JP2000174414A - 配線基板の製造方法 - Google Patents

配線基板の製造方法

Info

Publication number
JP2000174414A
JP2000174414A JP10346965A JP34696598A JP2000174414A JP 2000174414 A JP2000174414 A JP 2000174414A JP 10346965 A JP10346965 A JP 10346965A JP 34696598 A JP34696598 A JP 34696598A JP 2000174414 A JP2000174414 A JP 2000174414A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wiring board
reinforcing plate
main surface
bonding
jig
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP10346965A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3100949B2 (ja
Inventor
Seiji Mori
聖二 森
Takuya Hanto
琢也 半戸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Niterra Co Ltd
Original Assignee
NGK Spark Plug Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NGK Spark Plug Co Ltd filed Critical NGK Spark Plug Co Ltd
Priority to JP10346965A priority Critical patent/JP3100949B2/ja
Publication of JP2000174414A publication Critical patent/JP2000174414A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3100949B2 publication Critical patent/JP3100949B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16225Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73253Bump and layer connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/153Connection portion
    • H01L2924/1531Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
    • H01L2924/15311Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a ball array, e.g. BGA

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 補強板と配線基板本体との接着を減圧下で行
い、ハンダバンプを平坦化する配線基板の製造方法。 【解決手段】 接着治具11の接着平面11A上に、接
着シート10Aを介して重ねた配線基板本体6及び補強
板2と、バンプ平坦化治具13とを配置し、これらを柔
軟シート14で覆い、柔軟シートと接着治具とで包囲し
た空間を減圧して柔軟シートにより加圧しつつ、加熱し
て、第1主面と第2補強板主面とを接着させるととも
に、この加圧により配線基板本体のハンダバンプ8の頂
部を平坦化する。このため、接着層中の気泡の発生が抑
制され、接着信頼性が高く、接着と平坦化を同時に行え
るので、作業を簡略化することができ、また、配線基板
1の反りやハンダバンプの頂部がなすコポラナリティを
小さくすることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、配線基板本体と補
強板とを備える配線基板の製造方法に関し、特に、減圧
により生じる遮蔽体の加圧力を利用し、加熱して配線基
板本体と補強板とを接着する工程、または、これらを接
着するとともに配線基板本体に形成されたハンダバンプ
を平坦化する工程を備える配線基板の製造方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来より、配線基板本体の主面上に、補
強板を接着した配線基板が知られている。この補強板、
いわゆるスティフナーは、配線基板の剛性を向上させ、
その平坦性を維持するために用いられている。このよう
な配線基板のうち、フリップチップ型の集積回路チップ
を搭載する配線基板101について、図7にその断面図
を示す。この配線基板101は、集積回路チップ111
に対応する透孔103が形成された補強板102と、複
数の電極パッド109及び集積回路チップ111の端子
112に対応する複数の接続パッド107が配置された
配線基板本体106と、集積回路チップ111とを備え
る。補強板102と配線基板本体106とは、接着層1
10を介して接着されている。また、集積回路チップ1
11は、配線基板本体106の接続パッド107と集積
回路チップ111の端子112とをハンダ108Aを介
して接続することにより、配線基板本体106に搭載さ
れている。
【0003】このような配線基板101は、次のように
して製造する。即ち、図8(a)に示すように、配線基
板本体106を用意し、所定の位置に接着シート110
Aを載置し、さらに、その上に位置合わせをして補強板
102を載置する。次に、図8(b)に示すように、補
強板102の上に錘WTを載せ、加熱圧着して、接着層
110を介して補強板102を配線基板本体106に接
着する。次に錘WTを取り除いた後、図8(c)に示す
ように、配線基板本体106のハンダバンプ108上に
平坦化治具PTを載置し、プレスで加圧して、ハンダバ
ンプ108の頂部を平坦化する。次に平坦化治具PTを
取り除くと、図8(d)に示す配線基板ができる。さら
に、集積回路チップ111をハンダバンプ108上に載
置し、これを加熱してハンダを溶解させて集積回路チッ
プ111と配線基板本体106とを接続すると、図7に
示す配線基板101が完成する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うにして配線基板101を製造すると、補強板102と
配線基板本体106とを接着する接着層110の中に気
泡が残り、接着強度や気密性が低下するなど接着信頼性
が低い。また、補強板102を配線基板本体106に接
着する作業と、配線基板本体106のハンダバンプ10
8を平坦化する作業とを別々に行うために手間がかか
る。更には、錘WTを載せて接着し、あるいは平坦化治
具PTを載せてプレスして平坦化を行うと、荷重が均一
にかからず、配線基板101に大きな反りや歪みが生じ
たり、ハンダバンプ108の頂部がなすコポラナリティ
が大きくなってしまうことがあった。
【0005】本発明はかかる現状に鑑みてなされたもの
であって、補強板と配線基板本体との接着を減圧下で行
い、これとともに、配線基板本体に形成されたハンダバ
ンプを平坦化することで、接着信頼性を向上させ、作業
を簡略化することができ、かつ、配線基板の反りやハン
ダバンプの頂部がなすコポラナリティを小さくすること
のできる配線基板の製造方法を提供することを目的とす
る。
【0006】
【課題を解決するための手段、作用及び効果】その解決
手段は、第1主面及び第2主面を有する配線基板本体の
上記第1主面と、第1補強板主面及び第2補強板主面を
有する補強板の上記第2補強板主面と、を接着した配線
基板の製造方法であって、接着治具の接着平面上に、上
記配線基板本体及び上記補強板を、上記第1主面と上記
第2補強板主面とを接着材を介して重ねた状態に配置す
る配置工程と、上記配線基板本体及び補強板を遮蔽体で
覆い、この遮蔽体と上記接着治具とで上記配線基板本体
及び補強板を包囲する包囲工程と、上記遮蔽体と上記接
着治具とで囲まれた空間を減圧して上記遮蔽体により加
圧しつつ、加熱して、上記第1主面と上記第2補強板主
面とを接着させる接着工程と、を備えることを特徴とす
る配線基板の製造方法である。
【0007】本発明によれば、遮蔽体と接着治具とで包
囲された空間に配線基板本体及び補強板を配置し、この
空間を減圧し、減圧によって生じる遮蔽体の加圧力を利
用して、配線基板本体と補強板とを接着する。このよう
に減圧下で接着するので、配線基板本体と補強板との間
に閉じ込められた気泡を脱泡しながら、接着材を加熱硬
化させることができる。このため、接着後の配線基板本
体と補強板との間の接着材(接着層)中には、気泡が残
らないので、気密性が良く、配線基板本体と補強板との
接着強度が高い。また、減圧することにより、遮蔽体全
体に均一に加圧力が生じるので、従来のように錘を載せ
て加圧するのに比べて、配線基板本体及び補強板を均一
に加圧することができる。このため、接着後の配線基板
の反り等の変形を抑制することができる。
【0008】さらに好ましくは、減圧後、接着材の硬化
が始まる温度以下の予備加熱をした後に硬化させると良
い。接着材から出る溶剤等のアウトガスにより、補強板
等に施された金メッキ等のメッキが変色するのを防止で
きるからである。
【0009】ここで、配線基板本体としては、絶縁層と
配線層とを有するものであれば良く、例えば、コア基板
の片面あるいは両面に絶縁層と配線層とを交互に複数層
積層した積層配線基板等が挙げられる。配線基板本体に
は、その第1、第2主面上に集積回路チップやその他の
電子部品等を接続するための接続パッドやハンダバンプ
等の端子が形成されていても良い。また、配線基板を他
のプリント配線基板に接続するための接続パッドやハン
ダバンプ等の端子が形成されていても良いし、またピン
が立設されていても良い。
【0010】補強板としては、剛性、熱膨張率等を考慮
してその材質を適宜選択すれば良いが、例えば、銅、銅
合金、アルミニウム、ステンレス等の金属板の他、樹脂
板などが挙げられる。また、補強板には、集積回路チッ
プその他の電子部品を搭載するために、それらに対応し
た透孔が形成されていても良い。接着材としては、補強
板及び配線基板本体との接着性や熱膨張率等を考慮して
選択すれば良く、エポキシ樹脂やポリイミド樹脂などの
ペースト状の接着剤を用いても良いし、これらの樹脂を
ガラス繊維や連続多孔質PTFE等の三次元網目状フッ
素系樹脂基材に含浸させたフィルム状のものを利用して
も良い。配線基板としては、配線基板本体と補強板とを
備える他、集積回路チップやその他の電子部品を搭載し
たものをも含む。さらに、これらの電子部品は配線基板
に複数個搭載されていても良い。
【0011】接着治具としては、接着材を介して重ねた
配線基板本体及び補強板が配置される接着平面を有し、
遮蔽体と接着治具とで包囲して減圧可能な空間ができる
ものであれば良い。また、遮蔽体としては、耐熱性があ
り、空気を通さず、接着治具とで包囲する空間を減圧で
きるものであれば良いが、好ましくは、ゴムや樹脂など
からなる柔軟な材質を用いると良い。減圧による加圧力
を配線基板本体や補強板等に均一に伝えられるからであ
る。
【0012】ここで、配置工程では、予め配線基板本体
と補強板とを接着材を介して重ねておき、これを接着治
具の接着平面に配置すれば良い。また、接着平面上に配
線基板本体を配置し、接着材を塗布あるいは載置し、さ
らに補強板を重ねても良く、あるいは、補強板を先に配
置し、接着材を塗布あるいは載置し、さらに配線基板本
体を重ねても良い。
【0013】さらに、上記の配線基板の製造方法であっ
て、前記遮蔽体は柔軟シートであることを特徴とする配
線基板の製造方法とすると良い。
【0014】本発明によれば、例えば、柔軟な樹脂やシ
リコンゴムなどの材料からなる柔軟シートを遮蔽体とし
て用いる。接着工程において、接着材を介して重ねた配
線基板本体及び補強板が、柔軟シートによって加圧され
るとき、柔軟シートは、硬質なシートに比べ、配線基板
本体または補強板と高い密着性をもって接する。このた
め、配線基板本体または補強板をより均一に加圧するこ
とができるので、接着後の配線基板の変形がより生じ難
くなり、接着信頼性もより高くなる。さらに、このよう
な柔軟シートを用いれば、柔軟シートと接着治具とで囲
まれた空間を減圧する際に、その空間の気密性を高くし
易いので、接着工程を容易に、また、確実に行うことが
できる。
【0015】さらに、上記の配線基板の製造方法であっ
て、前記補強板は、前記第1補強板主面と前記第2補強
板主面との間を貫通する透孔を有し、前記配置工程は、
前記配線基板本体の第2主面が前記接着治具の接着平面
に接するように上記配線基板本体及び補強板を配置し、
前記包囲工程は、上記補強板の第1補強板主面を前記柔
軟シートで覆って上記配線基板本体及び補強板を包囲す
ることを特徴とする配線基板の製造方法とすると良い。
【0016】配置工程において、例えば、接着治具の接
着平面に透孔を有する補強板が接し、接着材を介してそ
の上に配線基板本体が重なるように配置すると、接着平
面と配線基板本体との間に補強板が存在しない空間(つ
まり、透孔による空間)ができる。このような空間があ
ると、接着工程において、配線基板本体のうち補強板が
接着されない部分(つまり透孔に対応した部分)では、
柔軟シートから受ける圧力を補強板で支えることができ
ない。このため、配線基板本体が変形し、接着後の配線
基板に大きな反りや歪みが生じ易い。
【0017】これに対し本発明では、配置工程におい
て、接着治具の接着平面上に配線基板本体が接し、接着
材を介してその上に透孔を有する補強板が重なるように
配置される。そして、接着工程では、一方で、柔軟シー
トが補強板の第1補強板主面と透孔内に露出した配線基
板本体の第1主面とを均一に加圧し、他方で、接着治具
の接着平面が配線基板本体全体をその第2主面側から支
持する。このため、配線基板本体のうち補強板が接着さ
れない部分は、柔軟シートから加圧されても接着平面に
よって支えられているので変形し難い。従って、接着後
の配線基板に反り等の変形が生じ難く、接着信頼性が高
い。
【0018】さらに、上記の配線基板の製造方法であっ
て、前記配置工程は、前記配線基板本体及び補強板を前
記接着治具の接着平面上に配置するとともに、バンプ平
坦化面を有するバンプ平坦化治具を、上記配線基板本体
の第1主面上に形成され前記透孔内に露出する複数のバ
ンプ上に、上記バンプ平坦化面を当接させて配置し、前
記包囲工程は、上記補強板の第1補強板主面及び上記平
坦化治具を前記柔軟シートで覆い、前記接着工程は、上
記配線基板本体の第1主面と上記補強板の第2補強板主
面とを接着させるとともに、上記柔軟シートの加圧によ
り上記バンプ平坦化治具のバンプ平坦化面で上記複数の
ハンダバンプの頂部を平坦化する接着・平坦化工程であ
ることを特徴とする配線基板の製造方法とすると良い。
【0019】本発明によれば、柔軟シートの加圧によ
り、配線基板本体と補強板とを接着すると同時に、配線
基板本体に形成されたハンダバンプの頂部を平坦化する
ことができる。従って、従来別々に行っていた作業を一
度に行うことができるので、作業を簡略化することがで
きる。更に、従来のように錘を載せて接着し、あるいは
平坦化治具を載せてプレスして平坦化を行うよりも、接
着後の配線基板に生じる反り等の変形が抑制され、ま
た、均一に加圧できるため、ハンダバンプの頂部がなす
コポラナリティも小さくすることができる。
【0020】ここで、バンプ平坦化治具については、バ
ンプ平坦化面を有し、このバンプ平坦化面をハンダバン
プに当接させるように配置できる形状であれば良く、そ
の材質については、ハンダバンプ平坦化の際、ハンダバ
ンプと接着しない材質であれば良く、ガラス、ステンレ
ス等の金属、セラミックなどが挙げられる。
【0021】さらに、上記の配線基板の製造方法であっ
て、前記平坦化治具は、前記柔軟シートに接するシート
当接平面を有し、前記配置工程において前記ハンダバン
プ上に配置したときに、上記シート当接平面が上記補強
板の第1補強板主面と略面一となる厚さを有することを
特徴とする配線基板の製造方法とすると良い。
【0022】本発明によれば、配置工程において、配線
基板本体、補強板及びバンプ平坦化治具を配置すると、
補強板の第1補強板主面とバンプ平坦化治具のシート当
接平面とが略面一になって段差ができない。このように
段差がないと、接着工程において、柔軟シートは、第1
補強板主面をその縁まで均一に全面を加圧し、同様に、
シート当接面をその縁まで均一に加圧する。このため、
接着後の配線基板の反りや歪みなどの変形が特に生じ難
く、接着信頼性が特に高い。また、平坦化されたハンダ
バンプの頂部のなすコポラナリティもより小さくするこ
とができる。
【0023】
【発明の実施の形態】(実施形態1)以下、本発明の実
施の形態を、図を参照しつつ説明する。本実施形態で製
造する配線基板1について、図1(a)に拡大断面図を
示し、図1(b)に補強板2の第1補強板主面2A側か
ら見た平面図を示す。この配線基板1は、平面視40×
40mmの略口字形の板状であり、補強板2と配線基板
本体6と備える。補強板2と配線基板本体6とは、補強
板2の第2補強板主面と配線基板本体6の第1主面と
が、連続多孔質PTFE基材にエポキシ樹脂を含浸させ
た複合材からなる接着層10を介して接着されている。
【0024】このうち補強板2は、厚さ0.7mmの銅
板からなり、第1補強板主面2Aと第2補強板主面2B
とを有する40×40mmの略正方形の板状である。そ
の略中央には、搭載するフリップチップ型集積回路チッ
プ(図示しない)に対応して、第1補強板主面2Aと第
2補強板主面2Bとの間を貫通し、15×15mmの略
正方形状の透孔3が形成されている。また、補強板2の
表面には、ニッケルメッキ及び金メッキ(図示しない)
が形成されている。
【0025】一方、配線基板本体6は、第1主面6Aと
第2主面6Bとを有する40×40mmの略正方形の板
状で、その第1主面6A側には、搭載する集積回路チッ
プの端子に対応して、直径φ115μmの接続パッド7
が略格子状に多数配置され、各々の接続パッド7には、
共晶ハンダからなるハンダバンプ8が形成されている。
これらのハンダバンプ8は、図1(b)に示すように、
補強板2の透孔3内に露出するように配置されている。
また、これらのハンダバンプ8の頂部8Aは、後述する
バンプ平坦化治具によって、平坦化されている。また、
第2主面6B側には、多数の電極パッド9が形成されて
いる。また、この配線基板本体6は、連続多孔質PTF
E基材にエポキシ樹脂を含浸させた複合材からなる樹脂
絶縁層、及び配線層(図示しない)が複数層積層された
ものである。
【0026】次に、この配線基板1の製造方法につい
て、図2乃至図5を参照しつつ説明する。まず、補強板
2の第2補強板主面2Bの所定の位置にフィルム状の接
着シート10Aを、100〜120℃で仮接着してお
き、配置工程において、図2に示すように、この接着シ
ート10Aを貼り付けた補強板2を、公知の手法によっ
て製作された上記の配線基板本体6の第1主面6A上
に、位置合わせをして載置する。
【0027】次に、図3に示すように、この接着シート
10Aを介して重ねた補強板2及び配線基板本体6を、
配線基板本体6の第2主面6Bが接着治具11の接着平
面11Aに接するようにして、接着平面11A上に載置
する。この接着治具11は、接着平面を底面とした凹部
11Rを有し、その側壁11Bには、後述する接着・平
坦化工程において、接着治具11と柔軟シートで包囲し
た空間を減圧するための排気管12が形成されている。
【0028】次に、配線基板本体6に形成されたハンダ
バンプ8の頂部に当接するように、バンプ平坦化治具1
3を補強板2の透孔3内に載置する。このバンプ平坦化
治具13は、透孔3の断面よりも若干小さい略正方形の
板状であり、接着・平坦化工程において、ハンダバンプ
8と接着しないようにガラスによって作られている。ま
た、平坦化治具13のうち、ハンダバンプ8の頂部と当
接するバンプ平坦化面13B(図中下面)は、平面とな
っている。また、次述する包囲工程で柔軟シートに接す
るシート当接平面13A(図中上面)は、バンプ平坦化
面13Bと平行で、バンプ平坦化治具13を透孔3内に
載置したとき、補強板2の第1補強板主面2Aと略面一
となるように、バンプ平坦化治具13の厚さが選択され
ている。
【0029】次に、包囲工程において、図4に示すよう
に、補強板2の第1補強板主面2A及びバンプ平坦化治
具13のシート当接面13Aの全面をシリコンゴムから
なる厚さ1.0mmの柔軟シート14で覆い、この柔軟
シート14と接着治具11とによって、接着シート10
Aを介して重ねた補強板2及び配線基板本体6と、バン
プ平坦化治具13とを包囲する。
【0030】次に、接着・平坦化工程において、図5に
示すように、排気管12から柔軟シート14と接着治具
11とで囲まれた空間を減圧する。そして、減圧下で、
100℃、30分間の予備加熱を行った後、170℃、
60分間加熱して接着シート10Aを硬化させ、減圧に
よる柔軟シートからの加圧を利用しつつ、補強板2と配
線基板本体6とを接着する。このとき、同時に、ハンダ
バンプ8の頂部は、柔軟シート14からの加圧によりバ
ンプ平坦化治具13のバンプ平坦化面13Bによって平
坦化される。その後、柔軟シート14やバンプ平坦化治
具13を取り除くと、図1に示す配線基板1が完成す
る。
【0031】なお、本実施形態では、170℃での加熱
硬化に先立ち、減圧下(真空)での予備加熱を施した。
これは、接着材から発生する溶剤等のアウトガスによっ
て補強板2及び配線基板本体6の表面の配線層等に施さ
れた金メッキ層が変色するのが防止できるからである。
減圧下での予備加熱温度は、接着材の硬化が始まる温度
以下で、さらに好ましくはそのうちで高めの温度で適宜
行えば良いが、本実施形態の接着材は140℃以上で硬
化が始まるため、予備加熱の温度を100℃とした。
【0032】本実施形態の製造方法により製造した上記
配線基板1について、接着層10中の気泡の発生、配線
基板1の反りや歪み、及びハンダバンプ8の頂部がなす
コポラナリティを調査した。なお、接着層10中の気泡
の発生については、製造した配線基板1の補強板2と配
線基板本体6とを剥がして、接着層10の接着面積のう
ち、気泡の面積が5%以下のものは合格とした。比較形
態として、本実施形態と同様の補強板2や配線基板本体
6等を用いて、前述した従来の方法によって製造した配
線基板についても同様に測定した。測定試料数は、各2
0ヶである。その測定結果をまとめて表1に示す。
【0033】
【表1】
【0034】上記表1から判るように、まず、接着層1
0中の気泡の発生については、比較形態では、測定試料
20ヶ中12ヶに5%以上の面積で気泡が発生していた
のに比べ、本実施形態の配線基板11は、いずれの試料
も気泡の面積が5%以下に抑えられている。これは、本
実施形態では、減圧下で接着するので、配線基板本体6
と補強板2との間に閉じこめられた気泡を脱泡しなが
ら、接着材(接着シート10A)を加熱硬化させること
ができるためである。従って、このようにして製造した
配線基板は、補強板と配線基板本体との接着強度や気密
性を高くすることができる。
【0035】次に、配線基板の反りや歪みについては、
比較形態に比べ、本実施形態の配線基板1では、3分の
1程度に抑えられている。これは、減圧により生じる柔
軟シート14の加圧が、柔軟シート14全体に均一に発
生するので、比較形態のように錘を載せて加圧するのに
比べて、補強板2の第1補強板主面2Aを均一に加圧す
ることができるためであり、その結果、配線基板1の反
り等の変形が抑制されると考えられる。
【0036】次に、ハンダバンプ8の頂部がなすコポラ
ナリティについては、比較形態に比べ、本実施形態の配
線基板1では、2分の1以下に抑えられている。これ
は、上記した理由と同様に、本実施形態では、減圧によ
り生じる柔軟シート14の加圧が、柔軟シート14全体
に均一に発生するので、比較形態のようにバンプ平坦化
治具を載せてそれをプレスするのに比べて、バンプ平坦
化治具13を均一に加圧することができるためである。
その結果、ハンダバンプの頂部がなすコポラナリティが
抑制されると考えられる。
【0037】以上で説明したように、本発明の配線基板
の製造方法によって作られた配線基板1は、補強板2と
配線基板本体6とを接着する接着層10中の気泡の発生
が抑制され、接着信頼性が高い。さらに、この接着とハ
ンダバンプ8の頂部の平坦化とを同時に行えるので、作
業を簡略化することができる。また、配線基板1の反り
やハンダバンプ8の頂部がなすコポラナリティを小さく
することができる。
【0038】なお、本実施形態では配置工程において、
予め補強板2に接着シート10Aを仮接着したものを、
配線基板本体6に載置しているが、配線基板本体6上
に、接着シート10Aと補強板2とを順に重ねても良
い。ただし、本実施形態のようにすると、補強板2、接
着シート10A及び配線基板本体6の位置合わせが容易
になるので好適である。また、接着材のはみ出しを防止
するために、接着シート10Aは補強板2の外形よりも
少し引き下がった形状のものを用いると良い。さらに、
本実施形態のように、配線基板本体6の絶縁層と近似し
た材質の接着シート10Aを用いると、これらの間で熱
膨張率等が適合するので好ましい。また、接着シート1
0Aの代わりにペースト状の接着剤を用いても良い。
【0039】また、本実施形態では、配置工程におい
て、配線基板本体6の第2主面6Bが接着治具11の接
着平面11Aに接するように、補強板2及び配線基板本
体6が配置されるが、ハンダバンプ平坦化を別途行う場
合には、これに限らず、配線基板本体6の第1主面6A
が接着治具11の接着平面11Aに接するようにこれら
を配置しても良い。ただし、そのようにすると、接着・
平坦化工程において、柔軟シート14から受ける圧力に
より、配線基板本体6のうち補強板2が接着されない部
分(つまり透孔3に対応した部分)が変形し、接着後の
配線基板1に大きな反りや歪みが生じ易いので、本実施
形態のようにして配置するのが好ましい。
【0040】また、本実施形態では、バンプ平坦化治具
13は、配置工程において、補強板2の第1補強板主面
2Aとシート当接面13Aとが略面一となる厚さとされ
ているが、これに限らず、第1補強板主面2Aとシート
当接面13Aとを略面一としなくても平坦化は可能であ
る。ただし、両者による段差がないと、接着工程におい
て、柔軟シート14が、第1補強板主面2A及びシート
当接面13Aの全面をそれらの縁まで均一に加圧するこ
とができ、接着信頼性などが向上するので好ましい。
【0041】また、本実施形態では、包囲工程におい
て、補強板2の第1補強板主面2Aとバンプ平坦化治具
13のシート当接面13Aとを覆う遮蔽体として、シリ
コンゴムからなる柔軟シート14を用いているが、これ
に限らず、柔軟な樹脂やそれ以外のものを用いても良
い。だだし、柔軟なシートを用いた方が、減圧したとき
に、硬質なシートに比べて、第1補強板主面2Aやシー
ト当接面13Aとの密着性が高いので、配線基板本体6
やバンプ平坦化治具13をより均一に加圧することがで
き、接着信頼性などが向上するので好ましい。また、柔
軟シート14と接着治具11とで囲まれた空間の気密性
を高くし易いので好ましい。
【0042】(実施形態2)次いで、第2の実施の形態
について説明する。本実施形態は、上記実施形態1とバ
ンプ平坦化治具のみ異なるので、同様な部分の説明は省
略または簡略化する。本実施形態に係る配線基板の製造
方法について、接着・平坦化工程のみを図6に示す。本
実施形態で製造する配線基板21は、図1に示す実施形
態1の配線基板1と同様であるので、補強板や配線基板
本体などについても同様である。
【0043】本実施形態の配線基板21の製造方法につ
いて説明する。図2及び図3に示すように、まず、補強
板2の第2補強板主面2B上の所定の位置に接着シート
10Aを仮接着しておき、配置工程において、これを配
線基板本体6上に載置する。次に、この重ねた補強板2
及び配線基板本体6を、実施形態1と同様の接着治具1
1の接着平面11A上に載置する。次に、配線基板本体
6に形成されたハンダバンプ8の頂部に当接するよう
に、バンプ平坦化治具23を補強板2の透孔3内に載置
する。
【0044】このバンプ平坦化治具23は、ステンレス
からなり、図6に示すように、バンプ平坦化面23B
(図中下面)の周縁に突起(足)24が形成された足付
バンプ平坦化治具である。この突起24の高さは、後述
する接着・平坦化工程で平坦化するときの配線基板本体
6の第1主面6Aからハンダバンプ8頂部までの高さの
規格の下限値と略一致する。平坦化治具23のバンプ平
坦化面23Bは、平面となっている。また、シート当接
平面23A(図中上面)が、実施形態1と同様に、バン
プ平坦化治具23を透孔3内に載置したとき、補強板2
の第1補強板主面2Aと略面一となるように、バンプ平
坦化治具23の厚さが考慮してある。
【0045】次に、包囲工程において、実施形態1と同
様に、補強板2の第1補強板主面2Aとバンプ平坦化治
具23のシート当接面23Aとを柔軟シート14で覆
い、バンプ平坦化治具13とで包囲する。次に、接着・
平坦化工程において、図6に示すように、柔軟シート1
4と接着治具11とで囲まれた空間を減圧し、加熱し
て、減圧による柔軟シートからの加圧によって、補強板
2と配線基板本体6とを接着する。これとともに、ハン
ダバンプ8の頂部を、バンプ平坦化治具23のバンプ平
坦化面23Bによって平坦化する。このようにして、配
線基板21が完成する。
【0046】本実施形態では、接着・平坦化工程におい
て、バンプ平坦化治具23がハンダバンプ8の頂部を平
坦化したとき、予定よりも大きくハンダバンプ8が潰れ
ても、バンプ平坦化治具23の突起24が支えて、その
高さよりも小さく潰れることはない。従って、ハンダバ
ンプ8の平坦化の際、配線基板本体6の第1主面6Aか
らハンダバンプ8頂部までの高さを確実に確保すること
ができるという利点がある。
【0047】以上において、本発明を各実施形態に即し
て説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるもの
ではなく、その要旨を逸脱しない範囲で、適宜変更して
適用できることはいうまでもない。例えば、上記各実施
形態では、配置工程においては、補強板2と配線基板本
体6とを重ねた後に、接着治具11にこれらを載置し、
その後バンプ平坦化治具13を配置しているが、これら
の配置方法についてはこれに限らず、例えば、接着治具
11に配線基板本体6を配置し、それに補強板2を重ね
て、その後バンプ平坦化治具13を配置しても良いし、
配線基板本体6にバンプ平坦化治具13を配置した後
に、補強板2を重ねても良い。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施形態1に係り、配線基板を示す図であり、
(a)は拡大断面図を示し、(b)は補強板の第1補強
板主面から見た平面図を示す。
【図2】実施形態1に係る配線基板の製造方法を示す図
であり、配線基板本体に接着シートを介して補強板を重
ねた状態を示す。
【図3】実施形態1に係る配線基板の製造方法を示す図
であり、配置工程で、補強板、配線基板本体及びバンプ
平坦化治具を接着治具に配置した状態を示す。
【図4】実施形態1に係る配線基板の製造方法を示す図
であり、包囲工程で、柔軟シートで覆い、接着治具とで
包囲した状態を示す。
【図5】実施形態1に係る配線基板の製造方法を示す図
であり、接着・平坦化工程で、補強板と配線基板本体と
を接着し、ハンダバンプの頂部を平坦化した状態を示
す。
【図6】実施形態2に係る配線基板の製造方法を示す図
であり、接着・平坦化工程で、補強板と配線基板本体と
を接着し、ハンダバンプの頂部を平坦化した状態を示
す。
【図7】従来技術に係り、補強板を有する配線基板の拡
大断面図を示す。
【図8】従来方法に係る配線基板の製造方法を示す図で
あり、(a)は配線基板本体に接着シートを介して補強
板を載置した状態を示し、(b)は補強板の上に錘を載
せて接着シートを加熱硬化させた状態を示す図であり、
(c)はハンダバンプ上にバンプ平坦化治具を載置した
状態を示し、(d)はハンダバンプの頂部を平坦化した
配線基板を示す。
【符号の説明】
1,21 配線基板 2 補強板 2A 第1補強板主面 2B 第2補強板主面 3 透孔 6 配線基板本体 6A 第1主面 6B 第2主面 7 接続パッド 8 ハンダバンプ 8A (ハンダバンプの)頂部 10A 接着シート 10 接着層 11 接着治具 11A 接着平面 13,23 バンプ平坦化治具 13A,23A シート当接平面 13B,23B バンプ平坦化面 14 柔軟シート
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5E338 AA01 BB03 BB19 BB28 BB72 BB75 CC01 CD03 CD33 EE21 EE26 EE32 5F044 KK03 KK10 KK16 MM08 MM16 MM31 MM48

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1主面及び第2主面を有する配線基板
    本体の上記第1主面と、第1補強板主面及び第2補強板
    主面を有する補強板の上記第2補強板主面と、を接着し
    た配線基板の製造方法であって、 接着治具の接着平面上に、上記配線基板本体及び上記補
    強板を、上記第1主面と上記第2補強板主面とを接着材
    を介して重ねた状態に配置する配置工程と、 上記配線基板本体及び補強板を遮蔽体で覆い、この遮蔽
    体と上記接着治具とで上記配線基板本体及び補強板を包
    囲する包囲工程と、 上記遮蔽体と上記接着治具とで囲まれた空間を減圧して
    上記遮蔽体により加圧しつつ、加熱して、上記第1主面
    と上記第2補強板主面とを接着させる接着工程と、を備
    えることを特徴とする配線基板の製造方法。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の配線基板の製造方法で
    あって、 前記遮蔽体は柔軟シートであることを特徴とする配線基
    板の製造方法。
  3. 【請求項3】 請求項2に記載の配線基板の製造方法で
    あって、 前記補強板は、前記第1補強板主面と前記第2補強板主
    面との間を貫通する透孔を有し、 前記配置工程は、前記配線基板本体の第2主面が前記接
    着治具の接着平面に接するように上記配線基板本体及び
    補強板を配置し、 前記包囲工程は、上記補強板の第1補強板主面を前記柔
    軟シートで覆って上記配線基板本体及び補強板を包囲す
    ることを特徴とする配線基板の製造方法。
  4. 【請求項4】 請求項3に記載の配線基板の製造方法で
    あって、 前記配置工程は、前記配線基板本体及び補強板を前記接
    着治具の接着平面上に配置するとともに、バンプ平坦化
    面を有するバンプ平坦化治具を、上記配線基板本体の第
    1主面上に形成され前記透孔内に露出する複数のバンプ
    上に、上記バンプ平坦化面を当接させて配置し、 前記包囲工程は、上記補強板の第1補強板主面及び上記
    平坦化治具を前記柔軟シートで覆い、 前記接着工程は、上記配線基板本体の第1主面と上記補
    強板の第2補強板主面とを接着させるとともに、上記柔
    軟シートの加圧により上記バンプ平坦化治具のバンプ平
    坦化面で上記複数のハンダバンプの頂部を平坦化する接
    着・平坦化工程であることを特徴とする配線基板の製造
    方法。
  5. 【請求項5】 請求項4に記載の配線基板の製造方法で
    あって、 前記平坦化治具は、前記柔軟シートに接するシート当接
    平面を有し、前記配置工程において前記ハンダバンプ上
    に配置したときに、上記シート当接平面が上記補強板の
    第1補強板主面と略面一となる厚さを有することを特徴
    とする配線基板の製造方法。
JP10346965A 1998-12-07 1998-12-07 配線基板の製造方法 Expired - Fee Related JP3100949B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10346965A JP3100949B2 (ja) 1998-12-07 1998-12-07 配線基板の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10346965A JP3100949B2 (ja) 1998-12-07 1998-12-07 配線基板の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000174414A true JP2000174414A (ja) 2000-06-23
JP3100949B2 JP3100949B2 (ja) 2000-10-23

Family

ID=18387020

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10346965A Expired - Fee Related JP3100949B2 (ja) 1998-12-07 1998-12-07 配線基板の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3100949B2 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002217519A (ja) * 2001-01-16 2002-08-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd プリント配線板の製造方法
JP2009081356A (ja) * 2007-09-27 2009-04-16 Shinko Electric Ind Co Ltd 配線基板の製造方法及び配線基板
JP2011159666A (ja) * 2010-01-29 2011-08-18 Ngk Spark Plug Co Ltd 補強材付き配線基板の製造方法
CN110221523A (zh) * 2018-03-01 2019-09-10 奥特斯科技(重庆)有限公司 用于曝光机的板件的保持装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002217519A (ja) * 2001-01-16 2002-08-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd プリント配線板の製造方法
JP4639473B2 (ja) * 2001-01-16 2011-02-23 パナソニック株式会社 プリント配線板の製造方法
JP2009081356A (ja) * 2007-09-27 2009-04-16 Shinko Electric Ind Co Ltd 配線基板の製造方法及び配線基板
JP2011159666A (ja) * 2010-01-29 2011-08-18 Ngk Spark Plug Co Ltd 補強材付き配線基板の製造方法
CN110221523A (zh) * 2018-03-01 2019-09-10 奥特斯科技(重庆)有限公司 用于曝光机的板件的保持装置
CN110221523B (zh) * 2018-03-01 2021-09-24 奥特斯科技(重庆)有限公司 用于曝光机的板件的保持装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP3100949B2 (ja) 2000-10-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI400774B (zh) 半導體裝置及其製造方法
JP4663184B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP5198265B2 (ja) 薄型可撓性基板の平坦な表面を形成する装置及び方法
JP4846633B2 (ja) 部品内蔵基板の製造方法
JP2003282819A (ja) 半導体装置の製造方法
JP2011258739A (ja) プリント配線板の接続構造、配線板接続体、電子機器及び配線板接続体の製造方法
JP3100949B2 (ja) 配線基板の製造方法
JPH10275826A (ja) 半導体装置およびその製造方法
CN107851632A (zh) 用于制造半导体器件的方法及相应的器件
JP4057875B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP3637438B2 (ja) 配線基板の製造方法
JP3509642B2 (ja) 半導体装置の実装方法および実装構造
JP2000022329A (ja) 配線基板および電子ユニットおよび電子部品実装方法
JP5414336B2 (ja) 電子部品
JP3563637B2 (ja) 半導体装置とその製造方法
JP4436931B2 (ja) 配線基板の製造方法
JP3387016B2 (ja) 配線基板の製造方法、接着シート片付補強板及びその製造方法
JP2000150577A (ja) 配線基板とその製造方法、半導体装置、これらを用いた電気部品とその製造方法
JPH11135561A (ja) 異方性導電接着フィルム、その製造方法、フリップチップ実装方法、およびフリップチップ実装基板
JP3357301B2 (ja) 半導体パッケージ、その製造方法及び搬送フレーム
JP2753112B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP3915325B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP3780240B2 (ja) 配線基板の製造方法、及び接着シート片付補強板の製造方法
JP3706519B2 (ja) 半導体装置の実装方法
JP2004134817A (ja) 半導体装置の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees