JP2000155398A - ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法Info
- Publication number
- JP2000155398A JP2000155398A JP10332590A JP33259098A JP2000155398A JP 2000155398 A JP2000155398 A JP 2000155398A JP 10332590 A JP10332590 A JP 10332590A JP 33259098 A JP33259098 A JP 33259098A JP 2000155398 A JP2000155398 A JP 2000155398A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- silver halide
- halide photographic
- hydrogen atom
- processing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- -1 silver halide Chemical class 0.000 title claims abstract description 120
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 104
- 239000004332 silver Substances 0.000 title claims abstract description 104
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 70
- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims abstract description 65
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 62
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 62
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 44
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims abstract description 33
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 31
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims abstract description 26
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 150000001340 alkali metals Chemical group 0.000 claims abstract description 19
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 62
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 53
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 50
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 49
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 39
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 38
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 32
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 claims description 28
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical class [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 16
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 15
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 15
- 238000011084 recovery Methods 0.000 claims description 13
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 9
- 125000003452 oxalyl group Chemical group *C(=O)C(*)=O 0.000 claims description 9
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims description 8
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 claims description 7
- 238000003672 processing method Methods 0.000 claims description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 6
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 6
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 claims description 5
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000005138 alkoxysulfonyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004644 alkyl sulfinyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000005135 aryl sulfinyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 4
- 125000003441 thioacyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000003739 carbamimidoyl group Chemical group C(N)(=N)* 0.000 claims description 3
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 52
- 238000001035 drying Methods 0.000 abstract description 26
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 abstract description 6
- 238000003860 storage Methods 0.000 abstract description 6
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 abstract description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 76
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 43
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 27
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 27
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 26
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 19
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 19
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 19
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 19
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 19
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 18
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 15
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 15
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 14
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 13
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 description 12
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 description 12
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 12
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 11
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 10
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 10
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 10
- 239000000047 product Substances 0.000 description 10
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N hydrazine Substances NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 9
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 9
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 8
- 238000005469 granulation Methods 0.000 description 8
- 230000003179 granulation Effects 0.000 description 8
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 8
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 8
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 8
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 7
- 238000011161 development Methods 0.000 description 7
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 7
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 7
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 7
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 7
- 235000002639 sodium chloride Nutrition 0.000 description 7
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 7
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 6
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 6
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 6
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 6
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 6
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 6
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 6
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 6
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 6
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 6
- GGZHVNZHFYCSEV-UHFFFAOYSA-N 1-Phenyl-5-mercaptotetrazole Chemical compound SC1=NN=NN1C1=CC=CC=C1 GGZHVNZHFYCSEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 2-aminophenol Chemical class NC1=CC=CC=C1O CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- FBPFZTCFMRRESA-KVTDHHQDSA-N D-Mannitol Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-KVTDHHQDSA-N 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 5
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 5
- 239000007771 core particle Substances 0.000 description 5
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 5
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 5
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 5
- BHVOFCPOXNYVCE-UHFFFAOYSA-N 6-amino-7,9-dihydropurine-8-thione Chemical compound NC1=NC=NC2=C1NC(=S)N2 BHVOFCPOXNYVCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QPCDCPDFJACHGM-UHFFFAOYSA-N N,N-bis{2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl}glycine Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(=O)O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O QPCDCPDFJACHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 241001061127 Thione Species 0.000 description 4
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 4
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical group C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 4
- ZUIVNYGZFPOXFW-UHFFFAOYSA-N chembl1717603 Chemical compound N1=C(C)C=C(O)N2N=CN=C21 ZUIVNYGZFPOXFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 4
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 4
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 4
- 150000002429 hydrazines Chemical class 0.000 description 4
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 4
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 4
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 4
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 4
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 4
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 4
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 4
- HRQDCDQDOPSGBR-UHFFFAOYSA-M sodium;octane-1-sulfonate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCS([O-])(=O)=O HRQDCDQDOPSGBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 4
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N succinic acid Chemical compound OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DSVIHYOAKPVFEH-UHFFFAOYSA-N 4-(hydroxymethyl)-4-methyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(C)(CO)CN1C1=CC=CC=C1 DSVIHYOAKPVFEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 3
- CIWBSHSKHKDKBQ-DUZGATOHSA-N D-araboascorbic acid Natural products OC[C@@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-DUZGATOHSA-N 0.000 description 3
- SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N Glutaraldehyde Chemical class O=CCCCC=O SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical group C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XCFIVNQHHFZRNR-UHFFFAOYSA-N [Ag].Cl[IH]Br Chemical compound [Ag].Cl[IH]Br XCFIVNQHHFZRNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000001055 blue pigment Substances 0.000 description 3
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 3
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 3
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 description 3
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- 238000011033 desalting Methods 0.000 description 3
- 235000010350 erythorbic acid Nutrition 0.000 description 3
- 239000004318 erythorbic acid Substances 0.000 description 3
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
- 229940026239 isoascorbic acid Drugs 0.000 description 3
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 3
- NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N pyrazolidin-3-one Chemical class O=C1CCNN1 NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 3
- 230000005070 ripening Effects 0.000 description 3
- ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M silver bromide Chemical compound [Ag]Br ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K sodium citrate Chemical compound O.O.[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- 239000004320 sodium erythorbate Substances 0.000 description 3
- 235000010352 sodium erythorbate Nutrition 0.000 description 3
- RBWSWDPRDBEWCR-RKJRWTFHSA-N sodium;(2r)-2-[(2r)-3,4-dihydroxy-5-oxo-2h-furan-2-yl]-2-hydroxyethanolate Chemical compound [Na+].[O-]C[C@@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O RBWSWDPRDBEWCR-RKJRWTFHSA-N 0.000 description 3
- 229960002920 sorbitol Drugs 0.000 description 3
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 description 3
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 2,3,9,10-tetramethoxy-6,8,13,13a-tetrahydro-5H-isoquinolino[2,1-b]isoquinoline Chemical compound C1CN2CC(C(=C(OC)C=C3)OC)=C3CC2C2=C1C=C(OC)C(OC)=C2 AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- URDCARMUOSMFFI-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl-(2-hydroxyethyl)amino]acetic acid Chemical compound OCCN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O URDCARMUOSMFFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYMDDFRYORANCC-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-[bis(carboxymethyl)amino]-2-hydroxypropyl]-(carboxymethyl)amino]acetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CC(O)CN(CC(O)=O)CC(O)=O WYMDDFRYORANCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 2
- XNHFAGRBSMMFKL-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylidene-3,7-dihydropurin-6-one Chemical compound O=C1NC(=S)NC2=C1NC=N2 XNHFAGRBSMMFKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GODCLGCOHHTLHX-UHFFFAOYSA-N 3,3-diphosphonopropanoic acid Chemical compound OC(=O)CC(P(O)(O)=O)P(O)(O)=O GODCLGCOHHTLHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 4-aminophenol Chemical compound NC1=CC=C(O)C=C1 PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DBVJJBKOTRCVKF-UHFFFAOYSA-N Etidronic acid Chemical compound OP(=O)(O)C(O)(C)P(O)(O)=O DBVJJBKOTRCVKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical group C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVNCNSJFMMFHPL-GSVOUGTGSA-N L-penicillamine Chemical compound CC(C)(S)[C@H](N)C(O)=O VVNCNSJFMMFHPL-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000008331 Pinus X rigitaeda Nutrition 0.000 description 2
- 235000011613 Pinus brutia Nutrition 0.000 description 2
- 241000018646 Pinus brutia Species 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N TOTP Chemical compound CC1=CC=CC=C1OP(=O)(OC=1C(=CC=CC=1)C)OC1=CC=CC=C1C YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical group C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical group C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N [Ag].BrCl Chemical compound [Ag].BrCl SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YDONNITUKPKTIG-UHFFFAOYSA-N [Nitrilotris(methylene)]trisphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CN(CP(O)(O)=O)CP(O)(O)=O YDONNITUKPKTIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 125000003302 alkenyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005133 alkynyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 2
- XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N ammonium thiosulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S([O-])(=O)=S XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N biphenyl-2-ol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001045 blue dye Substances 0.000 description 2
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 2
- 125000000480 butynyl group Chemical group [*]C#CC([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 2
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 150000005205 dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 2
- DEFVIWRASFVYLL-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol bis(2-aminoethyl)tetraacetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCOCCOCCN(CC(O)=O)CC(O)=O DEFVIWRASFVYLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000417 fungicide Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N glyoxal Chemical compound O=CC=O LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001600 hydrophobic polymer Polymers 0.000 description 2
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229960003511 macrogol Drugs 0.000 description 2
- 235000010355 mannitol Nutrition 0.000 description 2
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 2
- 125000004170 methylsulfonyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)(=O)=O 0.000 description 2
- 239000012452 mother liquor Substances 0.000 description 2
- 229910001120 nichrome Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N nitrilotriacetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CC(O)=O MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 2
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006174 pH buffer Substances 0.000 description 2
- 229960003330 pentetic acid Drugs 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 230000002335 preservative effect Effects 0.000 description 2
- 239000012629 purifying agent Substances 0.000 description 2
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 2
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 2
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 2
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 2
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N silver bromoiodide Chemical compound [Ag].IBr ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M sodium bromide Chemical compound [Na+].[Br-] JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000000176 sodium gluconate Substances 0.000 description 2
- 235000012207 sodium gluconate Nutrition 0.000 description 2
- 229940005574 sodium gluconate Drugs 0.000 description 2
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 2
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 2
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L sulfite Chemical class [O-]S([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 2
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 2
- 239000001577 tetrasodium phosphonato phosphate Substances 0.000 description 2
- 150000003536 tetrazoles Chemical class 0.000 description 2
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 2
- CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N toluquinol Chemical compound CC1=CC(O)=CC=C1O CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 125000004044 trifluoroacetyl group Chemical group FC(C(=O)*)(F)F 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- 239000012224 working solution Substances 0.000 description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- FXBVINCSIJOIGL-ODTHGOCZSA-N (8s,9r,10s,11s,13s,14s,16r,17s)-9-fluoro-11-hydroxy-17-(2-hydroxyacetyl)-10,13,16,17-tetramethyl-6,7,8,11,12,14,15,16-octahydrocyclopenta[a]phenanthren-3-one Chemical compound C1CC2=CC(=O)C=C[C@]2(C)[C@]2(F)[C@@H]1[C@@H]1C[C@@H](C)[C@@](C(=O)CO)(C)[C@@]1(C)C[C@@H]2O FXBVINCSIJOIGL-ODTHGOCZSA-N 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940015297 1-octanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- UZGKAASZIMOAMU-UHFFFAOYSA-N 124177-85-1 Chemical group NP(=O)=O UZGKAASZIMOAMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJUGUADJHNHALS-UHFFFAOYSA-N 1H-tetrazole Substances C=1N=NNN=1 KJUGUADJHNHALS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOZKAJLKRJDJLL-UHFFFAOYSA-N 2,4-diaminotoluene Chemical group CC1=CC=C(N)C=C1N VOZKAJLKRJDJLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHKKTXXMAQLGJB-UHFFFAOYSA-N 2-(methylamino)phenol Chemical compound CNC1=CC=CC=C1O JHKKTXXMAQLGJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NCDBYAPSWOPDRN-UHFFFAOYSA-N 2-[dichloro(fluoro)methyl]sulfanylisoindole-1,3-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)N(SC(Cl)(Cl)F)C(=O)C2=C1 NCDBYAPSWOPDRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKFYKCYQEWQPTM-UHFFFAOYSA-N 2-azaniumyl-2-(4-fluorophenyl)acetate Chemical compound OC(=O)C(N)C1=CC=C(F)C=C1 JKFYKCYQEWQPTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRTDQDCPEZRVGC-UHFFFAOYSA-N 2-nitro-1h-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC([N+](=O)[O-])=NC2=C1 KRTDQDCPEZRVGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 2-propanol Substances CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTURATSJVPIURD-UHFFFAOYSA-N 3-nitro-1h-benzo[g]indazole Chemical compound C1=CC2=CC=CC=C2C2=C1C([N+](=O)[O-])=NN2 JTURATSJVPIURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJSJAWHHGDPBOC-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(C)(C)CN1C1=CC=CC=C1 SJSJAWHHGDPBOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000242 4-chlorobenzoyl group Chemical group ClC1=CC=C(C(=O)*)C=C1 0.000 description 1
- WXNZTHHGJRFXKQ-UHFFFAOYSA-N 4-chlorophenol Chemical compound OC1=CC=C(Cl)C=C1 WXNZTHHGJRFXKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQQGQVUWBXURTA-UHFFFAOYSA-N 4-ethyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(CC)CN1C1=CC=CC=C1 FQQGQVUWBXURTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940090248 4-hydroxybenzoic acid Drugs 0.000 description 1
- ZZEYCGJAYIHIAZ-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(C)CN1C1=CC=CC=C1 ZZEYCGJAYIHIAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFIQGRISGKSVAG-UHFFFAOYSA-N 4-methylaminophenol Chemical compound CNC1=CC=C(O)C=C1 ZFIQGRISGKSVAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002373 5 membered heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1H-benzotriazole Chemical compound C1=C(C)C=CC2=NNN=C21 LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004070 6 membered heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXAXVMUWHZHZMJ-UHFFFAOYSA-N Chymopapain Chemical compound OC1=CC(S(O)(=O)=O)=CC(S(O)(=O)=O)=C1O XXAXVMUWHZHZMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000858 Cyclodextrin Polymers 0.000 description 1
- PQUCIEFHOVEZAU-UHFFFAOYSA-N Diammonium sulfite Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S([O-])=O PQUCIEFHOVEZAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MDNWOSOZYLHTCG-UHFFFAOYSA-N Dichlorophen Chemical compound OC1=CC=C(Cl)C=C1CC1=CC(Cl)=CC=C1O MDNWOSOZYLHTCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001269524 Dura Species 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FSVCELGFZIQNCK-UHFFFAOYSA-N N,N-bis(2-hydroxyethyl)glycine Chemical compound OCCN(CCO)CC(O)=O FSVCELGFZIQNCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYXGIOKAKDAARW-UHFFFAOYSA-N N-(2-hydroxyethyl)iminodiacetic acid Chemical compound OCCN(CC(O)=O)CC(O)=O JYXGIOKAKDAARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 229920000388 Polyphosphate Polymers 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N Pyrrolidine Chemical group C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSILVJLXKHGNPL-UHFFFAOYSA-L S(=S)(=O)([O-])[O-].[Ag+2] Chemical compound S(=S)(=O)([O-])[O-].[Ag+2] ZSILVJLXKHGNPL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021612 Silver iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920010524 Syndiotactic polystyrene Polymers 0.000 description 1
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical group C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M Thiocyanate anion Chemical compound [S-]C#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XEFQLINVKFYRCS-UHFFFAOYSA-N Triclosan Chemical compound OC1=CC(Cl)=CC=C1OC1=CC=C(Cl)C=C1Cl XEFQLINVKFYRCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRZBVIGIGZTWGT-UHFFFAOYSA-N [2-(diphosphonoamino)ethyl-phosphonoamino]phosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)N(P(O)(O)=O)CCN(P(O)(O)=O)P(O)(O)=O YRZBVIGIGZTWGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKBUQYWFFBCMFG-UHFFFAOYSA-N acetic acid propane-1,1-diamine Chemical compound CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.CCC(N)N MKBUQYWFFBCMFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUSUZAGBORAKPY-UHFFFAOYSA-N acetic acid;n'-[2-(2-aminoethylamino)ethyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.NCCNCCNCCN RUSUZAGBORAKPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- 230000000274 adsorptive effect Effects 0.000 description 1
- 230000004931 aggregating effect Effects 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 125000001118 alkylidene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005336 allyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011126 aluminium potassium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H aluminium sulfate (anhydrous) Chemical compound [Al+3].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- XIWMTQIUUWJNRP-UHFFFAOYSA-N amidol Chemical compound NC1=CC=C(O)C(N)=C1 XIWMTQIUUWJNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SOIFLUNRINLCBN-UHFFFAOYSA-N ammonium thiocyanate Chemical compound [NH4+].[S-]C#N SOIFLUNRINLCBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 239000003899 bactericide agent Substances 0.000 description 1
- DMSMPAJRVJJAGA-UHFFFAOYSA-N benzo[d]isothiazol-3-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NSC2=C1 DMSMPAJRVJJAGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 229910021538 borax Inorganic materials 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- CODNYICXDISAEA-UHFFFAOYSA-N bromine monochloride Chemical compound BrCl CODNYICXDISAEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005587 carbonate group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- VDQQXEISLMTGAB-UHFFFAOYSA-N chloramine T Chemical compound [Na+].CC1=CC=C(S(=O)(=O)[N-]Cl)C=C1 VDQQXEISLMTGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002668 chloroacetyl group Chemical group ClCC(=O)* 0.000 description 1
- DHNRXBZYEKSXIM-UHFFFAOYSA-N chloromethylisothiazolinone Chemical compound CN1SC(Cl)=CC1=O DHNRXBZYEKSXIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 210000004087 cornea Anatomy 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010908 decantation Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 229960003887 dichlorophen Drugs 0.000 description 1
- 229940090960 diethylenetriamine pentamethylene phosphonic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 229950008031 dimesone Drugs 0.000 description 1
- FGRVOLIFQGXPCT-UHFFFAOYSA-L dipotassium;dioxido-oxo-sulfanylidene-$l^{6}-sulfane Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])(=O)=S FGRVOLIFQGXPCT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBNTVVJMTSHKIO-UHFFFAOYSA-L disodium;2-decyl-3-(3-methylbutyl)-2-sulfobutanedioate Chemical compound [Na+].[Na+].CCCCCCCCCCC(S(O)(=O)=O)(C([O-])=O)C(C([O-])=O)CCC(C)C RBNTVVJMTSHKIO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- WBZKQQHYRPRKNJ-UHFFFAOYSA-L disulfite Chemical compound [O-]S(=O)S([O-])(=O)=O WBZKQQHYRPRKNJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- DUYCTCQXNHFCSJ-UHFFFAOYSA-N dtpmp Chemical compound OP(=O)(O)CN(CP(O)(O)=O)CCN(CP(O)(=O)O)CCN(CP(O)(O)=O)CP(O)(O)=O DUYCTCQXNHFCSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- ZZGUZQXLSHSYMH-UHFFFAOYSA-N ethane-1,2-diamine;propanoic acid Chemical compound NCCN.CCC(O)=O.CCC(O)=O ZZGUZQXLSHSYMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 1
- 125000006232 ethoxy propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 1
- 230000000855 fungicidal effect Effects 0.000 description 1
- 229940015043 glyoxal Drugs 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N hydrogen thiocyanate Natural products SC#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001477 hydrophilic polymer Polymers 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N hydroquinone methyl ether Natural products COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NBZBKCUXIYYUSX-UHFFFAOYSA-N iminodiacetic acid Chemical compound OC(=O)CNCC(O)=O NBZBKCUXIYYUSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 1
- 150000002762 monocarboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- WUOSYUHCXLQPQJ-UHFFFAOYSA-N n-(3-chlorophenyl)-n-methylacetamide Chemical compound CC(=O)N(C)C1=CC=CC(Cl)=C1 WUOSYUHCXLQPQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVVUWCYTDNBWJC-UHFFFAOYSA-N n-benzyl-n-methyldodecan-1-amine;hydrochloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCC[NH+](C)CC1=CC=CC=C1 PVVUWCYTDNBWJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000002667 nucleating agent Substances 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002898 organic sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 235000010292 orthophenyl phenol Nutrition 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000003002 pH adjusting agent Substances 0.000 description 1
- 239000006179 pH buffering agent Substances 0.000 description 1
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IZUPBVBPLAPZRR-UHFFFAOYSA-N pentachlorophenol Chemical compound OC1=C(Cl)C(Cl)=C(Cl)C(Cl)=C1Cl IZUPBVBPLAPZRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RULQJAJONRHHFH-UHFFFAOYSA-N pentanedial;sulfurous acid Chemical class OS(O)=O.O=CCCCC=O RULQJAJONRHHFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N phenidone Chemical compound N1C(=O)CCN1C1=CC=CC=C1 CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006678 phenoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003170 phenylsulfonyl group Chemical group C1(=CC=CC=C1)S(=O)(=O)* 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920001467 poly(styrenesulfonates) Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 239000001205 polyphosphate Substances 0.000 description 1
- 235000011176 polyphosphates Nutrition 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940050271 potassium alum Drugs 0.000 description 1
- GRLPQNLYRHEGIJ-UHFFFAOYSA-J potassium aluminium sulfate Chemical compound [Al+3].[K+].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O GRLPQNLYRHEGIJ-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L potassium sulfite Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])=O BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019252 potassium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- ZNNZYHKDIALBAK-UHFFFAOYSA-M potassium thiocyanate Chemical compound [K+].[S-]C#N ZNNZYHKDIALBAK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940116357 potassium thiocyanate Drugs 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N pyridazine Chemical group C1=CC=NN=C1 PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O pyridinium Chemical group C1=CC=[NH+]C=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 125000005554 pyridyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003856 quaternary ammonium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 239000012487 rinsing solution Substances 0.000 description 1
- HFHDHCJBZVLPGP-UHFFFAOYSA-N schardinger α-dextrin Chemical compound O1C(C(C2O)O)C(CO)OC2OC(C(C2O)O)C(CO)OC2OC(C(C2O)O)C(CO)OC2OC(C(O)C2O)C(CO)OC2OC(C(C2O)O)C(CO)OC2OC2C(O)C(O)C1OC2CO HFHDHCJBZVLPGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229940045105 silver iodide Drugs 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- FQENQNTWSFEDLI-UHFFFAOYSA-J sodium diphosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O FQENQNTWSFEDLI-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- HRZFUMHJMZEROT-UHFFFAOYSA-L sodium disulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S(=O)S([O-])(=O)=O HRZFUMHJMZEROT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019982 sodium hexametaphosphate Nutrition 0.000 description 1
- GCLGEJMYGQKIIW-UHFFFAOYSA-H sodium hexametaphosphate Chemical compound [Na]OP1(=O)OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])O1 GCLGEJMYGQKIIW-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 229940001584 sodium metabisulfite Drugs 0.000 description 1
- 235000010262 sodium metabisulphite Nutrition 0.000 description 1
- 229940006186 sodium polystyrene sulfonate Drugs 0.000 description 1
- 229940048086 sodium pyrophosphate Drugs 0.000 description 1
- 239000004328 sodium tetraborate Substances 0.000 description 1
- 235000010339 sodium tetraborate Nutrition 0.000 description 1
- VGTPCRGMBIAPIM-UHFFFAOYSA-M sodium thiocyanate Chemical compound [Na+].[S-]C#N VGTPCRGMBIAPIM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HRILWXJIWQHJMT-UHFFFAOYSA-M sodium;(4-methylphenyl)-oxido-oxo-sulfanylidene-$l^{6}-sulfane Chemical compound [Na+].CC1=CC=C(S([O-])(=O)=S)C=C1 HRILWXJIWQHJMT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007962 solid dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 125000005017 substituted alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N sulfamic acid Chemical group NS(O)(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QFARLUFBHFUZOK-UHFFFAOYSA-N sulfamoyl hydrogen sulfate Chemical compound NS(=O)(=O)OS(O)(=O)=O QFARLUFBHFUZOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-N sulfonic acid Chemical compound OS(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 235000019818 tetrasodium diphosphate Nutrition 0.000 description 1
- 150000003557 thiazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000003567 thiocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 description 1
- DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-L thiosulfate(2-) Chemical compound [O-]S([S-])(=O)=O DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000004764 thiosulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- ZCUFMDLYAMJYST-UHFFFAOYSA-N thorium dioxide Chemical compound O=[Th]=O ZCUFMDLYAMJYST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003452 thorium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005147 toluenesulfonyl group Chemical group C=1(C(=CC=CC1)S(=O)(=O)*)C 0.000 description 1
- KBMBVTRWEAAZEY-UHFFFAOYSA-N trisulfane Chemical compound SSS KBMBVTRWEAAZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明の目的は、アスコルビン酸系現像剤を
用いても水垢が発生せず、感光材料に乾燥ムラが発生せ
ず、色素汚れがなく、感光材料の保存後も変色がなく、
且つ処理機のローラーに汚れの発生しないハロゲン化銀
写真感光材料の処理方法を提供することである。 【解決手段】 ハロゲン化銀写真感光材料を現像槽、定
着槽、水洗槽を有する自動現像機を用いて現像、定着、
水洗もしくは安定化処理するにあたり、現像液中に実質
的にジヒドロキシベンゼン系化合物を含有せずに一般式
(A)で表される化合物を含有する現像液及び、一般式
(2−A)又は一般式(2−B)で表される化合物を含
有する定着液を用い、かつ自動現像機の水洗槽が多段向
流方式であることを特徴とするハロゲン化銀写真感光材
料の処理方法。 【化1】 一般式(2−A) Z1−SM1 【化2】
用いても水垢が発生せず、感光材料に乾燥ムラが発生せ
ず、色素汚れがなく、感光材料の保存後も変色がなく、
且つ処理機のローラーに汚れの発生しないハロゲン化銀
写真感光材料の処理方法を提供することである。 【解決手段】 ハロゲン化銀写真感光材料を現像槽、定
着槽、水洗槽を有する自動現像機を用いて現像、定着、
水洗もしくは安定化処理するにあたり、現像液中に実質
的にジヒドロキシベンゼン系化合物を含有せずに一般式
(A)で表される化合物を含有する現像液及び、一般式
(2−A)又は一般式(2−B)で表される化合物を含
有する定着液を用い、かつ自動現像機の水洗槽が多段向
流方式であることを特徴とするハロゲン化銀写真感光材
料の処理方法。 【化1】 一般式(2−A) Z1−SM1 【化2】
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ハロゲン化銀写真
感光材料の処理方法に関する。
感光材料の処理方法に関する。
【0002】
【従来の技術】ハロゲン化銀写真感光材料(以下単に感
光材料ともいう)は、露光後、現像、脱銀、洗浄、安定
化などの工程により処理される。処理は通常自動現像機
で行われ、処理液の活性度を一定に保つため補充液を補
充する方式が一般に広く用いられている。
光材料ともいう)は、露光後、現像、脱銀、洗浄、安定
化などの工程により処理される。処理は通常自動現像機
で行われ、処理液の活性度を一定に保つため補充液を補
充する方式が一般に広く用いられている。
【0003】補充液の補充は感光材料からの溶出物の希
釈、蒸発量の補正及び消費成分の補充を目的としてい
る。また水洗工程では通常一般用水道水を供給してフィ
ルム内部に残留している定着成分を洗い流して除去して
いた。
釈、蒸発量の補正及び消費成分の補充を目的としてい
る。また水洗工程では通常一般用水道水を供給してフィ
ルム内部に残留している定着成分を洗い流して除去して
いた。
【0004】省エネルギー化のために、この多量な水の
使用を抑えて節水をしようという動きはあるものの、水
洗水に水垢が発生するという問題があり、あいかわらず
水洗水を多量にいれて洗浄していた。この節水時の水垢
を防止するためにフィルター除去を行ったり殺菌剤を添
加するなど、いくつかの試みがなされてきたが、効果は
不充分であった。
使用を抑えて節水をしようという動きはあるものの、水
洗水に水垢が発生するという問題があり、あいかわらず
水洗水を多量にいれて洗浄していた。この節水時の水垢
を防止するためにフィルター除去を行ったり殺菌剤を添
加するなど、いくつかの試みがなされてきたが、効果は
不充分であった。
【0005】又、一方近年環境に配慮することの要請か
ら、現像液にHQを用いずに代わってアスコルビン酸系
の現像主薬を用いる処理が行われる様になってきた。し
かしながら、濃度低下の問題や、現像液が定着液に持ち
込まれた影響のため、保存性が劣化し、形成された画像
が茶色もしくは黄色変色するといった問題が生じてきて
いる。
ら、現像液にHQを用いずに代わってアスコルビン酸系
の現像主薬を用いる処理が行われる様になってきた。し
かしながら、濃度低下の問題や、現像液が定着液に持ち
込まれた影響のため、保存性が劣化し、形成された画像
が茶色もしくは黄色変色するといった問題が生じてきて
いる。
【0006】さらに、近年の迅速処理による水洗槽から
のキャリーオーバーの増加により処理後の感光材料の乾
燥性が著しく劣化し、乾燥温度が上下して乾燥ムラが生
じるといった事態が発生している。
のキャリーオーバーの増加により処理後の感光材料の乾
燥性が著しく劣化し、乾燥温度が上下して乾燥ムラが生
じるといった事態が発生している。
【0007】加えて、感光材料に含まれる染料や色素の
抜けが不充分で処理後、感光材料に青色の水が付着した
跡が残ったり、乾燥ローラーに汚れが発生して処理済み
フィルムに付着するといった重大な問題が発生してい
た。
抜けが不充分で処理後、感光材料に青色の水が付着した
跡が残ったり、乾燥ローラーに汚れが発生して処理済み
フィルムに付着するといった重大な問題が発生してい
た。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、アスコルビン酸系現像剤を用いても水垢が発生せ
ず、感光材料に乾燥ムラが発生せず、色素汚れがなく、
形成された画像を保存しても変色がなく、且つ処理機の
ローラーに汚れの発生しないハロゲン化銀写真感光材料
の処理方法を提供することである。
は、アスコルビン酸系現像剤を用いても水垢が発生せ
ず、感光材料に乾燥ムラが発生せず、色素汚れがなく、
形成された画像を保存しても変色がなく、且つ処理機の
ローラーに汚れの発生しないハロゲン化銀写真感光材料
の処理方法を提供することである。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記本発明の目的は以下
の方法により達成される。
の方法により達成される。
【0010】1.ハロゲン化銀写真感光材料を現像槽、
定着槽、水洗槽を有する自動現像機を用いて現像、定
着、水洗もしくは安定化処理するにあたり、実質的にジ
ヒドロキシベンゼン系化合物を含有せずに一般式(A)
で表される化合物を含有する現像液を用い、一般式(2
−A)又は一般式(2−B)で表されるの化合物を含有
する定着液を用い、かつ自動現像機の水洗槽が多段向流
方式であることを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料
の処理方法。
定着槽、水洗槽を有する自動現像機を用いて現像、定
着、水洗もしくは安定化処理するにあたり、実質的にジ
ヒドロキシベンゼン系化合物を含有せずに一般式(A)
で表される化合物を含有する現像液を用い、一般式(2
−A)又は一般式(2−B)で表されるの化合物を含有
する定着液を用い、かつ自動現像機の水洗槽が多段向流
方式であることを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料
の処理方法。
【0011】
【化4】
【0012】〔式中、R8、R9は各々アルキル基、アミ
ノ基、アルコキシ基又はアルキルチオ基を表し、これら
は置換基を有してもよく、またR8とR9が互いに結合し
て環を形成してもよい。kは0又は1を表し、k=1の
ときXは−CO−又は−CS−を表す。M3、M4は各々
水素原子又はアルカリ金属を表す。〕 一般式(2−A) Z1−SM1 〔式中、Z1はアルキル基、芳香族基若しくはヘテロ環
基であって、ヒドロキシル基、−SO3M2基、−COO
M2基(ここでM2は水素原子、アルカリ金属原子、又は
置換若しくは無置換のアンモニウムイオンを表す)、置
換若しくは無置換のアミノ基、置換若しくは無置換のア
ンモニオ基からなる群から選ばれる少なくとも1つ又
は、この群より選ばれる少なくとも1つを有する置換基
によって置換されているものを表す。M1は水素原子、
アルカリ金属原子、置換若しくは無置換のアミジノ基
(これはハロゲン化水素酸塩若しくはスルホン酸塩を形
成していてもよい)を表す。〕
ノ基、アルコキシ基又はアルキルチオ基を表し、これら
は置換基を有してもよく、またR8とR9が互いに結合し
て環を形成してもよい。kは0又は1を表し、k=1の
ときXは−CO−又は−CS−を表す。M3、M4は各々
水素原子又はアルカリ金属を表す。〕 一般式(2−A) Z1−SM1 〔式中、Z1はアルキル基、芳香族基若しくはヘテロ環
基であって、ヒドロキシル基、−SO3M2基、−COO
M2基(ここでM2は水素原子、アルカリ金属原子、又は
置換若しくは無置換のアンモニウムイオンを表す)、置
換若しくは無置換のアミノ基、置換若しくは無置換のア
ンモニオ基からなる群から選ばれる少なくとも1つ又
は、この群より選ばれる少なくとも1つを有する置換基
によって置換されているものを表す。M1は水素原子、
アルカリ金属原子、置換若しくは無置換のアミジノ基
(これはハロゲン化水素酸塩若しくはスルホン酸塩を形
成していてもよい)を表す。〕
【0013】
【化5】
【0014】〔式中、R1、R2は水素原子、炭素数1〜
3のアルキル基を表す。但しR1とR2は同時に水素原子
になることはない。R3、R4は水素原子、炭素数1〜3
のアルキル基を表し、R7は水酸基(金属塩も含む)、
アミノ基、又は炭素数1〜3のアルキル基を表す。
R5、R6は水素原子炭素数1〜5のアルキル基、炭素数
18以下のアシル基又は−COOM10基を表す。ここで
M10は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、アルカリ
金属原子、アリール基を表す。但し、R5とR6は同時に
水素原子になることはない。M1は水素原子、アルカリ
金属原子、アンモニウム基を表す。k1は0、1又は2
を表す。〕 2.ハロゲン化銀写真感光材料が一般式〔B〕で表され
る化合物を含有する事を特徴とする前記1に記載のハロ
ゲン化銀写真感光材料の処理方法。
3のアルキル基を表す。但しR1とR2は同時に水素原子
になることはない。R3、R4は水素原子、炭素数1〜3
のアルキル基を表し、R7は水酸基(金属塩も含む)、
アミノ基、又は炭素数1〜3のアルキル基を表す。
R5、R6は水素原子炭素数1〜5のアルキル基、炭素数
18以下のアシル基又は−COOM10基を表す。ここで
M10は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、アルカリ
金属原子、アリール基を表す。但し、R5とR6は同時に
水素原子になることはない。M1は水素原子、アルカリ
金属原子、アンモニウム基を表す。k1は0、1又は2
を表す。〕 2.ハロゲン化銀写真感光材料が一般式〔B〕で表され
る化合物を含有する事を特徴とする前記1に記載のハロ
ゲン化銀写真感光材料の処理方法。
【0015】
【化6】
【0016】〔式中、Aは脂肪族基、芳香族基、ヘテロ
環基を表し、置換基を持っていてもよい。Bはアシル
基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ア
ルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、カル
バモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシ
カルボニル基、スルファモイル基、スルフィナモイル
基、アルコキシスルホニル基、チオアシル基、チオカル
バモイル基、オキザリル基又はヘテロ環基を表す。ま
た、BはA2及びそれらが結合する窒素原子とともに、
ヘテロ環を形成してもよい。A1、A2は、ともに水素原
子、又は一方が水素原子で他方はアシル基又はオキザリ
ル基を表す。〕 3.ハロゲン化銀写真感光材料を現像槽、定着槽、水洗
槽を有する自動現像機を用いて現像、定着、水洗若しく
は安定化処理するにあたり、実質的にジヒドロキシベン
ゼン系化合物を含有せず、前記一般式(A)で表される
化合物を含む現像液を用い、且つ前記水洗槽に銀回収装
置を有する事を特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の
処理方法。
環基を表し、置換基を持っていてもよい。Bはアシル
基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ア
ルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、カル
バモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシ
カルボニル基、スルファモイル基、スルフィナモイル
基、アルコキシスルホニル基、チオアシル基、チオカル
バモイル基、オキザリル基又はヘテロ環基を表す。ま
た、BはA2及びそれらが結合する窒素原子とともに、
ヘテロ環を形成してもよい。A1、A2は、ともに水素原
子、又は一方が水素原子で他方はアシル基又はオキザリ
ル基を表す。〕 3.ハロゲン化銀写真感光材料を現像槽、定着槽、水洗
槽を有する自動現像機を用いて現像、定着、水洗若しく
は安定化処理するにあたり、実質的にジヒドロキシベン
ゼン系化合物を含有せず、前記一般式(A)で表される
化合物を含む現像液を用い、且つ前記水洗槽に銀回収装
置を有する事を特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の
処理方法。
【0017】4.銀回収が電気分解によって行われる事
を特徴とする前記3に記載のハロゲン化銀写真感光材料
の処理方法。
を特徴とする前記3に記載のハロゲン化銀写真感光材料
の処理方法。
【0018】5.ハロゲン化銀写真感光材料を現像槽、
定着槽、水洗槽を有する自動現像機を用いて現像、定
着、水洗若しくは安定化処理するにあたり、実質的にジ
ヒドロキシベンゼン系化合物を含有せず、前記一般式
(A)で表される化合物を含む現像液を用い、且つ前記
安定化処理に用いる安定化液の補充液を加温して補充す
る事を特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方
法。
定着槽、水洗槽を有する自動現像機を用いて現像、定
着、水洗若しくは安定化処理するにあたり、実質的にジ
ヒドロキシベンゼン系化合物を含有せず、前記一般式
(A)で表される化合物を含む現像液を用い、且つ前記
安定化処理に用いる安定化液の補充液を加温して補充す
る事を特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方
法。
【0019】6.安定化液の温度が30〜60℃である
事を特徴とする前記5に記載のハロゲン化銀写真感光材
料の処理方法。
事を特徴とする前記5に記載のハロゲン化銀写真感光材
料の処理方法。
【0020】7.用いられる処理剤の少なくとも1種が
固体処理剤であることを特徴とする前記1、2、3、
4、5、又は6に記載のハロゲン化銀写真感光材料の処
理方法。
固体処理剤であることを特徴とする前記1、2、3、
4、5、又は6に記載のハロゲン化銀写真感光材料の処
理方法。
【0021】以下、本発明について詳述する。
【0022】前述のように、水洗水中での水垢の発生
は、これが感光材料に付着したり、自動現像機ローラー
を汚染したり等、の大きな問題を発生させるが、特に節
水を行わなければいけない状況下では更に大きな課題と
なる。特に、通常の白黒現像主薬としてこれまで広く使
われてきたハイドロキノン現像主薬をアスコルビン酸系
現像主薬に変えた場合、又、更に亜硫酸ソーダ等の保恒
剤と組み合わせた場合、これらの問題は更に大きくなっ
てしまう。これは定着液中に持ち込まれたアスコルビン
酸現像主薬が、ハイドロキノン現像主薬とはかなり性質
が異なっており、定着液中、又水洗水中での分解がハイ
ドロキノンに比べ起こりやすい為と考えられる。従って
少ない水洗水で行う、例えば多段向流水洗方式による水
洗等においては、水洗水中の水垢生成を抑制する技術は
アスコルビン酸系現像主薬を用いた場合、より重要にな
ってくる。
は、これが感光材料に付着したり、自動現像機ローラー
を汚染したり等、の大きな問題を発生させるが、特に節
水を行わなければいけない状況下では更に大きな課題と
なる。特に、通常の白黒現像主薬としてこれまで広く使
われてきたハイドロキノン現像主薬をアスコルビン酸系
現像主薬に変えた場合、又、更に亜硫酸ソーダ等の保恒
剤と組み合わせた場合、これらの問題は更に大きくなっ
てしまう。これは定着液中に持ち込まれたアスコルビン
酸現像主薬が、ハイドロキノン現像主薬とはかなり性質
が異なっており、定着液中、又水洗水中での分解がハイ
ドロキノンに比べ起こりやすい為と考えられる。従って
少ない水洗水で行う、例えば多段向流水洗方式による水
洗等においては、水洗水中の水垢生成を抑制する技術は
アスコルビン酸系現像主薬を用いた場合、より重要にな
ってくる。
【0023】水垢の原因としては、種々の原因が考えら
れ、水洗液へ、定着液中から定着剤であるチオ硫酸塩
(以後ハイポとも呼ぶ)や銀チオ硫酸塩錯体が持ち込ま
れる事、現像主薬や亜硫酸ソーダ等も混入してくる事、
又、水洗液中の金属、例えばCa濃度等様々なものが関
係しているが、ハイポによって可溶化した定着銀が、分
解により不溶化し析出するのが大きな原因であると考え
られ、これに現像剤の分解物その他複数の原因が関係し
水垢が生成すると考えられる。本発明者は以下の方法に
よりこれを防止出来る事を見いだした。
れ、水洗液へ、定着液中から定着剤であるチオ硫酸塩
(以後ハイポとも呼ぶ)や銀チオ硫酸塩錯体が持ち込ま
れる事、現像主薬や亜硫酸ソーダ等も混入してくる事、
又、水洗液中の金属、例えばCa濃度等様々なものが関
係しているが、ハイポによって可溶化した定着銀が、分
解により不溶化し析出するのが大きな原因であると考え
られ、これに現像剤の分解物その他複数の原因が関係し
水垢が生成すると考えられる。本発明者は以下の方法に
よりこれを防止出来る事を見いだした。
【0024】1つは、アスコルビン酸系現像主薬に適し
た、銀スラッジ防止剤を探索することで、前記一般式
(2−A)又は(2−B)で表される銀スラッジ防止剤
の効果が大きいことを見いだした。特に一般式(2−
B)で表される化合物が好ましい。定着液にこれら大量
の銀スラッジ防止剤を入れておくと、これらが銀スラッ
ジ発生のもととなる成分を安定に可溶化する為と考えら
れるが、水洗水や安定化液、特に多段向流水洗槽中に混
入される定着液による銀スラッジの析出がなくなるの
で、スラッジの発生が減少する。これによりフィルムや
ローラーへの水垢の付着による汚れや変色が軽減され
る。
た、銀スラッジ防止剤を探索することで、前記一般式
(2−A)又は(2−B)で表される銀スラッジ防止剤
の効果が大きいことを見いだした。特に一般式(2−
B)で表される化合物が好ましい。定着液にこれら大量
の銀スラッジ防止剤を入れておくと、これらが銀スラッ
ジ発生のもととなる成分を安定に可溶化する為と考えら
れるが、水洗水や安定化液、特に多段向流水洗槽中に混
入される定着液による銀スラッジの析出がなくなるの
で、スラッジの発生が減少する。これによりフィルムや
ローラーへの水垢の付着による汚れや変色が軽減され
る。
【0025】又、水洗槽に銀回収装置を設ける事も効果
がある。これにより水洗水或いは安定化液中に混入して
いる、銀の濃度を、銀を回収することで下げ、スラッジ
の発生を減らすことができる。定着液からのキャリーオ
ーバー量は多いので、これは有用であり、特に水洗水或
いは安定化液の補充量の少ない多段向流水洗方式の場合
有用である。又、洗浄の効率があがるので、保存性が劣
化し、保存しているフィルムが茶色もしくは黄色変色す
るといった問題も解決される。
がある。これにより水洗水或いは安定化液中に混入して
いる、銀の濃度を、銀を回収することで下げ、スラッジ
の発生を減らすことができる。定着液からのキャリーオ
ーバー量は多いので、これは有用であり、特に水洗水或
いは安定化液の補充量の少ない多段向流水洗方式の場合
有用である。又、洗浄の効率があがるので、保存性が劣
化し、保存しているフィルムが茶色もしくは黄色変色す
るといった問題も解決される。
【0026】銀回収装置としては、銀回収が電気分解に
よって行われるものが好ましく、例えば、特開昭62−
69264号公報に記載されたような銀回収装置が挙げ
られる。
よって行われるものが好ましく、例えば、特開昭62−
69264号公報に記載されたような銀回収装置が挙げ
られる。
【0027】又、安定化液(或いは水洗液でもよいが)
補充液を暖める事で洗浄の効果を上げ、銀濃度を速やか
に低下せしめる事も効果がある。又、超迅速処理を行う
と水洗槽から乾燥ローラーへのキャリーオーバー量が通
常処理の10倍強に増加してしまい、乾燥部の温度が通
常の温度(50〜55℃)では不足してしまい、60〜
70℃が必要となってしまう。この温度では寸法など問
題がでるため、あらかじめ水洗補充液(安定化液又はリ
ンス液)を暖めておき、これを補充することで、安定化
液又は水洗液が暖められる為、乾燥負荷を減らす事がで
き、乾燥をはやめるという効果も大きい。負荷が大きい
場合、乾燥温度が上下してムラが生じたりするという問
題も回避される。これらの温度としては30〜60℃が
好適である。
補充液を暖める事で洗浄の効果を上げ、銀濃度を速やか
に低下せしめる事も効果がある。又、超迅速処理を行う
と水洗槽から乾燥ローラーへのキャリーオーバー量が通
常処理の10倍強に増加してしまい、乾燥部の温度が通
常の温度(50〜55℃)では不足してしまい、60〜
70℃が必要となってしまう。この温度では寸法など問
題がでるため、あらかじめ水洗補充液(安定化液又はリ
ンス液)を暖めておき、これを補充することで、安定化
液又は水洗液が暖められる為、乾燥負荷を減らす事がで
き、乾燥をはやめるという効果も大きい。負荷が大きい
場合、乾燥温度が上下してムラが生じたりするという問
題も回避される。これらの温度としては30〜60℃が
好適である。
【0028】水洗槽に、銀回収装置を設けたり、安定化
液の補充液を暖めたりする事も、節水技術、例えば多段
向流水洗法、又、超迅速処理と組み合わせると効果が大
きい。
液の補充液を暖めたりする事も、節水技術、例えば多段
向流水洗法、又、超迅速処理と組み合わせると効果が大
きい。
【0029】本発明に用いられるアスコルビン酸又はそ
の誘導体は現像液がこれを含有することが実用的態様で
あり、現像液はpH8.0〜10.0、好ましくは8.
5〜9.8であることを特徴とする。
の誘導体は現像液がこれを含有することが実用的態様で
あり、現像液はpH8.0〜10.0、好ましくは8.
5〜9.8であることを特徴とする。
【0030】アスコルビン酸又はその誘導体としては、
下記一般式(A)から選ばれる化合物が好ましく用いら
れる。
下記一般式(A)から選ばれる化合物が好ましく用いら
れる。
【0031】
【化7】
【0032】式中、R8、R9は各々アルキル基、ヒドロ
キシ基、アミノ基、アルコキシ基又はアルキルチオ基を
表し、これらは置換基を有してもよく、またR8とR9が
互いに結合して環を形成してもよい。kは0又は1を表
し、k=1のときXは−CO−又は−CS−を表す。M
3、M4は各々水素原子又はアルカリ金属を表す。
キシ基、アミノ基、アルコキシ基又はアルキルチオ基を
表し、これらは置換基を有してもよく、またR8とR9が
互いに結合して環を形成してもよい。kは0又は1を表
し、k=1のときXは−CO−又は−CS−を表す。M
3、M4は各々水素原子又はアルカリ金属を表す。
【0033】前記一般式(A)で示される化合物におい
て、R8とR9が互いに結合して環を形成した下記一般式
(A−a)で示される化合物が特に好ましい。
て、R8とR9が互いに結合して環を形成した下記一般式
(A−a)で示される化合物が特に好ましい。
【0034】
【化8】
【0035】式中、R10は水素原子、それぞれ置換又は
非置換の、アルキル基、アリール基、アミノ基、アルコ
キシ基、スルホ基、カルボキシル基、アミド基、又はス
ルホンアミド基を表し、Y1はO又はSを表し、Y2は
O、S又はNR11を表す。R11はそれぞれ置換又は非置
換の、アルキル基又はアリール基を表す。M3、M4は各
々水素原子又はアルカリ金属を表す。
非置換の、アルキル基、アリール基、アミノ基、アルコ
キシ基、スルホ基、カルボキシル基、アミド基、又はス
ルホンアミド基を表し、Y1はO又はSを表し、Y2は
O、S又はNR11を表す。R11はそれぞれ置換又は非置
換の、アルキル基又はアリール基を表す。M3、M4は各
々水素原子又はアルカリ金属を表す。
【0036】一般式(A)又は一般式(A−a)におけ
るアルキル基としては、低級アルキル基が好ましく、た
とえば炭素数1〜5のアルキル基であり、アミノ基とし
ては無置換のアミノ基或いは低級アルキル基で置換され
たアミノ基が好ましく、アルコキシ基としては低級アル
コキシ基が好ましく、アリール基としては好ましくはフ
ェニル基或いはナフチル基等であり、これらの基は置換
基を有していてもよく、置換し得る基としてはヒドロキ
シル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、スルホ基、カル
ボキシル基、アミド基、スルホンアミド基等が好ましい
置換基として挙げられる。
るアルキル基としては、低級アルキル基が好ましく、た
とえば炭素数1〜5のアルキル基であり、アミノ基とし
ては無置換のアミノ基或いは低級アルキル基で置換され
たアミノ基が好ましく、アルコキシ基としては低級アル
コキシ基が好ましく、アリール基としては好ましくはフ
ェニル基或いはナフチル基等であり、これらの基は置換
基を有していてもよく、置換し得る基としてはヒドロキ
シル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、スルホ基、カル
ボキシル基、アミド基、スルホンアミド基等が好ましい
置換基として挙げられる。
【0037】一般式(A)又は一般式(A−a)で表さ
れる具体的化合物例を以下に示すが、これらに限定され
るものではない。
れる具体的化合物例を以下に示すが、これらに限定され
るものではない。
【0038】
【化9】
【0039】
【化10】
【0040】これらの化合物は、代表的にはアスコルビ
ン酸或いはエリソルビン酸とその塩又はそれらから誘導
される誘導体であり、市販品として入手できるか或いは
容易に公知の合成法により合成することができる。
ン酸或いはエリソルビン酸とその塩又はそれらから誘導
される誘導体であり、市販品として入手できるか或いは
容易に公知の合成法により合成することができる。
【0041】上記のアスコルビン酸或いはエリソルビン
酸類の現像主薬と組み合わせて、3−ピラゾリドン類
(例えば1−フェニル−3−ピラゾリドン、1−フェニ
ル−4−メチル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−
4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−
4−メチル−4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリド
ン、1−フェニル−4−エチル−3−ピラゾリドン、1
−フェニル−5−メチル−3−ピラゾリドン等)やアミ
ノフェノール類(例えばo−アミノフェノール、p−ア
ミノフェノール、N−メチル−o−アミノフェノール、
N−メチル−p−アミノフェノール、2,4−ジアミノ
フェノール等)等の補助現像剤を使用することが好まし
い。この場合、3−ピラゾリドン類やアミノフェノール
類の現像主薬は、現像液1l当たり0.001〜1.4
モルの量で用いられるのが好ましい。またアスコルビン
酸或いはエリソルビン酸類の使用量は現像液1l当たり
0.05〜1モル程度である。
酸類の現像主薬と組み合わせて、3−ピラゾリドン類
(例えば1−フェニル−3−ピラゾリドン、1−フェニ
ル−4−メチル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−
4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−
4−メチル−4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリド
ン、1−フェニル−4−エチル−3−ピラゾリドン、1
−フェニル−5−メチル−3−ピラゾリドン等)やアミ
ノフェノール類(例えばo−アミノフェノール、p−ア
ミノフェノール、N−メチル−o−アミノフェノール、
N−メチル−p−アミノフェノール、2,4−ジアミノ
フェノール等)等の補助現像剤を使用することが好まし
い。この場合、3−ピラゾリドン類やアミノフェノール
類の現像主薬は、現像液1l当たり0.001〜1.4
モルの量で用いられるのが好ましい。またアスコルビン
酸或いはエリソルビン酸類の使用量は現像液1l当たり
0.05〜1モル程度である。
【0042】本発明においては、ハイドロキノン、メチ
ルハイドロキノン等のジヒドロキシベンゼン類は、環境
及び性能の観点から実質的に用いないことが好ましい。
ルハイドロキノン等のジヒドロキシベンゼン類は、環境
及び性能の観点から実質的に用いないことが好ましい。
【0043】本発明に用いられるヒドラジン誘導体とし
ては下記一般式〔B〕で表されるものである。
ては下記一般式〔B〕で表されるものである。
【0044】
【化11】
【0045】一般式〔B〕において、Aは脂肪族基、芳
香族基、ヘテロ環基を表し、置換基をもっていてもよ
い。Bはアシル基、アルキルスルホニル基、アリールス
ルホニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフ
ィニル基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、
アリールオキシカルボニル基、スルファモイル基、スル
ファモイル基、アルコキシスルホニル基、チオアシル
基、チオカルバモイル基、オキザリル基又はヘテロ環基
を表す。また、BはA2及びそれらが結合する窒素原子
とともに、ヘテロ環を形成してもよい。A1、A2は、と
もに水素原子、又は一方が水素原子で他方はアシル基又
はオキザリル基を表す。
香族基、ヘテロ環基を表し、置換基をもっていてもよ
い。Bはアシル基、アルキルスルホニル基、アリールス
ルホニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフ
ィニル基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、
アリールオキシカルボニル基、スルファモイル基、スル
ファモイル基、アルコキシスルホニル基、チオアシル
基、チオカルバモイル基、オキザリル基又はヘテロ環基
を表す。また、BはA2及びそれらが結合する窒素原子
とともに、ヘテロ環を形成してもよい。A1、A2は、と
もに水素原子、又は一方が水素原子で他方はアシル基又
はオキザリル基を表す。
【0046】一般式〔B〕で表されるヒドラジン化合物
において好ましい態様を以下に示す。Aで表される脂肪
族基は炭素数1〜30のものが好ましく、特に炭素数1
〜20の直鎖、分岐又は環状のアルキル基であることが
好ましい。例えばメチル基、エチル基、t−ブチル基、
オクチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基等が挙げら
れ、これらはさらに適当な置換基(例えばアリール基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、ア
リールチオ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、アシ
ルアミノ基、ウレイド基等)で置換されてもよい。Aで
表される芳香族基は、単環又は縮合環のアリール基が好
ましく、例えばベンゼン環又はナフタレン環などが挙げ
られる。Aで表されるヘテロ環基としては、単環又は縮
合環の少なくとも窒素、硫黄、酸素から選ばれる一つの
ヘテロ原子を含むヘテロ環が好ましく、例えばピロリジ
ン環、イミダゾール環、テトラヒドロフラン環、モルホ
リン環、ピリジン環、ピリミジン環、キノリン環、チア
ゾール環、ベンゾチアゾール環、チオフェン環、フラン
環などが挙げられる。Aとして特に好ましいものは、ア
リール基及びヘテロ環基である。Aのアリール基及びヘ
テロ環基は、置換基を持っていてもよい。この場合の代
表的な置換基としてはアルキル基(好ましくは炭素数1
〜20のもの)、アラルキル基(好ましくはアルキル部
分の炭素数が1〜3の単環又は縮合環のもの)、アルコ
キシ基(好ましくはアルキル部分の炭素数が1〜20の
もの)、置換アミノ基(好ましくは炭素数1〜20のア
ルキル基又はアルキリデン基で置換されたアミノ基)、
アシルアミノ基(好ましくは炭素数1〜40のもの)、
スルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜40のも
の)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜40のも
の)、ヒドラジノカルボニルアミノ基(好ましくは炭素
数1〜40のもの)、ヒドロキシル基、ホスホアミド基
(好ましくは炭素数1〜40のもの)などがある。ま
た、Aは耐拡散基又はハロゲン化銀吸着促進基を少なく
とも一つ含むことが好ましい。耐拡散基としてはカプラ
ーなどの不動性写真用添加剤にて常用されるバラスト基
が好ましく、バラスト基としては炭素数8以上の写真性
に対して比較的不活性である例えばアルキル基、アルケ
ニル基、アルキニル基、アルコキシ基、フェニル基、フ
ェノキシ基、アルキルフェノキシ基などが挙げられる。
ハロゲン化銀吸着促進基としては、チオ尿素、チオウレ
タン基、メルカプト基、チオエーテル基、チオン基、複
素環基、チオアミド複素環基、メルカプト複素環基、或
いは特開昭64−90439号に記載の吸着基などが挙
げられる。
において好ましい態様を以下に示す。Aで表される脂肪
族基は炭素数1〜30のものが好ましく、特に炭素数1
〜20の直鎖、分岐又は環状のアルキル基であることが
好ましい。例えばメチル基、エチル基、t−ブチル基、
オクチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基等が挙げら
れ、これらはさらに適当な置換基(例えばアリール基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、ア
リールチオ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、アシ
ルアミノ基、ウレイド基等)で置換されてもよい。Aで
表される芳香族基は、単環又は縮合環のアリール基が好
ましく、例えばベンゼン環又はナフタレン環などが挙げ
られる。Aで表されるヘテロ環基としては、単環又は縮
合環の少なくとも窒素、硫黄、酸素から選ばれる一つの
ヘテロ原子を含むヘテロ環が好ましく、例えばピロリジ
ン環、イミダゾール環、テトラヒドロフラン環、モルホ
リン環、ピリジン環、ピリミジン環、キノリン環、チア
ゾール環、ベンゾチアゾール環、チオフェン環、フラン
環などが挙げられる。Aとして特に好ましいものは、ア
リール基及びヘテロ環基である。Aのアリール基及びヘ
テロ環基は、置換基を持っていてもよい。この場合の代
表的な置換基としてはアルキル基(好ましくは炭素数1
〜20のもの)、アラルキル基(好ましくはアルキル部
分の炭素数が1〜3の単環又は縮合環のもの)、アルコ
キシ基(好ましくはアルキル部分の炭素数が1〜20の
もの)、置換アミノ基(好ましくは炭素数1〜20のア
ルキル基又はアルキリデン基で置換されたアミノ基)、
アシルアミノ基(好ましくは炭素数1〜40のもの)、
スルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜40のも
の)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜40のも
の)、ヒドラジノカルボニルアミノ基(好ましくは炭素
数1〜40のもの)、ヒドロキシル基、ホスホアミド基
(好ましくは炭素数1〜40のもの)などがある。ま
た、Aは耐拡散基又はハロゲン化銀吸着促進基を少なく
とも一つ含むことが好ましい。耐拡散基としてはカプラ
ーなどの不動性写真用添加剤にて常用されるバラスト基
が好ましく、バラスト基としては炭素数8以上の写真性
に対して比較的不活性である例えばアルキル基、アルケ
ニル基、アルキニル基、アルコキシ基、フェニル基、フ
ェノキシ基、アルキルフェノキシ基などが挙げられる。
ハロゲン化銀吸着促進基としては、チオ尿素、チオウレ
タン基、メルカプト基、チオエーテル基、チオン基、複
素環基、チオアミド複素環基、メルカプト複素環基、或
いは特開昭64−90439号に記載の吸着基などが挙
げられる。
【0047】Bは具体的にはアシル基(例えばホルミ
ル、アセチル、プロピオニル、トリフルオロアセチル、
メトキシアセチル、フェノキシアセチル、メチルチオア
セチル、クロロアセチル、ベンゾイル、2−ヒドロキシ
メチルベンゾイル、4−クロロベンゾイル等)、アルキ
ルスルホニル基(例えばメタンスルホニル、2−クロロ
エタンスルホニル等)、アリールスルホニル基(例えば
ベンゼンスルホニル等)、アルキルスルフィニル基(例
えばメタンスルフィニル等)、アリールスルフィニル基
(例えばベンゼンスルフィニル等)、カルバモイル基
(例えばメチルカルバモイル、フェニルカルバモイル
等)、アルコキシカルボニル基(例えばメトキシカルボ
ニル、メトキシエトキシカルボニル等)、アリールオキ
シカルボニル基(例えばフェノキシカルボニル等)、ス
ルファモイル基(例えばジメチルスルファモイル等)、
スルフィナモイル基(例えばメチルスルフィナモイル
等)、アルコキシスルホニル基(例えばメトキシスルホ
ニル等)、チオアシル基(例えばメチルチオカルボニル
等)、チオカルバモイル基(例えばメチルチオカルバモ
イル等)、オキザリル基(一般式(6)に関しては後
述)、又はヘテロ環基(例えばピリジン環、ピリジニウ
ム環等)を表す。BはA2及びそれらが結合する窒素原
子とともに
ル、アセチル、プロピオニル、トリフルオロアセチル、
メトキシアセチル、フェノキシアセチル、メチルチオア
セチル、クロロアセチル、ベンゾイル、2−ヒドロキシ
メチルベンゾイル、4−クロロベンゾイル等)、アルキ
ルスルホニル基(例えばメタンスルホニル、2−クロロ
エタンスルホニル等)、アリールスルホニル基(例えば
ベンゼンスルホニル等)、アルキルスルフィニル基(例
えばメタンスルフィニル等)、アリールスルフィニル基
(例えばベンゼンスルフィニル等)、カルバモイル基
(例えばメチルカルバモイル、フェニルカルバモイル
等)、アルコキシカルボニル基(例えばメトキシカルボ
ニル、メトキシエトキシカルボニル等)、アリールオキ
シカルボニル基(例えばフェノキシカルボニル等)、ス
ルファモイル基(例えばジメチルスルファモイル等)、
スルフィナモイル基(例えばメチルスルフィナモイル
等)、アルコキシスルホニル基(例えばメトキシスルホ
ニル等)、チオアシル基(例えばメチルチオカルボニル
等)、チオカルバモイル基(例えばメチルチオカルバモ
イル等)、オキザリル基(一般式(6)に関しては後
述)、又はヘテロ環基(例えばピリジン環、ピリジニウ
ム環等)を表す。BはA2及びそれらが結合する窒素原
子とともに
【0048】
【化12】
【0049】を形成してもよい。R9はアルキル基、ア
リール基又はヘテロ環基を表し、R10は水素原子、アル
キル基、アリール基又はヘテロ環基を表す。Bとして
は、アシル基又はオキザリル基が特に好ましい。
リール基又はヘテロ環基を表し、R10は水素原子、アル
キル基、アリール基又はヘテロ環基を表す。Bとして
は、アシル基又はオキザリル基が特に好ましい。
【0050】A1、A2は、ともに水素原子、又は一方が
水素原子で他方はアシル基(アセチル、トリフルオロア
セチル、ベンゾイル等)、スルホニル基(メタンスルホ
ニル、トルエンスルホニル等)、又はオキザリル基(エ
トキザリル等)を表す。
水素原子で他方はアシル基(アセチル、トリフルオロア
セチル、ベンゾイル等)、スルホニル基(メタンスルホ
ニル、トルエンスルホニル等)、又はオキザリル基(エ
トキザリル等)を表す。
【0051】本発明で用いるヒドラジン化合物のうち特
に好ましいものは下記一般式(6)で表されるヒドラジ
ン化合物である。
に好ましいものは下記一般式(6)で表されるヒドラジ
ン化合物である。
【0052】
【化13】
【0053】一般式(6)において、R61はアリール基
又はヘテロ環基を表し、R62は
又はヘテロ環基を表し、R62は
【0054】
【化14】
【0055】を表す。R63、R64はそれぞれ水素原子、
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール
基、ヘテロ環基、アミノ基、ヒドロキシル基、アルコキ
シ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アリ
ールオキシ基、又はヘテロ環オキシ基を表し、R63とR
64でN原子とともに環を形成してもよい。R65は水素原
子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリー
ル基、又はヘテロ環基を表す。A1及びA2は一般式
〔B〕のA1及びA2とそれぞれ同義の基を表す。
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール
基、ヘテロ環基、アミノ基、ヒドロキシル基、アルコキ
シ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アリ
ールオキシ基、又はヘテロ環オキシ基を表し、R63とR
64でN原子とともに環を形成してもよい。R65は水素原
子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリー
ル基、又はヘテロ環基を表す。A1及びA2は一般式
〔B〕のA1及びA2とそれぞれ同義の基を表す。
【0056】一般式(6)について更に詳しく説明す
る。R61で表されるアリール基としては、単環又は縮合
環のものが好ましく、例えばベンゼン環又はナフタレン
環などが挙げられる。R61で表されるヘテロ環基として
は、単環又は縮合環の少なくとも窒素、硫黄、酸素から
選ばれる一つのヘテロ原子を含む5又は6員の不飽和ヘ
テロ環が好ましく、例えばピリジン環、キノリン環、ピ
リミジン環、チオフェン環、フラン環、チアゾール環又
はベンゾチアゾール環等が挙げられる。R61として好ま
しいものは、置換又は無置換のアリール基である。この
置換基としては一般式〔B〕のAの置換基と同義のもの
が挙げられるが、pH11.2以下の現像液で硬調化す
る場合はスルホアミド基を少なくとも一つ有することが
好ましい。A1及びA2は、一般式〔B〕のA1及びA2と
同義の基を表すが、ともに水素原子であることが最も好
ましい。R62は
る。R61で表されるアリール基としては、単環又は縮合
環のものが好ましく、例えばベンゼン環又はナフタレン
環などが挙げられる。R61で表されるヘテロ環基として
は、単環又は縮合環の少なくとも窒素、硫黄、酸素から
選ばれる一つのヘテロ原子を含む5又は6員の不飽和ヘ
テロ環が好ましく、例えばピリジン環、キノリン環、ピ
リミジン環、チオフェン環、フラン環、チアゾール環又
はベンゾチアゾール環等が挙げられる。R61として好ま
しいものは、置換又は無置換のアリール基である。この
置換基としては一般式〔B〕のAの置換基と同義のもの
が挙げられるが、pH11.2以下の現像液で硬調化す
る場合はスルホアミド基を少なくとも一つ有することが
好ましい。A1及びA2は、一般式〔B〕のA1及びA2と
同義の基を表すが、ともに水素原子であることが最も好
ましい。R62は
【0057】
【化15】
【0058】を表し、ここでR63及びR64は、それぞれ
水素原子、アルキル基(メチル、エチル、ベンジル
等)、アルケニル基(アリル、ブテニル等)、アルキニ
ル基(プロパルギル、ブチニル等)、アリール基(フェ
ニル、ナフチル等)、ヘテロ環基(2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジニル、N−ベンジルピペリジニル、
キノリジニル、N,N′−ジエチルピラゾリジニル、N
−ベンジルピロリジニル、ピリジル等)、アミノ基(ア
ミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジベンジルアミ
ノ等)、ヒドロキシル基、アルコキシ基(メトキシ、エ
トキシ等)、アルケニルオキシ基(アリルオキシ等)、
アルキニルオキシ基(プロパルギルオキシ等)、アリー
ルオキシ基(フェノキシ等)、又はヘテロ環オキシ基
(ピリジルオキシ等)を表し、R63とR64で窒素原子と
ともに環(ピペリジン、モルホリン等)を形成してもよ
い。R65は水素原子、アルキル基(メチル、エチル、メ
トキシエチル、ヒドロキシエチル等)、アルケニル基
(アリル、ブテニル等)、アルキニル基(プロパルギ
ル、ブチニル等)、アリール基(フェニル、ナフチル
等)、ヘテロ環基(2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジニル、N−メチルピペリジニル、ピリジル等)を表
す。
水素原子、アルキル基(メチル、エチル、ベンジル
等)、アルケニル基(アリル、ブテニル等)、アルキニ
ル基(プロパルギル、ブチニル等)、アリール基(フェ
ニル、ナフチル等)、ヘテロ環基(2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジニル、N−ベンジルピペリジニル、
キノリジニル、N,N′−ジエチルピラゾリジニル、N
−ベンジルピロリジニル、ピリジル等)、アミノ基(ア
ミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジベンジルアミ
ノ等)、ヒドロキシル基、アルコキシ基(メトキシ、エ
トキシ等)、アルケニルオキシ基(アリルオキシ等)、
アルキニルオキシ基(プロパルギルオキシ等)、アリー
ルオキシ基(フェノキシ等)、又はヘテロ環オキシ基
(ピリジルオキシ等)を表し、R63とR64で窒素原子と
ともに環(ピペリジン、モルホリン等)を形成してもよ
い。R65は水素原子、アルキル基(メチル、エチル、メ
トキシエチル、ヒドロキシエチル等)、アルケニル基
(アリル、ブテニル等)、アルキニル基(プロパルギ
ル、ブチニル等)、アリール基(フェニル、ナフチル
等)、ヘテロ環基(2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジニル、N−メチルピペリジニル、ピリジル等)を表
す。
【0059】一般式(6)で示されるヒドラジン化合物
の具体例を以下に示す。但し、本発明はこれらに限定さ
れるものではない。この他にも、一般式(6)で示され
るヒドラジン化合物の具体例は特開平5−241264
号に記載されている。
の具体例を以下に示す。但し、本発明はこれらに限定さ
れるものではない。この他にも、一般式(6)で示され
るヒドラジン化合物の具体例は特開平5−241264
号に記載されている。
【0060】
【化16】
【0061】本発明に用いられる一般式〔B〕で表され
るヒドラジン化合物の合成法は、特開昭62−1803
61号、同62−178246号、同63−23424
5号、同63−234246号、同64−90439
号、特開平2−37号、同2−841号、同2−947
号、同2−120736号、同2−230233号、同
3−125134号、米国特許第4,686,167
号、同第4,988,604号、同第4,994,36
5号、ヨーロッパ特許第253,665号、同第33
3,435号などに記載されている方法を参考にするこ
とができる。
るヒドラジン化合物の合成法は、特開昭62−1803
61号、同62−178246号、同63−23424
5号、同63−234246号、同64−90439
号、特開平2−37号、同2−841号、同2−947
号、同2−120736号、同2−230233号、同
3−125134号、米国特許第4,686,167
号、同第4,988,604号、同第4,994,36
5号、ヨーロッパ特許第253,665号、同第33
3,435号などに記載されている方法を参考にするこ
とができる。
【0062】本発明の一般式〔B〕で表されるヒドラジ
ン化合物の使用量は、ハロゲン化銀1モル当たり5×1
0-7〜5×10-1モルであることが好ましく、特に5×
10-6〜5×10-2モルの範囲とすることが好ましい。
ン化合物の使用量は、ハロゲン化銀1モル当たり5×1
0-7〜5×10-1モルであることが好ましく、特に5×
10-6〜5×10-2モルの範囲とすることが好ましい。
【0063】本発明において、一般式〔B〕で表される
ヒドラジン化合物を写真感光材料中に含有させるときに
は、ハロゲン化銀乳剤層又は該ハロゲン化銀乳剤層に隣
接する親水性コロイド層に含有させる。
ヒドラジン化合物を写真感光材料中に含有させるときに
は、ハロゲン化銀乳剤層又は該ハロゲン化銀乳剤層に隣
接する親水性コロイド層に含有させる。
【0064】又本発明には上記ヒドラジン化合物の働き
を助ける造核促進剤を用いるのが好ましく、これら造核
促進剤としては一般式〔7〕又は〔8〕に示される造核
促進剤が挙げられる。
を助ける造核促進剤を用いるのが好ましく、これら造核
促進剤としては一般式〔7〕又は〔8〕に示される造核
促進剤が挙げられる。
【0065】
【化17】
【0066】
【化18】
【0067】一般式〔7〕において、R71、R72、R73
は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル
基、置換アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置
換アリール基を表す。R71、R72、R73で環を形成する
ことができる。特に好ましくは脂肪族の3級アミン化合
物である。これらの化合物は分子中に耐拡散性基又はハ
ロゲン化銀吸着基を有するものが好ましい。耐拡散性を
有するためには分子量100以上の化合物が好ましく、
さらに好ましくは分子量300以上である。又、好まし
い吸着基としては複素環、メルカプト基、チオエーテル
基、チオン基、チオウレア基などが挙げられる。
は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル
基、置換アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置
換アリール基を表す。R71、R72、R73で環を形成する
ことができる。特に好ましくは脂肪族の3級アミン化合
物である。これらの化合物は分子中に耐拡散性基又はハ
ロゲン化銀吸着基を有するものが好ましい。耐拡散性を
有するためには分子量100以上の化合物が好ましく、
さらに好ましくは分子量300以上である。又、好まし
い吸着基としては複素環、メルカプト基、チオエーテル
基、チオン基、チオウレア基などが挙げられる。
【0068】具体的化合物としては以下に示すものが挙
げられる。
げられる。
【0069】
【化19】
【0070】
【化20】
【0071】
【化21】
【0072】
【化22】
【0073】前記一般式〔8〕において、Arは置換又
は無置換のアリール基、複素芳香環を表す。R81は置換
されていてもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニ
ル基、アリール基を表す。これらの化合物は分子内に耐
拡散性基又はハロゲン化銀吸着基を有するものが好まし
い。好ましい耐拡散基をもたせるためには分子量120
以上が好ましく、特に好ましくは300以上である。
は無置換のアリール基、複素芳香環を表す。R81は置換
されていてもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニ
ル基、アリール基を表す。これらの化合物は分子内に耐
拡散性基又はハロゲン化銀吸着基を有するものが好まし
い。好ましい耐拡散基をもたせるためには分子量120
以上が好ましく、特に好ましくは300以上である。
【0074】前記一般式〔8〕で表される化合物の具体
的化合物としては以下に示すものが挙げられる。
的化合物としては以下に示すものが挙げられる。
【0075】
【化23】
【0076】
【化24】
【0077】本発明の定着液には、一般式(2−A)又
は(2−B)で表される化合物を銀スラッジ防止剤とし
て含有させる。
は(2−B)で表される化合物を銀スラッジ防止剤とし
て含有させる。
【0078】一般式(2−A)は以下の式で表される。
【0079】Z1−SM1 式中Z1は、アルキル基、芳香族基若しくはヘテロ環基
であって、ヒドロキシル基、−SO3M2基、−COOM
2基(ここでM2は水素原子、アルカリ金属原子、又は置
換若しくは無置換のアンモニウムイオンを表す)、置換
若しくは無置換のアミノ基、置換若しくは無置換のアン
モニオ基からなる群から選ばれる少なくとも1つ又は、
この群より選ばれる少なくとも1つを有する置換基によ
って置換されているものを表す。M1は水素原子、アル
カリ金属原子、置換若しくは無置換のアミジノ基(これ
はハロゲン化水素酸塩若しくはスルホン酸塩を形成して
いてもよい)を表す。
であって、ヒドロキシル基、−SO3M2基、−COOM
2基(ここでM2は水素原子、アルカリ金属原子、又は置
換若しくは無置換のアンモニウムイオンを表す)、置換
若しくは無置換のアミノ基、置換若しくは無置換のアン
モニオ基からなる群から選ばれる少なくとも1つ又は、
この群より選ばれる少なくとも1つを有する置換基によ
って置換されているものを表す。M1は水素原子、アル
カリ金属原子、置換若しくは無置換のアミジノ基(これ
はハロゲン化水素酸塩若しくはスルホン酸塩を形成して
いてもよい)を表す。
【0080】又、一般式(2−A)において、Z1で表
されるアルキル基は好ましくは、炭素数1〜30のもの
であって特に炭素数2〜20の直鎖、分岐、又は環状の
アルキル基であって上記の置換基の他に置換基を有して
いてもよい。Z1で表される芳香族基は好ましくは炭素
数6〜32の単環又は縮合環のものであって上記の置換
基の他に置換基を有していてもよい。Z1で表されるヘ
テロ環基は好ましくは炭素数1〜32の単環又は縮合環
であり、窒素、酸素、硫黄のうちから独立に選ばれるヘ
テロ原子を1つの環中に1〜6個有する5又は6員環で
あり、上記の他に置換基を有していてもよい。但し、ヘ
テロ環基がテトラゾールの場合、置換基として、置換も
しくは無置換のナフチル基を有さない。一般式(2−
A)で表される化合物のうち、好ましくはZ1が、2個
以上の窒素原子を有するヘテロ環基である化合物であ
る。
されるアルキル基は好ましくは、炭素数1〜30のもの
であって特に炭素数2〜20の直鎖、分岐、又は環状の
アルキル基であって上記の置換基の他に置換基を有して
いてもよい。Z1で表される芳香族基は好ましくは炭素
数6〜32の単環又は縮合環のものであって上記の置換
基の他に置換基を有していてもよい。Z1で表されるヘ
テロ環基は好ましくは炭素数1〜32の単環又は縮合環
であり、窒素、酸素、硫黄のうちから独立に選ばれるヘ
テロ原子を1つの環中に1〜6個有する5又は6員環で
あり、上記の他に置換基を有していてもよい。但し、ヘ
テロ環基がテトラゾールの場合、置換基として、置換も
しくは無置換のナフチル基を有さない。一般式(2−
A)で表される化合物のうち、好ましくはZ1が、2個
以上の窒素原子を有するヘテロ環基である化合物であ
る。
【0081】アンモニオ基としては好ましくは炭素数2
0以下であって置換基としては置換又は無置換の直鎖、
分岐、又は環状のアルキル基(メチル基、エチル基、ベ
ンジル基、エトキシプロピル基、シクロヘキシル基
等)、置換又は無置換のフェニル基、ナフチル基を表
す。
0以下であって置換基としては置換又は無置換の直鎖、
分岐、又は環状のアルキル基(メチル基、エチル基、ベ
ンジル基、エトキシプロピル基、シクロヘキシル基
等)、置換又は無置換のフェニル基、ナフチル基を表
す。
【0082】一般式(2−A)で表される化合物で好ま
しいものは下記一般式(2−a)で表される。
しいものは下記一般式(2−a)で表される。
【0083】
【化25】
【0084】式中、Zは窒素原子を有する不飽和の5員
ヘテロ環又は、6員ヘテロ環(ピロール環、イミダゾー
ル環、ピラゾール環、ピリミジン環、ピリダジン環、ピ
ラジン環等)を形成するのに必要な基であり、少なくと
も一つの−SM1基又はチオン基を有する化合物であっ
て、且つヒドロキシル基、−COOM1基、−SO3M1
基、置換若しくは無置換のアミノ基、置換若しくは無置
換のアンモニオ基からなる群から選ばれた少なくとも一
つの置換基を有する。式中、R11、R12は、水素原子、
−SM1基、ハロゲン原子、アルキル基(置換基を有す
るものを含む)、アルコキシ基(置換基を有するものを
含む)、ヒドロキシル基、−COOM1基、−SO3M1
基、アルケニル基(置換基を有するものを含む)、アミ
ノ基(置換基を有するものを含む)、カルバモイル基
(置換基を有するものを含む)、フェニル基(置換基を
有するものを含む)であり、R11とR12で環を形成して
もよい。形成できる環としては、5員環又は6員環であ
り、好ましくは含窒素ヘテロ環である。M1は、前記一
般式(2−A)で定義されたM1と同義である。好まし
くはZは二つ以上の窒素原子を含むヘテロ環化合物を形
成する基であり、前記−SM1基若しくはチオン基以外
の置換基を有していてもよく、該置換基としては、ハロ
ゲン原子、低級アルキル基(置換基を有するものを含
む。メチル基、エチル基等の炭素数5以下のものが好ま
しい。)、低級アルコキシ基(置換基を有するものを含
む。メトキシ、エトキシ、ブトキシ等の炭素数5以下の
ものが好ましい。)、低級アルケニル基(置換基を有す
るものを含む。炭素数5以下のものが好ましい。)、カ
ルバモイル基、フェニル基等が挙げられる。更に一般式
(2−a)において次の一般式AからFで表される化合
物が特に好ましい。
ヘテロ環又は、6員ヘテロ環(ピロール環、イミダゾー
ル環、ピラゾール環、ピリミジン環、ピリダジン環、ピ
ラジン環等)を形成するのに必要な基であり、少なくと
も一つの−SM1基又はチオン基を有する化合物であっ
て、且つヒドロキシル基、−COOM1基、−SO3M1
基、置換若しくは無置換のアミノ基、置換若しくは無置
換のアンモニオ基からなる群から選ばれた少なくとも一
つの置換基を有する。式中、R11、R12は、水素原子、
−SM1基、ハロゲン原子、アルキル基(置換基を有す
るものを含む)、アルコキシ基(置換基を有するものを
含む)、ヒドロキシル基、−COOM1基、−SO3M1
基、アルケニル基(置換基を有するものを含む)、アミ
ノ基(置換基を有するものを含む)、カルバモイル基
(置換基を有するものを含む)、フェニル基(置換基を
有するものを含む)であり、R11とR12で環を形成して
もよい。形成できる環としては、5員環又は6員環であ
り、好ましくは含窒素ヘテロ環である。M1は、前記一
般式(2−A)で定義されたM1と同義である。好まし
くはZは二つ以上の窒素原子を含むヘテロ環化合物を形
成する基であり、前記−SM1基若しくはチオン基以外
の置換基を有していてもよく、該置換基としては、ハロ
ゲン原子、低級アルキル基(置換基を有するものを含
む。メチル基、エチル基等の炭素数5以下のものが好ま
しい。)、低級アルコキシ基(置換基を有するものを含
む。メトキシ、エトキシ、ブトキシ等の炭素数5以下の
ものが好ましい。)、低級アルケニル基(置換基を有す
るものを含む。炭素数5以下のものが好ましい。)、カ
ルバモイル基、フェニル基等が挙げられる。更に一般式
(2−a)において次の一般式AからFで表される化合
物が特に好ましい。
【0085】
【化26】
【0086】式中、各々R21、R22、R23、R24は各
々、水素原子、−SM1基、ハロゲン原子、低級アルキ
ル基(置換基を有するものを含む。メチル基、エチル基
等の炭素数5以下のものが好ましい。)、低級アルコキ
シ基(置換基を有するものを含む。炭素数5以下のもの
が好ましい。)、ヒドロキシ基、−COOM2、−SO3
M5基、低級アルケニル基(置換基を有するものを含
む。炭素数5以下のものが好ましい。)、アミノ基、カ
ルバモイル基、フェニル基であり、少なくとも一つは−
SM1基である。M1、M2、M5は各々水素原子、アルカ
リ金属原子又はアンモニウム基を表す。特に、−SM1
以外の置換基としてはヒドロキシ基、−COOM2、−
SO3M5基、アミノ基等の水溶性基を持つことが好まし
い。
々、水素原子、−SM1基、ハロゲン原子、低級アルキ
ル基(置換基を有するものを含む。メチル基、エチル基
等の炭素数5以下のものが好ましい。)、低級アルコキ
シ基(置換基を有するものを含む。炭素数5以下のもの
が好ましい。)、ヒドロキシ基、−COOM2、−SO3
M5基、低級アルケニル基(置換基を有するものを含
む。炭素数5以下のものが好ましい。)、アミノ基、カ
ルバモイル基、フェニル基であり、少なくとも一つは−
SM1基である。M1、M2、M5は各々水素原子、アルカ
リ金属原子又はアンモニウム基を表す。特に、−SM1
以外の置換基としてはヒドロキシ基、−COOM2、−
SO3M5基、アミノ基等の水溶性基を持つことが好まし
い。
【0087】R21、R22、R23、R24で表されるアミノ
基は置換又は非置換のアミノ基を表し、好ましい置換基
としては低級アルキル基である。アンモニウム基として
は置換又は非置換のアンモニウム基であり、好ましくは
非置換のアンモニウム基である。
基は置換又は非置換のアミノ基を表し、好ましい置換基
としては低級アルキル基である。アンモニウム基として
は置換又は非置換のアンモニウム基であり、好ましくは
非置換のアンモニウム基である。
【0088】以下に一般式(2−A)で表される化合物
の具体例を示すが、これらに限定されるものではない。
の具体例を示すが、これらに限定されるものではない。
【0089】
【化27】
【0090】
【化28】
【0091】
【化29】
【0092】
【化30】
【0093】
【化31】
【0094】
【化32】
【0095】一般式(2−A)で表される化合物の使用
量は、定着液1l中に10-6〜10-1モルであることが
好ましく、更には10-5〜10-2モルであることが好ま
しい。
量は、定着液1l中に10-6〜10-1モルであることが
好ましく、更には10-5〜10-2モルであることが好ま
しい。
【0096】一般式(2−B)は以下に表される化合物
である。
である。
【0097】
【化33】
【0098】一般式(2−B)中、R1およびR2は各々
水素原子または炭素数1〜3のアルキル基を表す。但し
R1とR2とは同時に水素原子になることはない。R3お
よびR4は各々水素原子または炭素数1〜3のアルキル
基を表し、R7は水酸基、アミノ基または炭素数1〜3
のアルキル基を表す。R5およびR6は各々水素原子、炭
素数1〜5のアルキル基、炭素数18以下のアシル基ま
たは−COOM10基を表す。ここで、M10は水素原子、
炭素数1〜4のアルキル基、アルカリ金属原子、アリー
ル基を表す。但しR5とR6は同時に水素原子になること
はない。M1は水素原子、アルカリ金属原子またはアン
モニウム基を表す。k1は0、1または2である。
水素原子または炭素数1〜3のアルキル基を表す。但し
R1とR2とは同時に水素原子になることはない。R3お
よびR4は各々水素原子または炭素数1〜3のアルキル
基を表し、R7は水酸基、アミノ基または炭素数1〜3
のアルキル基を表す。R5およびR6は各々水素原子、炭
素数1〜5のアルキル基、炭素数18以下のアシル基ま
たは−COOM10基を表す。ここで、M10は水素原子、
炭素数1〜4のアルキル基、アルカリ金属原子、アリー
ル基を表す。但しR5とR6は同時に水素原子になること
はない。M1は水素原子、アルカリ金属原子またはアン
モニウム基を表す。k1は0、1または2である。
【0099】
【化34】
【0100】上記の化合物の中、ハロゲン化銀白黒写真
感光材料の処理方法に用いる定着液には、上記化合物の
中でも ・N−アセチル−D.L−ペニシラミン(B−1) もしくは ・8−メルカプトアデニン(S−39)を含有する事が
特に好ましい。
感光材料の処理方法に用いる定着液には、上記化合物の
中でも ・N−アセチル−D.L−ペニシラミン(B−1) もしくは ・8−メルカプトアデニン(S−39)を含有する事が
特に好ましい。
【0101】これらの化合物は一般的な合成方法により
得ることができ、例えば英国特許第950,089号、
米国特許第3,021,215号、ジャーナル・オブ・
ザ・アメリカン・ケミカル・ソサイエティー第91巻、
第4694〜4697頁の記載等を参照できる。
得ることができ、例えば英国特許第950,089号、
米国特許第3,021,215号、ジャーナル・オブ・
ザ・アメリカン・ケミカル・ソサイエティー第91巻、
第4694〜4697頁の記載等を参照できる。
【0102】本発明の化合物は定着液中に、0.1〜1
00g/l程度含有せしめて用いるが、好ましくは0.
5〜60g/l、更には1〜30g/lである。本発明
の化合物を含有せしめる定着液としては、一般に用いら
れる組成のpH3〜8程度のものを採用できる。定着開
始液は、通常用いられている濃厚液キットを水で希釈し
用いてもよいが、後述する、二種以上の化合物から成形
された固体処理剤の単独物または混合物を水で溶解して
用いて良い。補充液については、二種以上の化合物から
成形された固体処理剤の単独物または混合物を水で溶解
して用いるのが好ましい。定着開始液のpHは4.0以
上、好ましくは4.2〜5.5であり更に好ましくは、
4.6〜5.3である。定着主薬としてはチオ硫酸ナト
リウム、チオ硫酸アンモニウムが使用でき、チオ硫酸イ
オンを必須成分とするものであり、臭気の発生を防止す
る目的からチオ硫酸ナトリウムが特に好ましい。定着主
薬の使用量は適宜変えることができ、一般には、0.1
〜約6モル/リットルである。
00g/l程度含有せしめて用いるが、好ましくは0.
5〜60g/l、更には1〜30g/lである。本発明
の化合物を含有せしめる定着液としては、一般に用いら
れる組成のpH3〜8程度のものを採用できる。定着開
始液は、通常用いられている濃厚液キットを水で希釈し
用いてもよいが、後述する、二種以上の化合物から成形
された固体処理剤の単独物または混合物を水で溶解して
用いて良い。補充液については、二種以上の化合物から
成形された固体処理剤の単独物または混合物を水で溶解
して用いるのが好ましい。定着開始液のpHは4.0以
上、好ましくは4.2〜5.5であり更に好ましくは、
4.6〜5.3である。定着主薬としてはチオ硫酸ナト
リウム、チオ硫酸アンモニウムが使用でき、チオ硫酸イ
オンを必須成分とするものであり、臭気の発生を防止す
る目的からチオ硫酸ナトリウムが特に好ましい。定着主
薬の使用量は適宜変えることができ、一般には、0.1
〜約6モル/リットルである。
【0103】定着主薬は、チオ硫酸ナトリウム、チオ硫
酸カリウム、チオ硫酸アンモニウム等のチオ硫酸塩、チ
オシアン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウム、チオシ
アン酸アンモニウム等のチオシアン酸塩の他、可溶性安
定銀錯塩を生成し得る有機硫黄化合物で定着剤として知
られているものを用いることができる。定着液には、硬
膜剤として作用する水溶性アルミニウム塩(塩化アルミ
ニウム、硫酸アルミニウム、カリ明礬等)やアルデヒド
化合物(グルタルアルデヒドやグルタルアルデヒドの亜
硫酸付加物等)、保恒剤(亜硫酸塩、重亜硫酸塩等)、
pH緩衝剤(酢酸、クエン酸等)、pH調整剤(硫酸
等)、硬水軟化能のあるキレート剤等を含有させること
ができる。定着液中のアンモニウムイオン濃度は0.1
モル/l以下であることが好ましく、より好ましくは0
〜0.05モル/lである。又、酢酸イオン濃度は0.
33モル/l未満であることが好ましく、より好ましく
は0.22モル/l以下、更には0.13モル/l以下
で、これにより酢酸ガス発生量を高度に減少させること
ができるが、酢酸イオンを実質的に含有しないのが最も
好ましい。本発明においては、黒白ハロゲン化銀写真感
光材料を、現像部、定着部、水洗部或いは安定化部及び
乾燥部を有する自動現像機にて処理し、定着補充液の補
充量を感光材料1m2当たり325ml以下と低減して
その効果を遺憾なく発揮する。
酸カリウム、チオ硫酸アンモニウム等のチオ硫酸塩、チ
オシアン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウム、チオシ
アン酸アンモニウム等のチオシアン酸塩の他、可溶性安
定銀錯塩を生成し得る有機硫黄化合物で定着剤として知
られているものを用いることができる。定着液には、硬
膜剤として作用する水溶性アルミニウム塩(塩化アルミ
ニウム、硫酸アルミニウム、カリ明礬等)やアルデヒド
化合物(グルタルアルデヒドやグルタルアルデヒドの亜
硫酸付加物等)、保恒剤(亜硫酸塩、重亜硫酸塩等)、
pH緩衝剤(酢酸、クエン酸等)、pH調整剤(硫酸
等)、硬水軟化能のあるキレート剤等を含有させること
ができる。定着液中のアンモニウムイオン濃度は0.1
モル/l以下であることが好ましく、より好ましくは0
〜0.05モル/lである。又、酢酸イオン濃度は0.
33モル/l未満であることが好ましく、より好ましく
は0.22モル/l以下、更には0.13モル/l以下
で、これにより酢酸ガス発生量を高度に減少させること
ができるが、酢酸イオンを実質的に含有しないのが最も
好ましい。本発明においては、黒白ハロゲン化銀写真感
光材料を、現像部、定着部、水洗部或いは安定化部及び
乾燥部を有する自動現像機にて処理し、定着補充液の補
充量を感光材料1m2当たり325ml以下と低減して
その効果を遺憾なく発揮する。
【0104】定着処理後、水洗又は安定化処理が施され
る。安定化浴には、処理後の画像の膜面pHを3〜8に
調整するための酸又はアルカリ剤及びそれらの塩(硼酸
塩、メタ硼酸塩、ホウ砂、燐酸塩、炭酸塩、水酸化カリ
ウム、水酸化ナトリウム、アンモニア水、モノカルボン
酸、ジカルボン酸、ポリカルボン酸、クエン酸、蓚酸、
リンゴ酸、酢酸等)、アルデヒド類(ホルマリン、グリ
オキザール、グルタルアルデヒド等)、キレート剤(エ
チレンジアミンジオルトヒドロキシフェニル酢酸、ジア
ミノプロパン四酢酸、ニトリロ三酢酸、ヒドロキシエチ
ルエチレンジアミン三酢酸、ジヒドロキシエチルグリシ
ン、エチレンジアミン二酢酸、エチレンジアミン二プロ
ピオン酸、イミノ二酢酸、ジエチレントリアミン五酢
酸、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸、1,3−ジアミノ
プロパノール四酢酸、トリエチレンテトラミン六酢酸、
トランスシクロヘキサンジアミン四酢酸、エチレンジア
ミン四酢酸、グリコールエーテルジアミン四酢酸、エチ
レンジアミンテトラキスメチレンホスホン酸、ジエチレ
ントリアミンペンタメチレンホスホン酸、ニトリロトリ
メチレンホスホン酸、1−ヒドロキシエチリデン−1,
1−ジホスホン酸、1,1−ジホスホノエタン−2−カ
ルボン酸、2−ホスホノブタン−1,2,4−トリカル
ボン酸、1−ヒドロキシ−1−ホスホノプロパン−1,
3,3−トリカルボン酸、カテコール−3,5−ジスル
ホン酸、ピロリン酸ナトリウム、テトラポリリン酸ナト
リウム、ヘキサメタリン酸ナトリウムが挙げられ、特に
好ましくは例えばジエチレントリアミン五酢酸、トリエ
チレンテトラミン六酢酸、1,3−ジアミノプロパノー
ル四酢酸、グリコールエーテルジアミン四酢酸、ヒドロ
キシエチルエチレンジアミン三酢酸、2−ホスホノブタ
ン−1,2,4−トリカルボン酸、1,1−ジホスホノ
エタン−2−カルボン酸、ニトリロトリメチレンホスホ
ン酸、エチレンジアミンテトラホスホン酸、ジエチレン
トリアミンペンタホスホン酸、1−ヒドロキシプロピリ
デン−1,1−ジホスホン酸、1−アミノエチリデン−
1,1−ジホスホン酸、1−ヒドロキシエチリデン−
1,1−ジホスホン酸やこれらの塩)、防黴剤(フェノ
ール、4−クロロフェノール、クレゾール、o−フェニ
ルフェノール、クロロフェン、ジクロロフェン、ホルム
アルデヒド、p−ヒドロキシ安息香酸エステル、2−
(4−チアゾリン)−ベンゾイミダゾール、ベンゾイソ
チアゾリン−3−オン、ドデシル−ベンジル−メチルア
ンモニウム−クロライド、N−(フルオロジクロロメチ
ルチオ)フタルイミド、2,4,4′−トリクロロ−
2′−ハイドロオキシジフェニルエーテル等)、色調調
整剤、残色改良剤(メルカプト基を有する含窒素ヘテロ
環化合物等)を添加する。特に防黴剤を添加するのが好
ましい。
る。安定化浴には、処理後の画像の膜面pHを3〜8に
調整するための酸又はアルカリ剤及びそれらの塩(硼酸
塩、メタ硼酸塩、ホウ砂、燐酸塩、炭酸塩、水酸化カリ
ウム、水酸化ナトリウム、アンモニア水、モノカルボン
酸、ジカルボン酸、ポリカルボン酸、クエン酸、蓚酸、
リンゴ酸、酢酸等)、アルデヒド類(ホルマリン、グリ
オキザール、グルタルアルデヒド等)、キレート剤(エ
チレンジアミンジオルトヒドロキシフェニル酢酸、ジア
ミノプロパン四酢酸、ニトリロ三酢酸、ヒドロキシエチ
ルエチレンジアミン三酢酸、ジヒドロキシエチルグリシ
ン、エチレンジアミン二酢酸、エチレンジアミン二プロ
ピオン酸、イミノ二酢酸、ジエチレントリアミン五酢
酸、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸、1,3−ジアミノ
プロパノール四酢酸、トリエチレンテトラミン六酢酸、
トランスシクロヘキサンジアミン四酢酸、エチレンジア
ミン四酢酸、グリコールエーテルジアミン四酢酸、エチ
レンジアミンテトラキスメチレンホスホン酸、ジエチレ
ントリアミンペンタメチレンホスホン酸、ニトリロトリ
メチレンホスホン酸、1−ヒドロキシエチリデン−1,
1−ジホスホン酸、1,1−ジホスホノエタン−2−カ
ルボン酸、2−ホスホノブタン−1,2,4−トリカル
ボン酸、1−ヒドロキシ−1−ホスホノプロパン−1,
3,3−トリカルボン酸、カテコール−3,5−ジスル
ホン酸、ピロリン酸ナトリウム、テトラポリリン酸ナト
リウム、ヘキサメタリン酸ナトリウムが挙げられ、特に
好ましくは例えばジエチレントリアミン五酢酸、トリエ
チレンテトラミン六酢酸、1,3−ジアミノプロパノー
ル四酢酸、グリコールエーテルジアミン四酢酸、ヒドロ
キシエチルエチレンジアミン三酢酸、2−ホスホノブタ
ン−1,2,4−トリカルボン酸、1,1−ジホスホノ
エタン−2−カルボン酸、ニトリロトリメチレンホスホ
ン酸、エチレンジアミンテトラホスホン酸、ジエチレン
トリアミンペンタホスホン酸、1−ヒドロキシプロピリ
デン−1,1−ジホスホン酸、1−アミノエチリデン−
1,1−ジホスホン酸、1−ヒドロキシエチリデン−
1,1−ジホスホン酸やこれらの塩)、防黴剤(フェノ
ール、4−クロロフェノール、クレゾール、o−フェニ
ルフェノール、クロロフェン、ジクロロフェン、ホルム
アルデヒド、p−ヒドロキシ安息香酸エステル、2−
(4−チアゾリン)−ベンゾイミダゾール、ベンゾイソ
チアゾリン−3−オン、ドデシル−ベンジル−メチルア
ンモニウム−クロライド、N−(フルオロジクロロメチ
ルチオ)フタルイミド、2,4,4′−トリクロロ−
2′−ハイドロオキシジフェニルエーテル等)、色調調
整剤、残色改良剤(メルカプト基を有する含窒素ヘテロ
環化合物等)を添加する。特に防黴剤を添加するのが好
ましい。
【0105】本発明においては、廃液量の低減の要望か
ら感光材料の面積に比例した一定量の処理液を補充しな
がら処理される。その現像液補充量、定着液補充量、安
定化液補充量は65〜325ml/m2以下である。好
ましくはそれぞれ1m2当たり65〜130mlであ
る。
ら感光材料の面積に比例した一定量の処理液を補充しな
がら処理される。その現像液補充量、定着液補充量、安
定化液補充量は65〜325ml/m2以下である。好
ましくはそれぞれ1m2当たり65〜130mlであ
る。
【0106】固体処理剤を水で溶解した液で補充される
場合の補充量はそれぞれの固体処理剤容積と水の容積の
合計量であり、また固体処理剤と水を別々に補充する場
合の補充量はそれぞれの固体処理剤容積と水の容積の合
計量である。
場合の補充量はそれぞれの固体処理剤容積と水の容積の
合計量であり、また固体処理剤と水を別々に補充する場
合の補充量はそれぞれの固体処理剤容積と水の容積の合
計量である。
【0107】本発明において補充量は、現像母液及び定
着母液と同じ液を補充する場合はそれぞれの補充量を言
い、現像濃縮液及び定着濃縮液を水で希釈した液で補充
する場合はそれぞれの濃縮液と水との合計量を言い、固
体現像処理剤及び固体定着処理剤を水で溶解した液で補
充する場合はそれぞれの固体処理剤容積と水の容積の合
計量を言う。例えば固体処理剤を自動現像機の処理槽に
直接投入する場合は、固体処理剤の容積と別途添加する
補充水の容積を合計した量である。
着母液と同じ液を補充する場合はそれぞれの補充量を言
い、現像濃縮液及び定着濃縮液を水で希釈した液で補充
する場合はそれぞれの濃縮液と水との合計量を言い、固
体現像処理剤及び固体定着処理剤を水で溶解した液で補
充する場合はそれぞれの固体処理剤容積と水の容積の合
計量を言う。例えば固体処理剤を自動現像機の処理槽に
直接投入する場合は、固体処理剤の容積と別途添加する
補充水の容積を合計した量である。
【0108】各処理部の温度は10〜45℃であること
が好ましく、処理部毎に温度調整されていてもよい。迅
速処理の観点から、自動現像機を用いて処理する場合、
感光材料の先端が自動現像機に挿入されてから乾燥ゾー
ンから出て来るまでの全処理時間(Dry to dr
y)は10〜60秒であることが好ましく、より好まし
くは15〜50秒である。又、100m2以上の大量の
感光材料を安定にランニング処理するためには、現像時
間が2〜18秒であることが好ましい。自動現像機とし
ては、60℃以上の伝熱体(60〜130℃のヒートロ
ーラー等)又は150℃以上の輻射物体(タングステ
ン、炭素、ニクロム、酸化ジルコニウム、酸化イットリ
ウム、酸化トリウムの混合物、炭化ケイ素等に直接電流
を通して発熱放射させたり、抵抗発熱体から熱エネルギ
ーを銅、ステンレス、ニッケル、各種セラミック等の放
射体に伝達させたりして赤外線を放出するもの)で乾燥
するゾーンをもつものが好ましい。又、自動現像機とし
ては下記に記載の方法又は機能を採用したものを好まし
く用いることができる。
が好ましく、処理部毎に温度調整されていてもよい。迅
速処理の観点から、自動現像機を用いて処理する場合、
感光材料の先端が自動現像機に挿入されてから乾燥ゾー
ンから出て来るまでの全処理時間(Dry to dr
y)は10〜60秒であることが好ましく、より好まし
くは15〜50秒である。又、100m2以上の大量の
感光材料を安定にランニング処理するためには、現像時
間が2〜18秒であることが好ましい。自動現像機とし
ては、60℃以上の伝熱体(60〜130℃のヒートロ
ーラー等)又は150℃以上の輻射物体(タングステ
ン、炭素、ニクロム、酸化ジルコニウム、酸化イットリ
ウム、酸化トリウムの混合物、炭化ケイ素等に直接電流
を通して発熱放射させたり、抵抗発熱体から熱エネルギ
ーを銅、ステンレス、ニッケル、各種セラミック等の放
射体に伝達させたりして赤外線を放出するもの)で乾燥
するゾーンをもつものが好ましい。又、自動現像機とし
ては下記に記載の方法又は機能を採用したものを好まし
く用いることができる。
【0109】脱臭装置:特開昭64−37560号2頁
左上欄〜3頁左上欄 水洗水再生浄化剤及び装置:特開平6−250352号
3頁段落「0011」〜8頁段落「0058」 廃液処理方法:特開平2−64638号2頁左下欄〜5
頁左下欄 現像浴と定着浴の間のリンス浴:特開平4−31374
9号18頁段落「0054」〜21頁段落「0065」 補充水補充方法:特開平1−281446号2頁左下欄
〜右下欄 外気の温度及び湿度を検出して乾燥風を制御:特開平1
−315745号2頁右下欄〜7頁右下欄及び特開平2
−108051号2頁左下欄〜3頁左下欄 定着廃液からの銀回収:特開平6−27623号第4頁
段落「0012」〜7頁段落「0071」。
左上欄〜3頁左上欄 水洗水再生浄化剤及び装置:特開平6−250352号
3頁段落「0011」〜8頁段落「0058」 廃液処理方法:特開平2−64638号2頁左下欄〜5
頁左下欄 現像浴と定着浴の間のリンス浴:特開平4−31374
9号18頁段落「0054」〜21頁段落「0065」 補充水補充方法:特開平1−281446号2頁左下欄
〜右下欄 外気の温度及び湿度を検出して乾燥風を制御:特開平1
−315745号2頁右下欄〜7頁右下欄及び特開平2
−108051号2頁左下欄〜3頁左下欄 定着廃液からの銀回収:特開平6−27623号第4頁
段落「0012」〜7頁段落「0071」。
【0110】本発明に用いる銀回収装置の電極電解方法
はどのような型でも良い。例えば従来よく用いられてい
る回転円筒式電極を用いる方法、米国特許第3,84
0,455号に開示されるらせん状陰極をもちいる方
法、特開昭53−65218号に開示される非導電性粒
子を充填した流動性床電解法などが挙げられる。銀回収
装置は配管を通じて外部に接続して廃液から銀を回収す
る間接的に接続して銀回収を行う方法と、定着漕に直接
電極や円筒式電極などを組み込んで直接電気分解を行う
ものがあるが、直接電気分解を行うものの方が常に定着
漕内部銀量を直接制御できるという面で有利であるた
め、直接電気分解をおこなうもののほうが好ましい。ま
た小型化された現在の自動現像機などでの使用には、回
転円筒部分を小型化して処理漕の底部または側面部に埋
め込み、直接電気分解を行うものや、小型化したらせん
状陰極を用いるものが好ましい。
はどのような型でも良い。例えば従来よく用いられてい
る回転円筒式電極を用いる方法、米国特許第3,84
0,455号に開示されるらせん状陰極をもちいる方
法、特開昭53−65218号に開示される非導電性粒
子を充填した流動性床電解法などが挙げられる。銀回収
装置は配管を通じて外部に接続して廃液から銀を回収す
る間接的に接続して銀回収を行う方法と、定着漕に直接
電極や円筒式電極などを組み込んで直接電気分解を行う
ものがあるが、直接電気分解を行うものの方が常に定着
漕内部銀量を直接制御できるという面で有利であるた
め、直接電気分解をおこなうもののほうが好ましい。ま
た小型化された現在の自動現像機などでの使用には、回
転円筒部分を小型化して処理漕の底部または側面部に埋
め込み、直接電気分解を行うものや、小型化したらせん
状陰極を用いるものが好ましい。
【0111】又、特開昭56−696261号に記載さ
れるような陽極を角膜で分離し、陽極膜に定着液とは異
なる組成を持つ液を用いる方法などにも適用できる。更
に電解銀回収後にイオン交換樹脂と接触させる方法(独
国特許出願2741080号)も適用できる。本発明の
処理方法では安定化液の前浴は定着液であり、銀塩の殆
どはここで溶解される。
れるような陽極を角膜で分離し、陽極膜に定着液とは異
なる組成を持つ液を用いる方法などにも適用できる。更
に電解銀回収後にイオン交換樹脂と接触させる方法(独
国特許出願2741080号)も適用できる。本発明の
処理方法では安定化液の前浴は定着液であり、銀塩の殆
どはここで溶解される。
【0112】他に銀回収方法としてはフィルター除去に
よるものなどがあるが、ランニング処理などですぐに銀
汚れが蓄積されてしまい、効果としては不充分であり、
好ましくない。
よるものなどがあるが、ランニング処理などですぐに銀
汚れが蓄積されてしまい、効果としては不充分であり、
好ましくない。
【0113】本発明においては固体処理剤による処理が
好ましく、固体処理剤及び固体処理剤作製方法について
以下に述べる。
好ましく、固体処理剤及び固体処理剤作製方法について
以下に述べる。
【0114】固体処理剤とは、処理液を構成する成分が
2種以上で成形された固体をいい、処理液成分が全て含
有された1種の固体、または固体が2種以上で処理液の
成分を構成できるものであっても良い。固体処理剤にお
いては、少なくとも2種以上の化合物が成形された固体
を少なくとも1種あればよく、成形された固体以外は単
体物質でも良い。
2種以上で成形された固体をいい、処理液成分が全て含
有された1種の固体、または固体が2種以上で処理液の
成分を構成できるものであっても良い。固体処理剤にお
いては、少なくとも2種以上の化合物が成形された固体
を少なくとも1種あればよく、成形された固体以外は単
体物質でも良い。
【0115】固体処理剤を作成する方法としては水を添
加して造粒を行った後に乾燥させて顆粒を得て成形する
方法と水の添加量を少なくして造粒を行い、もしくはま
ったく水を添加せずに、直接乾燥工程を経ずに成形する
方法がある。水添加量としては全体の素材の量に対して
0%以上2%以下であることが好ましい。
加して造粒を行った後に乾燥させて顆粒を得て成形する
方法と水の添加量を少なくして造粒を行い、もしくはま
ったく水を添加せずに、直接乾燥工程を経ずに成形する
方法がある。水添加量としては全体の素材の量に対して
0%以上2%以下であることが好ましい。
【0116】造粒を行わずに原材料を直接圧縮成形して
顆粒状の固体処理剤を成形する方式の例としてブリケッ
ティングマシンがある。
顆粒状の固体処理剤を成形する方式の例としてブリケッ
ティングマシンがある。
【0117】また造粒する手段としては一般に用いられ
ている攪拌造粒機やヘンシェルミキサーを用いる方法が
ある。
ている攪拌造粒機やヘンシェルミキサーを用いる方法が
ある。
【0118】ブリケッティングマシンの造粒原理として
は回転する2つのロールの間に原料を供給してロール表
面の凹部で圧縮造粒する方法である。ブリケッティング
マシンの供給方式としては縦供給だけでなく横供給のも
のもある。
は回転する2つのロールの間に原料を供給してロール表
面の凹部で圧縮造粒する方法である。ブリケッティング
マシンの供給方式としては縦供給だけでなく横供給のも
のもある。
【0119】ブリケッティングの目的としては、粉塵の
発生を防ぐ、容積を減らして梱包輸送などを合理化す
る、表面積を減少させて気体や液体との反応をコントロ
ールする、液体への溶解速度や分散性を改善する、包装
容器中での固結を防止して取り扱いを容易にする、など
がある。
発生を防ぐ、容積を減らして梱包輸送などを合理化す
る、表面積を減少させて気体や液体との反応をコントロ
ールする、液体への溶解速度や分散性を改善する、包装
容器中での固結を防止して取り扱いを容易にする、など
がある。
【0120】ヘンシェルミキサーとは回分式攪拌造粒装
置で円筒型容器をもち軸シール部を容器下部に設定した
ものである。攪拌翼は目的に応じて形状・数量とも選択
できるようになっていて、通常上下2段の攪拌羽根を装
着し高速で回転させる。液状結合剤を用いる場合は攪拌
羽根の外周速度で5−10m/s程度である。また攪拌
羽根の回転で発生する摩擦熱により温度上昇させ顆粒に
するための周速度は20−30m/sや40m/sにな
る。円筒型の容器側壁にジャケットを設け、その熱媒の
温度をコントロールすることによって加熱時間を減少さ
せることや造粒後の冷却を行うことなどの複数の行程も
1台でこなすことが可能である。
置で円筒型容器をもち軸シール部を容器下部に設定した
ものである。攪拌翼は目的に応じて形状・数量とも選択
できるようになっていて、通常上下2段の攪拌羽根を装
着し高速で回転させる。液状結合剤を用いる場合は攪拌
羽根の外周速度で5−10m/s程度である。また攪拌
羽根の回転で発生する摩擦熱により温度上昇させ顆粒に
するための周速度は20−30m/sや40m/sにな
る。円筒型の容器側壁にジャケットを設け、その熱媒の
温度をコントロールすることによって加熱時間を減少さ
せることや造粒後の冷却を行うことなどの複数の行程も
1台でこなすことが可能である。
【0121】乾燥行程をなしで造粒するには造粒時に添
加する水の量をあらかじめ少ないものとすることが必要
である。水の添加量は処理剤全素材の含水量が3%以下
であることが好ましい。より好ましくは含水量が0.0
1から2.0%の間であり、さらに好ましくは0.05
から1.5%の間にあるものである次に本発明に用いる
ことができる処理剤について説明する。
加する水の量をあらかじめ少ないものとすることが必要
である。水の添加量は処理剤全素材の含水量が3%以下
であることが好ましい。より好ましくは含水量が0.0
1から2.0%の間であり、さらに好ましくは0.05
から1.5%の間にあるものである次に本発明に用いる
ことができる処理剤について説明する。
【0122】本発明に用いられる処理剤は、粉末、ペー
スト状、顆粒、錠剤、濃縮液、使用液等いずれの形態で
供給されても構わないが、顆粒、錠剤、濃縮液で供給さ
れることが好ましい。開始液として用いる場合は、それ
らを定められたように水に溶解するなどして調整して用
いる。補充液として使用する場合は、予め水と混合溶解
して用いるか、直接自現機内に投入して用いるかいずれ
でも構わない。
スト状、顆粒、錠剤、濃縮液、使用液等いずれの形態で
供給されても構わないが、顆粒、錠剤、濃縮液で供給さ
れることが好ましい。開始液として用いる場合は、それ
らを定められたように水に溶解するなどして調整して用
いる。補充液として使用する場合は、予め水と混合溶解
して用いるか、直接自現機内に投入して用いるかいずれ
でも構わない。
【0123】また、本発明において現像液には、アスコ
ルビン酸系現像主薬と、3−ピラゾリドン類、アミノフ
ェノール類及び親水性基で置換されたジヒドロキシベン
ゼン類から選ばれる現像主薬とを組み合わせて使用する
ことがとりわけ好ましく、実質的にハイドロキノンを含
有しないことが好ましい。保恒剤として用いる亜硫酸
塩、メタ重亜硫酸塩としては、亜硫酸ナトリウム、亜硫
酸カリウム、亜硫酸アンモニウム、メタ重亜硫酸ナトリ
ウムなどがある。亜硫酸塩は0.25モル/リットル以
上が好ましい。特に好ましくは0.4モル/リットル以
上である。
ルビン酸系現像主薬と、3−ピラゾリドン類、アミノフ
ェノール類及び親水性基で置換されたジヒドロキシベン
ゼン類から選ばれる現像主薬とを組み合わせて使用する
ことがとりわけ好ましく、実質的にハイドロキノンを含
有しないことが好ましい。保恒剤として用いる亜硫酸
塩、メタ重亜硫酸塩としては、亜硫酸ナトリウム、亜硫
酸カリウム、亜硫酸アンモニウム、メタ重亜硫酸ナトリ
ウムなどがある。亜硫酸塩は0.25モル/リットル以
上が好ましい。特に好ましくは0.4モル/リットル以
上である。
【0124】本発明においては、現像液には、アルカリ
剤(水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等)及びpH緩
衝剤(例えば炭酸塩、燐酸塩、硼酸塩、硼酸、酢酸、枸
櫞酸、アルカノールアミン等)が添加されることが好ま
しい。pH緩衝剤としては、炭酸塩が好ましく、その添
加量は1リットル当たり0.5モル以上2.5モル以下
が好ましく、更に好ましくは、0.75モル以上1.5
モル以下の範囲である。また、必要により溶解助剤(例
えばポリエチレングリコール類、それらのエステル、ア
ルカノールアミン等)、増感剤(例えばポリオキシエチ
レン類を含む非イオン界面活性剤、四級アンモニウム化
合物等)、界面活性剤、消泡剤、カブリ防止剤(例えば
臭化カリウム、臭化ナトリウムの如きハロゲン化物、ニ
トロベンズインダゾール、ニトロベンズイミダゾール、
ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、テトラゾール
類、チアゾール類等)、キレート化剤(例えばエチレン
ジアミン四酢酸又はそのアルカリ金属塩、ニトリロ三酢
酸塩、ポリ燐酸塩等)、現像促進剤(例えば米国特許第
2,304,025号、特公昭47−45541号に記
載の化合物等)、硬膜剤(例えばグルタルアルデヒド又
は、その重亜硫酸塩付加物等)、あるいは消泡剤などを
添加することができる。現像液のpHは7.5以上1
0.5未満に調整されることが好ましい。更に好ましく
は、pH8.5以上10.4以下である。
剤(水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等)及びpH緩
衝剤(例えば炭酸塩、燐酸塩、硼酸塩、硼酸、酢酸、枸
櫞酸、アルカノールアミン等)が添加されることが好ま
しい。pH緩衝剤としては、炭酸塩が好ましく、その添
加量は1リットル当たり0.5モル以上2.5モル以下
が好ましく、更に好ましくは、0.75モル以上1.5
モル以下の範囲である。また、必要により溶解助剤(例
えばポリエチレングリコール類、それらのエステル、ア
ルカノールアミン等)、増感剤(例えばポリオキシエチ
レン類を含む非イオン界面活性剤、四級アンモニウム化
合物等)、界面活性剤、消泡剤、カブリ防止剤(例えば
臭化カリウム、臭化ナトリウムの如きハロゲン化物、ニ
トロベンズインダゾール、ニトロベンズイミダゾール、
ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、テトラゾール
類、チアゾール類等)、キレート化剤(例えばエチレン
ジアミン四酢酸又はそのアルカリ金属塩、ニトリロ三酢
酸塩、ポリ燐酸塩等)、現像促進剤(例えば米国特許第
2,304,025号、特公昭47−45541号に記
載の化合物等)、硬膜剤(例えばグルタルアルデヒド又
は、その重亜硫酸塩付加物等)、あるいは消泡剤などを
添加することができる。現像液のpHは7.5以上1
0.5未満に調整されることが好ましい。更に好ましく
は、pH8.5以上10.4以下である。
【0125】現像処理の特殊な形式として、現像主薬を
感光材料中、例えば乳剤層中またはその隣接層中に含
み、感光材料をアルカリ水溶液中で処理して現像を行わ
せるアクチベータ処理液に用いてもよい。また、現像主
薬を感光材料中、例えば乳剤層中またはその隣接層中に
含んだ感光材料を現像液で処理しても良い。このような
現像処理は、チオシアン酸塩による銀塩安定化処理と組
み合わせて、感光材料の迅速処理の方法の一つとして利
用されることが多く、そのような処理液に適用も可能で
ある。
感光材料中、例えば乳剤層中またはその隣接層中に含
み、感光材料をアルカリ水溶液中で処理して現像を行わ
せるアクチベータ処理液に用いてもよい。また、現像主
薬を感光材料中、例えば乳剤層中またはその隣接層中に
含んだ感光材料を現像液で処理しても良い。このような
現像処理は、チオシアン酸塩による銀塩安定化処理と組
み合わせて、感光材料の迅速処理の方法の一つとして利
用されることが多く、そのような処理液に適用も可能で
ある。
【0126】迅速処理の観点から、感光材料の先端が自
動現像機に挿入されてから乾燥ゾーンから出て来るまで
の全処理時間(Dry to dry)は10〜60秒
であることが好ましく、より好ましくは15〜50秒で
ある。又、100m2以上の大量の感光材料を安定にラ
ンニング処理するためには、現像時間が2〜18秒であ
ることが好ましい。自動現像機としては、60℃以上の
伝熱体(60〜130℃のヒートローラー等)又は15
0℃以上の輻射物体(タングステン、炭素、ニクロム、
酸化ジルコニウム、酸化イットリウム、酸化トリウムの
混合物、炭化ケイ素等に直接電流を通して発熱放射させ
たり、抵抗発熱体から熱エネルギーを銅、ステンレス、
ニッケル、各種セラミック等の放射体に伝達させたりし
て赤外線を放出するもの)で乾燥するゾーンをもつもの
が好ましい。又、自動現像機としては下記に記載の方法
又は機能を採用したものを好ましく用いることができ
る。
動現像機に挿入されてから乾燥ゾーンから出て来るまで
の全処理時間(Dry to dry)は10〜60秒
であることが好ましく、より好ましくは15〜50秒で
ある。又、100m2以上の大量の感光材料を安定にラ
ンニング処理するためには、現像時間が2〜18秒であ
ることが好ましい。自動現像機としては、60℃以上の
伝熱体(60〜130℃のヒートローラー等)又は15
0℃以上の輻射物体(タングステン、炭素、ニクロム、
酸化ジルコニウム、酸化イットリウム、酸化トリウムの
混合物、炭化ケイ素等に直接電流を通して発熱放射させ
たり、抵抗発熱体から熱エネルギーを銅、ステンレス、
ニッケル、各種セラミック等の放射体に伝達させたりし
て赤外線を放出するもの)で乾燥するゾーンをもつもの
が好ましい。又、自動現像機としては下記に記載の方法
又は機能を採用したものを好ましく用いることができ
る。
【0127】脱臭装置:特開昭64−37560号2頁
左上欄〜3頁左上欄 水洗水再生浄化剤及び装置:特開平6−250352号
3頁段落「0011」〜8頁段落「0058」 廃液処理方法:特開平2−64638号2頁左下欄〜5
頁左下欄 現像浴と定着浴の間のリンス浴:特開平4−31374
9号第18頁段落「0054」〜21頁段落「006
5」 補充水補充方法:特開平1−281446号2頁左下欄
〜右下欄 外気の温度及び湿度を検出して乾燥風を制御:特開平1
−315745号2頁右下欄〜7頁右下欄及び特開平2
−108051号2頁左下欄〜3頁左下欄 定着廃液からの銀回収:特開平6−27623号4頁段
落「0012」〜7頁段落「0071」。
左上欄〜3頁左上欄 水洗水再生浄化剤及び装置:特開平6−250352号
3頁段落「0011」〜8頁段落「0058」 廃液処理方法:特開平2−64638号2頁左下欄〜5
頁左下欄 現像浴と定着浴の間のリンス浴:特開平4−31374
9号第18頁段落「0054」〜21頁段落「006
5」 補充水補充方法:特開平1−281446号2頁左下欄
〜右下欄 外気の温度及び湿度を検出して乾燥風を制御:特開平1
−315745号2頁右下欄〜7頁右下欄及び特開平2
−108051号2頁左下欄〜3頁左下欄 定着廃液からの銀回収:特開平6−27623号4頁段
落「0012」〜7頁段落「0071」。
【0128】水洗漕或いは安定化漕は、以前より知られ
ている、水洗水の補充液量を少なくする手段としての多
段向流方式が用いられる。この多段向流方式を用いれ
ば、定着後の感光材料は徐々に清浄な方向つまり定着液
で汚れていない処理液の方へ順次接触して処理されてい
くので、更に効率よい水洗がなされる。
ている、水洗水の補充液量を少なくする手段としての多
段向流方式が用いられる。この多段向流方式を用いれ
ば、定着後の感光材料は徐々に清浄な方向つまり定着液
で汚れていない処理液の方へ順次接触して処理されてい
くので、更に効率よい水洗がなされる。
【0129】本発明を達成するために、安定化槽又は水
洗漕への補充液を加温する装置を自動現像機は備えてい
てもよい。
洗漕への補充液を加温する装置を自動現像機は備えてい
てもよい。
【0130】本発明の処理を行う黒白ハロゲン化銀写真
感光材料のハロゲン化銀は、塩化銀、塩化銀含有率60
モル%以上の塩臭化銀又は塩沃臭化銀であることが補充
量の低減や迅速処理にとって好ましい。ハロゲン化銀粒
子の平均粒径は1.2μ以下、特に0.1〜0.8μm
が好ましい。又、粒径分布は狭い方が好ましくいわゆる
単分散乳剤を用いるのが好ましい。又、〔100〕面を
主平面とする平板状粒子からなる乳剤が好ましく、その
ような乳剤は米国特許第5,264,337号、同第
5,314,798号、同第5,320,958号の記
載を参考にして得ることができる。更に、高照度特性を
得るためにイリジウムをハロゲン化銀1モル当たり10
-9〜10-3モルの範囲でドーピングしたり、乳剤を硬調
化するためにロジウム、ルテニウム、オスミウム及びレ
ニウムから選ばれる少なくとも1種をハロゲン化銀1モ
ル当たり10-9〜10-3モルの範囲でドーピングしたり
するのが好ましい。
感光材料のハロゲン化銀は、塩化銀、塩化銀含有率60
モル%以上の塩臭化銀又は塩沃臭化銀であることが補充
量の低減や迅速処理にとって好ましい。ハロゲン化銀粒
子の平均粒径は1.2μ以下、特に0.1〜0.8μm
が好ましい。又、粒径分布は狭い方が好ましくいわゆる
単分散乳剤を用いるのが好ましい。又、〔100〕面を
主平面とする平板状粒子からなる乳剤が好ましく、その
ような乳剤は米国特許第5,264,337号、同第
5,314,798号、同第5,320,958号の記
載を参考にして得ることができる。更に、高照度特性を
得るためにイリジウムをハロゲン化銀1モル当たり10
-9〜10-3モルの範囲でドーピングしたり、乳剤を硬調
化するためにロジウム、ルテニウム、オスミウム及びレ
ニウムから選ばれる少なくとも1種をハロゲン化銀1モ
ル当たり10-9〜10-3モルの範囲でドーピングしたり
するのが好ましい。
【0131】ハロゲン化銀乳剤には、硫黄増感、セレン
増感、テルル増感、還元増感及び貴金属増感等公知の化
学増感を施すことができる。本発明の処理を行う黒白ハ
ロゲン化銀写真感光材料には以下に記載する技術を採用
するのが好ましい。
増感、テルル増感、還元増感及び貴金属増感等公知の化
学増感を施すことができる。本発明の処理を行う黒白ハ
ロゲン化銀写真感光材料には以下に記載する技術を採用
するのが好ましい。
【0132】1)染料の固体分散微粒子:特開平7−5
629号3頁段落「0017」〜16頁段落「004
2」 2)酸基を有する化合物:特開昭62−237445号
8頁左下欄11行目〜25頁右下欄3行目 3)酸性ポリマー:特開平6−186659号10頁段
落「0036」〜17頁段落「0062」 4)増感色素:特開平5−224330号3頁段落「0
017」〜13頁段落「0040」、特開平6−194
771号11頁段落「0042」〜22頁段落「009
4」、特開平6−242533号2頁段落「0015」
〜8頁段落「0034」、特開平6−337492号3
頁段落「0012」〜34頁段落「0056」、特開平
6−337494号4頁段落「0013」〜14頁段落
「0039」 5)強色増感剤:特開平6−347938号3頁段落
「0011」〜16頁段落「0066」 6)ヒドラジン誘導体:特開平7−114126号23
頁段落「0111」〜32頁段落「0157」 7)造核促進剤:特開平7−114126号32頁段落
「0158」〜36頁段落「0169」 8)テトラゾリウム化合物:特開平6−208188号
第(8)頁段落「0059」〜10頁段落「0067」 9)ピリジニウム化合物:特開平7−110556号5
頁段落「0028」〜29頁段落「0068」 10)レドックス化合物:特開平4−245243号7
頁〜22頁 11)シンジオタクチックポリスチレン支持体:特開平
3−131843号2頁〜5頁 その他の添加剤については、例えばリサーチ・ディスク
ロージャーNo.17643(1978年12月)、同
No.18716(1979年11月)及び同No.3
08119(1989年12月)に記載の化合物を採用
することができる。
629号3頁段落「0017」〜16頁段落「004
2」 2)酸基を有する化合物:特開昭62−237445号
8頁左下欄11行目〜25頁右下欄3行目 3)酸性ポリマー:特開平6−186659号10頁段
落「0036」〜17頁段落「0062」 4)増感色素:特開平5−224330号3頁段落「0
017」〜13頁段落「0040」、特開平6−194
771号11頁段落「0042」〜22頁段落「009
4」、特開平6−242533号2頁段落「0015」
〜8頁段落「0034」、特開平6−337492号3
頁段落「0012」〜34頁段落「0056」、特開平
6−337494号4頁段落「0013」〜14頁段落
「0039」 5)強色増感剤:特開平6−347938号3頁段落
「0011」〜16頁段落「0066」 6)ヒドラジン誘導体:特開平7−114126号23
頁段落「0111」〜32頁段落「0157」 7)造核促進剤:特開平7−114126号32頁段落
「0158」〜36頁段落「0169」 8)テトラゾリウム化合物:特開平6−208188号
第(8)頁段落「0059」〜10頁段落「0067」 9)ピリジニウム化合物:特開平7−110556号5
頁段落「0028」〜29頁段落「0068」 10)レドックス化合物:特開平4−245243号7
頁〜22頁 11)シンジオタクチックポリスチレン支持体:特開平
3−131843号2頁〜5頁 その他の添加剤については、例えばリサーチ・ディスク
ロージャーNo.17643(1978年12月)、同
No.18716(1979年11月)及び同No.3
08119(1989年12月)に記載の化合物を採用
することができる。
【0133】以下実施例によって本発明を具体的に説明
する。なお、当然のことではあるが、本発明は以下に述
べる実施例に限定されるものではない。
する。なお、当然のことではあるが、本発明は以下に述
べる実施例に限定されるものではない。
【0134】
【実施例】実施例1 He−Neレーザー光源用印刷製版スキャナー用ハロゲ
ン化銀写真感光材料の作製 (ハロゲン化銀乳剤Aの調製)同時混合法を用いて塩化
銀70モル%、残りは臭化銀からなる平均厚み0.05
μm平均直径0.15μmの塩臭化銀コア粒子を調製し
た。コア粒子混合時にK3RuCl6を銀1モルあたり8
×10-8モル添加した。このコア粒子に、同時混合法を
用いてシェルを付けた。その際K2IrCl6を銀1モル
あたり3×10-7モル添加した。得られた乳剤は平均厚
み0.10μm平均直径0.25μmのコア/シェル型
単分散(変動係数10%)の〔100〕面を主平面とし
て有する塩沃臭化銀(塩化銀90モル%、沃臭化銀0.
2モル%、残りは臭化銀からなる)平板粒子の乳剤であ
った。
ン化銀写真感光材料の作製 (ハロゲン化銀乳剤Aの調製)同時混合法を用いて塩化
銀70モル%、残りは臭化銀からなる平均厚み0.05
μm平均直径0.15μmの塩臭化銀コア粒子を調製し
た。コア粒子混合時にK3RuCl6を銀1モルあたり8
×10-8モル添加した。このコア粒子に、同時混合法を
用いてシェルを付けた。その際K2IrCl6を銀1モル
あたり3×10-7モル添加した。得られた乳剤は平均厚
み0.10μm平均直径0.25μmのコア/シェル型
単分散(変動係数10%)の〔100〕面を主平面とし
て有する塩沃臭化銀(塩化銀90モル%、沃臭化銀0.
2モル%、残りは臭化銀からなる)平板粒子の乳剤であ
った。
【0135】この乳剤を40℃に冷却し、凝集高分子剤
としてフェニルカルバモイル基で変性(置換率90%)
された変性ゼラチン13.8重量%の水溶液1800m
lを添加し、3分間攪拌した。その後酢酸56重量%水
溶液を添加して乳剤のpHを4.6に調整し3分間攪拌
した後20分間静置させデカンテーションにより上澄み
液を排水した。
としてフェニルカルバモイル基で変性(置換率90%)
された変性ゼラチン13.8重量%の水溶液1800m
lを添加し、3分間攪拌した。その後酢酸56重量%水
溶液を添加して乳剤のpHを4.6に調整し3分間攪拌
した後20分間静置させデカンテーションにより上澄み
液を排水した。
【0136】その後40℃の蒸留水9.0lを加え、攪
拌静置後上澄み液を排水しさらに蒸留水11.25lを
加え攪拌静置後上澄み液を排水した。続いてゼラチン水
溶液と炭酸ナトリウム10重量%水溶液を加えてpHが
5.80になるよう調整し50℃で30分間攪拌し再分
散した。再分散後40℃にてpHを5.80pAgを
8.06に調整した。脱塩後この乳剤のEAgは50℃
で190mVであった。
拌静置後上澄み液を排水しさらに蒸留水11.25lを
加え攪拌静置後上澄み液を排水した。続いてゼラチン水
溶液と炭酸ナトリウム10重量%水溶液を加えてpHが
5.80になるよう調整し50℃で30分間攪拌し再分
散した。再分散後40℃にてpHを5.80pAgを
8.06に調整した。脱塩後この乳剤のEAgは50℃
で190mVであった。
【0137】得られた乳剤に4−ヒドロキシ−6−メチ
ル−1,3,3a,7−テトラザインデンを銀1モルあ
たり1×10-3モル添加し更に臭化カリウム及びクエン
酸を添加してpH5.6、EAgを123mvに調整し
て、P−トルエンチオスルホン酸ナトリウム1×10-3
モルを添加後、銀1モルあたりクロラミンTを350m
g、無機硫黄(S8)を0.6mg、トリクロロオーレ
イト6mgを添加して温度60℃で最高感度がでるまで
化学熟成を行った。
ル−1,3,3a,7−テトラザインデンを銀1モルあ
たり1×10-3モル添加し更に臭化カリウム及びクエン
酸を添加してpH5.6、EAgを123mvに調整し
て、P−トルエンチオスルホン酸ナトリウム1×10-3
モルを添加後、銀1モルあたりクロラミンTを350m
g、無機硫黄(S8)を0.6mg、トリクロロオーレ
イト6mgを添加して温度60℃で最高感度がでるまで
化学熟成を行った。
【0138】熟成終了後4−ヒドロキシ−6−メチル
1,3,3a,7−テトラザインデンを銀1モルあたり
2×10-3モル、1−フェニル−5−メルカプトテトラ
ゾールを3×10-4モル及び沃化カリウムを300mg
添加した。
1,3,3a,7−テトラザインデンを銀1モルあたり
2×10-3モル、1−フェニル−5−メルカプトテトラ
ゾールを3×10-4モル及び沃化カリウムを300mg
添加した。
【0139】(ハロゲン化銀乳剤Bの調製)同時混合法
を用いて塩化銀60モル%、沃化銀2.5モル%、残り
は臭化銀からなる平均厚み0.05μm平均直径0.1
5μmの塩沃臭化銀コア粒子を調製した。コア粒子混合
時にK3Rh(H2O)Br5を銀1モルあたり2×10
-8モル添加した。このコア粒子に、同時混合法を用いて
シェルを付けた。その際K2IrCl6を銀1モルあたり
3×10-7モル添加した。得られた乳剤は平均厚み0.
10μm平均直径0.42μmのコア/シェル型単分散
(変動係数10%)の塩沃臭化銀(塩化銀90モル%、
沃臭化銀0.5モル%、残りは臭化銀からなる)平板粒
子の乳剤であった。ついで特開平2−280139号に
記載の変性ゼラチン(ゼラチン中のアミノ基をフェニル
カルバミルで置換したもので例えば特開平2−2801
39号287(3)頁の例示化合物G−8)を使い脱塩
した。脱塩後のEAgは50℃で190mvであった。
を用いて塩化銀60モル%、沃化銀2.5モル%、残り
は臭化銀からなる平均厚み0.05μm平均直径0.1
5μmの塩沃臭化銀コア粒子を調製した。コア粒子混合
時にK3Rh(H2O)Br5を銀1モルあたり2×10
-8モル添加した。このコア粒子に、同時混合法を用いて
シェルを付けた。その際K2IrCl6を銀1モルあたり
3×10-7モル添加した。得られた乳剤は平均厚み0.
10μm平均直径0.42μmのコア/シェル型単分散
(変動係数10%)の塩沃臭化銀(塩化銀90モル%、
沃臭化銀0.5モル%、残りは臭化銀からなる)平板粒
子の乳剤であった。ついで特開平2−280139号に
記載の変性ゼラチン(ゼラチン中のアミノ基をフェニル
カルバミルで置換したもので例えば特開平2−2801
39号287(3)頁の例示化合物G−8)を使い脱塩
した。脱塩後のEAgは50℃で190mvであった。
【0140】得られた乳剤に4−ヒドロキシ−6−メチ
ル−1,3,3a,7−テトラザインデンを銀1モルあ
たり1×10-3モル添加し更に臭化カリウム及びクエン
酸を添加してpHを5.6、EAgを123mvに調整
して、塩化金酸を2×10−5モル添加した後にN,
N,N′−トリメチル−N′−ヘプタフルオロセレノ尿
素を3×10−5モル添加して温度60℃で最高感度が
でるまで化学熟成を行った。熟成終了後4−ヒドロキシ
−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデンを
銀1モルあたり2×10-3モル、1−フェニル−5−メ
ルカプトテトラゾールを3×10-4モル及びゼラチンを
添加した。
ル−1,3,3a,7−テトラザインデンを銀1モルあ
たり1×10-3モル添加し更に臭化カリウム及びクエン
酸を添加してpHを5.6、EAgを123mvに調整
して、塩化金酸を2×10−5モル添加した後にN,
N,N′−トリメチル−N′−ヘプタフルオロセレノ尿
素を3×10−5モル添加して温度60℃で最高感度が
でるまで化学熟成を行った。熟成終了後4−ヒドロキシ
−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデンを
銀1モルあたり2×10-3モル、1−フェニル−5−メ
ルカプトテトラゾールを3×10-4モル及びゼラチンを
添加した。
【0141】上記の支持体の一方の下塗層上に、下記の
処方1のゼラチン下塗層をゼラチン量が0.5g/m2
になるように、その上に処方2のハロゲン化銀乳剤層1
を銀量1.5g/m2、ゼラチン量が0.5g/m2にな
るように、さらにその上層に中間保護層として下記処方
3の塗布液をゼラチン量が0.3g/m2になるよう
に、さらにその上層に処方4のハロゲン化銀乳剤層2を
銀量1.4g/m2、ゼラチン量が0.4g/m2になる
ように、さらに下記処方5の塗布液をゼラチン量が0.
6g/m2になるよう同時重層塗布した。また反対側の
下塗層上には下記処方6のバッキング層をゼラチン量が
0.6g/m2になるように、その上に下記処方7の疎
水性ポリマー層を、さらにその上に下記処方8のバッキ
ング保護層をゼラチン量が0.4g/m2になるように
乳剤層側と同時重層塗布することで試料を得た。
処方1のゼラチン下塗層をゼラチン量が0.5g/m2
になるように、その上に処方2のハロゲン化銀乳剤層1
を銀量1.5g/m2、ゼラチン量が0.5g/m2にな
るように、さらにその上層に中間保護層として下記処方
3の塗布液をゼラチン量が0.3g/m2になるよう
に、さらにその上層に処方4のハロゲン化銀乳剤層2を
銀量1.4g/m2、ゼラチン量が0.4g/m2になる
ように、さらに下記処方5の塗布液をゼラチン量が0.
6g/m2になるよう同時重層塗布した。また反対側の
下塗層上には下記処方6のバッキング層をゼラチン量が
0.6g/m2になるように、その上に下記処方7の疎
水性ポリマー層を、さらにその上に下記処方8のバッキ
ング保護層をゼラチン量が0.4g/m2になるように
乳剤層側と同時重層塗布することで試料を得た。
【0142】 処方1(ゼラチン下塗層組成) ゼラチン 0.5g/m2 染料AD−1の固体分散微粒子(平均粒径0.1μm) 25mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 10mg/m2 S−1(ソジウム−イソアミル−n−デシルスルホサクシネート) 0.4mg/m2 処方2(ハロゲン化銀乳剤層1組成) ハロゲン化銀乳剤A 銀量1.5g/m2になるように 染料aの固体分散微粒子(平均粒径0.1μm) 20mg/m2 シクロデキストリン(親水性ポリマー) 0.5g/m2 増感色素d−1 5mg/m2 増感色素d−2 5mg/m2 一般式(B)の化合物(ヒドラジン化合物)(表1に示す様に変化させた) 20mg/m2 造核促進剤:例示化合物AM−1 40mg/m2 レドックス化合物:RE−1 20mg/m2 化合物e 100mg/m2 ラテックスポリマーf 0.5g/m2 硬膜剤g 5mg/m2 S−1 0.7mg/m2 2−メルカプト−6−ヒドロキシプリン 5mg/m2 EDTA 30mg/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 10mg/m2 処方3(中間層組成) ゼラチン 0.3g/m2 S−1 2mg/m2 処方4(ハロゲン化銀乳剤層2組成) ハロゲン化銀乳剤B 銀量1.4g/m2になるように 増感色素d−1 6mg/m2 一般式〔B〕の化合物(ヒドラジン化合物)(表1に示す様に変化させた) 20mg/m2 造核促進剤AM−1 40mg/m2 レドックス化合物:RE−1 20mg/m2 2−メルカプト−6−ヒドロキシプリン 5mg/m2 EDTA 20mg/m2 ラテックスポリマーf 0.5g/m2 S−1 1.7mg/m2 処方5(乳剤保護層組成) ゼラチン 0.6g/m2 染料bの固体分散体(平均粒径0.1μm) 40mg/m2 S−1 12mg/m2 マット剤:平均粒径3.5μmの単分散シリカ 25mg/m2 1,3−ビニルスルホニル−2−プロパノール 40mg/m2 界面活性剤h 1mg/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 10mg/m2 硬膜剤j 30mg/m2 処方6(バッキング層組成) ゼラチン 0.6g/m2 S−1 5mg/m2 ラテックスポリマーf 0.3g/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 70mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 20mg/m2 化合物i 100mg/m2 処方7(疎水性ポリマー層組成) ラテックス(メチルメタクリレート:アクリル酸=97:3) 1.0g/m2 硬膜剤g 6mg/m2 処方8(バッキング保護層) ゼラチン 0.4g/m2 マット剤:平均粒径5μmの単分散ポリメチルメタクリレート 50mg/m2 ソジウム−ジ−(2−エチルヘキシル)スルホサクシネート 10mg/m2 界面活性剤h 1mg/m2 染料k 20mg/m2 H−(OCH2CH2)68−OH 50mg/m2 硬膜剤j 20mg/m2
【0143】
【化35】
【0144】
【化36】
【0145】
【化37】
【0146】
【化38】
【0147】以上のようにして一般式〔B〕の化合物
(造核剤)を表1に示す様に変化させた感光材料を調製
した。
(造核剤)を表1に示す様に変化させた感光材料を調製
した。
【0148】○固形現像剤キットの作製(使用液10l
分) 素材の前処理 エリソルビン酸ナトリウムをホソカワミクロン社製MI
KRO−PULVERIZER AP−B粉砕器で、メ
ッシュ8mm、回転数25Hzで粉砕した。
分) 素材の前処理 エリソルビン酸ナトリウムをホソカワミクロン社製MI
KRO−PULVERIZER AP−B粉砕器で、メ
ッシュ8mm、回転数25Hzで粉砕した。
【0149】(比較例の場合はハイドロキノン)8メル
カプトアデニンを上記同粉砕器にて、メッシュ8mm、
回転数50Hzで粉砕した。
カプトアデニンを上記同粉砕器にて、メッシュ8mm、
回転数50Hzで粉砕した。
【0150】KBrを上記同粉砕器にて、メッシュ8m
m、回転数50Hzで粉砕した。
m、回転数50Hzで粉砕した。
【0151】素材の混合 市販のV型混合機(容量200l)を使用して、下記処
方を10分間混合した。
方を10分間混合した。
【0152】 エリソルビン酸ナトリウム(上記粉砕物) 163kg (比較例の場合:ハイドロキノン(上記粉砕物) 65kg) 1−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン (ジメゾンS) 3.5kg 8メルカプトアデニン(上記粉砕物) 0.3kg DTPA.5H 11kg KBr(上記粉砕物) 6.5kg ソルビトール 5kg 得られた混合体の任意の点(5ヶ所)から50gづつサ
ンプリングして分析したところ、各成分の濃度は上記処
方値の±5%以内の濃度を有しており、充分に均一に混
合されていた。
ンプリングして分析したところ、各成分の濃度は上記処
方値の±5%以内の濃度を有しており、充分に均一に混
合されていた。
【0153】成形 上記混合体を、新東工業社製圧縮造粒機ブリケッタBS
S−IV型を使用して、ポケット形状5.0mmΦ×
1.2mm(Depth)、ローラー回転数20rp
m、フィーダー回転数50rpmにて成形した。得られ
た板状成型物を分級器にて解砕し、2.4〜7.0mm
の顆粒と2.4mm以下の微粉に分けた(7.0mm以
上のものは解砕)。また2.4mm以下の微粉について
は、上記混合体と混ぜて再度圧縮成型機にもどして成形
した。
S−IV型を使用して、ポケット形状5.0mmΦ×
1.2mm(Depth)、ローラー回転数20rp
m、フィーダー回転数50rpmにて成形した。得られ
た板状成型物を分級器にて解砕し、2.4〜7.0mm
の顆粒と2.4mm以下の微粉に分けた(7.0mm以
上のものは解砕)。また2.4mm以下の微粉について
は、上記混合体と混ぜて再度圧縮成型機にもどして成形
した。
【0154】以上により顆粒DAが約95kg得られ
た。
た。
【0155】原材料の準備 以下の原材料を準備し、前処理を行った。
【0156】亜硫酸ナトリウム/1−フェニル−5メル
カプトテトラゾール/ベンゾトリアゾールの混合 エチルアルコール400mlに1−フェニル−5メルカ
プトテトラゾール18gおよびベンゾトリアゾール78
gを溶解した。得られた溶液を、ミキサーにて回転して
いる亜硫酸ナトリウム20kgに少量づつ滴下し、充分
乾燥するまで回転を続けた。得られた混合体の任意の点
(5ヶ所)から10gづつサンプリングして分析したと
ころ、1−フェニル−5メルカプトテトラゾールとベン
ゾトリアゾールは充分均一に混合されていた。得られた
混合物をM−1とする。
カプトテトラゾール/ベンゾトリアゾールの混合 エチルアルコール400mlに1−フェニル−5メルカ
プトテトラゾール18gおよびベンゾトリアゾール78
gを溶解した。得られた溶液を、ミキサーにて回転して
いる亜硫酸ナトリウム20kgに少量づつ滴下し、充分
乾燥するまで回転を続けた。得られた混合体の任意の点
(5ヶ所)から10gづつサンプリングして分析したと
ころ、1−フェニル−5メルカプトテトラゾールとベン
ゾトリアゾールは充分均一に混合されていた。得られた
混合物をM−1とする。
【0157】炭酸カリウム/炭酸ナトリウム・無水/水
酸化リチウム・1H2Oの混合 市販のV型混合機(容量200l)を使用して、炭酸カ
リウム56kg、炭酸ナトリウム42kg、水酸化リチ
ウム・1H2O2kg(比較例HQ使用の場合は22k
g)を10分間混合した。得られた混合物をM−2とす
る。
酸化リチウム・1H2Oの混合 市販のV型混合機(容量200l)を使用して、炭酸カ
リウム56kg、炭酸ナトリウム42kg、水酸化リチ
ウム・1H2O2kg(比較例HQ使用の場合は22k
g)を10分間混合した。得られた混合物をM−2とす
る。
【0158】包装(使用液10lキット) 下記順番で上記原材料混合体および顆粒成形品を10l
包装用キットに下から順に充填し、ヒートシーラーで密
封した。
包装用キットに下から順に充填し、ヒートシーラーで密
封した。
【0159】 混合体M−2 600g (最下層) 混合体M−1 663.2g (中間層) 顆粒DA 399g (最上層) このキットを仕上がり10lに溶解後のpHは9.8で
あった。比較例のHQ使用の場合はpH=10.70で
あった。
あった。比較例のHQ使用の場合はpH=10.70で
あった。
【0160】○固形定着剤キットの作製(使用液100
l分) 素材の前処理 1−オクタンスルホン酸ナトリウムをホソカワミクロン
社製MIKRO−PULVERIZER AP−B粉砕
器で、メッシュ4mm、回転数60Hzで粉砕した。
l分) 素材の前処理 1−オクタンスルホン酸ナトリウムをホソカワミクロン
社製MIKRO−PULVERIZER AP−B粉砕
器で、メッシュ4mm、回転数60Hzで粉砕した。
【0161】素材の混合 市販のV型混合機(容量200l)を使用して、下記処
方を10分間混合した。
方を10分間混合した。
【0162】 チオ硫酸ナトリウム 15kg 亜硫酸ナトリウム 2.2kg 一般式(2−A)又は(2−B)化合物(銀スラッジ防止剤) (表1に示すように変化させた) 50g 得られた混合体に上記粉砕した1−オクタンスルホン酸
を1kg添加してさらに5分間混合した。
を1kg添加してさらに5分間混合した。
【0163】成形 上記混合体を、新東工業社製圧縮造粒機ブリケッタBS
S−IV型を使用して、ポケット形状5.0mmΦ×1.
2mm(Depth)、ローラー回転数30rpm、フ
ィーダー回転数67rpmにて成形した。得られた板状
成型物を分級器にて解砕し、2.4〜7.0mmの顆粒
と2.4mm以下の微粉に分けた(7.0mm以上のも
のは解砕)。また2.4mm以下の微粉については、上
記混合体と混ぜて再度圧縮成型機にもどして成形した。
S−IV型を使用して、ポケット形状5.0mmΦ×1.
2mm(Depth)、ローラー回転数30rpm、フ
ィーダー回転数67rpmにて成形した。得られた板状
成型物を分級器にて解砕し、2.4〜7.0mmの顆粒
と2.4mm以下の微粉に分けた(7.0mm以上のも
のは解砕)。また2.4mm以下の微粉については、上
記混合体と混ぜて再度圧縮成型機にもどして成形した。
【0164】以上により顆粒FAが得られた。
【0165】素材の混合 市販のV型混合機(容量200l)を使用して、下記処
方を10分間混合した。
方を10分間混合した。
【0166】 クエン酸3ナトリウム2水塩 2.94kg グルコン酸ナトリウム 0.5kg コハク酸 1.2kg 成形 上記混合体を、新東工業社製圧縮造粒機ブリケッタBS
S−IV型を使用して、ポケット形状5.0mmΦ×1.
2mm(Depth)、ローラー回転数30rpm、フ
ィーダー回転数67rpmにて成形した。得られた板状
成型物を分級器にて解砕し、2.4〜7.0mmの顆粒
と2.4mm以下の微粉に分けた(7.0mm以上のも
のは解砕)。また2.4mm以下の微粉については、上
記混合体と混ぜて再度圧縮成型機にもどして成形した。
S−IV型を使用して、ポケット形状5.0mmΦ×1.
2mm(Depth)、ローラー回転数30rpm、フ
ィーダー回転数67rpmにて成形した。得られた板状
成型物を分級器にて解砕し、2.4〜7.0mmの顆粒
と2.4mm以下の微粉に分けた(7.0mm以上のも
のは解砕)。また2.4mm以下の微粉については、上
記混合体と混ぜて再度圧縮成型機にもどして成形した。
【0167】以上により顆粒FBが得られた。
【0168】包装 上記顆粒成形品を下記順番で充填した。
【0169】顆粒FB (最下層) 顆粒FA (最上層) この100l分を10lキットに包装し、仕上がり10
lに溶解後のpHは5.4であった。
lに溶解後のpHは5.4であった。
【0170】また、今回は別に液剤としての現像補充剤
及び定着補充剤も作成した。処方は上記固形現像剤キッ
ト、固形定着剤キットと同処方のものから以下の素材を
除外したものである。
及び定着補充剤も作成した。処方は上記固形現像剤キッ
ト、固形定着剤キットと同処方のものから以下の素材を
除外したものである。
【0171】1−オクタンスルホン酸ナトリウム、D−
ソルビトール この様にして銀スラッジ防止剤の種類を表1の様に変化
させた処理剤を準備した。
ソルビトール この様にして銀スラッジ防止剤の種類を表1の様に変化
させた処理剤を準備した。
【0172】 ○安定化液処方(1l分) 開始液・補充液共用 DTPA−5Na 1.0g/l 5−クロロ−2メチル−4イソチアゾリン−3オン 0.10g/l ジプロピレングリコール 0.30g/l NaCl 5.85g/l 上記素材を純水に溶解し、100l分を作製した。
【0173】pHは10.6であった。
【0174】上記の処方で作製された黒白ハロゲン化銀
写真感光材料を黒化率10%となるように露光し、コニ
カ(株)製自動現像機GR−26SRの水洗槽に銀回収
装置を取り付け、安定化漕を2槽多段向流漕に改造し、
顆粒を投入できるように改造したコニカ(株)製ミキサ
ーSM−10を装着し、上記処方の現像剤と定着剤およ
び安定化液を使用して、ハロゲン化銀写真感光材料1m
2あたり現像補充液130ml/m2、定着補充液130
ml/m2安定化液130ml/m2の補充を行い20日
間一日あたり500枚処理し、その液をランニング液と
した。
写真感光材料を黒化率10%となるように露光し、コニ
カ(株)製自動現像機GR−26SRの水洗槽に銀回収
装置を取り付け、安定化漕を2槽多段向流漕に改造し、
顆粒を投入できるように改造したコニカ(株)製ミキサ
ーSM−10を装着し、上記処方の現像剤と定着剤およ
び安定化液を使用して、ハロゲン化銀写真感光材料1m
2あたり現像補充液130ml/m2、定着補充液130
ml/m2安定化液130ml/m2の補充を行い20日
間一日あたり500枚処理し、その液をランニング液と
した。
【0175】 〔評価項目〕 水洗漕内の析出・水垢 ランニング後に水洗漕に発生する析出の程度を下記の様
に目視で5段階で評価した。
に目視で5段階で評価した。
【0176】 A:沈殿及び析出・水垢が全くなく、液が澄んでいる B:沈殿・析出が全くなく水垢も殆ど発生していない C:沈殿は発生しないが、水垢が水洗漕内壁面に少し付
着。実用可 D:沈殿がやや発生し水垢が部分的に発生する E:沈殿が底部に蓄積し全体的に水垢が発生する C以上が実用可であるとした。
着。実用可 D:沈殿がやや発生し水垢が部分的に発生する E:沈殿が底部に蓄積し全体的に水垢が発生する C以上が実用可であるとした。
【0177】保存後の変色 ランニング終了後に露光していないフィルムを処理し、
その試料を40℃,80%の条件で6カ月間保存したの
ち、市販の濃度計の光源を青色光にして濃度を測定し
た。保存性の悪い試料は黄色もしくは茶色変色する。
その試料を40℃,80%の条件で6カ月間保存したの
ち、市販の濃度計の光源を青色光にして濃度を測定し
た。保存性の悪い試料は黄色もしくは茶色変色する。
【0178】変色度合いと濃度との関係から、濃度が
0.040以下であるものを保存可能と判断した。
0.040以下であるものを保存可能と判断した。
【0179】青色色素着色 ランニング終了後に露光していない大全サイズのフィル
ムを10枚処理し、その試料10枚のうちに A:フィルムに青色汚れが全くなく、注意深く見ても青
色色素汚れが発見されないレベル B:フィルムの内の1枚に青色色素が付着することがあ
るが、薄くて注意しないと発見できないレベル C:フィルムの1〜2枚に青色色素が付着するが、色が
薄く問題ないレベル D:フィルムの3〜8枚に青色汚れが付着し、青色汚れ
がはっきりとわかるレベル E:全てのフィルムに青色色素汚れが付着し、青色汚れ
がはっきりとわかるレベル C以上を可とした。
ムを10枚処理し、その試料10枚のうちに A:フィルムに青色汚れが全くなく、注意深く見ても青
色色素汚れが発見されないレベル B:フィルムの内の1枚に青色色素が付着することがあ
るが、薄くて注意しないと発見できないレベル C:フィルムの1〜2枚に青色色素が付着するが、色が
薄く問題ないレベル D:フィルムの3〜8枚に青色汚れが付着し、青色汚れ
がはっきりとわかるレベル E:全てのフィルムに青色色素汚れが付着し、青色汚れ
がはっきりとわかるレベル C以上を可とした。
【0180】○フィルム乾燥性評価 ランニング後のフィルム乾燥性及び乾燥ムラの程度を下
記の様に目視で5段階で評価した。
記の様に目視で5段階で評価した。
【0181】 A:フィルムが完全に乾いており、乾燥ムラが全くな
く、乾燥部よりスムーズに排出される B:フィルムが完全に乾いており、乾燥ムラが全くない
が、乾燥部より少し異音が生じる C:フィルムはほぼ乾いているが、排出後に他のフィル
ムと付着する D:フィルムが乾燥せず、濡れて排出される E:フィルムが乾燥せず、乾燥ローラーに絡み排出され
ない B以上が実用可であるとした。
く、乾燥部よりスムーズに排出される B:フィルムが完全に乾いており、乾燥ムラが全くない
が、乾燥部より少し異音が生じる C:フィルムはほぼ乾いているが、排出後に他のフィル
ムと付着する D:フィルムが乾燥せず、濡れて排出される E:フィルムが乾燥せず、乾燥ローラーに絡み排出され
ない B以上が実用可であるとした。
【0182】乾燥ローラー汚れ ランニング後に乾燥ローラーに発生する汚れの程度を下
記の様に目視で5段階で評価した。
記の様に目視で5段階で評価した。
【0183】 A:汚れが全くない B:汚れは殆どないが端部に少し汚れが見られる C:部分的にやや汚れはあるがフィルムに問題ないレベ
ル D:全体的に汚れがローラーに発生しフィルムに付着す
る場合がある E:全体的に汚れがローラーに蓄積し処理フィルムが実
用不可のレベルになる C以上が実用可であるとした。
ル D:全体的に汚れがローラーに発生しフィルムに付着す
る場合がある E:全体的に汚れがローラーに蓄積し処理フィルムが実
用不可のレベルになる C以上が実用可であるとした。
【0184】以上の評価を行い、その結果を表1に示
す。
す。
【0185】
【表1】
【0186】その結果、比較例では、処理した感光材料
に悪影響を及ぼし、一方本発明では良好な結果が得ら
れ、充分に実用可能であった。
に悪影響を及ぼし、一方本発明では良好な結果が得ら
れ、充分に実用可能であった。
【0187】実施例2 現像剤、定着剤を下記に示すように顆粒から錠剤に変更
したほかは実施例1と同様に実験・評価した。
したほかは実施例1と同様に実験・評価した。
【0188】 ○現像剤の作製 現像剤Aパートの作製(使用液1l分) 8−メルカプトアデニン 0.09g ジメゾンS 1.3g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.26g 亜硫酸ナトリウム 7.1g エリソルビン酸ナトリウム 60g (比較例の場合は代わりにハイドロキノン 24g) D−ソルビトール 5.0g 補充現像剤Bパートの作製(使用液1l分) DTPA・5Na 4.35g 炭酸ナトリウム 28.77g 炭酸カリウム 37.5g 臭化カリウム 2.0g 亜硫酸ナトリウム 49.5g LiOH・H2O 2.2g (比較例の場合は代わりにハイドロキノン 8.8g) D−マンニトール(商品名:花王) 11.7g D−ソルビトール 5g ○定着剤の作製 定着剤Aパートの作製(使用液1l分) チオ硫酸ナトリウム 150g 亜硫酸ナトリウム 2g クエン酸3ナトリウム2水塩 19.4g パインフロー(商品名:松谷化学) 9g 一般式(2−A)又は(2−B)の化合物(銀スラッジ防止剤)1.0g 定着剤Bパートの作製(使用液1l分) グルコン酸ナトリウム 5g 琥珀酸 11.9g クエン酸3ナトリウム2水塩 10g D−マンニトール 2.5g D−ソルビット 1.2g マクロゴールPEG#4000 0.75g 現像剤、定着剤の各素材を各パートごとに市販のヘンシ
ェルミキサーにて水を0.5wt%添加して室温で10
分間造粒し各造粒物を得た。
ェルミキサーにて水を0.5wt%添加して室温で10
分間造粒し各造粒物を得た。
【0189】各現像造粒物AパーツとBパーツ、また定
着造粒物AパーツとBパーツに1−オクタンスルホン酸
ナトリウムをそれぞれ2wt%ずつ添加して10分間各
A.Bパートを完全混合し、得られた混合物をマシーナ
(株)製マシーナUD・DFE30・40打錠装置を用
い1.5トン/m2の圧縮打錠により直径30mm、厚
さ10mm、重量10gの錠剤を得た。
着造粒物AパーツとBパーツに1−オクタンスルホン酸
ナトリウムをそれぞれ2wt%ずつ添加して10分間各
A.Bパートを完全混合し、得られた混合物をマシーナ
(株)製マシーナUD・DFE30・40打錠装置を用
い1.5トン/m2の圧縮打錠により直径30mm、厚
さ10mm、重量10gの錠剤を得た。
【0190】上記で作製した現像剤及び定着剤を4lず
つそれぞれアルミ泊の袋に入れ50℃,70%の環境下
で2週間保存した。
つそれぞれアルミ泊の袋に入れ50℃,70%の環境下
で2週間保存した。
【0191】上記錠剤を使用する際、水にコニカ(株)
製ミキサーSM−10を用いて溶解し、4lに仕上げ
た。
製ミキサーSM−10を用いて溶解し、4lに仕上げ
た。
【0192】なお現像剤を溶解したときのpHは9.8
0(比較例のHQ使用時のpHは10.70)、定着剤
を溶解したときのpHは5.4であった。
0(比較例のHQ使用時のpHは10.70)、定着剤
を溶解したときのpHは5.4であった。
【0193】また比較例として液剤として調液したもの
も作製した。その場合には以下の素材は除外した。
も作製した。その場合には以下の素材は除外した。
【0194】1−オクタンスルホン酸ナトリウム、D−
マンニトール、D−ソルビット、マクロゴールPEG4
000、パインフロー 結果は実施例1の表1と同様の結果となった。
マンニトール、D−ソルビット、マクロゴールPEG4
000、パインフロー 結果は実施例1の表1と同様の結果となった。
【0195】比較例では、処理した感光材料に悪影響を
及ぼすものと考えられる。一方本発明では良好な結果が
得られ、充分に実用可能であった。
及ぼすものと考えられる。一方本発明では良好な結果が
得られ、充分に実用可能であった。
【0196】
【発明の効果】濃度低下、乾燥ムラや処理汚れがなく
又、保存によるフィルムの変色の解決された、節水可能
な環境適性の高い処理方法が得られる。
又、保存によるフィルムの変色の解決された、節水可能
な環境適性の高い処理方法が得られる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03C 11/00 G03C 11/00
Claims (7)
- 【請求項1】 ハロゲン化銀写真感光材料を現像槽、定
着槽、水洗槽を有する自動現像機を用いて現像、定着、
水洗もしくは安定化処理するにあたり実質的にジヒドロ
キシベンゼン系化合物を含有せずに一般式(A)で表さ
れる化合物を含有する現像液及び、一般式(2−A)又
は一般式(2−B)で表される化合物を含有する定着液
を用い、かつ自動現像機の水洗槽が多段向流方式である
ことを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方
法。 【化1】 〔式中、R8、R9は各々アルキル基、アミノ基、アルコ
キシ基又はアルキルチオ基を表し、これらは置換基を有
してもよく、またR8とR9が互いに結合して環を形成し
てもよい。kは0又は1を表し、k=1のときXは−C
O−又は−CS−を表す。M3、M4は各々水素原子又は
アルカリ金属を表す。〕 一般式(2−A) Z1−SM1 〔式中、Z1はアルキル基、芳香族基若しくはヘテロ環
基であって、ヒドロキシル基、−SO3M2基、−COO
M2基(ここでM2は水素原子、アルカリ金属原子、又は
置換若しくは無置換のアンモニウムイオンを表す)、置
換若しくは無置換のアミノ基、置換若しくは無置換のア
ンモニオ基からなる群から選ばれる少なくとも1つ又
は、この群より選ばれる少なくとも1つを有する置換基
によって置換されているものを表す。M1は水素原子、
アルカリ金属原子、置換若しくは無置換のアミジノ基
(これはハロゲン化水素酸塩若しくはスルホン酸塩を形
成していてもよい)を表す。〕 【化2】 〔式中、R1、R2は水素原子、炭素数1〜3のアルキル
基を表す。但しR1とR2は同時に水素原子になることは
ない。R3、R4は水素原子、炭素数1〜3のアルキル基
を表し、R7は水酸基(金属塩も含む)、アミノ基、又
は炭素数1〜3のアルキル基を表す。R5、R6は水素原
子、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数18以下のアシ
ル基又は−COOM10基を表す。ここでM10は水素原
子、炭素数1〜4のアルキル基、アルカリ金属原子、ア
リール基を表す。但し、R5とR6は同時に水素原子にな
ることはない。M1は水素原子、アルカリ金属原子、ア
ンモニウム基を表す。k1は0、1又は2を表す。〕 - 【請求項2】 ハロゲン化銀写真感光材料が一般式
〔B〕で表される化合物を含有する事を特徴とする請求
項1に記載のハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。 【化3】 〔式中、Aは脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基を表し、
置換基を持っていてもよい。Bはアシル基、アルキルス
ルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルスルフィ
ニル基、アリールスルフィニル基、カルバモイル基、ア
ルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、
スルファモイル基、スルフィナモイル基、アルコキシス
ルホニル基、チオアシル基、チオカルバモイル基、オキ
ザリル基又はヘテロ環基を表す。また、BはA2及びそ
れらが結合する窒素原子とともに、ヘテロ環を形成して
もよい。A1、A2は、ともに水素原子、又は一方が水素
原子で他方はアシル基又はオキザリル基を表す。〕 - 【請求項3】 ハロゲン化銀写真感光材料を現像槽、定
着槽、水洗槽を有する自動現像機を用いて現像、定着、
水洗若しくは安定化処理するにあたり実質的にジヒドロ
キシベンゼン系化合物を含有せず、前記一般式(A)で
表される化合物を含む現像液を用い、且つ前記水洗槽に
銀回収装置を有する事を特徴とするハロゲン化銀写真感
光材料の処理方法。 - 【請求項4】 銀回収が電気分解によって行われる事を
特徴とする請求項3に記載のハロゲン化銀写真感光材料
の処理方法。 - 【請求項5】 ハロゲン化銀写真感光材料を現像槽、定
着槽、水洗槽を有する自動現像機を用いて現像、定着、
水洗若しくは安定化処理するにあたり、実質的にジヒド
ロキシベンゼン系化合物を含有せず、前記一般式(A)
で表される化合物を含む現像液を用い、且つ前記安定化
処理に用いる安定化液の補充液を加温して補充する事を
特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。 - 【請求項6】 安定化液の温度が30〜60℃である事
を特徴とする請求項5に記載のハロゲン化銀写真感光材
料の処理方法。 - 【請求項7】 用いられる処理剤の少なくとも1種が固
体処理剤であることを特徴とする請求項1、2、3、
4、5、又は6に記載のハロゲン化銀写真感光材料の処
理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10332590A JP2000155398A (ja) | 1998-11-24 | 1998-11-24 | ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10332590A JP2000155398A (ja) | 1998-11-24 | 1998-11-24 | ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000155398A true JP2000155398A (ja) | 2000-06-06 |
Family
ID=18256647
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10332590A Pending JP2000155398A (ja) | 1998-11-24 | 1998-11-24 | ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000155398A (ja) |
-
1998
- 1998-11-24 JP JP10332590A patent/JP2000155398A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH06222516A (ja) | 黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 | |
JP2000155398A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 | |
JP2002236340A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料の自動現像機による処理方法 | |
EP0696759B1 (en) | Method for processing a silver halide photographic light-sensitive material | |
JPH09274290A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料用の現像液および処理方法 | |
JP3243660B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料、その処理剤及びその処理方法 | |
JP2000019695A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 | |
JP2000292891A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 | |
JP2000155397A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 | |
JPH11258743A (ja) | 黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 | |
JP2000241943A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 | |
JP3464578B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法 | |
JPH11282115A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 | |
JP2000250176A (ja) | 黒白ハロゲン化銀写真感光材料用現像剤及び処理方法 | |
JP2001133948A (ja) | 黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 | |
JP2001005156A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 | |
JPH11305373A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法 | |
JPH09265146A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JP2001083673A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 | |
JP2002250981A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料及び処理方法 | |
JPH09211808A (ja) | 現像液およびそれを用いるハロゲン化銀写真感光材料の現像方法 | |
JP2001092069A (ja) | 増感色素、それを用いたハロゲン化銀写真感光材料とその処理方法 | |
JPH09211809A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料用現像液 | |
JPH11258741A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 | |
JPH11109540A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 |