JP3209690B2 - ビーム光走査装置および画像形成装置 - Google Patents

ビーム光走査装置および画像形成装置

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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、たとえば、複数の
レーザビーム光により単一の感光体ドラム上を同時に走
査露光して上記感光体ドラム上に単一の静電潜像を形成
するためのビーム光走査装置、および、これを用いたデ
ジタル複写機やレーザプリンタなどの画像形成装置に関
する。
【０００２】
【従来の技術】近年、たとえば、レーザビーム光による
走査露光と電子写真プロセスとにより画像形成を行なう
デジタル複写機が種々開発されている。
【０００３】そして、最近では、さらに画像形成速度の
高速化を図るために、マルチビーム方式、つまり、複数
のレーザビーム光を発生させ、これら複数のレーザビー
ム光により複数ラインずつの同時走査が行なわれるよう
にしたデジタル複写機が開発されている。
【０００４】このようなマルチビーム方式のデジタル複
写機においては、レーザビーム光を発生する複数の半導
体レーザ発振器、これら複数のレーザ発振器から出力さ
れる各レーザビーム光を感光体ドラムへ向けて反射し、
各レーザビーム光により感光体ドラム上を走査するポリ
ゴンミラーなどの多面回転ミラー、および、コリメータ
レンズやｆ−θレンズなどを主体に構成される、ビーム
光走査装置としての光学系ユニットを備えている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
光学系ユニットの構成では、感光体ドラム上（被走査
面）で複数のビーム光相互の位置関係を理想的な位置関
係にするのは非常に困難で、これを実現するためには、
非常に高い部品精度と組立精度が要求され、装置のコス
トアップの要因となっていた。
【０００６】また、理想の位置関係に組立てたとして
も、温度変化や湿度変化などの環境変化、あるいは、経
時変化によってレンズの形状がわずかに変化したり、部
品相互の位置関係がわずかに変化するだけで、ビーム光
相互の位置関係が狂ってしまい、高品質な画像を形成す
ることができなくなる。したがって、このような光学系
を実現するためには、これらの変化に強い構造や部品を
用いる必要があった。
【０００７】ここで、マルチビームにおいて、位置ずれ
したビーム光を用いて画像を形成した場合に起り得る画
像不良について、図４８および図４９を用いて説明す
る。
【０００８】たとえば、図４８（ａ）に示すような
「Ｔ」の文字を形成する場合、ビーム光の通過位置が、
所定の位置からはずれていると、図４８（ｂ）に示すよ
うな画像になってしまう。この図の例は、４つのビーム
光ａ〜ｄを用いた場合で、ビーム光ｂの通過位置が所定
位置からはずれ、ビーム光ａとｂの間隔が狭く、ビーム
光ｂとｃの間隔が広くなった例である。
【０００９】図４９（ａ）は、それぞれのビーム光の発
光タイミングが、正しく制御されていない場合の画像の
例である。図より明らかなように、ビーム光相互の発光
タイミングが正しく制御されないと、主走査方向の画像
形成位置が狂い、縦線がまっすぐに形成されない。
【００１０】図４９（ｂ）は、ビーム光の通過位置とビ
ーム光の発光タイミングの両方が正しく制御されていな
い場合の画像で、副走査方向の画像不良と、主走査方向
の画像不良が同時に起こっている。
【００１１】このように、マルチビームで画像を形成す
る際には、複数のビーム光の通過位置を検知するビーム
光位置検知器を高精度に取付けて、副走査方向のビーム
光通過位置を常に所定の間隔になるように制御すること
と、主走査方向の画像形成位置を揃えるために、それぞ
れのビーム光の発光タイミングを高精度に制御する必要
がある。
【００１２】そこで、本発明は、被走査面におけるビー
ム光の位置を常に適正位置に高精度に制御でき、よっ
て、常に高画質を維持することができるビーム光走査装
置および画像形成装置を提供することを目的とする。
【００１３】また、本発明は、複数のビーム光を用いる
場合、被走査面における複数のビーム光相互の位置関係
を常に理想的な位置に高精度に制御でき、よって、常に
高画質を維持することができるビーム光走査装置および
画像形成装置を提供することを目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明のビーム光走査装
置は、ビーム光を発生するビーム光発生手段と、このビ
ーム光発生手段から発生されたビーム光を被走査面へ向
けて反射し、前記ビーム光により前記被走査面を走査す
る走査手段と、この走査手段により前記被走査面を走査
すべく導かれたビーム光を、前記ビーム光の走査方向に
対してほぼ直交する方向に並列配置された複数の光検知
部で検知するビーム光位置検知手段と、オフセット値を
有した信号処理素子によって構成され、前記ビーム光位
置検知手段の出力をビーム光位置情報に変換する信号処
理手段と、この信号処理手段から出力されるビーム光位
置情報をあらかじめ設定される基準値と比較し、その比
較結果に基づき前記走査手段により走査されるビーム光
の前記被走査面における通過位置が適正位置となるよう
に制御する制御手段と、前記信号処理手段のオフセット
値を検出するオフセット検出手段と、このオフセット検
出手段で検出されたオフセット値に応じて前記制御手段
の基準値を補正する補正手段とを具備している。
【００１５】また、本発明のビーム光走査装置は、ビー
ム光を発生するビーム光発生手段と、このビーム光発生
手段から発生されたビーム光を被走査面へ向けて反射
し、前記ビーム光により前記被走査面を走査する走査手
段と、この走査手段により前記被走査面を走査すべく導
かれたビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほ
ぼ直交する方向に並列配置された複数の光検知部で検知
するビーム光位置検知手段と、オフセット値を有した信
号処理素子によって構成され、前記ビーム光位置検知手
段の出力をビーム光位置情報に変換する信号処理手段
と、この信号処理手段から出力されるビーム光位置情報
に基づき、前記走査手段により走査されるビーム光の前
記被走査面における通過位置が適正位置となるように制
御する制御手段と、前記信号処理手段のオフセット値を
検出するオフセット検出手段と、このオフセット検出手
段で検出されたオフセット値に応じて前記信号処理手段
から出力されるビーム光位置情報を補正する補正手段と
を具備している。
【００１６】また、本発明のビーム光走査装置は、ビー
ム光を発生するビーム光発生手段と、このビーム光発生
手段から発生されたビーム光を被走査面へ向けて反射
し、前記ビーム光により前記被走査面を走査する走査手
段と、この走査手段により前記被走査面を走査すべく導
かれたビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほ
ぼ直交する方向に並列配置された複数の光検知部で検知
するビーム光位置検知手段と、このビーム光位置検知手
段の近傍に配設され、前記走査手段により走査されるビ
ーム光の通過を検知するビーム光通過検知手段と、前記
ビーム光位置検知手段の出力を増幅する増幅器と、前記
ビーム光通過検知手段から出力されるビーム光通過検知
信号が印加されることにより積分動作を開始し、前記増
幅器の出力を積分する積分器とからなる信号処理手段
と、この信号処理手段の出力をあらかじめ設定される基
準値と比較し、その比較結果に基づき前記走査手段によ
り走査されるビーム光の前記被走査面における通過位置
が適正位置となるように制御する制御手段と、前記信号
処理手段のオフセット値を検出するオフセット検出手段
と、このオフセット検出手段がオフセット値を検出する
際、前記走査手段により走査されるビーム光を前記ビー
ム光位置検知手段の非検知領域に移動させるビーム光偏
向手段と、前記オフセット検出手段で検出されたオフセ
ット値に応じて前記制御手段の基準値を補正する補正手
段とを具備している。
【００１７】また、本発明のビーム光走査装置は、ビー
ム光を発生するビーム光発生手段と、このビーム光発生
手段から発生されたビーム光を被走査面へ向けて反射
し、前記ビーム光により前記被走査面を走査する走査手
段と、この走査手段により前記被走査面を走査すべく導
かれたビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほ
ぼ直交する方向に並列配置された複数の光検知部で検知
するビーム光位置検知手段と、このビーム光位置検知手
段の近傍に配設され、前記走査手段により走査されるビ
ーム光の通過を検知するビーム光通過検知手段と、前記
ビーム光位置検知手段の出力を増幅する増幅器と、前記
ビーム光通過検知手段から出力されるビーム光通過検知
信号が印加されることにより積分動作を開始し、前記増
幅器の出力を積分する積分器とからなる信号処理手段
と、この信号処理手段の出力に基づき前記走査手段によ
り走査されるビーム光の前記被走査面における通過位置
が適正位置となるように制御する制御手段と、前記信号
処理手段のオフセット値を検出するオフセット検出手段
と、このオフセット検出手段がオフセット値を検出する
際、前記走査手段により走査されるビーム光を前記ビー
ム光位置検知手段の非検知領域に移動させるビーム光偏
向手段と、前記オフセット検出手段で検出されたオフセ
ット値に応じて前記信号処理手段の出力を補正する補正
手段とを具備している。
【００１８】また、本発明のビーム光走査装置は、ビー
ム光を発生するビーム光発生手段と、このビーム光発生
手段から発生されたビーム光を被走査面へ向けて反射
し、前記ビーム光により前記被走査面を走査する走査手
段と、この走査手段により前記被走査面を走査すべく導
かれたビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほ
ぼ直交する方向に並列配置された複数の光検知部で検知
するビーム光位置検知手段と、このビーム光位置検知手
段の近傍に配設され、前記走査手段により走査されるビ
ーム光の通過を検知するビーム光通過検知手段と、前記
ビーム光位置検知手段の出力を増幅する増幅器と、前記
ビーム光通過検知手段から出力されるビーム光通過検知
信号が印加されることにより積分動作を開始し、前記増
幅器の出力を積分する積分器とからなる信号処理手段
と、この信号処理手段の出力に基づき前記走査手段によ
り走査されるビーム光の前記被走査面における通過位置
が適正位置となるように制御する制御手段と、前記信号
処理手段のオフセット値を検出するオフセット検出手段
と、このオフセット検出手段がオフセット値を検出する
際、前記走査手段により走査されるビーム光を前記ビー
ム光位置検知手段の非検知領域に移動させるビーム光偏
向手段と、前記オフセット検出手段で検出されたオフセ
ット値を前記信号処理手段における積分器の基準電圧と
して帰還する帰還手段とを具備している。
【００１９】また、本発明のビーム光走査装置は、ビー
ム光を発生するビーム光発生手段と、このビーム光発生
手段から発生されたビーム光を被走査面へ向けて反射
し、前記ビーム光により前記被走査面を走査する走査手
段と、この走査手段により前記被走査面を走査すべく導
かれたビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほ
ぼ直交する方向に並列配置された複数の光検知部で検知
するビーム光位置検知手段と、このビーム光位置検知手
段の近傍に配設され、前記走査手段により走査されるビ
ーム光の通過を検知する第１のビーム光通過検知手段
と、この第１のビーム光通過検知手段の近傍に配設さ
れ、前記走査手段により走査されるビーム光の通過を検
知する第２のビーム光通過検知手段と、前記ビーム光位
置検知手段の出力を増幅する増幅器と、この増幅器の出
力を積分する積分器とからなる信号処理手段と、この信
号処理手段の出力をあらかじめ設定される基準値と比較
し、その比較結果に基づき前記走査手段により走査され
るビーム光の前記被走査面における通過位置が適正位置
となるように制御する第１の制御手段と、前記信号処理
手段のオフセット値を検出するオフセット検出手段と、
このオフセット検出手段がオフセット値を検出する際
は、前記第２のビーム光通過検知手段の出力を積分動作
開始信号として前記積分器に印加し、前記第１の制御手
段によるビーム光位置制御時は、前記第１のビーム光通
過検知手段の出力を積分動作開始信号として前記積分器
に印加する第２の制御手段と、前記オフセット検出手段
で検出されたオフセット値に応じて前記第１の制御手段
の基準値を補正する補正手段とを具備している。
【００２０】また、本発明のビーム光走査装置は、ビー
ム光を発生するビーム光発生手段と、このビーム光発生
手段から発生されたビーム光を被走査面へ向けて反射
し、前記ビーム光により前記被走査面を走査する走査手
段と、この走査手段により前記被走査面を走査すべく導
かれたビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほ
ぼ直交する方向に並列配置された複数の光検知部で検知
するビーム光位置検知手段と、このビーム光位置検知手
段の近傍に配設され、前記走査手段により走査されるビ
ーム光の通過を検知する第１のビーム光通過検知手段
と、この第１のビーム光通過検知手段の近傍に配設さ
れ、前記走査手段により走査されるビーム光の通過を検
知する第２のビーム光通過検知手段と、前記ビーム光位
置検知手段の出力を増幅する増幅器と、この増幅器の出
力を積分する積分器とからなる信号処理手段と、この信
号処理手段の出力に基づき前記走査手段により走査され
るビーム光の前記被走査面における通過位置が適正位置
となるように制御する第１の制御手段と、前記信号処理
手段のオフセット値を検出するオフセット検出手段と、
このオフセット検出手段がオフセット値を検出する際
は、前記第２のビーム光通過検知手段の出力を積分動作
開始信号として前記積分器に印加し、前記第１の制御手
段によるビーム光位置制御時は、前記第１のビーム光通
過検知手段の出力を積分動作開始信号として前記積分器
に印加する第２の制御手段と、前記オフセット検出手段
で検出されたオフセット値に応じて前記信号処理手段の
出力を補正する補正手段とを具備している。
【００２１】また、本発明のビーム光走査装置は、ビー
ム光を発生するビーム光発生手段と、このビーム光発生
手段から発生されたビーム光を被走査面へ向けて反射
し、前記ビーム光により前記被走査面を走査する走査手
段と、この走査手段により前記被走査面を走査すべく導
かれたビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほ
ぼ直交する方向に並列配置された複数の光検知部で検知
するビーム光位置検知手段と、このビーム光位置検知手
段の近傍に配設され、前記走査手段により走査されるビ
ーム光の通過を検知する第１のビーム光通過検知手段
と、この第１のビーム光通過検知手段の近傍に配設さ
れ、前記走査手段により走査されるビーム光の通過を検
知する第２のビーム光通過検知手段と、前記ビーム光位
置検知手段の出力を増幅する増幅器と、この増幅器の出
力を積分する積分器とからなる信号処理手段と、この信
号処理手段の出力に基づき前記走査手段により走査され
るビーム光の前記被走査面における通過位置が適正位置
となるように制御する第１の制御手段と、前記信号処理
手段のオフセット値を検出するオフセット検出手段と、
このオフセット検出手段がオフセット値を検出する際
は、前記第２のビーム光通過検知手段の出力を積分動作
開始信号として前記積分器に印加し、前記第１の制御手
段によるビーム光位置制御時は、前記第１のビーム光通
過検知手段の出力を積分動作開始信号として前記積分器
に印加する第２の制御手段と、前記オフセット検出手段
で検出されたオフセット値を前記信号処理手段における
積分器の基準電圧として帰還する帰還手段とを具備して
いる。
【００２２】また、本発明のビーム光走査装置は、ビー
ム光を発生するビーム光発生手段と、このビーム光発生
手段から発生されたビーム光を被走査面へ向けて反射
し、前記ビーム光により前記被走査面を走査する走査手
段と、この走査手段により前記被走査面を走査すべく導
かれたビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほ
ぼ直交する方向に並列配置された複数の光検知部で検知
するビーム光位置検知手段と、このビーム光位置検知手
段の近傍に配設され、前記走査手段により走査されるビ
ーム光の通過を検知するビーム光通過検知手段と、前記
ビーム光位置検知手段の出力を増幅する増幅器と、前記
ビーム光通過検知手段から出力されるビーム光通過検知
信号が印加されることにより積分動作を開始し、前記増
幅器の出力を積分する積分器とからなる信号処理手段
と、この信号処理手段の出力をあらかじめ設定される基
準値と比較し、その比較結果に基づき前記走査手段によ
り走査されるビーム光の前記被走査面における通過位置
が適正位置となるように制御する制御手段と、前記信号
処理手段のオフセット値を検出するオフセット検出手段
と、このオフセット検出手段がオフセット値を検出する
際、前記走査手段により走査されるビーム光を前記ビー
ム光位置検知手段の非検知領域に移動させるビーム光偏
向手段と、前記オフセット検出手段がオフセット値を検
出する際、前記ビーム光通過検知手段から出力されるビ
ーム光通過検知信号が印加されることにより動作を開始
し、あらかじめ設定される所定時間経過すると、前記積
分器に対して積分動作終了信号を印加するタイマ手段
と、前記オフセット検出手段で検出されたオフセット値
に応じて前記制御手段の基準値を補正する補正手段とを
具備している。
【００２３】また、本発明のビーム光走査装置は、ビー
ム光を発生するビーム光発生手段と、このビーム光発生
手段から発生されたビーム光を被走査面へ向けて反射
し、前記ビーム光により前記被走査面を走査する走査手
段と、この走査手段により前記被走査面を走査すべく導
かれたビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほ
ぼ直交する方向に並列配置された複数の光検知部で検知
するビーム光位置検知手段と、このビーム光位置検知手
段の近傍に配設され、前記走査手段により走査されるビ
ーム光の通過を検知するビーム光通過検知手段と、前記
ビーム光位置検知手段の出力を増幅する増幅器と、前記
ビーム光通過検知手段から出力されるビーム光通過検知
信号が印加されることにより積分動作を開始し、前記増
幅器の出力を積分する積分器とからなる信号処理手段
と、この信号処理手段の出力に基づき前記走査手段によ
り走査されるビーム光の前記被走査面における通過位置
が適正位置となるように制御する制御手段と、前記信号
処理手段のオフセット値を検出するオフセット検出手段
と、このオフセット検出手段がオフセット値を検出する
際、前記走査手段により走査されるビーム光を前記ビー
ム光位置検知手段の非検知領域に移動させるビーム光偏
向手段と、前記オフセット検出手段がオフセット値を検
出する際、前記ビーム光通過検知手段から出力されるビ
ーム光通過検知信号が印加されることにより動作を開始
し、あらかじめ設定される所定時間経過すると、前記積
分器に対して積分動作終了信号を印加するタイマ手段
と、前記オフセット検出手段で検出されたオフセット値
に応じて前記信号処理手段の出力を補正する補正手段と
を具備している。
【００２４】また、本発明のビーム光走査装置は、ビー
ム光を発生するビーム光発生手段と、このビーム光発生
手段から発生されたビーム光を被走査面へ向けて反射
し、前記ビーム光により前記被走査面を走査する走査手
段と、この走査手段により前記被走査面を走査すべく導
かれたビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほ
ぼ直交する方向に並列配置された複数の光検知部で検知
するビーム光位置検知手段と、このビーム光位置検知手
段の近傍に配設され、前記走査手段により走査されるビ
ーム光の通過を検知するビーム光通過検知手段と、前記
ビーム光位置検知手段の出力を増幅する増幅器と、前記
ビーム光通過検知手段から出力されるビーム光通過検知
信号が印加されることにより積分動作を開始し、前記増
幅器の出力を積分する積分器とからなる信号処理手段
と、この信号処理手段の出力に基づき前記走査手段によ
り走査されるビーム光の前記被走査面における通過位置
が適正位置となるように制御する制御手段と、前記信号
処理手段のオフセット値を検出するオフセット検出手段
と、このオフセット検出手段がオフセット値を検出する
際、前記走査手段により走査されるビーム光を前記ビー
ム光位置検知手段の非検知領域に移動させるビーム光偏
向手段と、前記オフセット検出手段がオフセット値を検
出する際、前記ビーム光通過検知手段から出力されるビ
ーム光通過検知信号が印加されることにより動作を開始
し、あらかじめ設定される所定時間経過すると、前記積
分器に対して積分動作終了信号を印加するタイマ手段
と、前記オフセット検出手段で検出されたオフセット値
を前記信号処理手段における積分器の基準電圧として帰
還する帰還手段とを具備している。
【００２５】また、本発明のビーム光走査装置は、ビー
ム光を発生するビーム光発生手段と、このビーム光発生
手段から発生されたビーム光を被走査面へ向けて反射
し、前記ビーム光により前記被走査面を走査する走査手
段と、この走査手段により前記被走査面を走査すべく導
かれたビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほ
ぼ直交する方向に並列配置された複数の光検知部で検知
するビーム光位置検知手段と、このビーム光位置検知手
段の近傍に配設され、前記走査手段により走査されるビ
ーム光の通過を検知するビーム光通過検知手段と、前記
ビーム光位置検知手段の出力を増幅する増幅器と、前記
ビーム光通過検知手段から出力されるビーム光通過検知
信号が印加されることにより積分動作を開始し、前記増
幅器の出力を積分する積分器とからなる信号処理手段
と、この信号処理手段の出力をあらかじめ設定される基
準値と比較し、その比較結果に基づき前記走査手段によ
り走査されるビーム光の前記被走査面における通過位置
が適正位置となるように制御する制御手段と、前記信号
処理手段のオフセット値を検出するオフセット検出手段
と、このオフセット検出手段がオフセット値を検出する
際、前記ビーム光位置検知手段への入射光を遮断する遮
光手段と、前記オフセット検出手段で検出されたオフセ
ット値に応じて前記制御手段の基準値を補正する補正手
段とを具備している。
【００２６】また、本発明のビーム光走査装置は、ビー
ム光を発生するビーム光発生手段と、このビーム光発生
手段から発生されたビーム光を被走査面へ向けて反射
し、前記ビーム光により前記被走査面を走査する走査手
段と、この走査手段により前記被走査面を走査すべく導
かれたビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほ
ぼ直交する方向に並列配置された複数の光検知部で検知
するビーム光位置検知手段と、このビーム光位置検知手
段の近傍に配設され、前記走査手段により走査されるビ
ーム光の通過を検知するビーム光通過検知手段と、前記
ビーム光位置検知手段の出力を増幅する増幅器と、前記
ビーム光通過検知手段から出力されるビーム光通過検知
信号が印加されることにより積分動作を開始し、前記増
幅器の出力を積分する積分器とからなる信号処理手段
と、この信号処理手段の出力に基づき前記走査手段によ
り走査されるビーム光の前記被走査面における通過位置
が適正位置となるように制御する制御手段と、前記信号
処理手段のオフセット値を検出するオフセット検出手段
と、このオフセット検出手段がオフセット値を検出する
際、前記ビーム光位置検知手段への入射光を遮断する遮
光手段と、前記オフセット検出手段で検出されたオフセ
ット値に応じて前記信号処理手段の出力を補正する補正
手段とを具備している。
【００２７】また、本発明のビーム光走査装置は、ビー
ム光を発生するビーム光発生手段と、このビーム光発生
手段から発生されたビーム光を被走査面へ向けて反射
し、前記ビーム光により前記被走査面を走査する走査手
段と、この走査手段により前記被走査面を走査すべく導
かれたビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほ
ぼ直交する方向に並列配置された複数の光検知部で検知
するビーム光位置検知手段と、このビーム光位置検知手
段の近傍に配設され、前記走査手段により走査されるビ
ーム光の通過を検知するビーム光通過検知手段と、前記
ビーム光位置検知手段の出力を増幅する増幅器と、前記
ビーム光通過検知手段から出力されるビーム光通過検知
信号が印加されることにより積分動作を開始し、前記増
幅器の出力を積分する積分器とからなる信号処理手段
と、この信号処理手段の出力に基づき前記走査手段によ
り走査されるビーム光の前記被走査面における通過位置
が適正位置となるように制御する制御手段と、前記信号
処理手段のオフセット値を検出するオフセット検出手段
と、このオフセット検出手段がオフセット値を検出する
際、前記ビーム光位置検知手段への入射光を遮断する遮
光手段と、前記オフセット検出手段で検出されたオフセ
ット値を前記信号処理手段における積分器の基準電圧と
して帰還する帰還手段とを具備している。
【００２８】また、本発明のビーム光走査装置は、ビー
ム光を発生するビーム光発生手段と、このビーム光発生
手段から発生されたビーム光を被走査面へ向けて反射
し、前記ビーム光により前記被走査面を走査する走査手
段と、この走査手段により前記被走査面を走査すべく導
かれたビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほ
ぼ直交する方向に並列配置された複数の光検知部で検知
するビーム光位置検知手段と、このビーム光位置検知手
段の近傍に配設され、前記走査手段により走査されるビ
ーム光の通過を検知するビーム光通過検知手段と、前記
ビーム光位置検知手段の出力を増幅する増幅器と、この
増幅器の出力を積分する積分器とからなる信号処理手段
と、この信号処理手段の出力をあらかじめ設定される基
準値と比較し、その比較結果に基づき前記走査手段によ
り走査されるビーム光の前記被走査面における通過位置
が適正位置となるように制御する第１の制御手段と、前
記信号処理手段のオフセット値を検出するオフセット検
出手段と、前記積分器の積分動作を制御するタイミング
信号を発生するタイミング信号発生手段と、前記オフセ
ット検出手段がオフセット値を検出する際は、前記タイ
ミング信号発生手段から発生されるタイミング信号を前
記積分器に印加し、前記第１の制御手段によるビーム光
位置制御時は、前記ビーム光通過検知手段の出力を積分
動作を制御するタイミング信号として前記積分器に印加
する第２の制御手段と、前記オフセット検出手段で検出
されたオフセット値に応じて前記第１の制御手段の基準
値を補正する補正手段とを具備している。
【００２９】また、本発明のビーム光走査装置は、ビー
ム光を発生するビーム光発生手段と、このビーム光発生
手段から発生されたビーム光を被走査面へ向けて反射
し、前記ビーム光により前記被走査面を走査する走査手
段と、この走査手段により前記被走査面を走査すべく導
かれたビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほ
ぼ直交する方向に並列配置された複数の光検知部で検知
するビーム光位置検知手段と、このビーム光位置検知手
段の近傍に配設され、前記走査手段により走査されるビ
ーム光の通過を検知するビーム光通過検知手段と、前記
ビーム光位置検知手段の出力を増幅する増幅器と、この
増幅器の出力を積分する積分器とからなる信号処理手段
と、この信号処理手段の出力に基づき前記走査手段によ
り走査されるビーム光の前記被走査面における通過位置
が適正位置となるように制御する第１の制御手段と、前
記信号処理手段のオフセット値を検出するオフセット検
出手段と、前記積分器の積分動作を制御するタイミング
信号を発生するタイミング信号発生手段と、前記オフセ
ット検出手段がオフセット値を検出する際は、前記タイ
ミング信号発生手段から発生されるタイミング信号を前
記積分器に印加し、前記第１の制御手段によるビーム光
位置制御時は、前記ビーム光通過検知手段の出力を積分
動作を制御するタイミング信号として前記積分器に印加
する第２の制御手段と、前記オフセット検出手段で検出
されたオフセット値に応じて前記信号処理手段の出力を
補正する補正手段とを具備している。
【００３０】また、本発明のビーム光走査装置は、ビー
ム光を発生するビーム光発生手段と、このビーム光発生
手段から発生されたビーム光を被走査面へ向けて反射
し、前記ビーム光により前記被走査面を走査する走査手
段と、この走査手段により前記被走査面を走査すべく導
かれたビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほ
ぼ直交する方向に並列配置された複数の光検知部で検知
するビーム光位置検知手段と、このビーム光位置検知手
段の近傍に配設され、前記走査手段により走査されるビ
ーム光の通過を検知するビーム光通過検知手段と、前記
ビーム光位置検知手段の出力を増幅する増幅器と、この
増幅器の出力を積分する積分器とからなる信号処理手段
と、この信号処理手段の出力に基づき前記走査手段によ
り走査されるビーム光の前記被走査面における通過位置
が適正位置となるように制御する第１の制御手段と、前
記信号処理手段のオフセット値を検出するオフセット検
出手段と、前記積分器の積分動作を制御するタイミング
信号を発生するタイミング信号発生手段と、前記オフセ
ット検出手段がオフセット値を検出する際は、前記タイ
ミング信号発生手段から発生されるタイミング信号を前
記積分器に印加し、前記第１の制御手段によるビーム光
位置制御時は、前記ビーム光通過検知手段の出力を積分
動作を制御するタイミング信号として前記積分器に印加
する第２の制御手段と、前記オフセット検出手段で検出
されたオフセット値を前記信号処理手段における積分器
の基準電圧として帰還する帰還手段とを具備している。
【００３１】また、本発明のビーム光走査装置は、ビー
ム光を発生する複数のビーム光発生手段と、この複数の
ビーム光発生手段から発生された複数のビーム光を被走
査面へ向けてそれぞれ反射し、前記複数のビーム光によ
り前記被走査面を走査する走査手段と、この走査手段に
より前記被走査面を走査すべく導かれた複数のビーム光
を、前記複数のビーム光の走査方向に対してほぼ直交す
る方向に並列配置された複数の光検知部で検知するビー
ム光位置検知手段と、このビーム光位置検知手段の近傍
に配設され、前記走査手段により走査される複数のビー
ム光の通過を検知するビーム光通過検知手段と、前記ビ
ーム光位置検知手段がビーム光の位置を検知する際は、
１つのビーム光発生手段のみが発光動作するように前記
複数のビーム光発生手段を制御する第１の制御手段と、
前記ビーム光位置検知手段の出力を増幅する増幅器と、
前記ビーム光通過検知手段から出力されるビーム光通過
検知信号が印加されることにより積分動作を開始し、前
記増幅器の出力を積分する積分器とからなる信号処理手
段と、この信号処理手段の出力をあらかじめ設定される
基準値と比較し、その比較結果に基づき前記走査手段に
より走査される複数のビーム光の前記被走査面における
相対位置が適正位置となるように制御する第２の制御手
段と、前記信号処理手段のオフセット値を検出するオフ
セット検出手段と、このオフセット検出手段がオフセッ
ト値を検出する際、前記走査手段により走査される複数
のビーム光を前記ビーム光位置検知手段の非検知領域に
移動させるビーム光偏向手段と、前記オフセット検出手
段で検出されたオフセット値に応じて前記第２の制御手
段の基準値を補正する補正手段とを具備している。
【００３２】また、本発明のビーム光走査装置は、ビー
ム光を発生する複数のビーム光発生手段と、この複数の
ビーム光発生手段から発生された複数のビーム光を被走
査面へ向けてそれぞれ反射し、前記複数のビーム光によ
り前記被走査面を走査する走査手段と、この走査手段に
より前記被走査面を走査すべく導かれた複数のビーム光
を、前記複数のビーム光の走査方向に対してほぼ直交す
る方向に並列配置された複数の光検知部で検知するビー
ム光位置検知手段と、このビーム光位置検知手段の近傍
に配設され、前記走査手段により走査される複数のビー
ム光の通過を検知するビーム光通過検知手段と、前記ビ
ーム光位置検知手段がビーム光の位置を検知する際は、
１つのビーム光発生手段のみが発光動作するように前記
複数のビーム光発生手段を制御する第１の制御手段と、
前記ビーム光位置検知手段の出力を増幅する増幅器と、
前記ビーム光通過検知手段から出力されるビーム光通過
検知信号が印加されることにより積分動作を開始し、前
記増幅器の出力を積分する積分器とからなる信号処理手
段と、この信号処理手段の出力に基づき前記走査手段に
より走査される複数のビーム光の前記被走査面における
相対位置が適正位置となるように制御する第２の制御手
段と、前記信号処理手段のオフセット値を検出するオフ
セット検出手段と、このオフセット検出手段がオフセッ
ト値を検出する際、前記走査手段により走査される複数
のビーム光を前記ビーム光位置検知手段の非検知領域に
移動させるビーム光偏向手段と、前記オフセット検出手
段で検出されたオフセット値に応じて前記信号処理手段
の出力を補正する補正手段とを具備している。
【００３３】また、本発明の画像形成装置は、ビーム光
により像担持体上を走査露光することにより前記像担持
体上に画像を形成する画像形成装置であって、ビーム光
を発生するビーム光発生手段と、このビーム光発生手段
から発生されたビーム光を像担持体へ向けて反射し、前
記ビーム光により前記像担持体上を走査する走査手段
と、この走査手段により前記像担持体上を走査すべく導
かれたビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほ
ぼ直交する方向に並列配置された複数の光検知部で検知
するビーム光位置検知手段と、オフセット値を有した信
号処理素子によって構成され、前記ビーム光位置検知手
段の出力をビーム光位置情報に変換する信号処理手段
と、この信号処理手段から出力されるビーム光位置情報
をあらかじめ設定される基準値と比較し、その比較結果
に基づき前記走査手段により走査されるビーム光の前記
像担持体上における通過位置が適正位置となるように制
御する制御手段と、前記信号処理手段のオフセット値を
検出するオフセット検出手段と、このオフセット検出手
段で検出されたオフセット値に応じて前記制御手段の基
準値を補正する補正手段とを具備している。
【００３４】また、本発明の画像形成装置は、ビーム光
により像担持体上を走査露光することにより前記像担持
体上に画像を形成する画像形成装置であって、ビーム光
を発生するビーム光発生手段と、このビーム光発生手段
から発生されたビーム光を像担持体へ向けて反射し、前
記ビーム光により前記像担持体上を走査する走査手段
と、この走査手段により前記像担持体上を走査すべく導
かれたビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほ
ぼ直交する方向に並列配置された複数の光検知部で検知
するビーム光位置検知手段と、オフセット値を有した信
号処理素子によって構成され、前記ビーム光位置検知手
段の出力をビーム光位置情報に変換する信号処理手段
と、この信号処理手段から出力されるビーム光位置情報
に基づき、前記走査手段により走査されるビーム光の前
記像担持体上における通過位置が適正位置となるように
制御する制御手段と、前記信号処理手段のオフセット値
を検出するオフセット検出手段と、このオフセット検出
手段で検出されたオフセット値に応じて前記信号処理手
段から出力されるビーム光位置情報を補正する補正手段
とを具備している。
【００３５】また、本発明の画像形成装置は、ビーム光
により像担持体上を走査露光することにより前記像担持
体上に画像を形成する画像形成装置であって、ビーム光
を発生するビーム光発生手段と、このビーム光発生手段
から発生されたビーム光を像担持体へ向けて反射し、前
記ビーム光により前記像担持体上を走査する走査手段
と、この走査手段により前記像担持体上を走査すべく導
かれたビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほ
ぼ直交する方向に並列配置された複数の光検知部で検知
するビーム光位置検知手段と、このビーム光位置検知手
段の近傍に配設され、前記走査手段により走査されるビ
ーム光の通過を検知するビーム光通過検知手段と、前記
ビーム光位置検知手段の出力を増幅する増幅器と、前記
ビーム光通過検知手段から出力されるビーム光通過検知
信号が印加されることにより積分動作を開始し、前記増
幅器の出力を積分する積分器とからなる信号処理手段
と、この信号処理手段の出力をあらかじめ設定される基
準値と比較し、その比較結果に基づき前記走査手段によ
り走査されるビーム光の前記像担持体上における通過位
置が適正位置となるように制御する制御手段と、前記信
号処理手段のオフセット値を検出するオフセット検出手
段と、このオフセット検出手段がオフセット値を検出す
る際、前記走査手段により走査されるビーム光を前記ビ
ーム光位置検知手段の非検知領域に移動させるビーム光
偏向手段と、前記オフセット検出手段で検出されたオフ
セット値に応じて前記制御手段の基準値を補正する補正
手段とを具備している。
【００３６】また、本発明の画像形成装置は、ビーム光
により像担持体上を走査露光することにより前記像担持
体上に画像を形成する画像形成装置であって、ビーム光
を発生するビーム光発生手段と、このビーム光発生手段
から発生されたビーム光を像担持体へ向けて反射し、前
記ビーム光により前記像担持体上を走査する走査手段
と、この走査手段により前記像担持体上を走査すべく導
かれたビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほ
ぼ直交する方向に並列配置された複数の光検知部で検知
するビーム光位置検知手段と、このビーム光位置検知手
段の近傍に配設され、前記走査手段により走査されるビ
ーム光の通過を検知するビーム光通過検知手段と、前記
ビーム光位置検知手段の出力を増幅する増幅器と、前記
ビーム光通過検知手段から出力されるビーム光通過検知
信号が印加されることにより積分動作を開始し、前記増
幅器の出力を積分する積分器とからなる信号処理手段
と、この信号処理手段の出力に基づき前記走査手段によ
り走査されるビーム光の前記像担持体上における通過位
置が適正位置となるように制御する制御手段と、前記信
号処理手段のオフセット値を検出するオフセット検出手
段と、このオフセット検出手段がオフセット値を検出す
る際、前記走査手段により走査されるビーム光を前記ビ
ーム光位置検知手段の非検知領域に移動させるビーム光
偏向手段と、前記オフセット検出手段で検出されたオフ
セット値に応じて前記信号処理手段の出力を補正する補
正手段とを具備している。
【００３７】また、本発明の画像形成装置は、複数のビ
ーム光により像担持体上を走査露光することにより前記
像担持体上に画像を形成する画像形成装置であって、ビ
ーム光を発生する複数のビーム光発生手段と、この複数
のビーム光発生手段から発生された複数のビーム光を像
担持体へ向けてそれぞれ反射し、前記複数のビーム光に
より前記像担持体上を走査する走査手段と、この走査手
段により前記像担持体上を走査すべく導かれた複数のビ
ーム光を、前記複数のビーム光の走査方向に対してほぼ
直交する方向に並列配置された複数の光検知部で検知す
るビーム光位置検知手段と、このビーム光位置検知手段
の近傍に配設され、前記走査手段により走査される複数
のビーム光の通過を検知するビーム光通過検知手段と、
前記ビーム光位置検知手段がビーム光の位置を検知する
際は、１つのビーム光発生手段のみが発光動作するよう
に前記複数のビーム光発生手段を制御する第１の制御手
段と、オフセット値を有した信号処理素子によって構成
され、前記ビーム光位置検知手段の出力をビーム光位置
情報に変換する信号処理手段と、この信号処理手段から
出力されるビーム光位置情報をあらかじめ設定される基
準値と比較し、その比較結果に基づき前記走査手段によ
り走査される複数のビーム光の前記像担持体上における
相対位置が適正位置となるように制御する第２の制御手
段と、前記信号処理手段のオフセット値を検出するオフ
セット検出手段と、このオフセット検出手段で検出され
たオフセット値に応じて前記第２の制御手段の基準値を
補正する補正手段とを具備している。
【００３８】また、本発明の画像形成装置は、複数のビ
ーム光により像担持体上を走査露光することにより前記
像担持体上に画像を形成する画像形成装置であって、ビ
ーム光を発生する複数のビーム光発生手段と、この複数
のビーム光発生手段から発生された複数のビーム光を像
担持体へ向けてそれぞれ反射し、前記複数のビーム光に
より前記像担持体上を走査する走査手段と、この走査手
段により前記像担持体上を走査すべく導かれた複数のビ
ーム光を、前記複数のビーム光の走査方向に対してほぼ
直交する方向に並列配置された複数の光検知部で検知す
るビーム光位置検知手段と、このビーム光位置検知手段
の近傍に配設され、前記走査手段により走査される複数
のビーム光の通過を検知するビーム光通過検知手段と、
前記ビーム光位置検知手段がビーム光の位置を検知する
際は、１つのビーム光発生手段のみが発光動作するよう
に前記複数のビーム光発生手段を制御する第１の制御手
段と、オフセット値を有した信号処理素子によって構成
され、前記ビーム光位置検知手段の出力をビーム光位置
情報に変換する信号処理手段と、この信号処理手段から
出力されるビーム光位置情報に基づき前記走査手段によ
り走査される複数のビーム光の前記像担持体上における
相対位置が適正位置となるように制御する第２の制御手
段と、前記信号処理手段のオフセット値を検出するオフ
セット検出手段と、このオフセット検出手段で検出され
たオフセット値に応じて前記信号処理手段から出力され
るビーム光位置情報を補正する補正手段とを具備してい
る。
【００３９】また、本発明の画像形成装置は、複数のビ
ーム光により像担持体上を走査露光することにより前記
像担持体上に画像を形成する画像形成装置であって、ビ
ーム光を発生する複数のビーム光発生手段と、この複数
のビーム光発生手段から発生された複数のビーム光を像
担持体へ向けてそれぞれ反射し、前記複数のビーム光に
より前記像担持体上を走査する走査手段と、この走査手
段により前記像担持体上を走査すべく導かれた複数のビ
ーム光を、前記複数のビーム光の走査方向に対してほぼ
直交する方向に並列配置された複数の光検知部で検知す
るビーム光位置検知手段と、このビーム光位置検知手段
の近傍に配設され、前記走査手段により走査される複数
のビーム光の通過を検知するビーム光通過検知手段と、
前記ビーム光位置検知手段がビーム光の位置を検知する
際は、１つのビーム光発生手段のみが発光動作するよう
に前記複数のビーム光発生手段を制御する第１の制御手
段と、前記ビーム光位置検知手段の出力を増幅する増幅
器と、前記ビーム光通過検知手段から出力されるビーム
光通過検知信号が印加されることにより積分動作を開始
し、前記増幅器の出力を積分する積分器とからなる信号
処理手段と、この信号処理手段の出力をあらかじめ設定
される基準値と比較し、その比較結果に基づき前記走査
手段により走査される複数のビーム光の前記像担持体上
における相対位置が適正位置となるように制御する第２
の制御手段と、前記信号処理手段のオフセット値を検出
するオフセット検出手段と、このオフセット検出手段が
オフセット値を検出する際、前記走査手段により走査さ
れる複数のビーム光を前記ビーム光位置検知手段の非検
知領域に移動させるビーム光偏向手段と、前記オフセッ
ト検出手段で検出されたオフセット値に応じて前記第２
の制御手段の基準値を補正する補正手段とを具備してい
る。
【００４０】さらに、本発明の画像形成装置は、複数の
ビーム光により像担持体上を走査露光することにより前
記像担持体上に画像を形成する画像形成装置であって、
ビーム光を発生する複数のビーム光発生手段と、この複
数のビーム光発生手段から発生された複数のビーム光を
像担持体へ向けてそれぞれ反射し、前記複数のビーム光
により前記像担持体上を走査する走査手段と、この走査
手段により前記像担持体上を走査すべく導かれた複数の
ビーム光を、前記複数のビーム光の走査方向に対してほ
ぼ直交する方向に並列配置された複数の光検知部で検知
するビーム光位置検知手段と、このビーム光位置検知手
段の近傍に配設され、前記走査手段により走査される複
数のビーム光の通過を検知するビーム光通過検知手段
と、前記ビーム光位置検知手段がビーム光の位置を検知
する際は、１つのビーム光発生手段のみが発光動作する
ように前記複数のビーム光発生手段を制御する第１の制
御手段と、前記ビーム光位置検知手段の出力を増幅する
増幅器と、前記ビーム光通過検知手段から出力されるビ
ーム光通過検知信号が印加されることにより積分動作を
開始し、前記増幅器の出力を積分する積分器とからなる
信号処理手段と、この信号処理手段の出力に基づき前記
走査手段により走査される複数のビーム光の前記像担持
体上における相対位置が適正位置となるように制御する
第２の制御手段と、前記信号処理手段のオフセット値を
検出するオフセット検出手段と、このオフセット検出手
段がオフセット値を検出する際、前記走査手段により走
査される複数のビーム光を前記ビーム光位置検知手段の
非検知領域に移動させるビーム光偏向手段と、前記オフ
セット検出手段で検出されたオフセット値に応じて前記
信号処理手段の出力を補正する補正手段とを具備してい
る。
【００４１】本発明によれば、ビーム光位置検知手段の
出力をビーム光位置情報に変換する信号処理手段のオフ
セット値を検出し、この検出したオフセット値に応じた
補正処理を行なうことによって、制御誤差の極めて少な
いビーム光位置制御を実現できる。これにより、被走査
面におけるビーム光の位置を常に適正位置に高精度を制
御でき、よって、常に高画質を維持することができる。
【００４２】また、複数のビーム光を用いる場合も、被
走査面における複数のビーム光相互の位置関係を常に理
想的な位置に高精度を制御でき、よって、常に高画質を
維持することができる。
【００４３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。
【００４４】図１は、本実施の形態に係るビーム光走査
装置が適用される画像形成装置としてのデジタル複写機
の構成を示すものである。すなわち、このデジタル複写
機は、たとえば、画像読取手段としてのスキャナ部１、
および、画像形成手段としてのプリンタ部２から構成さ
れている。スキャナ部１は、図示矢印方向に移動可能な
第１キャリジ３と第２キャリジ４、結像レンズ５、およ
び、光電変換素子６などから構成されている。
【００４５】図１において、原稿Ｏは透明ガラスからな
る原稿台７上に下向きに置かれ、その原稿Ｏの載置基準
は原稿台７の短手方向の正面右側がセンタ基準になって
いる。原稿Ｏは、開閉自在に設けられた原稿固定カバー
８によって原稿台７上に押さえつけられる。
【００４６】原稿Ｏは光源９によって照明され、その反
射光はミラー１０，１１，１２、および、結像レンズ５
を介して光電変換素子６の受光面に集光されるように構
成されている。ここで、上記光源９およびミラー１０を
搭載した第１キャリジ３と、ミラー１１，１２を搭載し
た第２キャリジ４は、光路長を一定にするように２：１
の相対速度で移動するようになっている。第１キャリジ
３および第２キャリジ４は、キャリジ駆動用モータ（図
示せず）によって読取タイミング信号に同期して右から
左方向に移動する。
【００４７】以上のようにして、原稿台７上に載置され
た原稿Ｏの画像は、スキャナ部１によって１ラインごと
に順次読取られ、その読取り出力は、図示しない画像処
理部において画像の濃淡を示す８ビットのデジタル画像
信号に変換される。
【００４８】プリンタ部２は、光学系ユニット１３、お
よび、被画像形成媒体である用紙Ｐ上に画像形成が可能
な電子写真方式を組合わせた画像形成部１４から構成さ
れている。すなわち、原稿Ｏからスキャナ部１で読取ら
れた画像信号は、図示しない画像処理部で処理が行なわ
れた後、半導体レーザ発振器からのレーザビーム光（以
降、単にビーム光と称す）に変換される。ここに、本実
施の形態では、半導体レーザ発振器を複数個（２個以
上）使用するマルチビーム光学系を採用している。
【００４９】光学系ユニット１３の構成については後で
詳細を説明するが、ユニット内に設けられた複数の半導
体レーザ発振器は、図示しない画像処理部から出力され
るレーザ変調信号にしたがって発光動作し、これらから
出力される複数のビーム光は、ポリゴンミラーで反射さ
れて走査光となり、ユニット外部へ出力されるようにな
っている。
【００５０】光学系ユニット１３から出力される複数の
ビーム光は、像担持体としての感光体ドラム１５上の露
光位置Ｘの地点に必要な解像度を持つスポットの走査光
として結像され、走査露光される。これによって、感光
体ドラム１５上には、画像信号に応じた静電潜像が形成
される。
【００５１】感光体ドラム１５の周辺には、その表面を
帯電する帯電チャージャ１６、現像器１７、転写チャー
ジャ１８、剥離チャージャ１９、および、クリーナ２０
などが配設されている。感光体ドラム１７は、駆動モー
タ（図示せず）により所定の外周速度で回転駆動され、
その表面に対向して設けられている帯電チャージャ１６
によって帯電される。帯電された感光体ドラム１５上の
露光位置Ｘの地点に複数のビーム光（走査光）がスポッ
ト結像される。
【００５２】感光体ドラム１５上に形成された静電潜像
は、現像器１７からのトナー（現像剤）により現像され
る。現像によりトナー像を形成された感光体ドラム１５
は、転写位置の地点で給紙系によりタイミングをとって
供給される用紙Ｐ上に転写チャージャ１８によって転写
される。
【００５３】上記給紙系は、底部に設けられた給紙カセ
ット２１内の用紙Ｐを、給紙ローラ２２と分離ローラ２
３とにより１枚ずつ分離して供給する。そして、レジス
トローラ２４まで送られ、所定のタイミングで転写位置
まで供給される。転写チャージャ１８の下流側には、用
紙搬送機構２５、定着器２６、画像形成済みの用紙Ｐを
排出する排紙ローラ２７が配設されている。これによ
り、トナー像が転写された用紙Ｐは、定着器２６でトナ
ー像が定着され、その後、排紙ローラ２７を経て外部の
排紙トレイ２８に排紙される。
【００５４】また、用紙Ｐへの転写が終了した感光体ド
ラム１５は、その表面の残留トナーがクリーナ２０によ
って取り除かれて、初期状態に復帰し、次の画像形成の
待機状態となる。
【００５５】以上のプロセス動作を繰り返すことによ
り、画像形成動作が連続的に行なわれる。
【００５６】以上説明したように、原稿台７上に置かれ
た原稿Ｏは、スキャナ部１で読取られ、その読取り情報
は、プリンタ部２で一連の処理を施された後、用紙Ｐ上
にトナー画像として記録されるものである。
【００５７】次に、光学系ユニット１３について説明す
る。
【００５８】図２は、光学系ユニット１３の構成と感光
体ドラム１５の位置関係を示している。光学系ユニット
１３は、たとえば、４つのビーム光発生手段としての半
導体レーザ発振器３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄを内
蔵していて、それぞれのレーザ発振器３１ａ〜３１ｄ
が、同時に１走査ラインずつの画像形成を行なうこと
で、ポリゴンミラーの回転数を極端に上げることなく、
高速の画像形成を可能としている。
【００５９】すなわち、レーザ発振器３１ａはレーザド
ライバ３２ａで駆動され、出力されるビーム光は、図示
しないコリメータレンズを通過した後、光路変更手段と
してのガルバノミラー３３ａに入射する。ガルバノミラ
ー３３ａで反射されたビーム光は、ハーフミラー３４ａ
とハーフミラー３４ｂを通過し、多面回転ミラーとして
のポリゴンミラー３５に入射する。
【００６０】ポリゴンミラー３５は、ポリゴンモータド
ライバ３７で駆動されるポリゴンモータ３６によって一
定速度で回転されている。これにより、ポリゴンミラー
３５からの反射光は、ポリゴンモータ３６の回転数で定
まる角速度で、一定方向に走査することになる。ポリゴ
ンミラー３５によって走査されたビーム光は、図示しな
いｆ−θレンズのｆ−θ特性により、これを通過するこ
とによって、一定速度で、ビーム光位置検知手段として
のビーム光位置検知器３８の受光面、および、感光体ド
ラム１５上を走査することになる。
【００６１】レーザ発振器３１ｂは、レーザドライバ３
２ｂで駆動され、出力されるビーム光は、図示しないコ
リメータレンズを通過した後、ガルバノミラー３３ｂで
反射し、さらにハーフミラー３４ａで反射する。ハーフ
ミラー３４ａからの反射光は、ハーフミラー３４ｂを通
過し、ポリゴンミラー３５に入射する。ポリゴンミラー
３５以降の経路は、上述したレーザ発振器３１ａの場合
と同じで、図示しないｆ−θレンズを通過し、一定速度
でビーム光位置検知器３８の受光面および感光体ドラム
１５上を走査する。
【００６２】レーザ発振器３１ｃは、レーザドライバ３
２ｃで駆動され、出力されるビーム光は、図示しないコ
リメータレンズを通過した後、ガルバノミラー３３ｃで
反射し、さらにハーフミラー３４ｃを通過し、ハーフミ
ラー３４ｂで反射し、ポリゴンミラー３５に入射する。
ポリゴンミラー３５以降の経路は、上述したレーザ発振
器３１ａ，３１ｂの場合と同じで、図示しないｆ−θレ
ンズを通過し、一定速度でビーム光位置検知器３８の受
光面および感光体ドラム１５上を走査する。
【００６３】レーザ発振器３１ｄは、レーザドライバ３
２ｄで駆動され、出力されるビーム光は、図示しないコ
リメータレンズを通過した後、ガルバノミラー３３ｄで
反射し、さらにハーフミラー３４ｃで反射し、ハーフミ
ラー３４ｂで反射し、ポリゴンミラー３５に入射する。
ポリゴンミラー３５以降の経路は、上述したレーザ発振
器３１ａ，３１ｂ，３１ｃの場合と同じで、図示しない
ｆ−θレンズを通過し、一定速度でビーム光位置検知器
３８の受光面および感光体ドラム１５上を走査する。
【００６４】このようにして、別々のレーザ発振器３１
ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄから出力された各ビーム光
は、ハーフミラー３４ａ，３４ｂ，３４ｃで合成され、
４つのビーム光がポリゴンミラー３５の方向に進むこと
になる。
【００６５】したがって、４つのビーム光は、同時に感
光体ドラム１５上を走査することができ、従来のシング
ルビームの場合に比べ、ポリゴンミラー３５の回転数が
同じである場合、４倍の速度で画像を記録することが可
能となる。
【００６６】ガルバノミラー３３ａ，３３ｂ，３３ｃ，
３３ｄは、副走査方向のビーム光相互間の位置関係を調
整（制御）するためのものであり、それぞれを駆動する
ガルバノミラー駆動回路３９ａ，３９ｂ，３９ｃ，３９
ｄが接続されている。
【００６７】ビーム光位置検知器３８は、上記４つのビ
ーム光の通過位置と通過タイミングを検知するためのも
のであり、その受光面が感光体ドラム１５の表面と同等
になるよう、感光体ドラム１５の端部近傍に配設されて
いる。このビーム光位置検知器３８からの検知信号を基
に、それぞれのビーム光に対応するガルバノミラー３３
ａ，３３ｂ，３３ｃ，３３ｄの制御（副走査方向の画像
形成位置制御）、レーザ発振器３１ａ，３１ｂ，３１
ｃ，３１ｄの発光パワー（強度）の制御、および、発光
タイミングの制御（主走査方向の画像形成位置制御）が
行なわれる（詳細は後述する）。これらの制御を行なう
ための信号を生成するために、ビーム光位置検知器３８
には、ビーム光位置検知器出力処理回路４０が接続され
ている。
【００６８】次にビーム光位置検知器３８について説明
する。
【００６９】図３は、ビーム光位置検知器３８の構成と
ビーム光の走査方向の関係を模式的に示している。４つ
の半導体レーザ発振器３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄ
からのビーム光ａ〜ｄは、左から右へとポリゴンミラー
３５の回転によって走査され、ビーム光位置検知器３８
上を横切る。
【００７０】ビーム光位置検知器３８は、縦に長い２つ
の光検知部としてのセンサパターンＳ１，Ｓ２と、この
２つのセンサパターンＳ１，Ｓ２に挟まれるように配設
された７つの光検知部としてのセンサパターンＳＡ，Ｓ
Ｂ，ＳＣ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＦ，ＳＧとから構成されてい
る。なお、センサパターンＳ１，Ｓ２，ＳＡ〜ＳＧは、
たとえば、フォトダイオードによって構成されている。
【００７１】ここに、センサパターンＳ１は、ビーム光
の通過を検知して、後述する積分器のリセット信号（積
分動作開始信号）を発生するパターン、センサパターン
Ｓ２は、同じくビーム光の通過を検知して、後述するＡ
／Ｄ変換器の変換開始信号を発生するパターンである。
また、センサパターンＳＡ〜ＳＧは、ビーム光の通過位
置を検知するパターンである。
【００７２】センサパターンＳ１，Ｓ２は、図３に示す
ように、ガルバノミラー３３ａ〜３３ｄの位置に関係な
く、ポリゴンミラー３５によって走査されるビーム光ａ
〜ｄが必ず横切るように、ビーム光の走査方向に対して
直角方向に長く形成されている。たとえば、本例では、
ビーム光の走査方向の幅Ｗ１，Ｗ３が２００μｍである
のに対し、ビーム光の走査方向に直角な方向の長さＬ１
は２０００μｍである。
【００７３】センサパターンＳＡ〜ＳＧは、図３に示す
ように、センサパターンＳ１とＳ２の間で、ビーム光の
走査方向と直角な方向に積み重なるように配設されてい
て、その配設長さはセンサパターンＳ１，Ｓ２の長さＬ
１と同一となっている。なお、センサパターンＳＡ〜Ｓ
Ｇのビーム光の走査方向の幅Ｗ２は、たとえば、６００
μｍである。
【００７４】図４は、ビーム光位置検知器３８のセンサ
パターンＳＡ〜ＳＧのパターン形状を拡大して示したも
のである。
【００７５】センサパターンＳＢ〜ＳＦのパターン形状
は、たとえば、３２．３μｍ×６００μｍの長方形であ
り、ビーム光の走査方向と直角方向に約１０μｍの微少
なギャップＧが形成されている。したがって、ギャップ
間の配設ピッチは４２．３μｍになっている。また、セ
ンサパターンＳＡとＳＢ、センサパターンＳＦとＳＧの
ギャップも約１０μｍになるように配設されている。な
お、センサパターンＳＡ，ＳＧのビーム光の走査方向と
直角方向の幅は、センサパターンＳＢ〜ＳＦの幅よりも
大きくしてある。
【００７６】このように構成されたビーム光位置検知器
３８の出力を用いた制御の詳細は後述するが、４２．３
μｍピッチに形成されたギャップが、ビーム光ａ，ｂ，
ｃ，ｄの通過位置を所定のピッチ（本例では４２．３μ
ｍ）間隔に制御するための目標となる。すなわち、ビー
ム光ａはセンサパターンＳＢとＳＣによって形成された
ギャップＧ（Ｂ−Ｃ）が、ビーム光ｂはセンサパターン
ＳＣとＳＤによって形成されたギャップＧ（Ｃ−Ｄ）
が、ビーム光ｃはセンサパターンＳＤとＳＥによって形
成されたギャップＧ（Ｄ−Ｅ）が、ビーム光ｄはセンサ
パターンＳＥとＳＦによって形成されたギャップＧ（Ｅ
−Ｆ）が、それぞれ通過位置の目標となる。
【００７７】次に、図５を用いて、このようなセンサパ
ターンを有したビーム光位置検知器３８の特徴について
説明する。
【００７８】先に説明したように、本ビーム光位置検知
器３８は、その受光面が感光体ドラム１５と同等の位置
になるよう、感光体ドラム１５の端部近傍、あるいは、
ポリゴンミラー３５から感光体ドラム１５までの距離と
同等の光路長を得ることのできる位置に配設されるもの
である。このように配置されたビーム光位置検知器３８
で、ビーム光の通過位置を正確に捉えるには、先に説明
したセンサパターンが、ビーム光の通過方向に対して、
直角平行に配置されるのが理想である。しかし、実際に
は、ビーム光位置検知器３８の取付けには多少の傾きが
生じる。
【００７９】このような取付け位置が理想の位置に対し
て傾いてしまうことに対し、本例のビーム光位置検知器
３８においては、センサパターンの配置を、ビーム光ご
との通過位置を検知するためのポイントがビーム光の通
過方向に対してずれないように配置することによって、
ビーム光位置検知器３８が多少傾いて取付けられたとし
ても、検知ピッチの狂いが最小限に抑えられるよう構成
されている。
【００８０】さらに、後に詳細に説明するが、このビー
ム光位置検知器３８の出力を処理する出力処理回路に積
分器が設けられているため、ビーム光位置検知器３８が
どのように傾いても、ビーム光の通過位置検知結果に及
ぼす影響を最小限に抑えることができる。
【００８１】図５（ａ）は、本例のビーム光位置検知器
３８がビーム光の走査方向に対して傾いて取付けられた
場合のセンサパターンＳＡ〜ＳＧとビーム光ａ〜ｄの走
査位置の関係を示したものである。ただし、図では、ビ
ーム光位置検知器３８に対してビーム光ａ〜ｄの走査方
向が傾いているように表現している。図中のビーム光ａ
〜ｄの走査ラインは理想の間隔（４２．３μｍピッチ）
に制御された場合のものである。
【００８２】また、センサパターンＳＡ〜ＳＧの間に
は、本センサパターンにおける制御目標ポイント（白
丸）を示した。このポイントは、後で詳細に説明するよ
うに、積分器の効果により、ビーム光ａ〜ｄが斜めに入
射されてもパターン間の真ん中（中間）になる。
【００８３】さて、図から明らかなように、理想的な間
隔（４２．３μｍピッチ）に制御された走査ラインの軌
跡は、本センサパターンＳＡ〜ＳＧ上の制御目標のほぼ
中心を通ることになる。すなわち、本例のビーム光位置
検知器３８は、多少傾いて取付けられたとしても、その
検出精度に与える影響が極めて少ないのである。
【００８４】たとえば、ビーム光位置検知器３８が、ビ
ーム光の走査ラインに対して、５度傾いて取付けられた
場合、本来、４２．３μｍピッチを目標に制御されるべ
き各ビーム光の走査位置ピッチは、傾きが原因となるビ
ーム光位置検知器３８の検出誤差により、４２．１４μ
ｍピッチを目標に制御される。このときの誤差は、約
０．１６μｍ（０．０３％）であり、この通り制御され
れば、画質に与える影響は極めて小さい。なお、この値
は三角関数を用いて簡単に求めることができるが、ここ
では詳細に説明しない。
【００８５】このように、本例のビーム光位置検知器３
８のセンサパターンＳＡ〜ＳＧを用いれば、ビーム光位
置検知器３８の傾きに対する取付け精度が多少悪くと
も、正確にビーム光の走査位置を検知することが可能と
なる。
【００８６】一方、図５（ｂ）に示すビーム光位置検知
器８０は、従来用いられていた、本発明のビーム光位置
検知器３８と同様の機能を実現するためのセンサパター
ンの一例である。
【００８７】このようなセンサパターンを採用した場
合、ビーム光ａ〜ｄの走査方向に対して、わずかでも傾
いて取付けられると、ビーム光の通過位置を正確に検知
できない。その原因は、各ビーム光ａ〜ｄの通過位置を
検知するセンサパターン（この例ではＳ３＊，Ｓ４＊，
Ｓ５＊，Ｓ６＊：＊はａ，ｂを示す）が、ビーム光の走
査方向に対して距離を置いて配置されているところにあ
る。すなわち、ビーム光の走査方向に対して、距離があ
ればあるほど、わずかな傾きに対しても大きな検出誤差
となる。
【００８８】図５（ｂ）にも、図５（ａ）と同様に、ビ
ーム光位置検知器８０が傾いて取付けられたことを想定
し、理想的な間隔（４２．３μｍピッチ）に制御された
走査ラインの軌跡を示した。図５（ｂ）から明らかなよ
うに、従来のビーム光位置検知器８０は、図５（ａ）に
示す本例のビーム光位置検知器３８に比べ、はるかに取
付け精度を要求されることが分かる。
【００８９】たとえば、図５（ａ）のビーム光位置検知
器３８と同様に、仮に、図５（ｂ）のビーム光位置検知
器８０が５度傾いて取付けられ、センサパターンＳ３
ａ，Ｓ３ｂとＳ６ａ，Ｓ６ｂとの距離が９００μｍであ
るとすると、ビーム光ｄの制御目標は、理想の位置から
７８．３４μｍもずれることになる。この値は、本例の
目標制御ピッチである４２．３μｍをはるかに上回る誤
差であり、画質に重大な欠点を与える。したがって、こ
のようなビーム光位置検知器８０を用いる場合、少なく
ともビーム光の走査方向に対する傾きについては、非常
に高い取付け精度が要求されることになる。
【００９０】従来は、このような問題点を補うために、
多少の感度を犠牲にしても、極力ビーム光の走査方向の
センサパターン幅Ｗを小さくし、ビーム光の走査方向に
対し、ビーム光の通過位置検知ポイントが離れないよう
考慮する必要がある。また、感度不足を補うために、ビ
ーム光の通過位置を検知する際、レーザ発振器のパワー
を上げたり、ポリゴンモータの回転数を落とすなどする
ことが必須であった。
【００９１】次に、制御系について説明する。
【００９２】図６は、主にマルチビーム光学系の制御を
主体にした制御系を示している。すなわち、５１は全体
的な制御を司る主制御部で、たとえば、ＣＰＵからな
り、これには、メモリ５２、コントロールパネル５３、
外部通信インタフェイス（Ｉ／Ｆ）５４、レーザドライ
バ３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，３２ｄ、ポリゴンミラーモ
ータドライバ３７、ガルバノミラー駆動回路３９ａ，３
９ｂ，３９ｃ，３９ｄ、信号処理手段としてのビーム光
位置検知器出力処理回路４０、同期回路５５、および、
画像データインタフェイス（Ｉ／Ｆ）５６が接続されて
いる。
【００９３】同期回路５５には、画像データＩ／Ｆ５６
が接続されており、画像データＩ／Ｆ５６には、画像処
理部５７およびページメモリ５８が接続されている。画
像処理部５７にはスキャナ部１が接続され、ページメモ
リ５８には外部インタフェイス（Ｉ／Ｆ）５９が接続さ
れている。
【００９４】ここで、画像を形成する際の画像データの
流れを簡単に説明すると、以下のような流れとなる。
【００９５】まず、複写動作の場合は、先に説明したよ
うに、原稿台７上にセットされた原稿Ｏの画像は、スキ
ャナ部１で読取られ、画像処理部５７へ送られる。画像
処理部５７は、スキャナ部１からの画像信号に対し、た
とえば、周知のシェーディング補正、各種フィルタリン
グ処理、階調処理、ガンマ補正などを施こす。
【００９６】画像処理部５７からの画像データは、画像
データＩ／Ｆ５６へと送られる。画像データＩ／Ｆ５６
は、４つのレーザドライバ３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，３
２ｄへ画像データを振り分ける役割を果たしている。同
期回路５５は、各ビーム光のビーム光位置検知器３８上
を通過するタイミングに同期したクロックを発生し、こ
のクロックに同期して、画像データＩ／Ｆ５６から各レ
ーザドライバ３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，３２ｄへ、画像
データをレーザ変調信号として送出する。このようにし
て、各ビーム光の走査と同期を取りながら画像データを
転送することで、主走査方向に同期がとれた（正しい位
置への）画像形成が行なわれる。
【００９７】また、同期回路５５には、非画像領域で各
レーザ発振器３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄを強制的
に発光動作させ、各ビーム光のパワーを制御するための
サンプルタイマや、各ビーム光の画像形成タイミングを
取るために、ビーム光の順にしたがってビーム光位置検
知器３８上でそれぞれのレーザ発振器３１ａ，３１ｂ，
３１ｃ，３１ｄを発光動作させる論理回路などが含まれ
ている。
【００９８】コントロールパネル５３は、複写動作の起
動や、枚数設定などを行なうマンマシンインタフェース
である。
【００９９】本デジタル複写機は、複写動作のみでな
く、ページメモリ５８に接続された外部Ｉ／Ｆ５９を介
して外部から入力される画像データをも形成出力できる
構成となっている。なお、外部Ｉ／Ｆ５９から入力され
る画像データは、一旦ページメモリ５８に格納された
後、画像データＩ／Ｆ５６を介して同期回路５５へ送ら
れる。
【０１００】また、本デジタル複写機が、たとえば、ネ
ットワークなどを介して外部から制御される場合には、
外部通信Ｉ／Ｆ５４がコントロールパネル５３の役割を
果たす。
【０１０１】ガルバノミラー駆動回路３９ａ，３９ｂ，
３９ｃ，３９ｄは、主制御部５１からの指示値にしたが
ってガルバノミラー３３ａ，３３ｂ，３３ｃ，３３ｄを
駆動する回路である。したがって、主制御部５１は、ガ
ルバノミラー駆動回路３９ａ，３９ｂ，３９ｃ，３９ｄ
を介して、ガルバノミラー３３ａ，３３ｂ，３３ｃ，３
３ｄの各角度を自由に制御することができる。
【０１０２】ポリゴンモータドライバ３７は、先に述べ
た４つのビーム光を走査するポリゴンミラー３５を回転
させるためのポリゴンモータ３６を駆動するドライバで
ある。主制御部５１は、このポリゴンモータドライバ３
７に対し、回転開始、停止と回転数の切換えを行なうこ
とができる。回転数の切換えは、ビーム光位置検知器３
８でビーム光の通過位置を確認する際に、必要に応じ
て、所定の回転速度よりも回転数を落すときに用いる。
【０１０３】レーザドライバ３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，
３２ｄは、先に説明した同期回路５５からのビーム光の
走査に同期したレーザ変調信号にしたがってレーザ光を
発光させる以外に、主制御部５１からの強制発光信号に
より、画像データとは無関係に強制的にレーザ発振器３
１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄを発光動作させる機能を
持っている。
【０１０４】また、主制御部５１は、それぞれのレーザ
発振器３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄが発光動作する
パワーを、各レーザドライバ３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，
３２ｄに対して設定する。発光パワーの設定は、プロセ
ス条件の変化や、ビーム光の通過位置検知などに応じて
変更される。
【０１０５】メモリ５２は、制御に必要な情報を記憶す
るためのものである。たとえば、各ガルバノミラー３３
ａ，３３ｂ，３３ｃ，３３ｄの制御量や、ビーム光の到
来順序などを記憶しておくことで、電源立ち上げ後、即
座に光学系ユニット１３を画像形成が可能な状態にする
ことができる。
【０１０６】次に、ビーム光の通過（走査）位置制御に
ついて詳細に説明する。
【０１０７】図７は、ビーム光の通過位置制御、およ
び、後述するオフセット検出・補正処理を説明するため
の図であり、図６のブロック図のうちのビーム光制御に
着目し、その制御に関連する部分を抜き出して詳細に示
したものである。
【０１０８】先に説明したように、ビーム光位置検知器
３８のセンサパターンＳ１，Ｓ２からは、ビーム光が通
過したことを示すパルス状の信号が出力される。また、
複数のセンサパターンＳＡ〜ＳＧからは、ビーム光の通
過位置に応じてそれぞれ独立した信号が出力される。
【０１０９】この複数のセンサパターンＳＡ〜ＳＧのう
ち、センサパターンＳＡ，ＳＧの各出力信号は、増幅器
６１，６２（以後、増幅器Ａ，Ｇと言うこともある）に
それぞれ入力される。なお、増幅器６１，６２の各増幅
率は、ＣＰＵからなる主制御部５１によって設定される
ようになっている。
【０１１０】また、複数のセンサパターンＳＡ〜ＳＧの
うち、センサパターンＳＢ〜ＳＦの各出力信号は、セン
サパターンＳＢ〜ＳＦのうち隣り合う出力信号の差を増
幅する差動増幅器６３〜６６（以後、差動増幅器Ｂ−
Ｃ，Ｃ−Ｄ，Ｄ−Ｅ，Ｅ−Ｆと言うこともある）にそれ
ぞれ入力される。ここに、差動増幅器６３は、センサパ
ターンＳＢ，ＳＣの各出力信号の差を増幅し、差動増幅
器６４は、センサパターンＳＣ，ＳＤの各出力信号の差
を増幅し、差動増幅器６５は、センサパターンＳＤ，Ｓ
Ｅの各出力信号の差を増幅し、差動増幅器６６は、セン
サパターンＳＥ，ＳＦの各出力信号の差を増幅する。
【０１１１】増幅器６１〜６６の各出力信号は、それぞ
れ選択回路（アナログスイッチ）４１に入力される。選
択回路４１は、主制御部（ＣＰＵ）５１からのセンサ選
択信号により、積分器４２へ入力する信号を選択する。
選択回路４１にて選択された増幅器の出力信号は、積分
器４２に入力されて積分される。
【０１１２】一方、センサパターンＳ１から出力される
パルス状の信号も、積分器４２に入力されている。この
センサパターンＳ１からのパルス状の信号は、積分器４
２をリセットすると同時に新たな積分動作を開始させる
リセット信号（積分動作開始信号）として用いられる。
なお、積分器４２の役割は、ノイズの除去作用と、ビー
ム光位置検知器３８の取付け傾きの影響除去などである
が、詳しくは後述する。
【０１１３】積分器４２の出力は、Ａ／Ｄ変換器４３へ
入力される。また、センサパターンＳ２から出力される
パルス状の信号も、Ａ／Ｄ変換器４３へ入力されてい
る。Ａ／Ｄ変換器４３のＡ／Ｄ変換動作は、センサパタ
ーンＳ２からの信号が変換開始信号として印加されるこ
とによって開始される。すなわち、ビーム光がセンサパ
ターンＳ２を通過するタイミングでＡ／Ｄ変換が開始さ
れる。
【０１１４】このように、センサパターンＳ１からのパ
ルス信号により、ビーム光がセンサパターンＳＡ〜ＳＧ
を通過する直前に積分器４２をリセットすると同時に積
分動作を開始させ、ビーム光がセンサパターンＳＡ〜Ｓ
Ｇ上を通過している間は、積分器４２はビーム光の通過
位置を示す信号を積分する。そして、ビーム光がセンサ
パターンＳＡ〜ＳＧ上を通過し終えた直後に、センサパ
ターンＳ２からのパルス信号をトリガに、積分器４２で
積分した結果をＡ／Ｄ変換器４３でＡ／Ｄ変換すること
により、ノイズが少なく、ビーム光位置検知器３８の取
付け傾きの影響が除去された検知信号をデジタル信号に
変換することができる。
【０１１５】なお、Ａ／Ｄ変換を終了したＡ／Ｄ変換器
４３は、主制御部５１に対し、処理が終了したことを示
す割込信号ＩＮＴを出力するようになっている。
【０１１６】ここに、増幅器６１〜６６、選択回路４
１、積分器４２、および、Ａ／Ｄ変換器４３は、ビーム
光位置検知器出力処理回路４０を構成している。
【０１１７】このようにして、デジタル信号に変換され
たビーム光位置検知器３８からのビーム光位置検知信号
は、ビーム光位置情報として主制御部５１に入力され、
ビーム光の通過位置などが判断される。
【０１１８】さて、このようにして得られたビーム光位
置検知信号に基づいて、主制御部５１では、ガルバノミ
ラー３３ａ〜３３ｄの制御量が演算される。その演算結
果は、必要に応じてメモリ５２に記憶される。主制御部
５１は、この演算結果をガルバノミラー駆動回路３９ａ
〜３９ｄへ送出する。
【０１１９】ガルバノミラー駆動回路３９ａ〜３９ｄに
は、図７に示したように、この演算結果のデータを保持
するためのラッチ４４ａ〜４４ｄが設けられており、主
制御部５１が一旦データを書込むと、次にデータを更新
するまでは、その値を保持するようになっている。
【０１２０】ラッチ４４ａ〜４４ｄに保持されているデ
ータは、Ｄ／Ａ変換器４５ａ〜４５ｄによりアナログ信
号（電圧）に変換され、ガルバノミラー３３ａ〜３３ｄ
を駆動するためのドライバ４６ａ〜４６ｄに入力され
る。ドライバ４６ａ〜４６ｄは、Ｄ／Ａ変換器４５ａ〜
４５ｄから入力されたアナログ信号（電圧）にしたがっ
てガルバノミラー３３ａ〜３３ｄを駆動制御する。
【０１２１】なお、本例では、センサパターンＳＡ〜Ｓ
Ｇの増幅された出力信号は、選択回路４１によりその１
つのみが選択されて積分され、Ａ／Ｄ変換されているた
め、一度にセンサパターンＳＡ〜ＳＧの出力信号を主制
御部５１に入力することはできない。
【０１２２】したがって、ビーム光がどこを通過してい
るか分からない状態においては、選択回路４１を順次切
換え、センサパターンＳＡ〜ＳＧの全てのセンサパター
ンからの出力信号を主制御部５１に入力して、ビーム光
の通過位置を判定する必要がある。
【０１２３】しかし、一旦、どのあたりをビーム光が通
過しているかが認識できると、ガルバノミラー３３ａ〜
３４ｄを極端に動かさない限り、ビーム光の通過する位
置はほぼ予想でき、常に全てのセンサパターンの出力信
号を主制御部５１に入力する必要はない。なお、詳細な
処理に関しては後で説明する。
【０１２４】以下、図８を用いて、図７の回路動作にお
けるビーム光の通過位置とビーム光位置検知器３８の出
力、差動増幅器６３〜６６の出力、積分器４２の出力の
関係を説明する。
【０１２５】図８（ａ）は、ビーム光がセンサパターン
ＳＢとＳＣとのちょうど真ん中を通過している場合を示
しており、図８（ｂ）は、ビーム光が図８（ａ）の場合
よりもセンサパターンＳＢ寄りを通過している場合を示
している。図８（ｃ）は、ビーム光位置検知器３８がビ
ーム光の通過方向に対して傾いて取付けられている場合
を示している。
【０１２６】以下、それぞれの場合のビーム光位置検知
器３８の出力、差動増幅器６３の出力、積分器４２の出
力について説明する。
【０１２７】図８（ａ）の場合の回路動作 まず、ビーム光はセンサパターンＳ１をよぎり、センサ
パターンＳ１からパルス状の信号が出力される。このパ
ルス状の信号は、図に示すように積分器４２をリセット
し、その出力を「０」にする。したがって、センサパタ
ーンＳ１をビーム光がよぎることにより、前回の検知結
果をリセットし、新たな検知結果を積分することにな
る。
【０１２８】ビーム光がセンサパターンＳＢとＳＣとの
真ん中を通過している場合、センサパターンＳＢとＳＣ
の出力の大きさは、図８（ａ）に示すように等しいもの
となる。ただし、センサパターンの出力は非常に微小で
あるため、図８（ａ）に示すように、多少のノイズ成分
が重畳されていることがある。
【０１２９】このような信号が差動増幅器６３に入力さ
れ、その差が増幅される。センサパターンＳＢとＳＣの
出力がほぼ等しい、この場合、差動増幅器６３の出力
は、図８（ａ）に示すように、ほぼ「０」となるが、若
干のノイズ成分が重畳することがある。このようにして
得られた差動増幅結果が、選択回路４１を通して積分器
４２に入力される。
【０１３０】積分器４２は、この差動増幅器６３の出力
を積分し、その結果を次のＡ／Ｄ変換器４３へと出力す
るが、積分器４２の出力は、図８（ａ）に示すように、
ノイズ成分が除去された信号となる。これは、積分によ
って、差動増幅結果に重畳している高周波成分のノイズ
が除去されるからである。このようにして、ビーム光の
通過と同時に、センサパターンＳＢとＳＣとの出力差が
増幅され、さらに、積分されてＡ／Ｄ変換器４３に入力
される。
【０１３１】一方、Ａ／Ｄ変換器４３には、センサパタ
ーンＳ２の出力が入力されており、ビーム光がセンサパ
ターンＳＢ，ＳＣ部分を通過し終えたタイミングで、図
８（ａ）に示すようなパルス状の信号がセンサパターン
Ｓ２からＡ／Ｄ変換器４３へ出力される。Ａ／Ｄ変換器
４３は、このパルス状の信号をトリガに、積分器４２の
出力のＡ／Ｄ変換を開始する。したがって、Ａ／Ｄ変換
器４３は、ノイズ成分の除去されたＳ／Ｎ比の良いアナ
ログビーム通過位置情報をデジタル信号にタイムリに変
換することができる。
【０１３２】図８（ｂ）の場合の回路動作 基本的な動作は図８（ａ）と同じであるが、ビーム光の
通過位置がセンサパターンＳＢ側に寄っている分だけ、
センサパターンＳＢの出力が大きく、センサパターンＳ
Ｃの出力が小さくなる。したがって、差動増幅器６３の
出力は、その差分だけプラスになる。さて、積分器４２
は、図８（ａ）の場合と同様に、ビーム光がセンサパタ
ーンＳ１を通過するタイミングでリセットされており、
その後に、このような差動増幅結果が積分器４２に入力
される。積分器４２は入力（差動増幅器６３の出力）が
プラス側である間は、その出力を徐々にプラス側に大き
くしていく。そして、入力が「０」に戻ると、その値を
保つ。したがって、積分器４２の出力には、ビーム光の
通過位置の偏り具合が表れる。
【０１３３】この積分結果を、図８（ａ）の場合と同じ
ように、ビーム光のセンサパターンＳ２が通過するタイ
ミングでＡ／Ｄ変換器４３でＡ／Ｄ変換することによ
り、正確なビーム通過位置がタイムリにデジタル情報に
変換される。
【０１３４】図８（ｃ）の場合の回路動作 基本的な動作は図８（ａ）、図８（ｂ）の場合と同じで
あるが、ビーム光がビーム光位置検知器３８を斜めに通
過する分、センサパターンＳＢ，ＳＣの出力、差動増幅
器６３の出力、積分器４２の出力に特徴がある。
【０１３５】図８（ｃ）に示す通り、ビーム光はセンサ
パターンＳ１を通過した後、センサパターンＳＢ，ＳＣ
部分を、センサパターンＳＣ側から斜めに入射し、セン
サパターンＳＢとＳＣとのほぼ中央を通過した後、セン
サパターンＳＢ側を斜めに通過している。このようにビ
ーム光が通過すると、センサパターンＳＢの出力は図８
（ｃ）に示すごとく、ビーム光が入射した直後は小さ
く、ビーム光の通過と共に大きくなる。一方、センサパ
ターンＳＣの出力は、ビーム光が入射した直後は大き
く、ビーム光の通過と共に徐々に小さくなる。
【０１３６】このようなセンサパターンＳＢ，ＳＣの出
力が入力される差動増幅器６３の出力は、図８（ｃ）に
示すごとく、ビーム光の入射直後は、マイナス側に大き
く、その後、徐々に出力は小さくなり、ビーム光がセン
サパターンＳＢとＳＣとの中間を通過するところで、ほ
ぼ「０」となる。そして、その後、徐々にプラス側に大
きくなり、ビーム光が通過し終わる直前にプラス側の最
大値となる。
【０１３７】このような差動増幅器６３の出力が入力さ
れる積分器４２の出力は、ビーム光が入射した直後から
マイナス側に大きくなって行く。そして、差動増幅器６
３の出力がほぼ「０」になる地点までマイナスの値は大
きくなる。その後、差動増幅器６３の出力がプラス側に
転じると、徐々にマイナスの値は小さくなり、ビームが
通過し終わる地点では、ほぼ「０」になる。
【０１３８】これは、ビーム光がビーム光位置検知器３
８を斜めによぎってはいるが、平均して見れば、センサ
パターンＳＢとＳＣとの真ん中を通過しているからであ
る。したがって、ビーム光がセンサパターンＳ２を通過
することによって、Ａ／Ｄ変換器４３のＡ／Ｄ変換動作
が開始されるが、この場合、積分される値は「０」であ
り、ビーム通過位置を示すデジタル情報も「０」、すな
わち、センサパターンＳＢとＳＣとの真ん中をビーム光
が通過しているものとして処理される。
【０１３９】以上、ビーム光の通過位置と、センサパタ
ーンＳ１，Ｓ２，ＳＢ，ＳＣの出力、差動増幅器６３の
出力、積分器４２の出力、Ａ／Ｄ変換器４３の動作につ
いて説明した。センサパターンＳＣ，ＳＤ，ＳＥ，Ｓ
Ｆ、差動増幅器６４，６５，６６の動作は、基本的にセ
ンサパターンＳＢ，ＳＣと差動増幅器６３の動作と同じ
であるので、個々の動作説明は省略する。
【０１４０】次に、図９を用いてビーム光の通過位置と
Ａ／Ｄ変換器４３の出力との関係を説明する。
【０１４１】図９のグラフの縦軸は、図７に対応するＡ
／Ｄ変換器（１２ビット）４３の出力の大きさを示し、
横軸はビーム光の通過位置を示している。横軸のビーム
光通過位置は、左へ行くほどビーム光がセンサパターン
ＳＧ側を通過していることを示し、右へ行くほどビーム
光がセンサパターンＳＡ側を通過していることを示して
いる。
【０１４２】差動増幅器（６３，６４，６５，６６）の
出力は、プラスとマイナスの両方向に出る可能性があ
り、そのときのＡ／Ｄ変換器４３の出力は以下のように
なる。すなわち、差動増幅器（６３，６４，６５，６
６）の出力がプラス側の場合、差動増幅器の出力が大き
くなるにつれ、Ａ／Ｄ変換器４３の出力（Ａ／Ｄ変換
値）は０００Ｈ（最小値）から７ＦＦＨ（最大値）の値
を出力する。
【０１４３】一方、差動増幅器（６３，６４，６５，６
６）の出力がマイナス側の場合、Ａ／Ｄ変換器４３の出
力（Ａ／Ｄ変換値）は８００Ｈ（最小値）からＦＦＦＨ
（最大値）までの値を出力する。この場合、差動増幅器
の出力の絶対値が大きい方が、８００Ｈ（最小値）側に
対応し、差動増幅器の出力が「０」に近い方が、ＦＦＦ
Ｈ（最大値）側に対応する。
【０１４４】ここでは、センサパターンＳＢとＳＣの差
動増幅器６３の出力がＡ／Ｄ変換器４３でＡ／Ｄ変換さ
れた場合について具体的に説明する。
【０１４５】センサパターンＳＢの出力は差動増幅器６
３のプラス端子に接続されており、センサパターンＳＣ
の出力は差動増幅器６３のマイナス端子に接続されてい
る。したがって、差動増幅器６３の出力は、図９に示す
ように、ビーム光がセンサパターンＳＢの中心付近を通
過するときが最も大きくなり、Ａ／Ｄ変換器４３でのＡ
／Ｄ変換値は７ＦＦＨとなる。これは、センサパターン
ＳＢの出力が、この付近で最も大きくなるからである。
【０１４６】また、この位置からビーム光がセンサパタ
ーンＳＡ側にずれても、あるいは、センサパターンＳＣ
側にずれても、Ａ／Ｄ変換値（差動増幅器６３の出力）
は小さくなる。
【０１４７】さらに、ビーム光の通過位置がセンサパタ
ーンＳＡ側にずれた場合を考えると、センサパターンＳ
ＢもＳＣもビーム光の通過を検知できなくなり、Ａ／Ｄ
変換値（差動増幅器６３の出力）はほぼ「０」になる。
【０１４８】また、反対に、ビーム光の通過位置がセン
サパターンＳＣ側にずれた場合を考えると、Ａ／Ｄ変換
値（差動増幅器６３の出力）は徐々に減少し、ビーム光
がセンサパターンＳＢとＳＣとのちょうど間を通過する
とき、その値が「０」になる。これは、センサパターン
ＳＢとＳＣの出力が等しくなるからである。本例では、
このポイントがビーム光ａの通過目標点となる。
【０１４９】また、ビーム光の通過ポイントがセンサパ
ターンＳＣ側にずれると、差動増幅器６３の出力はマイ
ナス出力となり、Ａ／Ｄ変換値は０００ＨからＦＦＦＨ
へと変化し、その後、Ａ／Ｄ変換値は徐々に減ってい
く。さらに、ビーム光の通過位置がセンサパターンＳＣ
の中心付近になると、差動増幅器６３の出力はマイナス
の最大となり、このときのＡ／Ｄ変換値は８００Ｈとな
る。
【０１５０】さらに、ビーム光の通過位置がセンサパタ
ーンＳＤ側にずれると、今度は差動増幅器６３の出力の
マイナスの値が小さくなり、Ａ／Ｄ変換値は８００Ｈか
ら増加していき、最終的には、ＦＦＦＨから０００Ｈに
変化する。これは、ビーム光の通過位置がセンサパター
ンＳＤ（ＳＥ）側にずれ過ぎて、センサパターンＳＢ，
ＳＣともにビーム光の通過を検知できず、その出力が双
方ともに「０」となり、両方の出力に差がでなくなるか
らである。
【０１５１】次に、ガルバノミラー３３の制御特性につ
いて説明する。
【０１５２】図１０、図１１は、ガルバノミラー駆動回
路３９ａ〜３９ｄに与えるデータと、ビーム光位置検知
器３８上（つまり、感光体ドラム１５上）でのビーム光
通過位置との関係を示している。図７に示したように、
ガルバノミラー駆動回路３９ａ〜３９ｄのＤ／Ａ変換器
４５ａ〜４５ｄの入力は１６ビットである。
【０１５３】図１０は、この１６ビットデータの上位８
ビット入力に対するビーム光通過位置の変化の様子を示
したものである。図に示すように、ビーム光の通過位置
は、データ００Ｈ〜ＦＦＨに対し２０００μｍ（２ｍ
ｍ）移動する。また、００Ｈ付近とＦＦＨ付近の入力に
対しては、ガルバノミラーの応答範囲を超えており、ビ
ーム光の通過位置は変化しない。
【０１５４】しかし、入力がおおよそ１８ＨからＥ８Ｈ
の範囲では、ほぼ入力に対してビーム光の通過位置はリ
ニアに変化しており、その割合は１ＬＳＢ当たり約１０
μｍの距離に相当する。
【０１５５】図１１は、ガルバノミラー駆動回路３９ａ
〜３９ｄのＤ／Ａ変換器４５ａ〜４５ｄの下位８ビット
入力に対するビーム光通過位置の変化の様子を示したも
のである。ただし、この図は、上位８ビットの入力とし
て、上述したビーム光の通過位置がリニアに変化する範
囲の値が入力されている場合の下位８ビットの入力に対
するビーム光の通過位置の変化を表している。図から明
らかなように、下位８ビットに対しては、００ＨからＦ
ＦＨまで約１０μｍ、ビーム光の通過位置が変化し、１
ＬＳＢ当たりでは０．０４μｍの変化となる。
【０１５６】このようにして、主制御部５１は、ガルバ
ノミラー駆動回路３９ａ〜３９ｄに対して、１６ビット
のデータを与えることで、ビーム光位置検知器３８上、
すなわち、感光体ドラム１５上のビーム光通過位置を分
解能が約０．０４μｍで、約２０００μｍ（２ｍｍ）の
範囲で移動させることができる。
【０１５７】次に、プリンタ部２の電源投入時における
概略的な動作について、図１２に示すフローチャートを
参照して説明する。なお、スキャナ部１の動作について
は省略する。
【０１５８】本複写機の電源が投入されると、主制御部
５１は、定着器２６内の定着ローラを回転させるととも
に、定着器２６の加熱制御を開始する（Ｓ１，Ｓ２）。
次に、副走査方向のビーム光通過位置制御ルーチンを実
行し、ビーム光の通過位置を所定の位置になるよう制御
する（Ｓ３）。
【０１５９】ビーム光の通過位置が正しく制御される
と、オフセット補正ルーチンを実行し、ビーム光位置検
知器出力処理回路４０のオフセット値を検知して、その
補正処理を行なう（Ｓ４）。次に、再びビーム光通過位
置制御ルーチンを実行する（Ｓ５）。
【０１６０】次に、主走査方向の同期引込みを実行し、
同時に各ビーム光が所望のパワーで発光するように、Ａ
ＰＣ（オートパワーコントロール）制御がハード的に実
行される（Ｓ６）。次に、感光体ドラム１５を回転さ
せ、感光体ドラム１５の表面などの条件を一定にするな
どのプロセス関連の初期化を実行する（Ｓ７）。
【０１６１】このように、一連の初期化を実行した後
は、定着器２６の温度が所定の温度に上昇するまで、定
着ローラを回転し続け、待機状態となる（Ｓ８）。定着
器２６の温度が所定の温度まで上昇すると、定着ローラ
の回転を停止し（Ｓ９）、複写指令待ち状態となる（Ｓ
１０）。
【０１６２】複写指令待ちの状態（Ｓ１０）で、コント
ロールパネル５３から複写（プリント）指令を受信しな
い場合、ビーム光通過位置制御ルーチンを実行後、たと
えば、３０分が経過すると（Ｓ１１）、自動的にオフセ
ット補正ルーチンを実行し（Ｓ１２）、その後、再びビ
ーム光通過位置制御ルーチンを実行する（Ｓ１３）。こ
れが終了すると、ステップＳ１０に戻り、再び複写指令
待ち状態になる。
【０１６３】複写指令待ちの状態（Ｓ１０）で、コント
ロールパネル５３から複写指令を受信すると、複写動作
を実行する（Ｓ１４）。次に、再びビーム光通過位置制
御ルーチンを実行し（Ｓ１５）、複写動作が終了するの
を待機する（Ｓ１６）。複写動作が終了すると、ステッ
プＳ１２に進み、前記動作を繰り返す。
【０１６４】次に、図１２のステップＳ３，Ｓ５，Ｓ１
３，Ｓ１５におけるビーム光通過位置制御ルーチンの概
略動作について、図１３に示すフローチャートを用いて
説明する。
【０１６５】まず、主制御部５１は、ポリゴンモータ３
６をオンし、ポリゴンミラー３５を所定の回転数で回転
させる（Ｓ２０）。次に、主制御部５１は、メモリ５２
から最新のガルバノミラー３３ａ〜３３ｄの駆動値を読
出し、その値に基づいて、それぞれのガルバノミラー３
３ａ〜３３ｄを駆動する（Ｓ２１）。
【０１６６】次に、主制御部５１は、ビーム光ａの通過
位置制御を行なう（Ｓ２２）。ここでの制御内容は、ビ
ーム光ａの通過位置を検知し、その通過位置が規定値内
に入っているかどうかをチェックし、規定値内に入って
いなければ、ガルバノミラー３３ａの角度を変更し、規
定値内に入っていれば、ビーム光ａの通過位置が規定値
内に入っていることを示すフラグを立てるという内容で
ある。
【０１６７】続いて、主制御部５１は、ビーム光ｂ、ビ
ーム光ｃ、ビーム光ｄについても、ビーム光ａの場合と
同様に、それぞれのビーム光ｂ，ｃ，ｄの通過位置を検
知し、その通過位置が規定値内に入っているかどうかを
チェックし、規定値内に入っていなければ、それぞれの
ガルバノミラー３３ｂ〜３３ｄの角度を変更し、規定値
内に入っていれば、それぞれのビーム光の通過位置が規
定値内に入っていることを示すフラグを立てる（Ｓ２
３，Ｓ２４，Ｓ２５）。
【０１６８】このようにして、各ビーム光ａ，ｂ，ｃ，
ｄの通過位置制御を行なった上で、主制御部５１は、そ
れぞれのフラグをチェックし、ビーム光通過位置制御を
終了するか否かを判定する（Ｓ２６）。すなわち、全て
のフラグが立っていれば、ビーム光通過位置制御を終了
し、どれか１つのフラグでも立っていなければ、ステッ
プＳ２２に戻り、各ビーム光の通過位置制御を行なう。
【０１６９】ここで、このような制御フローにおけるガ
ルバノミラー３３ａ〜３３ｄの挙動について簡単に説明
する。
【０１７０】ガルバノミラー３３ａ〜３３ｄは、先に説
明したように、主制御部５１からの制御値にしたがって
その角度を変え、走査されるビーム光の通過位置を変更
するのであるが、主制御部５１からの指示に対し、すぐ
に応答できるとは限らない。すなわち、主制御部５１か
ら制御データが出力され、そのデータがラッチ４４ａ〜
４４ｄでラッチされ、さらに、Ｄ／Ａ変換器４５ａ〜４
５ｄでＤ／Ａ変換されて、その大きさに比例した駆動信
号がドライバ４６ａ〜４６ｄから出力されるまでの時間
が、「ｎｓ」または「μｓ」単位のオーダであるのに対
し、たとえば、本例に用いているガルバノミラー３３ａ
〜３３ｄの応答時間は、４〜５ｍｓのオーダであるとい
う問題がある。
【０１７１】ここでの応答時間とは、新たな駆動信号に
対し、ガルバノミラー３３ａ〜３３ｄの角度変化が始ま
り、ある時間移動（振動）した後、その移動（振動）が
収まって、新たな角度に落ち着くまでの時間を指す。し
たがって、主制御部５１は、ガルバノミラー３３ａ〜３
３ｄに対し、新たな制御データを送出した後、その制御
結果を確認するためには、少なくともこの応答時間が経
過した後に、ビーム光の通過位置を確認する必要があ
る。
【０１７２】図１３から明らかなように、本例において
は、あるガルバノミラーを制御したその効果の確認は、
他のビーム光位置検知動作あるいはガルバノミラー制御
動作を行なった後に行なうようになっており、充分にガ
ルバノミラーが応答に要する時間が経過した後、効果を
確認するようになっている。
【０１７３】たとえば、ステップＳ２１，Ｓ２２，Ｓ２
３，Ｓ２４において、少なくとも１つの増幅器あるいは
差動増幅器の出力をポリゴンミラー３５の面数分（たと
えば、８面分）だけ取得するのに要する時間は、１走査
に要する時間が３３０μｓの場合、２．６４ｍｓとな
る。したがって、あるガルバノミラーを制御した後、他
の３つのビーム光の通過位置を検知した後、その効果を
確認するには、少なくとも７．９２ｍｓの時間間隔があ
り、ガルバノミラーの移動（振動）は、すでに収まって
いる状態でのビーム光通過位置が確認できることにな
る。なお、増幅器あるいは差動増幅器の出力をポリゴン
ミラー３５の面数だけ取得するのは、ポリゴンミラー３
５の面倒れ成分を除去するためである。
【０１７４】図１４、図１５は、図１３のステップＳ２
２の動作を詳細に説明するためのフローチャートであ
る。すなわち、ビーム光ａの通過位置制御を説明するた
めのフローチャートである。先に説明したように、ビー
ム光の通過位置とＡ／Ｄ変換器４３の出力との関係は図
９のようになるので、図９も参照して説明する。
【０１７５】まず、主制御部５１は、レーザ発振器３１
ａを強制発光させる（Ｓ３１）。これにより、ビーム光
ａは、ポリゴンミラー３５の回転により周期的にビーム
光位置検知器３８上を走査することになる。
【０１７６】次に、主制御部５１は、Ａ／Ｄ変換器４３
が出力する割込み信号ＩＮＴにしたがい、各増幅器並び
に差動増幅器の出力がＡ／Ｄ変換された値を読込む。な
お、通常、ビーム光の走査位置は、ポリゴンミラー３５
の面倒れ成分により、面ごとに若干異なる場合が多く、
その影響を除去するために、ポリゴンミラー３５の面数
と同等な回数、あるいは、その整数倍回連続してＡ／Ｄ
変換された値を読込むことが望ましい。その場合、主制
御部５１は、それぞれの増幅器並びに差動増幅器に対応
するＡ／Ｄ変換器４３の出力値を平均し、その結果をそ
れぞれの増幅器並びに差動増幅器の出力とする（Ｓ３
２）。
【０１７７】したがって、増幅器６１，６２（増幅器
Ａ，Ｇ）並びに差動増幅器６３〜６６（増幅器Ｂ−Ｃ，
Ｃ−Ｄ，Ｄ−Ｅ，Ｅ−Ｆ）について、それぞれポリゴン
ミラー３５の面数（８個）と同じ回数、Ａ／Ｄ変換器４
３の値を読込んだとすれば、ビーム光を４８回走査する
必要がある。
【０１７８】主制御部５１は、まず、このようにして得
た増幅器６１（Ａ）の出力（Ａ／Ｄ変換値）を、メモリ
５２にあらかじめ記憶されている判定基準値１００Ｈと
比較することにより、増幅器６１の出力が判定基準値１
００Ｈよりもも大きいか否かを判定する（Ｓ３３）。
【０１７９】この判定の結果、増幅器６１の出力が１０
０Ｈよりも大であった場合には、ビーム光ａの通過位置
が、センサパターンＳＡ上であるか、または、センサパ
ターンＳＡの近傍であることを表している。すなわち、
図９におけるエリアＡをビーム光ａが通過していること
を表している。ビーム光ａの目標通過位置は、センサパ
ターンＳＢとＳＣとの中間であるので、ガルバノミラー
３３ａをビーム光ａがセンサパターンＳＧ側を通過する
ように制御する（Ｓ３４）。
【０１８０】このときの制御量（ビーム光の移動量）
は、１２０μｍ程度とする。制御量を１２０μｍとした
のは、図３、図４のセンサパターンで説明したように、
センサパターンＳＡおよびＳＧは、制御目標ポイントの
領域から両脇に大きなパターンを有しており、このパタ
ーン上をビーム光が通過している場合には、目標ポイン
トに速くビーム光の通過位置を近づけるために、比較的
大きくビーム光の通過位置を変更する必要があるからで
ある。ただし、増幅器６１の出力が１００Ｈよりも大で
ある場合においても、センサパターンＳＢに近い範囲を
ビーム光ａが通過している場合には、過剰にビーム光の
通過位置を変更してしまう可能性もある。しかし、トー
タルの効率を考慮すると、この程度の移動量は必要であ
る。
【０１８１】ステップＳ３３の判定で、増幅器６１の出
力が１００Ｈよりも大でなかった場合には、増幅器６２
（Ｇ）の出力（Ａ／Ｄ変換値）をメモリ５２にあらかじ
め記憶されている判定基準値１００Ｈと比較することに
より、増幅器６２の出力が判定基準値１００Ｈよりも大
であるかを判定する（Ｓ３５）。
【０１８２】この判定の結果、増幅器６２の出力が１０
０Ｈよりも大であった場合には、ビーム光ａの通過位置
が、センサパターンＳＧ上であるか、または、センサパ
ターンＳＧの近傍であることを表している。すなわち、
図９におけるエリアＧをビーム光ａが通過していること
を表している。したがって、このような場合には、ビー
ム光ａの通過目標ポイントであるセンサパターンＳＢと
ＳＣとの中間に近づけるため、ビーム光ａがセンサパタ
ーンＳＡ側を通過するようガルバノミラー３３ａを制御
する（Ｓ３６）。なお、このときの制御量は、Ｓ３４の
場合と同様、１２０μｍ程度の制御量（移動量）が必要
である。
【０１８３】ステップＳ３５の判定で、増幅器６２の出
力が１００Ｈよりも大でなかった場合には、差動増幅器
６６（Ｅ−Ｆ）の出力（Ａ／Ｄ変換値）をメモリ５２に
あらかじめ記憶されている判定基準値８００Ｈと比較す
ることにより、差動増幅器６６の出力が判定基準値８０
０Ｈ以上であるかを判定する（Ｓ３７）。
【０１８４】この判定の結果、差動増幅器６６の出力が
８００Ｈ以上であった場合には、ビーム光ａの通過位置
が、センサパターンＳＦの近傍であることを表してい
る。すなわち、図９におけるエリアＦをビーム光ａが通
過していることを表している。したがって、このような
場合には、ビーム光ａの通過目標ポイントであるセンサ
パターンＳＢとＳＣとの中間に近づけるため、ビーム光
ａがセンサパターンＳＡ側を通過するようガルバノミラ
ー３３ａを制御する（Ｓ３８）。なお、このときの制御
量は、目標ポイントとエリアＦとの距離を考慮し、１２
０μｍ程度の制御量（移動量）が必要である。
【０１８５】ステップＳ３７の判定で、差動増幅器６６
の出力が８００Ｈ以上でなかった場合には、差動増幅器
６５（Ｄ−Ｅ）の出力（Ａ／Ｄ変換値）をメモリ５２に
あらかじめ記憶されている判定基準値８００Ｈと比較す
ることにより、差動増幅器６５の出力が判定基準値８０
０Ｈ以上であるかを判定する（Ｓ３９）。
【０１８６】この判定の結果、差動増幅器６５の出力が
８００Ｈ以上であった場合には、ビーム光ａの通過位置
が、センサパターンＳＥの近傍であることを表してい
る。すなわち、図９におけるエリアＥをビーム光ａが通
過していることを表している。したがって、このような
場合には、ビーム光ａの通過目標ポイントであるセンサ
パターンＳＢとＳＣとの中間に近づけるため、ビーム光
ａがセンサパターンＳＡ側を通過するようガルバノミラ
ー３３ａを制御する（Ｓ４０）。なお、このときの制御
量は、目標ポイントとエリアＥとの距離を考慮し、８０
μｍ程度の制御量（移動量）が必要である。
【０１８７】ステップＳ３９の判定で、差動増幅器６５
の出力が８００Ｈ以上でなかった場合には、差動増幅器
６４（Ｃ−Ｄ）の出力（Ａ／Ｄ変換値）をメモリ５２に
あらかじめ記憶されている判定基準値８００Ｈと比較す
ることにより、差動増幅器６４の出力が判定基準値８０
０Ｈ以上であるかを判定する（Ｓ４１）。
【０１８８】この判定の結果、差動増幅器６４の出力が
８００Ｈ以上であった場合には、ビーム光ａの通過位置
が、センサパターンＳＤの近傍であることを表してい
る。すなわち、図９におけるエリアＤをビーム光ａが通
過していることを表している。したがって、このような
場合には、ビーム光ａの通過目標ポイントであるセンサ
パターンＳＢとＳＣの中間に近づけるため、ビーム光ａ
がセンサパターンＳＡ側を通過するようガルバノミラー
３３ａを制御する（Ｓ４２）。なお、このときの制御量
は、目標ポイントとエリアＤとの距離を考慮し、４０μ
ｍ程度の制御量（移動量）が必要である。
【０１８９】ステップＳ４１の判定で、差動増幅器６４
の出力が８００Ｈ以上でなかった場合には、差動増幅器
６３（Ｂ−Ｃ）の出力（Ａ／Ｄ変換値）をメモリ５２に
あらかじめ記憶されている判定基準値４００Ｈ，７ＦＦ
Ｈと比較することにより、差動増幅器６３の出力が判定
基準値４００Ｈよりも大で、７ＦＦＨ以下であるかを判
定する（Ｓ４３）。
【０１９０】この判定の結果、差動増幅器６３の出力が
４００Ｈよりも大で、７ＦＦＨ以下であった場合には、
ビーム光ａの通過位置が、通過目標ポイントであるセン
サパターンＳＢとＳＣとの中間近傍であるが、若干セン
サパターンＳＢ寄りであることを表している。すなわ
ち、図９におけるエリアＢのエリアＢＡをビーム光ａが
通過していることを表している。したがって、このよう
な場合には、ビーム光ａの通過目標ポイントであるセン
サパターンＳＢとＳＣとの中間に近づけるため、ビーム
光ａがセンサパターンＳＧ側を通過するようガルバノミ
ラー３３ａを制御する（Ｓ４４）。なお、このときの制
御量は、目標ポイントとエリアＤとの距離を考慮し、１
０μｍ程度の制御量（移動量）が必要である。
【０１９１】ステップＳ４３の判定で、差動増幅器６３
の出力が４００Ｈよりも大で、７ＦＦＨ以下でなかった
場合には、差動増幅器６３の出力をメモリ５２にあらか
じめ記憶されている判定基準値６０Ｈ，４００Ｈと比較
することにより、差動増幅器６３の出力が判定基準値６
０Ｈよりも大で、４００Ｈ以下であるかを判定する（Ｓ
４５）。
【０１９２】この判定の結果、差動増幅器６３の出力が
６０Ｈよりも大で、４００Ｈ以下であった場合には、ビ
ーム光ａの通過位置が、通過目標ポイントであるセンサ
パターンＳＢとＳＣとの中間近傍であるが、若干センサ
パターンＳＢ寄りであることを表している。すなわち、
図９におけるエリアＢのエリアＢＣをビーム光ａが通過
していることを表している。したがって、このような場
合には、ビーム光ａの通過目標ポイントであるセンサパ
ターンＳＢとＳＣとの中間に近づけるため、ビーム光ａ
がセンサパターンＳＧ側を通過するようガルバノミラー
３３ａを制御する（Ｓ４６）。なお、このときの制御量
は、目標ポイントとエリアＤとの距離を考慮し、０．５
μｍ程度の制御量（移動量）が必要である。
【０１９３】ステップＳ４５の判定で、差動増幅器６３
の出力が６０Ｈよりも大で、４００Ｈ以下でなかった場
合には、差動増幅器６３の出力をメモリ５２にあらかじ
め記憶されている判定基準値８００Ｈ，Ａ００Ｈと比較
することにより、差動増幅器６３の出力が判定基準値８
００Ｈ以上で、Ａ００Ｈよりも小であるかを判定する
（Ｓ４７）。
【０１９４】この判定の結果、差動増幅器６３の出力が
８００Ｈ以上で、Ａ００Ｈよりも小であった場合には、
ビーム光ａの通過位置が、通過目標ポイントであるセン
サパターンＳＢとＳＣとの中間近傍であるが、若干セン
サパターンＳＣ寄りであることを表している。いなわ
ち、図９におけるエリアＣのエリアＣＤをビーム光ａが
通過していることを表している。したがって、このよう
な場合には、ビーム光ａの通過目標ポイントであるセン
サパターンＳＢとＳＣとの中間に近づけるため、ビーム
光ａがセンサパターンＳＡ側を通過するようガルバノミ
ラー３３ａを制御する（Ｓ４８）。なお、このときの制
御量は、目標ポイントとエリアＣＤとの距離を考慮し、
１０μｍ程度の制御量（移動量）が必要である。
【０１９５】ステップＳ４７の判定で、差動増幅器６３
の出力が８００Ｈ以上で、Ａ００Ｈよりも小でなかった
場合には、差動増幅器６３の出力をメモリ５２にあらか
じめ記憶されている判定基準値Ａ００Ｈ，ＦＡ０Ｈと比
較することにより、差動増幅器６３の出力が判定基準値
Ａ００Ｈ以上で、ＦＡ０Ｈよりも小であるかを判定する
（Ｓ４９）。
【０１９６】この判定の結果、差動増幅器６３の出力が
Ａ００Ｈ以上で、ＦＡ０Ｈよりも小であった場合には、
ビーム光ａの通過位置が、通過目標ポイントであるセン
サパターンＳＢとＳＣとの中間近傍であるが、若干セン
サパターンＳＣ寄りであることを表している。すなわ
ち、図９におけるエリアＣのエリアＣＢをビーム光ａが
通過していることを表している。したがって、このよう
な場合には、ビーム光ａの通過目標ポイントであるセン
サパターンＳＢとＳＣとの中間に近づけるため、ビーム
光ａがセンサパターンＳＡ側を通過するようガルバノミ
ラー３３ａを制御する（Ｓ５０）。なお、このときの制
御量は、目標ポイントとエリアＣＢとの距離を考慮し、
０．５μｍ程度の制御量（移動量）が必要である。
【０１９７】ステップＳ４９の判定で、差動増幅器６３
の出力がＡ００Ｈ以上で、ＦＡ０Ｈよりも小でない場合
には、ビーム光ａの通過位置が所定の範囲内（目標ポイ
ントの±１μｍの範囲）に入っていることを示している
ので、ガルバノミラー３３ａの制御終了フラグＡを立て
る（Ｓ５１）。
【０１９８】このようにして、理想の通過ポイントに対
して±１μｍの範囲内にビーム光ａが通過していない場
合（Ｓ３４，Ｓ３６，Ｓ３８，Ｓ４０，Ｓ４２，Ｓ４
４，Ｓ４６，Ｓ４８，Ｓ５０）には、ガルバノミラー３
３ａを所定量制御し、そのときの値をメモリ５２に書込
む（Ｓ５２）。
【０１９９】以上のようにして主制御部５１は、ビーム
光ａが理想の通過ポイントに対し、±１μｍの範囲内を
通過している場合にガルバノミラー３３ａの制御終了フ
ラグＡを立て、この範囲外を通過している場合には、そ
の通過位置（エリア）に応じてガルバノミラー制御量を
調整し、その値をメモリ５２に書き込む。
【０２００】最後に主制御部５１は、レーザ発振器３１
ａの強制発光を解除し、一連のビーム光ａの通過位置制
御を終える（Ｓ５３）。
【０２０１】なお、既に図１３で説明したように、ガル
バノミラー３３ａの制御終了フラグＡが立っていない場
合には、再度、ビーム光ａの通過位置制御ルーチンを実
行することになる。すなわち、ビーム光ａが理想の通過
ポイントに対し、±１μｍの範囲内を通過するまでこの
ルーチンは繰り返し実行される。
【０２０２】以上の説明はビーム光ａに対しての制御で
あるが、ビーム光ｂ，ｃ，ｄに対しての制御も、基本的
にはビーム光ａの場合と同様で、それぞれのレーザ発振
器３１ｂ〜３１ｄを強制発光させた上で、増幅器６１，
６２並びに差動増幅器６３〜６６の出力を判定し、理想
の制御ポイントに対して±１μｍの範囲内を通過してい
る場合には、それぞれのガルバノミラー３３ｂ〜３３ｄ
の制御終了フラグＢ〜Ｄを立てる。また、この範囲を通
過していない場合には、それぞれのビーム光ｂ〜ｄがど
のエリアを通過しているのかを判定した上で、その通過
エリアに応じた制御をガルバノミラー３３ｂ〜３３ｄに
対して行ない、その制御値をメモリ５２に書込む。
【０２０３】以上説明したように上記実施の形態によれ
ば、前記したようなセンサパターンを有するビーム光位
置検知器を用いることにより、ビーム光位置検知器の傾
きに対する取付け精度がさほど高くなくても正確にビー
ム光の走査位置を検知することが可能となる。
【０２０４】また、マルチビーム光学系を用いたデジタ
ル複写機において、感光体ドラムの表面と同等の位置に
配設されたビーム光位置検知器によって各ビーム光の通
過位置を検知し、この検知結果を基に、各ビーム光の感
光体ドラムの表面における相対位置が適性位置となるよ
う制御するための制御量を演算し、この演算した制御量
に応じて各ビーム光の感光体ドラムの表面における相対
位置を変更するためのガルバノミラーを制御することに
より、光学系の組立てに特別な精度や調整を必要とせ
ず、しかも、環境変化や経時変化などによって光学系に
変化が生じても、感光体ドラムの表面における各ビーム
光相互の位置関係を常に理想的な位置に制御できる。し
たがって、常に高画質を維持することができる。
【０２０５】次に、本発明の最も重要な部分である、ビ
ーム光位置検知器出力処理回路４０におけるオフセット
値の検出、および、その補正について説明する。
【０２０６】図１６は、ビーム光位置検知器出力処理回
路４０におけるセンサパターンＳＢ，ＳＣに対する積分
器４２までの構成例を詳細に示すものである。図１６に
おいて、センサパターン（フォトダイオード）ＳＢ，Ｓ
Ｃを流れる電流は、それぞれ抵抗ＰＲ１，ＲＬ１，ＲＰ
２，ＲＬ２によって電流・電圧変換された後、ボルテー
ジフォロワ回路としてのオペアンプＡ１，Ａ２でそれぞ
れ増幅され、差動増幅器６３に送られる。差動増幅器６
３は、抵抗Ｒ１〜Ｒ４、および、オペアンプＡ３によっ
て構成されている。
【０２０７】差動増幅器６３の出力は、選択回路４１を
構成するアナログスイッチＳＷ１を介して積分器４２に
送られる。積分器４２は、オペアンプＡ４、積分抵抗Ｒ
５、積分コンデンサＣ、積分器リセット用アナログスイ
ッチＳＷ７、および、保護抵抗Ｒ６によって構成されて
いる。積分器４２の出力は、Ａ／Ｄ変換器４３に送られ
て、アナログ値からデジタル値に変換される。Ａ／Ｄ変
換器４３は、Ａ／Ｄ変換が終了すると、変換終了信号を
主制御部５１に送信する。主制御部５１は、変換終了信
号を受信すると、デジタル値に変換されたビーム光位置
情報を読込むようになっている。
【０２０８】なお、センサパターンＳＤ，ＳＥ，ＳＦに
対する積分器４２までの構成例も、基本的には上記セン
サパターンＳＢ，ＳＣに対する積分器４２までの構成例
と同様な構成になっており、よって説明は省略する。
【０２０９】ここで、オペアンプのオフセット電圧（オ
フセット値）について、図１７を用いて説明する。
【０２１０】図１７（ａ）において、オペアンプは、理
想的であれば、非反転入力と反転入力との電圧差が０
（零）であれば、出力は０（零）である。しかし、実際
には、非反転入力と反転入力を接地電位（ＧＮＤ）に接
続し、入力の電圧差を「０」としたにもかかわらず、出
力端子にはＶout の出力電圧が発生する。
【０２１１】図１７（ｂ）において、出力電圧Ｖout が
０［Ｖ］となるように、入力端子間にある電圧Ｖosを加
える。この電圧値を入力オフセット電圧Ｖosという。こ
れは、オペアンプの差動入力のトランジスタの特性のば
らつきが主な原因である。一般的なオペアンプの入力オ
フセット電圧は、常温で数ｍＶである。また、入力オフ
セット電圧は温度によっても変化する。
【０２１２】次に、図１８を用いてオペアンプのオフセ
ット電圧がビーム光通過位置検知に与える影響および問
題点について説明する。
【０２１３】たとえば、ビーム光ａの通過位置がセンサ
パターンＳＢとＳＣとの中心位置にある場合には、セン
サパターンＳＢとＳＣとの出力は等しい（Ｖ１＝Ｖ
２）。
【０２１４】ビーム光通過位置検知器出力処理回路４０
を構成するオペアンプのオフセット電圧が以下の場合を
考える。
【０２１５】 オペアンプＡ１のオフセット電圧：−Ｖos［Ｖ］ オペアンプＡ２のオフセット電圧：＋Ｖos［Ｖ］ オペアンプＡ３のオフセット電圧：＋Ｖos［Ｖ］ オペアンプＡ４のオフセット電圧：＋Ｖos［Ｖ］ 上記のオフセット電圧を考慮した場合、各オペアンプの
出力は以下のようになる。
【０２１６】 オペアンプＡ１の出力：Ｖ１−Ｖos［Ｖ］ オペアンプＡ２の出力：Ｖ２＋Ｖos［Ｖ］ オペアンプＡ３の出力：（＋２Ｖos＋Ｖos）×Ｒ３／Ｒ
１＝＋３Ｖos×Ｒ３／Ｒ１［Ｖ］ オペアンプＡ４の出力：−（＋３Ｖos×Ｒ３／Ｒ１＋Ｖ
os）／Ｒ５／Ｃ×ｔ［Ｖ］ ただし、Ｖ１＝Ｖ２ Ｒ１＝Ｒ２，Ｒ３＝Ｒ４ Ｒ５：積分抵抗、Ｃ：積分コンデンサ ｔ：積分時間 センサパターンＳＢとＳＣとの出力が等しい（Ｖ１＝Ｖ
２）ため、理想的にはオペアンプＡ４（積分器）の出力
は０［Ｖ］となる。しかし、各オペアンプのオフセット
電圧の影響で、上記のようにオペアンプＡ４の出力は
「０」とはならない。すなわち、ビーム光の通過位置が
理想的な位置にあるにもかかわらず、ビーム光通過位置
検知器出力処理回路４０の出力は、ビーム光の位置がず
れているという、誤った情報を出力することになる。
【０２１７】たとえば、各定数が以下の場合、 Ｖos＝５［ｍＶ］ Ｒ２／Ｒ１＝Ｒ４／Ｒ５＝３ Ｒ５＝２２０［Ω］ Ｃ＝１５０［ｐＦ］ ｔ＝４０６［ｎｓ］ 積分出力は約０．６１５［Ｖ］となる。これを、ビーム
光位置情報に換算すると、約１．２３μｍとなる。
【０２１８】以下、第１の実施の形態に係るオフセット
検出・補正について説明する。
【０２１９】まず、概要について説明すると、先に説明
したように、ビーム光位置検知器３８上におけるビーム
光の通過位置を検知する通過位置検知制御では、ビーム
光がビーム光位置検知器３８上を通過する際のセンサパ
ターン出力の差分をとり、その結果を積分、Ａ／Ｄ変換
して検知する。
【０２２０】既に説明したように、積分器４２の積分の
開始／終了のタイミングは、センサパターンＳ１，Ｓ２
が信号を出力するタイミングである。すなわち、ビーム
光がポリゴンミラー３５によって走査され、センサパタ
ーンＳ１上を通過する際に積分器４２のリセットが行な
われ、リセット終了と同時に積分が開始される。さら
に、ビーム光がセンサパターンＳ２上を通過する際に積
分が終了し、同時にＡ／Ｄ変換が開始される。
【０２２１】ビーム光通過位置検知器出力処理回路４０
のオフセット値は、本回路の電源が入っている限り、定
常的に発生している。オフセット値が、ビーム光通過位
置検知制御のビーム光位置情報の誤差要因となるのは、
積分動作の開始から終了までの積分時間の間である。し
たがって、積分時間におけるオフセット値を測定するこ
とができれば、オフセット値を考慮した（オフセットを
補正した）ビーム光通過位置制御ができる。
【０２２２】そこで、本例では、積分器４２の積分の開
始／終了のタイミングをビーム通過位置制御と同等とす
るために、センサパターンＳ１，Ｓ２の出力信号を使用
する。しかし、ビーム光がセンサパターンＳＢ，ＳＣ，
ＳＤ，ＳＥ，ＳＦによって検知されては、ビーム光情報
が重畳され、正確なオフセット値の検出ができない。
【０２２３】したがって、ビーム光をセンサパターンＳ
Ｂ，ＳＣ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＦによって検知されない領域
にずらすことによって、積分の開始／終了のタイミング
は、そのままで、オフセット値を検出（測定）できる。
【０２２４】図１９は、ビーム光の位置をセンサパター
ンＳＡ上にずらして、オフセット値を検出する様子を表
した図である。このように、オフセット値は、センサパ
ターンＳＢ〜ＳＦにビーム光を照射しない状態で、積分
を行なうことによって検出される。
【０２２５】次に、オフセット補正ルーチンについて図
２０、図２１に示すフローチャートを参照して説明す
る。
【０２２６】まず、主制御部５１は、ポリゴンモータ３
６をオンし、ポリゴンミラー３５を所定の回転数で回転
させる（Ｓ６１）。次に、主制御部５１、メモリ５２か
ら最新のガルバノミラー３３ａ〜３３ｄの駆動値を読出
し、その値に基づいて、それぞれのガルバノミラー３３
ａ〜３３ｄを駆動する（Ｓ６２）。
【０２２７】次に、主制御部５１は、ビーム光ａをビー
ム光位置検知パターンの非検知領域に移動するようガル
バノミラー３３ａを制御する（Ｓ６３）。ここでの制御
内容は、現状のビーム光通過位置を把握し、センサパタ
ーンＳＢ，ＳＣ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＦによって検知されな
い領域にビーム光ａを移動させるように、ガルバノミラ
ー３３ａを制御する。
【０２２８】続いて、主制御部５１は、ビーム光通過位
置検知器出力処理回路４０におけるビーム光ａのビーム
光通過位置検知部のオフセット値を検出する（オフセッ
ト検出、Ｓ６４，Ｓ６５）。そして、検出されたオフセ
ット値に基づいて、オフセット補正を実行する（オフセ
ット補正、Ｓ６６）。
【０２２９】以下、ステップＳ６７〜Ｓ７８と順次実行
することにより、上記同様な（ビーム光を非検出領域に
移動）→（オフセット検出）→（オフセット補正）をビ
ーム光ｂ，ｃ，ｄに対しても行なう。
【０２３０】次に、図２０のステップＳ６３におけるビ
ーム光ａをビーム光位置検知パターンの非検知領域に移
動するルーチンの動作について、図２２、図２３に示す
フローチャートを参照して説明する。
【０２３１】まず、主制御部５１は、レーザ発振器３１
ａを強制発光させる（Ｓ８１）。これによって、ビーム
光ａは、ポリゴンミラー３５の回転により周期的にビー
ム光位置検知器３８上を走査することになる。
【０２３２】次に、主制御部５１は、Ａ／Ｄ変換器４３
が出力する割り込み信号ＩＮＴにしたがい、各増幅器な
らびに差動増幅器の出力がＡ／Ｄ変換された値を読込
む。なお、通常、ビーム光の走査位置は、ポリゴンミラ
ー３５の面倒れ成分によって、面ごとに若干異なる場合
が多く、その影響を除去するために、ポリゴンミラー３
５の面数と同等な回数、あるいは、その複数倍回連続し
てＡ／Ｄ変換された値を読込むことが望ましい。その場
合、主制御部５１は、それぞれの増幅器並びに差動増幅
器に対応するＡ／Ｄ変換器４３の出力値を平均し、その
結果をそれぞれの増幅器並びに差動増幅器の出力とする
（Ｓ８２）。
【０２３３】次に、主制御部５１は、このようにして得
た増幅器並びに差動増幅器の出力を判定基準値と比較
し、その結果に基づいて、ビーム光を非検知領域に移動
するようにガルバノミラーを制御する。
【０２３４】ここでは、非検知領域をセンサパターンＳ
Ａ並びにセンサパターンＳＧの中心近傍とした例を説明
する。センサパターンＳＡ並びにセンサパターンＳＧの
パターンの長さは、前述したように８００μｍであり、
その中心の４００μｍ近傍であれば、１００×１００μ
ｍ程度（あるいは、それ以上）の形成を有したビーム光
であっても、センサパターンＳＢ，ＳＣ，ＳＤ，ＳＥ，
ＳＦによって検知される可能性は少ない。
【０２３５】さて、主制御部５１は、まず、増幅器６１
（Ａ）の出力（Ａ／Ｄ変換値）を、メモリ５２にあらか
じめ記憶されている判定基準値１００Ｈと比較すること
により、増幅器６１の出力が判定基準値１００Ｈ以上で
あるかを判定する（Ｓ８３）。
【０２３６】この判定の結果、増幅器６１の出力が１０
０Ｈ以上であった場合には、ビーム光ａの通過位置が、
センサパターンＳＢの中心よりもセンサパターンＳＡ側
か、または、センサパターンＳＡ上であることを表わし
ている。したがって、この場合、約４５０μｍセンサパ
ターンＳＡ側にビーム光ａが移動するようにガルバノミ
ラー３３ａを制御する（Ｓ８４）。
【０２３７】こうしてビーム光ａを移動した後、再度セ
ンサパターンＳＡの出力を読込み、移動前と移動後との
出力を比較する（Ｓ８５）。ここで、移動後の出力が移
動前と等しいか、あるいは、大であれば（移動後の出力
≧移動前の出力）、少なくともビーム光ａはセンサパタ
ーンＳＡ上で、かつ、センサパターンＳＡの中心よりも
図面上側にあることになり、非検知領域への移動は終了
する。
【０２３８】一方、移動後の出力が移動前の出力よりも
小さい場合には、ビーム光ａの通過位置はセンサパター
ンＳＡ上の図面上側にビーム光の一部がかかっている状
態か、完全にセンサパターンＳＡ上から外れた場合であ
る。これは、ビーム光ａの通過位置が移動前から、非検
知領域にあったことを意味する。したがって、この場
合、ビーム光ａの位置を約４５０μｍセンサパターンＳ
Ｇ側に移動させるようガルバノミラー３３ａを制御する
（Ｓ８６）。
【０２３９】ステップＳ８３の判定で、増幅器６１の出
力が１００Ｈ以上でなかった場合には、増幅器６２
（Ｇ）の出力（Ａ／Ｄ変換値）を、メモリ５２にあらか
じめ記憶されている判定基準値１００Ｈと比較すること
により、増幅器６２の出力が判定基準値が１００Ｈ以上
であるかを判定する（Ｓ８７）。
【０２４０】この判定の結果、増幅器６２の出力が１０
０Ｈ以上であった場合には、ビーム光ａの通過位置が、
センサパターンＳＦの中心よりもセンサパターンＳＧ側
か、または、センサパターンＳＧ上であることを表わし
ている。したがって、この場合、約４５０μｍセンサパ
ターンＳＧ側（図面下側）にビーム光ａが移動するよう
にガルバノミラー３３ａを制御する（Ｓ８８）。
【０２４１】こうしてビーム光ａを移動した後、再度セ
ンサパターンＳＡの出力を読込み、移動前と移動後との
出力を比較する（Ｓ８９）。ここで、移動後の出力が移
動前と等しいか、あるいは、大であれば（移動後の出力
≧移動前の出力）、少なくともビーム光ａはセンサパタ
ーンＳＧ上で、かつ、センサパターンＳＧの中心よりも
図面下側にあることになり、非検知領域への移動は終了
する。
【０２４２】一方、移動後の出力が移動前の出力よりも
小さい場合には、ビーム光ａの通過位置はセンサパター
ンＳＧ上の図面下側にビーム光の一部がかかっている状
態か、完全にセンサパターンＳＧ上から外れた場合であ
る。これは、ビーム光ａの通過位置が移動前から、非検
知領域にあったことを意味する。したがって、この場
合、ビーム光ａの位置を４５０μｍセンサパターンＳＡ
側に移動させるようガルバノミラー３３ａを制御する
（Ｓ９０）。
【０２４３】ステップＳ８３の判定で、増幅器６２の出
力が１００Ｈ以上でなかった場合には、差動増幅器６６
（Ｅ−Ｆ）の出力（Ａ／Ｄ変換値）を、メモリ５２にあ
らかじめ記憶されている判定基準値８００Ｈ，Ａ００Ｈ
と比較することにより、差動増幅器６６の出力が判定基
準値が８００Ｈ以上で、Ａ００Ｈ以下であるかを判定す
る（Ｓ９１）。
【０２４４】この判定の結果、差動増幅器６６の出力が
８００Ｈ以上で、Ａ００Ｈ以下であった場合には、ビー
ム光ａの通過位置は、ビーム光ｄの目標通過位置よりも
センサパターンＳＦ側に寄った位置であることを表わし
ている。したがって、この場合、約４５０μｍセンサパ
ターンＳＧ側にビーム光ａが移動するようにガルバノミ
ラー３３ａを制御する（Ｓ９２）。
【０２４５】ステップＳ９１の判定で、差動増幅器６６
の出力が８００Ｈ以上で、Ａ００Ｈ以下でなかった場合
には、差動増幅器６５（Ｄ−Ｅ）の出力（Ａ／Ｄ変換
値）を、メモリ５２にあらかじめ記憶されている判定基
準値８００Ｈ，Ａ００Ｈと比較することにより、差動増
幅器６５の出力が判定基準値が８００Ｈ以上で、Ａ００
Ｈ以下であるかを判定する（Ｓ９３）。
【０２４６】この判定の結果、差動増幅器６５の出力が
８００Ｈ以上で、Ａ００Ｈ以下であった場合には、ビー
ム光ａの通過位置は、ビーム光ｃの目標通過位置よりも
センサパターンＳＥ側に寄った位置であることを表わし
ている。したがって、この場合、約５００μｍセンサパ
ターンＳＧ側にビーム光ａが移動するようにガルバノミ
ラー３３ａを制御する（Ｓ９４）。
【０２４７】ステップＳ９３の判定で、差動増幅器６５
の出力が８００Ｈ以上で、Ａ００Ｈ以下でなかった場合
には、差動増幅器６４（Ｃ−Ｄ）の出力（Ａ／Ｄ変換
値）を、メモリ５２にあらかじめ記憶されている判定基
準値８００Ｈ，Ａ００Ｈと比較することにより、差動増
幅器６４の出力が判定基準値が８００Ｈ以上で、Ａ００
Ｈ以下であるかを判定する（Ｓ９５）。
【０２４８】この判定の結果、差動増幅器６４の出力が
８００Ｈ以上で、Ａ００Ｈ以下であった場合には、ビー
ム光ａの通過位置は、ビーム光ｂの目標通過位置よりも
センサパターンＳＤ側に寄った位置であることを表わし
ている。したがって、この場合、約５４０μｍセンサパ
ターンＳＧ側にビーム光ａが移動するようにガルバノミ
ラー３３ａを制御する（Ｓ９６）。
【０２４９】ステップＳ９５の判定で、差動増幅器６４
の出力が８００Ｈ以上で、Ａ００Ｈ以下でなかった場合
には、差動増幅器６３（Ｂ−Ｃ）の出力（Ａ／Ｄ変換
値）を、メモリ５２にあらかじめ記憶されている判定基
準値８００Ｈ，Ａ００Ｈと比較することにより、差動増
幅器６３の出力が判定基準値が８００Ｈ以上で、Ａ００
Ｈ以下であるかを判定する（Ｓ９７）。
【０２５０】この判定の結果、差動増幅器６３の出力が
８００Ｈ以上で、Ａ００Ｈ以下であった場合には、ビー
ム光ａの通過位置は、ビーム光ａの目標通過位置よりも
センサパターンＳＣ側に寄った位置であることを表わし
ている。したがって、この場合、約５２０μｍセンサパ
ターンＳＡ側にビーム光ａが移動するようにガルバノミ
ラー３３ａを制御する（Ｓ９８）。
【０２５１】上記の以外の場合は、ビーム光ａの通過位
置はセンサパターンＳＢの中心よりもセンサパターンＳ
Ｃ側に寄った位置であることを表わしている。したがっ
て、この場合、約４５０μｍセンサパターンＳＡ側にビ
ーム光ａが移動するようにガルバノミラー３３ａを制御
する（Ｓ９９）。
【０２５２】なお、上記の制御は、ビーム光ａを非検知
領域に移動するのが目的であるため、必ずしも高精度な
ビーム光位置制御（たとえば、１μｍ以下の制御）は必
要とせず、おおざっぱな制御で充分である。
【０２５３】同様の制御を、図２０、図２１のステップ
Ｓ６７，Ｓ７１，Ｓ７５におけるビーム光ｂ、ビーム光
ｃ、ビーム光ｄの非検知領域への移動に実施することに
よって、全てのビーム光ａ〜ｄはビーム光位置検知パタ
ーンの非検知領域に移動される。
【０２５４】次に、図２０のステップＳ６４におけるビ
ーム光ａのビーム光通過位置検知部のオフセット値を検
出（測定）するルーチンの動作について、図２４に示す
フローチャートを参照して説明する。
【０２５５】まず、主制御部５１は、ビーム光通過位置
検知器出力処理回路４０におけるビーム光ａのビーム光
通過位置検知部の選択を行なう（Ｓ１０１）。これは、
アナログスイッチＳＷ１をオンすることにより、ビーム
光ａの通過位置検知を行なうセンサパターンＳＢ，ＳＣ
の各出力の差を演算する差動増幅器６３の出力端を積分
器４２の入力端に接続する。
【０２５６】次に、主制御部５１は、レーザ発振器３１
ａを強制発光させる（Ｓ１０２）。これによって、ビー
ム光ａが周期的にビーム光通過位置検知器３８上を走査
することになる。そして、ビーム光ａがビーム光通過位
置検知器３８上を通過するのに伴って、センサパターン
Ｓ１の信号が出力され、センサパターンＳ１の出力信号
により積分器４２がリセットされ、同時に積分が開始さ
れる（Ｓ１０３）。
【０２５７】しかし、ビーム光ａは、非検知領域に移動
されているため、ビーム光ａの通過位置を制御するセン
サパターンＳＢ，ＳＣには検知されず、オフセット成分
だけが積分される。すなわち、オペアンプが理想的であ
るとすれば、センサパターンＳＢ，ＳＣにはビーム光ａ
が当たらないため、オペアンプＡ１，Ａ２の各出力は０
［Ｖ］であり、オペアンプＡ３の出力も０［Ｖ］であ
る。また、オペアンプＡ４の出力も０［Ｖ］であるた
め、Ａ／Ｄ変換されて、主制御部５１に読込まれた値も
０００Ｈである。
【０２５８】ところが、ビーム光通過位置検知部を構成
するオペアンプにオフセット電圧が存在するため、主制
御部５１に読込まれた値も０００Ｈとはならず、ある値
が読込まれる。すなわち、これがオフセット値である。
【０２５９】そして、センサパターンＳ２の出力に伴っ
て積分動作が終了し、同時にＡ／Ｄ変換が行なわれる
（Ｓ１０４）。Ａ／Ｄ変換器４３は、Ａ／Ｄ変換を終了
すると、Ａ／Ｄ変換終了信号を出力し（Ｓ１０５）、主
制御部５１は、このＡ／Ｄ変換信号終了信号を受信する
と、レーザ発振器３１ａの強制発光を解除するとともに
（Ｓ１０６）、Ａ／Ｄ変換された値を読込む（Ｓ１０
７）。
【０２６０】次に、主制御部５１は、読込んだオフセッ
ト値をメモリ５２に記憶する（Ｓ１０８）。最後に、ビ
ーム光ａのビーム光通過位置検知部の選択を解除する
（Ｓ１０９）。すなわち、主制御部５１は、アナログス
イッチＳＷ１をオフにする。
【０２６１】同様の制御を、図２０、図２１のステップ
Ｓ６８，Ｓ７２，Ｓ７６におけるビーム光ｂ、ビーム光
ｃ、ビーム光ｄのオフセット検出に実施することによっ
て、全てのビーム光ａ〜ｄのビーム光通過位置検知部、
すなわち、ビーム光通過位置検知器出力処理回路４０の
オフセット値が検出される。
【０２６２】次に、図２０のステップＳ６６，Ｓ７０，
Ｓ７４，Ｓ７８におけるオフセット値を補正するルーチ
ンの動作について、図２５に示すフローチャートを参照
して説明する。
【０２６３】まず、主制御部５１は、検出したオフセッ
ト値の極性を判定する（Ｓ１１１）。オフセット値は、
オペアンプによってその極性はまちまちである。さら
に、ビーム光通過位置検知器出力処理回路４０は複数の
オペアンプで構成されており、その極性は用いられる画
像形成装置それぞれによって異なるため、極性の判定を
必要とする。
【０２６４】主制御部５１は、読込んだオフセット値の
極性を判定し、正極性（プラス）であれば、前述した図
１４、図１５のビーム光通過位置制御ルーチンにおける
判定基準（Ｖref ）に対してオフセット値の絶対値（｜
＋Ｖos｜）を減算する（Ｓ１１２）。一方、読込んだオ
フセット値が負極性（マイナス）であれば、上記判定基
準値からオフセット値の絶対値（｜＋Ｖos｜）を加算す
る（Ｓ１１３）。
【０２６５】上記したオフセット値検出、オフセット値
補正の処理を行なった後に、通常のビーム光通過位置制
御を実行すれば、ビーム光通過位置制御の判定基準値に
オフセット値が考慮されているため、オフセット値によ
るビーム光通過位置の制御誤差が生じることがない。
【０２６６】次に、第２の実施の形態に係るオフセット
検出・補正について説明する。
【０２６７】第２の実施の形態では、オフセット値の検
出方法は第１の実施の形態と同様であるが、オフセット
値の補正の方法が異なる。したがって、オフセット値の
補正方法についてのみ説明する。
【０２６８】第２の実施の形態では、オフセットの補正
をビーム光通過位置制御ルーチンの中で行なうものであ
り、以下、それについて詳細に説明する。
【０２６９】図２６は、ビーム光ａの通過位置制御ルー
チンの中で、主制御部５１がビーム光ａの通過位置情報
を検出するルーチンを表したフローチャートである。ま
ず、主制御部５１は、ビーム光通過位置検知器出力処理
回路４０におけるビーム光ａのビーム光通過位置検知部
の選択を行なう（Ｓ１２１）。これは、アナログスイッ
チＳＷ１をオンすることにより、ビーム光ａの通過位置
検知を行なうセンサパターンＳＢ，ＳＣの各出力の差を
とる差動増幅器６３の出力端を積分器４２の入力端に接
続する。
【０２７０】次に、主制御部５１は、レーザ発振器３１
ａを強制発光させる（Ｓ１２２）。これによって、ビー
ム光ａが周期的にビーム光通過位置検知器３８上を走査
することになる。そして、ビーム光ａがビーム光通過位
置検知器３８上を通過するのに伴って、センサパターン
Ｓ１の信号が出力され、センサパターンＳ１の出力信号
により積分器４２がリセットされ、同時に積分が開始さ
れる。
【０２７１】続いて、センサパターンＳ２の出力に伴っ
て積分動作が終了し、同時にＡ／Ｄ変換が行なわれる。
Ａ／Ｄ変換器４３は、Ａ／Ｄ変換を終了すると、Ａ／Ｄ
変換終了信号を出力し（Ｓ１２３）、主制御部５１は、
このＡ／Ｄ変換信号終了信号を受信すると、Ａ／Ｄ変換
された値（ビーム光ａの位置情報）を読込む（Ｓ１２
４）。
【０２７２】次に、主制御部５１は、第１の実施の形態
で説明したオフセット検出ルーチンで、オフセット値を
既に把握しているので、その極性を判定し（Ｓ１２
５）、その判定結果に応じて以下の処理を行なう。すな
わち、検出したオフセット値の極性が正（プラス）であ
れば、先に読込んだビーム光位置情報に対してオフセッ
ト値の絶対値を減算する（ビーム光位置情報−オフセッ
ト値、Ｓ１２６）。また、オフセット値が負（マイナ
ス）であれば、読込んだビーム光位置情報に対してオフ
セット値の絶対値を加算する（ビーム光位置情報＋オフ
セット値、Ｓ１２７）。
【０２７３】このように、オフセット値の極性に応じ
て、オフセット値が相殺されるような演算を施すことに
よって、読込んだビーム光位置情報からオフセット値を
取り除くことができる。そして、主制御部５１は、上記
演算結果を最終的なビーム光位置情報として（Ｓ１２
８）、ガルバノミラー３３ａを制御する。ガルバノミラ
ー３３ａの制御方法は、前述した第１の実施の形態と同
様である。
【０２７４】次に、第３の実施の形態に係るオフセット
検出・補正について説明する。
【０２７５】図２７は、第３の実施の形態に係るオフセ
ット検出・補正処理を説明するための図である。基本的
な構成は、前述した図７の第１の実施の形態と同様であ
るが、ビーム光通過位置検知器出力処理回路４０にＤ／
Ａ変換器６７が内蔵されている点が異なる。
【０２７６】図２８は、ビーム光通過位置検知器出力処
理回路４０内の積分器４２とＤ／Ａ変換器６７との関係
を詳細に示している。図２８において、Ｄ／Ａ変換器６
７のデジタル入力端子は主制御部５１と接続されてい
て、主制御部５１からデジタル化されたオフセット補正
値が入力される。また、Ｄ／Ａ変換器６７のアナログ出
力端子は、積分器４２を構成するオペアンプＡ４の非反
転入力端子に接続されている。
【０２７７】第３の実施の形態では、オフセット値の検
出方法は第１の実施の形態と同様で、ビーム光をビーム
光位置検知パターンの非検知領域にずらすことによっ
て、センサパターンＳ１，Ｓ２でタイミングをとり、オ
フセット値を検出する。
【０２７８】第３の実施の形態では、検出したオフセッ
ト値を積分器４２の基準電圧としてフィードバック（帰
還）して、再度オフセット検出を行ない、これらをオフ
セット値が規定値以内に収束するまで繰り返し行なうも
のであり、以下、それについて詳細に説明する。
【０２７９】図２９、図３０は、オフセット補正ルーチ
ンの動作を説明するフローチャートである。まず、主制
御部５１は、ポリゴンモータ３６をオンし、ポリゴンミ
ラー３５を所定の回転数で回転させる（Ｓ１３１）。次
に、主制御部５１、メモリ５２から最新のガルバノミラ
ー３３ａ〜３３ｄの駆動値を読出し、その値に基づい
て、それぞれのガルバノミラー３３ａ〜３３ｄを駆動す
る（Ｓ１３２）。
【０２８０】次に、主制御部５１は、ビーム光ａをビー
ム光位置検知パターンの非検知領域に移動するようガル
バノミラー３３ａを制御する（Ｓ１３３）。ここでの制
御内容は、現状のビーム光通過位置を把握し、センサパ
ターンＳＢ，ＳＣ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＦによって検知され
ない領域にビーム光ａを移動させるように、ガルバノミ
ラー３３ａを制御する。
【０２８１】続いて、主制御部５１は、ビーム光通過位
置検知器出力処理回路４０におけるビーム光ａのビーム
光通過位置検知部のオフセット値を検出する（オフセッ
ト検出、Ｓ１３４）。
【０２８２】次に、主制御部５１は、検出したオフセッ
ト値が規定値以内かどうか判定する（Ｓ１３５）。理想
的には、オフセット値がない状態であれば、規定値は０
００Ｈであるが、通常は、ある程度のマージンを設けて
設定する。オフセット値が規定値以内に収まっていない
場合、主制御部５１は、読込んだオフセット値をオフセ
ット補正値としてＤ／Ａ変換器６７に設定する（Ｓ１３
６）。Ｄ／Ａ変換器６７は、設定されたオフセット補正
値をデジタル−アナログ変換し、積分器４２の基準電圧
として、オペアンプＡ４の非反転入力端子に入力する。
【０２８３】その後、主制御部５１は、再度オフセット
値を検出し（Ｓ１３４）、再びオフセット値が規定値以
内かどうか判定する（Ｓ１３５）。
【０２８４】図２８の積分器４２は、基準電圧端子（こ
の場合、非反転入力端子：＋）の電圧に対して、入力端
子（反転入力端子：−）の電圧が大きい場合に積分出力
は負（マイナス）となり、小さい場合に積分出力は正
（プラス）となる。また、基準電圧と入力電圧とが等し
い場合、積分出力は「０」となる。すなわち、基準電圧
端子にオフセット値を設定した場合、回路のオフセット
電圧が前回同様であれば、再度オフセット検出を行なう
と、オフセット値は「０」となる。オフセット値が規定
値以内でない場合、再度オフセット検出を行なう。
【０２８５】オフセット値が規定値以内の場合は、メモ
リ５２にオフセット値を記憶し、以下、ステップＳ１３
７〜Ｓ１４８と順次実行することにより、上記同様なオ
フセット値の補正をビーム光ｂ、ビーム光ｃ、ビーム光
ｄに対して行なう。
【０２８６】ビーム光通過位置制御を行なう際には、上
記制御によって収束したオフセット電圧を、積分器４２
の基準電圧として設定する。
【０２８７】オペアンプのオフセット電圧は、温度変化
などで大きく変化する。したがって、たとえば、画像形
成装置の電源立ち上げ時など、１回だけのオフセット検
出では誤差を生じる可能性が大きい。しかし、第３の実
施の形態によれば、オフセット値が規定値内に収束する
まで（オフセット検出）→（オフセット補正）を繰り返
すため、高精度なオフセット補正が可能である。
【０２８８】次に、第４の実施の形態に係るオフセット
検出・補正について説明する。
【０２８９】第４の実施の形態は、オフセット検出を行
なう際の、積分器４２のリセット並びに積分開始／終了
のタイミング、また、Ａ／Ｄ変換器４３のＡ／Ｄ変換開
始のタイミングを、通常のビーム光位置検知用のセンサ
パターンＳ１，Ｓ２ではなく、オフセット検出用のタイ
ミングセンサで発生させるようにしたものである。すな
わち、ビーム光通過位置検知器３８にオフセット検出用
のセンサパターンを設けたものであり、以下、それにつ
いて説明する。
【０２９０】図３１は、第４の実施の形態に係るビーム
光通過位置検知器３８の構成を示している。図示のよう
に、ビーム光位置検知用のセンサパターンＳ１の図面に
対して左側部近傍に、センサパターンＳ１と同形状のオ
フセット検出用のセンサパターンＳ３，Ｓ４がセンサパ
ターンＳ１と平行に配設されている。
【０２９１】センサパターンＳ３は、オフセット検出の
際に積分器４２のリセット信号ならびに積分の開始タイ
ミングを発生するパターンであり、センサパターンＳ４
は、オフセット検出の際に積分の終了並びにＡ／Ｄ変換
の開始信号を発生するパターンである。なお、センサパ
ターンＳ３とＳ４の位置関係は、センサパターンＳ１と
Ｓ２の位置関係に等しい。すなわち、センサパターンＳ
３とＳ４との間の距離はＷ４である。
【０２９２】図３２は、第４の実施の形態に係るオフセ
ット検出・補正処理を説明するための図である。基本的
な構成は、前述した図７の第１の実施の形態と同様であ
るが、図３１に示したビーム光通過位置検知器３８が使
用されている点と、通常のビーム光通過位置制御時とオ
フセット検出時に、タイミングセンサとしてのセンサパ
ターンＳ１〜Ｓ４の各出力を切換える選択回路６８，６
９（Ａ、Ｂ）が設けられている点が大きく異なる。
【０２９３】選択回路６８（Ａ）には、センサパターン
Ｓ１，Ｓ３の各出力信号が入力され、主制御部５１から
の選択信号によってどちらかの信号が選択される。ま
た、選択回路６９（Ｂ）には、センサパターンＳ２，Ｓ
４の各出力信号が入力され、主制御部５１からの選択信
号によってどちらかの信号が選択される。すなわち、ビ
ーム光通過位置制御時には、センサパターンＳ１とＳ２
の出力信号が選択され、オフセット検出時にはセンサパ
ターンＳ３とＳ４の出力信号が選択される。
【０２９４】図３３は、オフセット補正ルーチンの動作
を説明するフローチャートである。まず、主制御部５１
は、ポリゴンモータ３６をオンし、ポリゴンミラー３５
を所定の回転数で回転させる（Ｓ１５１）。次に、主制
御部５１、メモリ５２から最新のガルバノミラー３３ａ
〜３３ｄの駆動値を読出し、その値に基づいて、それぞ
れのガルバノミラー３３ａ〜３３ｄを駆動する（Ｓ１５
２）。
【０２９５】次に、主制御部５１は、ビーム光通過位置
検知器出力処理回路４０におけるビーム光ａのビーム光
通過位置検知部のオフセット値を検出する（オフセット
検出、Ｓ１５３）。なお、第１の実施の形態と異なるの
は、このときビーム光ａをビーム光通過位置検知用のセ
ンサパターンの非検知領域に移動させる動作がない点で
ある。
【０２９６】続いて、主制御部５１は、検出したオフセ
ット値が規定値内であるかどうか判定し（Ｓ１５４）、
オフセット値が規定値以内でない場合、検出されたオフ
セット値に基づいて、オフセット補正を実行する（オフ
セット補正、Ｓ１５５）。オフセット補正の方法は、前
述した第１の実施の形態と同様である。
【０２９７】以下、ステップＳ１５６〜Ｓ１６４と順次
実行することにより、上記同様な（オフセット検出）→
（オフセット補正）をビーム光ｂ，ｃ，ｄに対しても行
なう。
【０２９８】こうして、全てのビーム光ａ〜ｄに対する
オフセット補正が終了したら、ビーム光通過位置制御を
行なう。
【０２９９】次に、図３３のステップＳ１５３における
ビーム光ａのビーム光位置検知部のオフセット値を検出
（測定）するルーチンの動作について、図３４に示すフ
ローチャートを参照して説明する。
【０３００】まず、主制御部５１は、選択回路６８と選
択回路６９にセンサ選択信号を出力することにより、セ
ンサパターンＳ３とＳ４を選択する（Ｓ１７１）。選択
回路６８によって、センサパターンＳ３の出力は積分器
４２のリセット信号（積分開始信号を兼ねる）として、
積分器４２のリセットスイッチ（アナログスイッチ）Ｓ
Ｗ７に入力される。また、選択回路６９によって、セン
サパターンＳ４の出力はＡ／Ｄ変換器４３のＡ／Ｄ変換
開始信号（積分終了信号を兼ねる）としてＡ／Ｄ変換器
４３に入力される。
【０３０１】次に、主制御部５１は、ビーム光通過位置
検知器出力処理回路４０におけるビーム光ａのビーム光
通過位置検知部の選択を行なう（Ｓ１７２）。これは、
アナログスイッチＳＷ１をオンすることにより、ビーム
光ａの通過位置検知を行なうセンサパターンＳＢ，ＳＣ
の各出力の差をとる差動増幅器６３の出力端を積分器４
２の入力端に接続する。
【０３０２】次に、主制御部５１は、レーザ発振器３１
ａを強制発光させる（Ｓ１７３）。これによって、ビー
ム光ａが周期的にビーム光通過位置検知器３８上を走査
することになる。そして、ビーム光ａがビーム光通過位
置検知器３８上を通過するのに伴って、センサパターン
Ｓ３の信号が出力され、センサパターンＳ３の出力信号
により積分器４２がリセットされ、同時に積分が開始さ
れる（Ｓ１７４）。
【０３０３】続いて、センサパターンＳ４の出力に伴っ
て積分動作が終了し、同時にＡ／Ｄ変換が行なわれる
（Ｓ１７５）。
【０３０４】オフセット値は、ビーム光通過位置検知用
のセンサパターンＳＢ〜ＳＦにビーム光を照射しない状
態で、積分を行なうことによって検出される。本方法に
よれば、ビーム光ａがビーム光通過位置検知用のセンサ
パターンＳＢ〜ＳＦに到達する以前に、オフセット検出
を行なう。さらに、ビーム光通過位置検知制御時に使用
する積分開始／終了のタイミングを発生するセンサパタ
ーンＳ１，Ｓ２と等しいセンサパターンＳ３，Ｓ４を使
用してタイミングを形成しており、オフセット検出に伴
う誤差も最小限である。
【０３０５】さて、Ａ／Ｄ変換器４３は、Ａ／Ｄ変換を
終了すると、Ａ／Ｄ変換終了信号を出力し（Ｓ１７
６）、主制御部５１は、このＡ／Ｄ変換信号終了信号を
受信すると、レーザ発振器３１ａの強制発光を解除する
とともに（Ｓ１７７）、Ａ／Ｄ変換された値（オフセッ
ト値）を読込む（Ｓ１７８）。
【０３０６】次に、主制御部５１は、読込んだオフセッ
ト値をメモリ５２に記憶する（Ｓ１７９）。最後に、ビ
ーム光ａのビーム光通過位置検知部の選択を解除する
（Ｓ１８０）。すなわち、主制御部５１は、アナログス
イッチＳＷ１をオフにする。
【０３０７】同様の制御を、図３３のステップＳ１５
６，Ｓ１５９，Ｓ１６２におけるビーム光ｂ、ビーム光
ｃ、ビーム光ｄのオフセット検出に実施することによっ
て、全てのビーム光ａ〜ｄのビーム光通過位置検知部、
すなわち、ビーム光通過位置検知器出力処理回路４０の
オフセット値が検出される。
【０３０８】次に、第５の実施の形態に係るオフセット
検出・補正について説明する。
【０３０９】第５の実施の形態は、オフセット値の検出
を前述した第４の実施の形態と同様な方法で行ない、オ
フセット値の補正を前述した第２の実施の形態と同様な
方法で行なうようにしたものである。したがって、ここ
での説明は省略する。
【０３１０】次に、第６の実施の形態に係るオフセット
検出・補正について説明する。
【０３１１】第６の実施の形態は、オフセット値の検出
を前述した第４の実施の形態と同様な方法で行ない、オ
フセット値の補正を前述した第３の実施の形態と同様な
方法で行なうようにしたものである。
【０３１２】図３５は、第６の実施の形態に係るオフセ
ット検出・補正処理を説明するための図である。基本的
な構成は、前述した図３２の第４の実施の形態と同様で
あるが、第３の実施の形態と同様に、ビーム光通過位置
検知器出力処理回路４０にＤ／Ａ変換器６７が内蔵され
ている点が異なる。したがって、ここでの説明は省略す
る。
【０３１３】次に、第７の実施の形態に係るオフセット
検出・補正について説明する。
【０３１４】第７の実施の形態は、積分開始のタイミン
グをビーム光通過位置制御用のタイミングセンサで、ま
た、積分終了のタイミングは時計手段であるタイマで管
理するようにしたものであり、オフセット補正の方法は
前述した第１の実施の形態と同様であるので、ここでは
説明を省略する。
【０３１５】図３６は、第７の実施の形態に係るオフセ
ット検出・補正処理を説明するための図である。基本的
な構成は、前述した図７の第１の実施の形態と同様であ
るが、時計手段であるタイマ７０を有している点と、選
択回路７１が設けられている点が大きく異なる。
【０３１６】選択回路７１には、センサパターンＳ２の
出力信号とタイマ７０の計測終了信号が入力され、主制
御部５１からの選択信号によってどちらかの信号が選択
される。すなわち、ビーム光通過位置制御時には、セン
サパターンＳ２の出力信号が選択され、オフセット値の
検出時にはタイマ７０の計測終了信号が選択され、選択
された信号がＡ／Ｄ変換開始信号（積分終了）としてＡ
／Ｄ変換器４３に入力される。
【０３１７】一方、タイマ７０は、センサパターンＳ１
の出力信号が計測開始信号として印かされることによっ
て計測を開始し、主制御部５１によって設定された時間
が経過すると、計測終了信号を出力する。計測終了信号
は、選択回路７１を介してＡ／Ｄ変換開始信号としてＡ
／Ｄ変換器４３に送られる。また、同時に計測終了信号
は主制御部５１にも出力される。
【０３１８】タイマ７０の計測時間は、主制御部５１に
よって任意に設定することが可能である。本例では、計
測時間として、センサパターンＳ１の信号が出力されて
から、センサパターンＳ２の信号が出力されるまでの時
間（すなわち、積分開始から積分終了までの時間）を設
定する。
【０３１９】図３７は、第７の実施の形態におけるオフ
セット検出ルーチンの動作を説明するフローチャートで
あり、以下、本図を使用してオフセット値の検出方法を
説明する。なお、本図はビーム光ａの場合について説明
した図であるが、ビーム光ｂ、ビーム光ｃ、ビーム光ｄ
についても同様である。
【０３２０】まず、主制御部５１は、選択回路７１に選
択信号を出力することにより、Ａ／Ｄ変換開始信号とし
てタイマ７０の計測終了信号を選択する（Ｓ１８１）。
これによって、タイマ７０の計測終了信号はＡ／Ｄ変換
器４３のＡ／Ｄ変換開始信号（積分終了信号を兼ねる）
としてＡ／Ｄ変換器４３に入力される。
【０３２１】次に、主制御部５１は、ビーム光通過位置
検知器出力処理回路４０におけるビーム光ａのビーム光
通過位置検知部の選択を行なう（Ｓ１８２）。これは、
アナログスイッチＳＷ１をオンすることにより、ビーム
光ａの通過位置検知を行なうセンサパターンＳＢ，ＳＣ
の各出力の差をとる差動増幅器６３の出力端を積分器４
２の入力端に接続する。
【０３２２】次に、主制御部５１は、レーザ発振器３１
ａを強制発光させる（Ｓ１８３）。これによって、ビー
ム光ａが周期的にビーム光通過位置検知器３８上を走査
することになる。そして、ビーム光ａがビーム光通過位
置検知器３８上を通過するのに伴って、センサパターン
Ｓ１の信号が出力され、センサパターンＳ１の出力信号
により積分器４２がリセットされ、同時に積分が開始さ
れる（Ｓ１８４）。
【０３２３】主制御部５１は、このとき同時に、レーザ
発振器３１ａの強制発光を解除する。また、センサパタ
ーンＳ１の出力は、タイマ７０の計測開始信号としてタ
イマ７０に入力されているため、タイマ７０は計測動作
を開始する（Ｓ１８５）。
【０３２４】なお、レーザ発振器３１ａの強制発光を解
除するのは、本例では、ビーム光をビーム光通過位置検
知用のセンサパターンの非検知領域に移動させることを
行なっていないため、レーザ光を発光させたままである
と、ビーム光通過位置検知用のセンサパターン上を走査
する可能性があり、オフセット値の測定にビーム光位置
情報が重畳されて、正確なオフセット値の測定ができな
くなるからである。
【０３２５】続いて、タイマ７０は、主制御部５１によ
って設定された時間の計測を開始し、所定の時間を計測
し終えると（Ｓ１８６）、計測終了信号を出力する。計
測終了信号は、選択回路７１を介してＡ／Ｄ変換器４３
に変換開始信号として入力される。
【０３２６】Ａ／Ｄ変換器４３は、変換開始信号を受信
すると、Ａ／Ｄ変換を開始する（Ｓ１８７）。Ａ／Ｄ変
換器４３は、Ａ／Ｄ変換を終了すると、Ａ／Ｄ変換終了
信号を主制御部５１に出力する（Ｓ１８８）。主制御部
５１は、このＡ／Ｄ変換信号を受信すると、Ａ／Ｄ変換
された値（オフセット値）を読込む（Ｓ１８９）。
【０３２７】次に、主制御部５１は、読込んだオフセッ
ト値をメモリ５２に記憶する（Ｓ１９０）。最後に、ビ
ーム光ａのビーム光通過位置検知部の選択を解除する
（Ｓ１９１）。すなわち、主制御部５１は、アナログス
イッチＳＷ１をオフにする。
【０３２８】同様の制御を、ビーム光ｂ、ビーム光ｃ、
ビーム光ｄのオフセット検出に実施することによって、
全てのビーム光ａ〜ｄのビーム光通過位置検知部、すな
わち、ビーム光通過位置検知器出力処理回路４０のオフ
セット値が検出される。
【０３２９】次に、第８の実施の形態に係るオフセット
検出・補正について説明する。
【０３３０】第８の実施の形態は、オフセット値の検出
を前述した第７の実施の形態と同様な方法で行ない、オ
フセット値の補正を前述した第２の実施の形態と同様な
方法で行なうようにしたものである。したがって、ここ
での説明は省略する。
【０３３１】次に、第９の実施の形態に係るオフセット
検出・補正について説明する。
【０３３２】第９の実施の形態は、オフセット値の検出
を前述した第７の実施の形態と同様な方法で行ない、オ
フセット値の補正を前述した第３の実施の形態と同様な
方法で行なうようにしたものである。
【０３３３】図３８は、第９の実施の形態に係るオフセ
ット検出・補正処理を説明するための図である。基本的
な構成は、前述した図３６の第７の実施の形態と同様で
あるが、第３の実施の形態と同様に、ビーム光通過位置
検知器出力処理回路４０にＤ／Ａ変換器６７が内蔵され
ている点が異なる。したがって、ここでの説明は省略す
る。
【０３３４】次に、第１０の実施の形態に係るオフセッ
ト検出・補正について説明する。
【０３３５】第１０の実施の形態は、積分の開始／終了
のタイミングをビーム光通過位置制御と同等とするため
に、ビーム光通過位置制御に使用するセンサパターンＳ
１とＳ２の各出力信号を使用する。ただし、ビーム光通
過位置検知用のセンサパターンＳＢ〜ＳＦにビーム光が
照射され、ビーム光位置情報がオフセット値に重畳され
ないように、オフセット検出モード時には遮光板によっ
て、ビーム光通過位置検知用のセンサパターンＳＢ〜Ｓ
Ｆを遮光するようにしている。なお、オフセット補正の
方法は、前述した第１の実施の形態と同様であるので、
ここでは説明を省略する。
【０３３６】図３９は、第１０の実施の形態で使用する
ビーム光位置検知器３８と遮光板７２との関係を示した
ものである。センサパターンの構成並びに機能は、前述
した第１の実施の形態と同様であるので、ここでは説明
を省略する。遮光手段としての遮光板７２は、ビーム光
を透過させない遮光部材で形成されており、オフセット
検出の際には、図３９のようにセンサパターンＳＡ〜Ｓ
Ｇをすっぽりと覆うような位置にセットされ、ビーム光
通過位置検知用のセンサパターンＳＢ〜ＳＦがビーム光
によって照射されるのを防止している。
【０３３７】なお、遮光板７２は、ビーム光通過位置制
御時には、制御に影響の無い位置（すなわち、全てのセ
ンサパターンの一部でさえも遮光することの無い位置）
に、図示しないアクチュエータによって移動されるよう
になっている。
【０３３８】図４０は、第１０の実施の形態に係るオフ
セット検出・補正処理を説明するための図である。基本
的な構成は、前述した図７の第１の実施の形態と同様で
あるが、図３９に示したように、ビーム光通過位置検知
器３８に遮光板７２が設けられている点と、遮光板７２
を移動させるアクチュエータとしてのパルスモータ７
３、パルスモータ７３を駆動するドライバ７４が設けら
れている点が大きく異なる。
【０３３９】遮光板７２は、通常、ビーム光通過位置制
御に影響のない位置（すなわち、全てのセンサパターン
の一部でさえも遮光することの無い位置）にパルスモー
タ７３によって移動させられており、オフセット検出の
際のみ、図示したようなセンサパターンＳＡ〜ＳＧを完
全に覆う位置にパルスモータ７３によって移動される。
【０３４０】遮光板７２を移動するパルスモータ７３
は、ドライバ７４によって駆動される。ドライバ７４は
主制御部５１に接続されていて、主制御部５１からのオ
ン／オフ命令および正転／逆転命令によって制御される
ようになっている。
【０３４１】図４１、図４２は、オフセット補正ルーチ
ンの動作を説明するフローチャートである。まず、主制
御部５１は、ポリゴンモータ３６をオンし、ポリゴンミ
ラー３５を所定の回転数で回転させる（Ｓ２０１）。次
に、主制御部５１、メモリ５２から最新のガルバノミラ
ー３３ａ〜３３ｄの駆動値を読出し、その値に基づい
て、それぞれのガルバノミラー３３ａ〜３３ｄを駆動す
る（Ｓ２０２）。
【０３４２】次に、主制御部５１は、パルスモータ７３
のドライバ７４にオン信号と正転または逆転信号を送る
ことにより、パルスモータ７３を動作させ、遮光板７２
を移動させ、センサパターンＳＡ〜ＳＧを遮光する（Ｓ
２０３）。
【０３４３】次に、主制御部５１は、ビーム光通過位置
検知器出力処理回路４０におけるビーム光ａのビーム光
通過位置検知部のオフセット値を検出する（オフセット
検出、Ｓ２０４）。続いて、主制御部５１は、検出した
オフセット値が規定値内であるかどうか判定し（Ｓ２０
５）、オフセット値が規定値以内でない場合、検出され
たオフセット値に基づいて、オフセット補正を実行する
（オフセット補正、Ｓ２０６）。オフセット補正の方法
は、前述した第１の実施の形態と同様である。
【０３４４】以下、ステップＳ２０７〜Ｓ２１６と順次
実行することにより、上記同様な（オフセット検出）→
（オフセット補正）をビーム光ｂ，ｃ，ｄに対しても行
なう。
【０３４５】こうして、全てのビーム光ａ〜ｄに対する
オフセット補正が終了したら、ビーム光通過位置制御を
行なう。
【０３４６】図４３は、第１０の実施の形態における、
遮光板７２を移動させるアクチュエータを説明する図で
ある。本例では、遮光板７２を移動させるアクチュエー
タとしてパルスモータ７３を使用した例を示している。
パルスモータ７３の回転シャフト７５には、ボールネジ
が加工されており、遮光板７２を固定したステージ７６
が取り付けられている。また、ステージ７６の両サイド
は、図示しないガイドによって支持されている。したが
って、パルスモータ７３の回転に伴って、ステージ７６
に固定された遮光板７２が図示矢印方向に往復移動する
ようになっている。
【０３４７】パルスモータ７３は、ドライバ７４を介し
て、主制御部５１から回転方向（正転／逆転）を指示さ
れ、さらにオン信号によって駆動パルスが出力されるこ
とによって回転を開始する。
【０３４８】たとえば、オフセット値を検出する場合、
主制御部５１は、回転方向を正転方向に設定し、オン信
号を出力する。オン信号の出力に伴って、パルスモータ
７３は回転を開始し、遮光板７２を移動させる。主制御
部５１は、駆動パルス数の管理を行なっており、所定の
パルス数を出力したらオフ信号を出力し、パルスモータ
７３の回転を停止する。ここでの所定のパルス数は、遮
光板７２の待機位置からビーム光通過位置検知用のセン
サパターンＳＡ〜ＳＧを遮光するまで、遮光板７２を移
動させるために要するパルス数である。
【０３４９】なお、オフ信号を出力してパルスモータ７
３の回転を停止させても、パルスモータ７３には保持力
があるため、遮光板７２が移動することはない。
【０３５０】ビーム光通過位置検知制御を行なう場合に
は、遮光板７２を待機位置（図３９の状態）に移動させ
る。すなわち、主制御部５１は、回転方向を逆転方向に
設定し、オン信号を出力する。オン信号の出力に伴っ
て、パルスモータ７３は回転を開始し、遮光板７２を待
機位置方向に移動させる。主制御部５１は、所定のパル
ス数を出力したらオフ信号を出力し、パルスモータ７３
の回転を停止する。
【０３５１】次に、第１１の実施の形態に係るオフセッ
ト検出・補正について説明する。
【０３５２】第１１の実施の形態は、オフセット値の検
出を前述した第１０の実施の形態と同様な方法で行な
い、オフセット値の補正を前述した第２の実施の形態と
同様な方法で行なうようにしたものである。したがっ
て、ここでの説明は省略する。
【０３５３】次に、第１２の実施の形態に係るオフセッ
ト検出・補正について説明する。
【０３５４】第１２の実施の形態は、オフセット値の検
出を前述した第１０の実施の形態と同様な方法で行な
い、オフセット値の補正を前述した第３の実施の形態と
同様な方法で行なうようにしたものである。
【０３５５】図４４は、第１２の実施の形態に係るオフ
セット検出・補正処理を説明するための図である。基本
的な構成は、前述した図４０の第１０の実施の形態と同
様であるが、第３の実施の形態と同様に、ビーム光通過
位置検知器出力処理回路４０にＤ／Ａ変換器６７が内蔵
されている点が異なる。したがって、ここでの説明は省
略する。
【０３５６】次に、第１３の実施の形態に係るオフセッ
ト検出・補正について説明する。
【０３５７】第１３の実施の形態は、積分終了のタイミ
ングを時計手段であるタイマで管理するようにしたもの
であり、オフセット補正の方法は前述した第１の実施の
形態と同様であるので、ここでは説明を省略する。
【０３５８】図４５は、第１３の実施の形態に係るオフ
セット検出・補正処理を説明するための図である。基本
的な構成は、前述した図７の第１の実施の形態と同様で
あるが、選択回路６８，６９が設けられている点と、時
計手段であるタイマ７０を有している点が大きく異な
る。
【０３５９】選択回路６８には、センサパターンＳ１の
出力信号とタイマ７０の計測開始信号が入力され、主制
御部５１からの選択信号によってどちらかの信号が選択
される。すなわち、ビーム光通過位置制御時には、セン
サパターンＳ１の出力信号が選択され、オフセット検出
時にはタイマ７０の計測開始信号が選択され、選択され
た信号が積分リセット並びに積分開始信号として積分器
４２に入力される。
【０３６０】また、選択回路６９には、センサパターン
Ｓ２の出力信号とタイマ７０の計測終了信号が入力さ
れ、主制御部５１からの選択信号によってどちらかの信
号が選択される。すなわち、ビーム光通過位置制御時に
は、センサパターンＳ２の出力信号が選択され、オフセ
ット検出時にはタイマ７０の計測終了信号が選択され、
選択された信号がＡ／Ｄ変換開始信号（積分終了）とし
てＡ／Ｄ変換器４３に入力される。
【０３６１】一方、タイマ７０は、主制御部５１から出
力される計測開始信号が印加されることによって計測を
開始し、主制御部５１によって設定された時間が経過す
ると、計測終了信号を出力する。計測開始信号は、選択
回路６８を介して、積分リセット並びに積分開始信号と
して積分器４２のアナログスイッチＳＷ１に送られる。
また、計測終了信号は、選択回路６９を介してＡ／Ｄ変
換開始信号としてＡ／Ｄ変換器４３に送られる。また、
同時に計測終了信号は主制御部５１にも出力される。
【０３６２】タイマ７０の計測時間は、主制御部５１に
よって任意に設定することが可能である。本例では、計
測時間として、センサパターンＳ１の信号が出力されて
から、センサパターンＳ２の信号が出力されるまでの時
間（すなわち、積分開始から積分終了までの時間）を設
定する。
【０３６３】図４６は、第１３の実施の形態におけるオ
フセット検出ルーチンの動作を説明するフローチャート
であり、以下、本図を使用してオフセット値の検出方法
を説明する。なお、本図はビーム光ａの場合について説
明した図であるが、ビーム光ｂ、ビーム光ｃ、ビーム光
ｄについても同様である。
【０３６４】まず、主制御部５１は、選択回路６８に選
択信号を出力することにより、積分リセット並びに積分
開始信号としてタイマ７０の計測開始信号を選択する。
これによって、タイマ７０の計測開始信号は積分器４２
のアナログスイッチＳＷ７に入力される。また、主制御
部５１は、選択回路６９に選択信号を出力することによ
り、Ａ／Ｄ変換開始信号としてタイマ７０の計測終了信
号を選択する。これによって、タイマ７０の計測終了信
号はＡ／Ｄ変換開始信号（積分終了信号を兼ねる）とし
てＡ／Ｄ変換器４３に入力される（オフセット検出モー
ド、Ｓ２２１）。
【０３６５】次に、主制御部５１は、ビーム光通過位置
検知器出力処理回路４０におけるビーム光ａのビーム光
通過位置検知部の選択を行なう（Ｓ２２２）。これは、
アナログスイッチＳＷ１をオンすることにより、ビーム
光ａの通過位置検知を行なうセンサパターンＳＢ，ＳＣ
の各出力の差をとる差動増幅器６３の出力端を積分器４
２の入力端に接続する。
【０３６６】次に、主制御部５１は、計測開始信号をタ
イマ７０並びに積分器４２のアナログスイッチＳＷ７に
出力する。この計測開始信号によって積分器４２はリセ
ットされ、リセット終了後に積分が開始される。また、
同時にタイマ７０は計測を開始する（Ｓ２２３）。
【０３６７】続いて、タイマ７０は、主制御部５１によ
って設定された時間の計測を開始し、所定の時間を計測
し終えると（Ｓ２２４）、計測終了信号を出力する。こ
の計測終了信号は、選択回路６９を介して、Ａ／Ｄ変換
器４３に変換開始信号として入力される。
【０３６８】Ａ／Ｄ変換器４３は、変換開始信号を受信
すると、Ａ／Ｄ変換を開始する（Ｓ２２５）。すなわ
ち、積分されたオフセット値をアナログ信号からデジタ
ル信号に変換する。Ａ／Ｄ変換器４３は、Ａ／Ｄ変換を
終了すると、Ａ／Ｄ変換終了信号を主制御部５１に出力
する（Ｓ２２６）。
【０３６９】主制御部５１は、Ａ／Ｄ変換信号を受信す
ると、Ａ／Ｄ変換された値（オフセット値）を読込む
（Ｓ２２７）。最後に、主制御部５１は、オフセット値
をメモリ５２に記憶し（Ｓ２２８）、ビーム光ａのビー
ム光通過位置検知部の選択を解除する（Ｓ２２９）。す
なわち、主制御部５１は、アナログスイッチＳＷ１をオ
フにする。
【０３７０】同様の制御を、ビーム光ｂ、ビーム光ｃ、
ビーム光ｄのオフセット検出に実施することによって、
全てのビーム光ａ〜ｄのビーム光通過位置検知部、すな
わち、ビーム光通過位置検知器出力処理回路４０のオフ
セット値が検出される。
【０３７１】このように、第１３の実施の形態によれ
ば、ビーム光をポリゴンミラー３５で走査することな
く、ビーム光通過位置検知器出力処理回路４０のオフセ
ット値を検出することができる。すなわち、ビーム光を
発光させていないために、ビーム光通過位置検知器３８
にビーム光が照射することはないし、オフセット成分に
ビーム光位置情報が重畳することもなく、高精度なオフ
セット値の検出が可能である。
【０３７２】次に、第１４の実施の形態に係るオフセッ
ト検出・補正について説明する。
【０３７３】第１４の実施の形態は、オフセット値の検
出を前述した第１３の実施の形態と同様な方法で行な
い、オフセット値の補正を前述した第２の実施の形態と
同様な方法で行なうようにしたものである。したがっ
て、ここでの説明は省略する。
【０３７４】次に、第１５の実施の形態に係るオフセッ
ト検出・補正について説明する。
【０３７５】第１５の実施の形態は、オフセット値の検
出を前述した第１３の実施の形態と同様な方法で行な
い、オフセット値の補正を前述した第３の実施の形態と
同様な方法で行なうようにしたものである。
【０３７６】図４７は、第１５の実施の形態に係るオフ
セット検出・補正処理を説明するための図である。基本
的な構成は、前述した図４５の第１３の実施の形態と同
様であるが、第３の実施の形態と同様に、ビーム光通過
位置検知器出力処理回路４０にＤ／Ａ変換器６７が内蔵
されている点が異なる。したがって、ここでの説明は省
略する。
【０３７７】以上説明したように上記実施の形態によれ
ば、ビーム光位置検知器の出力をビーム光位置情報に変
換するビーム光位置検知器出力処理回路のオフセット値
を検出し、この検出したオフセット値に応じた補正処理
を行なうことによって、制御誤差の極めて少ないビーム
光位置制御を実現できる。これにより、感光体ドラム上
におけるビーム光の位置を常に適正位置に高精度を制御
でき、よって、常に高画質を維持することができる。
【０３７８】また、上記したようなセンサパターンを備
えたビーム光位置検知器を用いることにより、ビーム光
位置検知器の傾きに対する取り付け精度がさほど高くな
くても、正確にビーム光の走査位置を検知することが可
能となる。
【０３７９】さらに、マルチビーム光学系を用いたデジ
タル複写機において、感光体ドラムの表面と同等の位置
に配設されたビーム光位置検知器によって各ビーム光の
通過位置を検知し、この検知結果を基に、各ビーム光の
感光体ドラムの表面における相対位置が適性位置となる
よう制御するための制御量を演算し、この演算した制御
量に応じて各ビーム光の感光体ドラムの表面における相
対位置を変更するためのガルバノミラーを制御すること
により、光学系の組立てに特別な精度や調整を必要とせ
ず、しかも、環境変化や経時変化などによって光学系に
変化が生じても、感光体ドラムの表面における各ビーム
光相互の位置関係を常に理想的な位置に制御できる。し
たがって、常に高画質を維持することができる。
【０３８０】なお、前記実施の形態では、マルチビーム
光学系を用いたデジタル複写機に適用した場合について
説明したが、本発明はこれに限定されるものでなく、高
速プリンタなど、デジタル複写機以外の画像形成装置に
も同様に適用できる。
【０３８１】
【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、被
走査面におけるビーム光の位置を常に適正位置に高精度
に制御でき、よって、常に高画質を維持することができ
るビーム光走査装置および画像形成装置を提供できる。
【０３８２】また、本発明によれば、複数のビーム光を
用いる場合、被走査面における複数のビーム光相互の位
置関係を常に理想的な位置に高精度に制御でき、よっ
て、常に高画質を維持することができるビーム光走査装
置および画像形成装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態に係るデジタル複写機の構
成を概略的に示す構成図。
【図２】光学系ユニットの構成と感光体ドラムの位置関
係を示す図。
【図３】ビーム光位置検知器の構成を概略的に示す構成
図。
【図４】ビーム光位置検知器の要部構成を概略的に示す
構成図。
【図５】ビーム光位置検知器とビーム光の走査方向との
傾きを説明するための図。
【図６】光学系の制御を主体にした制御系を示すブロッ
ク図。
【図７】ビーム光の通過位置制御およびオフセット検出
・補正処理を説明するためのブロック図。
【図８】ビーム光の通過位置とビーム光位置検知器の受
光パターンの出力、差動増幅器の出力、積分器の出力と
の関係を示す図。
【図９】ビーム光の通過位置とＡ／Ｄ変換器の出力との
関係を示すグラフ。
【図１０】ガルバノミラーの動作分解能を説明するグラ
フ。
【図１１】ガルバノミラーの動作分解能を説明するグラ
フ。
【図１２】プリンタ部の電源投入時における概略的な動
作を説明するフローチャート。
【図１３】ビーム光通過位置制御ルーチンを説明するフ
ローチャート。
【図１４】ビーム光通過位置制御ルーチンを説明するフ
ローチャート。
【図１５】ビーム光通過位置制御ルーチンを説明するフ
ローチャート。
【図１６】ビーム光位置検知器出力処理回路の具体的な
回路例を示す構成図。
【図１７】オペアンプのオフセット電圧を説明するため
の図。
【図１８】オペアンプのオフセット電圧がビーム光通過
位置検知に与える影響および問題点を説明するための
図。
【図１９】ビーム光の位置を非検知領域にずらしてオフ
セット値を検出する様子を表わした図。
【図２０】第１の実施の形態に係るオフセット値を補正
するルーチンを説明するフローチャート。
【図２１】第１の実施の形態に係るオフセット値を補正
するルーチンを説明するフローチャート。
【図２２】第１の実施の形態に係るビーム光を非検知領
域に移動するルーチンを説明するフローチャート。
【図２３】第１の実施の形態に係るビーム光を非検知領
域に移動するルーチンを説明するフローチャート。
【図２４】第１の実施の形態に係るオフセット値を検出
するルーチンを説明するフローチャート。
【図２５】第１の実施の形態に係るオフセット値を補正
するルーチンを説明するフローチャート。
【図２６】第２の実施の形態に係るビーム光通過位置制
御ルーチンの中でビーム光通過位置情報を検出するルー
チンを説明するフローチャート。
【図２７】第３の実施の形態に係るオフセット検出・補
正処理を説明するためのブロック図。
【図２８】第３の実施の形態に係るビーム光位置検知器
出力処理回路内の積分器とＤ／Ａ変換器との関係を示す
構成図。
【図２９】第３の実施の形態に係るオフセット値を補正
するルーチンを説明するフローチャート。
【図３０】第３の実施の形態に係るオフセット値を補正
するルーチンを説明するフローチャート。
【図３１】第４の実施の形態に係るビーム光通過位置検
知器の構成を概略的に示す構成図。
【図３２】第４の実施の形態に係るオフセット検出・補
正処理を説明するためのブロック図。
【図３３】第４の実施の形態に係るオフセット値を補正
するルーチンを説明するフローチャート。
【図３４】第４の実施の形態に係るオフセット値を検出
するルーチンを説明するフローチャート。
【図３５】第６の実施の形態に係るビーム光通過位置検
知器の構成を概略的に示す構成図。
【図３６】第７の実施の形態に係るオフセット検出・補
正処理を説明するためのブロック図。
【図３７】第７の実施の形態におけるオフセット値を検
出するルーチンの動作を説明するフローチャート。
【図３８】第９の実施の形態に係るオフセット検出・補
正処理を説明するためのブロック図。
【図３９】第１０の実施の形態に係るビーム光位置検知
器と遮光板との関係を示す図。
【図４０】第１０の実施の形態に係るオフセット検出・
補正処理を説明するためのブロック図。
【図４１】第１０の実施の形態に係るオフセット値を補
正するルーチンを説明するフローチャート。
【図４２】第１０の実施の形態に係るオフセット値を補
正するルーチンを説明するフローチャート。
【図４３】第１０の実施の形態に係る遮光板を移動させ
るアクチュエータを説明する図。
【図４４】第１２の実施の形態に係るオフセット検出・
補正処理を説明するためのブロック図。
【図４５】第１３の実施の形態に係るオフセット検出・
補正処理を説明するためのブロック図。
【図４６】第１３の実施の形態に係るオフセット値を検
出するルーチンを説明するフローチャート。
【図４７】第１５の実施の形態に係るオフセット検出・
補正処理を説明するためのブロック図。
【図４８】位置ずれしたビーム光を用いて画像形成した
場合に起こり得る画像不良を説明するための図。
【図４９】位置ずれしたビーム光を用いて画像形成した
場合に起こり得る画像不良を説明するための図。
【符号の説明】
１……スキャナ部、２……プリンタ部、６……光電変換
素子、９……光源、１３……光学系ユニット、１４……
画像形成部、１５……感光体ドラム（像担持体）、３１
ａ〜３１ｄ……半導体レーザ発振器（ビーム光発生手
段）、３３ａ〜３３ｄ……ガルバノミラー、３５……ポ
リゴンミラー（多面回転ミラー）、３８……ビーム光位
置検知器（ビーム光位置検知手段）、３９ａ〜３９ｄ…
…ガルバノミラー駆動回路、４０……ビーム光位置検知
器出力処理回路（信号処理手段）、４１……選択回路、
４２……積分器（積分手段）、４３……Ａ／Ｄ変換器、
Ｓ１〜Ｓ４，ＳＡ〜ＳＧ……センサパターン（光検知
部）、５１……主制御部、５２……メモリ（記憶手
段）、６１，６２……増幅器、６４〜６６……差動増幅
器、Ａ１〜Ａ４……オペアンプ。
フロントページの続き (72)発明者 三浦 邦彦 神奈川県川崎市幸区柳町70番地 株式会 社東芝柳町工場内 (72)発明者 井出 直朗 神奈川県川崎市幸区柳町70番地 東芝イ ンテリジェントテクノロジ株式会社内 (72)発明者 榊原 淳 神奈川県川崎市幸区柳町70番地 東芝イ ンテリジェントテクノロジ株式会社内 (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G02B 26/10

Claims (30)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ビーム光を発生するビーム光発生手段
    と、 このビーム光発生手段から発生されたビーム光を被走査
    面へ向けて反射し、前記ビーム光により前記被走査面を
    走査する走査手段と、 この走査手段により前記被走査面を走査すべく導かれた
    ビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほぼ直交
    する方向に並列配置された複数の光検知部で検知するビ
    ーム光位置検知手段と、 オフセット値を有した信号処理素子によって構成され、
    前記ビーム光位置検知手段の出力をビーム光位置情報に
    変換する信号処理手段と、 この信号処理手段から出力されるビーム光位置情報をあ
    らかじめ設定される基準値と比較し、その比較結果に基
    づき前記走査手段により走査されるビーム光の前記被走
    査面における通過位置が適正位置となるように制御する
    制御手段と、 前記信号処理手段のオフセット値を検出するオフセット
    検出手段と、 このオフセット検出手段で検出されたオフセット値に応
    じて前記制御手段の基準値を補正する補正手段と、 を具備したことを特徴とするビーム光走査装置。
  2. 【請求項２】 前記補正手段は、前記オフセット検出手
    段で検出されたオフセット値の極性に応じて、そのオフ
    セット値を前記制御手段の基準値に対して加減算するこ
    とにより、その基準値を補正することを特徴とする請求
    項１記載のビーム光走査装置。
  3. 【請求項３】 ビーム光を発生するビーム光発生手段
    と、 このビーム光発生手段から発生されたビーム光を被走査
    面へ向けて反射し、前記ビーム光により前記被走査面を
    走査する走査手段と、 この走査手段により前記被走査面を走査すべく導かれた
    ビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほぼ直交
    する方向に並列配置された複数の光検知部で検知するビ
    ーム光位置検知手段と、 オフセット値を有した信号処理素子によって構成され、
    前記ビーム光位置検知手段の出力をビーム光位置情報に
    変換する信号処理手段と、 この信号処理手段から出力されるビーム光位置情報に基
    づき、前記走査手段により走査されるビーム光の前記被
    走査面における通過位置が適正位置となるように制御す
    る制御手段と、 前記信号処理手段のオフセット値を検出するオフセット
    検出手段と、 このオフセット検出手段で検出されたオフセット値に応
    じて前記信号処理手段から出力されるビーム光位置情報
    を補正する補正手段と、 を具備したことを特徴とするビーム光走査装置。
  4. 【請求項４】 前記補正手段は、前記オフセット検出手
    段で検出されたオフセット値の極性に応じて、そのオフ
    セット値を前記信号処理手段から出力されるビーム光位
    置情報に対して加減算することにより、そのビーム光位
    置情報を補正することを特徴とする請求項３記載のビー
    ム光走査装置。
  5. 【請求項５】 前記信号処理手段は、前記ビーム光位置
    検知手段の出力を増幅する増幅器と、この増幅器の出力
    を積分する積分器と、この積分器の出力をデジタル値に
    変換するＡ／Ｄ変換器とからなることを特徴とする請求
    項１または３記載のビーム光走査装置。
  6. 【請求項６】 ビーム光を発生するビーム光発生手段
    と、 このビーム光発生手段から発生されたビーム光を被走査
    面へ向けて反射し、前記ビーム光により前記被走査面を
    走査する走査手段と、 この走査手段により前記被走査面を走査すべく導かれた
    ビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほぼ直交
    する方向に並列配置された複数の光検知部で検知するビ
    ーム光位置検知手段と、 このビーム光位置検知手段の近傍に配設され、前記走査
    手段により走査されるビーム光の通過を検知するビーム
    光通過検知手段と、 前記ビーム光位置検知手段の出力を増幅する増幅器と、
    前記ビーム光通過検知手段から出力されるビーム光通過
    検知信号が印加されることにより積分動作を開始し、前
    記増幅器の出力を積分する積分器とからなる信号処理手
    段と、 この信号処理手段の出力をあらかじめ設定される基準値
    と比較し、その比較結果に基づき前記走査手段により走
    査されるビーム光の前記被走査面における通過位置が適
    正位置となるように制御する制御手段と、 前記信号処理手段のオフセット値を検出するオフセット
    検出手段と、 このオフセット検出手段がオフセット値を検出する際、
    前記走査手段により走査されるビーム光を前記ビーム光
    位置検知手段の非検知領域に移動させるビーム光偏向手
    段と、 前記オフセット検出手段で検出されたオフセット値に応
    じて前記制御手段の基準値を補正する補正手段と、 を具備したことを特徴とするビーム光走査装置。
  7. 【請求項７】 ビーム光を発生するビーム光発生手段
    と、 このビーム光発生手段から発生されたビーム光を被走査
    面へ向けて反射し、前記ビーム光により前記被走査面を
    走査する走査手段と、 この走査手段により前記被走査面を走査すべく導かれた
    ビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほぼ直交
    する方向に並列配置された複数の光検知部で検知するビ
    ーム光位置検知手段と、 このビーム光位置検知手段の近傍に配設され、前記走査
    手段により走査されるビーム光の通過を検知するビーム
    光通過検知手段と、 前記ビーム光位置検知手段の出力を増幅する増幅器と、
    前記ビーム光通過検知手段から出力されるビーム光通過
    検知信号が印加されることにより積分動作を開始し、前
    記増幅器の出力を積分する積分器とからなる信号処理手
    段と、 この信号処理手段の出力に基づき前記走査手段により走
    査されるビーム光の前記被走査面における通過位置が適
    正位置となるように制御する制御手段と、 前記信号処理手段のオフセット値を検出するオフセット
    検出手段と、 このオフセット検出手段がオフセット値を検出する際、
    前記走査手段により走査されるビーム光を前記ビーム光
    位置検知手段の非検知領域に移動させるビーム光偏向手
    段と、 前記オフセット検出手段で検出されたオフセット値に応
    じて前記信号処理手段の出力を補正する補正手段と、 を具備したことを特徴とするビーム光走査装置。
  8. 【請求項８】 ビーム光を発生するビーム光発生手段
    と、 このビーム光発生手段から発生されたビーム光を被走査
    面へ向けて反射し、前記ビーム光により前記被走査面を
    走査する走査手段と、 この走査手段により前記被走査面を走査すべく導かれた
    ビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほぼ直交
    する方向に並列配置された複数の光検知部で検知するビ
    ーム光位置検知手段と、 このビーム光位置検知手段の近傍に配設され、前記走査
    手段により走査されるビーム光の通過を検知するビーム
    光通過検知手段と、 前記ビーム光位置検知手段の出力を増幅する増幅器と、
    前記ビーム光通過検知手段から出力されるビーム光通過
    検知信号が印加されることにより積分動作を開始し、前
    記増幅器の出力を積分する積分器とからなる信号処理手
    段と、 この信号処理手段の出力に基づき前記走査手段により走
    査されるビーム光の前記被走査面における通過位置が適
    正位置となるように制御する制御手段と、 前記信号処理手段のオフセット値を検出するオフセット
    検出手段と、 このオフセット検出手段がオフセット値を検出する際、
    前記走査手段により走査されるビーム光を前記ビーム光
    位置検知手段の非検知領域に移動させるビーム光偏向手
    段と、 前記オフセット検出手段で検出されたオフセット値を前
    記信号処理手段における積分器の基準電圧として帰還す
    る帰還手段と、 を具備したことを特徴とするビーム光走査装置。
  9. 【請求項９】 ビーム光を発生するビーム光発生手段
    と、 このビーム光発生手段から発生されたビーム光を被走査
    面へ向けて反射し、前記ビーム光により前記被走査面を
    走査する走査手段と、 この走査手段により前記被走査面を走査すべく導かれた
    ビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほぼ直交
    する方向に並列配置された複数の光検知部で検知するビ
    ーム光位置検知手段と、 このビーム光位置検知手段の近傍に配設され、前記走査
    手段により走査されるビーム光の通過を検知する第１の
    ビーム光通過検知手段と、 この第１のビーム光通過検知手段の近傍に配設され、前
    記走査手段により走査されるビーム光の通過を検知する
    第２のビーム光通過検知手段と、 前記ビーム光位置検知手段の出力を増幅する増幅器と、
    この増幅器の出力を積分する積分器とからなる信号処理
    手段と、 この信号処理手段の出力をあらかじめ設定される基準値
    と比較し、その比較結果に基づき前記走査手段により走
    査されるビーム光の前記被走査面における通過位置が適
    正位置となるように制御する第１の制御手段と、 前記信号処理手段のオフセット値を検出するオフセット
    検出手段と、 このオフセット検出手段がオフセット値を検出する際
    は、前記第２のビーム光通過検知手段の出力を積分動作
    開始信号として前記積分器に印加し、前記第１の制御手
    段によるビーム光位置制御時は、前記第１のビーム光通
    過検知手段の出力を積分動作開始信号として前記積分器
    に印加する第２の制御手段と、 前記オフセット検出手段で検出されたオフセット値に応
    じて前記第１の制御手段の基準値を補正する補正手段
    と、 を具備したことを特徴とするビーム光走査装置。
  10. 【請求項１０】 ビーム光を発生するビーム光発生手段
    と、 このビーム光発生手段から発生されたビーム光を被走査
    面へ向けて反射し、前記ビーム光により前記被走査面を
    走査する走査手段と、 この走査手段により前記被走査面を走査すべく導かれた
    ビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほぼ直交
    する方向に並列配置された複数の光検知部で検知するビ
    ーム光位置検知手段と、 このビーム光位置検知手段の近傍に配設され、前記走査
    手段により走査されるビーム光の通過を検知する第１の
    ビーム光通過検知手段と、 この第１のビーム光通過検知手段の近傍に配設され、前
    記走査手段により走査されるビーム光の通過を検知する
    第２のビーム光通過検知手段と、 前記ビーム光位置検知手段の出力を増幅する増幅器と、
    この増幅器の出力を積分する積分器とからなる信号処理
    手段と、 この信号処理手段の出力に基づき前記走査手段により走
    査されるビーム光の前記被走査面における通過位置が適
    正位置となるように制御する第１の制御手段と、前記信
    号処理手段のオフセット値を検出するオフセット検出手
    段と、 このオフセット検出手段がオフセット値を検出する際
    は、前記第２のビーム光通過検知手段の出力を積分動作
    開始信号として前記積分器に印加し、前記第１の制御手
    段によるビーム光位置制御時は、前記第１のビーム光通
    過検知手段の出力を積分動作開始信号として前記積分器
    に印加する第２の制御手段と、 前記オフセット検出手段で検出されたオフセット値に応
    じて前記信号処理手段の出力を補正する補正手段と、 を具備したことを特徴とするビーム光走査装置。
  11. 【請求項１１】 ビーム光を発生するビーム光発生手段
    と、 このビーム光発生手段から発生されたビーム光を被走査
    面へ向けて反射し、前記ビーム光により前記被走査面を
    走査する走査手段と、 この走査手段により前記被走査面を走査すべく導かれた
    ビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほぼ直交
    する方向に並列配置された複数の光検知部で検知するビ
    ーム光位置検知手段と、 このビーム光位置検知手段の近傍に配設され、前記走査
    手段により走査されるビーム光の通過を検知する第１の
    ビーム光通過検知手段と、 この第１のビーム光通過検知手段の近傍に配設され、前
    記走査手段により走査されるビーム光の通過を検知する
    第２のビーム光通過検知手段と、 前記ビーム光位置検知手段の出力を増幅する増幅器と、
    この増幅器の出力を積分する積分器とからなる信号処理
    手段と、 この信号処理手段の出力に基づき前記走査手段により走
    査されるビーム光の前記被走査面における通過位置が適
    正位置となるように制御する第１の制御手段と、 前記信号処理手段のオフセット値を検出するオフセット
    検出手段と、 このオフセット検出手段がオフセット値を検出する際
    は、前記第２のビーム光通過検知手段の出力を積分動作
    開始信号として前記積分器に印加し、前記第１の制御手
    段によるビーム光位置制御時は、前記第１のビーム光通
    過検知手段の出力を積分動作開始信号として前記積分器
    に印加する第２の制御手段と、 前記オフセット検出手段で検出されたオフセット値を前
    記信号処理手段における積分器の基準電圧として帰還す
    る帰還手段と、 を具備したことを特徴とするビーム光走査装置。
  12. 【請求項１２】 ビーム光を発生するビーム光発生手段
    と、 このビーム光発生手段から発生されたビーム光を被走査
    面へ向けて反射し、前記ビーム光により前記被走査面を
    走査する走査手段と、 この走査手段により前記被走査面を走査すべく導かれた
    ビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほぼ直交
    する方向に並列配置された複数の光検知部で検知するビ
    ーム光位置検知手段と、 このビーム光位置検知手段の近傍に配設され、前記走査
    手段により走査されるビーム光の通過を検知するビーム
    光通過検知手段と、 前記ビーム光位置検知手段の出力を増幅する増幅器と、
    前記ビーム光通過検知手段から出力されるビーム光通過
    検知信号が印加されることにより積分動作を開始し、前
    記増幅器の出力を積分する積分器とからなる信号処理手
    段と、 この信号処理手段の出力をあらかじめ設定される基準値
    と比較し、その比較結果に基づき前記走査手段により走
    査されるビーム光の前記被走査面における通過位置が適
    正位置となるように制御する制御手段と、 前記信号処理手段のオフセット値を検出するオフセット
    検出手段と、 このオフセット検出手段がオフセット値を検出する際、
    前記走査手段により走査されるビーム光を前記ビーム光
    位置検知手段の非検知領域に移動させるビーム光偏向手
    段と、 前記オフセット検出手段がオフセット値を検出する際、
    前記ビーム光通過検知手段から出力されるビーム光通過
    検知信号が印加されることにより動作を開始し、あらか
    じめ設定される所定時間経過すると、前記積分器に対し
    て積分動作終了信号を印加するタイマ手段と、 前記オフセット検出手段で検出されたオフセット値に応
    じて前記制御手段の基準値を補正する補正手段と、 を具備したことを特徴とするビーム光走査装置。
  13. 【請求項１３】 ビーム光を発生するビーム光発生手段
    と、 このビーム光発生手段から発生されたビーム光を被走査
    面へ向けて反射し、前記ビーム光により前記被走査面を
    走査する走査手段と、 この走査手段により前記被走査面を走査すべく導かれた
    ビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほぼ直交
    する方向に並列配置された複数の光検知部で検知するビ
    ーム光位置検知手段と、 このビーム光位置検知手段の近傍に配設され、前記走査
    手段により走査されるビーム光の通過を検知するビーム
    光通過検知手段と、 前記ビーム光位置検知手段の出力を増幅する増幅器と、
    前記ビーム光通過検知手段から出力されるビーム光通過
    検知信号が印加されることにより積分動作を開始し、前
    記増幅器の出力を積分する積分器とからなる信号処理手
    段と、 この信号処理手段の出力に基づき前記走査手段により走
    査されるビーム光の前記被走査面における通過位置が適
    正位置となるように制御する制御手段と、 前記信号処理手段のオフセット値を検出するオフセット
    検出手段と、 このオフセット検出手段がオフセット値を検出する際、
    前記走査手段により走査されるビーム光を前記ビーム光
    位置検知手段の非検知領域に移動させるビーム光偏向手
    段と、 前記オフセット検出手段がオフセット値を検出する際、
    前記ビーム光通過検知手段から出力されるビーム光通過
    検知信号が印加されることにより動作を開始し、あらか
    じめ設定される所定時間経過すると、前記積分器に対し
    て積分動作終了信号を印加するタイマ手段と、 前記オフセット検出手段で検出されたオフセット値に応
    じて前記信号処理手段の出力を補正する補正手段と、 を具備したことを特徴とするビーム光走査装置。
  14. 【請求項１４】 ビーム光を発生するビーム光発生手段
    と、 このビーム光発生手段から発生されたビーム光を被走査
    面へ向けて反射し、前記ビーム光により前記被走査面を
    走査する走査手段と、 この走査手段により前記被走査面を走査すべく導かれた
    ビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほぼ直交
    する方向に並列配置された複数の光検知部で検知するビ
    ーム光位置検知手段と、 このビーム光位置検知手段の近傍に配設され、前記走査
    手段により走査されるビーム光の通過を検知するビーム
    光通過検知手段と、 前記ビーム光位置検知手段の出力を増幅する増幅器と、
    前記ビーム光通過検知手段から出力されるビーム光通過
    検知信号が印加されることにより積分動作を開始し、前
    記増幅器の出力を積分する積分器とからなる信号処理手
    段と、 この信号処理手段の出力に基づき前記走査手段により走
    査されるビーム光の前記被走査面における通過位置が適
    正位置となるように制御する制御手段と、 前記信号処理手段のオフセット値を検出するオフセット
    検出手段と、 このオフセット検出手段がオフセット値を検出する際、
    前記走査手段により走査されるビーム光を前記ビーム光
    位置検知手段の非検知領域に移動させるビーム光偏向手
    段と、 前記オフセット検出手段がオフセット値を検出する際、
    前記ビーム光通過検知手段から出力されるビーム光通過
    検知信号が印加されることにより動作を開始し、あらか
    じめ設定される所定時間経過すると、前記積分器に対し
    て積分動作終了信号を印加するタイマ手段と、 前記オフセット検出手段で検出されたオフセット値を前
    記信号処理手段における積分器の基準電圧として帰還す
    る帰還手段と、 を具備したことを特徴とするビーム光走査装置。
  15. 【請求項１５】 ビーム光を発生するビーム光発生手段
    と、 このビーム光発生手段から発生されたビーム光を被走査
    面へ向けて反射し、前記ビーム光により前記被走査面を
    走査する走査手段と、 この走査手段により前記被走査面を走査すべく導かれた
    ビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほぼ直交
    する方向に並列配置された複数の光検知部で検知するビ
    ーム光位置検知手段と、 このビーム光位置検知手段の近傍に配設され、前記走査
    手段により走査されるビーム光の通過を検知するビーム
    光通過検知手段と、 前記ビーム光位置検知手段の出力を増幅する増幅器と、
    前記ビーム光通過検知手段から出力されるビーム光通過
    検知信号が印加されることにより積分動作を開始し、前
    記増幅器の出力を積分する積分器とからなる信号処理手
    段と、 この信号処理手段の出力をあらかじめ設定される基準値
    と比較し、その比較結果に基づき前記走査手段により走
    査されるビーム光の前記被走査面における通過位置が適
    正位置となるように制御する制御手段と、 前記信号処理手段のオフセット値を検出するオフセット
    検出手段と、 このオフセット検出手段がオフセット値を検出する際、
    前記ビーム光位置検知手段への入射光を遮断する遮光手
    段と、 前記オフセット検出手段で検出されたオフセット値に応
    じて前記制御手段の基準値を補正する補正手段と、 を具備したことを特徴とするビーム光走査装置。
  16. 【請求項１６】 ビーム光を発生するビーム光発生手段
    と、 このビーム光発生手段から発生されたビーム光を被走査
    面へ向けて反射し、前記ビーム光により前記被走査面を
    走査する走査手段と、 この走査手段により前記被走査面を走査すべく導かれた
    ビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほぼ直交
    する方向に並列配置された複数の光検知部で検知するビ
    ーム光位置検知手段と、 このビーム光位置検知手段の近傍に配設され、前記走査
    手段により走査されるビーム光の通過を検知するビーム
    光通過検知手段と、 前記ビーム光位置検知手段の出力を増幅する増幅器と、
    前記ビーム光通過検知手段から出力されるビーム光通過
    検知信号が印加されることにより積分動作を開始し、前
    記増幅器の出力を積分する積分器とからなる信号処理手
    段と、 この信号処理手段の出力に基づき前記走査手段により走
    査されるビーム光の前記被走査面における通過位置が適
    正位置となるように制御する制御手段と、 前記信号処理手段のオフセット値を検出するオフセット
    検出手段と、 このオフセット検出手段がオフセット値を検出する際、
    前記ビーム光位置検知手段への入射光を遮断する遮光手
    段と、 前記オフセット検出手段で検出されたオフセット値に応
    じて前記信号処理手段の出力を補正する補正手段と、 を具備したことを特徴とするビーム光走査装置。
  17. 【請求項１７】 ビーム光を発生するビーム光発生手段
    と、 このビーム光発生手段から発生されたビーム光を被走査
    面へ向けて反射し、前記ビーム光により前記被走査面を
    走査する走査手段と、 この走査手段により前記被走査面を走査すべく導かれた
    ビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほぼ直交
    する方向に並列配置された複数の光検知部で検知するビ
    ーム光位置検知手段と、 このビーム光位置検知手段の近傍に配設され、前記走査
    手段により走査されるビーム光の通過を検知するビーム
    光通過検知手段と、 前記ビーム光位置検知手段の出力を増幅する増幅器と、
    前記ビーム光通過検知手段から出力されるビーム光通過
    検知信号が印加されることにより積分動作を開始し、前
    記増幅器の出力を積分する積分器とからなる信号処理手
    段と、 この信号処理手段の出力に基づき前記走査手段により走
    査されるビーム光の前記被走査面における通過位置が適
    正位置となるように制御する制御手段と、 前記信号処理手段のオフセット値を検出するオフセット
    検出手段と、 このオフセット検出手段がオフセット値を検出する際、
    前記ビーム光位置検知手段への入射光を遮断する遮光手
    段と、 前記オフセット検出手段で検出されたオフセット値を前
    記信号処理手段における積分器の基準電圧として帰還す
    る帰還手段と、 を具備したことを特徴とするビーム光走査装置。
  18. 【請求項１８】 ビーム光を発生するビーム光発生手段
    と、 このビーム光発生手段から発生されたビーム光を被走査
    面へ向けて反射し、前記ビーム光により前記被走査面を
    走査する走査手段と、 この走査手段により前記被走査面を走査すべく導かれた
    ビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほぼ直交
    する方向に並列配置された複数の光検知部で検知するビ
    ーム光位置検知手段と、 このビーム光位置検知手段の近傍に配設され、前記走査
    手段により走査されるビーム光の通過を検知するビーム
    光通過検知手段と、 前記ビーム光位置検知手段の出力を増幅する増幅器と、
    この増幅器の出力を積分する積分器とからなる信号処理
    手段と、 この信号処理手段の出力をあらかじめ設定される基準値
    と比較し、その比較結果に基づき前記走査手段により走
    査されるビーム光の前記被走査面における通過位置が適
    正位置となるように制御する第１の制御手段と、 前記信号処理手段のオフセット値を検出するオフセット
    検出手段と、 前記積分器の積分動作を制御するタイミング信号を発生
    するタイミング信号発生手段と、 前記オフセット検出手段がオフセット値を検出する際
    は、前記タイミング信号発生手段から発生されるタイミ
    ング信号を前記積分器に印加し、前記第１の制御手段に
    よるビーム光位置制御時は、前記ビーム光通過検知手段
    の出力を積分動作を制御するタイミング信号として前記
    積分器に印加する第２の制御手段と、 前記オフセット検出手段で検出されたオフセット値に応
    じて前記第１の制御手段の基準値を補正する補正手段
    と、 を具備したことを特徴とするビーム光走査装置。
  19. 【請求項１９】 ビーム光を発生するビーム光発生手段
    と、 このビーム光発生手段から発生されたビーム光を被走査
    面へ向けて反射し、前記ビーム光により前記被走査面を
    走査する走査手段と、 この走査手段により前記被走査面を走査すべく導かれた
    ビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほぼ直交
    する方向に並列配置された複数の光検知部で検知するビ
    ーム光位置検知手段と、 このビーム光位置検知手段の近傍に配設され、前記走査
    手段により走査されるビーム光の通過を検知するビーム
    光通過検知手段と、 前記ビーム光位置検知手段の出力を増幅する増幅器と、
    この増幅器の出力を積分する積分器とからなる信号処理
    手段と、 この信号処理手段の出力に基づき前記走査手段により走
    査されるビーム光の前記被走査面における通過位置が適
    正位置となるように制御する第１の制御手段と、 前記信号処理手段のオフセット値を検出するオフセット
    検出手段と、 前記積分器の積分動作を制御するタイミング信号を発生
    するタイミング信号発生手段と、 前記オフセット検出手段がオフセット値を検出する際
    は、前記タイミング信号発生手段から発生されるタイミ
    ング信号を前記積分器に印加し、前記第１の制御手段に
    よるビーム光位置制御時は、前記ビーム光通過検知手段
    の出力を積分動作を制御するタイミング信号として前記
    積分器に印加する第２の制御手段と、 前記オフセット検出手段で検出されたオフセット値に応
    じて前記信号処理手段の出力を補正する補正手段と、 を具備したことを特徴とするビーム光走査装置。
  20. 【請求項２０】 ビーム光を発生するビーム光発生手段
    と、 このビーム光発生手段から発生されたビーム光を被走査
    面へ向けて反射し、前記ビーム光により前記被走査面を
    走査する走査手段と、 この走査手段により前記被走査面を走査すべく導かれた
    ビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほぼ直交
    する方向に並列配置された複数の光検知部で検知するビ
    ーム光位置検知手段と、 このビーム光位置検知手段の近傍に配設され、前記走査
    手段により走査されるビーム光の通過を検知するビーム
    光通過検知手段と、 前記ビーム光位置検知手段の出力を増幅する増幅器と、
    この増幅器の出力を積分する積分器とからなる信号処理
    手段と、 この信号処理手段の出力に基づき前記走査手段により走
    査されるビーム光の前記被走査面における通過位置が適
    正位置となるように制御する第１の制御手段と、 前記信号処理手段のオフセット値を検出するオフセット
    検出手段と、 前記積分器の積分動作を制御するタイミング信号を発生
    するタイミング信号発生手段と、 前記オフセット検出手段がオフセット値を検出する際
    は、前記タイミング信号発生手段から発生されるタイミ
    ング信号を前記積分器に印加し、前記第１の制御手段に
    よるビーム光位置制御時は、前記ビーム光通過検知手段
    の出力を積分動作を制御するタイミング信号として前記
    積分器に印加する第２の制御手段と、 前記オフセット検出手段で検出されたオフセット値を前
    記信号処理手段における積分器の基準電圧として帰還す
    る帰還手段と、 を具備したことを特徴とするビーム光走査装置。
  21. 【請求項２１】 ビーム光を発生する複数のビーム光発
    生手段と、 この複数のビーム光発生手段から発生された複数のビー
    ム光を被走査面へ向けてそれぞれ反射し、前記複数のビ
    ーム光により前記被走査面を走査する走査手段と、 この走査手段により前記被走査面を走査すべく導かれた
    複数のビーム光を、前記複数のビーム光の走査方向に対
    してほぼ直交する方向に並列配置された複数の光検知部
    で検知するビーム光位置検知手段と、 このビーム光位置検知手段の近傍に配設され、前記走査
    手段により走査される複数のビーム光の通過を検知する
    ビーム光通過検知手段と、 前記ビーム光位置検知手段がビーム光の位置を検知する
    際は、１つのビーム光発生手段のみが発光動作するよう
    に前記複数のビーム光発生手段を制御する第１の制御手
    段と、 前記ビーム光位置検知手段の出力を増幅する増幅器と、
    前記ビーム光通過検知手段から出力されるビーム光通過
    検知信号が印加されることにより積分動作を開始し、前
    記増幅器の出力を積分する積分器とからなる信号処理手
    段と、 この信号処理手段の出力をあらかじめ設定される基準値
    と比較し、その比較結果に基づき前記走査手段により走
    査される複数のビーム光の前記被走査面における相対位
    置が適正位置となるように制御する第２の制御手段と、 前記信号処理手段のオフセット値を検出するオフセット
    検出手段と、 このオフセット検出手段がオフセット値を検出する際、
    前記走査手段により走査される複数のビーム光を前記ビ
    ーム光位置検知手段の非検知領域に移動させるビーム光
    偏向手段と、 前記オフセット検出手段で検出されたオフセット値に応
    じて前記第２の制御手段の基準値を補正する補正手段
    と、 を具備したことを特徴とするビーム光走査装置。
  22. 【請求項２２】 ビーム光を発生する複数のビーム光発
    生手段と、 この複数のビーム光発生手段から発生された複数のビー
    ム光を被走査面へ向けてそれぞれ反射し、前記複数のビ
    ーム光により前記被走査面を走査する走査手段と、 この走査手段により前記被走査面を走査すべく導かれた
    複数のビーム光を、前記複数のビーム光の走査方向に対
    してほぼ直交する方向に並列配置された複数の光検知部
    で検知するビーム光位置検知手段と、 このビーム光位置検知手段の近傍に配設され、前記走査
    手段により走査される複数のビーム光の通過を検知する
    ビーム光通過検知手段と、 前記ビーム光位置検知手段がビーム光の位置を検知する
    際は、１つのビーム光発生手段のみが発光動作するよう
    に前記複数のビーム光発生手段を制御する第１の制御手
    段と、 前記ビーム光位置検知手段の出力を増幅する増幅器と、
    前記ビーム光通過検知手段から出力されるビーム光通過
    検知信号が印加されることにより積分動作を開始し、前
    記増幅器の出力を積分する積分器とからなる信号処理手
    段と、 この信号処理手段の出力に基づき前記走査手段により走
    査される複数のビーム光の前記被走査面における相対位
    置が適正位置となるように制御する第２の制御手段と、 前記信号処理手段のオフセット値を検出するオフセット
    検出手段と、 このオフセット検出手段がオフセット値を検出する際、
    前記走査手段により走査される複数のビーム光を前記ビ
    ーム光位置検知手段の非検知領域に移動させるビーム光
    偏向手段と、 前記オフセット検出手段で検出されたオフセット値に応
    じて前記信号処理手段の出力を補正する補正手段と、 を具備したことを特徴とするビーム光走査装置。
  23. 【請求項２３】 ビーム光により像担持体上を走査露光
    することにより前記像担持体上に画像を形成する画像形
    成装置であって、 ビーム光を発生するビーム光発生手段と、 このビーム光発生手段から発生されたビーム光を像担持
    体へ向けて反射し、前記ビーム光により前記像担持体上
    を走査する走査手段と、 この走査手段により前記像担持体上を走査すべく導かれ
    たビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほぼ直
    交する方向に並列配置された複数の光検知部で検知する
    ビーム光位置検知手段と、 オフセット値を有した信号処理素子によって構成され、
    前記ビーム光位置検知手段の出力をビーム光位置情報に
    変換する信号処理手段と、 この信号処理手段から出力されるビーム光位置情報をあ
    らかじめ設定される基準値と比較し、その比較結果に基
    づき前記走査手段により走査されるビーム光の前記像担
    持体上における通過位置が適正位置となるように制御す
    る制御手段と、 前記信号処理手段のオフセット値を検出するオフセット
    検出手段と、 このオフセット検出手段で検出されたオフセット値に応
    じて前記制御手段の基準値を補正する補正手段と、 を具備したことを特徴とする画像形成装置。
  24. 【請求項２４】 ビーム光により像担持体上を走査露光
    することにより前記像担持体上に画像を形成する画像形
    成装置であって、 ビーム光を発生するビーム光発生手段と、 このビーム光発生手段から発生されたビーム光を像担持
    体へ向けて反射し、前記ビーム光により前記像担持体上
    を走査する走査手段と、 この走査手段により前記像担持体上を走査すべく導かれ
    たビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほぼ直
    交する方向に並列配置された複数の光検知部で検知する
    ビーム光位置検知手段と、 オフセット値を有した信号処理素子によって構成され、
    前記ビーム光位置検知手段の出力をビーム光位置情報に
    変換する信号処理手段と、 この信号処理手段から出力されるビーム光位置情報に基
    づき、前記走査手段により走査されるビーム光の前記像
    担持体上における通過位置が適正位置となるように制御
    する制御手段と、 前記信号処理手段のオフセット値を検出するオフセット
    検出手段と、 このオフセット検出手段で検出されたオフセット値に応
    じて前記信号処理手段から出力されるビーム光位置情報
    を補正する補正手段と、 を具備したことを特徴とする画像形成装置。
  25. 【請求項２５】 ビーム光により像担持体上を走査露光
    することにより前記像担持体上に画像を形成する画像形
    成装置であって、 ビーム光を発生するビーム光発生手段と、 このビーム光発生手段から発生されたビーム光を像担持
    体へ向けて反射し、前記ビーム光により前記像担持体上
    を走査する走査手段と、 この走査手段により前記像担持体上を走査すべく導かれ
    たビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほぼ直
    交する方向に並列配置された複数の光検知部で検知する
    ビーム光位置検知手段と、 このビーム光位置検知手段の近傍に配設され、前記走査
    手段により走査されるビーム光の通過を検知するビーム
    光通過検知手段と、 前記ビーム光位置検知手段の出力を増幅する増幅器と、
    前記ビーム光通過検知手段から出力されるビーム光通過
    検知信号が印加されることにより積分動作を開始し、前
    記増幅器の出力を積分する積分器とからなる信号処理手
    段と、 この信号処理手段の出力をあらかじめ設定される基準値
    と比較し、その比較結果に基づき前記走査手段により走
    査されるビーム光の前記像担持体上における通過位置が
    適正位置となるように制御する制御手段と、 前記信号処理手段のオフセット値を検出するオフセット
    検出手段と、 このオフセット検出手段がオフセット値を検出する際、
    前記走査手段により走査されるビーム光を前記ビーム光
    位置検知手段の非検知領域に移動させるビーム光偏向手
    段と、 前記オフセット検出手段で検出されたオフセット値に応
    じて前記制御手段の基準値を補正する補正手段と、 を具備したことを特徴とする画像形成装置。
  26. 【請求項２６】 ビーム光により像担持体上を走査露光
    することにより前記像担持体上に画像を形成する画像形
    成装置であって、 ビーム光を発生するビーム光発生手段と、 このビーム光発生手段から発生されたビーム光を像担持
    体へ向けて反射し、前記ビーム光により前記像担持体上
    を走査する走査手段と、 この走査手段により前記像担持体上を走査すべく導かれ
    たビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほぼ直
    交する方向に並列配置された複数の光検知部で検知する
    ビーム光位置検知手段と、 このビーム光位置検知手段の近傍に配設され、前記走査
    手段により走査されるビーム光の通過を検知するビーム
    光通過検知手段と、 前記ビーム光位置検知手段の出力を増幅する増幅器と、
    前記ビーム光通過検知手段から出力されるビーム光通過
    検知信号が印加されることにより積分動作を開始し、前
    記増幅器の出力を積分する積分器とからなる信号処理手
    段と、 この信号処理手段の出力に基づき前記走査手段により走
    査されるビーム光の前記像担持体上における通過位置が
    適正位置となるように制御する制御手段と、 前記信号処理手段のオフセット値を検出するオフセット
    検出手段と、 このオフセット検出手段がオフセット値を検出する際、
    前記走査手段により走査されるビーム光を前記ビーム光
    位置検知手段の非検知領域に移動させるビーム光偏向手
    段と、 前記オフセット検出手段で検出されたオフセット値に応
    じて前記信号処理手段の出力を補正する補正手段と、 を具備したことを特徴とする画像形成装置。
  27. 【請求項２７】 複数のビーム光により像担持体上を走
    査露光することにより前記像担持体上に画像を形成する
    画像形成装置であって、 ビーム光を発生する複数のビーム光発生手段と、 この複数のビーム光発生手段から発生された複数のビー
    ム光を像担持体へ向けてそれぞれ反射し、前記複数のビ
    ーム光により前記像担持体上を走査する走査手段と、 この走査手段により前記像担持体上を走査すべく導かれ
    た複数のビーム光を、前記複数のビーム光の走査方向に
    対してほぼ直交する方向に並列配置された複数の光検知
    部で検知するビーム光位置検知手段と、 このビーム光位置検知手段の近傍に配設され、前記走査
    手段により走査される複数のビーム光の通過を検知する
    ビーム光通過検知手段と、 前記ビーム光位置検知手段がビーム光の位置を検知する
    際は、１つのビーム光発生手段のみが発光動作するよう
    に前記複数のビーム光発生手段を制御する第１の制御手
    段と、 オフセット値を有した信号処理素子によって構成され、
    前記ビーム光位置検知手段の出力をビーム光位置情報に
    変換する信号処理手段と、 この信号処理手段から出力されるビーム光位置情報をあ
    らかじめ設定される基準値と比較し、その比較結果に基
    づき前記走査手段により走査される複数のビーム光の前
    記像担持体上における相対位置が適正位置となるように
    制御する第２の制御手段と、 前記信号処理手段のオフセット値を検出するオフセット
    検出手段と、 このオフセット検出手段で検出されたオフセット値に応
    じて前記第２の制御手段の基準値を補正する補正手段
    と、 を具備したことを特徴とする画像形成装置。
  28. 【請求項２８】 複数のビーム光により像担持体上を走
    査露光することにより前記像担持体上に画像を形成する
    画像形成装置であって、 ビーム光を発生する複数のビーム光発生手段と、 この複数のビーム光発生手段から発生された複数のビー
    ム光を像担持体へ向けてそれぞれ反射し、前記複数のビ
    ーム光により前記像担持体上を走査する走査手段と、 この走査手段により前記像担持体上を走査すべく導かれ
    た複数のビーム光を、前記複数のビーム光の走査方向に
    対してほぼ直交する方向に並列配置された複数の光検知
    部で検知するビーム光位置検知手段と、 このビーム光位置検知手段の近傍に配設され、前記走査
    手段により走査される複数のビーム光の通過を検知する
    ビーム光通過検知手段と、 前記ビーム光位置検知手段がビーム光の位置を検知する
    際は、１つのビーム光発生手段のみが発光動作するよう
    に前記複数のビーム光発生手段を制御する第１の制御手
    段と、 オフセット値を有した信号処理素子によって構成され、
    前記ビーム光位置検知手段の出力をビーム光位置情報に
    変換する信号処理手段と、 この信号処理手段から出力されるビーム光位置情報に基
    づき前記走査手段により走査される複数のビーム光の前
    記像担持体上における相対位置が適正位置となるように
    制御する第２の制御手段と、 前記信号処理手段のオフセット値を検出するオフセット
    検出手段と、 このオフセット検出手段で検出されたオフセット値に応
    じて前記信号処理手段から出力されるビーム光位置情報
    を補正する補正手段と、 を具備したことを特徴とする画像形成装置。
  29. 【請求項２９】 複数のビーム光により像担持体上を走
    査露光することにより前記像担持体上に画像を形成する
    画像形成装置であって、 ビーム光を発生する複数のビーム光発生手段と、 この複数のビーム光発生手段から発生された複数のビー
    ム光を像担持体へ向けてそれぞれ反射し、前記複数のビ
    ーム光により前記像担持体上を走査する走査手段と、 この走査手段により前記像担持体上を走査すべく導かれ
    た複数のビーム光を、前記複数のビーム光の走査方向に
    対してほぼ直交する方向に並列配置された複数の光検知
    部で検知するビーム光位置検知手段と、 このビーム光位置検知手段の近傍に配設され、前記走査
    手段により走査される複数のビーム光の通過を検知する
    ビーム光通過検知手段と、 前記ビーム光位置検知手段がビーム光の位置を検知する
    際は、１つのビーム光発生手段のみが発光動作するよう
    に前記複数のビーム光発生手段を制御する第１の制御手
    段と、 前記ビーム光位置検知手段の出力を増幅する増幅器と、
    前記ビーム光通過検知手段から出力されるビーム光通過
    検知信号が印加されることにより積分動作を開始し、前
    記増幅器の出力を積分する積分器とからなる信号処理手
    段と、 この信号処理手段の出力をあらかじめ設定される基準値
    と比較し、その比較結果に基づき前記走査手段により走
    査される複数のビーム光の前記像担持体上における相対
    位置が適正位置となるように制御する第２の制御手段
    と、 前記信号処理手段のオフセット値を検出するオフセット
    検出手段と、 このオフセット検出手段がオフセット値を検出する際、
    前記走査手段により走査される複数のビーム光を前記ビ
    ーム光位置検知手段の非検知領域に移動させるビーム光
    偏向手段と、 前記オフセット検出手段で検出されたオフセット値に応
    じて前記第２の制御手段の基準値を補正する補正手段
    と、 を具備したことを特徴とする画像形成装置。
  30. 【請求項３０】 複数のビーム光により像担持体上を走
    査露光することにより前記像担持体上に画像を形成する
    画像形成装置であって、 ビーム光を発生する複数のビーム光発生手段と、 この複数のビーム光発生手段から発生された複数のビー
    ム光を像担持体へ向けてそれぞれ反射し、前記複数のビ
    ーム光により前記像担持体上を走査する走査手段と、 この走査手段により前記像担持体上を走査すべく導かれ
    た複数のビーム光を、前記複数のビーム光の走査方向に
    対してほぼ直交する方向に並列配置された複数の光検知
    部で検知するビーム光位置検知手段と、 このビーム光位置検知手段の近傍に配設され、前記走査
    手段により走査される複数のビーム光の通過を検知する
    ビーム光通過検知手段と、 前記ビーム光位置検知手段がビーム光の位置を検知する
    際は、１つのビーム光発生手段のみが発光動作するよう
    に前記複数のビーム光発生手段を制御する第１の制御手
    段と、 前記ビーム光位置検知手段の出力を増幅する増幅器と、
    前記ビーム光通過検知手段から出力されるビーム光通過
    検知信号が印加されることにより積分動作を開始し、前
    記増幅器の出力を積分する積分器とからなる信号処理手
    段と、 この信号処理手段の出力に基づき前記走査手段により走
    査される複数のビーム光の前記像担持体上における相対
    位置が適正位置となるように制御する第２の制御手段
    と、 前記信号処理手段のオフセット値を検出するオフセット
    検出手段と、 このオフセット検出手段がオフセット値を検出する際、
    前記走査手段により走査される複数のビーム光を前記ビ
    ーム光位置検知手段の非検知領域に移動させるビーム光
    偏向手段と、 前記オフセット検出手段で検出されたオフセット値に応
    じて前記信号処理手段の出力を補正する補正手段と、 を具備したことを特徴とする画像形成装置。
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