JP4490059B2 - 光ビーム走査装置及び画像形成装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
複数のレーザ光ビームにより単一の感光ドラム上を同時に走査露光して上記感光ドラム上に単一の静電潜像を形成するデジタル複写機やレーザプリンタなどの画像形成装置において、上記複数のレーザ光ビームを走査する光ビーム走査装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、例えば、レーザ光ビーム(以降、単に光ビーム)による走査露光と電子写真プロセスとにより画像形成を行うデジタル複写機が種々開発されている。
【0003】
最近では、画像形成速度の高速化を図るために、マルチビーム方式、つまり、複数の光ビームを発生させ、これら複数の光ビームにより複数ラインずつの同時走査が行われるようにしたデジタル複写機が開発されている。
【0004】
従来、このようなマルチビーム方式のデジタル複写機では、高画質で画像を形成するために、前記光学ユニットにおいては、光ビームの走査方向露光位置制御(主走査方向のビーム位置制御)および光ビームの通過位置制御(副走査方向の光ビーム位置制御)が行われている。
【0005】
このような技術の具体例が下記特許文献1に開示されている。この公報では、光ビーム通過位置を高精度で広範囲に検知して、光ビームの位置制御を行うことを目的とし、1対のセンサパターンが感光ドラムの表面を走査する光ビームの副走査方向通過位置を検知する。また、下記特許文献2では、光ビームを検知する対のセンサを、のこぎり歯状の2つのパターンから構成したものが開示されている。
【0006】
【特許文献1】
特開平2001−91872号公報
【0007】
【特許文献2】
特開2002−287054号公報
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
ビームの副走査方向通過位置を制御する場合、レーザパワーが標準値より高い場合、位置検出感度は向上するが、測定レンジが狭くなってしまい、2ビーム間距離の測定が不可能になる場合がある。また、フル制御すなわち副走査及び主走査制御の終了後、スタンバイ制御(固定ビームの位置を確認後、固定ビームと可動ビームとの間隔が目標間隔に近づくように可動ビームを1stepずつ動かす制御)を行う。しかし、ガルバノミラーのドリフトが大きいと、スタンバイ制御時になかなか可動ビームを目標位置に制御出来ず、その状態で画像形成を行うとピッチズレが起きてしまう。
【0009】
従って本発明は、レーザパワーが高い場合でもビーム副走査方向位置を検出し、更に従来より高い精度で該ビーム位置を検知できる光ビーム走査装置を提供することを主な目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る光ビーム走査装置は、光ビームを発生するビーム発生器と、前記ビーム発生手段から発生される光ビームを被走査面へ向けて反射し、前記光ビームにより前記被走査面を主走査方向に走査する光ビーム走査手段と、前記光ビーム走査手段により走査される光ビームの通過位置を変更する光ビーム通過位置変更手段と、前記光ビームの走査方向と直交する副走査方向のビーム通過位置変化に対してその検知結果出力が連続的に変化する通過位置検知手段と、前記光ビームの通過位置が目標通過位置と一致していない場合、光ビームの通過位置が目標位置になるように、前記光ビーム通過位置変更手段の指示値を変更する光ビーム通過位置制御手段と、を具備し、前記光ビーム通過位置制御手段は、前回と同じ方向に指示値を変更する場合、前回前記光ビーム通過位置変更手段に指示した変更量よりも大きい変更量を前記光ビーム通過位置変更手段に指示することを特徴とする。
【0011】
【発明の実施の形態】
以下本発明の実施例について図面を参照して詳細に説明する。
【0012】
図1は、本実施例に係る光ビーム走査装置が適用される画像形成装置としてのデジタル複写機の構成を模式的に示す。このデジタル複写機は、例えば画像読取手段としてのスキャナ部1と画像形成手段としてのプリンタ部2から構成されている。
【0013】
スキャナ部1では原稿0が原稿台ガラス7上に下向きに置かれ、原稿0は開閉自在に設けられた原稿固定用のカバー8を閉めることで原稿台ガラス7上に押さえつけられる。
【0014】
原稿0は光源9で照射され、原稿0からの反射光がミラー10,11,12及び集光レンズ5を介し、光電変換素子6のセンサ面上に結像される。第1キャリジ3は光源9とミラー10で構成され、第2キャリジ3はミラー11,12で構成される。
【0015】
以上のようにして原稿ガラス7上に置かれた原稿0は1ライン毎に順次読み取られ、光電変換素子6により反射光である光信号の強度に応じたアナログ電気信号に変換される。その後、変換されたアナログ電気信号は、図示しない画像処理部により画像の濃淡を示すデジタル信号に変換され、レーザ光学系ユニット13に出力される。
【0016】
プリンタ部2は、光学系ユニット13及び非画像形成媒体である用紙P上に画像形成が可能な電子写真方式を組み合わせた画像形成部14で構成されている。即ち、原稿0からスキャナ部1で読取られた画像信号は、図示しない画像処理部でデジタル信号に変換された後、半導体レーザ発振器からの光ビームに変換される。本発明の画像形成装置では半導体レーザを複数個(例えば2個)使用するマルチビーム光学系が採用されている。
【0017】
光学系ユニット13内に設けられた複数の半導体レーザ発振器は、図示しない画像処理部から出力されるレーザ変調信号に従い発光動作を行い、複数の光ビームを発生する。これら複数の光ビームは、ポリゴンミラーで反射されて走査光となり、ユニット外部へ出力される。光学系ユニット13の詳細については後述する。
【0018】
光学系ユニット13から出力される複数の光ビームは、像担持体としての感光ドラム15上の露光位置Xの地点に、必要な解像度を持つスポット光として結像され、感光ドラム15上を主走査方向(感光体ドラムの回転軸方向)に走査する。
【0019】
画像を形成する像担持体である感光体ドラム15の周辺には、その表面を帯電する帯電器16、現像器17、転写チャージャ18、剥離チャージャ19及びクリーナ20が配置されている。感光体ドラム15は、図示しない駆動モータにより所定の外周速度で回転駆動され、その表面に対向して設けられている帯電器16によって帯電される。
【0020】
帯電した感光体ドラム15上の露光位置Xに光が照射されると静電潜像が形成される。現像器17からの現像剤であるトナーが感光体ドラム15で現像される。現像により感光体ドラム15上にはトナー像が形成され、転写位置の地点で用紙P上に転写チャージャ18により前記トナー像が転写される。
【0021】
上記給紙系は底部に設けられた給紙カセット21内の用紙Pを、給紙ローラ22と分離ローラ23により1枚ずつ分離する。その後、用紙Pはレジストローラ24まで送られ、所定のタイミングで転写位置まで供給される。転写チャージャ18の下流側には用紙搬送機構25、定着器26、画像形成済みの用紙Pを排出する排出ローラ27が配置されている。これにより、トナー像が転写された用紙Pは、定着器26においてトナー像が用紙Pに定着し、その後、排紙ローラ27を経て外部の排紙トレイ28に排紙される。
【0022】
また、用紙Pへの転写が終了した感光体ドラム15は、その残留トナーがクリーナ20によって取り除かれ初期状態に復帰し、次の画像形成の待機状態となる。
【0023】
次に光学系ユニット13について説明する。
【0024】
図2は、光学系ユニット13の構成と感光ドラム15の位置関係を示している。光学系ユニット13は、例えば2つの光ビーム発生手段としての半導体レーザ発振器31a,31bを内蔵していて、それぞれのレーザ発振器31a,31bが同時に1走査ラインずつの画像形成を行うことで、ポリゴンミラー35の回転数を上げることなく高速で画像形成を可能としている。
【0025】
即ちレーザ発振器31aはレーザドライバ32aで駆動され、出力される光ビームは、図示しないコリメータレンズ通過後、ハーフミラー34を通過し、回転多面鏡としてのポリゴンミラー35に入射する。
【0026】
ポリゴンミラー35は、ポリゴンミラードライバ37で駆動されるポリゴンモータ36により一定速度で回転されている。これにより、ポリゴンミラー35からの反射光は、ポリゴンモータ36の回転数で定まる角速度で一定方向に走査光となり、図示しないf−θレンズを通過し、一定速度で光ビーム通過位置検知手段としての光ビーム相対位置センサ38の受光面及び感光ドラム15上を走査する。
【0027】
レーザ発振器31bはレーザドライバ32bで駆動され、出力される光ビームは、図示しないコリメータレンズ通過後、光路変更手段としてのガルバノミラー33に入射する。ガルバノミラー33で反射された光ビームは、ハーフミラー34を通過し、ポリゴンミラー35に入射する。ポリゴンミラー35以降の光路は、上述したレーザ発振器31aの場合と同様に図示しないf−θレンズを通過し、一定速度で光ビーム相対位置センサ38の受光面及び感光ドラム15上を走査する。なお、レーザドライバ32a,32bは、各々オートパワーコントロール(APC)機能を有しており、後述の主制御部(CPU)51から設定された発光パワーレベルを保つようにレーザ発振器31a,32bを発光動作させる。
【0028】
このようにして別々のレーザ発振器31a,31bから出力された各光ビームは、ハーフミラー34で合成され、2つの光ビームがポリゴンミラー35の方向に進む。
【0029】
従って2つの光ビームは、同時に感光ドラム15上を走査することができ、従来のシングルビームの場合と比較して、ポリゴンミラー35の回転数が同じである場合は、2倍の速度で画像の記録が可能となる。
【0030】
ガルバノミラー33は、ガルバノミラー駆動回路39により駆動され、レーザ発振器31aから出力された光ビームに対し、レーザ発振器31bから出力された光ビームの副走査方向の位置を調整(制御)する。
【0031】
また、光ビーム検知装置38には、その取付位置及び光ビームの走査方向に対する傾きを調整するための光ビーム検知装置調整モータ38a,38bが設けられている。
【0032】
光ビーム検知装置38は、上記2つの光ビームの通過位置、通過タイミング及び通過時のレーザ光の光量を検知する。光ビーム検知装置38は、受光面が感光ドラム15の表面と等価になるよう感光ドラム15端部近傍に配設されている。また、光ビーム検知装置38は、図示しない折り返しミラーを用いてポリゴンミラー35により走査された光ビームを反射し、前記図示しない折り返しミラーにより反射された光ビームの延長線上かつ受光面が感光ドラム15の表面と等価となるように配設してもよい。
【0033】
この光ビーム検知装置38からの検知信号を基に、各々のレーザ発振器に対応する発光パワーの制御、レーザ発振器31bからの光ビームが入射するガルバノミラー33の制御(副走査方向の画像形成位置制御)及び発光タイミングの制御(主走査方向の画像形成位置制御)が行われる(詳細は後述)。これらの制御を行うための信号を生成するために、光ビーム検知装置38には、光ビーム検知装置出力処理回路40が接続されている。
【0034】
次に制御系について説明する。
【0035】
図3は、主にマルチビーム光学系の制御部の構成を示している。主制御部51は、全体的な制御を司る部分であり、CPUなどから構成される。この主制御部51にはメモリ52、コントロールパネル53、外部通信インタフェース(I/F)54、レーザドライバ32a,32b、ポリゴンモータドライバ37、ガルバノミラー駆動回路39、光ビーム検知装置出力処理回路40、同期回路55及び画像データインタフェース(I/F)56が接続されている。
【0036】
同期回路55には、画像データインタフェース(I/F)56が接続されており、画像データI/F56には画像処理部57及びページメモリ58が接続されている。画像処理部57には、スキャナ部1が接続され、ページメモリ58には外部インタフェース(I/F)59が接続されている。
【0037】
ここで、画像を形成する際の画像データの流れを以下に簡単に説明する。
【0038】
まず複写機動作の場合、前述のように、原稿台7上にセットされた原稿0の画像は、スキャナ部1で読取られ画像処理部57へ送られる。画像処理部57は、スキャナ部1からの画像信号に対し、例えば周知のシェーディング補正、各種フィルタリング処理、階調処理及びガンマ補正などを施す。
【0039】
画像処理部57からの画像データは、画像データI/F56へ送られる。画像データI/F56は、2つのレーザドライバ32a,32bへ画像データを振り分ける役割を果たす。
【0040】
同期回路55は、各光ビームの光ビーム検知装置38上を通過するタイミングに同期したクロックを発生し、このクロックに同期して画像データI/F56から各レーザドライバ32a,32bへ画像データをレーザ変調信号として出力する。
【0041】
また、同期回路55は、非画像形成領域で各レーザ発振器31a,31bを強制的に発光動作させ各光ビームの出力パワーを制御するためのサンプルタイマや、光ビーム検知装置38上を各光ビームが走査するときにレーザ発振器31a,31bを発光動作させ各光ビームの主走査方向位置を検知するための論理回路などが含まれている。
【0042】
このようにして各光ビームの走査と同期を取りながら画像データを転送することで、主走査方向に同期が取れた(正しい位置の)画像形成が行われる。
【0043】
コントロールパネル53は、複写動作の起動や枚数指定などを行うマンマシンインタフェースである。
【0044】
本デジタル複写機は、複写動作のみではなくページメモリ58に接続された外部I/F59を介して外部から入力される画像データを画像形成することが可能な構成となっている。なお、外部I/F59から入力される画像データは、一旦ページメモリ58に格納された後、画像データI/F56を介して同期回路55へ送出される。
【0045】
また、本デジタル複写機が、例えばネットワークなどを介し外部から制御される場合には、外部通信I/F54がコントロールパネル53の役割を果たす。
【0046】
ガルバノミラー駆動回路39は、主制御部51からの指示値に従ってガルバノミラー33を駆動する回路である。従って主制御部51は、ガルバノミラー駆動回路39を介し、ガルバノミラー33の角度を自由に制御することができる。
【0047】
ポリゴンモータドライバ37は、先に述べた2つの光ビームを走査するポリゴンミラー35を回転させるためのポリゴンミラーモータ36を駆動するドライバである。主制御部51は、このポリゴンモータドライバ37に対し、回転開始、回転停止及び回転数の切り換えを行うことができる。回転数の切り換えは、光ビーム検知装置38により光ビームの通過位置を確認する際、必要に応じて所定の回転数よりも低くする場合に用いる。
【0048】
レーザドライバ32a,32bは、前述のように画像データに従ってレーザ光を発光させる以外に、主制御部51からの強制発光信号により、画像データとは無関係に強制的なレーザ発振器31a,31bの発光動作を行う機能を有している。
【0049】
また、主制御部51は、各々のレーザ発振器32a,32bが発光する光ビームのパワーを各レーザドライバ31a,31bを用いて設定する。発光パワーの設定は、感光ドラム15の潜像形成条件の変化や、光ビーム通過位置検知などに応じて変更される。
【0050】
メモリ52は、制御に必要な情報を記憶するためのものである。例えば、ガルバノミラー33の制御量、光ビーム通過位置検知を行うための回路特性(増幅器のオフセット量)及び光ビームの到来順序などを記憶することで、電源投入後即座に光学系ユニット13を画像形成可能な状態にすることができる。
【0051】
次に本発明の第1の実施例について説明する。
【0052】
第1の実施例は、1つの光ビームを走査するシングルビーム光学系を有する光ビーム走査装置にも適用できる。先ず、本発明に係るガルバノミラー角度調整及び光ビーム通過位置調整の原理を示す。
【0053】
図4は、ガルバノミラー33の角度を指示するための調整手段を2つ有する場合の、ガルバノミラー駆動回路39の構成を示したブロック図である。
【0054】
ガルバノミラー33は、主制御部51により角度指示データを与えられることで角度が制御される。この角度指示データは、ガルバノミラー駆動回路39内のセレクタ43へ入力され、前記主制御部51からの調整手段選択信号により、後段のラッチ44a,44bのいずれかへ制御データを選択的に出力する。ラッチ44a,44bは、前記セレクタ43より得られたデータを主制御部51からのデータ更新処理が行われるまで保持する。D/A変換器45a,45bに入力されたガルバノミラー制御データは、デジタル信号をアナログ信号に変換し、反転増幅器48へ入力される。この反転増幅器48による反転増幅出力は、ドライバ46へ入力され、反転増幅器48の出力電圧に従ってガルバノミラー33を駆動制御する。
【0055】
光ビーム検知装置38は、光ビームの通過位置を検知するためのセンサパターンである。図5は、このセンサパターンとその周辺構成を示した主要ブロック図である。センサパターンは、例えばフォトダイオードで構成されており、センサパターン上を、走査された光ビームが通過したとき、光エネルギが電気エネルギに変換され図示しない電流/電圧変換器により電圧として出力される。光ビームが各センサ上を通過した後は、センサ出力は0となる。
【0056】
センサパターンSO,SPは、三角形や台形で、対称的に所定の間隔を置いて配設される。SO,SPの各出力は、差動増幅器69に入力され適当なゲインで差分演算された後、積分器75で積分処理される。
【0057】
光ビームの副走査方向の移動により、それぞれのセンサパターン上を光ビームが通過する時間が連続的に変化し、積分出力がこの光ビーム通過位置変化に対応して変化する。
【0058】
また、センサパターンSLは、前記積分器75の初期化を行うためのパターンであり、図示しないセンサSAとの組み合わせによりリセット信号生成回路73によりリセット信号を生成する。即ち、光ビームの通過に伴いSA,SLの電圧変動が生じる。このSAとSLを光ビームが通過する間に前記積分器75がリセットされる。更に、リセット直後にSO,SPの出力信号による積分動作を行う。
【0059】
また、センサパターンSRは、積分器75による出力電圧をデジタル信号に変換するための変換開始信号を生成するためのパターンである。SRを光ビームが通過したことによる電圧変動は、変換開始信号生成回路74により変換開始信号を生成する。この信号によりSO,SPの積分結果は、A/D変換器などの信号変換器によりデジタル信号に変換され主制御部51へ出力される。
【0060】
図6は、光ビーム通過位置と積分器75の積分出力特性(位置検出特性)を示している。光ビームの副走査方向の移動により積分出力が連続的に変化する。センサパターンSO,SPの中央を光ビームが通過した場合、積分出力はVrefとなる。また、ビーム通過位置が図面上、下側に移動すると積分出力はVrefよりも低下し、逆に上側に移動すると積分出力はVrefよりも上昇する。
【0061】
従って、SO,SPによる出力の積分結果をモニタすることで、センサパターン上の光ビーム通過位置を検知することができる。
【0062】
更にこの検知結果に基づき主制御部51により光ビームの通過位置を所望の通過位置に補正するデータを各光ビームに対応するガルバノミラー駆動回路39へ送出することで光ビーム通過位置を所望の通過位置に制御することができる。
【0063】
図5の光ビーム検知装置38及び光ビーム検知装置出力処理回路40を使用した複数光ビームを所望の通過位置に制御する方法について説明する。
【0064】
マルチビーム光学系は、2つのレーザ発振器を有し、各々の光ビームを副走査方向に移動させるための2つの光アクチュエータ(ガルバノミラーなど)を有する2ビームのマルチビーム光学系を想定し説明する。本マルチビーム光学系は、例えば600dpiの解像度を有するものとする。
【0065】
光ビーム検知装置38は図6に示すような積分出力特性を有する。従って、
(VMAX −Vmin)/h=Vunit [V/μm]
とすると、2つの光ビームを解像度600dpi(ドット間距離:42.3μm)に調整するためには、光ビームの積分出力の差が約Vunit×42.3[V]となるように、各レーザ発振器から出力される光ビームに対応するガルバノミラーを調整すればよい。
【0066】
図7は、本実施例に係る光ビーム検知装置38の構成を示している。この光ビーム検知装置38は、9つのセンサパターンSG,SL,SS,SR,SI,SJ,SK,SO,SPで保持基板38上に構成されている。
【0067】
センサパターンSI,SJ,SKは、光ビームの副走査方向に所定のピッチで平行に配設されている。SJ−SK間は第1の光ビームの通過目標、SJ−SI間は第2の光ビームの通過目標であり、SJ,SI,SKは光ビームが各通過目標を通過したことを確認するためのものである。SI,SJ,SKの光ビーム通過位置と積分出力特性の関係は、図8に示すように各通過目標の中央を光ビームが通過した場合、積分出力はVrefとなり、通過目標からずれるに従い連続的に積分出力が変化するような特性を有する。
【0068】
図9は、図7のような光ビーム検知装置38を用いた場合の光ビーム検知装置出力処理回路40とその周辺構成を示している。この例では、相対位置センサSO,SPとして鋸歯状の形状を有するフォトセンサが適用されている。
【0069】
センサパターンSG,SLは、積分器75のリセット信号を生成するためのパターンである。センサSI、SJ、SKの光検知出力は、それぞれ電流/電圧(I/V)変換器60〜62により電流/電圧変換され、差動増幅器63,64に供給される。差動増幅器63はセンサSI、SJ検知出力の差分を出力し、差動増幅器64はセンサSJ、SK検知出力の差分を出力する。差動増幅器63、64の出力は、アナログマルチプレクサ72により選択的に積分器75に供給され積分される。
【0070】
センサパターンSP,SOからの電流出力は、電流電圧変換アンプ65,67によって電圧信号に変換された後に差動増幅器66,68に入力される。電流電圧変換アンプ65,67出力電圧は、補正パルス発生器70、加算器71、及び差動増幅器66,68により、その振幅が補正され差動増幅器69に供給される。尚、センサSP、SOの出力信号振幅の補正については後述される。差動増幅器69の出力信号は、アナログマルチプレクサ72を介して積分器75に供給され積分される。
【0071】
SG、SLの各出力及び主制御部51(以下CPU51という)からのセンサ選択信号に応じて、積分リセット選択回路73は、積分器75のリセット動作を行う。積分器75はリセット後、アナログマルチプレクサ72により選択されたセンサからの出力による積分動作を開始する。
【0072】
変換開始信号選択回路74は、センサパターンSL、SRからのセンサ出力及びCPU51からの選択信号に応じて、A/D変換開始信号を生成する。この変換開始信号の発生タイミングで、アナログマルチプレクサ72により選択された差動増幅器出力の積分結果が、A/D変換器76によりデジタル信号に変換される。
【0073】
このような構成で、マルチビーム光学系の光ビーム相対位置制御について以下に説明する。
【0074】
まず固定光ビーム(本実施例では半導体レーザ発振器31aから発光されるビームa)のセンサ応答を確認する。CPU51によりセンサSO,SPを選択し、センサSLによる積分リセット信号を用いて、SO,SPの差分出力VD1の積分を開始する。積分器75の出力(差分出力積分値)は、センサSRによる変換開始信号の発生タイミングで、A/D変換器76によりA/D変換され、CPU51はこの値を記憶する。
【0075】
次に、移動可能な光ビーム(本実施例では半導体レーザ発振器31bから発光されるビームb)を用いてセンサSI,SJ,SKの通過目標を通過するようにガルバノミラー33を制御する。
【0076】
CPU51によりセンサSJ,SKを選択し、移動可能な光ビームの通過位置を、該第1の通過目標(センサSJ,SKの中心位置)に追込む。このとき、光ビームを目標付近に移動するには粗調整D/Aを用い、最終位置調整には、微調整D/Aを用いることで制御時間を短縮できる。
【0077】
第1の通過目標に光ビーム通過位置追込みを終了後、CPU51によりセンサSO,SPを選択し、このときのSO,SPの差分出力積分値VJKを記憶する。
【0078】
同様に該第2に通過目標(センサSI,SJの中心位置)に光ビームを移動させ、終了後SO,SPの積分出力VJIを記憶する。
【0079】
2つの通過目標におけるSO,SPの差分出力積分値と通過目標の間隔Drpにより、
(VJK−VJI)/Drp =Vunit [V/μm]
を得られる。従って、光ビームを600dpiの解像度に調整するには、固定光ビームによるセンサSO,SPの差分出力積分値と移動可能な光ビームによる差分出力積分値の差が、42.3×Vunit[V]であればよい。CPU51は固定光ビームによるセンサSO,SPの差分出力積分値と移動可能な光ビームによる差分出力積分値の差が、42.3×Vunit[V]になるように、移動可能な光ビームの通過位置を制御する。
【0080】
図10は、副走査制御のおおまかなフロー図である。
【0081】
図11は基準ピッチセンサSI,SJ,SKと相対位置センサSO,SPと相対位置センサの出力を示したグラフである。基準ピッチセンサSI,SJ,SKは相対位置検知制御の説明で述べられているように、光ビームの通過位置確認及び制御に用いる。光ビームの通過位置を検知する場合には、基準ピッチセンサSI,SJ,SKから、センサSI,SJ、センサSJ,SKのいずれかの組み合わせを選択し、ビームaがセンサ上を走査した際に出力される電流をI/V変換し、それぞれの差をとり、差分出力を得ることによって、ビーム位置を検知することが出来る。
【0082】
相対位置制御はまず、図11の基準ピッチセンサSJ,SKの中心位置Pjkに可動ビームaの位置が収束するように可動ビームaを追い込む(以下単に移動するという)。そして、相対位置センサSO,SPの差分出力積分値(電圧V1)を記憶する。次に同様に、図12のように基準ピッチセンサSI,SJの中心位置Pijに可動ビームaを移動し、そのときの相対位置センサSO,SPの差をとり、その差分を積分した値(電圧V2)を記憶する。
【0083】
図13は図11及び図12を合成した図である。中心位置Pjkと中心位置Pij間の距離Drpは、信号のS/N比を改善するために、必要な解像度の整数倍の距離に設定されている。例えば600dpiだと42.3μmの2倍の84.6μmに設定されている。以下、中心位置Pjkと中心位置Pij間の距離Drpを基準ピッチと呼び、この基準ピッチDrpは84.6μmに設定されているものとして説明を続ける。図13のように”V1 −V2 ”は基準ピッチに対応する電圧差である。
【0084】
尚、センサSJ、SKはビーム位置検知部(センサSP,SO)から主走査方向に離れており、第2の通過目標位置(Pjk)を含む領域上に配置され、光ビームが該第1の通過目標位置を通過していることを確認するための第1の位置確認部として機能する。センサSI、SJはビーム位置検知部(センサSP,SO)から主走査方向に離れており、第2の通過目標位置(Pij)を含む領域上に配置され、光ビームが該第2の通過目標位置を通過していることを確認するための第2の位置確認部として機能する。
【0085】
ここで、相対位置センサの出力信号処理回路の構成は複数のオペアンプを有し、各センサが検知した電気信号の差を積分器により積分するような構成になっている。オペアンプの出力にオフセットが有る場合、図14のように出力電圧変化領域がずれる。相対位置センサは感度を良くするために測定レンジが狭くなっているため、オフセットがあるとビーム通過位置の検出が不可能となる。従って図15のように、ビーム位置が測定できるところまでオフセット補正を行ってから測定、制御を行う。
【0086】
ここでオフセット補正について説明する。
【0087】
ビーム相対位置センサSO,SPは、ビームの通過位置を広範囲に検知するために、副走査方向に比較的大きなサイズで形成されている。ただし、その一方で、高精度にビーム通過位置を検知しなければならないため、図9の補正パルス発生器70等を用いて検知レンジを切り換えて、「広範囲を高精度に検知する」といった要求を満たしている。すなわち、ビームの通過位置に応じて、適切な検知レンジを選択してビーム検知及び制御を行う。
【0088】
ビーム通過位置を高精度に検知するためには、ビーム検知システムの感度(副走査方向ビーム移動距離に対する電圧値)を大きくすればよい。例えば、走査ビームのレーザ光量を大きくしたり、また、I/V変換器や差動増幅器の増幅率を大きくしたり、また、積分器の積分定数を小さく(敏感に)することによって、ビーム検知システムの感度は向上する。但し、これらの方法では、ビーム通過位置検知システムを構成する電気回路の出力電圧範囲が有限であるため、高精度に検知することは可能でも、広範囲に検知することはできない。
【0089】
そこで、感度は上記のままで、広範囲に検知することが可能な、センサ出力補正システムが考案された。検知システムの出力電圧が、回路の上限/下限に達してしまうのは、センサSO,SPいずれかのセンサ出力が大きいため、その差分出力VD1が電源電圧やGND近傍の電圧に飽和するからである。よって、この飽和を防ぐためには、大きい方のセンサ出力を小さくしてやればよい。補正パルス生成回路70は、センサSO,SPいずれかの大きい方のセンサ出力を小さくするために、補正パルスを発生する。この大きい方のセンサ出力は、補正パルスの振幅値だけ減少される。この結果、差動増幅器69の出力の飽和すなわち積分器75の飽和が防止される。
【0090】
以下、センサ出力の補正動作を具体的に説明する。ここでは図9に示すように、光ビームが1対のセンサパターンSP、SOのセンタ位置よりも下側の位置を通過する場合を想定して回路動作を説明する。
【0091】
まず、上記補正パルス生成回路70の補正パルス振幅が基準電圧に設定されている状態、つまり補正無しの状態でビーム位置検知処理を行う。尚、電流電圧変換器65,67の出力電圧は、センサSP,SOの出力がないとき、上記基準電圧にバイアスされている。このビーム位置検知処理により主制御部(CPU)51には、A/D変換器76を介して積分器75からの出力信号INTが供給される。CPU51は、積分器75の出力信号INTが電源電圧もしくはグランドレベル近傍であるか否かにより、補正の必要性を判断する。
【0092】
この判断により補正の必要性が有ると判断した場合、CPU51は、1対のセンサパターンSP、SOのうち、どちらのセンサからの出力に補正が必要であるかを判定する。CPU51は、積分器75からの出力信号が電源電圧(例えば5V)近傍の場合に、センサパターンSPの出力に対する補正を決定する。また、CPU51は、積分器75からの出力信号がグランドレベル近傍の場合に、センサパターンSOの出力に対する補正を決定する。
【0093】
すなわち、図9に示す回路では、積分器75からの出力信号が電源電圧近傍の場合に、センサパターンSPの出力に対する補正を行い、積分器75からの出力信号がグランドレベル近傍の場合に、センサパターンSOの出力に対する補正を行うようになっている。ここでは、センサパターンSOの出力に対する補正が必要と判定したとする。
【0094】
CPU51は、補正パルス生成回路70に対して補正実行信号と、センサパターンSOの出力に対する補正を行うことを示すセンサ選択信号を送信する。またCPU51は、補正パルス生成回路70に対して補正パルスの振幅を示す補正値DPIを送信する。この補正値DPIは最小補正値でも良いし、予め設定されている値から選択しても良い。
【0095】
以上の結果、補正パルス生成回路70はセンサパターンSOの出力に対してのみ補正パルスを供給するように設定される。この場合補正パルス生成回路70は、センサパターンSPの出力に対しては基準電圧を出力し、補正が行われない。
【0096】
上記設定を終えた後、再度CPU51は、光ビームがセンサSP,SO上を通過した際に位置検出を行う。図16はセンサ出力信号の補正動作を示すタイムチャートである。補正パルス生成回路70は、CPU51からのデータをDA変換し、光ビームがセンサSGを通過すると図16に示したような補正パルスOPULSを生成する。この生成された補正パルスOPULSの振幅Paは、CPU51から送信された補正値に対応し、差動増幅器68に入力される。一方、センサパターンSP,SOは、光ビームの通過に伴い電流を発生する。これらのセンサパターンSP,SOからの電流出力は、電流電圧変換増幅器65,67によって電圧信号に変換された後に差動増幅器66,68に入力される。
【0097】
差動増幅器68は、センサSOの電流電圧変換アンプ67の出力電圧と、補正パルス生成回路70から送信された補正パルスOPULSの振幅Paとの差分VD3を演算する。従って補正パルスの振幅値Paが大きいほど、センサSO側の出力信号に対する補正が大きい。
【0098】
また、差動増幅器66は、センサSPの電流電圧変換アンプ65の出力電圧と補正パルス生成回路70から送信された基準電圧PPULSとの差分VD2を演算する。ここで、差動増幅器66のゲインが1倍であれば、VD2は、電流電圧変換器65の出力電圧と等しくなる。
【0099】
次に、差動増幅器69は、VD2とVD3の差分VD1を演算する。この演算結果は、アナログマルチプレクサ72を介して積分器75に入力される。積分器75は、差動増幅器70からの出力電圧を積分する。
【0100】
同様に、光ビームの通過位置がセンサのセンター位置よりも上側の位置の場合、補正パルス生成回路70は、CPU51によってセンサパターンSP側の出力のみを補正するように設定される。すなわち、補正パルスPPULSは補正値を含む補正電圧となり、補正パルスOPULSは、補正値を含まない基準電圧となる。これにより、センサパターンSP側の出力信号のみが補正される。この場合も、補正パルスPPULSの振幅値が大きいほど、センサパターンSP側の出力信号に対する補正が大きい。
【0101】
上記のように、CPU51により判断される補正値DPI及びセンサ選択信号に基づいて、積分器の出力が飽和しないように、相対位置検知センサSO,SPの出力信号が補正される。これにより、電流電圧変換器の増幅率を大きくしたり、積分器の積分定数を敏感にしたりした場合であっても、積分器の出力が飽和することなく、光ビームの検知位置を示す出力信号が正常に得られる。
【0102】
ビーム通過位置に応じて、この補正パルス(OPULS又はPPULS)の振幅Pa(補正値DPI)を調整することによって、高い検知精度のままで、広範囲を検知することが出来る、また、基本的には、出力の大きなセンサ出力から補正パルス振幅値を減算するが、補正パルスに正負の極性を持たせることによって、小さい方のセンサ出力を大きな値に補正するような構成をとることも可能である。以下、説明を簡単にするため、センサ選択信号に関する説明は省略する。尚、ビーム位置を広範囲及び高精度に検知するシステムの詳細は、本願と同一の譲受人に譲渡された米国特許出願09/816773にて説明されている。
【0103】
図17は異なる補正値DPIに対応する位置検知特性すなわち積分器75の出力特性グラフPi(P1、P2、…)を示す。Vmaxは積分器75の最大出力電圧、Vminは最小出力電圧である。ビームbとビームb’は共に半導体レーザ発振器31bによる可動ビームbの走査線である。図17のように、基準ピッチセンサSJ,SKの中心位置Pjkに可動ビームbを移動したときの電圧V4 と、基準ピッチセンサSI,SJの中心位置Pijに可動ビームb′を移動したときの電圧V3 が、同じ特性グラフ(ここでは特性グラフP6)上にある場合、中心位置Pjk及びPij間の基準ピッチは電圧差”V3 −V4 ”により示すことができる。
【0104】
しかし、なんらかの要因により制御時のレーザパワーが過大になっていた場合、図18のように相対位置センサの感度が過敏になってしまい、特性グラフPiの傾きが鋭くなる。従って、基準ピッチセンサSJ,SKの中心位置Pjkに可動ビームbを移動したときと、基準ピッチセンサSI,SJの中心位置Pijに可動ビームb′を移動したときに、同じ補正パルス振幅Pa(補正値DPI)を適用して出力電圧が測定できない。従ってこのような場合、従来の制御方法では位置を制御することが出来なかった。
【0105】
そこで、本実施例では図18のような場合に可動ビームb,b′の距離に対応する電圧差を測定するために、図19のようにビーム位置を測定する際に使用する特性グラフ間の電圧差を可動ビームcを用いて測定する。電圧”V5 −V6” が特性グラフP2 とP3 の電圧差V11となる。この電圧差V11は補正パルスの振幅Paつまり補正値DPIを変更したことにより変化した差分電圧(差動増幅器VD1の出力電圧)である。
【0106】
同様に図20のように特性グラフP3 とP4 の電圧差はV12となる。このように基準ピッチを測定するのに必要な特性グラフ間の電圧差を全て測定する。尚、本実施例では前述したように基準ピッチは、必要な解像度の2倍の距離(=2×42.3μm)に設定されている。
【0107】
図22は基準ピッチに対応する電圧差を求める動作を示すフローチャートである。
【0108】
先ず、CPU51はセンサSIとSJの中心位置Pijに可動ビームを、センサSIとSJの出力を参照して移動する(ST1)。次にCPU51は、補正パルス発生器70に供給する補正値DPIを変更して、位置検知特性グラフPiを可動ビームの位置が測定できるようになるまで補正し(ST2)、該電圧値V10を測定及び記憶する(ST3)。このときの補正値DPIの値をDPijとすると、CPU51は位置Pijを(DPij、V10)として記憶する。従って、光ビームの位置を測定したときの積分値(積分器75の出力値)、及び補正値DPIを用いて、前記光ビームの副走査方向位置を表す(あるいは特定する)ことができる。
【0109】
ステップST4でCPU51は、センサSJとSKの中心位置Pjkに、センサSJとSKの出力を基にして可動ビームを移動する。次にCPU51は中心位置Pijを測定できた特性グラフを使用して、現在の可動ビーム位置を測定できるか判断する(ST5)。
【0110】
測定できない場合(NOの場合)、CPU51は位置検知特性グラフPiを、可動ビームが測定できるようになるまで、補正パルス発生器70に供給する補正値DPIを変更し(ST6)、該電圧値V9を測定及び記憶する(ST7)。このときの補正値DPIの値をDPjkとすると、CPU51は位置Pjkを(DPjk、V9)として記憶する。
【0111】
次にCPU51は、ステップST1のビーム位置が位置Pijのときに用いた特性グラフP6まで、補正値DPIを最小補正幅づつ補正し、補正当りのグラフ間電圧差をビームbを用いて測定し記憶する(ST8)。つまりCPU51はV11+V12+V13を測定及び記憶する。
この結果CPU51は、図21のように基準ピッチ(84.6μm)に対応する電圧差Vdpを以下のようにして算出する(ST9)。
【0112】
Vdp=(V9 −V10)+V11+V12+V13…(1)
Pijを測定できる特性グラフを使用して可動ビームを測定できる場合(ST5でYESの場合)、可動ビームを位置Pjkに移動し、そのときの電圧V9を測定する(ST10)。ステップST11でCPU51は基準ピッチ(84.6μm)に対応する電圧差Vdpを以下のようにして算出する(ST11)。
【0113】
Vdp=V9−V10 …(2)
以下、基準ピッチに対応する電圧差が(1)式により表わすことができる理由うを説明する。
【0114】
図21に示す複数の特性グラフP1、P2、…は、測定電圧範囲を仮想的に増大することにより、図23のように1つの特性グラフPにより表わすことができる。y軸を出力電圧、x軸を走査ビームの副走査方向位置、特性Pのy軸交点qの座標を(0,Q)とする。また、複数の特性グラフP1、P2、…の傾きは同一であるから、該傾きを”−m”とすとすると、特性Pは次式のように示すことができる。
【0115】
y=−mx+Q …(3)
ここで、直角三角形acdと直角三角形bdiは底辺ac及びbdの長さが同一で、斜辺ad及びbiの傾きが同一であるから合同である。同様に直角三角形cefと直角三角形ijkは合同であり、直角三角形eghと直角三角形klmは合同である。直角三角形qrmの垂線qrの長さは、垂線ab、di、jk、lmの和に等しい。すなわち直角三角形qrmの垂線qrの長さは、垂線ab、cd、ef、ghの和に等しい。
【0116】
垂線qrは、基準ピッチに対応する(1)式の電圧差Vdpに対応し、垂線abは電位差V11に、垂線cdはV12に、垂線efはV13に、垂線ghは”V9 −V10”に対応する。従って基準ピッチに対応する電圧差Vdpは(1)式により示すことができる。
【0117】
以上の説明は、特性グラフP1、P2、…の間隔が互いに異なる場合でも同様である。
【0118】
次に、上記したように基準ピッチに対応する電圧を測定した後、必要な解像度を実現するために、固定ビームに対して可動ビームの位置を移動する。例えば必要解像度が600dpiの場合、固定ビームに対して可動ビームが42.3μm離れて走査されるように、可動ビームの副走査方向位置を移動する。従来方式の制御だと、固定ビームと、それに対してある間隔に制御される可動ビームの目標位置が図21のように同じ特性グラフ上にない場合、位置制御は不可能であった。
【0119】
そこで本発明は図24のように、上記同様に固定ビームに対して可動ビームを制御するために、両ビームを測定できるグラフ間の電圧差を測定する。そして、固定ビームに対する可動ビームの位置が、図25及び次式に示す制御目標位置相当の電圧Vtgとなるように、可動ビームを制御する。
【0120】
Vtg=(V17−V16)+V14+V15 …(4)
これにより、グラフの感度が鋭い場合でも、問題なく制御をすることができる。
【0121】
以下、固定ビームから可動ビームまでの距離が電圧Vtgに対応する理由を説明する。
【0122】
図24に示す複数の特性グラフP1、P2、…は、測定電圧範囲を仮想的に増大することにより、図25のように1つの特性グラフP’により表わすことができる。y軸を出力電圧、x軸を走査ビームの副走査方向位置、特性P’のy軸交点Hの座標を(0,h)とする。また、複数の特性グラフP1、P2、…の傾きは同一であるから、該傾きを”−s”とすとすると、特性P’は次式のように示すことができる。
【0123】
y=−sx+H …(5)
ここで、直角三角形ACDと直角三角形BDEは底辺AC及びBDの長さが同一で、斜辺AD及びBEの傾きが同一であるから合同である。直角三角形GCEの垂線CEの長さは、垂線AB、DEの和に等しい。すなわち直角三角形GCEの垂線CEの長さは、垂線AB、CDの和に等しい。直角三角形HFEの垂線FEの長さは、以下のように垂線CEの長さから垂線CFの長さを引いた長さに等しい。
【0124】
FE=CE−CF …(6)
垂線ABは電位差V14に、垂線CDはV15に対応するので、垂線CEは”V14−V15”に対応する。垂線CFは”V16−V17”に対応する。従って固定ビームと可動ビーム間距離に対応する電圧Vtgは(4)式により示すことができる。
【0125】
以上の説明は、特性グラフP1、P2、…の間隔が互いに異なる場合でも同様である。
【0126】
このようにCPU51は、ビームb及びビームb’の位置を測定したときの第1及び第2の積分値(V9及びV10)、及びビームb及びビームb’を測定できる第1及び第2の補正値に対応する特性グラフ(特性グラフP3及びP6)間の電圧差”V11+V12+V13”に基づいて、ビームbとビームb’間の距離を算出する。
【0127】
図26は固定ビームと可動ビーム間の間隔を42.3μmに制御する相対位置制御を示すフローチャートである。
【0128】
先ずCPU51は、固定ビームの位置を相対位置センサSP,SOを用いて測定する(ST11)。次にCPU51は、図22の基準ピッチ測定で得られた基準ピッチに対応する電圧の1/2の電圧(=Vdp/2)を計算する(ST12)。Vdp/2は解像度600dpiにおける走査線間距離42.3μmに対応する電圧Vtgである。
【0129】
ステップST13でCPU51は、固定ビームの位置を測定したときの特性グラフを使用して、可動ビームを所望位置まで移動できるか判断する。測定可能であれば(YESの場合)、固定ビームに対して可動ビームが所定の間隔(42.3μm)離れて走査されるように、可動ビームを制御する(ST14)。
【0130】
測定不可能であれば(ステップST13でNOの場合)、CPU51は可動ビームを固定ビームの位置から徐々に移動しながら特性グラフを補正し、特性グラフ間電圧差を測定する(ST15)。すなわちCPU51は、補正パルス発生器70を用いて特性グラフを最小補正幅づつ補正し、各補正ごとにグラフ間電圧差を可動ビームを移動しながら測定する。
【0131】
ステップST16でCPU51は、固定ビームの測定電圧値(図25ではV17)と、走査線間距離42.3μmに対応する電圧Vtgと、特性グラフ間電圧差(図25では”V14+V15”と、可動ビームの測定電圧(図25ではV16)が、上記(3)式をみたすように、可動ビームの位置を移動する。
【0132】
尚、本実施例は従来の副走査方向ビーム位置制御の精度を上げるために、差動増幅器69等の増幅率を増加した場合にも適用できることは明らかである。
【0133】
以上説明したように図9に示すシステムでは、ある補正値DPIに対して所定幅のビーム通過位置検知領域が存在し、CPU51が前記所定幅の通過位置検知領域をシフトすることにより、システムの通過位置検知領域が拡大する。
【0134】
例えば図20を参照して説明すると、ある補正値DPIに対応する特性グラフP1はビーム通過位置検知領域PDA1を有し、特性グラフP2はビーム通過位置検知領域PDA2を有する。他の特性グラフも同様にビーム通過位置検知領域を有し、これら検知領域の検知幅は実質的に同一である。
【0135】
センサSO、SP、補正パルス発生器70、アンプ群65〜68及び積分器75等により構成される通過位置検知部は、入力されるシフト信号すなわち補正値DPIに応じて、前記所定幅の通過位置検知領域をシフトする。CPU51は、前記通過位置検知部がビーム通過位置を検知できるように、前記通過位置検知部に対して前記シフト信号(補正値DPI)を発生して前記通過位置検知領域をシフトする。これにより、前記所定幅より広い領域において前記通過位置検知部は、前記ビーム通過位置を検知することが可能となる。
【0136】
又、CPU51によりシフトされた前記通過位置検知領域は、シフトされる前の領域と重なる領域を有している。例えば、CPU51により特性グラフがP1からP2にシフトした場合、特性グラフP1とP2の位置検知領域には、図20の領域PFのように重なる領域が存在する。このように、隣合う特性グラフに対応する通過位置検知領域に、重なる領域が存在するように、補正値DPIの最小増減量が決定される。
【0137】
次に本発明の第2の実施例について説明する。
【0138】
本複写機の電源が投入されると、プリンタ部についてCPU51は、定着器26の加熱制御、光ビームパワー制御、検知装置出力処理回路40のオフセット補正処理、感光ドラム15の表面条件を一定にするなどのプロセス関連の初期化、光ビーム副走査方向位置制御、主走査方向光ビーム位置制御を実行し、装置はスタンバイの状態となる。
【0139】
スタンバイの状態で、コントロールパネル53から複写指令を受信すると(コピーボタンが押下されると)、CPU51は複写を実行する。複数枚の連続コピーの場合、或る用紙の印刷の終了から次の用紙の印刷開始までの間に紙間制御を行う。紙間制御とは、ビーム副走査方向位置が所望の位置からずれている場合に、該副走査方向位置の設定値を最小調整量だけ変更する制御を示す。
【0140】
図27は紙間制御動作を示すフローチャートである。CPU51は可動ビームの副走査方向位置を検知し(ST21)、検知した副走査位置が所定範囲内に含まれていない場合、副走査位置を1ステップ移動する(ST23)。この1ステップはガルバノミラー33の最小調整量である。
【0141】
即ちCPU51はガルバノミラー駆動回路39内に設けられたD/A変換器(図示されず)に設定されている値(指示値)を”1”だけ減少あるいは増加する。減少/増加は、検知したビーム副走査位置の所望位置からのずれにより決定される。
【0142】
該D/A変換器は変更された指示値に応じてアナログ出力を変更し、ガルバノミラー駆動回路39aは該アナログ出力を増幅してガルバノミラーに供給する。その結果、ガルバノミラーの角度が1ステップ変化し、可動ビームの副走査方向位置が変更される。このようにして、ガルバノミラーの経時的変化が補正される。連続コピー中、この紙間制御は複数枚のコピーに1回行っても良いし、紙間毎に行っても良い。
【0143】
スタンバイのとき、CPU51は所定時間おきに紙間制御を行う。この紙間制御は上記連続コピー中に行う制御と同一の制御である。即ち数m秒に1度、CPU51はビーム副走査方向位置を検知し、所望の位置からずれている場合、ビーム副走査方向位置の指示値を最小調整量だけ変更する。
【0144】
スタンバイ制御中に、ガルバノミラーのドリフトの影響で可動ビーム位置が目標と差がある場合、従来では図28のようにガルバノの指示値を1stepずつ変え、t1 秒でビーム位置を目標位置付近になるようにしている。しかし本実施例では、図29のように同じ方向に指示値が例えば増加した場合、その次は倍のstep数(図では2step)増加し、更に同じ方向に指示値を増加する場合は更に倍のstep数(図では4step)、というように指示値増加量を大きくしていく。ただし、指示値の変化方向が逆方向(ここでは減少方向)になると再び1stepの変化に戻し、同じ方向に指示値を変える場合は倍のstep数変化させ、更に同じ方向に指示値を変える場合は更に倍というように指示値を変化させる。このようにして、短時間(t2 時間)でビーム位置を目標位置に収束させることができる。
【0145】
つまりCPU51は、前記ビーム通過位置変更部(ガルバノミラー駆動回路39)に増減方向が同一の第1及び第2の指示値を与え、次の第3の指示値の増減方向も前記第1及び第2の指示値と同一の場合、該第3の指示値の増減量を、前記第1の指示値に対する第2の指示値の増減量より大きな値に設定し、前記ビーム通過位置変更部に与える。
【0146】
上記ガルバノミラー制御は、連続コピー中の紙間制御においても同様である。すなわち、連続コピー中CPU51は、このようなガルバノミラー指示値変更を複数枚のコピーに1回、又は紙間毎に行う。
【0147】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、レーザパワーが高い場合でもビーム副走査方向位置を検出し、更に従来より高い精度で該ビーム位置を検知できる光ビーム走査装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態に係るデジタル複写機に関する概略構成図。
【図2】光学系ユニットの構成と感光ドラムの位置関係を示す図。
【図3】光学系の制御を主体にした制御系を示すブロック図。
【図4】ガルバノミラー駆動回路の具体的な回路例を示す構成図。
【図5】光ビーム検知装置出力処理回路の構成ブロック図。
【図6】センサパターンSO,SPの構成及び光ビーム通過位置とセンサパターン出力の積分出力の関係を示した図。
【図7】光ビーム検知装置の構成を概略的に示した図。
【図8】センサパターンSK,SJ,SIの構成及び光ビーム通過位置とセンサパターン出力の積分出力の関係を示した図。
【図9】光ビーム検知装置出力処理回路の構成ブロック図。
【図10】副走査制御を示すフローチャート。
【図11】相対位置制御の具体例を示す図。
【図12】相対位置制御の具体例を示す図。
【図13】相対位置制御の具体例を示す図。
【図14】相対位置制御の具体例を示す図。
【図15】相対位置制御の具体例を示す図。
【図16】センサ出力信号の補正動作を示すタイムチャート。
【図17】制御時のレーザパワーが強い場合の相対位置制御の具体例を示す図。
【図18】制御時のレーザパワーが強い場合の相対位置制御の具体例を示す図。
【図19】制御時のレーザパワーが強い場合の新相対位置制御の具体例を示す図。
【図20】制御時のレーザパワーが強い場合の新相対位置制御の具体例を示す図。
【図21】制御時のレーザパワーが強い場合の新相対位置制御の具体例を示す図。
【図22】基準ピッチに対応する電圧差を求める動作を示すフローチャートである。
【図23】基準ピッチに対応する電圧差が(1)式により表わすことができる理由を説明するための図。
【図24】固定ビームに対して可動ビームの位置を制御する様子を示す図。
【図25】固定ビームに対して可動ビームの位置を制御する様子を示す図。
【図26】固定ビームと可動ビーム間の間隔を42.3μmに制御する相対位置制御を示すフローチャート。
【図27】紙間制御動作を示すフローチャート。
【図28】ガルバノの指示値を1stepずつ変え、t1 秒でビーム位置を目標位置付近に調節する様子を示す図。
【図29】本発明によるガルバノミラーの指示値提供方法を示す図。
【符号の説明】
1…スキャナ部、2…プリンタ部、5…集光レンズ、6…光電変換素子、8…原稿固定用のカバー、9…光源、10、11、12…ミラー、13…レーザ光学系ユニット、15…感光体ドラム、16…帯電器、17…現像器、18…転写チャージャ、19…剥離チャージャ、20…クリーナ
Claims (4)
- 光ビームを発生するビーム発生器と、
前記ビーム発生手段から発生される光ビームを被走査面へ向けて反射し、前記光ビームにより前記被走査面を主走査方向に走査する光ビーム走査手段と、
前記光ビーム走査手段により走査される光ビームの通過位置を変更する光ビーム通過位置変更手段と、
前記光ビームの走査方向と直交する副走査方向のビーム通過位置変化に対してその検知結果出力が連続的に変化する通過位置検知手段と、
前記光ビームの通過位置が目標通過位置と一致していない場合、光ビームの通過位置が目標位置になるように、前記光ビーム通過位置変更手段の指示値を変更する光ビーム通過位置制御手段と、を具備し、
前記光ビーム通過位置制御手段は、前回と同じ方向に指示値を変更する場合、前回前記光ビーム通過位置変更手段に指示した変更量よりも大きい変更量を前記光ビーム通過位置変更手段に指示することを特徴とする光ビーム走査装置。 - 前記光ビーム通過位置変更手段によって変更された光ビームの通過位置が目標通過位置を超えていたならば、前記ビーム通過位置制御手段は、前回前記光ビーム通過位置変更手段に指示した移動方向とは逆の方向で、前回前記光ビーム通過位置変更手段に指示した変更量未満で最小増減量以上の変更量を指示することを特徴とする請求項1記載の光ビーム走査装置。
- 請求項1又は2に記載の光ビーム走査装置と、
前記光ビーム走査装置から出力された前記光ビームにより静電潜像が形成される感光体と、
前記感光体に形成された静電潜像を現像する現像手段と、
前記現像手段によって現像されたトナー像を用紙に転写する転写手段を備えることを特徴にする画像形成装置。 - 請求項1又は2記載の光ビーム走査装置と、
前記光ビーム走査装置から出力された前記光ビームにより静電潜像が形成される感光体と、
前記感光体に形成された静電潜像を現像する現像手段と、
前記現像手段によって現像されたトナー像を用紙に転写する転写手段を備え、
前記通過位置制御手段はスタンバイ状態または複数枚の連続コピー中にビーム通過位置制御を行うことを特徴にする画像形成装置。
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