットの走査光
として結像され、走査露光される。これによって、感光
体ドラム１５上には、画像信号に応じた静電潜像が形成
される。
ビーム光は、像担持体としての感光体ドラム１５上の露
光位置Ｘの地点に必要な解像度を持つスポットの走査光
として結像され、走査露光される。これによって、感光
体ドラム１５上には、画像信号に応じた静電潜像が形成
される。
【００２８】感光体ドラム１５の周辺には、その表面を
帯電する帯電チャージャ１６、現像器１７、転写チャー
ジャ１８、剥離チャージャ１９、および、クリーナ２０
などが配設されている。感光体ドラム１７は、駆動モー
タ（図示せず）により所定の外周速度で回転駆動され、
その表面に対向して設けられている帯電チャージャ１６
によって帯電される。帯電された感光体ドラム１５上の
露光位置Ｘの地点に複数のビーム光（走査光）がスポッ
ト結像される。
帯電する帯電チャージャ１６、現像器１７、転写チャー
ジャ１８、剥離チャージャ１９、および、クリーナ２０
などが配設されている。感光体ドラム１７は、駆動モー
タ（図示せず）により所定の外周速度で回転駆動され、
その表面に対向して設けられている帯電チャージャ１６
によって帯電される。帯電された感光体ドラム１５上の
露光位置Ｘの地点に複数のビーム光（走査光）がスポッ
ト結像される。
【００２９】感光体ドラム１５上に形成された静電潜像
は、現像器１７からのトナー（現像剤）により現像され
る。現像によりトナー像を形成された感光体ドラム１５
は、転写位置の地点で給紙系によりタイミングをとって
供給される用紙Ｐ上に転写チャージャ１８によって転写
される。
は、現像器１７からのトナー（現像剤）により現像され
る。現像によりトナー像を形成された感光体ドラム１５
は、転写位置の地点で給紙系によりタイミングをとって
供給される用紙Ｐ上に転写チャージャ１８によって転写
される。
【００３０】上記給紙系は、底部に設けられた給紙カセ
ット２１内の用紙Ｐを、給紙ローラ２２と分離ローラ２
３とにより１枚ずつ分離して供給する。そして、レジス
トローラ２４まで送られ、所定のタイミングで転写位置
まで供給される。転写チャージャ１８の下流側には、用
紙搬送機構２５、定着器２６、画像形成済みの用紙Ｐを
排出する排紙ローラ２７が配設されている。これによ
り、トナー像が転写された用紙Ｐは、定着器２６でトナ
ー像が定着され、その後、排紙ローラ２７を経て外部の
排紙トレイ２８に排紙される。
ット２１内の用紙Ｐを、給紙ローラ２２と分離ローラ２
３とにより１枚ずつ分離して供給する。そして、レジス
トローラ２４まで送られ、所定のタイミングで転写位置
まで供給される。転写チャージャ１８の下流側には、用
紙搬送機構２５、定着器２６、画像形成済みの用紙Ｐを
排出する排紙ローラ２７が配設されている。これによ
り、トナー像が転写された用紙Ｐは、定着器２６でトナ
ー像が定着され、その後、排紙ローラ２７を経て外部の
排紙トレイ２８に排紙される。
【００３１】また、用紙Ｐへの転写が終了した感光体ド
ラム１５は、その表面の残留トナーがクリーナ２０によ
って取り除かれて、初期状態に復帰し、次の画像形成の
待機状態となる。
ラム１５は、その表面の残留トナーがクリーナ２０によ
って取り除かれて、初期状態に復帰し、次の画像形成の
待機状態となる。
【００３２】以上のプロセス動作を繰り返すことによ
り、画像形成動作が連続的に行なわれる。
り、画像形成動作が連続的に行なわれる。
【００３３】以上説明したように、原稿台７上に置かれ
た原稿Ｏは、スキャナ部１で読取られ、その読取り情報
は、プリンタ部２で一連の処理を施された後、用紙Ｐ上
にトナー画像として記録されるものである。
た原稿Ｏは、スキャナ部１で読取られ、その読取り情報
は、プリンタ部２で一連の処理を施された後、用紙Ｐ上
にトナー画像として記録されるものである。
【００３４】次に、光学系ユニット１３について説明す
る。
る。
【００３５】図２は、光学系ユニット１３の構成と感光
体ドラム１５の位置関係を示している。光学系ユニット
１３は、たとえば、４つのビーム光発生手段としての半
導体レーザ発振器３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄを内
蔵していて、それぞれのレーザ発振器３１ａ〜３１ｄ
が、同時に１走査ラインずつの画像形成を行なうこと
で、ポリゴンミラーの回転数を極端に上げることなく、
高速の画像形成を可能としている。
体ドラム１５の位置関係を示している。光学系ユニット
１３は、たとえば、４つのビーム光発生手段としての半
導体レーザ発振器３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄを内
蔵していて、それぞれのレーザ発振器３１ａ〜３１ｄ
が、同時に１走査ラインずつの画像形成を行なうこと
で、ポリゴンミラーの回転数を極端に上げることなく、
高速の画像形成を可能としている。
【００３６】すなわち、レーザ発振器３１ａはレーザド
ライバ３２ａで駆動され、出力されるビーム光は、図示
しないコリメータレンズを通過した後、ハーフミラー３
４ａとハーフミラー３４ｂを通過し、多面回転ミラーと
してのポリゴンミラー３５に入射する。
ライバ３２ａで駆動され、出力されるビーム光は、図示
しないコリメータレンズを通過した後、ハーフミラー３
４ａとハーフミラー３４ｂを通過し、多面回転ミラーと
してのポリゴンミラー３５に入射する。
【００３７】ポリゴンミラー３５は、ポリゴンモータド
ライバ３７で駆動されるポリゴンモータ３６によって一
定速度で回転されている。これにより、ポリゴンミラー
３５からの反射光は、ポリゴンモータ３６の回転数で定
まる角速度で、一定方向に走査することになる。ポリゴ
ンミラー３５によって走査されたビーム光は、図示しな
いｆ−θレンズのｆ−θ特性により、これを通過するこ
とによって、一定速度で、ビーム光位置検知手段および
ビーム光通過タイミング検知手段およびビーム光パワー
検知手段としてのビーム光検知装置３８の受光面、およ
び、感光体ドラム１５上を走査することになる。
ライバ３７で駆動されるポリゴンモータ３６によって一
定速度で回転されている。これにより、ポリゴンミラー
３５からの反射光は、ポリゴンモータ３６の回転数で定
まる角速度で、一定方向に走査することになる。ポリゴ
ンミラー３５によって走査されたビーム光は、図示しな
いｆ−θレンズのｆ−θ特性により、これを通過するこ
とによって、一定速度で、ビーム光位置検知手段および
ビーム光通過タイミング検知手段およびビーム光パワー
検知手段としてのビーム光検知装置３８の受光面、およ
び、感光体ドラム１５上を走査することになる。
【００３８】レーザ発振器３１ｂは、レーザドライバ３
２ｂで駆動され、出力されるビーム光は、図示しないコ
リメータレンズを通過した後、ガルバノミラー３３ｂで
反射し、さらにハーフミラー３４ａで反射する。ハーフ
ミラー３４ａからの反射光は、ハーフミラー３４ｂを通
過し、ポリゴンミラー３５に入射する。ポリゴンミラー
３５以降の経路は、上述したレーザ発振器３１ａの場合
と同じで、図示しないｆ−θレンズを通過し、一定速度
でビーム光検知装置３８の受光面および感光体ドラム１
５上を走査する。
２ｂで駆動され、出力されるビーム光は、図示しないコ
リメータレンズを通過した後、ガルバノミラー３３ｂで
反射し、さらにハーフミラー３４ａで反射する。ハーフ
ミラー３４ａからの反射光は、ハーフミラー３４ｂを通
過し、ポリゴンミラー３５に入射する。ポリゴンミラー
３５以降の経路は、上述したレーザ発振器３１ａの場合
と同じで、図示しないｆ−θレンズを通過し、一定速度
でビーム光検知装置３８の受光面および感光体ドラム１
５上を走査する。
【００３９】レーザ発振器３１ｃは、レーザドライバ３
２ｃで駆動され、出力されるビーム光は、図示しないコ
リメータレンズを通過した後、ガルバノミラー３３ｃで
反射し、さらにハーフミラー３４ｃを通過し、ハーフミ
ラー３４ｂで反射し、ポリゴンミラー３５に入射する。
ポリゴンミラー３５以降の経路は、上述したレーザ発振
器３１ａ，３１ｂの場合と同じで、図示しないｆ−θレ
ンズを通過し、一定速度でビーム光検知装置３８の受光
面および感光体ドラム１５上を走査する。
２ｃで駆動され、出力されるビーム光は、図示しないコ
リメータレンズを通過した後、ガルバノミラー３３ｃで
反射し、さらにハーフミラー３４ｃを通過し、ハーフミ
ラー３４ｂで反射し、ポリゴンミラー３５に入射する。
ポリゴンミラー３５以降の経路は、上述したレーザ発振
器３１ａ，３１ｂの場合と同じで、図示しないｆ−θレ
ンズを通過し、一定速度でビーム光検知装置３８の受光
面および感光体ドラム１５上を走査する。
【００４０】レーザ発振器３１ｄは、レーザドライバ３
２ｄで駆動され、出力されるビーム光は、図示しないコ
リメータレンズを通過した後、ガルバノミラー３３ｄで
反射し、さらにハーフミラー３４ｃで反射し、ハーフミ
ラー３４ｂで反射し、ポリゴンミラー３５に入射する。
ポリゴンミラー３５以降の経路は、上述したレーザ発振
器３１ａ，３１ｂ，３１ｃの場合と同じで、図示しない
ｆ−θレンズを通過し、一定速度でビーム光検知装置３
８の受光面および感光体ドラム１５上を走査する。
２ｄで駆動され、出力されるビーム光は、図示しないコ
リメータレンズを通過した後、ガルバノミラー３３ｄで
反射し、さらにハーフミラー３４ｃで反射し、ハーフミ
ラー３４ｂで反射し、ポリゴンミラー３５に入射する。
ポリゴンミラー３５以降の経路は、上述したレーザ発振
器３１ａ，３１ｂ，３１ｃの場合と同じで、図示しない
ｆ−θレンズを通過し、一定速度でビーム光検知装置３
８の受光面および感光体ドラム１５上を走査する。
【００４１】なお、レーザドライバ３２ａ〜３２ｄは、
それぞれオートパワーコントロール（ＡＰＣ）回路を内
蔵しており、後で説明する主制御部（ＣＰＵ）５１から
設定される発光パワーレベルで常にレーザ発振器３１ａ
〜３１ｄを発光動作させるようになっている。
それぞれオートパワーコントロール（ＡＰＣ）回路を内
蔵しており、後で説明する主制御部（ＣＰＵ）５１から
設定される発光パワーレベルで常にレーザ発振器３１ａ
〜３１ｄを発光動作させるようになっている。
【００４２】このようにして、別々のレーザ発振器３１
ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄから出力された各ビーム光
は、ハーフミラー３４ａ，３４ｂ，３４ｃで合成され、
４つのビーム光がポリゴンミラー３５の方向に進むこと
になる。
ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄから出力された各ビーム光
は、ハーフミラー３４ａ，３４ｂ，３４ｃで合成され、
４つのビーム光がポリゴンミラー３５の方向に進むこと
になる。
【００４３】したがって、４つのビーム光は、同時に感
光体ドラム１５上を走査することができ、従来のシング
ルビームの場合に比べ、ポリゴンミラー３５の回転数が
同じである場合、４倍の速度で画像を記録することが可
能となる。
光体ドラム１５上を走査することができ、従来のシング
ルビームの場合に比べ、ポリゴンミラー３５の回転数が
同じである場合、４倍の速度で画像を記録することが可
能となる。
【００４４】ガルバノミラー３３ｂ，３３ｃ，３３ｄ
は、レーザ発振器３１ａから出力されたビーム光に対し
レーザ発振器３１ｂ，３１ｃ，３１ｄから出力されたビ
ーム光の副走査方向の位置関係を調整（制御）するため
のものであり、それぞれを駆動するガルバノミラー駆動
回路３９ｂ，３９ｃ，３９ｄが接続されている。
は、レーザ発振器３１ａから出力されたビーム光に対し
レーザ発振器３１ｂ，３１ｃ，３１ｄから出力されたビ
ーム光の副走査方向の位置関係を調整（制御）するため
のものであり、それぞれを駆動するガルバノミラー駆動
回路３９ｂ，３９ｃ，３９ｄが接続されている。
【００４５】また、ビーム光検知装置３８には、その取
付位置およびビーム光の走査方向に対する傾きを調整す
るためのビーム光検知装置調整モータ３８ａ，３８ｂが
設けられている。
付位置およびビーム光の走査方向に対する傾きを調整す
るためのビーム光検知装置調整モータ３８ａ，３８ｂが
設けられている。
【００４６】ビーム光検知装置３８は、上記４つのビー
ム光の通過位置、通過タイミングおよびパワーをそれぞ
れ検知するためのものであり、その受光面が感光体ドラ
ム１５の表面と同等になるよう、感光体ドラム１５の端
部近傍に配設されている。このビーム光検知装置３８か
らの検知信号を基に、それぞれのビーム光に対応するガ
ルバノミラー３３ｂ，３３ｃ，３３ｄの制御（副走査方
向の画像形成位置制御）、レーザ発振器３１ａ，３１
ｂ，３１ｃ，３１ｄの発光パワー（強度）の制御、およ
び、発光タイミングの制御（主走査方向の画像形成位置
制御）が行なわれる（詳細は後述する）。これらの制御
を行なうための信号を生成するために、ビーム光検知装
置３８には、ビーム光検知装置出力処理回路４０が接続
されている。
ム光の通過位置、通過タイミングおよびパワーをそれぞ
れ検知するためのものであり、その受光面が感光体ドラ
ム１５の表面と同等になるよう、感光体ドラム１５の端
部近傍に配設されている。このビーム光検知装置３８か
らの検知信号を基に、それぞれのビーム光に対応するガ
ルバノミラー３３ｂ，３３ｃ，３３ｄの制御（副走査方
向の画像形成位置制御）、レーザ発振器３１ａ，３１
ｂ，３１ｃ，３１ｄの発光パワー（強度）の制御、およ
び、発光タイミングの制御（主走査方向の画像形成位置
制御）が行なわれる（詳細は後述する）。これらの制御
を行なうための信号を生成するために、ビーム光検知装
置３８には、ビーム光検知装置出力処理回路４０が接続
されている。
【００４７】次に、制御系について説明する。
【００４８】図３は、主にマルチビーム光学系の制御を
主体にした制御系を示している。すなわち、５１は全体
的な制御を司る主制御部で、たとえば、ＣＰＵからな
り、これには、メモリ５２、コントロールパネル５３、
外部通信インタフェイス（Ｉ／Ｆ）５４、レーザドライ
バ３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，３２ｄ、ポリゴンミラーモ
ータドライバ３７、ガルバノミラー駆動回路３９ｂ，３
９ｃ，３９ｄ、ビーム光検知装置出力処理回路４０、同
期回路５５、および、画像データインタフェイス（Ｉ／
Ｆ）５６が接続されている。
主体にした制御系を示している。すなわち、５１は全体
的な制御を司る主制御部で、たとえば、ＣＰＵからな
り、これには、メモリ５２、コントロールパネル５３、
外部通信インタフェイス（Ｉ／Ｆ）５４、レーザドライ
バ３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，３２ｄ、ポリゴンミラーモ
ータドライバ３７、ガルバノミラー駆動回路３９ｂ，３
９ｃ，３９ｄ、ビーム光検知装置出力処理回路４０、同
期回路５５、および、画像データインタフェイス（Ｉ／
Ｆ）５６が接続されている。
【００４９】同期回路５５には、画像データＩ／Ｆ５６
が接続されており、画像データＩ／Ｆ５６には、画像処
理部５７およびページメモリ５８が接続されている。画
像処理部５７にはスキャナ部１が接続され、ページメモ
リ５８には外部インタフェイス（Ｉ／Ｆ）５９が接続さ
れている。
が接続されており、画像データＩ／Ｆ５６には、画像処
理部５７およびページメモリ５８が接続されている。画
像処理部５７にはスキャナ部１が接続され、ページメモ
リ５８には外部インタフェイス（Ｉ／Ｆ）５９が接続さ
れている。
【００５０】ここで、画像を形成する際の画像データの
流れを簡単に説明すると、以下のような流れとなる。
流れを簡単に説明すると、以下のような流れとなる。
【００５１】まず、複写動作の場合は、先に説明したよ
うに、原稿台７上にセットされた原稿Ｏの画像は、スキ
ャナ部１で読取られ、画像処理部５７へ送られる。画像
処理部５７は、スキャナ部１からの画像信号に対し、た
とえば、周知のシェーディング補正、各種フィルタリン
グ処理、階調処理、ガンマ補正などを施こす。
うに、原稿台７上にセットされた原稿Ｏの画像は、スキ
ャナ部１で読取られ、画像処理部５７へ送られる。画像
処理部５７は、スキャナ部１からの画像信号に対し、た
とえば、周知のシェーディング補正、各種フィルタリン
グ処理、階調処理、ガンマ補正などを施こす。
【００５２】画像処理部５７からの画像データは、画像
データＩ／Ｆ５６へと送られる。画像データＩ／Ｆ５６
は、４つのレーザドライバ３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，３
２ｄへ画像データを振り分ける役割を果たしている。
データＩ／Ｆ５６へと送られる。画像データＩ／Ｆ５６
は、４つのレーザドライバ３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，３
２ｄへ画像データを振り分ける役割を果たしている。
【００５３】同期回路５５は、各ビーム光のビーム光検
知装置３８上を通過するタイミングに同期したクロック
を発生し、このクロックに同期して、画像データＩ／Ｆ
５６から各レーザドライバ３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，３
２ｄへ、画像データをレーザ変調信号として送出する。
知装置３８上を通過するタイミングに同期したクロック
を発生し、このクロックに同期して、画像データＩ／Ｆ
５６から各レーザドライバ３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，３
２ｄへ、画像データをレーザ変調信号として送出する。
【００５４】このようにして、各ビーム光の走査と同期
を取りながら画像データを転送することで、主走査方向
に同期がとれた（正しい位置への）画像形成が行なわれ
るものである。
を取りながら画像データを転送することで、主走査方向
に同期がとれた（正しい位置への）画像形成が行なわれ
るものである。
【００５５】また、同期回路５５には、非画像領域で各
レーザ発振器３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄを強制的
に発光動作させ、各ビーム光のパワーを制御するための
サンプルタイマや、各ビーム光の画像形成タイミングを
取るために、ビーム光の順にしたがってビーム光検知装
置３８上でそれぞれのレーザ発振器３１ａ，３１ｂ，３
１ｃ，３１ｄを発光動作させる論理回路などが含まれて
いる。
レーザ発振器３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄを強制的
に発光動作させ、各ビーム光のパワーを制御するための
サンプルタイマや、各ビーム光の画像形成タイミングを
取るために、ビーム光の順にしたがってビーム光検知装
置３８上でそれぞれのレーザ発振器３１ａ，３１ｂ，３
１ｃ，３１ｄを発光動作させる論理回路などが含まれて
いる。
【００５６】コントロールパネル５３は、複写動作の起
動や、枚数設定などを行なうマンマシンインタフェース
である。
動や、枚数設定などを行なうマンマシンインタフェース
である。
【００５７】本デジタル複写機は、複写動作のみでな
く、ページメモリ５８に接続された外部Ｉ／Ｆ５９を介
して外部から入力される画像データをも形成出力できる
構成となっている。なお、外部Ｉ／Ｆ５９から入力され
る画像データは、一旦ページメモリ５８に格納された
後、画像データＩ／Ｆ５６を介して同期回路５５へ送ら
れる。
く、ページメモリ５８に接続された外部Ｉ／Ｆ５９を介
して外部から入力される画像データをも形成出力できる
構成となっている。なお、外部Ｉ／Ｆ５９から入力され
る画像データは、一旦ページメモリ５８に格納された
後、画像データＩ／Ｆ５６を介して同期回路５５へ送ら
れる。
【００５８】また、本デジタル複写機が、たとえば、ネ
ットワークなどを介して外部から制御される場合には、
外部通信Ｉ／Ｆ５４がコントロールパネル５３の役割を
果たす。
ットワークなどを介して外部から制御される場合には、
外部通信Ｉ／Ｆ５４がコントロールパネル５３の役割を
果たす。
【００５９】ガルバノミラー駆動回路３９ｂ，３９ｃ，
３９ｄは、主制御部５１からの指示値にしたがってガル
バノミラー３３ｂ，３３ｃ，３３ｄを駆動する回路であ
る。したがって、主制御部５１は、ガルバノミラー駆動
回路３９ｂ，３９ｃ，３９ｄを介して、ガルバノミラー
３３ｂ，３３ｃ，３３ｄの各角度を自由に制御すること
ができる。
３９ｄは、主制御部５１からの指示値にしたがってガル
バノミラー３３ｂ，３３ｃ，３３ｄを駆動する回路であ
る。したがって、主制御部５１は、ガルバノミラー駆動
回路３９ｂ，３９ｃ，３９ｄを介して、ガルバノミラー
３３ｂ，３３ｃ，３３ｄの各角度を自由に制御すること
ができる。
【００６０】ポリゴンモータドライバ３７は、先に述べ
た４つのビーム光を走査するポリゴンミラー３５を回転
させるためのポリゴンモータ３６を駆動するドライバで
ある。主制御部５１は、このポリゴンモータドライバ３
７に対し、回転開始、停止と回転数の切換えを行なうこ
とができる。回転数の切換えは、ビーム光検知装置３８
でビーム光の通過位置を確認する際に、必要に応じて、
所定の回転速度よりも回転数を落すときに用いる。
た４つのビーム光を走査するポリゴンミラー３５を回転
させるためのポリゴンモータ３６を駆動するドライバで
ある。主制御部５１は、このポリゴンモータドライバ３
７に対し、回転開始、停止と回転数の切換えを行なうこ
とができる。回転数の切換えは、ビーム光検知装置３８
でビーム光の通過位置を確認する際に、必要に応じて、
所定の回転速度よりも回転数を落すときに用いる。
【００６１】レーザドライバ３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，
３２ｄは、先に説明した同期回路５５からのビーム光の
走査に同期したレーザ変調信号にしたがってレーザ光を
発光させる以外に、主制御部５１からの強制発光信号に
より、画像データとは無関係に強制的にレーザ発振器３
１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄを発光動作させる機能を
持っている。
３２ｄは、先に説明した同期回路５５からのビーム光の
走査に同期したレーザ変調信号にしたがってレーザ光を
発光させる以外に、主制御部５１からの強制発光信号に
より、画像データとは無関係に強制的にレーザ発振器３
１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄを発光動作させる機能を
持っている。
【００６２】また、主制御部５１は、それぞれのレーザ
発振器３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄが発光動作する
パワーを、各レーザドライバ３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，
３２ｄに対して設定する。発光パワーの設定は、プロセ
ス条件の変化や、ビーム光の通過位置検知などに応じて
変更される。
発振器３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄが発光動作する
パワーを、各レーザドライバ３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，
３２ｄに対して設定する。発光パワーの設定は、プロセ
ス条件の変化や、ビーム光の通過位置検知などに応じて
変更される。
【００６３】メモリ５２は、制御に必要な情報を記憶す
るためのものである。たとえば、各ガルバノミラー３３
ｂ，３３ｃ，３３ｄの制御量、ビーム光の通過位置を検
知するための回路特性（増幅器のオフセット値）、およ
び、ビーム光の到来順序などを記憶しておくことで、電
源立ち上げ後、即座に光学系ユニット１３を画像形成が
可能な状態にすることができる。
るためのものである。たとえば、各ガルバノミラー３３
ｂ，３３ｃ，３３ｄの制御量、ビーム光の通過位置を検
知するための回路特性（増幅器のオフセット値）、およ
び、ビーム光の到来順序などを記憶しておくことで、電
源立ち上げ後、即座に光学系ユニット１３を画像形成が
可能な状態にすることができる。
【００６４】次に、ビーム光検知装置３８について説明
する。
する。
【００６５】図４は、ビーム光検知装置３８の構成とビ
ーム光の走査方向の関係を模式的に示している。４つの
半導体レーザ発振器３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄか
らのビーム光は、左から右へとポリゴンミラー３５の回
転によって走査され、ビーム光検知装置３８上を横切
る。
ーム光の走査方向の関係を模式的に示している。４つの
半導体レーザ発振器３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄか
らのビーム光は、左から右へとポリゴンミラー３５の回
転によって走査され、ビーム光検知装置３８上を横切
る。
【００６６】ビーム光検知装置３８は、縦に長い２つの
センサパターンＳ１，Ｓ２、この２つのセンサパターン
Ｓ１，Ｓ２に挟まれるように配設されたセンサパターン
Ｓ０、および、これら各センサパターンＳ１，Ｓ０，Ｓ
２を一体的に保持する保持基板３８ａから構成されてい
る。
センサパターンＳ１，Ｓ２、この２つのセンサパターン
Ｓ１，Ｓ２に挟まれるように配設されたセンサパターン
Ｓ０、および、これら各センサパターンＳ１，Ｓ０，Ｓ
２を一体的に保持する保持基板３８ａから構成されてい
る。
【００６７】センサパターンＳ１は、ビーム光の通過を
検知して、後述する積分器のリセット信号（積分開始信
号）を発生するパターン、センサパターンＳ２は、同じ
くビーム光の通過を検知して、後述するＡ／Ｄ変換器の
変換開始信号を発生するパターンである。センサパター
ンＳ０は、ビーム光の通過位置を検知するためのパター
ンであって、ビーム光の通過位置によってその出力が連
続的に変化するように構成されている。
検知して、後述する積分器のリセット信号（積分開始信
号）を発生するパターン、センサパターンＳ２は、同じ
くビーム光の通過を検知して、後述するＡ／Ｄ変換器の
変換開始信号を発生するパターンである。センサパター
ンＳ０は、ビーム光の通過位置を検知するためのパター
ンであって、ビーム光の通過位置によってその出力が連
続的に変化するように構成されている。
【００６８】センサパターンＳ０は、図に示すように、
ビーム光の通過位置が図面に対して上に行くほど、ビー
ム光がセンサパターンＳ０をよぎる距離が長くなる形状
となっている。すなわち、図に示したビーム光の通過位
置Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３を例にすると、それぞれのビーム光
がセンサパターンＳ０をよぎる距離はＤ１，Ｄ２，Ｄ３
となり、Ｄ１＞Ｄ２＞Ｄ３なる関係になっている。した
がって、ビーム光の通過する位置によって、センサパタ
ーンＳ０の信号出力時間は変化することになる。
ビーム光の通過位置が図面に対して上に行くほど、ビー
ム光がセンサパターンＳ０をよぎる距離が長くなる形状
となっている。すなわち、図に示したビーム光の通過位
置Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３を例にすると、それぞれのビーム光
がセンサパターンＳ０をよぎる距離はＤ１，Ｄ２，Ｄ３
となり、Ｄ１＞Ｄ２＞Ｄ３なる関係になっている。した
がって、ビーム光の通過する位置によって、センサパタ
ーンＳ０の信号出力時間は変化することになる。
【００６９】なお、これらのセンサパターンＳ１，Ｓ
０，Ｓ２は、たとえば、フォトダイオードによって構成
されていて、保持基板３８ａ上に一体的に構成されてい
る。
０，Ｓ２は、たとえば、フォトダイオードによって構成
されていて、保持基板３８ａ上に一体的に構成されてい
る。
【００７０】図５は、図４に示したセンサパターンＳ
１，Ｓ０，Ｓ２からの出力を基に、どのようにビーム光
の通過位置情報を抽出し、ガルバノミラーを制御するか
を説明するための図である。
１，Ｓ０，Ｓ２からの出力を基に、どのようにビーム光
の通過位置情報を抽出し、ガルバノミラーを制御するか
を説明するための図である。
【００７１】先に説明したように、センサパターンＳ
１，Ｓ０，Ｓ２からは、ビーム光が通過したことを示す
パルス状の信号が出力される。また、センサパターンＳ
０からは、ビーム光の通過位置に応じて出力時間が変化
する信号が出力される。
１，Ｓ０，Ｓ２からは、ビーム光が通過したことを示す
パルス状の信号が出力される。また、センサパターンＳ
０からは、ビーム光の通過位置に応じて出力時間が変化
する信号が出力される。
【００７２】センサパターンＳ０の出力信号は、差動増
幅器６０の正（＋）の入力端子に入力される。一方、差
動増幅器６０の負（−）の入力端子には、Ｄ／Ａ変換器
６１の出力が入力される。また、主制御部（ＣＰＵ）５
１から、差動増幅器６０の増幅率が設定できる構成とな
っている。
幅器６０の正（＋）の入力端子に入力される。一方、差
動増幅器６０の負（−）の入力端子には、Ｄ／Ａ変換器
６１の出力が入力される。また、主制御部（ＣＰＵ）５
１から、差動増幅器６０の増幅率が設定できる構成とな
っている。
【００７３】Ｄ／Ａ変換器６１の入力端には、主制御部
５１からのデジタルデータが入力され、主制御部５１か
らのデータにしたがってアナログ信号を出力する。すな
わち、差動増幅器５１は、センサパターンＳ０の出力と
主制御部５１からの設定値との差を、主制御部５１から
設定された増幅率で増幅する構成となっている。
５１からのデジタルデータが入力され、主制御部５１か
らのデータにしたがってアナログ信号を出力する。すな
わち、差動増幅器５１は、センサパターンＳ０の出力と
主制御部５１からの設定値との差を、主制御部５１から
設定された増幅率で増幅する構成となっている。
【００７４】差動増幅器６０の出力信号は、積分手段と
しての積分器４２に入力されて積分される。また、セン
サパターンＳ１から出力されるパルス状の信号も、積分
器４２に入力されている。センサパターンＳ１からのパ
ルス状信号は、積分器４２をリセットすると同時に新た
な積分動作を開始させるリセット信号（積分開始信号）
として用いられる。したがって、ビーム光がセンサパタ
ーンＳ１上を通過すると、積分器４２はリセットされ、
新たにセンサパターンＳ０の出力信号を積分し始めるこ
とになる。
しての積分器４２に入力されて積分される。また、セン
サパターンＳ１から出力されるパルス状の信号も、積分
器４２に入力されている。センサパターンＳ１からのパ
ルス状信号は、積分器４２をリセットすると同時に新た
な積分動作を開始させるリセット信号（積分開始信号）
として用いられる。したがって、ビーム光がセンサパタ
ーンＳ１上を通過すると、積分器４２はリセットされ、
新たにセンサパターンＳ０の出力信号を積分し始めるこ
とになる。
【００７５】積分器４２の出力信号は、変換手段として
のＡ／Ｄ変換器４３に入力される。センサパターンＳ２
から出力されるパルス状の信号も、Ａ／Ｄ変換器４３に
入力されており、Ａ／Ｄ変換器４３は、このセンサパタ
ーンＳ２から出力されるパルス状の信号をトリガに、積
分器４２の出力信号をＡ／Ｄ変換する。
のＡ／Ｄ変換器４３に入力される。センサパターンＳ２
から出力されるパルス状の信号も、Ａ／Ｄ変換器４３に
入力されており、Ａ／Ｄ変換器４３は、このセンサパタ
ーンＳ２から出力されるパルス状の信号をトリガに、積
分器４２の出力信号をＡ／Ｄ変換する。
【００７６】すなわち、Ａ／Ｄ変換器４３は、ビーム光
がセンサパターンＳ０を通過し、センサパターンＳ２上
に達した時点の積分器４２の出力信号をデジタルデータ
に変換し、主制御部５１に送る。また、Ａ／Ｄ変換器４
３は、Ａ／Ｄ変換が終了すると、主制御部５１に対し
て、Ａ／Ｄ変換が終了したことを示す割込み信号（ＩＮ
Ｔ）を出力する。
がセンサパターンＳ０を通過し、センサパターンＳ２上
に達した時点の積分器４２の出力信号をデジタルデータ
に変換し、主制御部５１に送る。また、Ａ／Ｄ変換器４
３は、Ａ／Ｄ変換が終了すると、主制御部５１に対し
て、Ａ／Ｄ変換が終了したことを示す割込み信号（ＩＮ
Ｔ）を出力する。
【００７７】主制御部５１は、Ａ／Ｄ変換器４３からの
割込み信号を受信した後、Ａ／Ｄ変換器４３の出力を読
込むことにより、最新のビーム光通過位置情報を得る。
割込み信号を受信した後、Ａ／Ｄ変換器４３の出力を読
込むことにより、最新のビーム光通過位置情報を得る。
【００７８】そして、主制御部５１は、このようにして
得たビーム光通過位置情報に基づき、ガルバノミラー３
３ｂ，３３ｃ，３３ｄの制御量を演算し、その演算結果
を必要に応じてメモリ５２に記憶するとともに、ガルバ
ノミラー駆動回路３９ｂ，３９ｃ，３９ｄへ送出する。
得たビーム光通過位置情報に基づき、ガルバノミラー３
３ｂ，３３ｃ，３３ｄの制御量を演算し、その演算結果
を必要に応じてメモリ５２に記憶するとともに、ガルバ
ノミラー駆動回路３９ｂ，３９ｃ，３９ｄへ送出する。
【００７９】ガルバノミラー駆動回路３９ｂ，３９ｃ，
３９ｄには、図５に示したように、上記演算結果のデー
タを保持するためのラッチ４４ｂ，４４ｃ，４４ｄが設
けられており、主制御部５１が一旦データを書込むと、
次にデータを更新するまでは、その値を保持するように
なっている。
３９ｄには、図５に示したように、上記演算結果のデー
タを保持するためのラッチ４４ｂ，４４ｃ，４４ｄが設
けられており、主制御部５１が一旦データを書込むと、
次にデータを更新するまでは、その値を保持するように
なっている。
【００８０】ラッチ４４ｂ，４４ｃ，４４ｄに保持され
ているデータは、Ｄ／Ａ変換器４５ｂ，４５ｃ，４５ｄ
によりアナログ信号（電圧）に変換され、ガルバノミラ
ー３３ｂ，３３ｃ，３３ｄを駆動するためのドライバ４
６ｂ，４６ｃ，４６ｄに入力される。ドライバ４６ｂ，
４６ｃ，４６ｄは、Ｄ／Ａ変換器４５ｂ，４５ｃ，４５
ｄから入力されたアナログ信号（電圧）にしたがってガ
ルバノミラー３３ｂ，３３ｃ，３３ｄを駆動制御する。
ているデータは、Ｄ／Ａ変換器４５ｂ，４５ｃ，４５ｄ
によりアナログ信号（電圧）に変換され、ガルバノミラ
ー３３ｂ，３３ｃ，３３ｄを駆動するためのドライバ４
６ｂ，４６ｃ，４６ｄに入力される。ドライバ４６ｂ，
４６ｃ，４６ｄは、Ｄ／Ａ変換器４５ｂ，４５ｃ，４５
ｄから入力されたアナログ信号（電圧）にしたがってガ
ルバノミラー３３ｂ，３３ｃ，３３ｄを駆動制御する。
【００８１】したがって、本実施の形態では、通過位置
を制御したいビーム光を発生する半導体レーザ発振器を
発光動作させ、Ａ／Ｄ変換器４３の出力を読込み、その
読込んだ情報に基づきガルバノミラー３３ｂ，３３ｃ，
３３ｄを制御することで、ビーム光の通過位置を制御す
ることができる。
を制御したいビーム光を発生する半導体レーザ発振器を
発光動作させ、Ａ／Ｄ変換器４３の出力を読込み、その
読込んだ情報に基づきガルバノミラー３３ｂ，３３ｃ，
３３ｄを制御することで、ビーム光の通過位置を制御す
ることができる。
【００８２】次に、図６を用いて、ビーム光が通過位置
Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３を通過した場合の各部の動作、すなわ
ち、ビーム光通過位置情報が抽出される様子を説明す
る。なお、図６は、説明を簡単にするために、先に述べ
たＤ／Ａ変換器６１への設定値を「０」とした場合につ
いての説明図である。Ｄ／Ａ変換器６１への設定値を
「０」にすることで、差動増幅器６０は単純な増幅器と
同等に扱うことができる。Ｄ／Ａ変換器６１の役割につ
いては後に説明する。
Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３を通過した場合の各部の動作、すなわ
ち、ビーム光通過位置情報が抽出される様子を説明す
る。なお、図６は、説明を簡単にするために、先に述べ
たＤ／Ａ変換器６１への設定値を「０」とした場合につ
いての説明図である。Ｄ／Ａ変換器６１への設定値を
「０」にすることで、差動増幅器６０は単純な増幅器と
同等に扱うことができる。Ｄ／Ａ変換器６１の役割につ
いては後に説明する。
【００８３】ビーム光がセンサパターンＳ１上を通過す
ると、センサパターンＳ１はパルス状の信号を出力し、
図に示すように、積分器４２はリセットされ、その出力
が「０」になる。ビーム光がセンサパターンＳ０上に到
達すると、センサパターンＳ０から出力が出始め、これ
を増幅した信号が差動増幅器６０から出力される。
ると、センサパターンＳ１はパルス状の信号を出力し、
図に示すように、積分器４２はリセットされ、その出力
が「０」になる。ビーム光がセンサパターンＳ０上に到
達すると、センサパターンＳ０から出力が出始め、これ
を増幅した信号が差動増幅器６０から出力される。
【００８４】第１のビーム光の場合は、図に示すよう
に、Ｔ１時間の間、差動増幅器６０の出力は大きくな
る。積分器４２は、この出力を積分して、出力電圧Ｖ１
を出力する。第２のビーム光の場合は、Ｔ２時間の間、
差動増幅器６０の出力は大きくなり、第３のビーム光の
場合は、Ｔ３時間の間、差動増幅器６０の出力は大きく
なる。したがって、第２、第３のビーム光に対する積分
器４２の出力電圧は、積分時間に応じたＶ２，Ｖ３とな
る。
に、Ｔ１時間の間、差動増幅器６０の出力は大きくな
る。積分器４２は、この出力を積分して、出力電圧Ｖ１
を出力する。第２のビーム光の場合は、Ｔ２時間の間、
差動増幅器６０の出力は大きくなり、第３のビーム光の
場合は、Ｔ３時間の間、差動増幅器６０の出力は大きく
なる。したがって、第２、第３のビーム光に対する積分
器４２の出力電圧は、積分時間に応じたＶ２，Ｖ３とな
る。
【００８５】先に述べたように、それぞれのビーム光が
センサパターンＳ０上を通過する時間には、ビーム光が
センサパターンＳ０上を通過する位置（Ｐ１，Ｐ２，Ｐ
３）に応じて差が生じ、Ｔ１＞Ｔ２＞Ｔ３となるので、
それぞれのビーム光に対応する積分器４２の出力電圧に
は差が生じ、Ｖ１＞Ｖ２＞Ｖ３なる関係が成り立つ。
センサパターンＳ０上を通過する時間には、ビーム光が
センサパターンＳ０上を通過する位置（Ｐ１，Ｐ２，Ｐ
３）に応じて差が生じ、Ｔ１＞Ｔ２＞Ｔ３となるので、
それぞれのビーム光に対応する積分器４２の出力電圧に
は差が生じ、Ｖ１＞Ｖ２＞Ｖ３なる関係が成り立つ。
【００８６】さらに、ビーム光がセンサパターンＳ２上
を通過すると、センサパターンＳ２からパルス状の信号
が出力され、Ａ／Ｄ変換器４３は、それぞれの電圧値Ｖ
１，Ｖ２，Ｖ３をＡ／Ｄ変換する。
を通過すると、センサパターンＳ２からパルス状の信号
が出力され、Ａ／Ｄ変換器４３は、それぞれの電圧値Ｖ
１，Ｖ２，Ｖ３をＡ／Ｄ変換する。
【００８７】主制御部５１は、Ａ／Ｄ変換器４３から出
力されるデジタル値を読取ることで、ビーム光がセンサ
パターンＳ０のどの辺りを通過しているのかを検知する
ことができる。
力されるデジタル値を読取ることで、ビーム光がセンサ
パターンＳ０のどの辺りを通過しているのかを検知する
ことができる。
【００８８】なお、図６（ａ）はビーム光が位置Ｐ１を
通過したときの動作、図６（ｂ）はビーム光が位置Ｐ２
を通過したときの動作、図６（ｃ）はビーム光が位置Ｐ
３を通過したときの動作をそれぞれ示している。
通過したときの動作、図６（ｂ）はビーム光が位置Ｐ２
を通過したときの動作、図６（ｃ）はビーム光が位置Ｐ
３を通過したときの動作をそれぞれ示している。
【００８９】図７は、上記のようにして得られた、ビー
ム光通過位置と積分器４２の出力電圧との関係を示した
グラフである。横軸にビーム光の通過位置、縦軸に積分
器４２の出力電圧を示した。
ム光通過位置と積分器４２の出力電圧との関係を示した
グラフである。横軸にビーム光の通過位置、縦軸に積分
器４２の出力電圧を示した。
【００９０】ＡおよびＣのエリアは、ビーム光がセンサ
パターンＳ０上を通過しない（上方または下方に外れて
通過する）エリアである。センサパターンＳ０は信号を
出力しないので、積分器４２の出力は「０」となる。
パターンＳ０上を通過しない（上方または下方に外れて
通過する）エリアである。センサパターンＳ０は信号を
出力しないので、積分器４２の出力は「０」となる。
【００９１】Ｂのエリアは、ビーム光がセンサパターン
Ｓ０上を通過するエリアである。ビーム光がセンサパタ
ーンＳ０のエッジ部を通過する場合を除き、センサパタ
ーンＳ０上を確実に通過する際には、ビーム光の通過位
置に比例して、積分器４２の出力が変化することがわか
る。
Ｓ０上を通過するエリアである。ビーム光がセンサパタ
ーンＳ０のエッジ部を通過する場合を除き、センサパタ
ーンＳ０上を確実に通過する際には、ビーム光の通過位
置に比例して、積分器４２の出力が変化することがわか
る。
【００９２】したがって、先にも述べたように、主制御
部５１は、この積分器４２の出力をＡ／Ｄ変換した結果
を読取ることにより、ビーム光がセンサパターンＳ０の
どの部分を通過しているかを検知することができる。
部５１は、この積分器４２の出力をＡ／Ｄ変換した結果
を読取ることにより、ビーム光がセンサパターンＳ０の
どの部分を通過しているかを検知することができる。
【００９３】上述したように、主制御部５１は、積分器
４２の出力のＡ／Ｄ変換結果から、ビーム光の通過位置
を検知できる訳であるが、高い検知精度を得るために
は、Ａ／Ｄ変換器４３に高い分解能が要求される。たと
えば、エリアＢの距離が２０４８μｍであるとし、Ｖ
ｕ，Ｖｄの電位差を８ビットのＡ／Ｄ変換器でＡ／Ｄ変
換する場合、その分解能（検知精度）は８μｍ（＝２０
４８／２５６）となる。さらに、検知精度を上げるため
に、１２ビットのＡ／Ｄ変換器を用いたとすると、その
分解能（検知精度）は０．５μｍ（＝２０４６／４０９
６）に上がる。しかし、１２ビットのＡ／Ｄ変換器を用
いると、極端にコストが上昇してしまう。
４２の出力のＡ／Ｄ変換結果から、ビーム光の通過位置
を検知できる訳であるが、高い検知精度を得るために
は、Ａ／Ｄ変換器４３に高い分解能が要求される。たと
えば、エリアＢの距離が２０４８μｍであるとし、Ｖ
ｕ，Ｖｄの電位差を８ビットのＡ／Ｄ変換器でＡ／Ｄ変
換する場合、その分解能（検知精度）は８μｍ（＝２０
４８／２５６）となる。さらに、検知精度を上げるため
に、１２ビットのＡ／Ｄ変換器を用いたとすると、その
分解能（検知精度）は０．５μｍ（＝２０４６／４０９
６）に上がる。しかし、１２ビットのＡ／Ｄ変換器を用
いると、極端にコストが上昇してしまう。
【００９４】また、たとえば、通過位置Ｐ１，Ｐ２，Ｐ
３の部分のみを精度良く検知したい場合を考えると、エ
リアＢの全域（２０４８μｍ）を高い分解能で検知する
のは効率が悪い。
３の部分のみを精度良く検知したい場合を考えると、エ
リアＢの全域（２０４８μｍ）を高い分解能で検知する
のは効率が悪い。
【００９５】そこで、Ｄ／Ａ変換器と差動増幅器とを用
いて、必要な部分を高い分解能でビーム光の通過位置を
検知する方法について、図８を用いて説明する。
いて、必要な部分を高い分解能でビーム光の通過位置を
検知する方法について、図８を用いて説明する。
【００９６】まず、主制御部５１は、図５に示したＤ／
Ａ変換器６１に対し、Ｖ３に相当する電圧がＤ／Ａ変換
器６１から出力されるよう、デジタルデータを出力す
る。Ｄ／Ａ変換器６１の出力は、差動増幅器６０の負入
力端子に入力されるので、センサパターンＳ０の出力か
らＤ／Ａ変換器６１の出力電圧値が引かれる。
Ａ変換器６１に対し、Ｖ３に相当する電圧がＤ／Ａ変換
器６１から出力されるよう、デジタルデータを出力す
る。Ｄ／Ａ変換器６１の出力は、差動増幅器６０の負入
力端子に入力されるので、センサパターンＳ０の出力か
らＤ／Ａ変換器６１の出力電圧値が引かれる。
【００９７】ビーム光が通過位置Ｐ３を通過した場合、
積分器４２の出力は「０」になる。また、ビーム光が通
過位置Ｐ１を通過した場合には、出力Ｖ１はＶ３分低下
し、Ｖ１′となる。すなわち、積分器４２の出力全体が
下方（低出力側）にＶ３分シフトすることになる
（（Ａ）→（Ｂ））。
積分器４２の出力は「０」になる。また、ビーム光が通
過位置Ｐ１を通過した場合には、出力Ｖ１はＶ３分低下
し、Ｖ１′となる。すなわち、積分器４２の出力全体が
下方（低出力側）にＶ３分シフトすることになる
（（Ａ）→（Ｂ））。
【００９８】次に、差動増幅器６０の増幅率を上げる。
たとえば、通過位置Ｐ１のときの出力電圧がＶｕとなる
ように増幅率を上げる（（Ｂ）→（Ｃ））。
たとえば、通過位置Ｐ１のときの出力電圧がＶｕとなる
ように増幅率を上げる（（Ｂ）→（Ｃ））。
【００９９】こうすることにより、ビーム光の通過位置
がＰ１からＰ３まで変化した場合の電圧変化（レンジ）
を大きくすることができ、Ａ／Ｄ変換器４３の分解能を
上げなくても、検知分解能（精度）を向上させることが
可能となる。
がＰ１からＰ３まで変化した場合の電圧変化（レンジ）
を大きくすることができ、Ａ／Ｄ変換器４３の分解能を
上げなくても、検知分解能（精度）を向上させることが
可能となる。
【０１００】以上、ビーム光の通過位置を広いレンジで
検知する原理、および、検知精度を向上させる原理を説
明した。
検知する原理、および、検知精度を向上させる原理を説
明した。
【０１０１】次に、このような原理を用いた従来のビー
ム光通過位置検知方法の改良例について説明する。
ム光通過位置検知方法の改良例について説明する。
【０１０２】図９は、特開平１０−７６７０４号公報に
開示されたビーム光検知装置３８のセンサパターンに対
し、これまで説明した本発明の原理を用い、改良した例
を示している。すなわち、ビーム光検知装置３８は、縦
に長い２つのセンサパターンＳ１，Ｓ２、この２つのセ
ンサパターンＳ１，Ｓ２に挟まれるように配設された７
つのセンサパターンＳＡ，ＳＢ，ＳＣ，ＳＤ，ＳＥ，Ｓ
Ｆ，ＳＧ、および、これら各センサパターンＳ１，Ｓ
２，ＳＡ，ＳＢ，ＳＣ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＦ，ＳＧ，ＳＨ
を一体的に保持する保持基板３８ａから構成されてい
る。なお、センサパターンＳ１，Ｓ２，ＳＡ〜ＳＧは、
たとえば、フォトダイオードによって構成されている。
開示されたビーム光検知装置３８のセンサパターンに対
し、これまで説明した本発明の原理を用い、改良した例
を示している。すなわち、ビーム光検知装置３８は、縦
に長い２つのセンサパターンＳ１，Ｓ２、この２つのセ
ンサパターンＳ１，Ｓ２に挟まれるように配設された７
つのセンサパターンＳＡ，ＳＢ，ＳＣ，ＳＤ，ＳＥ，Ｓ
Ｆ，ＳＧ、および、これら各センサパターンＳ１，Ｓ
２，ＳＡ，ＳＢ，ＳＣ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＦ，ＳＧ，ＳＨ
を一体的に保持する保持基板３８ａから構成されてい
る。なお、センサパターンＳ１，Ｓ２，ＳＡ〜ＳＧは、
たとえば、フォトダイオードによって構成されている。
【０１０３】センサパターンＳ１は、ビーム光の通過を
検知して、積分器４２のリセット信号（積分開始信号）
を発生するパターン、センサパターンＳ２は、同じくビ
ーム光の通過を検知して、Ａ／Ｄ変換器４３の変換開始
信号を発生するパターンである。センサパターンＳＡ〜
ＳＧは、ビーム光の通過位置を検知するパターンであ
る。
検知して、積分器４２のリセット信号（積分開始信号）
を発生するパターン、センサパターンＳ２は、同じくビ
ーム光の通過を検知して、Ａ／Ｄ変換器４３の変換開始
信号を発生するパターンである。センサパターンＳＡ〜
ＳＧは、ビーム光の通過位置を検知するパターンであ
る。
【０１０４】センサパターンＳ１，Ｓ２は、図９に示す
ように、ガルバノミラー３３ｂ〜３３ｄの位置に関係な
く、ポリゴンミラー３５によって走査されるビーム光ａ
〜ｄが必ず横切るように、ビーム光の走査方向に対して
直角方向に長く形成されている。たとえば、本例では、
ビーム光の走査方向の幅Ｗ１，Ｗ３が２００μｍである
のに対し、ビーム光の走査方向に直角な方向の長さＬ１
は２０００μｍである。
ように、ガルバノミラー３３ｂ〜３３ｄの位置に関係な
く、ポリゴンミラー３５によって走査されるビーム光ａ
〜ｄが必ず横切るように、ビーム光の走査方向に対して
直角方向に長く形成されている。たとえば、本例では、
ビーム光の走査方向の幅Ｗ１，Ｗ３が２００μｍである
のに対し、ビーム光の走査方向に直角な方向の長さＬ１
は２０００μｍである。
【０１０５】センサパターンＳＡ〜ＳＧは、図９に示す
ように、センサパターンＳ１とＳ２の間で、ビーム光の
走査方向（主走査方向）と直交する方向に積み重なるよ
うに配設されていて、その配設長さはセンサパターンＳ
１，Ｓ２の長さＬ１と同一となっている。なお、センサ
パターンＳＡ〜ＳＧのビーム光の走査方向の幅Ｗ２は、
たとえば、６００μｍである。
ように、センサパターンＳ１とＳ２の間で、ビーム光の
走査方向（主走査方向）と直交する方向に積み重なるよ
うに配設されていて、その配設長さはセンサパターンＳ
１，Ｓ２の長さＬ１と同一となっている。なお、センサ
パターンＳＡ〜ＳＧのビーム光の走査方向の幅Ｗ２は、
たとえば、６００μｍである。
【０１０６】そして、図面に対して上側のセンサパター
ンＳＡの形状は、主走査方向（ビーム光の走査方向）の
寸法が図面に対して上方が大きく、センサ中央部に近づ
くほど小さくなる台形形状となっている。また、反対
に、図面に対して下側のセンサパターンＳＧは、センサ
中央部に近いほど主走査方向の寸法が小さく、図面に対
して下方に行くにしたがって大きくなる台形形状となっ
ている。
ンＳＡの形状は、主走査方向（ビーム光の走査方向）の
寸法が図面に対して上方が大きく、センサ中央部に近づ
くほど小さくなる台形形状となっている。また、反対
に、図面に対して下側のセンサパターンＳＧは、センサ
中央部に近いほど主走査方向の寸法が小さく、図面に対
して下方に行くにしたがって大きくなる台形形状となっ
ている。
【０１０７】このような構成により、ビーム光の通過位
置変動に対して、それぞれのセンサパターンがビーム光
の通過を検知する範囲においては、センサパターンＳＡ
は、ビーム光の通過位置が下方になるほどその信号出力
時間は減少し、反対に、センサパターンＳＧは、ビーム
光の通過位置が下方になるほどその信号出力時間は長く
なる。
置変動に対して、それぞれのセンサパターンがビーム光
の通過を検知する範囲においては、センサパターンＳＡ
は、ビーム光の通過位置が下方になるほどその信号出力
時間は減少し、反対に、センサパターンＳＧは、ビーム
光の通過位置が下方になるほどその信号出力時間は長く
なる。
【０１０８】したがって、ビーム光の通過位置が、セン
サパターンＳＢ，ＳＣ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＦ付近から大き
く外れた場合でも、どの程度外れているかを容易に検知
できるようになる。
サパターンＳＢ，ＳＣ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＦ付近から大き
く外れた場合でも、どの程度外れているかを容易に検知
できるようになる。
【０１０９】次に、ビーム光検知装置３８のビーム光走
査方向に対する傾き検知に本発明の原理を応用した例を
説明する。
査方向に対する傾き検知に本発明の原理を応用した例を
説明する。
【０１１０】図１０は、特開平９−３１４９０１号公報
に開示されたビーム光検知装置３８のセンサパターンに
対し、これまで説明した本発明の原理を用い、改良した
例を示している。すなわち、ビーム光検知装置３８は、
保持基板３８ａ上に、図面に対して左側から順次配設さ
れたセンサパターンＳ７ａ，Ｓ７ｂ、Ｓ１、Ｓ３、Ｓ
Ｈ、ＳＡ，ＳＢ１〜ＳＦ１，ＳＢ２〜ＳＦ２，ＳＧ、Ｓ
４、Ｓ５、Ｓ６、Ｓ８ａ，Ｓ８ｂによって構成されてい
る。
に開示されたビーム光検知装置３８のセンサパターンに
対し、これまで説明した本発明の原理を用い、改良した
例を示している。すなわち、ビーム光検知装置３８は、
保持基板３８ａ上に、図面に対して左側から順次配設さ
れたセンサパターンＳ７ａ，Ｓ７ｂ、Ｓ１、Ｓ３、Ｓ
Ｈ、ＳＡ，ＳＢ１〜ＳＦ１，ＳＢ２〜ＳＦ２，ＳＧ、Ｓ
４、Ｓ５、Ｓ６、Ｓ８ａ，Ｓ８ｂによって構成されてい
る。
【０１１１】センサパターンＳＡ，ＳＢ１〜ＳＦ１，Ｓ
Ｂ２〜ＳＦ２，ＳＧは、ビーム光の通過位置を検知する
ためのパターンであって、センサパターンＳＢ１〜ＳＦ
１は第１の解像度（たとえば、６００ｄｐｉ）用、セン
サパターンＳＢ２〜ＳＦ２は第２の解像度（たとえば、
４００ｄｐｉ）用である。
Ｂ２〜ＳＦ２，ＳＧは、ビーム光の通過位置を検知する
ためのパターンであって、センサパターンＳＢ１〜ＳＦ
１は第１の解像度（たとえば、６００ｄｐｉ）用、セン
サパターンＳＢ２〜ＳＦ２は第２の解像度（たとえば、
４００ｄｐｉ）用である。
【０１１２】センサパターンＳＨは、ビーム光のパワー
を検知するためのパターンである。センサパターンＳ
４，Ｓ５，Ｓ６は、ビーム光の通過タイミングを検知す
るためのパターンである。なお、センサパターンＳ６
は、前記センサパターンＳ２の機能をも兼ねている。
を検知するためのパターンである。センサパターンＳ
４，Ｓ５，Ｓ６は、ビーム光の通過タイミングを検知す
るためのパターンである。なお、センサパターンＳ６
は、前記センサパターンＳ２の機能をも兼ねている。
【０１１３】センサパターンＳ７ａ，Ｓ７ｂ、Ｓ８ａ，
Ｓ８ｂは、それぞれ傾きを検知するためのパターンであ
る。センサパターンＳ７ａとＳ７ｂおよびＳ８ａとＳ８
ｂは、それぞれ上下に配設されてペアを組んでいて、セ
ンサパターンＳ７ａとＳ７ｂ、Ｓ８ａとＳ８ｂの中心位
置は同一直線上である。
Ｓ８ｂは、それぞれ傾きを検知するためのパターンであ
る。センサパターンＳ７ａとＳ７ｂおよびＳ８ａとＳ８
ｂは、それぞれ上下に配設されてペアを組んでいて、セ
ンサパターンＳ７ａとＳ７ｂ、Ｓ８ａとＳ８ｂの中心位
置は同一直線上である。
【０１１４】そして、センサパターンＳ７ａ，Ｓ７ｂ、
Ｓ８ａ，Ｓ８ｂに対して本発明の原理が適用されてい
て、センサパターンＳ７ａ，Ｓ７ｂ、センサパターンＳ
８ａ，Ｓ８ｂのそれぞれ上下の対に、逆のテーパが付け
られている。
Ｓ８ａ，Ｓ８ｂに対して本発明の原理が適用されてい
て、センサパターンＳ７ａ，Ｓ７ｂ、センサパターンＳ
８ａ，Ｓ８ｂのそれぞれ上下の対に、逆のテーパが付け
られている。
【０１１５】このような構成において、センサパターン
Ｓ７ａ，Ｓ７ｂの出力比較、および、センサパターンＳ
８ａ，Ｓ８ｂの出力比較を行なうことにより、ビーム光
の走査方向に対するビーム光検知装置３８の取付け傾き
を検知するものである。
Ｓ７ａ，Ｓ７ｂの出力比較、および、センサパターンＳ
８ａ，Ｓ８ｂの出力比較を行なうことにより、ビーム光
の走査方向に対するビーム光検知装置３８の取付け傾き
を検知するものである。
【０１１６】このような構成であれば、それぞれセンサ
パターンＳ７ａ，Ｓ７ｂ、Ｓ８ａ，Ｓ８ｂの出力が広範
囲のビーム光の通過位置変化に対して連続的に変化する
ので、広いレンジで傾きが検知できる。
パターンＳ７ａ，Ｓ７ｂ、Ｓ８ａ，Ｓ８ｂの出力が広範
囲のビーム光の通過位置変化に対して連続的に変化する
ので、広いレンジで傾きが検知できる。
【０１１７】図１１は、図１０よりも傾きに対する感度
を上げたものである。センサパターンＳ７ａ，Ｓ７ｂ、
センサパターンＳ８ａ，Ｓ８ｂのそれぞれ上下の対に、
逆のテーパを付けているが、その範囲が図１０のものよ
りも少ない（テーパの傾きがきつい）分、傾き検知に対
する感度が上がる。通常の取付け調整においては、この
構成で充分なレンジと感度が得られる。
を上げたものである。センサパターンＳ７ａ，Ｓ７ｂ、
センサパターンＳ８ａ，Ｓ８ｂのそれぞれ上下の対に、
逆のテーパを付けているが、その範囲が図１０のものよ
りも少ない（テーパの傾きがきつい）分、傾き検知に対
する感度が上がる。通常の取付け調整においては、この
構成で充分なレンジと感度が得られる。
【０１１８】なお、図１０、図１１の傾き検知用のセン
サパターンは、傾き検知のみならず、先に図９で説明し
たような副走査方向のビーム光通過位置検知にも用いる
ことができる。図１０、図１１には、先に説明した積分
器のリセット用センサパターンやＡ／Ｄ変換開始用の信
号パルスを出力するセンサパターンが記載されていな
い。図１２は、これらの機能も盛り込んだセンサパター
ンを有するビーム光検知装置３８の例を示している。以
下、このビーム光検知装置３８について説明する。
サパターンは、傾き検知のみならず、先に図９で説明し
たような副走査方向のビーム光通過位置検知にも用いる
ことができる。図１０、図１１には、先に説明した積分
器のリセット用センサパターンやＡ／Ｄ変換開始用の信
号パルスを出力するセンサパターンが記載されていな
い。図１２は、これらの機能も盛り込んだセンサパター
ンを有するビーム光検知装置３８の例を示している。以
下、このビーム光検知装置３８について説明する。
【０１１９】図１２のＡおよびＢのパターンをビーム光
が通過することにより、タイミングの異なる２つのパル
ス信号が出力される。この２つのパルス信号から、積分
器のリセット用信号（センサパターンＳ１によるパルス
信号に相当）を作成する。すなわち、センサパターンＡ
の出力で立ち上がり、センサパターンＢの出力で立ち下
がるような信号をロジック回路で作成し、積分器にリセ
ット信号として入力する。
が通過することにより、タイミングの異なる２つのパル
ス信号が出力される。この２つのパルス信号から、積分
器のリセット用信号（センサパターンＳ１によるパルス
信号に相当）を作成する。すなわち、センサパターンＡ
の出力で立ち上がり、センサパターンＢの出力で立ち下
がるような信号をロジック回路で作成し、積分器にリセ
ット信号として入力する。
【０１２０】このように、２つのセンサパターンからリ
セット信号を生成する理由は、積分器のリセットには比
較的長い（Ａ，Ｂ間をビーム光が通過する程度以上）時
間を要すること、通常、センサパターンの信号出力は、
立ち上がりが急峻で、立ち下がりはなだらかであり、正
確なタイミングを得ようとする場合、センサパターンの
出力の立ち上がりタイミングを用いる方が望ましいから
である。
セット信号を生成する理由は、積分器のリセットには比
較的長い（Ａ，Ｂ間をビーム光が通過する程度以上）時
間を要すること、通常、センサパターンの信号出力は、
立ち上がりが急峻で、立ち下がりはなだらかであり、正
確なタイミングを得ようとする場合、センサパターンの
出力の立ち上がりタイミングを用いる方が望ましいから
である。
【０１２１】センサパターンＥは、Ａ／Ｄ変換開始タイ
ミングを出力するパターンである（センサパターンＳ２
の出力に相当）。したがって、センサパターンＡとＢ
が、先に原理を説明したセンサパターンＳ１に相当し、
センサパターンＥがセンサパターンＳ２に相当する。そ
して、センサパターンＣとＤが、先に原理を説明したセ
ンサパターンＳ０と、図１０、図１１におけるセンサパ
ターンＳ７ａ，Ｓ７ｂに相当する。
ミングを出力するパターンである（センサパターンＳ２
の出力に相当）。したがって、センサパターンＡとＢ
が、先に原理を説明したセンサパターンＳ１に相当し、
センサパターンＥがセンサパターンＳ２に相当する。そ
して、センサパターンＣとＤが、先に原理を説明したセ
ンサパターンＳ０と、図１０、図１１におけるセンサパ
ターンＳ７ａ，Ｓ７ｂに相当する。
【０１２２】また、同様にして、センサパターンＫとＭ
がセンサパターンＡとＢに、すなわち、先に原理を説明
したセンサパターンＳ１に相当し、センサパターンＰが
センサパターンＳ２に相当する。そして、センサパター
ンＯとＮが先に原理を説明したセンサパターンＳ０と、
図１０、図１１におけるセンサパターンＳ８ａ，Ｓ８ｂ
に相当する。
がセンサパターンＡとＢに、すなわち、先に原理を説明
したセンサパターンＳ１に相当し、センサパターンＰが
センサパターンＳ２に相当する。そして、センサパター
ンＯとＮが先に原理を説明したセンサパターンＳ０と、
図１０、図１１におけるセンサパターンＳ８ａ，Ｓ８ｂ
に相当する。
【０１２３】さらに、パワー検知を行なう際には、同様
に、センサパターンＥとＫがセンサパターンＡとＢに、
つまり、先に原理を説明したセンサパターンＳ１に相当
し、センサパターンＭがセンサパターンＳ２に相当す
る。そして、パワーを検知するセンサパターンＬが先に
原理を説明したセンサパターンＳ０に相当する。
に、センサパターンＥとＫがセンサパターンＡとＢに、
つまり、先に原理を説明したセンサパターンＳ１に相当
し、センサパターンＭがセンサパターンＳ２に相当す
る。そして、パワーを検知するセンサパターンＬが先に
原理を説明したセンサパターンＳ０に相当する。
【０１２４】図１３は、図１２に示したビーム光検知装
置３８を用いたときのビーム光通過位置制御を説明する
図であり、図３のブロック図のうちのビーム光制御に関
連する部分を抜き出して詳細に示したものである。
置３８を用いたときのビーム光通過位置制御を説明する
図であり、図３のブロック図のうちのビーム光制御に関
連する部分を抜き出して詳細に示したものである。
【０１２５】先に述べたように、図１２に示したビーム
光検知装置３８を用いると、レンジの広い傾き検知機
能、おおざっぱなビーム光通過位置検知機能、精密なビ
ーム光通過位置検知機能、および、パワー検知機能の４
つの機能を実現することが可能となる。
光検知装置３８を用いると、レンジの広い傾き検知機
能、おおざっぱなビーム光通過位置検知機能、精密なビ
ーム光通過位置検知機能、および、パワー検知機能の４
つの機能を実現することが可能となる。
【０１２６】すなわち、レンジの広い傾き検知にはセン
サパターンＣ，Ｄ，Ｎ，Ｏを、おおざっぱなビーム光通
過位置検知にはセンサパターンＣ，Ｄあるいはセンサパ
ターンＮ，Ｏを、精密なビーム光通過位置検知にはセン
サパターンＦ，Ｇ，Ｈ，ｌ，Ｊを、パワー検知にはセン
サパターンＬを用いることで実現できる。
サパターンＣ，Ｄ，Ｎ，Ｏを、おおざっぱなビーム光通
過位置検知にはセンサパターンＣ，Ｄあるいはセンサパ
ターンＮ，Ｏを、精密なビーム光通過位置検知にはセン
サパターンＦ，Ｇ，Ｈ，ｌ，Ｊを、パワー検知にはセン
サパターンＬを用いることで実現できる。
【０１２７】上記各センサパターンＣ，Ｄ，Ｎ，Ｏ，
Ｆ，Ｇ，Ｈ，ｌ，Ｊ，Ｌの各出力は、それぞれ増幅器６
３ｃ，６３ｄ，６３ｎ，６３ｏ，６３ｆ，６３ｇ，６３
ｈ，６３ｉ，６３ｊ，６３ｌで増幅され、選択回路（ア
ナログスイツチ）４１にそれぞれ入力される。なお、増
幅器６３ｃ，６３ｄ，６３ｎ，６３ｏ，６３ｆ，６３
ｇ，６３ｈ，６３ｉ，６３ｊ，６３ｌの各増幅率は、主
制御部５１によって設定される。
Ｆ，Ｇ，Ｈ，ｌ，Ｊ，Ｌの各出力は、それぞれ増幅器６
３ｃ，６３ｄ，６３ｎ，６３ｏ，６３ｆ，６３ｇ，６３
ｈ，６３ｉ，６３ｊ，６３ｌで増幅され、選択回路（ア
ナログスイツチ）４１にそれぞれ入力される。なお、増
幅器６３ｃ，６３ｄ，６３ｎ，６３ｏ，６３ｆ，６３
ｇ，６３ｈ，６３ｉ，６３ｊ，６３ｌの各増幅率は、主
制御部５１によって設定される。
【０１２８】選択回路４１は、主制御部５２からのセン
サ選択信号により、積分器４２へ入力する信号を選択
し、この選択された信号が積分器４２に入力されて積分
されるなお、図１３には、先に図５で説明したＤ／Ａ変
換器６１は記載されていない。これは、センサパターン
自体に後で説明するように、ビーム光通過位置を細かく
検知するパターンＦ，Ｇ，Ｈ，ｌ，Ｊと、広いレンジで
検知できるパターンＣ，Ｄ，Ｎ，Ｏを個別に設けている
ため、電気的に切換える必要がないためである。
サ選択信号により、積分器４２へ入力する信号を選択
し、この選択された信号が積分器４２に入力されて積分
されるなお、図１３には、先に図５で説明したＤ／Ａ変
換器６１は記載されていない。これは、センサパターン
自体に後で説明するように、ビーム光通過位置を細かく
検知するパターンＦ，Ｇ，Ｈ，ｌ，Ｊと、広いレンジで
検知できるパターンＣ，Ｄ，Ｎ，Ｏを個別に設けている
ため、電気的に切換える必要がないためである。
【０１２９】ところで、図１３のブロック図では、積分
器４２およびＡ／Ｄ変換器４３を共通に用いている関係
上、リセット信号（積分開始信号）およびＡ／Ｄ変換開
始信号のタイミングをそれぞれの検知対象センサパター
ンに応じて変更する必要がある。これを可能にしている
のが、リセット信号生成回路６４およびＡ／Ｄ変換開始
信号生成回路６５である。
器４２およびＡ／Ｄ変換器４３を共通に用いている関係
上、リセット信号（積分開始信号）およびＡ／Ｄ変換開
始信号のタイミングをそれぞれの検知対象センサパター
ンに応じて変更する必要がある。これを可能にしている
のが、リセット信号生成回路６４およびＡ／Ｄ変換開始
信号生成回路６５である。
【０１３０】リセット信号生成回路６４には、センサパ
ターンＡ，Ｂ，Ｅ，Ｋ，Ｍの各出カがそれぞれ入力され
ている。先に説明したように、このうちの２つの信号か
ら積分器４２のリセッ卜信号を生成し、積分器４２に入
力するもので、どの信号を組合わせてリセット信号を生
成するかは、主制御部５１が設定するようになつてい
る。
ターンＡ，Ｂ，Ｅ，Ｋ，Ｍの各出カがそれぞれ入力され
ている。先に説明したように、このうちの２つの信号か
ら積分器４２のリセッ卜信号を生成し、積分器４２に入
力するもので、どの信号を組合わせてリセット信号を生
成するかは、主制御部５１が設定するようになつてい
る。
【０１３１】また、Ａ／Ｄ変換開始信号生成回路６５に
は、センサパターンＥ，Ｋ，Ｍ，Ｐの各出力がそれぞれ
入力されており、主制御部５１が適切な信号を選択でき
る構成になっている。
は、センサパターンＥ，Ｋ，Ｍ，Ｐの各出力がそれぞれ
入力されており、主制御部５１が適切な信号を選択でき
る構成になっている。
【０１３２】すなわち、主制御部５１は、検知対象のセ
ンサパターンに応じて、両回路６４，６５に対し、どの
センサパターンの出力の組合わせでリセット信号を生成
するか、また、どのセンサパターンの出カを変換開始信
号とするかを設定することができる。
ンサパターンに応じて、両回路６４，６５に対し、どの
センサパターンの出力の組合わせでリセット信号を生成
するか、また、どのセンサパターンの出カを変換開始信
号とするかを設定することができる。
【０１３３】ここで、検知対象センサパターンと、回路
６４，６５に対する設定をまとめると下記表１のように
なる。
６４，６５に対する設定をまとめると下記表１のように
なる。
【０１３４】
【表１】
【０１３５】このように、主制御部５１は、検知対象セ
ンサパターンを自由に選択した上で、最適な状態で積
分、Ａ／Ｄ変換を行ない、その情報をデジタルデータと
して取込むことができる。
ンサパターンを自由に選択した上で、最適な状態で積
分、Ａ／Ｄ変換を行ない、その情報をデジタルデータと
して取込むことができる。
【０１３６】なお、増幅器６３ｃ，６３ｄ，６３ｎ，６
３ｏ，６３ｆ，６３ｇ，６３ｈ，６３ｉ，６３ｊ，６３
ｌ、積分器４２、Ａ／Ｄ変換器４３での各動作は、先に
図５で説明した通りであるので、ここでは説明を省略す
る。
３ｏ，６３ｆ，６３ｇ，６３ｈ，６３ｉ，６３ｊ，６３
ｌ、積分器４２、Ａ／Ｄ変換器４３での各動作は、先に
図５で説明した通りであるので、ここでは説明を省略す
る。
【０１３７】このようにして、主制御部５１は、上記表
１のNo.１とNo.４の両方の検知によってレンジの広い傾
き検知機能、上記表１のNo.１あるいはNo.４の検知によ
っておおざっぱなビーム光通過位置検知機能、上記表１
のNo.２の検知によって精密なビーム光通過位置検知機
能、上記表１のNo.３の検知によってパワー検知機能、
の４つの機能を実現することが可能となる。
１のNo.１とNo.４の両方の検知によってレンジの広い傾
き検知機能、上記表１のNo.１あるいはNo.４の検知によ
っておおざっぱなビーム光通過位置検知機能、上記表１
のNo.２の検知によって精密なビーム光通過位置検知機
能、上記表１のNo.３の検知によってパワー検知機能、
の４つの機能を実現することが可能となる。
【０１３８】なお、図１３には、ガルバノミラーおよび
これを駆動するためのガルバノミラー駆動回路が４組記
載されており、図２および図５に記載されているガルバ
ノミラーおよびガルバノミラー駆動回路よりも１組多い
構成となっている。
これを駆動するためのガルバノミラー駆動回路が４組記
載されており、図２および図５に記載されているガルバ
ノミラーおよびガルバノミラー駆動回路よりも１組多い
構成となっている。
【０１３９】これは、従来のビーム光通過位置検知例に
対して本発明のビーム光通過位置検知方法を取り入れた
場合の例であって、たとえば、特開平１０−７６７０４
号公報に記載されている制御方法のように、全てのビー
ム光の通過位置を制御する必要があるからである。
対して本発明のビーム光通過位置検知方法を取り入れた
場合の例であって、たとえば、特開平１０−７６７０４
号公報に記載されている制御方法のように、全てのビー
ム光の通過位置を制御する必要があるからである。
【０１４０】したがって、本発明の目的の１つである、
ビーム光の相対的な通過位置検知を広いレンジで可能と
し、ビーム光の通過位置を制御するためのアクチュエー
タの数を必要最小限にする、という事項が達成できない
が、上述したように、従来例に比べ、ビーム光検知装置
の取付け傾き調整に有利な傾き検知レンジを拡大し、ビ
ーム光通過位置の粗調整に便利なおおざっぱなビーム光
通過位置検知機能の実現という効果が得られる。
ビーム光の相対的な通過位置検知を広いレンジで可能と
し、ビーム光の通過位置を制御するためのアクチュエー
タの数を必要最小限にする、という事項が達成できない
が、上述したように、従来例に比べ、ビーム光検知装置
の取付け傾き調整に有利な傾き検知レンジを拡大し、ビ
ーム光通過位置の粗調整に便利なおおざっぱなビーム光
通過位置検知機能の実現という効果が得られる。
【０１４１】なお、この場合の光学系ユニットの構成
（図２に対応）については、たとえば、特開平１０−７
６７０４号公報などに詳細に記載されているので、ここ
では説明を省略する。
（図２に対応）については、たとえば、特開平１０−７
６７０４号公報などに詳細に記載されているので、ここ
では説明を省略する。
【０１４２】次に、上記表１のNo.１、No.２、No.３の
各検知に関する各センサパターンの出力について、以下
に詳細に説明する。
各検知に関する各センサパターンの出力について、以下
に詳細に説明する。
【０１４３】図１４は、センサパターンＣ（Ｎ）、Ｄ
（Ｏ）とセンサパターンＦ，Ｇ，Ｈ，Ｉ，Ｊの位置関係
とその出力との関係を示している。図１４に示すよう
に、テーパの付いたセンサパターンＣ（Ｎ）、Ｄ（Ｏ）
の各出力は、ビーム光の通過位置変化に対して徐々に変
化する。これに対して、センサパターンＦ，Ｇ，Ｈ，
Ｉ，Ｊの各出力は、ビーム光の僅かな通過位置変化に対
しても急激に変化する。
（Ｏ）とセンサパターンＦ，Ｇ，Ｈ，Ｉ，Ｊの位置関係
とその出力との関係を示している。図１４に示すよう
に、テーパの付いたセンサパターンＣ（Ｎ）、Ｄ（Ｏ）
の各出力は、ビーム光の通過位置変化に対して徐々に変
化する。これに対して、センサパターンＦ，Ｇ，Ｈ，
Ｉ，Ｊの各出力は、ビーム光の僅かな通過位置変化に対
しても急激に変化する。
【０１４４】したがって、ビーム光の通過位置がセンサ
パターンＦ，Ｇ，Ｈ，Ｉ，Ｊの付近から大きく外れた場
合には、テーパの付いたセンサパターンＣ（Ｎ）、Ｄ
（Ｏ）の出力信号を基にビーム光の通過位置を判断し、
ビーム光の通過位置変更手段（ガルバノミラー）を制御
すれば、効率の良い制御が可能になる。
パターンＦ，Ｇ，Ｈ，Ｉ，Ｊの付近から大きく外れた場
合には、テーパの付いたセンサパターンＣ（Ｎ）、Ｄ
（Ｏ）の出力信号を基にビーム光の通過位置を判断し、
ビーム光の通過位置変更手段（ガルバノミラー）を制御
すれば、効率の良い制御が可能になる。
【０１４５】すなわち、ここで示したビーム光検知装置
３８は、ビーム光の通過位置制御において粗調を行なう
ためのレンジの広いビーム光通過位置検知機能と、微調
を行なうための精密なビーム光通過位置検知機能とを兼
ね備えいてるものである。
３８は、ビーム光の通過位置制御において粗調を行なう
ためのレンジの広いビーム光通過位置検知機能と、微調
を行なうための精密なビーム光通過位置検知機能とを兼
ね備えいてるものである。
【０１４６】図１５は、本発明のビーム光通過位置検知
の原理を用いたセンサパターンと、特開平１０−７６７
０４号公報に開示されているセンサパターンとが一体に
形成されているビーム光検知装置３８を示している。
の原理を用いたセンサパターンと、特開平１０−７６７
０４号公報に開示されているセンサパターンとが一体に
形成されているビーム光検知装置３８を示している。
【０１４７】すなわち、センサパターンＳ１，Ｓ０，Ｓ
２は、これまで説明してきた本発明のセンサパターンそ
のものであり、センサパターンＳ１５，Ｓ１６，Ｓ１７
とセンサパターンＳ１８，Ｓ１９，Ｓ２０は、特開平１
０−７６７０４号公報に開示されているセンサパターン
配列と同等のものである。
２は、これまで説明してきた本発明のセンサパターンそ
のものであり、センサパターンＳ１５，Ｓ１６，Ｓ１７
とセンサパターンＳ１８，Ｓ１９，Ｓ２０は、特開平１
０−７６７０４号公報に開示されているセンサパターン
配列と同等のものである。
【０１４８】ここで、センサパターンＳ１５，Ｓ１６，
Ｓ１７とセンサパターンＳ１８，Ｓ１９，Ｓ２０の配列
について簡単に説明する。センサパターンＳ１５，Ｓ１
６，Ｓ１７は、たとえば、図１６（ａ）に示すように、
ビーム光の走査方向（主走査方向）の寸法が６００μ
ｍ、ビーム光の走査方向に対して直交する方向（副走査
方向）の寸法が３２．２μｍ、それぞれが副走査方向に
１０μｍの距離を置いて配置されている。したがって、
センサパターンＳ１５とＳ１６とのギャップセンタとセ
ンサパターンＳ１６とＳ１７とのギャップセンタとのピ
ッチは４２．３μｍとなる。
Ｓ１７とセンサパターンＳ１８，Ｓ１９，Ｓ２０の配列
について簡単に説明する。センサパターンＳ１５，Ｓ１
６，Ｓ１７は、たとえば、図１６（ａ）に示すように、
ビーム光の走査方向（主走査方向）の寸法が６００μ
ｍ、ビーム光の走査方向に対して直交する方向（副走査
方向）の寸法が３２．２μｍ、それぞれが副走査方向に
１０μｍの距離を置いて配置されている。したがって、
センサパターンＳ１５とＳ１６とのギャップセンタとセ
ンサパターンＳ１６とＳ１７とのギャップセンタとのピ
ッチは４２．３μｍとなる。
【０１４９】また、センサパターンＳ１８，Ｓ１９，Ｓ
２０の寸法は、たとえば、図１６（ｂ）に示すように、
それぞれ主走査方向が６００μｍ、副走査方向が５３．
５μｍであり、センサパターンＳ１５，Ｓ１６，Ｓ１７
と同様、副走査方向に１０μｍの距離を置いて配置され
ている。したがって、センサパターンＳ１８とＳ１９と
のギャップセンタとセンサパターンＳ１９とＳ２０との
ギャップセンタとのピッチは６３．５μｍとなる。
２０の寸法は、たとえば、図１６（ｂ）に示すように、
それぞれ主走査方向が６００μｍ、副走査方向が５３．
５μｍであり、センサパターンＳ１５，Ｓ１６，Ｓ１７
と同様、副走査方向に１０μｍの距離を置いて配置され
ている。したがって、センサパターンＳ１８とＳ１９と
のギャップセンタとセンサパターンＳ１９とＳ２０との
ギャップセンタとのピッチは６３．５μｍとなる。
【０１５０】これらのセンサパターンを用いたビーム光
の通過位置制御については、特開平１０−７６７０４号
公報に詳細に述べられているが、ここで、その特徴を簡
単に説明する。
の通過位置制御については、特開平１０−７６７０４号
公報に詳細に述べられているが、ここで、その特徴を簡
単に説明する。
【０１５１】センサパターンＳ１５，Ｓ１６，Ｓ１７
は、たとえば、ビーム光通過ピッチを６００ｄｐｉの解
像度（第１の解像度）に対応させるためのセンサパター
ンであり、１つのビーム光をセンサパターンＳ１５とＳ
１６との間（ギャップ）に追い込み、もう１つのビーム
光をセンサパターンＳ１６とＳ１７との間（ギャップ）
に追い込むことで、両者のビーム光通過位置間隔を４
２．３μｍ、すなわち、６００ｄｐｉの解像度に対応さ
せるものである。
は、たとえば、ビーム光通過ピッチを６００ｄｐｉの解
像度（第１の解像度）に対応させるためのセンサパター
ンであり、１つのビーム光をセンサパターンＳ１５とＳ
１６との間（ギャップ）に追い込み、もう１つのビーム
光をセンサパターンＳ１６とＳ１７との間（ギャップ）
に追い込むことで、両者のビーム光通過位置間隔を４
２．３μｍ、すなわち、６００ｄｐｉの解像度に対応さ
せるものである。
【０１５２】一方、センサパターンＳ１８，Ｓ１９，Ｓ
２０は、たとえば、ビーム光通過ピッチを４００ｄｐｉ
の解像度（第２の解像度）に対応させるためのセンサパ
ターンであり、１つのビーム光をセンサパターンＳ１８
とＳ１９との間（ギャップ）に追い込み、もう１つのビ
ーム光をセンサパターンＳ１９とＳ２０との間（ギャッ
プ）に追い込むことで、両者のビーム光通過位置間隔を
６３．５μｍ、すなわち、４００ｄｐｉの解像度に対応
させるものである。
２０は、たとえば、ビーム光通過ピッチを４００ｄｐｉ
の解像度（第２の解像度）に対応させるためのセンサパ
ターンであり、１つのビーム光をセンサパターンＳ１８
とＳ１９との間（ギャップ）に追い込み、もう１つのビ
ーム光をセンサパターンＳ１９とＳ２０との間（ギャッ
プ）に追い込むことで、両者のビーム光通過位置間隔を
６３．５μｍ、すなわち、４００ｄｐｉの解像度に対応
させるものである。
【０１５３】このように、センサパターンの配置ピッチ
が、画像形成に必要なビーム光の通過位置ピッチと等し
い構成となっているので、ビーム光を精度よく所望の通
過場所に追い込むことが可能となる。
が、画像形成に必要なビーム光の通過位置ピッチと等し
い構成となっているので、ビーム光を精度よく所望の通
過場所に追い込むことが可能となる。
【０１５４】しかし、追い込む場所が多数ある場合、す
なわち、制御対象となるビーム光が多数ある場合や、複
数の解像度に対応する場合には、センサパターンの数が
増えるという欠点がある。また、それぞれのビーム光を
センサパターン上のある特定の通過位置に制御する必要
がある構成上、それぞれのビーム光について、それぞれ
の通過位置を変化させるためのアクチュエータ（ガルバ
ノミラー）を備える必要がある。
なわち、制御対象となるビーム光が多数ある場合や、複
数の解像度に対応する場合には、センサパターンの数が
増えるという欠点がある。また、それぞれのビーム光を
センサパターン上のある特定の通過位置に制御する必要
がある構成上、それぞれのビーム光について、それぞれ
の通過位置を変化させるためのアクチュエータ（ガルバ
ノミラー）を備える必要がある。
【０１５５】一方、これまで説明してきた本発明のビー
ム光通過位置検知方法は、ビーム光がセンサパターン上
を通過していれば、相対的な通過位置は検知できる。し
たがって、１つのビーム光の通過位置を固定とし、この
ビーム光を基準として他のビーム光の通過位置を制御す
ることで、アクチュエータ（ガルバノミラー）の数を減
らすことができる。
ム光通過位置検知方法は、ビーム光がセンサパターン上
を通過していれば、相対的な通過位置は検知できる。し
たがって、１つのビーム光の通過位置を固定とし、この
ビーム光を基準として他のビーム光の通過位置を制御す
ることで、アクチュエータ（ガルバノミラー）の数を減
らすことができる。
【０１５６】しかしながら、センサパターンＳ１５，Ｓ
１６，Ｓ１７やセンサパターンＳ１８，Ｓ１９，Ｓ２０
のように、ビーム光の通過位置に対して絶対的な距離基
準がなく、制御精度の面からは、不利な構造になってい
る。
１６，Ｓ１７やセンサパターンＳ１８，Ｓ１９，Ｓ２０
のように、ビーム光の通過位置に対して絶対的な距離基
準がなく、制御精度の面からは、不利な構造になってい
る。
【０１５７】そこで、本発明は、同一のビーム光検知装
置内に、センサパターンＳ１５，Ｓ１６，Ｓ１７やセン
サパターンＳ１８，Ｓ１９，Ｓ２０のような絶対的なビ
ーム光の通過位置が検知できるセンサパターンと、先に
説明した相対的なビーム光通過位置が検知できるセンサ
パターンＳ１，Ｓ０，Ｓ２を一体に形成することで、絶
対的なビーム光通過位置と相対的な位置関係の両方を検
知可能とすることができる。
置内に、センサパターンＳ１５，Ｓ１６，Ｓ１７やセン
サパターンＳ１８，Ｓ１９，Ｓ２０のような絶対的なビ
ーム光の通過位置が検知できるセンサパターンと、先に
説明した相対的なビーム光通過位置が検知できるセンサ
パターンＳ１，Ｓ０，Ｓ２を一体に形成することで、絶
対的なビーム光通過位置と相対的な位置関係の両方を検
知可能とすることができる。
【０１５８】すなわち、センサパターンＳ１５，Ｓ１
６，Ｓ１７やセンサパターンＳ１８，Ｓ１９，２０をセ
ンサ上での絶対的な距離基準とし、センサパターンＳ
１，Ｓ０，Ｓ２での検知結果を校正することを可能にし
ている。
６，Ｓ１７やセンサパターンＳ１８，Ｓ１９，２０をセ
ンサ上での絶対的な距離基準とし、センサパターンＳ
１，Ｓ０，Ｓ２での検知結果を校正することを可能にし
ている。
【０１５９】次に、図１５に示したビーム光検知装置３
８を使用して、絶対的なビーム光通過位置と相対的な位
置関係の両方を検知可能とする方法について、図１７に
示すフローチャートを参照して説明する。
８を使用して、絶対的なビーム光通過位置と相対的な位
置関係の両方を検知可能とする方法について、図１７に
示すフローチャートを参照して説明する。
【０１６０】まず、ガルバノミラーなどのアクチュエー
タで通過位置が変更可能なビーム光を用いて、センサパ
ターンＳ２，Ｓ４，Ｓ１５，Ｓ１６の各出力により、セ
ンサパターンＳ１５とＳ１６との間をビーム光が通過す
るようアクチュエータを制御する（Ｓ１７１）。なお、
この方法については、特開平１０−７６７０４号公報に
詳しく記載されているので、説明は省略する。
タで通過位置が変更可能なビーム光を用いて、センサパ
ターンＳ２，Ｓ４，Ｓ１５，Ｓ１６の各出力により、セ
ンサパターンＳ１５とＳ１６との間をビーム光が通過す
るようアクチュエータを制御する（Ｓ１７１）。なお、
この方法については、特開平１０−７６７０４号公報に
詳しく記載されているので、説明は省略する。
【０１６１】次に、このビーム光がセンサパターンＳ１
５とＳ１６との間を通過している状態で、センサパター
ンＳ１，Ｓ０，Ｓ２の各出力を用いて、センサパターン
Ｓ０が出力する値を測定し、記憶する（Ａ／Ｄ（Ｓ１５
−Ｓ１６）とする、Ｓ１７２）。
５とＳ１６との間を通過している状態で、センサパター
ンＳ１，Ｓ０，Ｓ２の各出力を用いて、センサパターン
Ｓ０が出力する値を測定し、記憶する（Ａ／Ｄ（Ｓ１５
−Ｓ１６）とする、Ｓ１７２）。
【０１６２】次に、ガルバノミラーなどのアクチュエー
タで通過位置が変更可能なビーム光を用いて、センサパ
ターンＳ２，Ｓ４，Ｓ１６，Ｓ１７の各出力により、セ
ンサパターンＳ６とＳ７との間をビーム光が通過するよ
うアクチュエータを制御する（Ｓ１７３）。
タで通過位置が変更可能なビーム光を用いて、センサパ
ターンＳ２，Ｓ４，Ｓ１６，Ｓ１７の各出力により、セ
ンサパターンＳ６とＳ７との間をビーム光が通過するよ
うアクチュエータを制御する（Ｓ１７３）。
【０１６３】次に、このビーム光がセンサパターンＳ１
６とＳ１７との間を通過している状態で、センサパター
ンＳ１，Ｓ０，Ｓ２の各出力により、センサパターンＳ
０が出力する値を測定し、記憶する（Ａ／Ｄ（Ｓ１６−
Ｓ１７）とする、Ｓ１７４）。
６とＳ１７との間を通過している状態で、センサパター
ンＳ１，Ｓ０，Ｓ２の各出力により、センサパターンＳ
０が出力する値を測定し、記憶する（Ａ／Ｄ（Ｓ１６−
Ｓ１７）とする、Ｓ１７４）。
【０１６４】次に、このビーム光がセンサパターンＳ１
５とＳ１６との間を通過している状態のセンサパターン
Ｓ０の出力と、ビーム光がセンサパターンＳ１６とＳ１
７との間を通過している状態のセンサパターンＳ０の出
力との差を計算する（Ａ／Ｄ（４２．３）とする、Ｓ１
７５）。
５とＳ１６との間を通過している状態のセンサパターン
Ｓ０の出力と、ビーム光がセンサパターンＳ１６とＳ１
７との間を通過している状態のセンサパターンＳ０の出
力との差を計算する（Ａ／Ｄ（４２．３）とする、Ｓ１
７５）。
【０１６５】ここで計算したＡ／Ｄ（４２．３）という
値が、ビーム光の通過位置が副走査方向に４２．３μｍ
移動したときのセンサパターンＳ０の出力変化量とな
る。したがって、この値を基に、複数のビーム光に対
し、その通過位置が所定の位置になるようにアクチュエ
ータを制御すれば、互いの通過位置を副走査方向に４
２．３μｍずつ正確にずらすことが可能となる。
値が、ビーム光の通過位置が副走査方向に４２．３μｍ
移動したときのセンサパターンＳ０の出力変化量とな
る。したがって、この値を基に、複数のビーム光に対
し、その通過位置が所定の位置になるようにアクチュエ
ータを制御すれば、互いの通過位置を副走査方向に４
２．３μｍずつ正確にずらすことが可能となる。
【０１６６】ここでは、ビーム光の通過位置を４２．３
μｍずつずらす例を説明したが、センサパターンＳ１
８，Ｓ１９，Ｓ２０を用いれば、ビーム光の通過位置を
６３．５μｍずつ正確にずらすことが可能であることは
明白であるので、その説明は省略する。
μｍずつずらす例を説明したが、センサパターンＳ１
８，Ｓ１９，Ｓ２０を用いれば、ビーム光の通過位置を
６３．５μｍずつ正確にずらすことが可能であることは
明白であるので、その説明は省略する。
【０１６７】次に、同様の原理を用いた他の実施の形態
を説明する。
を説明する。
【０１６８】図１８は、図１５と同様に、本発明のビー
ム光通過位置検知の原理を用いたセンサパターンと、特
開平１０−７６７０４号公報に開示されているセンサパ
ターンとが一体に形成されているビーム光検知装置３８
を示している。
ム光通過位置検知の原理を用いたセンサパターンと、特
開平１０−７６７０４号公報に開示されているセンサパ
ターンとが一体に形成されているビーム光検知装置３８
を示している。
【０１６９】すなわち、センサパターンＳ１，Ｓ０，Ｓ
２は、これまで説明してきた本発明のセンサパターンそ
のものであり、センサパターンＳ２１，Ｓ２２，Ｓ２３
は、特開平１０−７６７０４号公報に開示されているセ
ンサパターン配列と同等のものである。
２は、これまで説明してきた本発明のセンサパターンそ
のものであり、センサパターンＳ２１，Ｓ２２，Ｓ２３
は、特開平１０−７６７０４号公報に開示されているセ
ンサパターン配列と同等のものである。
【０１７０】ここで、センサパターンＳ２１，Ｓ２２，
Ｓ２３の配列について簡単に説明する。センサパターン
Ｓ２１，Ｓ２２，Ｓ２３は、たとえば、図１９に示すよ
うに、ビーム光の走査方向（主走査方向）の寸法が６０
０μｍ、ビーム光の走査方向に対して直交する方向（副
走査方向）の寸法が９０μｍ、それぞれが副走査方向に
１０μｍの距離を置いて配置されている。したがって、
センサパターンＳ２１とＳ２２とのギャップセンタとセ
ンサパターンＳ２２とＳ２３とのギャップセンタとのピ
ッチは１００μｍとなっている。
Ｓ２３の配列について簡単に説明する。センサパターン
Ｓ２１，Ｓ２２，Ｓ２３は、たとえば、図１９に示すよ
うに、ビーム光の走査方向（主走査方向）の寸法が６０
０μｍ、ビーム光の走査方向に対して直交する方向（副
走査方向）の寸法が９０μｍ、それぞれが副走査方向に
１０μｍの距離を置いて配置されている。したがって、
センサパターンＳ２１とＳ２２とのギャップセンタとセ
ンサパターンＳ２２とＳ２３とのギャップセンタとのピ
ッチは１００μｍとなっている。
【０１７１】次に、図１８に示したビーム光検知装置３
８を使用したビーム光通過位置制御について、図２０に
示すフローチャートを参照して説明する。なお、ここで
は、Ａ／Ｄ変換器４３として安価な８ビット品を用いた
例について説明する。
８を使用したビーム光通過位置制御について、図２０に
示すフローチャートを参照して説明する。なお、ここで
は、Ａ／Ｄ変換器４３として安価な８ビット品を用いた
例について説明する。
【０１７２】まず、ガルバノミラーなどのアクチュエー
タで通過位置が変更可能なビーム光を用いて、センサパ
ターンＳ２，Ｓ４，Ｓ２１，Ｓ２２の各出力により、セ
ンサパターンＳ２１とＳ２２との間をビーム光が通過す
るようアクチュエータを制御する（Ｓ２０１）。
タで通過位置が変更可能なビーム光を用いて、センサパ
ターンＳ２，Ｓ４，Ｓ２１，Ｓ２２の各出力により、セ
ンサパターンＳ２１とＳ２２との間をビーム光が通過す
るようアクチュエータを制御する（Ｓ２０１）。
【０１７３】次に、このビーム光がセンサパターンＳ２
１とＳ２２との間を通過している状態で、センサパター
ンＳ１，Ｓ０，Ｓ２の各出力により、センサパターンＳ
０が出力する値を測定しながら、この値が「０」になる
よう、Ｄ／Ａ変換器６１への値を変更する（Ｓ２０
２）。
１とＳ２２との間を通過している状態で、センサパター
ンＳ１，Ｓ０，Ｓ２の各出力により、センサパターンＳ
０が出力する値を測定しながら、この値が「０」になる
よう、Ｄ／Ａ変換器６１への値を変更する（Ｓ２０
２）。
【０１７４】次に、ガルバノミラーなどのアクチュエー
タで通過位置が変更可能なビーム光を用いて、センサパ
ターンＳ２，Ｓ４，Ｓ２２，Ｓ２３の各出力により、セ
ンサパターンＳ２２とＳ２３との間をビーム光が通過す
るよう制御する（Ｓ２０３）。
タで通過位置が変更可能なビーム光を用いて、センサパ
ターンＳ２，Ｓ４，Ｓ２２，Ｓ２３の各出力により、セ
ンサパターンＳ２２とＳ２３との間をビーム光が通過す
るよう制御する（Ｓ２０３）。
【０１７５】次に、このビーム光がセンサパターンＳ２
２とＳ２３との間を通過している状態で、センサパター
ンＳ１，Ｓ０，Ｓ２の各出力により、センサパターンＳ
０が出力する値が「２５０」となるように差動増幅器６
０への増幅率を設定する（Ｓ２０４）。次に、センサパ
ターンＳ０の出力値を「１」あたり０．４μｍ（１００
／２５０）として、ビーム光の通過位置を制御する（Ｓ
２０５）。
２とＳ２３との間を通過している状態で、センサパター
ンＳ１，Ｓ０，Ｓ２の各出力により、センサパターンＳ
０が出力する値が「２５０」となるように差動増幅器６
０への増幅率を設定する（Ｓ２０４）。次に、センサパ
ターンＳ０の出力値を「１」あたり０．４μｍ（１００
／２５０）として、ビーム光の通過位置を制御する（Ｓ
２０５）。
【０１７６】このように、ビーム光がセンサパターンＳ
２１とＳ２２との間を通過している状態のセンサパター
ンＳ０の出力が「０」、センサパターンＳ２２とＳ２３
との間を通過している状態のセンサパターンＳ０の出力
を「２５０」となるように、Ｄ／Ａ変換器６１への出力
と差動増幅器６０への増幅率の設定を行なうことで、セ
ンサパターンＳ０とビーム光の通過位置変化を特定の関
係にすることが可能になる。
２１とＳ２２との間を通過している状態のセンサパター
ンＳ０の出力が「０」、センサパターンＳ２２とＳ２３
との間を通過している状態のセンサパターンＳ０の出力
を「２５０」となるように、Ｄ／Ａ変換器６１への出力
と差動増幅器６０への増幅率の設定を行なうことで、セ
ンサパターンＳ０とビーム光の通過位置変化を特定の関
係にすることが可能になる。
【０１７７】すなわち、ビーム光がセンサパターンＳ２
１とＳ２２との間からセンサパターンＳ２２とＳ２３と
の間へと、その通過位置を変えた場合、ビーム光検知装
置３８上では１００μｍ通過位置が変わったことにな
る。この際のセンサパターンＳ０の出力変化が「２５
０」であるので、センサパターンＳ０の出力「１」あた
りのビーム光の通過位置変化を０．４μｍ（１００／２
５０）とすることができる。したがって、このような手
順をふむことで、センサパターンＳ０の出力の校正をと
り、ビーム光通過位置の測定をすることができる。
１とＳ２２との間からセンサパターンＳ２２とＳ２３と
の間へと、その通過位置を変えた場合、ビーム光検知装
置３８上では１００μｍ通過位置が変わったことにな
る。この際のセンサパターンＳ０の出力変化が「２５
０」であるので、センサパターンＳ０の出力「１」あた
りのビーム光の通過位置変化を０．４μｍ（１００／２
５０）とすることができる。したがって、このような手
順をふむことで、センサパターンＳ０の出力の校正をと
り、ビーム光通過位置の測定をすることができる。
【０１７８】したがって、主制御部５１は、センサパタ
ーンＳ０の出力を用いて、それぞれのビーム光相互の通
過位置を測定し、その測定結果を用いてアクチュエータ
を制御することで、任意に各ビーム光の通過位置を制御
することが可能になる。
ーンＳ０の出力を用いて、それぞれのビーム光相互の通
過位置を測定し、その測定結果を用いてアクチュエータ
を制御することで、任意に各ビーム光の通過位置を制御
することが可能になる。
【０１７９】なお、Ａ／Ｄ変換器４３として８ビット品
を用いたこの例では、測定レンジは１０２．４μｍとな
る。したがって、場合によっては、被測定ビーム光が、
Ａ／Ｄ変換器４３のレンジを越えて、測定に支障を来す
場合がある。しかし、そういった場合には、Ｄ／Ａ変換
器６１への設定値を変更し、測定レンジを移動させるこ
とで対処できる。
を用いたこの例では、測定レンジは１０２．４μｍとな
る。したがって、場合によっては、被測定ビーム光が、
Ａ／Ｄ変換器４３のレンジを越えて、測定に支障を来す
場合がある。しかし、そういった場合には、Ｄ／Ａ変換
器６１への設定値を変更し、測定レンジを移動させるこ
とで対処できる。
【０１８０】次に、本発明の原理を用いたさらに他の実
施の形態を説明する。
施の形態を説明する。
【０１８１】図２１は、本発明のビーム光通過位置検知
の原理を用いたセンサパターンＳ１，Ｓ０，Ｓ２に対
し、新たにセンサパターンＳ４，Ｓ３０，Ｓ３１，Ｓ３
２，Ｓ３３，Ｓ３４を追加したビーム光検知装置３８を
示している。
の原理を用いたセンサパターンＳ１，Ｓ０，Ｓ２に対
し、新たにセンサパターンＳ４，Ｓ３０，Ｓ３１，Ｓ３
２，Ｓ３３，Ｓ３４を追加したビーム光検知装置３８を
示している。
【０１８２】センサパターンＳ０の形状は、たとえば、
図２２（ａ）に示すように、副走査方向の長さが２０４
８μｍ、主走査方向の長い辺が１５３６μｍ、短い辺が
５１２μｍの台形状である。したがって、傾きを持った
辺の傾きは、２（＝２０４８／１０２４）となってい
る。
図２２（ａ）に示すように、副走査方向の長さが２０４
８μｍ、主走査方向の長い辺が１５３６μｍ、短い辺が
５１２μｍの台形状である。したがって、傾きを持った
辺の傾きは、２（＝２０４８／１０２４）となってい
る。
【０１８３】ポリゴンミラーで走査されるビーム光が、
このようなセンサパターンＳ０上を通過する位置と距離
との関係は、ビーム光の通過位置変化に対して、センサ
パターンを通過する距離の変化は２：１となる。これ
は、センサパターンＳ０の傾きを持った辺の傾きが
「２」であるからである。
このようなセンサパターンＳ０上を通過する位置と距離
との関係は、ビーム光の通過位置変化に対して、センサ
パターンを通過する距離の変化は２：１となる。これ
は、センサパターンＳ０の傾きを持った辺の傾きが
「２」であるからである。
【０１８４】センサパターンＳ３４は、たとえば、副走
査方向の辺の長さが２０４８μｍ、主走査方向の辺の長
さ（Ｄ１２）が１０２４μｍ、の長方形状に形成されて
いる。
査方向の辺の長さが２０４８μｍ、主走査方向の辺の長
さ（Ｄ１２）が１０２４μｍ、の長方形状に形成されて
いる。
【０１８５】センサパターンＳ３３は、たとえば、副走
査方向の辺の長さが２０４８μｍ、主走査方向の辺の長
さ（Ｄ１１）が１００２．８５μｍ、の長方形状に形成
されている。
査方向の辺の長さが２０４８μｍ、主走査方向の辺の長
さ（Ｄ１１）が１００２．８５μｍ、の長方形状に形成
されている。
【０１８６】センサパターンＳ３２は、たとえば、副走
査方向の辺の長さが２０４８μｍ、主走査方向の辺の長
さ（Ｄ１０）が９９２．２５μｍ、の長方形状に形成さ
れている。
査方向の辺の長さが２０４８μｍ、主走査方向の辺の長
さ（Ｄ１０）が９９２．２５μｍ、の長方形状に形成さ
れている。
【０１８７】すなわち、センサパターンＳ３２とＳ３
４、Ｓ３３とＳ３４の副走査方向の長さには、それぞれ
３１．７５μｍ、２１．１５μｍの差が設けられてい
る。この差は、ちょうどビーム光がセンサパターンＳ０
を通過する位置が６３．５μｍ、４２．３μｍずれた場
合にセンサパターンＳ０を通過する距離変動に等しくな
っている。
４、Ｓ３３とＳ３４の副走査方向の長さには、それぞれ
３１．７５μｍ、２１．１５μｍの差が設けられてい
る。この差は、ちょうどビーム光がセンサパターンＳ０
を通過する位置が６３．５μｍ、４２．３μｍずれた場
合にセンサパターンＳ０を通過する距離変動に等しくな
っている。
【０１８８】たとえば、図２２（ｂ）に示すように、ビ
ーム光が副走査方向のちょうど真ん中を通過した際にセ
ンサパターンＳ０を通過する距離は、１０２４μｍ（＝
（１５３６＋５１２）／２）である。ここで、ビーム光
の通過位置が下方に４２．３μｍシフトした場合を考え
ると、ビーム光がセンサパターンＳ０を通過する距離
は、２１．１５（＝４２．３／２）μｍ短くなり、１０
０２．８５μｍとなる。
ーム光が副走査方向のちょうど真ん中を通過した際にセ
ンサパターンＳ０を通過する距離は、１０２４μｍ（＝
（１５３６＋５１２）／２）である。ここで、ビーム光
の通過位置が下方に４２．３μｍシフトした場合を考え
ると、ビーム光がセンサパターンＳ０を通過する距離
は、２１．１５（＝４２．３／２）μｍ短くなり、１０
０２．８５μｍとなる。
【０１８９】したがって、たとえば、センサパターンＳ
３４の出力を、センサパターンＳ３０とＳ３１の出力を
用いて増幅、積分した結果（基準）から、センサパター
ンＳ３３の出力をセンサパターンＳ４とＳ３０の出力を
用いて増幅、積分した結果を引いた値は、センサパター
ンＳ０上のビーム光の通過位置が４２．３μｍ変化した
ときのセンサパターンＳ０の出力の積分結果と等しくな
る。
３４の出力を、センサパターンＳ３０とＳ３１の出力を
用いて増幅、積分した結果（基準）から、センサパター
ンＳ３３の出力をセンサパターンＳ４とＳ３０の出力を
用いて増幅、積分した結果を引いた値は、センサパター
ンＳ０上のビーム光の通過位置が４２．３μｍ変化した
ときのセンサパターンＳ０の出力の積分結果と等しくな
る。
【０１９０】したがって、基準ビーム光によるセンサパ
ターンＳ０の出力の増幅、積分結果と制御対象ビーム光
によるセンサパターンＳ０の出力の増幅、積分結果と
が、センサパターンＳ３４とＳ３３をビーム光が通過し
たときの出力差と等しくなるように、ビーム光の通過位
置を制御すれば、２つのビーム光はビーム光検知装置３
８上を副走査方向に４２．３μｍの距離をおいて走査す
ることになる。
ターンＳ０の出力の増幅、積分結果と制御対象ビーム光
によるセンサパターンＳ０の出力の増幅、積分結果と
が、センサパターンＳ３４とＳ３３をビーム光が通過し
たときの出力差と等しくなるように、ビーム光の通過位
置を制御すれば、２つのビーム光はビーム光検知装置３
８上を副走査方向に４２．３μｍの距離をおいて走査す
ることになる。
【０１９１】また、たとえば、センサパターンＳ３４の
出力を、センサパターンＳ３０とＳ３１の出力を用いて
増幅、積分した結果（基準）から、センサパターンＳ３
２の出力をセンサパターンＳ２とＳ４の出力を用いて増
幅、積分した結果を引いた値は、センサパターンＳ０上
のビーム光の通過位置が６３．５μｍ変化したときのセ
ンサパターンＳ０の出力の積分結果と等しくなる。
出力を、センサパターンＳ３０とＳ３１の出力を用いて
増幅、積分した結果（基準）から、センサパターンＳ３
２の出力をセンサパターンＳ２とＳ４の出力を用いて増
幅、積分した結果を引いた値は、センサパターンＳ０上
のビーム光の通過位置が６３．５μｍ変化したときのセ
ンサパターンＳ０の出力の積分結果と等しくなる。
【０１９２】したがって、基準ビーム光によるセンサパ
ターンＳ０の出力の増幅、積分結果と制御対象ビーム光
によるセンサパターンＳ０の出力の増幅、積分結果と
が、センサパターンＳ３４とＳ３２をビーム光が通過し
たときの出力差と等しくなるように、ビーム光の通過位
置を制御すれば、２つのビーム光はビーム光検知装置３
８上を副走査方向に６３．５μｍの距離をおいて走査す
ることになる。
ターンＳ０の出力の増幅、積分結果と制御対象ビーム光
によるセンサパターンＳ０の出力の増幅、積分結果と
が、センサパターンＳ３４とＳ３２をビーム光が通過し
たときの出力差と等しくなるように、ビーム光の通過位
置を制御すれば、２つのビーム光はビーム光検知装置３
８上を副走査方向に６３．５μｍの距離をおいて走査す
ることになる。
【０１９３】以上、図２１のビーム光検知装置３８を用
いたビーム光通過位置制御について説明した。
いたビーム光通過位置制御について説明した。
【０１９４】次に、同様の原理を用いたビーム光の通過
位置制御方法について説明する。
位置制御方法について説明する。
【０１９５】図２３は、本発明のビーム光通過位置検知
の原理を用いたセンサパターンＳ１，Ｓ０，Ｓ２に対
し、新たにセンサパターンＳ４，Ｓ４０，Ｓ４１，Ｓ４
２を追加したビーム光検知装置３８を示している。
の原理を用いたセンサパターンＳ１，Ｓ０，Ｓ２に対
し、新たにセンサパターンＳ４，Ｓ４０，Ｓ４１，Ｓ４
２を追加したビーム光検知装置３８を示している。
【０１９６】制御に用いる原理は図２１の場合と同様で
あるが、センサパターンＳ４１とＳ４２の主走査方向の
寸法差に特徴がある。すなわち、センサパターンＳ４２
の主走査方向の寸法Ｄ２１は、たとえば、１０２４μｍ
であり、センサパターンＳ４１の主走査方向の寸法Ｄ２
０は、たとえば、９７４μｍである。このＤ２１とＤ２
０の寸法差は５０μｍであり、この差はセンサパターン
Ｓ０上のビーム光通過位置が１００μｍ変化したときの
センサパターンＳ０上をビーム光が通過する距離と等し
い。
あるが、センサパターンＳ４１とＳ４２の主走査方向の
寸法差に特徴がある。すなわち、センサパターンＳ４２
の主走査方向の寸法Ｄ２１は、たとえば、１０２４μｍ
であり、センサパターンＳ４１の主走査方向の寸法Ｄ２
０は、たとえば、９７４μｍである。このＤ２１とＤ２
０の寸法差は５０μｍであり、この差はセンサパターン
Ｓ０上のビーム光通過位置が１００μｍ変化したときの
センサパターンＳ０上をビーム光が通過する距離と等し
い。
【０１９７】したがって、たとえば、センサパターンＳ
４２の出力を、センサパターンＳ４とＳ４０の出力を用
いて増幅、積分した結果（基準）から、センサパターン
Ｓ４１の出力をセンサパターンＳ２とＳ４の出力を用い
て増幅、積分した結果を引いた値は、センサパターンＳ
０上のビーム光の通過位置が１００μｍ変化したときの
センサパターンＳ０の出力の積分結果と等しくなり、こ
の関係をビーム光の通過位置制御に用いることができ
る。
４２の出力を、センサパターンＳ４とＳ４０の出力を用
いて増幅、積分した結果（基準）から、センサパターン
Ｓ４１の出力をセンサパターンＳ２とＳ４の出力を用い
て増幅、積分した結果を引いた値は、センサパターンＳ
０上のビーム光の通過位置が１００μｍ変化したときの
センサパターンＳ０の出力の積分結果と等しくなり、こ
の関係をビーム光の通過位置制御に用いることができ
る。
【０１９８】たとえば、図１８のビーム光検知装置３８
を用いた制御方法と同様に、この１００μｍのビーム光
位置変化に対するセンサパターンＳ０の出力の増幅、積
分、Ａ／Ｄ変換の結果を、制御が行ない易いよう、Ｄ／
Ａ変換器６１への設定値と、差動増幅器６０への設定値
と変更することにより、より容易にビーム光の通過位置
変化とＡ／Ｄ変換器４３の出力を関連づけることが可能
となる。
を用いた制御方法と同様に、この１００μｍのビーム光
位置変化に対するセンサパターンＳ０の出力の増幅、積
分、Ａ／Ｄ変換の結果を、制御が行ない易いよう、Ｄ／
Ａ変換器６１への設定値と、差動増幅器６０への設定値
と変更することにより、より容易にビーム光の通過位置
変化とＡ／Ｄ変換器４３の出力を関連づけることが可能
となる。
【０１９９】この関係を用いて、基準ビーム光によるセ
ンサパターンＳ０の出力の増幅、積分結果と制御対象ビ
ーム光によるセンサパターンＳ０の出力の増幅、積分結
果とが所定の関係となるように、制御対象ビーム光の通
過位置をアクチュエータを用いて変更すれば、ビーム光
はビーム光検知装置３８上を所定の距離をおいて走査す
ることになる。
ンサパターンＳ０の出力の増幅、積分結果と制御対象ビ
ーム光によるセンサパターンＳ０の出力の増幅、積分結
果とが所定の関係となるように、制御対象ビーム光の通
過位置をアクチュエータを用いて変更すれば、ビーム光
はビーム光検知装置３８上を所定の距離をおいて走査す
ることになる。
【０２００】以上説明したように、上記実施の形態によ
れば、ビーム光の通過位置を制御するためのビーム光検
知装置に、ビーム光の走査方向に対する取付け傾きを広
いレンジで検知する機能を持つことができる。
れば、ビーム光の通過位置を制御するためのビーム光検
知装置に、ビーム光の走査方向に対する取付け傾きを広
いレンジで検知する機能を持つことができる。
【０２０１】また、ビーム光検知装置上のビーム光の走
査速度に依存せず、正確にビーム光の通過位置を検知す
ることができる。また、ビーム光の通過位置検知を広い
レンジで可能とし、ビーム光の通過位置を制御するため
のアクチュエータ（ガルバノミラー）の数を必要最小限
とすることができる。
査速度に依存せず、正確にビーム光の通過位置を検知す
ることができる。また、ビーム光の通過位置検知を広い
レンジで可能とし、ビーム光の通過位置を制御するため
のアクチュエータ（ガルバノミラー）の数を必要最小限
とすることができる。
【０２０２】さらに、ビーム光の通過位置変化に対し、
ビーム光検知装置が応答する範囲（検知レンジ）を広
げ、制御を単純化、高速化することができる。また、単
純なビーム光検知装置の構造で複数の解像度に対応する
ことができる。
ビーム光検知装置が応答する範囲（検知レンジ）を広
げ、制御を単純化、高速化することができる。また、単
純なビーム光検知装置の構造で複数の解像度に対応する
ことができる。
【０２０３】
【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、広
いレンジでビーム光の相対的、絶対的走査位置を正確に
検知でき、かつ、必要最小限のビーム光通過位置制御用
のアクチュエータでビーム光の走査位置を所定位置に制
御することのできるビーム光走査装置を提供できる。
いレンジでビーム光の相対的、絶対的走査位置を正確に
検知でき、かつ、必要最小限のビーム光通過位置制御用
のアクチュエータでビーム光の走査位置を所定位置に制
御することのできるビーム光走査装置を提供できる。
【図１】本発明の実施の形態に係るデジタル複写機の構
成を概略的に示す構成図。
成を概略的に示す構成図。
【図２】光学系ユニットの構成と感光体ドラムの位置関
係を示す図。
係を示す図。
【図３】光学系の制御を主体にした制御系を示すブロッ
ク図。
ク図。
【図４】ビーム光検知装置の構成を模式的に示す構成
図。
図。
【図５】図４に示したビーム光検知装置からの出力を基
にどのようにビーム光の通過位置情報を抽出し、ガルバ
ノミラーを制御するかを説明するための制御系のブロッ
ク図。
にどのようにビーム光の通過位置情報を抽出し、ガルバ
ノミラーを制御するかを説明するための制御系のブロッ
ク図。
【図６】ビーム光の通過位置とビーム光検知装置のセン
サパターンの出力、差動増幅器の出力、積分器の出力と
の関係を示す図。
サパターンの出力、差動増幅器の出力、積分器の出力と
の関係を示す図。
【図７】ビーム光の通過位置と積分器の出力電圧との関
係を示すグラフ。
係を示すグラフ。
【図８】必要な部分を高い分解能でビーム光の通過位置
を検知する方法について説明するためのグラフ。
を検知する方法について説明するためのグラフ。
【図９】ビーム光検知装置の他の構成例を模式的に示す
構成図。
構成図。
【図１０】ビーム光検知装置の他の構成例を模式的に示
す構成図。
す構成図。
【図１１】ビーム光検知装置の他の構成例を模式的に示
す構成図。
す構成図。
【図１２】ビーム光検知装置の他の構成例を模式的に示
す構成図。
す構成図。
【図１３】図１２のビーム光検知装置を用いたビーム光
の通過位置制御を説明するための制御系のブロック図。
の通過位置制御を説明するための制御系のブロック図。
【図１４】図１２のビーム光検知装置におけるセンサパ
ターンの位置関係とその出力との関係を示す図。
ターンの位置関係とその出力との関係を示す図。
【図１５】ビーム光検知装置の他の構成例を模式的に示
す構成図。
す構成図。
【図１６】図１５のビーム光検知装置におけるセンサパ
ターンの寸法を説明するための図。
ターンの寸法を説明するための図。
【図１７】図１５のビーム光検知装置を使用して絶対的
なビーム光通過位置と相対的な位置関係の両方を検知可
能とする方法について説明するためのフローチャート。
なビーム光通過位置と相対的な位置関係の両方を検知可
能とする方法について説明するためのフローチャート。
【図１８】ビーム光検知装置の他の構成例を模式的に示
す構成図。
す構成図。
【図１９】図１８のビーム光検知装置におけるセンサパ
ターンの寸法を説明するための図。
ターンの寸法を説明するための図。
【図２０】図１８のビーム光検知装置を使用したビーム
光通過位置制御について説明するためのフローチャー
ト。
光通過位置制御について説明するためのフローチャー
ト。
【図２１】ビーム光検知装置の他の構成例を模式的に示
す構成図。
す構成図。
【図２２】図２１のビーム光検知装置におけるセンサパ
ターンの寸法を説明するための図。
ターンの寸法を説明するための図。
【図２３】ビーム光検知装置の他の構成例を模式的に示
す構成図。
す構成図。
１……スキャナ部、２……プリンタ部、６……光電変換
素子、９……光源、１３……光学系ユニット、１４……
画像形成部、１５……感光体ドラム（像担持体）、３１
ａ〜３１ｄ……半導体レーザ発振器（ビーム光発生手
段）、３３ａ〜３３ｄ……ガルバノミラー（ビーム光通
過位置変更手段）、３５……ポリゴンミラー（走査手
段）、３８……ビーム光検知装置（ビーム光通過タイミ
ング検知手段、ビーム光位置検知手段、ビーム光パワー
検知手段、ビーム光検知手段）、３９ａ〜３９ｄ……ガ
ルバノミラー駆動回路、４０……ビーム光検知装置出力
処理回路、４１……選択回路、４２……積分器（積分手
段）、４３……Ａ／Ｄ変換器（変換手段）、Ｓ０，Ｓ１
〜Ｓ６，ＳＨ，ＳＡ〜ＳＧ，ＳＢ１〜ＳＦ１，ＳＢ２〜
ＳＦ２，Ｓ７ａ，Ｓ７ｂ，Ｓ８ａ，Ｓ８ｂ，Ａ〜Ｐ，Ｓ
１５〜Ｓ２３，Ｓ３０〜Ｓ３４……センサパターン（光
検知部、光検知部材）、５１……主制御部（制御手
段）、５２……メモリ、６０……差動増幅器、６１……
Ｄ／Ａ変換器（変換手段）、６３……増幅器、６４……
リセット信号生成回路、６５……Ａ／Ｄ変換開始信号生
成回路。
素子、９……光源、１３……光学系ユニット、１４……
画像形成部、１５……感光体ドラム（像担持体）、３１
ａ〜３１ｄ……半導体レーザ発振器（ビーム光発生手
段）、３３ａ〜３３ｄ……ガルバノミラー（ビーム光通
過位置変更手段）、３５……ポリゴンミラー（走査手
段）、３８……ビーム光検知装置（ビーム光通過タイミ
ング検知手段、ビーム光位置検知手段、ビーム光パワー
検知手段、ビーム光検知手段）、３９ａ〜３９ｄ……ガ
ルバノミラー駆動回路、４０……ビーム光検知装置出力
処理回路、４１……選択回路、４２……積分器（積分手
段）、４３……Ａ／Ｄ変換器（変換手段）、Ｓ０，Ｓ１
〜Ｓ６，ＳＨ，ＳＡ〜ＳＧ，ＳＢ１〜ＳＦ１，ＳＢ２〜
ＳＦ２，Ｓ７ａ，Ｓ７ｂ，Ｓ８ａ，Ｓ８ｂ，Ａ〜Ｐ，Ｓ
１５〜Ｓ２３，Ｓ３０〜Ｓ３４……センサパターン（光
検知部、光検知部材）、５１……主制御部（制御手
段）、５２……メモリ、６０……差動増幅器、６１……
Ｄ／Ａ変換器（変換手段）、６３……増幅器、６４……
リセット信号生成回路、６５……Ａ／Ｄ変換開始信号生
成回路。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 榊原 淳 神奈川県川崎市幸区柳町70番地 東芝ソシ オエンジニアリング株式会社内 (72)発明者 井出 直朗 神奈川県川崎市幸区柳町70番地 東芝ソシ オエンジニアリング株式会社内 (72)発明者 一柳 敏光 神奈川県川崎市幸区柳町70番地 東芝ソシ オエンジニアリング株式会社内 Ｆターム(参考） 2C362 BA68 BA69 BA71 BA83 BA89 BB30 BB31 BB32 BB46 2H045 AA01 AB01 BA22 BA33 CA88 CA95 CB65 5C072 AA03 BA03 BA04 BA13 BA17 HA02 HA06 HA13 HB08 HB15 XA01
Claims (14)
- 【請求項１】 ビーム光を出力するビーム光発生手段
と、 このビーム光発生手段から出力されたビーム光を被走査
面に向けて反射し、前記ビーム光により前記被走査面を
走査する走査手段と、 この走査手段により前記被走査面を走査すべく導かれた
ビーム光を検知するもので、前記ビーム光の前記走査手
段による走査方向と直交する方向の通過位置変化に対し
て、その出力が連続的に変化するよう構成されたビーム
光通過位置検知手段と、 このビーム光通過位置検知手段の検知結果に基づき前記
走査手段により走査されるビーム光の前記被走査面にお
ける通過位置を所定位置に制御する制御手段と、 を具備したことを特徴とするビーム光走査装置。 - 【請求項２】 ビーム光を出力するビーム光発生手段
と、 このビーム光発生手段から出力されたビーム光を被走査
面に向けて反射し、前記ビーム光により前記被走査面を
走査する走査手段と、 この走査手段により前記被走査面を走査すべく導かれた
ビーム光を検知するもので、前記ビーム光の前記走査手
段による走査方向と直交する方向の通過位置変化に対し
て、その出力が連続的に変化するよう構成されたビーム
光通過位置検知手段と、 このビーム光通過位置検知手段よりも前記ビーム光の走
査方向に対し上流側に配設され、前記走査手段によって
走査されるビーム光の通過タイミングを検知するビーム
光通過タイミング検知手段と、 このビーム光通過タイミング検知手段の検知結果に基づ
き動作し、前記ビーム光通過位置検知手段の出力を積分
する積分手段と、 この積分手段の積分結果に基づき前記走査手段により走
査されるビーム光の前記被走査面における通過位置を所
定位置に制御する制御手段と、 を具備したことを特徴とするビーム光走査装置。 - 【請求項３】 ビーム光を出力するビーム光発生手段
と、 このビーム光発生手段から出力されたビーム光を被走査
面に向けて反射し、前記ビーム光により前記被走査面を
走査する走査手段と、 この走査手段により前記被走査面を走査すべく導かれた
ビーム光を検知するもので、前記ビーム光の前記走査手
段による走査方向と直交する方向の通過位置変化に対し
て、その出力が連続的に変化するよう構成されたビーム
光通過位置検知手段と、 このビーム光通過位置検知手段よりも前記ビーム光の走
査方向に対し上流側に配設され、前記走査手段によって
走査されるビーム光の通過タイミングを検知する第１の
ビーム光通過タイミング検知手段と、 前記ビーム光通過位置検知手段よりも前記ビーム光の走
査方向に対し下流側に配設され、前記走査手段によって
走査されるビーム光の通過タイミングを検知する第２の
ビーム光通過タイミング検知手段と、 前記第１のビーム光通過タイミング検知手段の検知結果
に基づき動作し、前記ビーム光通過位置検知手段の出力
を積分する積分手段と、 前記第２のビーム光通過タイミング検知手段の検知結果
に基づき動作し、前記積分手段の積分結果をアナログ信
号からデジタル信号に変換する変換手段と、 この変換手段で変換されたデジタル信号に基づき前記走
査手段により走査されるビーム光の前記被走査面におけ
る通過位置を所定位置に制御する制御手段と、 を具備したことを特徴とするビーム光走査装置。 - 【請求項４】 ビーム光を出力するビーム光発生手段
と、 このビーム光発生手段から出力されたビーム光を被走査
面に向けて反射し、前記ビーム光により前記被走査面を
走査する走査手段と、 この走査手段により前記被走査面を走査すべく導かれた
ビーム光を検知するもので、前記ビーム光の前記走査手
段による走査方向と直交する方向の通過位置変化に対し
て、その出力が連続的に変化する構成された第１のビー
ム光通過位置検知手段と、 この第１のビーム光通過位置検知手段の前記通過位置変
化の方向に隣接して配設され、前記走査手段により前記
被走査面を走査すべく導かれたビーム光を検知するもの
で、前記通過位置変化に対して、その出力が連続的に増
加するよう構成された第２のビーム光通過位置検知手段
と、 前記第１のビーム光通過位置検知手段の検知結果および
前記第２のビーム光通過位置検知手段の検知結果に基づ
き前記走査手段により走査されるビーム光の前記被走査
面における通過位置を所定位置に制御する制御手段と、 を具備したことを特徴とするビーム光走査装置。 - 【請求項５】 ビーム光を出力する複数のビーム光発生
手段と、 この複数のビーム光発生手段から出力された複数のビー
ム光を被走査面に向けてそれぞれ反射し、前記複数のビ
ーム光により前記被走査面を走査する走査手段と、 この走査手段により前記被走査面を走査すべく導かれた
複数のビーム光を検知するもので、前記複数のビーム光
の前記走査手段による走査方向と直交する方向の通過位
置変化に対して、その出力が連続的に減少するよう構成
された第１のビーム光通過位置検知手段と、 この第１のビーム光通過位置検知手段の前記通過位置変
化の方向に隣接して配設され、前記走査手段により前記
被走査面を走査すべく導かれた複数のビーム光を検知す
るもので、前記通過位置変化に対して、その出力が連続
的に増加するよう構成された第２のビーム光通過位置検
知手段と、 前記第１のビーム光通過位置検知手段と前記第２のビー
ム光通過位置検知手段との間で、前記複数のビーム光の
走査方向に対してほぼ直交する方向に並列に配設された
複数の光検知部からなり、前記走査手段により走査され
る複数のビーム光を検知する第３のビーム光通過位置検
知手段と、 前記複数のビーム光発生手段のうちの１つを選択して１
つのビーム光を発生させる選択手段と、 この選択手段により選択されて発生された１つのビーム
光が前記走査手段により走査された際、前記第１のビー
ム光通過位置検知手段の検知結果および前記第２のビー
ム光通過位置検知手段の検知結果に基づき、前記走査手
段により走査される１つのビーム光が、前記第３のビー
ム光通過位置検知手段の付近を通過するよう制御する第
１の制御手段と、 前記選択手段により選択されて発生された１つのビーム
光が前記走査手段により走査された際、前記第３のビー
ム光通過位置検知手段から得られる複数の検知結果に基
づき、前記走査手段により走査される１つのビーム光
が、前記第３のビーム光通過位置検知手段の複数の光検
知部のうち前記ビーム光の目標位置に対応する位置の隣
り合う２つの光検知部の間を通過するように制御する第
２の制御手段と、 前記第３のビーム光通過位置検知手段から得られる複数
の検知結果に基づき前記走査手段により走査される複数
のビーム光の前記被走査面における通過位置を所定位置
に制御する第３の制御手段と、 を具備したことを特徴とするビーム光走査装置。 - 【請求項６】 ビーム光を出力するビーム光発生手段
と、 このビーム光発生手段から出力されたビーム光を被走査
面に向けて反射し、前記ビーム光により前記被走査面を
走査する走査手段と、 この走査手段により前記被走査面を走査すべく導かれた
ビーム光を検知するもので、前記ビーム光の前記走査手
段による走査方向と直交する方向の通過位置変化に対し
て、その出力が連続的に減少するよう構成された第１の
ビーム光通過位置検知手段と、 この第１のビーム光通過位置検知手段の前記通過位置変
化の方向に隣接して配設され、前記走査手段により前記
被走査面を走査すべく導かれたビーム光を検知するもの
で、前記通過位置変化に対して、その出力が連続的に増
加するよう構成された第２のビーム光通過位置検知手段
と、 前記第１および第２のビーム光通過位置検知手段よりも
前記ビーム光の走査方向に対し下流側に配設され、前記
走査手段により前記被走査面を走査すべく導かれたビー
ム光を検知するもので、前記通過位置変化に対して、そ
の出力が連続的に減少するよう構成された第３のビーム
光通過位置検知手段と、 この第３のビーム光通過位置検知手段の前記通過位置変
化の方向に隣接して配設され、前記走査手段により前記
被走査面を走査すべく導かれたビーム光を検知するもの
で、前記通過位置変化に対して、その出力が連続的に増
加するよう構成された第４のビーム光通過位置検知手段
と、 前記第１のビーム光通過位置検知手段と前記第２のビー
ム光通過位置検知手段との隣接部と前記第３のビーム光
通過位置検知手段と前記第４のビーム光通過位置検知手
段との隣接部とを結んだ直線に対してほぼ直交する方向
に並列に配設された複数の光検知部からなり、、前記走
査手段により走査されるビーム光を検知する第５のビー
ム光通過位置検知手段と、 この第５のビーム光通過位置検知手段から得られる複数
の検知結果に基づき前記走査手段により走査される複数
のビーム光の前記被走査面における通過位置を所定位置
に制御する制御手段と、 前記第１ないし第４のビーム光通過位置検知手段の各検
知結果に基づき前記ビーム光の走査方向に対する前記第
１ないし第５のビーム光通過位置検知手段の傾きを検知
する傾き検知手段と、 を具備したことを特徴とするビーム光走査装置。 - 【請求項７】 ビーム光を出力する複数のビーム光発生
手段と、 この複数のビーム光発生手段から出力された複数のビー
ム光を被走査面に向けてそれぞれ反射し、前記複数のビ
ーム光により前記被走査面を走査する走査手段と、 この走査手段により前記被走査面を走査すべく導かれた
複数のビーム光を検知するもので、前記複数のビーム光
の前記走査手段による走査方向と直交する方向の通過位
置変化に対して、その出力が連続的に変化するよう構成
されたビーム光通過位置検知手段と、 このビーム光通過位置検知手段の前記複数のビーム光の
走査方向に対し上流側または下流側に配設される光検知
部材からなる第１の通過目標と、 前記ビーム光通過位置検知手段の前記複数のビーム光の
走査方向に対し上流側または下流側に配設され、前記第
１の通過目標から前記複数のビーム光の走査方向と直交
する方向に所定距離だけ離れた位置に配設される光検知
部材からなる第２の通過目標と、 前記複数のビーム光の少なくとも１つのビーム光の通過
位置を変更するビーム光通過位置変更手段と、 前記ビーム光が前記第１の通過目標を通過した際の前記
ビーム光通過位置検知手段の出力、および、前記ビーム
光が前記第２の通過目標を通過した際の前記ビーム光通
過位置検知手段の出力を基に、前記ビーム光通過位置変
更手段を制御することにより、前記複数のビーム光相互
の通過位置が所定の位置になるよう制御する制御手段
と、 を具備したことを特徴とするビーム光走査装置。 - 【請求項８】 前記制御手段は、ビーム光が前記第１の
通過目標を通過した際の前記ビーム光通過位置検知手段
の出力と、ビーム光が前記第２の通過目標を通過した際
の前記ビーム光通過位置検知手段の出力との差を演算
し、この演算結果が、前記複数のビーム光のうち第１の
ビーム光と第２のビーム光に対する前記ビーム光通過位
置検知手段の各出力の差と等しくなるよう、前記ビーム
通過位置変更手段を制御することにより、前記第１のビ
ーム光あるいは第２のビーム光の通過位置を変更するこ
とを特徴とする請求項７記載のビーム光走査装置。 - 【請求項９】 前記ビーム光通過位置検知手段の前記複
数のビーム光の走査方向に対し上流側または下流側に配
設される光検知部材からなる第３の通過目標と、 前記ビーム光通過位置検知手段の前記複数のビーム光の
走査方向に対し上流側または下流側に配設され、前記第
３の通過目標から前記複数のビーム光の走査方向と直交
する方向に前記第１の通過目標および第２の通過目標と
は異なる所定距離だけ離れた位置に配設される光検知部
材からなる第４の通過目標とをさらに具備し、 前記制御手段は、ビーム光が前記第３の通過目標を通過
した際の前記ビーム光通過位置検知手段の出力と、ビー
ム光が前記第４の通過目標を通過した際の前記ビーム光
通過位置検知手段の出力との差を演算し、この演算結果
が、前記複数のビーム光のうち第１のビーム光と第２の
ビーム光に対する前記ビーム光通過位置検知手段の各出
力の差と等しくなるよう、前記ビーム通過位置変更手段
を制御することにより、前記第１のビーム光あるいは第
２のビーム光の通過位置を変更することを特徴とする請
求項８記載のビーム光走査装置。 - 【請求項１０】 前記制御手段は、ビーム光が前記第１
の通過目標を通過した際の前記ビーム光通過位置検知手
段の出力と、ビーム光が前記第２の光通過目標を通過し
た際の前記ビーム光通過位置検知手段の出力とから、前
記ビーム光通過位置検知手段のビーム光の通過位置変化
に対する出力変化率を演算し、この演算結果を基に前記
複数のビーム光相互の通過位置を制御することを特徴と
する請求項７記載のビーム光走査装置。 - 【請求項１１】 ビーム光を出力する複数のビーム光発
生手段と、 この複数のビーム光発生手段から出力された複数のビー
ム光を被走査面に向けてそれぞれ反射し、前記複数のビ
ーム光により前記被走査面を走査する走査手段と、 この走査手段により前記被走査面を走査すべく導かれた
複数のビーム光を検知するもので、前記複数のビーム光
の前記走査手段による走査方向と直交する方向の通過位
置変化に対して、その出力が連続的に変化するよう構成
されたビーム光通過位置検知手段と、 このビーム光通過位置検知手段の前記複数のビーム光の
走査方向に対し上流側または下流側に配設され、ビーム
光が第１の通過位置で前記ビーム光通過位置検知手段を
通過した際にビーム光が移動する距離と等しいビーム光
走査方向の幅を持つ第１のビーム光検知手段と、 前記ビーム光通過位置検知手段の前記複数のビーム光の
走査方向に対し上流側または下流側に配設され、ビーム
光が前記第１の通過位置とビーム光走査方向と直交する
方向に所定の距離だけ離れている第２の通過位置で前記
ビーム光通過位置検知手段を通過した際にビーム光が移
動する距離と等しいビーム光走査方向の輻を持つ第２の
ビーム光検知手段と、 前記複数のピーム光の少なくとも１つのビーム光の通過
位置を変更するビーム光通過位置変更手段と、 前記ビーム光が前記第１のビーム光検知手段を通過した
際の前記第１のビーム光検知手段の出力、および、前記
ビーム光が前記第２のビーム光検知手段を通過した際の
前記第２のビーム光検知手段の出力を基に、前記ビーム
光通過位置変更手段を制御することにより、前記複数の
ビーム光相互の通過位置が所定の位置になるよう制御す
る制御手段と、 を具備したことを特微とするビーム光走査装置。 - 【請求項１２】 前記制御手段は、ビーム光が前記第１
のビーム光検知手段を通過した際の前記第１のビーム光
検知手段の出力と、ビーム光が前記第２のビーム光検知
手段を通過した際の前記第２のビーム光検知手段の出力
との差を演算し、この演算結果が、前記複数のビーム光
のうち第１のビーム光と第２のビーム光に対する前記ビ
ーム光通過位置検知手段の各出力の差と等しくなるよ
う、前記ビーム通過位置変更手段を制御することによ
り、前記第１のビーム光あるいは第２のビーム光の通過
位置を変更することを特徴とする請求項１１記載のビー
ム光走査装置。 - 【請求項１３】 前記ビーム光通過位置検知手段の前記
複数のビーム光の走査方向に対し上流側または下流側に
配設され、ビーム光が前記第１の通過位置とビーム光走
査方向と直交する方向に前記第２の通過位置とは異なる
所定の距離だけ離れている第３の通過位置で前記ビーム
光通過位置検知手段を通過した際にビーム光が移動する
距離と等しいビーム光走査方向の幅を持つ第３のビーム
光検知手段をさらに具備し、 前記制御手段は、ビーム光が前記第１のビーム光検知手
段を通過した際の前記第１のビーム光検知手段の出力
と、ビーム光が前記第３のビーム光検知手段を通過した
際の前記第３のビーム光検知手段の出力との差を演算
し、この演算結果が、前記複数のビーム光のうち第１の
ビーム光と第２のビーム光に対する前記ビーム光通過位
置検知手段の各出力の差と等しくなるよう、前記ビーム
通過位置変更手段を制御することにより、前記第１のビ
ーム光あるいは第２のビーム光の通過位置を変更するこ
とを特徴とする請求項１１記載のビーム光走査装置。 - 【請求項１４】 前記制御手段は、ビーム光が前記第１
のビーム光検知手段を通過した際の前記第１のビーム光
検知手段の出力と、ビーム光が前記第２のビーム光検知
手段を通過した際の前記第２のビーム光検知手段の出力
とから、前記ビーム光通過位置検知手段のビーム光の通
過位置変化に対する出力変化率を演算し、この演算結果
を基に前記複数のビーム光相互の通過位置を制御するこ
とを特徴とする請求項１１記載のビーム光走査装置。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35602298A JP4197556B2 (ja) | 1998-12-15 | 1998-12-15 | ビーム光走査装置 |
| EP99124927A EP1014682B1 (en) | 1998-12-15 | 1999-12-14 | Light beam scanning apparatus |
| DE69941474T DE69941474D1 (de) | 1998-12-15 | 1999-12-14 | Lichtstrahlabtastgerät |
| US09/461,210 US6496212B1 (en) | 1998-12-15 | 1999-12-15 | Light beam scanning apparatus |
| US10/067,868 US6831671B2 (en) | 1998-12-15 | 2002-02-08 | Light beam scanning apparatus |
| US10/938,659 US6989851B2 (en) | 1998-12-15 | 2004-09-13 | Light beam scanning apparatus |
| US11/214,775 US7187397B2 (en) | 1998-12-15 | 2005-08-31 | Light beam scanning apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35602298A JP4197556B2 (ja) | 1998-12-15 | 1998-12-15 | ビーム光走査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000180745A true JP2000180745A (ja) | 2000-06-30 |
| JP4197556B2 JP4197556B2 (ja) | 2008-12-17 |
Family
ID=18446935
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35602298A Expired - Lifetime JP4197556B2 (ja) | 1998-12-15 | 1998-12-15 | ビーム光走査装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (4) | US6496212B1 (ja) |
| EP (1) | EP1014682B1 (ja) |
| JP (1) | JP4197556B2 (ja) |
| DE (1) | DE69941474D1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6919979B2 (en) | 2002-07-25 | 2005-07-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical scanning apparatus |
| JP2019144374A (ja) * | 2018-02-20 | 2019-08-29 | スタンレー電気株式会社 | パッケージ型光偏向装置 |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5142153A (en) * | 1991-05-13 | 1992-08-25 | Penetron, Inc. | Energy discriminating, resonant, neutron detector |
| US20020149802A1 (en) * | 2001-04-17 | 2002-10-17 | Hidetoshi Aoki | Image reading apparatus |
| US6611279B2 (en) | 2001-10-01 | 2003-08-26 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Light beam scanning apparatus |
| US6693658B2 (en) | 2001-12-20 | 2004-02-17 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Light beam scanning apparatus |
| US9616951B2 (en) | 2002-03-06 | 2017-04-11 | Deere & Company | Non-carburized components of track-type machines having a metallurgically bonded coating |
| JP2004013078A (ja) * | 2002-06-11 | 2004-01-15 | Toshiba Tec Corp | ビーム光走査装置 |
| US6836279B2 (en) * | 2003-05-28 | 2004-12-28 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Light beam scanning apparatus and image forming apparatus |
| JP2007019325A (ja) * | 2005-07-08 | 2007-01-25 | Brother Ind Ltd | 電子装置 |
| US8057693B1 (en) * | 2010-07-26 | 2011-11-15 | Arrowstar, Llc | Compositions and methods for imparting liquid repellency and dry soil resistance to fibers and articles thereof |
| JP2012150397A (ja) * | 2011-01-21 | 2012-08-09 | Canon Inc | 光走査装置、その制御方法、及び制御プログラム、並びに画像形成装置 |
Family Cites Families (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4206348A (en) | 1978-06-05 | 1980-06-03 | Eastman Kodak Company | Optical scanner with electrooptical feedback for beam positioning |
| JPH077150B2 (ja) | 1985-03-18 | 1995-01-30 | キヤノン株式会社 | 画像情報記録方法 |
| JPH059704Y2 (ja) * | 1987-12-11 | 1993-03-10 | ||
| JPH02113715A (ja) | 1988-10-24 | 1990-04-25 | Nec Corp | Ｄ形フリップフロップ回路 |
| JPH02113715U (ja) | 1989-02-27 | 1990-09-12 | ||
| US5289001A (en) * | 1989-08-07 | 1994-02-22 | Hitachi, Ltd. | Laser beam scanning apparatus having a variable focal distance device and the variable focal distance device for use in the apparatus |
| JP2810987B2 (ja) | 1990-05-11 | 1998-10-15 | 雪印乳業株式会社 | 搬送装置 |
| JPH0416411U (ja) | 1990-05-31 | 1992-02-10 | ||
| JP3229001B2 (ja) | 1991-03-26 | 2001-11-12 | 株式会社東芝 | 走査光学装置 |
| JP3191232B2 (ja) * | 1993-06-29 | 2001-07-23 | コニカ株式会社 | 画像形成装置 |
| US5357106A (en) * | 1993-10-01 | 1994-10-18 | Xerox Corporation | Sensor for detecting beam position and start of scan position |
| JPH07168414A (ja) * | 1993-12-14 | 1995-07-04 | Fujitsu Ltd | カラー印刷装置 |
| JP3363235B2 (ja) | 1994-02-17 | 2003-01-08 | コニカ株式会社 | 画像形成装置の光ビームずれ検出装置 |
| US5883385A (en) * | 1995-11-09 | 1999-03-16 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Multibeam scanning method and apparatus with positional adjustment features |
| JPH09183249A (ja) | 1995-12-28 | 1997-07-15 | Fuji Xerox Co Ltd | 光ビーム記録装置 |
| US5786594A (en) * | 1996-01-18 | 1998-07-28 | Ricoh Company, Ltd. | Multi-beam pitch adjustment system and method |
| JP3154938B2 (ja) * | 1996-03-21 | 2001-04-09 | 株式会社東芝 | ビーム光走査装置および画像形成装置 |
| JP3239072B2 (ja) * | 1996-09-03 | 2001-12-17 | 株式会社東芝 | ビーム光走査装置および画像形成装置 |
| JPH11170603A (ja) * | 1997-12-10 | 1999-06-29 | Canon Inc | 画像形成装置 |
| JP4308338B2 (ja) * | 1998-01-16 | 2009-08-05 | 株式会社東芝 | ビーム光走査装置および画像形成装置 |
| JP3087748B2 (ja) * | 1998-12-16 | 2000-09-11 | 富士ゼロックス株式会社 | 光学走査装置 |
-
1998
- 1998-12-15 JP JP35602298A patent/JP4197556B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1999
- 1999-12-14 DE DE69941474T patent/DE69941474D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-12-14 EP EP99124927A patent/EP1014682B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-12-15 US US09/461,210 patent/US6496212B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2002
- 2002-02-08 US US10/067,868 patent/US6831671B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2004
- 2004-09-13 US US10/938,659 patent/US6989851B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2005
- 2005-08-31 US US11/214,775 patent/US7187397B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6919979B2 (en) | 2002-07-25 | 2005-07-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical scanning apparatus |
| JP2019144374A (ja) * | 2018-02-20 | 2019-08-29 | スタンレー電気株式会社 | パッケージ型光偏向装置 |
| JP7049737B2 (ja) | 2018-02-20 | 2022-04-07 | スタンレー電気株式会社 | パッケージ型光偏向装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6496212B1 (en) | 2002-12-17 |
| JP4197556B2 (ja) | 2008-12-17 |
| EP1014682B1 (en) | 2009-09-30 |
| EP1014682A2 (en) | 2000-06-28 |
| US6831671B2 (en) | 2004-12-14 |
| DE69941474D1 (de) | 2009-11-12 |
| US6989851B2 (en) | 2006-01-24 |
| EP1014682A3 (en) | 2002-03-27 |
| US20020105574A1 (en) | 2002-08-08 |
| US7187397B2 (en) | 2007-03-06 |
| US20050036027A1 (en) | 2005-02-17 |
| US20060001732A1 (en) | 2006-01-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3154938B2 (ja) | ビーム光走査装置および画像形成装置 | |
| JP4308338B2 (ja) | ビーム光走査装置および画像形成装置 | |
| JP3172092B2 (ja) | ビーム光走査装置および画像形成装置 | |
| US7187397B2 (en) | Light beam scanning apparatus | |
| JP3209690B2 (ja) | ビーム光走査装置および画像形成装置 | |
| JP4567829B2 (ja) | ビーム光走査装置 | |
| JP3239072B2 (ja) | ビーム光走査装置および画像形成装置 | |
| US6509921B2 (en) | Light beam scanning apparatus with multiple sensors and patterns | |
| JP2001100127A (ja) | マルチビーム制御方法 | |
| US6639620B2 (en) | Light beam scanning apparatus | |
| US6693658B2 (en) | Light beam scanning apparatus | |
| US6611279B2 (en) | Light beam scanning apparatus | |
| JP2000284198A (ja) | ビーム光走査装置および画像形成装置 | |
| US6661444B2 (en) | Light beam scanning apparatus | |
| JP3925997B2 (ja) | ビーム光走査装置および画像形成装置 | |
| JPH1184280A (ja) | ビーム光走査装置および画像形成装置 | |
| JP4308783B2 (ja) | 画像形成装置 | |
| JP2003154706A (ja) | 画像形成装置 | |
| US7022977B2 (en) | Light beam scanning apparatus | |
| JPH11212003A (ja) | ビーム光走査装置、画像形成装置および画像形成装置の調整方法 | |
| JP4490059B2 (ja) | 光ビーム走査装置及び画像形成装置 | |
| JP2000180752A (ja) | ビーム光走査装置および画像形成装置 | |
| JP2000006463A (ja) | 画像形成装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050322 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20050530 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20050530 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080331 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080408 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080530 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080924 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080929 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111010 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111010 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121010 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131010 Year of fee payment: 5 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |