JP2000143679A - ヒドリド｛ハイドロカーボンオキシ｝シラン化合物を用いたヒドロシリル化による｛ハイドロカーボンオキシ｝シリル基含有化合物の製造方法 - Google Patents
ヒドリド｛ハイドロカーボンオキシ｝シラン化合物を用いたヒドロシリル化による｛ハイドロカーボンオキシ｝シリル基含有化合物の製造方法Info
- Publication number
- JP2000143679A JP2000143679A JP10360939A JP36093998A JP2000143679A JP 2000143679 A JP2000143679 A JP 2000143679A JP 10360939 A JP10360939 A JP 10360939A JP 36093998 A JP36093998 A JP 36093998A JP 2000143679 A JP2000143679 A JP 2000143679A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- group
- hydrocarbonoxy
- carboxylic acid
- platinum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ヒドリド｛ハイドロカーボンオキシ｝シラン
を用い、白金触媒を用いるヒドロシリル化反応によっ
て、｛ハイドロカーボンオキシ｝シリル基を有する化合
物を製造する際、白金触媒の活性を高め、活性の低下を
防ぐ。 【解決手段】 カルボン酸化合物の存在下に白金又はそ
の化合物の触媒作用により不飽和有機化合物をヒドリド
｛ハイドロカーボンオキシ｝シラン化合物を用いてヒド
ロシリル化する。
を用い、白金触媒を用いるヒドロシリル化反応によっ
て、｛ハイドロカーボンオキシ｝シリル基を有する化合
物を製造する際、白金触媒の活性を高め、活性の低下を
防ぐ。 【解決手段】 カルボン酸化合物の存在下に白金又はそ
の化合物の触媒作用により不飽和有機化合物をヒドリド
｛ハイドロカーボンオキシ｝シラン化合物を用いてヒド
ロシリル化する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はヒドリド｛ハイドロ
カーボンオキシ｝シラン化合物と脂肪族不飽和有機化合
物を原料として用いて、工業的に重要な｛ハイドロカー
ボンオキシ｝シリル基含有化合物を効率よく製造する方
法に関する。
カーボンオキシ｝シラン化合物と脂肪族不飽和有機化合
物を原料として用いて、工業的に重要な｛ハイドロカー
ボンオキシ｝シリル基含有化合物を効率よく製造する方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＳｉＨ官能性のアルコキシシラン等に代
表されるヒドリド｛ハイドロカーボンオキシ｝シラン化
合物は変性シリコーンの重要な原料であり、その他にも
各種基材の表面修飾あるいはポリマーの硬化反応におけ
る架橋剤等に利用されている。
表されるヒドリド｛ハイドロカーボンオキシ｝シラン化
合物は変性シリコーンの重要な原料であり、その他にも
各種基材の表面修飾あるいはポリマーの硬化反応におけ
る架橋剤等に利用されている。
【０００３】アルコキシシリル基等に代表される｛ハイ
ドロカーボンオキシ｝シリル基を有する化合物の製造方
法は大別して次の２つがある。 １．ヒドリドクロロシラン化合物を用いて脂肪族不飽和
有機化合物にヒドロシリル化反応を生じさせ、更にケイ
素原子に結合している塩素原子のアルコール分解を行な
う方法。 ２．ヒドリドアルコキシシラン化合物を用いて脂肪族不
飽和有機化合物にヒドロシリル化反応を生じさせる方
法。 この内第２の方法は工程が簡便であり、更にイオン性不
純物が少ない生成物の製造が可能な方法である。この第
２の方法を効果的に行なうには、ヒドロシリル化反応に
優れた活性と選択性を有する触媒の存在が不可欠であ
る。
ドロカーボンオキシ｝シリル基を有する化合物の製造方
法は大別して次の２つがある。 １．ヒドリドクロロシラン化合物を用いて脂肪族不飽和
有機化合物にヒドロシリル化反応を生じさせ、更にケイ
素原子に結合している塩素原子のアルコール分解を行な
う方法。 ２．ヒドリドアルコキシシラン化合物を用いて脂肪族不
飽和有機化合物にヒドロシリル化反応を生じさせる方
法。 この内第２の方法は工程が簡便であり、更にイオン性不
純物が少ない生成物の製造が可能な方法である。この第
２の方法を効果的に行なうには、ヒドロシリル化反応に
優れた活性と選択性を有する触媒の存在が不可欠であ
る。
【０００４】ヒドロシリル化反応に関して、ある種の化
合物が触媒の失活を防ぎ、また、反応活性を高めること
が知られているが、これは、クロロシラン化合物および
シロキサン化合物に限定されていた。また、ヒドロシリ
ル化反応ではしばしば、触媒活性の発現ならびに持続の
ために、反応雰囲気中に酸素を添加することが必要であ
り、引火、爆発の危険を有していた。
合物が触媒の失活を防ぎ、また、反応活性を高めること
が知られているが、これは、クロロシラン化合物および
シロキサン化合物に限定されていた。また、ヒドロシリ
ル化反応ではしばしば、触媒活性の発現ならびに持続の
ために、反応雰囲気中に酸素を添加することが必要であ
り、引火、爆発の危険を有していた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明はヒドリド｛ハ
イドロカーボンオキシ｝シラン化合物を用いるヒドロシ
リル化反応による｛ハイドロカーボンオキシ｝シリル基
含有化合物の新規な製造方法を提供することを目的とす
る。具体的には、ヒドリド｛ハイドロカーボンオキシ｝
シラン化合物と脂肪族不飽和有機化合物とのヒドロシリ
ル化反応における白金（又はその化合物）触媒の活性を
高め、また活性の低下を防ぐことにより、効率的かつ経
済的にヒドロシリル化を行なって、｛ハイドロカーボン
オキシ｝シリル基含有化合物を製造することを可能とし
たものである。また、本発明製造方法により前記白金触
媒の高活性化及び活性持続性の改善が達成された。この
ためヒドロシリル化反応を低酸素分圧下又は不活性雰囲
気下で行なうことが可能となり、ヒドロシリル化反応時
の引火、爆発等の危険性が低減された。
イドロカーボンオキシ｝シラン化合物を用いるヒドロシ
リル化反応による｛ハイドロカーボンオキシ｝シリル基
含有化合物の新規な製造方法を提供することを目的とす
る。具体的には、ヒドリド｛ハイドロカーボンオキシ｝
シラン化合物と脂肪族不飽和有機化合物とのヒドロシリ
ル化反応における白金（又はその化合物）触媒の活性を
高め、また活性の低下を防ぐことにより、効率的かつ経
済的にヒドロシリル化を行なって、｛ハイドロカーボン
オキシ｝シリル基含有化合物を製造することを可能とし
たものである。また、本発明製造方法により前記白金触
媒の高活性化及び活性持続性の改善が達成された。この
ためヒドロシリル化反応を低酸素分圧下又は不活性雰囲
気下で行なうことが可能となり、ヒドロシリル化反応時
の引火、爆発等の危険性が低減された。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は白金（又はその
化合物）触媒を用いるヒドロシリル化反応において、ヒ
ドリド｛ハイドロカーボンオキシ｝シラン化合物をオレ
フィン官能性又はアセチレン官能性の脂肪族不飽和有機
化合物へ付加させるにあたって、反応系中にカルボン酸
化合物を共存させることにより、反応活性を大幅に改善
し、低酸素分圧下又は酸素非存在下でのヒドロシリル化
反応を速やかに行なうことを可能としたものである。
化合物）触媒を用いるヒドロシリル化反応において、ヒ
ドリド｛ハイドロカーボンオキシ｝シラン化合物をオレ
フィン官能性又はアセチレン官能性の脂肪族不飽和有機
化合物へ付加させるにあたって、反応系中にカルボン酸
化合物を共存させることにより、反応活性を大幅に改善
し、低酸素分圧下又は酸素非存在下でのヒドロシリル化
反応を速やかに行なうことを可能としたものである。
【０００７】本発明は、カルボン酸化合物の存在下、白
金又はその化合物の触媒作用により脂肪族不飽和有機化
合物に下記一般式（１）で表されるヒドリド｛ハイドロ
カーボンオキシ｝シラン化合物を反応させて該脂肪族不
飽和有機化合物をヒドロシリル化することを特徴とする
｛ハイドロカーボンオキシ｝シリル基含有化合物の製造
方法である。 ＨＳｉＲn （ＯＲ′）3-n （１） （ｎは０，１及び２から選ばれる整数であり；Ｒは次の
又はから選ばれる炭化水素基であり；炭素数１以
上１０以下の炭化水素基、Ｏ，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉも
しくはＳｉから選ばれる原子を有する炭素数１以上１０
以下の炭化水素基；Ｒ′は次の又はから選ばれる炭
化水素基である：炭素数１以上１８以下の炭化水素
基、Ｏ，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，ＩもしくはＳｉから選ばれ
る原子を有する炭素数１以上１８以下の炭化水素基。）
金又はその化合物の触媒作用により脂肪族不飽和有機化
合物に下記一般式（１）で表されるヒドリド｛ハイドロ
カーボンオキシ｝シラン化合物を反応させて該脂肪族不
飽和有機化合物をヒドロシリル化することを特徴とする
｛ハイドロカーボンオキシ｝シリル基含有化合物の製造
方法である。 ＨＳｉＲn （ＯＲ′）3-n （１） （ｎは０，１及び２から選ばれる整数であり；Ｒは次の
又はから選ばれる炭化水素基であり；炭素数１以
上１０以下の炭化水素基、Ｏ，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉも
しくはＳｉから選ばれる原子を有する炭素数１以上１０
以下の炭化水素基；Ｒ′は次の又はから選ばれる炭
化水素基である：炭素数１以上１８以下の炭化水素
基、Ｏ，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，ＩもしくはＳｉから選ばれ
る原子を有する炭素数１以上１８以下の炭化水素基。）
【０００８】本発明における一般式（１）で表されるヒ
ドリド｛ハイドロカーボンオキシ｝シラン化合物とは、
ケイ素原子に水素原子が結合しており、更に該ケイ素原
子に少なくとも１個のハイドロカーボンオキシ基が結合
しているものである。ここで、ハイドロカーボンオキシ
基とは一般式（１）における−ＯＲ′に相当する部分の
ことであり、炭化水素基又は所定のＯ，Ｆ，Ｃｌ等の原
子を有する炭化水素基が酸素原子を介してケイ素原子に
結合した構造をとるものである。ここで、同一のケイ素
原子に互いに異なるハイドロカーボンオキシ基が結合し
ていても構わない。該ケイ素原子に結合するハイドロカ
ーボンオキシ基が１個又は２個の場合に該ケイ素原子に
結合する残りの置換基は、水素原子の他に、上記一般式
（１）式においてＲで示される炭化水素基である。本発
明におけるカルボン酸化合物とは次のａ，ｂ，ｃ又はｄ
のいずれかである。 ａ．カルボン酸（カルボキシル基を有するものであれば
特に限定されるものではない。例えば、飽和カルボン
酸、不飽和カルボン酸、モノカルボン酸、ジカルボン
酸、等が挙げられる。これらのカルボン酸におけるカル
ボキシル基以外の部分としては通常、飽和又は不飽和脂
肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、ハロゲン化炭化水
素基あるいは水素原子等が選択される。また、これらの
炭化水素基にはアミノ基、シリル基、水酸基等の置換基
が結合していても勿論構わない。） ｂ．カルボン酸の酸無水物 ｃ．カルボン酸のシリル化物 ｄ．本発明製造方法におけるヒドロシリル化反応の際に
反応系中で分解又は反応により上記ａ，ｂあるいはｃの
カルボン酸化合物を生じるもの。本発明の製造方法にお
いて、カルボン酸化合物はヒドロシリル化反応が生じる
際に反応系中に存在していることが必要なので、ヒドロ
シリル化反応開始前ないしは該反応の初期段階までに系
中に添加する必要がある。
ドリド｛ハイドロカーボンオキシ｝シラン化合物とは、
ケイ素原子に水素原子が結合しており、更に該ケイ素原
子に少なくとも１個のハイドロカーボンオキシ基が結合
しているものである。ここで、ハイドロカーボンオキシ
基とは一般式（１）における−ＯＲ′に相当する部分の
ことであり、炭化水素基又は所定のＯ，Ｆ，Ｃｌ等の原
子を有する炭化水素基が酸素原子を介してケイ素原子に
結合した構造をとるものである。ここで、同一のケイ素
原子に互いに異なるハイドロカーボンオキシ基が結合し
ていても構わない。該ケイ素原子に結合するハイドロカ
ーボンオキシ基が１個又は２個の場合に該ケイ素原子に
結合する残りの置換基は、水素原子の他に、上記一般式
（１）式においてＲで示される炭化水素基である。本発
明におけるカルボン酸化合物とは次のａ，ｂ，ｃ又はｄ
のいずれかである。 ａ．カルボン酸（カルボキシル基を有するものであれば
特に限定されるものではない。例えば、飽和カルボン
酸、不飽和カルボン酸、モノカルボン酸、ジカルボン
酸、等が挙げられる。これらのカルボン酸におけるカル
ボキシル基以外の部分としては通常、飽和又は不飽和脂
肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、ハロゲン化炭化水
素基あるいは水素原子等が選択される。また、これらの
炭化水素基にはアミノ基、シリル基、水酸基等の置換基
が結合していても勿論構わない。） ｂ．カルボン酸の酸無水物 ｃ．カルボン酸のシリル化物 ｄ．本発明製造方法におけるヒドロシリル化反応の際に
反応系中で分解又は反応により上記ａ，ｂあるいはｃの
カルボン酸化合物を生じるもの。本発明の製造方法にお
いて、カルボン酸化合物はヒドロシリル化反応が生じる
際に反応系中に存在していることが必要なので、ヒドロ
シリル化反応開始前ないしは該反応の初期段階までに系
中に添加する必要がある。
【０００９】前記脂肪族不飽和有機化合物はオレフィ
ン性不飽和化合物、下記（ａ）に示す原子を有するオ
レフィン性不飽和化合物、アセチレン性不飽和化合物
または下記（ａ）に示す原子を有するアセチレン性不
飽和有機化合物から選ばれるものが好ましく、前記ヒド
リド｛ハイドロカーボンオキシ｝シラン化合物は下記一
般式（２）で表されるものであることが好ましい。 ＨＳｉＲn （ＯＲ″）3-n （２） （ｎは０，１または２から選ばれる整数であり；Ｒ及び
Ｒ″はそれぞれ独立に次の又はから選ばれる炭素数
１以上１０以下の炭化水素基である：炭素数１以上１
０以下の炭化水素基、Ｏ，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉもしく
はＳｉから選ばれる原子を有する炭素数１以上１０以下
の炭化水素基。） （ａ）Ｏ，Ｎ，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ，Ｓ及びＳｉ。
ン性不飽和化合物、下記（ａ）に示す原子を有するオ
レフィン性不飽和化合物、アセチレン性不飽和化合物
または下記（ａ）に示す原子を有するアセチレン性不
飽和有機化合物から選ばれるものが好ましく、前記ヒド
リド｛ハイドロカーボンオキシ｝シラン化合物は下記一
般式（２）で表されるものであることが好ましい。 ＨＳｉＲn （ＯＲ″）3-n （２） （ｎは０，１または２から選ばれる整数であり；Ｒ及び
Ｒ″はそれぞれ独立に次の又はから選ばれる炭素数
１以上１０以下の炭化水素基である：炭素数１以上１
０以下の炭化水素基、Ｏ，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉもしく
はＳｉから選ばれる原子を有する炭素数１以上１０以下
の炭化水素基。） （ａ）Ｏ，Ｎ，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ，Ｓ及びＳｉ。
【００１０】本発明における脂肪族不飽和有機化合物と
は、脂肪族炭化水素基であって不飽和基を有するものの
ことをいう。具体的には、オレフィン性不飽和化合物
としては、直鎖の末端不飽和オレフィン化合物、例えば
エチレン、プロピレン、ブテン−１、ヘキセン−１、オ
クテン−１、オクタデセン−１等；末端不飽和基を有す
る分岐オレフィン化合物、例えばイソブチレン、３−メ
チルブテン−１、３，５−ジメチルヘキセン−１、４−
エチルオクテン−１等；直鎖の内部オレフィン化合物、
例えばブテン−２、ヘキセン−３、オクテン−２、オク
タデセン−４等；分岐性内部オレフィン化合物、例えば
２−メチルブテン−２、３，５−ジメチルヘキセン−
２、４−エチルオクテン−２等；環状オレフィン化合
物、例えばシクロペンテン、シクロヘキセン、シクロオ
クテン、シクロデセン等；アリール基含有オレフィン化
合物、例えばアリルベンゼン、４−フェニルブテン−１
等；ジエン化合物、例えば１，３−ブタジエン、１，５
−ヘキサジエン、１，３−オクタジエン、シクロペンタ
ジエン、１，３−シクロヘキサジエン、１，５−シクロ
オクタジエン等を例示できる。
は、脂肪族炭化水素基であって不飽和基を有するものの
ことをいう。具体的には、オレフィン性不飽和化合物
としては、直鎖の末端不飽和オレフィン化合物、例えば
エチレン、プロピレン、ブテン−１、ヘキセン−１、オ
クテン−１、オクタデセン−１等；末端不飽和基を有す
る分岐オレフィン化合物、例えばイソブチレン、３−メ
チルブテン−１、３，５−ジメチルヘキセン−１、４−
エチルオクテン−１等；直鎖の内部オレフィン化合物、
例えばブテン−２、ヘキセン−３、オクテン−２、オク
タデセン−４等；分岐性内部オレフィン化合物、例えば
２−メチルブテン−２、３，５−ジメチルヘキセン−
２、４−エチルオクテン−２等；環状オレフィン化合
物、例えばシクロペンテン、シクロヘキセン、シクロオ
クテン、シクロデセン等；アリール基含有オレフィン化
合物、例えばアリルベンゼン、４−フェニルブテン−１
等；ジエン化合物、例えば１，３−ブタジエン、１，５
−ヘキサジエン、１，３−オクタジエン、シクロペンタ
ジエン、１，３−シクロヘキサジエン、１，５−シクロ
オクタジエン等を例示できる。
【００１１】オレフィン性不飽和化合物で酸素、窒
素、ハロゲン（Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ）、ケイ素及びイオ
ウから選ばれる原子を含んだものとしては、含酸素アリ
ル化合物、例えばアリルグリシジルエーテル、アリルメ
タクリレート等；アミン化合物、例えばＮ−ビニルカル
バゾール；オレフィンのハロゲン化物、例えば塩化アリ
ル、４−クロロブテン−１、６−ブロモヘキセン−１
等；ケイ素官能性オレフィン化合物、例えばビニルシラ
ン化合物、例えばビニルトリメチルシラン、ビニルトリ
エトキシシラン、両末端にビニル基を有するジシロキサ
ン、例えば１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラ
メチル−１，３−ジシロキサン、アリロキシトリメチル
シラン等；イオウ含有オレフィン化合物、例えばアリル
メルカプタン、アリルスルフィド等を例示できる。
素、ハロゲン（Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ）、ケイ素及びイオ
ウから選ばれる原子を含んだものとしては、含酸素アリ
ル化合物、例えばアリルグリシジルエーテル、アリルメ
タクリレート等；アミン化合物、例えばＮ−ビニルカル
バゾール；オレフィンのハロゲン化物、例えば塩化アリ
ル、４−クロロブテン−１、６−ブロモヘキセン−１
等；ケイ素官能性オレフィン化合物、例えばビニルシラ
ン化合物、例えばビニルトリメチルシラン、ビニルトリ
エトキシシラン、両末端にビニル基を有するジシロキサ
ン、例えば１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラ
メチル−１，３−ジシロキサン、アリロキシトリメチル
シラン等；イオウ含有オレフィン化合物、例えばアリル
メルカプタン、アリルスルフィド等を例示できる。
【００１２】アセチレン性不飽和化合物としては、末
端不飽和アセチレン化合物、例えばアセチレン、プロピ
ン、ブチン−１、ヘキシン−１等；内部アセチレン化合
物、例えばブチン−２、ヘキシン−３等を例示できる。
端不飽和アセチレン化合物、例えばアセチレン、プロピ
ン、ブチン−１、ヘキシン−１等；内部アセチレン化合
物、例えばブチン−２、ヘキシン−３等を例示できる。
【００１３】アセチレン性不飽和化合物で少なくとも
１個の酸素、窒素、ハロゲン（Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ）、
ケイ素及びイオウから選ばれる原子を含んだものとして
は、末端不飽和アセチレン化合物（酸素、窒素、フッ
素、塩素、臭素、ヨウ素又はケイ素から選ばれる原子を
含んでいてもよい）、例えばアセチレンアルコール、例
えば２−メチル−３−ブチン−２−オール、プロパルギ
ルアルコール等；ハロゲン化アセチレン化合物、例えば
塩化プロパルギル、４−クロロブチン−１等；ケイ素官
能性アセチレン化合物、例えばトリメチルシリルアセチ
レン、プロパルギルアルコールのトリメチルシリル化物
等；イオウ含有アセチレン化合物、例えばプロパルギル
メルカプタン、プロパルギルスルフィド等を例示でき
る。
１個の酸素、窒素、ハロゲン（Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ）、
ケイ素及びイオウから選ばれる原子を含んだものとして
は、末端不飽和アセチレン化合物（酸素、窒素、フッ
素、塩素、臭素、ヨウ素又はケイ素から選ばれる原子を
含んでいてもよい）、例えばアセチレンアルコール、例
えば２−メチル−３−ブチン−２−オール、プロパルギ
ルアルコール等；ハロゲン化アセチレン化合物、例えば
塩化プロパルギル、４−クロロブチン−１等；ケイ素官
能性アセチレン化合物、例えばトリメチルシリルアセチ
レン、プロパルギルアルコールのトリメチルシリル化物
等；イオウ含有アセチレン化合物、例えばプロパルギル
メルカプタン、プロパルギルスルフィド等を例示でき
る。
【００１４】尚、本発明においてオレフィン性不飽和化
合物としてビニルシラン化合物を使用する場合、カルボ
ン酸化合物の存在により反応性及び位置選択性が改善さ
れる。この様なビニルシラン化合物の例として次のもの
を挙げることができる：ビニルトリメチルシラン、ビニ
ルトリエチルシラン、ビニルジメチルフェニルシラン、
ビニルエトキシジメチルシラン、ビニルメトキシジエチ
ルシラン、ビニルフェノキシジメチルシラン、ビニルジ
メトキシメチルシラン、ビニルジエトキシメチルシラ
ン、ビニルジ（ｎ−プロポキシ）メチルシラン、ビニル
トリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ジビ
ニルジメチルシラン、ジビニルメチルフェニルシラン、
ジビニルジエトキシシラン。
合物としてビニルシラン化合物を使用する場合、カルボ
ン酸化合物の存在により反応性及び位置選択性が改善さ
れる。この様なビニルシラン化合物の例として次のもの
を挙げることができる：ビニルトリメチルシラン、ビニ
ルトリエチルシラン、ビニルジメチルフェニルシラン、
ビニルエトキシジメチルシラン、ビニルメトキシジエチ
ルシラン、ビニルフェノキシジメチルシラン、ビニルジ
メトキシメチルシラン、ビニルジエトキシメチルシラ
ン、ビニルジ（ｎ−プロポキシ）メチルシラン、ビニル
トリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ジビ
ニルジメチルシラン、ジビニルメチルフェニルシラン、
ジビニルジエトキシシラン。
【００１５】前記好ましい態様で用いるヒドリド｛ハイ
ドロカーボンオキシ｝シランは下記一般式（１） ＨＳｉＲn （ＯＲ′）3-n （１） で示されるものであり、ケイ素に直接結合した水素原子
とこのケイ素原子に結合するＯＲ′で表わされる少なく
とも１個の｛ハイドロカーボンオキシ｝基を有するケイ
素化合物である。同一のケイ素原子に互いに異なる｛ハ
イドロカーボンオキシ｝基が結合していても構わない。
式（１）においてＲは、炭素数１以上１０以下の炭化
水素基、並びにＯ，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ及びＳｉから
選ばれる原子を有する炭素数１以上１０以下の炭化水素
基から選ばれる炭化水素基であり；Ｒ′は、炭素数１
以上１８以下の炭化水素基、並びにＯ，Ｆ，Ｃｌ，Ｂ
ｒ，Ｉ及びＳｉから選ばれる原子を有する炭素数１以上
１８以下の炭化水素基、から選ばれる炭化水素基であ
る。Ｒ′は、好ましくは、上記，において炭素数が
１以上１０以下のもの（前記一般式（２）のＲ″）であ
る。Ｒについても、ｎ＝２のときは、同一のケイ素原子
上に互に異なる炭化水素基が結合していても構わない。
Ｒ及びＲ′（又はＲ″）は上記炭化水素基の内上記Ｏ，
Ｆ．Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ及びＳｉから選ばれる原子を有する
ことのあるアルキル基であることが好ましい。
ドロカーボンオキシ｝シランは下記一般式（１） ＨＳｉＲn （ＯＲ′）3-n （１） で示されるものであり、ケイ素に直接結合した水素原子
とこのケイ素原子に結合するＯＲ′で表わされる少なく
とも１個の｛ハイドロカーボンオキシ｝基を有するケイ
素化合物である。同一のケイ素原子に互いに異なる｛ハ
イドロカーボンオキシ｝基が結合していても構わない。
式（１）においてＲは、炭素数１以上１０以下の炭化
水素基、並びにＯ，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ及びＳｉから
選ばれる原子を有する炭素数１以上１０以下の炭化水素
基から選ばれる炭化水素基であり；Ｒ′は、炭素数１
以上１８以下の炭化水素基、並びにＯ，Ｆ，Ｃｌ，Ｂ
ｒ，Ｉ及びＳｉから選ばれる原子を有する炭素数１以上
１８以下の炭化水素基、から選ばれる炭化水素基であ
る。Ｒ′は、好ましくは、上記，において炭素数が
１以上１０以下のもの（前記一般式（２）のＲ″）であ
る。Ｒについても、ｎ＝２のときは、同一のケイ素原子
上に互に異なる炭化水素基が結合していても構わない。
Ｒ及びＲ′（又はＲ″）は上記炭化水素基の内上記Ｏ，
Ｆ．Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ及びＳｉから選ばれる原子を有する
ことのあるアルキル基であることが好ましい。
【００１６】ケイ素上の置換基Ｒとしては、メチル基、
エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチ
ル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチ
ル基、デシル基等のアルキル基、２−プロペニル基、ヘ
キセニル基、オクテニル基等のアルケニル基、ベンジル
基、フェネチル基等のアラルキル基、フェニル基、トリ
ル基、キシリル基等のアリール基など（前記一般式
（１）の例）、及びクロロメチル基、４−クロロフェ
ニル基、トリメチルシリルメチル基、２−メトキシエチ
ル基等（前記一般式（１）の例）を例示することが出
来る。Ｒ′の例として、上記Ｒの例と同じものを挙げる
ことができる。
エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチ
ル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチ
ル基、デシル基等のアルキル基、２−プロペニル基、ヘ
キセニル基、オクテニル基等のアルケニル基、ベンジル
基、フェネチル基等のアラルキル基、フェニル基、トリ
ル基、キシリル基等のアリール基など（前記一般式
（１）の例）、及びクロロメチル基、４−クロロフェ
ニル基、トリメチルシリルメチル基、２−メトキシエチ
ル基等（前記一般式（１）の例）を例示することが出
来る。Ｒ′の例として、上記Ｒの例と同じものを挙げる
ことができる。
【００１７】この化合物は、具体的には、トリアルコキ
シシラン、トリアルケノキシシラン、およびトリアリー
ロキシシランとしてはトリメトキシシラン、トリエトキ
シシラン、トリｎ−プロポキシシラン、トリイソプロポ
キシキシシラン、トリブトキシシラン、トリイソプロペ
ノキシシラン、トリフェノキシシラン等が例示でき、ジ
アルコキシシラン、ジアルケノキシシラン、およびジア
リーロキシシランとしてはメチルジメトキシシラン、メ
チルジエトキシシラン、メチルジｎ−プロポキシシラ
ン、メチルジイソプロペノキシシラン、メチルジフェノ
キシシラン、エチルジメトキシシラン、エチルジエトキ
シシラン、ｎ−プルピルジメトキシシラン、ｎ−プルピ
ルジエトキシシラン、３，３，３−トリフルオルプロピ
ルジメトキシシラン、３，３，３−トリフルオルプロピ
ルジエトキシシラン、ｎ−ヘキシルジメトキシシラン、
ｎ−ヘキシルジエトキシシラン、ｎ−オクチルジメトキ
シシラン、ｎ−オクチルジエトキシシラン、ベンジルジ
メトキシシラン、ベンジルジエトキシシラン、フェネチ
ルジメトキシシラン、フェネチルジエトキシシラン、フ
ェニルジメトキシシラン、フェニルジエトキシシラン等
が例示でき、モノアルコキシシラン、モノアルケノキシ
シラン、およびモノアリーロキシシランとしてはジメチ
ルメトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチル
ｎ−プロポキシシラン、ジメチルイソプロペノキシシラ
ン、ジメチルフェノキシシラン、ジエチルメトキシシラ
ン、メチルエチルエトキシシラン、ｎ−プルピル（メチ
ル）メトキシシラン、ｎ−プロピル（メチル）エトキシ
シラン、３，３，３−トリフルオルプロピル（メチル）
メトキシシラン、ビス（３，３，３−トリフルオルプロ
ピル）エトキシシラン、ｎ−ヘキシル（メチル）メトキ
シシラン、ジ（ｎ−ヘキシル）エトキシシラン、ｎ−オ
クチル（メチル）メトキシシラン、ジ（ｎ−オクチル）
エトキシシラン、ベンジル（メチル）メトキシシラン、
フェネチル（メチル）メトキシシラン、メチルフェニル
メトキシシラン等が例示でき、アルコキシ基、アルケノ
キシ基、アラルキロキシ基、アリーロキシ基混合｛ハイ
ドロカーボンオキシ｝シランとしてはジエトキシプロペ
ノキシシラン、ジメトキシフェノキシシラン、ジフェノ
キシプロペノキシシラン、メチルメトキシフェネトキシ
シラン、等が例示できる。また、これらのシラン化合物
のＲ又はＲ′はクロロメチル基、４−クロロフェニル
基、トリメチルシリルメチル基、２−メトキシエチル基
等によって置き換えられたものもあげることができる。
これらのヒドリド｛ハイドロカーボンオキシ｝シラン化
合物は、その反応性あるいは製造しようとする｛ハイド
ロカーボンオキシ｝シリル基含有化合物の用途によって
選択されるものであるが、通常は反応性を考慮してアル
コキシシランが好適に使用される。
シシラン、トリアルケノキシシラン、およびトリアリー
ロキシシランとしてはトリメトキシシラン、トリエトキ
シシラン、トリｎ−プロポキシシラン、トリイソプロポ
キシキシシラン、トリブトキシシラン、トリイソプロペ
ノキシシラン、トリフェノキシシラン等が例示でき、ジ
アルコキシシラン、ジアルケノキシシラン、およびジア
リーロキシシランとしてはメチルジメトキシシラン、メ
チルジエトキシシラン、メチルジｎ−プロポキシシラ
ン、メチルジイソプロペノキシシラン、メチルジフェノ
キシシラン、エチルジメトキシシラン、エチルジエトキ
シシラン、ｎ−プルピルジメトキシシラン、ｎ−プルピ
ルジエトキシシラン、３，３，３−トリフルオルプロピ
ルジメトキシシラン、３，３，３−トリフルオルプロピ
ルジエトキシシラン、ｎ−ヘキシルジメトキシシラン、
ｎ−ヘキシルジエトキシシラン、ｎ−オクチルジメトキ
シシラン、ｎ−オクチルジエトキシシラン、ベンジルジ
メトキシシラン、ベンジルジエトキシシラン、フェネチ
ルジメトキシシラン、フェネチルジエトキシシラン、フ
ェニルジメトキシシラン、フェニルジエトキシシラン等
が例示でき、モノアルコキシシラン、モノアルケノキシ
シラン、およびモノアリーロキシシランとしてはジメチ
ルメトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチル
ｎ−プロポキシシラン、ジメチルイソプロペノキシシラ
ン、ジメチルフェノキシシラン、ジエチルメトキシシラ
ン、メチルエチルエトキシシラン、ｎ−プルピル（メチ
ル）メトキシシラン、ｎ−プロピル（メチル）エトキシ
シラン、３，３，３−トリフルオルプロピル（メチル）
メトキシシラン、ビス（３，３，３−トリフルオルプロ
ピル）エトキシシラン、ｎ−ヘキシル（メチル）メトキ
シシラン、ジ（ｎ−ヘキシル）エトキシシラン、ｎ−オ
クチル（メチル）メトキシシラン、ジ（ｎ−オクチル）
エトキシシラン、ベンジル（メチル）メトキシシラン、
フェネチル（メチル）メトキシシラン、メチルフェニル
メトキシシラン等が例示でき、アルコキシ基、アルケノ
キシ基、アラルキロキシ基、アリーロキシ基混合｛ハイ
ドロカーボンオキシ｝シランとしてはジエトキシプロペ
ノキシシラン、ジメトキシフェノキシシラン、ジフェノ
キシプロペノキシシラン、メチルメトキシフェネトキシ
シラン、等が例示できる。また、これらのシラン化合物
のＲ又はＲ′はクロロメチル基、４−クロロフェニル
基、トリメチルシリルメチル基、２−メトキシエチル基
等によって置き換えられたものもあげることができる。
これらのヒドリド｛ハイドロカーボンオキシ｝シラン化
合物は、その反応性あるいは製造しようとする｛ハイド
ロカーボンオキシ｝シリル基含有化合物の用途によって
選択されるものであるが、通常は反応性を考慮してアル
コキシシランが好適に使用される。
【００１８】本発明において、触媒成分の白金化合物は
マイナスの電荷を帯びた錯体、０価、２価又は４価の白
金化合物及び白金コロイドから選ぶことができる。具体
的にはマイナスの電荷を帯びた錯体としては［Ｐｔ3
（ＣＯ）6 ］2-，［Ｐｔ3 （ＣＯ）6 ］2 2- ，［Ｐｔ3
（ＣＯ）6 ］4 2- に代表される白金カルボニルクラスタ
ーアニオン化合物を、０価の白金化合物としては、白金
（０）ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体、白金
（０）テトラビニルテトラメチルシクロテトラシロキサ
ン錯体、白金（０）エチレン錯体、白金（０）スチレン
錯体を、２価の白金化合物としてはＰｔ（II）Ｃｌ2 、
Ｐｔ（II）Ｂｒ2 、ビス（エチレン）Ｐｔ（II）Ｃｌ
2 、（１，５−シクロオクタジエン）Ｐｔ（II）Ｃｌ
2 、白金（II）アセチルアセトナート、ビス（ベンゾニ
トリル）Ｐｔ（II）Ｃｌ2 等を、４価の白金化合物とし
てはＰｔ（IV）Ｃｌ4 、Ｈ2 Ｐｔ（IV）Ｃｌ6 、Ｎａ2
Ｐｔ（IV）Ｃｌ6 、Ｋ2 Ｐｔ（IV）Ｃｌ6 、等の化合物
を例示できる。これらのうち、有機溶媒への溶解性、触
媒溶液の安定性等の使用上の観点から、特に好ましいも
のとしては、白金（０）ジビニルテトラメチルジシロキ
サン錯体と塩化白金酸のアルコール溶液を挙げることが
できる。一定量の基質のヒドロシリル化反応に要する白
金の量は基質の種類、反応温度、反応時間等の要素とも
関連し、一律に決めることはできないが、一般に、基質
（ヒドリド｛ハイドロカーボンオキシ｝シラン化合物）
１モルに対して白金１０-3モルから１０-8モルの範囲で
使用でき、触媒の経済性および反応時間の観点からは１
０-4モルから１０-7モルの範囲で使用するのが適当であ
る。
マイナスの電荷を帯びた錯体、０価、２価又は４価の白
金化合物及び白金コロイドから選ぶことができる。具体
的にはマイナスの電荷を帯びた錯体としては［Ｐｔ3
（ＣＯ）6 ］2-，［Ｐｔ3 （ＣＯ）6 ］2 2- ，［Ｐｔ3
（ＣＯ）6 ］4 2- に代表される白金カルボニルクラスタ
ーアニオン化合物を、０価の白金化合物としては、白金
（０）ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体、白金
（０）テトラビニルテトラメチルシクロテトラシロキサ
ン錯体、白金（０）エチレン錯体、白金（０）スチレン
錯体を、２価の白金化合物としてはＰｔ（II）Ｃｌ2 、
Ｐｔ（II）Ｂｒ2 、ビス（エチレン）Ｐｔ（II）Ｃｌ
2 、（１，５−シクロオクタジエン）Ｐｔ（II）Ｃｌ
2 、白金（II）アセチルアセトナート、ビス（ベンゾニ
トリル）Ｐｔ（II）Ｃｌ2 等を、４価の白金化合物とし
てはＰｔ（IV）Ｃｌ4 、Ｈ2 Ｐｔ（IV）Ｃｌ6 、Ｎａ2
Ｐｔ（IV）Ｃｌ6 、Ｋ2 Ｐｔ（IV）Ｃｌ6 、等の化合物
を例示できる。これらのうち、有機溶媒への溶解性、触
媒溶液の安定性等の使用上の観点から、特に好ましいも
のとしては、白金（０）ジビニルテトラメチルジシロキ
サン錯体と塩化白金酸のアルコール溶液を挙げることが
できる。一定量の基質のヒドロシリル化反応に要する白
金の量は基質の種類、反応温度、反応時間等の要素とも
関連し、一律に決めることはできないが、一般に、基質
（ヒドリド｛ハイドロカーボンオキシ｝シラン化合物）
１モルに対して白金１０-3モルから１０-8モルの範囲で
使用でき、触媒の経済性および反応時間の観点からは１
０-4モルから１０-7モルの範囲で使用するのが適当であ
る。
【００１９】本発明のヒドロシリル化方法で用いるカル
ボン酸化合物としてはカルボン酸、カルボン酸のシリル
化物、カルボン酸の酸無水物が適当であるが、これら以
外にも反応系中での分解、あるいは反応により上記のカ
ルボン酸化合物を生じるものも含まれる。具体的には、
カルボン酸としては、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、ｎ−
酪酸、イソ酪酸、ヘキサン酸、シクロヘキサン酸、ラウ
リン酸、ステアリン酸に代表される飽和モノカルボン
酸；シュウ酸、アジピン酸等の飽和ジカルボン酸；安息
香酸、パラ−フタル酸等の芳香族カルボン酸；カルボン
酸の炭化水素基の水素原子がハロゲン原子又はオルガノ
シリル基で置換されたクロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリ
フルオロ酢酸、パラ−クロロ安息香酸、トリメチルシリ
ル酢酸等のカルボン酸；アクリル酸、メタクリル酸、オ
レイン酸等の不飽和脂肪酸；カルボキシル基の他にヒド
ロキシ基、カルボニル基又はアミノ基をも有するもの、
すなわち乳酸等のヒドロキシ酸、アセト酢酸等のケト
酸、グリオキシル酸等のアルデヒド酸、グルタミン酸等
のアミノ酸等の化合物を挙げることができる。カルボン
酸のシリル化物としては、具体的にはギ酸トリメチルシ
リル、酢酸トリメチルシリル、プロピオン酸トリエチル
シリル、安息香酸トリメチルシリル、トリフルオロ酢酸
トリメチルシリル等のカルボン酸のトリアルキルシリル
化物；ジメチルジアセトキシシラン、ジフェニルジアセ
トキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、シリコン
テトラベンゾエート等のジ−、トリ−およびテトラカル
ボキシシリレートを例示できる。
ボン酸化合物としてはカルボン酸、カルボン酸のシリル
化物、カルボン酸の酸無水物が適当であるが、これら以
外にも反応系中での分解、あるいは反応により上記のカ
ルボン酸化合物を生じるものも含まれる。具体的には、
カルボン酸としては、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、ｎ−
酪酸、イソ酪酸、ヘキサン酸、シクロヘキサン酸、ラウ
リン酸、ステアリン酸に代表される飽和モノカルボン
酸；シュウ酸、アジピン酸等の飽和ジカルボン酸；安息
香酸、パラ−フタル酸等の芳香族カルボン酸；カルボン
酸の炭化水素基の水素原子がハロゲン原子又はオルガノ
シリル基で置換されたクロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリ
フルオロ酢酸、パラ−クロロ安息香酸、トリメチルシリ
ル酢酸等のカルボン酸；アクリル酸、メタクリル酸、オ
レイン酸等の不飽和脂肪酸；カルボキシル基の他にヒド
ロキシ基、カルボニル基又はアミノ基をも有するもの、
すなわち乳酸等のヒドロキシ酸、アセト酢酸等のケト
酸、グリオキシル酸等のアルデヒド酸、グルタミン酸等
のアミノ酸等の化合物を挙げることができる。カルボン
酸のシリル化物としては、具体的にはギ酸トリメチルシ
リル、酢酸トリメチルシリル、プロピオン酸トリエチル
シリル、安息香酸トリメチルシリル、トリフルオロ酢酸
トリメチルシリル等のカルボン酸のトリアルキルシリル
化物；ジメチルジアセトキシシラン、ジフェニルジアセ
トキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、シリコン
テトラベンゾエート等のジ−、トリ−およびテトラカル
ボキシシリレートを例示できる。
【００２０】カルボン酸の酸無水物としては、無水酢
酸、無水プロピオン酸、無水安息香酸等を例示でき、反
応系中での分解、あるいは反応により上記のカルボン酸
化合物を生じるものとしては、塩化アセチル、塩化ブチ
リル、塩化ベンゾイル等のカルボン酸ハロゲン化物、カ
ルボン酸金属塩などを挙げることが出来る。
酸、無水プロピオン酸、無水安息香酸等を例示でき、反
応系中での分解、あるいは反応により上記のカルボン酸
化合物を生じるものとしては、塩化アセチル、塩化ブチ
リル、塩化ベンゾイル等のカルボン酸ハロゲン化物、カ
ルボン酸金属塩などを挙げることが出来る。
【００２１】これらカルボン酸化合物は反応系中に０．
００１重量％から２０重量％の範囲で添加して有効に使
用することができるが、十分な効果を上げ、かつ効率的
に使用する目的では０．０１重量％から５重量％の間で
添加することが好ましい。ここで反応系とは、本発明製
造方法に用いられるヒドリド｛ハイドロカーボンオキ
シ｝シラン化合物、脂肪族不飽和化合物、白金又はその
化合物からなる触媒及び該カルボン酸化合物を含む混合
物をいう。
００１重量％から２０重量％の範囲で添加して有効に使
用することができるが、十分な効果を上げ、かつ効率的
に使用する目的では０．０１重量％から５重量％の間で
添加することが好ましい。ここで反応系とは、本発明製
造方法に用いられるヒドリド｛ハイドロカーボンオキ
シ｝シラン化合物、脂肪族不飽和化合物、白金又はその
化合物からなる触媒及び該カルボン酸化合物を含む混合
物をいう。
【００２２】反応温度は０℃以上３００℃以下でよい
が、適当な反応速度を達成出来ること、および反応に関
与する基質および生成物が安定に存在しうるという点か
らは３０℃から２５０℃が最適である。
が、適当な反応速度を達成出来ること、および反応に関
与する基質および生成物が安定に存在しうるという点か
らは３０℃から２５０℃が最適である。
【００２３】本発明の方法では本質的には溶媒を用いる
必要はないが、基質を溶解させる目的で、また反応系の
温度の制御及び触媒成分の添加を容易にするため炭化水
素系化合物、含酸素有機溶媒又はシリコーン等を反応溶
媒あるいは触媒成分の溶媒として用いることができる。
この目的のために最適な溶媒としては、ヘキサン、シク
ロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ドデカン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、ドデシルベンゼン等の飽和あ
るいは不飽和の炭化水素化合物、クロロホルム、塩化メ
チレン、クロロベンゼン、オルト−ジクロロベンゼン等
のハロゲン化炭化水素化合物、エーテル類、エステル
類、そしてシリコーン類、例えば両末端トリメチルシリ
ルポリジメチルシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン
等を挙げることができる。
必要はないが、基質を溶解させる目的で、また反応系の
温度の制御及び触媒成分の添加を容易にするため炭化水
素系化合物、含酸素有機溶媒又はシリコーン等を反応溶
媒あるいは触媒成分の溶媒として用いることができる。
この目的のために最適な溶媒としては、ヘキサン、シク
ロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ドデカン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、ドデシルベンゼン等の飽和あ
るいは不飽和の炭化水素化合物、クロロホルム、塩化メ
チレン、クロロベンゼン、オルト−ジクロロベンゼン等
のハロゲン化炭化水素化合物、エーテル類、エステル
類、そしてシリコーン類、例えば両末端トリメチルシリ
ルポリジメチルシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン
等を挙げることができる。
【００２４】以下に本発明の好ましい実施態様を示す。 （実施態様１）カルボン酸化合物の存在下、白金又はそ
の化合物の触媒作用により下記（Ａ）群から選ばれる化
合物に下記一般式（１）で表されるヒドリド｛ハイドロ
カーボンオキシ｝シラン化合物を反応させて該（Ａ）群
の化合物をヒドロシリル化することを特徴とする｛ハイ
ドロカーボンオキシ｝シリル基含有化合物の製造方法。 ＨＳｉＲn （ＯＲ′）3-n （１） （ｎは０，１及び２から選ばれる整数であり；Ｒは次の
又はから選ばれる炭化水素基であり：炭素数１以
上１０以下の炭化水素基、Ｏ，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉも
しくはＳｉから選ばれる原子を有する炭素数１以上１０
以下の炭化水素基；Ｒ′は次の又はから選ばれる炭
化水素基である：炭素数１以上１８以下の炭化水素
基、Ｏ，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，ＩもしくはＳｉから選ばれ
る原子を有する炭素数１以上１８以下の炭化水素基。） （Ａ）群：含酸素アリル化合物、オレフィンのハロゲン
化物、ビニルシラン化合物、両末端にビニル基を有する
ジシロキサン、及び末端不飽和アセチレン化合物（酸
素、窒素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素又はケイ素から
選ばれる原子を含んでいてもよい）。この態様の製造方
法によれば、特に上記（Ａ）群から選ばれる化合物をヒ
ドロシリル化させた場合、カルボン酸化合物の存在によ
り特に位置選択性が改善される。
の化合物の触媒作用により下記（Ａ）群から選ばれる化
合物に下記一般式（１）で表されるヒドリド｛ハイドロ
カーボンオキシ｝シラン化合物を反応させて該（Ａ）群
の化合物をヒドロシリル化することを特徴とする｛ハイ
ドロカーボンオキシ｝シリル基含有化合物の製造方法。 ＨＳｉＲn （ＯＲ′）3-n （１） （ｎは０，１及び２から選ばれる整数であり；Ｒは次の
又はから選ばれる炭化水素基であり：炭素数１以
上１０以下の炭化水素基、Ｏ，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉも
しくはＳｉから選ばれる原子を有する炭素数１以上１０
以下の炭化水素基；Ｒ′は次の又はから選ばれる炭
化水素基である：炭素数１以上１８以下の炭化水素
基、Ｏ，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，ＩもしくはＳｉから選ばれ
る原子を有する炭素数１以上１８以下の炭化水素基。） （Ａ）群：含酸素アリル化合物、オレフィンのハロゲン
化物、ビニルシラン化合物、両末端にビニル基を有する
ジシロキサン、及び末端不飽和アセチレン化合物（酸
素、窒素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素又はケイ素から
選ばれる原子を含んでいてもよい）。この態様の製造方
法によれば、特に上記（Ａ）群から選ばれる化合物をヒ
ドロシリル化させた場合、カルボン酸化合物の存在によ
り特に位置選択性が改善される。
【００２５】（実施態様２）カルボン酸化合物の存在
下、白金又はその化合物の触媒作用によりビニルシラン
化合物に下記一般式（１）で表されるヒドリド｛ハイド
ロカーボンオキシ｝シラン化合物を反応させて該ビニル
シラン化合物をヒドロシリル化することを特徴とする
｛ハイドロカーボンオキシ｝シリル基含有化合物の製造
方法。 ＨＳｉＲn （ＯＲ′）3-n （１） （ｎは０，１及び２から選ばれる整数であり；Ｒは次の
又はから選ばれる炭化水素基であり：炭素数１以
上１０以下の炭化水素基、Ｏ，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉも
しくはＳｉから選ばれる原子を有する炭素数１以上１０
以下の炭化水素基；Ｒ′は次の又はから選ばれる炭
化水素基である：炭素数１以上１８以下の炭化水素
基、Ｏ，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，ＩもしくはＳｉから選ばれ
る原子を有する炭素数１以上１８以下の炭化水素基。）
下、白金又はその化合物の触媒作用によりビニルシラン
化合物に下記一般式（１）で表されるヒドリド｛ハイド
ロカーボンオキシ｝シラン化合物を反応させて該ビニル
シラン化合物をヒドロシリル化することを特徴とする
｛ハイドロカーボンオキシ｝シリル基含有化合物の製造
方法。 ＨＳｉＲn （ＯＲ′）3-n （１） （ｎは０，１及び２から選ばれる整数であり；Ｒは次の
又はから選ばれる炭化水素基であり：炭素数１以
上１０以下の炭化水素基、Ｏ，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉも
しくはＳｉから選ばれる原子を有する炭素数１以上１０
以下の炭化水素基；Ｒ′は次の又はから選ばれる炭
化水素基である：炭素数１以上１８以下の炭化水素
基、Ｏ，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，ＩもしくはＳｉから選ばれ
る原子を有する炭素数１以上１８以下の炭化水素基。）
【００２６】（実施態様３）カルボン酸化合物の存在
下、白金又はその化合物の触媒作用により下記（Ｂ）群
から選ばれる化合物に下記一般式（１）で表されるヒド
リド｛ハイドロカーボンオキシ｝シラン化合物を反応さ
せて該（Ｂ）群から選ばれる化合物をヒドロシリル化す
ることを特徴とする｛ハイドロカーボンオキシ｝シリル
基含有化合物の製造方法。 ＨＳｉＲn （ＯＲ′）3-n （１） （ｎは０，１及び２から選ばれる整数であり；Ｒは次の
又はから選ばれる炭化水素基であり：炭素数１以
上１０以下の炭化水素基、Ｏ，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉも
しくはＳｉから選ばれる原子を有する炭素数１以上１０
以下の炭化水素基；Ｒ′は次の又はから選ばれる炭
化水素基である：炭素数１以上１８以下の炭化水素
基、Ｏ，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，ＩもしくはＳｉから選ばれ
る原子を有する炭素数１以上１８以下の炭化水素基。） （Ｂ）群：オレフィン性不飽和化合物、アリロキシトリ
メチルシラン及び内部アセチレン化合物
下、白金又はその化合物の触媒作用により下記（Ｂ）群
から選ばれる化合物に下記一般式（１）で表されるヒド
リド｛ハイドロカーボンオキシ｝シラン化合物を反応さ
せて該（Ｂ）群から選ばれる化合物をヒドロシリル化す
ることを特徴とする｛ハイドロカーボンオキシ｝シリル
基含有化合物の製造方法。 ＨＳｉＲn （ＯＲ′）3-n （１） （ｎは０，１及び２から選ばれる整数であり；Ｒは次の
又はから選ばれる炭化水素基であり：炭素数１以
上１０以下の炭化水素基、Ｏ，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉも
しくはＳｉから選ばれる原子を有する炭素数１以上１０
以下の炭化水素基；Ｒ′は次の又はから選ばれる炭
化水素基である：炭素数１以上１８以下の炭化水素
基、Ｏ，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，ＩもしくはＳｉから選ばれ
る原子を有する炭素数１以上１８以下の炭化水素基。） （Ｂ）群：オレフィン性不飽和化合物、アリロキシトリ
メチルシラン及び内部アセチレン化合物
【００２７】（実施態様４）カルボン酸化合物の存在
下、白金又はその化合物の触媒作用によりアリルグリシ
ジルエーテルに下記一般式（１）で表されるヒドリド
｛ハイドロカーボンオキシ｝シラン化合物を反応させて
該アリルグリシジルエーテルをヒドロシリル化すること
を特徴とする｛ハイドロカーボンオキシ｝シリル基含有
化合物の製造方法。 ＨＳｉＲn （ＯＲ′）3-n （１） （ｎは０，１及び２から選ばれる整数であり；Ｒは次の
又はから選ばれる炭化水素基であり：炭素数１以
上１０以下の炭化水素基、Ｏ，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉも
しくはＳｉから選ばれる原子を有する炭素数１以上１０
以下の炭化水素基；Ｒ′は次の又はから選ばれる炭
化水素基である：炭素数１以上１８以下の炭化水素
基、Ｏ，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，ＩもしくはＳｉから選ばれ
る原子を有する炭素数１以上１８以下の炭化水素基。）
下、白金又はその化合物の触媒作用によりアリルグリシ
ジルエーテルに下記一般式（１）で表されるヒドリド
｛ハイドロカーボンオキシ｝シラン化合物を反応させて
該アリルグリシジルエーテルをヒドロシリル化すること
を特徴とする｛ハイドロカーボンオキシ｝シリル基含有
化合物の製造方法。 ＨＳｉＲn （ＯＲ′）3-n （１） （ｎは０，１及び２から選ばれる整数であり；Ｒは次の
又はから選ばれる炭化水素基であり：炭素数１以
上１０以下の炭化水素基、Ｏ，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉも
しくはＳｉから選ばれる原子を有する炭素数１以上１０
以下の炭化水素基；Ｒ′は次の又はから選ばれる炭
化水素基である：炭素数１以上１８以下の炭化水素
基、Ｏ，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，ＩもしくはＳｉから選ばれ
る原子を有する炭素数１以上１８以下の炭化水素基。）
【００２８】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。な
お、以下に示す例中の生成物の特性化の記述においてＧ
Ｃはガスクロマトグラフを、ＧＣ−ＭＳはガスクロマト
グラフ−質量分析を表す。転化率はオレフィン仕込み原
料に対する反応率を、収率は、同じくオレフィン仕込み
量に対する生成物の生成割合を意味する。本実施例で用
いた｛ハイドロカーボンオキシ｝シラン化合物、アルキ
ルシラン化合物及びシロキサン化合物は市販のものある
いは公知の方法によって合成したものである。不飽和化
合物は市販のものをそのまま用いた。次に実施例及び比
較例を挙げ、本発明を説明する。
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。な
お、以下に示す例中の生成物の特性化の記述においてＧ
Ｃはガスクロマトグラフを、ＧＣ−ＭＳはガスクロマト
グラフ−質量分析を表す。転化率はオレフィン仕込み原
料に対する反応率を、収率は、同じくオレフィン仕込み
量に対する生成物の生成割合を意味する。本実施例で用
いた｛ハイドロカーボンオキシ｝シラン化合物、アルキ
ルシラン化合物及びシロキサン化合物は市販のものある
いは公知の方法によって合成したものである。不飽和化
合物は市販のものをそのまま用いた。次に実施例及び比
較例を挙げ、本発明を説明する。
【００２９】（実施例１）（酢酸存在下での白金触媒に
よるオクテン−１とトリエトキシシランの反応）ガラス
製反応管に２２４mgのオクテン−１と３２９mgのトリエ
トキシシランおよび４００mgのトルエンをとり、これに
０．００４mlの酢酸をマイクロシリンジで加えた。これ
にジビニルシロキサンの０価白金錯体のトルエン溶液
（白金含量０．４wt％）を０．００１ml加えた。反応管
をテフロンテープでシールし、これを５０℃のオイルバ
スにいれ３０分間加熱した。冷却後、内容物をガスクロ
マトグラフを用いて分析するとオクテン−１の転化率は
９６％であり、ｎ−オクチルトリエトキシシランが８９
％の収率で生成していた。
よるオクテン−１とトリエトキシシランの反応）ガラス
製反応管に２２４mgのオクテン−１と３２９mgのトリエ
トキシシランおよび４００mgのトルエンをとり、これに
０．００４mlの酢酸をマイクロシリンジで加えた。これ
にジビニルシロキサンの０価白金錯体のトルエン溶液
（白金含量０．４wt％）を０．００１ml加えた。反応管
をテフロンテープでシールし、これを５０℃のオイルバ
スにいれ３０分間加熱した。冷却後、内容物をガスクロ
マトグラフを用いて分析するとオクテン−１の転化率は
９６％であり、ｎ−オクチルトリエトキシシランが８９
％の収率で生成していた。
【００３０】（比較例１） （白金触媒によるオクテン−１とトリエトキシシランの
反応（カルボン酸無添加の場合））ガラス製反応管に２
２４mgのオクテン−１と３２９mgのトリエトキシシラン
および４００mgのトルエンををとり、これにジビニルシ
ロキサンの０価白金錯体のトルエン溶液（白金含量０．
４wt％）を０．００１ml加えた。反応管をテフロンテー
プでシールし、これを５０℃のオイルバスにいれ３０分
間加熱した。冷却後、内容物をガスクロマトグラフを用
いて分析するとオクテン−１の転化率は０．５％であ
り、ｎ−オクチルトリエトキシシランが０．４％の収率
で生成していた。
反応（カルボン酸無添加の場合））ガラス製反応管に２
２４mgのオクテン−１と３２９mgのトリエトキシシラン
および４００mgのトルエンををとり、これにジビニルシ
ロキサンの０価白金錯体のトルエン溶液（白金含量０．
４wt％）を０．００１ml加えた。反応管をテフロンテー
プでシールし、これを５０℃のオイルバスにいれ３０分
間加熱した。冷却後、内容物をガスクロマトグラフを用
いて分析するとオクテン−１の転化率は０．５％であ
り、ｎ−オクチルトリエトキシシランが０．４％の収率
で生成していた。
【００３１】（実施例２） （ギ酸存在下での白金触媒によるオクテン−１とトリエ
トキシシランの反応）ガラス製反応管に２２４mgのオク
テン−１と３２８mgのトリエトキシシランおよび５６mg
のトルエンをとり、これに０．００２mlのギ酸をマイク
ロシリンジで加えた。これに塩化白金酸のイソプロピル
アルコール溶液（白金含量０．３９％）を０．００１ml
加えた。反応管をテフロンテープでシールし、これを５
０℃のオイルバスにいれ３０分間加熱した。冷却後、内
容物をガスクロマトグラフを用いて分析するとオクテン
−１の転化率は９６．６％であり、ｎ−オクチルトリエ
トキシシランが９２％の収率で生成していた。
トキシシランの反応）ガラス製反応管に２２４mgのオク
テン−１と３２８mgのトリエトキシシランおよび５６mg
のトルエンをとり、これに０．００２mlのギ酸をマイク
ロシリンジで加えた。これに塩化白金酸のイソプロピル
アルコール溶液（白金含量０．３９％）を０．００１ml
加えた。反応管をテフロンテープでシールし、これを５
０℃のオイルバスにいれ３０分間加熱した。冷却後、内
容物をガスクロマトグラフを用いて分析するとオクテン
−１の転化率は９６．６％であり、ｎ−オクチルトリエ
トキシシランが９２％の収率で生成していた。
【００３２】（比較例２） （白金触媒によるオクテン−１とトリエトキシシランの
反応（カルボン酸無添加の場合））ガラス製反応管に２
２４mgのオクテン−１と３２８mgのトリエトキシシラン
および５６mgのトルエンをとり、これにジビニルシロキ
サンの０価白金錯体のトルエン溶液（白金含量０．４wt
％）を０．００１ml加えた。反応管をテフロンテープで
シールし、これを５０℃のオイルバスにいれ３０分間加
熱した。冷却後、内容物をガスクロマトグラフを用いて
分析するとオクテン−１の転化率は２．５％であり、ｎ
−オクチルトリエトキシシランが１．５％の収率で生成
していた。
反応（カルボン酸無添加の場合））ガラス製反応管に２
２４mgのオクテン−１と３２８mgのトリエトキシシラン
および５６mgのトルエンをとり、これにジビニルシロキ
サンの０価白金錯体のトルエン溶液（白金含量０．４wt
％）を０．００１ml加えた。反応管をテフロンテープで
シールし、これを５０℃のオイルバスにいれ３０分間加
熱した。冷却後、内容物をガスクロマトグラフを用いて
分析するとオクテン−１の転化率は２．５％であり、ｎ
−オクチルトリエトキシシランが１．５％の収率で生成
していた。
【００３３】（実施例３） （トリフルオロ酢酸存在下での白金触媒によるオクテン
−１とトリエトキシシランの反応）ガラス製反応管に２
２４mgのオクテン−１と３２８mgのトリエトキシシラン
および５６mgのトルエンをとり、これに０．００２mlの
トリフルオル酢酸をマイクロシリンジで加えた。これに
ジビニルシロキサンの０価白金錯体のトルエン溶液（白
金含量０．４wt％）を０．００１ml加えた。反応管をテ
フロンテープでシールし、これを５０℃のオイルバスに
入れ３０分間加熱した。冷却後、内容物をガスクロマト
グラフを用いて分析するとオクテン−１の転化率は９
５．２％であり、ｎ−オクチルトリエトキシシランが８
７．４％の収率で生成していた。
−１とトリエトキシシランの反応）ガラス製反応管に２
２４mgのオクテン−１と３２８mgのトリエトキシシラン
および５６mgのトルエンをとり、これに０．００２mlの
トリフルオル酢酸をマイクロシリンジで加えた。これに
ジビニルシロキサンの０価白金錯体のトルエン溶液（白
金含量０．４wt％）を０．００１ml加えた。反応管をテ
フロンテープでシールし、これを５０℃のオイルバスに
入れ３０分間加熱した。冷却後、内容物をガスクロマト
グラフを用いて分析するとオクテン−１の転化率は９
５．２％であり、ｎ−オクチルトリエトキシシランが８
７．４％の収率で生成していた。
【００３４】（実施例４） （安息香酸存在下での白金触媒によるオクテン−１とト
リエトキシシランの反応）ガラス製反応管に２２４mgの
オクテン−１と３２８mgのトリエトキシシランおよび５
６mgのトルエンをとり、これに８mgの安息香酸を加え
た。これに塩化白金酸のイソプロピルアルコール溶液
（白金含量０．３９％）を０．００１ml加えた後反応管
をテフロンテープでシールし、これを５０℃のオイルバ
スにいれ３０分間加熱した。冷却後、内容物をガスクロ
マトグラフを用いて分析するとオクテン−１の転化率は
９７．５％であり、ｎ−オクチルトリエトキシシランが
９１％の収率で生成していた。
リエトキシシランの反応）ガラス製反応管に２２４mgの
オクテン−１と３２８mgのトリエトキシシランおよび５
６mgのトルエンをとり、これに８mgの安息香酸を加え
た。これに塩化白金酸のイソプロピルアルコール溶液
（白金含量０．３９％）を０．００１ml加えた後反応管
をテフロンテープでシールし、これを５０℃のオイルバ
スにいれ３０分間加熱した。冷却後、内容物をガスクロ
マトグラフを用いて分析するとオクテン−１の転化率は
９７．５％であり、ｎ−オクチルトリエトキシシランが
９１％の収率で生成していた。
【００３５】（実施例５） （メチルトリアセトキシシラン存在下での白金触媒によ
るオクテン−１とトリエトキシシランの反応）ガラス製
反応管に２２４mgのオクテン−１と３２８mgのトリエト
キシシランおよび５６mgのトルエンをとり、これにメチ
ルトリアセトキシシラン４mgを加えた。これにジビニル
シロキサンの０価白金錯体のトルエン溶液（白金含量
０．４wt％）を０．００１ml加えた。反応管をテフロン
テープでシールし、これを５０℃のオイルバスにいれ３
０分間加熱した。冷却後、内容物をガスクロマトグラフ
を用いて分析するとオクテン−１の転化率は９７．６％
であり、ｎ−オクチルトリエトキシシランが９１％の収
率で生成していた。
るオクテン−１とトリエトキシシランの反応）ガラス製
反応管に２２４mgのオクテン−１と３２８mgのトリエト
キシシランおよび５６mgのトルエンをとり、これにメチ
ルトリアセトキシシラン４mgを加えた。これにジビニル
シロキサンの０価白金錯体のトルエン溶液（白金含量
０．４wt％）を０．００１ml加えた。反応管をテフロン
テープでシールし、これを５０℃のオイルバスにいれ３
０分間加熱した。冷却後、内容物をガスクロマトグラフ
を用いて分析するとオクテン−１の転化率は９７．６％
であり、ｎ−オクチルトリエトキシシランが９１％の収
率で生成していた。
【００３６】（実施例６） （無水酢酸存在下での白金触媒によるオクテン−１とト
リエトキシシランの反応）ガラス製反応管に２２４mgの
オクテン−１と３２８mgのトリエトキシシランをとり、
これに０．０１mlの無水酢酸をマイクロシリンジで加え
た。これにジビニルシロキサンの０価白金錯体のトルエ
ン溶液（白金含量０．４wt％）を０．００１ml加えた。
反応管をテフロンテープでシールし、これを５０℃のオ
イルバスにいれ３０分間加熱した。冷却後、内容物をガ
スクロマトグラフを用いて分析するとオクテン−１の転
化率は１６．５％であり、ｎ−オクチルトリエトキシシ
ランが１４．３％の収率で生成していた。
リエトキシシランの反応）ガラス製反応管に２２４mgの
オクテン−１と３２８mgのトリエトキシシランをとり、
これに０．０１mlの無水酢酸をマイクロシリンジで加え
た。これにジビニルシロキサンの０価白金錯体のトルエ
ン溶液（白金含量０．４wt％）を０．００１ml加えた。
反応管をテフロンテープでシールし、これを５０℃のオ
イルバスにいれ３０分間加熱した。冷却後、内容物をガ
スクロマトグラフを用いて分析するとオクテン−１の転
化率は１６．５％であり、ｎ−オクチルトリエトキシシ
ランが１４．３％の収率で生成していた。
【００３７】（実施例７） （酢酸存在下での白金触媒による塩化アリルとメチルジ
メトキシシランの反応）ガラス製反応管に３０６mgの塩
化アリルと５３０mlのメチルジメトキシシラン及び７７
mgのトルエンをとり、これに０．０１mlの酢酸を加え
た。これにジビニルシロキサンの０価白金錯体のトルエ
ン溶液（白金含量０．４wt％）を０．００５ml加えた。
反応管を封じ、これを５０℃のオイルバスにいれ２時間
加熱した。冷却後、内容物をガスクロマトグラフを用い
て分析すると塩化アリルの転化率は１００％であり、γ
−クロロプロピルメチルジメトキシシランが４０％の収
率で生成していた。
メトキシシランの反応）ガラス製反応管に３０６mgの塩
化アリルと５３０mlのメチルジメトキシシラン及び７７
mgのトルエンをとり、これに０．０１mlの酢酸を加え
た。これにジビニルシロキサンの０価白金錯体のトルエ
ン溶液（白金含量０．４wt％）を０．００５ml加えた。
反応管を封じ、これを５０℃のオイルバスにいれ２時間
加熱した。冷却後、内容物をガスクロマトグラフを用い
て分析すると塩化アリルの転化率は１００％であり、γ
−クロロプロピルメチルジメトキシシランが４０％の収
率で生成していた。
【００３８】（比較例３） （白金触媒による塩化アリルとメチルジエトキシシラン
の反応（カルボン酸化合物無添加の場合））ガラス製反
応管に３０６mgの塩化アリルと５３０mgのメチルジメト
キシシランおよび７７mgのトルエンをとり、これにジビ
ニルシロキサンの０価白金錯体のトルエン溶液（白金含
量０．４wt％）を０．００５ml加えた。反応管を封じ、
これを５０℃のオイルバスにいれ２時間加熱した。冷却
後、内容物をガスクロマトグラフを用いて分析すると塩
化アリルの転化率は１００％であり、γ−クロロプロピ
ルメチルジメトキシシランが１９．７％の収率で生成し
ていた。
の反応（カルボン酸化合物無添加の場合））ガラス製反
応管に３０６mgの塩化アリルと５３０mgのメチルジメト
キシシランおよび７７mgのトルエンをとり、これにジビ
ニルシロキサンの０価白金錯体のトルエン溶液（白金含
量０．４wt％）を０．００５ml加えた。反応管を封じ、
これを５０℃のオイルバスにいれ２時間加熱した。冷却
後、内容物をガスクロマトグラフを用いて分析すると塩
化アリルの転化率は１００％であり、γ−クロロプロピ
ルメチルジメトキシシランが１９．７％の収率で生成し
ていた。
【００３９】（実施例８） （酢酸存在下での白金触媒による１，３−ジビニル−
１，１，３，３−テトラメチル−１，３−ジシロキサン
とトリメトキシシランの反応）ガラス製反応管に１８６
mgの１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチル
−１，３−ジシロキサンと２４６mgのトリメトキシシラ
ンおよび４７mgのトルエンをとり、これに０．００５ml
の酢酸をマイクロシリンジで加えた。これにジビニルシ
ロキサンの０価白金錯体のトルエン溶液（白金含量０．
４wt％）を２マイクロリットル加えた。反応管をテフロ
ンテープでシールし、これを５９℃のオイルバスにいれ
３０分間加熱した。冷却後、内容物をガスクロマトグラ
フを用いて分析すると１，３−ジビニル−１，１，３，
３−テトラメチル−１，３−ジシロキサンの転化率は１
００％であり、１−β−トリメトキシシリルエチル−３
−α−トリメトキシシリルエチル−１，１，３，３−テ
トラメチル−１，３−ジシロキサンが３．８％、１，３
−ジ（β−トリメトキシシリルエチル）−１，１，３，
３−テトラメチル−１，３−ジシロキサンが８９％の収
率で生成していた。
１，１，３，３−テトラメチル−１，３−ジシロキサン
とトリメトキシシランの反応）ガラス製反応管に１８６
mgの１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチル
−１，３−ジシロキサンと２４６mgのトリメトキシシラ
ンおよび４７mgのトルエンをとり、これに０．００５ml
の酢酸をマイクロシリンジで加えた。これにジビニルシ
ロキサンの０価白金錯体のトルエン溶液（白金含量０．
４wt％）を２マイクロリットル加えた。反応管をテフロ
ンテープでシールし、これを５９℃のオイルバスにいれ
３０分間加熱した。冷却後、内容物をガスクロマトグラ
フを用いて分析すると１，３−ジビニル−１，１，３，
３−テトラメチル−１，３−ジシロキサンの転化率は１
００％であり、１−β−トリメトキシシリルエチル−３
−α−トリメトキシシリルエチル−１，１，３，３−テ
トラメチル−１，３−ジシロキサンが３．８％、１，３
−ジ（β−トリメトキシシリルエチル）−１，１，３，
３−テトラメチル−１，３−ジシロキサンが８９％の収
率で生成していた。
【００４０】（比較例４） （白金触媒による１，３−ジビニル−１，１，３，３−
テトラメチル−１，３−ジシロキサンとトリメトキシシ
ランの反応（カルボン酸化合物無添加の場合））ガラス
製反応管に１８６mgの１，３−ジビニル−１，１，３，
３−テトラメチル−１，３−ジシロキサンと２４６mgの
トリメトキシシランおよび４７mgのトルエンをとり、こ
れにジビニルシロキサンの０価白金錯体のトルエン溶液
（白金含量０．４wt％）を２マイクロリットル加えた。
反応管をテフロンテープでシールし、これを５９℃のオ
イルバスにいれ３０分間加熱した。冷却後、内容物をガ
スクロマトグラフを用いて分析すると１，３−ジビニル
−１，１，３，３−テトラメチル−１，３−ジシロキサ
ンの転化率は８．３％であり、１−α−トリメトキシシ
リルエチル、３−ビニル−１，１，３，３−テトラメチ
ル−１，３−ジシロキサンが１．３％、１−β−トリメ
トキシシリルエチル−３−ビニル−１，１，３，３−テ
トラメチル−１，３−ジシロキサンが５．６％、１，３
−ジ（β−トリメトキシシリルエチル）−１，１，３，
３−テトラメチル−１，３−ジシロキサンが１．７％の
収率で生成していた。
テトラメチル−１，３−ジシロキサンとトリメトキシシ
ランの反応（カルボン酸化合物無添加の場合））ガラス
製反応管に１８６mgの１，３−ジビニル−１，１，３，
３−テトラメチル−１，３−ジシロキサンと２４６mgの
トリメトキシシランおよび４７mgのトルエンをとり、こ
れにジビニルシロキサンの０価白金錯体のトルエン溶液
（白金含量０．４wt％）を２マイクロリットル加えた。
反応管をテフロンテープでシールし、これを５９℃のオ
イルバスにいれ３０分間加熱した。冷却後、内容物をガ
スクロマトグラフを用いて分析すると１，３−ジビニル
−１，１，３，３−テトラメチル−１，３−ジシロキサ
ンの転化率は８．３％であり、１−α−トリメトキシシ
リルエチル、３−ビニル−１，１，３，３−テトラメチ
ル−１，３−ジシロキサンが１．３％、１−β−トリメ
トキシシリルエチル−３−ビニル−１，１，３，３−テ
トラメチル−１，３−ジシロキサンが５．６％、１，３
−ジ（β−トリメトキシシリルエチル）−１，１，３，
３−テトラメチル−１，３−ジシロキサンが１．７％の
収率で生成していた。
【００４１】（実施例９） （エチルトリアセトキシシラン存在下での塩化白金酸触
媒によるジビニルジメチルシランとトリメトキシシラン
の反応）ガラス製反応管に２２５mgのジビニルジメチル
シランと４９０mgのトリメトキシシランおよび５６mgの
トルエンをいれ、これに５mgのエチルトリアセトキシシ
ランを加えた。これを脱気し、内部を窒素置換した後塩
化白金酸のエチルアルコール溶液（白金含量３．７７wt
％）を０．５μｌ加えた。反応管をテフロンテープとゴ
ムのセプタムでシールし、これを６０℃のオイルバスに
いれ２時間加熱した。冷却後、内容物をガスクロマトグ
ラフを用いて分析するとビニル基は全て消費されてお
り、このうち、α，α−付加物が０．４％、α，β−付
加物が１２．５％、β，β−付加物が８７．１％生じて
いた。これはα／β比に換算すると１／１４に相当す
る。
媒によるジビニルジメチルシランとトリメトキシシラン
の反応）ガラス製反応管に２２５mgのジビニルジメチル
シランと４９０mgのトリメトキシシランおよび５６mgの
トルエンをいれ、これに５mgのエチルトリアセトキシシ
ランを加えた。これを脱気し、内部を窒素置換した後塩
化白金酸のエチルアルコール溶液（白金含量３．７７wt
％）を０．５μｌ加えた。反応管をテフロンテープとゴ
ムのセプタムでシールし、これを６０℃のオイルバスに
いれ２時間加熱した。冷却後、内容物をガスクロマトグ
ラフを用いて分析するとビニル基は全て消費されてお
り、このうち、α，α−付加物が０．４％、α，β−付
加物が１２．５％、β，β−付加物が８７．１％生じて
いた。これはα／β比に換算すると１／１４に相当す
る。
【００４２】（比較例５） （塩化白金酸触媒によるジビニルジメチルシランとトリ
メトキシシランの反応（カルボン酸化合物無添加の場
合））ガラス製反応管に２２５mgのジビニルジメチルシ
ランと４９０mgのトリメトキシシランおよび５６mgのト
ルエンをいれ、これを脱気し、内部を窒素置換した後塩
化白金酸のエチルアルコール溶液（白金含量３．７７wt
％）を０．５μｌ加えた。反応管をテフロンテープとゴ
ムのセプタムでシールし、これを６０℃のオイルバスに
いれ２時間加熱した。冷却後、内容物をガスクロマトグ
ラフを用いて分析すると１：１付加物（α−およびβ−
異性体）および１：２付加物（α，α−およびα，β−
およびβ，β−異性体）が生成しており、トリメトキシ
シランの転化率は３１％であり、ジビニルジメチルシラ
ンの５６％が消費されていた。ヒドロシリル化反応のα
／β比は１／２であった。
メトキシシランの反応（カルボン酸化合物無添加の場
合））ガラス製反応管に２２５mgのジビニルジメチルシ
ランと４９０mgのトリメトキシシランおよび５６mgのト
ルエンをいれ、これを脱気し、内部を窒素置換した後塩
化白金酸のエチルアルコール溶液（白金含量３．７７wt
％）を０．５μｌ加えた。反応管をテフロンテープとゴ
ムのセプタムでシールし、これを６０℃のオイルバスに
いれ２時間加熱した。冷却後、内容物をガスクロマトグ
ラフを用いて分析すると１：１付加物（α−およびβ−
異性体）および１：２付加物（α，α−およびα，β−
およびβ，β−異性体）が生成しており、トリメトキシ
シランの転化率は３１％であり、ジビニルジメチルシラ
ンの５６％が消費されていた。ヒドロシリル化反応のα
／β比は１／２であった。
【００４３】（実施例１０） （酢酸存在下でのジビニルテトラメチルジシロキサン白
金０価錯体によるビニルジメチルメトキシシランとトリ
メトキシシランの反応）ガラス製反応管に２３２mgのビ
ニルジメチルメトキシシランと２９３mgのトリメトキシ
シラン（ビニル基に対して２０％過剰量）および６０mg
のトルエンをいれ、これに５mgの酢酸を加えた。これを
脱気し、内部を窒素置換した後ジビニルテトラメチルジ
シロキサン白金０価錯体のトルエン溶液（白金含量０．
４wt％）を５μｌ加えた。反応管をテフロンテープでシ
ールし、これを６０℃のオイルバスにいれ２時間加熱し
た。冷却後、内容物をガスクロマトグラフを用いて分析
するとビニルジメチルメトキシシランは完全に消費され
ており、α−付加物とβ−付加物の生成比は１：１３で
あった。
金０価錯体によるビニルジメチルメトキシシランとトリ
メトキシシランの反応）ガラス製反応管に２３２mgのビ
ニルジメチルメトキシシランと２９３mgのトリメトキシ
シラン（ビニル基に対して２０％過剰量）および６０mg
のトルエンをいれ、これに５mgの酢酸を加えた。これを
脱気し、内部を窒素置換した後ジビニルテトラメチルジ
シロキサン白金０価錯体のトルエン溶液（白金含量０．
４wt％）を５μｌ加えた。反応管をテフロンテープでシ
ールし、これを６０℃のオイルバスにいれ２時間加熱し
た。冷却後、内容物をガスクロマトグラフを用いて分析
するとビニルジメチルメトキシシランは完全に消費され
ており、α−付加物とβ−付加物の生成比は１：１３で
あった。
【００４４】（比較例６） （ジビニルテトラメチルジシロキサン白金０価錯体によ
るビニルジメチルメトキシシランとトリメトキシシラン
の反応（カルボン酸化合物無添加の場合））ガラス製反
応管に２３２mgのビニルジメチルメトキシシランと２９
３mgのトリメトキシシラン（ビニル基に対して２０％過
剰量）および６０mgのトルエンをいれた。これを脱気
し、内部を窒素置換した後ジビニルテトラメチルジシロ
キサン白金０価錯体のトルエン溶液（白金含量０．４wt
％）を５μｌ加えた。反応管をテフロンテープでシール
し、これを６０℃のオイルバスにいれ２時間加熱した。
冷却後、内容物をガスクロマトグラフを用いて分析する
とビニルジメチルメトキシシランは完全に消費されてお
り、α−付加物とβ−付加物の生成比は１：３であっ
た。
るビニルジメチルメトキシシランとトリメトキシシラン
の反応（カルボン酸化合物無添加の場合））ガラス製反
応管に２３２mgのビニルジメチルメトキシシランと２９
３mgのトリメトキシシラン（ビニル基に対して２０％過
剰量）および６０mgのトルエンをいれた。これを脱気
し、内部を窒素置換した後ジビニルテトラメチルジシロ
キサン白金０価錯体のトルエン溶液（白金含量０．４wt
％）を５μｌ加えた。反応管をテフロンテープでシール
し、これを６０℃のオイルバスにいれ２時間加熱した。
冷却後、内容物をガスクロマトグラフを用いて分析する
とビニルジメチルメトキシシランは完全に消費されてお
り、α−付加物とβ−付加物の生成比は１：３であっ
た。
【００４５】（実施例１１） （酢酸存在下での白金触媒によるアリルグリシジルエー
テル（以下「ＡＧＥ」と略記する）とトリエトキシシラ
ンの反応）ガラス製反応管に４００mgのＡＧＥと４５７
mgのトリエトキシシランをとり、これに０．００５mlの
酢酸をマイクロシリンジで加えた。これにジビニルテト
ラメチルジシロキサンの０価白金錯体のイソプロピルア
ルコール−トルエン溶液（白金含量０．０２wt％）を
０．００５ml加えた反応管をテフロンテープでシール
し、これを１００℃のオイルバスにいれ１時間加熱し
た。冷却後、内容物をＧＣを用いて分析するとＡＧＥの
転化率は９１％であり、β−シリル化体（（２−グリシ
ドキシ）（１−メチル）エチルトリエトキシシラン）が
０．０６％、γ−シリル化体（３−グリシドキシプロピ
ルトリエトキシシラン）が６５％の収率で生成してい
た。β−シリル化体とγ−シリル化体の比は１：１０８
３であった。
テル（以下「ＡＧＥ」と略記する）とトリエトキシシラ
ンの反応）ガラス製反応管に４００mgのＡＧＥと４５７
mgのトリエトキシシランをとり、これに０．００５mlの
酢酸をマイクロシリンジで加えた。これにジビニルテト
ラメチルジシロキサンの０価白金錯体のイソプロピルア
ルコール−トルエン溶液（白金含量０．０２wt％）を
０．００５ml加えた反応管をテフロンテープでシール
し、これを１００℃のオイルバスにいれ１時間加熱し
た。冷却後、内容物をＧＣを用いて分析するとＡＧＥの
転化率は９１％であり、β−シリル化体（（２−グリシ
ドキシ）（１−メチル）エチルトリエトキシシラン）が
０．０６％、γ−シリル化体（３−グリシドキシプロピ
ルトリエトキシシラン）が６５％の収率で生成してい
た。β−シリル化体とγ−シリル化体の比は１：１０８
３であった。
【００４６】（実施例１２） （ラウリン酸存在下での白金触媒によるＡＧＥとトリエ
トキシシランの反応）ガラス製反応管に４００mgのＡＧ
Ｅと４５７mgのトリエトキシシランをとり、これに２
６．６mgのラウリン酢酸を加えた。これにジビニルテト
ラメチルジシロキサンの０価白金錯体のイソプロピルア
ルコール−トルエン溶液（白金含量０．０２wt％）を
０．００５ml加えた。反応管をテフロンテープでシール
し、これを１００℃のオイルバスにいれ１時間加熱し
た。冷却後、内容物をＧＣを用いて分析するとＡＧＥの
転化率は９６％であり、β−シリル化体（（２−グリシ
ドキシ）（１−メチル）エチルトリエトキシシラン）が
０．０６％、γ−シリル化体（３−グリシドキシプロピ
ルトリエトキシシラン）が７２％の収率で生成してい
た。β−シリル化体とγ−シリル化体の比は１：１２０
０であった。
トキシシランの反応）ガラス製反応管に４００mgのＡＧ
Ｅと４５７mgのトリエトキシシランをとり、これに２
６．６mgのラウリン酢酸を加えた。これにジビニルテト
ラメチルジシロキサンの０価白金錯体のイソプロピルア
ルコール−トルエン溶液（白金含量０．０２wt％）を
０．００５ml加えた。反応管をテフロンテープでシール
し、これを１００℃のオイルバスにいれ１時間加熱し
た。冷却後、内容物をＧＣを用いて分析するとＡＧＥの
転化率は９６％であり、β−シリル化体（（２−グリシ
ドキシ）（１−メチル）エチルトリエトキシシラン）が
０．０６％、γ−シリル化体（３−グリシドキシプロピ
ルトリエトキシシラン）が７２％の収率で生成してい
た。β−シリル化体とγ−シリル化体の比は１：１２０
０であった。
【００４７】（比較例７） （白金触媒によるＡＧＥとトリエトキシシランの反応
（カルボン酸化合物無添加の場合））ガラス製反応管に
４００mgのＡＧＥと４５７mgのトリエトキシシランをと
り、これにジビニルテトラメチルジシロキサンの０価白
金錯体のイソプロピルアルコール−トルエン溶液（白金
含量０．０２wt％）を０．００５ml加えた。反応管をテ
フロンテープでシールし、これを１００℃のオイルバス
にいれ１時間加熱した。冷却後、内容物をＧＣを用いて
分析するとＡＧＥの転化率は５４％であり、β−シリル
化体（（２−グリシドキシ）（１−メチル）エチルトリ
エトキシシラン）が０．５％、γ−シリル化体（３−グ
リシドキシプロピルトリエトキシシラン）が４２％の収
率で生成していた。β−シリル化体とγ−シリル化体の
比は１：８４であった。
（カルボン酸化合物無添加の場合））ガラス製反応管に
４００mgのＡＧＥと４５７mgのトリエトキシシランをと
り、これにジビニルテトラメチルジシロキサンの０価白
金錯体のイソプロピルアルコール−トルエン溶液（白金
含量０．０２wt％）を０．００５ml加えた。反応管をテ
フロンテープでシールし、これを１００℃のオイルバス
にいれ１時間加熱した。冷却後、内容物をＧＣを用いて
分析するとＡＧＥの転化率は５４％であり、β−シリル
化体（（２−グリシドキシ）（１−メチル）エチルトリ
エトキシシラン）が０．５％、γ−シリル化体（３−グ
リシドキシプロピルトリエトキシシラン）が４２％の収
率で生成していた。β−シリル化体とγ−シリル化体の
比は１：８４であった。
【００４８】（実施例１３） （酢酸存在下での白金触媒によるＡＧＥとメチルジメト
キシシランの反応）ガラス製反応管に４９４mgのＡＧＥ
と４６０mgのメチルジメトキシシランをとり、これに
０．０１０mlの酢酸をマイクロシリンジで加えた。これ
にジビニルテトラメチルジシロキサンの０価白金錯体の
イソプロピルアルコール−トルエン溶液（白金含量０．
０２wt％）を０．００６ml加えた。反応管をテフロンテ
ープでシールし、これを１００℃のオイルバスにいれ３
０分加熱した。冷却後、内容物をＧＣを用いて分析する
とＡＧＥの転化率は８９％であり、β−シリル化体
（（２−グリシドキシ）（１−メチル）エチル（メチ
ル）ジメトキシシラン）が０．０５％、γ−シリル化体
（３−グリシドキシプロピル（メチル）ジメトキシシラ
ン）が６７％の収率で生成していた。β−シリル化体と
γ−シリル化体の比は１：１３４０であった。
キシシランの反応）ガラス製反応管に４９４mgのＡＧＥ
と４６０mgのメチルジメトキシシランをとり、これに
０．０１０mlの酢酸をマイクロシリンジで加えた。これ
にジビニルテトラメチルジシロキサンの０価白金錯体の
イソプロピルアルコール−トルエン溶液（白金含量０．
０２wt％）を０．００６ml加えた。反応管をテフロンテ
ープでシールし、これを１００℃のオイルバスにいれ３
０分加熱した。冷却後、内容物をＧＣを用いて分析する
とＡＧＥの転化率は８９％であり、β−シリル化体
（（２−グリシドキシ）（１−メチル）エチル（メチ
ル）ジメトキシシラン）が０．０５％、γ−シリル化体
（３−グリシドキシプロピル（メチル）ジメトキシシラ
ン）が６７％の収率で生成していた。β−シリル化体と
γ−シリル化体の比は１：１３４０であった。
【００４９】（比較例８） （白金触媒によるＡＧＥとメチルジメトキシシランの反
応（カルボン酸化合物無添加の場合））ガラス製反応管
に４９４mgのＡＧＥと４６０mgのメチルジメトキシシラ
ンをとり、これにジビニルテトラメチルジシロキサンの
０価白金錯体のイソプロピルアルコール−トルエン溶液
（白金含量０．０２wt％）を０．００６ml加えた。反応
管をテフロンテープでシールし、これを１００℃のオイ
ルバスにいれ３０分加熱した。冷却後、内容物をＧＣを
用いて分析するとＡＧＥの転化率は６２％であり、β−
シリル化体（（２−グリシドキシ）（１−メチル）エチ
ル（メチル）ジメトキシシラン）が０．４％、γ−シリ
ル化体（３−グリシドキシプロピル（メチル）ジメトキ
シシラン）が４８％の収率で生成していた。β−シリル
化体とγ−シリル化体の比は１：１４０であった。
応（カルボン酸化合物無添加の場合））ガラス製反応管
に４９４mgのＡＧＥと４６０mgのメチルジメトキシシラ
ンをとり、これにジビニルテトラメチルジシロキサンの
０価白金錯体のイソプロピルアルコール−トルエン溶液
（白金含量０．０２wt％）を０．００６ml加えた。反応
管をテフロンテープでシールし、これを１００℃のオイ
ルバスにいれ３０分加熱した。冷却後、内容物をＧＣを
用いて分析するとＡＧＥの転化率は６２％であり、β−
シリル化体（（２−グリシドキシ）（１−メチル）エチ
ル（メチル）ジメトキシシラン）が０．４％、γ−シリ
ル化体（３−グリシドキシプロピル（メチル）ジメトキ
シシラン）が４８％の収率で生成していた。β−シリル
化体とγ−シリル化体の比は１：１４０であった。
【００５０】（実施例１４） （酢酸存在下での白金触媒によるＡＧＥとメチルジエト
キシシランの反応）ガラス製反応管に４２５mgのＡＧ
Ｅ、５００mgのメチルジエトキシシランをとり、これに
０．０１０mlの酢酸をマイクロシリンジで加えた。これ
にジビニルテトラメチルジシロキサンの０価白金錯体の
イソプロピルアルコール−トルエン溶液（白金含量０．
０２wt％）を０．００５５ml加えた。反応管をテフロン
テープでシールし、これを１００℃のオイルバスにいれ
３０分加熱した。冷却後、内容物をＧＣを用いて分析す
るとＡＧＥの転化率は９０％であり、β−シリル化体
（（２−グリシドキシ）（１−メチル）エチル（メチ
ル）ジエトキシシラン）が０．０８％、γ−シリル化体
（３−グリシドキシプロピル（メチル）ジエトキシシラ
ン）が６１％の収率で生成していた。β−シリル化体と
γ−シリル化体の比は１：８７０であった。
キシシランの反応）ガラス製反応管に４２５mgのＡＧ
Ｅ、５００mgのメチルジエトキシシランをとり、これに
０．０１０mlの酢酸をマイクロシリンジで加えた。これ
にジビニルテトラメチルジシロキサンの０価白金錯体の
イソプロピルアルコール−トルエン溶液（白金含量０．
０２wt％）を０．００５５ml加えた。反応管をテフロン
テープでシールし、これを１００℃のオイルバスにいれ
３０分加熱した。冷却後、内容物をＧＣを用いて分析す
るとＡＧＥの転化率は９０％であり、β−シリル化体
（（２−グリシドキシ）（１−メチル）エチル（メチ
ル）ジエトキシシラン）が０．０８％、γ−シリル化体
（３−グリシドキシプロピル（メチル）ジエトキシシラ
ン）が６１％の収率で生成していた。β−シリル化体と
γ−シリル化体の比は１：８７０であった。
【００５１】（比較例９） （白金触媒によるＡＧＥとメチルジエトキシシランの反
応（カルボン酸化合物無添加の場合））ガラス製反応管
に４２５mgのＡＧＥ、５００mgのメチルジエトキシシラ
ンをとり、これにジビニルテトラメチルジシロキサンの
０価白金錯体のイソプロピルアルコール−トルエン溶液
（白金含量０．０２wt％）を０．００５５ml加えた。反
応管をテフロンテープでシールし、これを１００℃のオ
イルバスにいれ３０分加熱した。冷却後、内容物をＧＣ
を用いて分析するとＡＧＥの転化率は２６％であり、β
−シリル化体（（２−グリシドキシ）（１−メチル）エ
チル（メチル）ジエトキシシラン）が０．５％、γ−シ
リル化体（３−グリシドキシプロピル（メチル）ジエト
キシシラン）が２０％の収率で生成していた。β−シリ
ル化体とγ−シリル化体の比は１：４０であった。
応（カルボン酸化合物無添加の場合））ガラス製反応管
に４２５mgのＡＧＥ、５００mgのメチルジエトキシシラ
ンをとり、これにジビニルテトラメチルジシロキサンの
０価白金錯体のイソプロピルアルコール−トルエン溶液
（白金含量０．０２wt％）を０．００５５ml加えた。反
応管をテフロンテープでシールし、これを１００℃のオ
イルバスにいれ３０分加熱した。冷却後、内容物をＧＣ
を用いて分析するとＡＧＥの転化率は２６％であり、β
−シリル化体（（２−グリシドキシ）（１−メチル）エ
チル（メチル）ジエトキシシラン）が０．５％、γ−シ
リル化体（３−グリシドキシプロピル（メチル）ジエト
キシシラン）が２０％の収率で生成していた。β−シリ
ル化体とγ−シリル化体の比は１：４０であった。
【００５２】（実施例１５） （エチルトリアセトキシシラン存在下での白金触媒によ
るＡＧＥとトリメトキシシランの反応）ガラス製反応管
に３２０mgのＡＧＥ及び３４０mgのトリメトキシシラン
をとり、これに０．００５mlのエチルトリアセトキシシ
ランをマイクロシリンジで加えた。これにジビニルテト
ラメチルジシロキサンの０価白金錯体のイソプロピルア
ルコール−トルエン溶液（白金含量０．０２wt％）を
０．００４ml加えた。反応管をテフロンテープでシール
し、これを１００℃のオイルバスにいれ３０分加熱し
た。冷却後、内容物をＧＣを用いて分析するとＡＧＥの
転化率は８６％であり、β−シリル化体（（２−グリシ
ドキシ）（１−メチル）エチルトリメトキシシラン）が
０．０８％、γ−シリル化体（３−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン）が７１％の収率で生成してい
た。β−シリル化体とγ−シリル化体の比は１：８８８
であった。この反応溶液中にはγ−シリル化体のアセト
キシ誘導体（３−グリシドキシプロピルジメトキシアセ
トキシシラン）も１．４％存在したが、反応液にメタノ
ールを０．０５ml加え、１時間撹拌するとこのγ−シリ
ル化体のアセトキシ誘導体はγ−シリル化体（３−グリ
シドキシプロピルトリメトキシシラン）に転化し、ＧＣ
を用いて分析するとβ−シリル化体とγ−シリル化体の
比は１：９０５であった。
るＡＧＥとトリメトキシシランの反応）ガラス製反応管
に３２０mgのＡＧＥ及び３４０mgのトリメトキシシラン
をとり、これに０．００５mlのエチルトリアセトキシシ
ランをマイクロシリンジで加えた。これにジビニルテト
ラメチルジシロキサンの０価白金錯体のイソプロピルア
ルコール−トルエン溶液（白金含量０．０２wt％）を
０．００４ml加えた。反応管をテフロンテープでシール
し、これを１００℃のオイルバスにいれ３０分加熱し
た。冷却後、内容物をＧＣを用いて分析するとＡＧＥの
転化率は８６％であり、β−シリル化体（（２−グリシ
ドキシ）（１−メチル）エチルトリメトキシシラン）が
０．０８％、γ−シリル化体（３−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン）が７１％の収率で生成してい
た。β−シリル化体とγ−シリル化体の比は１：８８８
であった。この反応溶液中にはγ−シリル化体のアセト
キシ誘導体（３−グリシドキシプロピルジメトキシアセ
トキシシラン）も１．４％存在したが、反応液にメタノ
ールを０．０５ml加え、１時間撹拌するとこのγ−シリ
ル化体のアセトキシ誘導体はγ−シリル化体（３−グリ
シドキシプロピルトリメトキシシラン）に転化し、ＧＣ
を用いて分析するとβ−シリル化体とγ−シリル化体の
比は１：９０５であった。
【００５３】（比較例１０） （白金触媒によるＡＧＥとトリメトキシシランの反応
（カルボン酸化合物無添加の場合））ガラス製反応管に
３２０mgのＡＧＥ、３４０mgのトリメトキシシランをと
り、これにジビニルテトラメチルジシロキサンの０価白
金錯体のイソプロピルアルコール−トルエン溶液（白金
含量０．０２wt％）を０．００４ml加えた。反応管をテ
フロンテープでシールし、これを１００℃のオイルバス
にいれ３０分加熱した。冷却後、内容物をＧＣを用いて
分析するとＡＧＥの転化率は４７％であり、β−シリル
化体（（２−グリシドキシ）（１−メチル）エチル（ト
リメトキシシラン））が０．４％、γ−シリル化体（３
−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン）が３９％
の収率で生成していた。β−シリル化体とγ−シリル化
体の比は１：９８であった。
（カルボン酸化合物無添加の場合））ガラス製反応管に
３２０mgのＡＧＥ、３４０mgのトリメトキシシランをと
り、これにジビニルテトラメチルジシロキサンの０価白
金錯体のイソプロピルアルコール−トルエン溶液（白金
含量０．０２wt％）を０．００４ml加えた。反応管をテ
フロンテープでシールし、これを１００℃のオイルバス
にいれ３０分加熱した。冷却後、内容物をＧＣを用いて
分析するとＡＧＥの転化率は４７％であり、β−シリル
化体（（２−グリシドキシ）（１−メチル）エチル（ト
リメトキシシラン））が０．４％、γ−シリル化体（３
−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン）が３９％
の収率で生成していた。β−シリル化体とγ−シリル化
体の比は１：９８であった。
【００５４】
【発明の効果】本発明によりアルコキシシラン等に代表
されるヒドリド｛ハイドロカーボンオキシ｝シラン化合
物と脂肪族不飽和有機化合物とを用いて、分子中にアル
コキシ基等のハイドロカーボンオキシ基を有する有機化
合物であり、変性シリコーンあるいはシリコン変性ポリ
マーの原料として重要な｛ハイドロカーボンオキシ｝シ
リル基含有化合物を、効率的かつ安全に製造することが
可能となった。本発明により製造される｛ハイドロカー
ボンオキシ｝シリル基含有化合物は変性シリコーンある
いはシリコン変性ポリマーの原料となる。
されるヒドリド｛ハイドロカーボンオキシ｝シラン化合
物と脂肪族不飽和有機化合物とを用いて、分子中にアル
コキシ基等のハイドロカーボンオキシ基を有する有機化
合物であり、変性シリコーンあるいはシリコン変性ポリ
マーの原料として重要な｛ハイドロカーボンオキシ｝シ
リル基含有化合物を、効率的かつ安全に製造することが
可能となった。本発明により製造される｛ハイドロカー
ボンオキシ｝シリル基含有化合物は変性シリコーンある
いはシリコン変性ポリマーの原料となる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００
Claims (3)
- 【請求項１】 カルボン酸化合物の存在下、白金又はそ
の化合物の触媒作用により脂肪族不飽和有機化合物に下
記一般式（１）で表されるヒドリド｛ハイドロカーボン
オキシ｝シラン化合物を反応させて該脂肪族不飽和有機
化合物をヒドロシリル化することを特徴とする｛ハイド
ロカーボンオキシ｝シリル基含有化合物の製造方法。 ＨＳｉＲn （ＯＲ′）3-n （１） （ｎは０，１及び２から選ばれる整数であり；Ｒは次の
又はから選ばれる炭化水素基であり：炭素数１以
上１０以下の炭化水素基、Ｏ，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉも
しくはＳｉから選ばれる原子を有する炭素数１以上１０
以下の炭化水素基；Ｒ′は次の又はから選ばれる炭
化水素基である：炭素数１以上１８以下の炭化水素
基、Ｏ，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，ＩもしくはＳｉから選ばれ
る原子を有する炭素数１以上１８以下の炭化水素基。） - 【請求項２】 前記脂肪族不飽和有機化合物がオレフ
ィン性不飽和有機化合物、下記（ａ）に示す原子を有
するオレフィン性不飽和有機化合物、アセチレン性不
飽和有機化合物または下記（ａ）に示す原子を有する
アセチレン性不飽和有機化合物から選ばれるものであ
り、前記ヒドリド｛ハイドロカーボンオキシ｝シラン化
合物が下記一般式（２）で表されるものである請求項１
記載の製造方法。 ＨＳｉＲn （ＯＲ″）3-n （２） （ｎは０，１または２から選ばれる整数であり；Ｒ及び
Ｒ″はそれぞれ独立に次の又はから選ばれる炭化水
素基である：炭素数１以上１０以下の炭化水素基、
Ｏ，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，ＩもしくはＳｉから選ばれる原子
を有する炭化水素基。） （ａ）Ｏ，Ｎ，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ，Ｓ及びＳｉ。 - 【請求項３】 前記カルボン酸化合物がカルボン酸、カ
ルボン酸シリル化物及びカルボン酸の酸無水物より選ば
れるものであり、これが、反応系中に０．００１重量％
から２０重量％の範囲で含まれる請求項１又は２の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36093998A JP4540141B2 (ja) | 1997-12-24 | 1998-12-18 | ヒドリド｛ハイドロカーボンオキシ｝シラン化合物を用いたヒドロシリル化による｛ハイドロカーボンオキシ｝シリル基含有化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9-355185 | 1995-12-24 | ||
| JP35518597 | 1997-12-24 | ||
| JP36093998A JP4540141B2 (ja) | 1997-12-24 | 1998-12-18 | ヒドリド｛ハイドロカーボンオキシ｝シラン化合物を用いたヒドロシリル化による｛ハイドロカーボンオキシ｝シリル基含有化合物の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000143679A true JP2000143679A (ja) | 2000-05-26 |
| JP4540141B2 JP4540141B2 (ja) | 2010-09-08 |
Family
ID=26580227
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP36093998A Expired - Lifetime JP4540141B2 (ja) | 1997-12-24 | 1998-12-18 | ヒドリド｛ハイドロカーボンオキシ｝シラン化合物を用いたヒドロシリル化による｛ハイドロカーボンオキシ｝シリル基含有化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4540141B2 (ja) |
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0985675A3 (en) * | 1998-09-11 | 2001-04-04 | Crompton Corporation | High yield hydrosilation process |
| WO2001051495A1 (en) * | 2000-01-12 | 2001-07-19 | Crompton Corporation | High purity organofunctional alkyldialkoxysilanes through inverse addition |
| JP2008149228A (ja) * | 2006-12-15 | 2008-07-03 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ヒドロシリル化触媒及びヒドロシリル化触媒組成物 |
| WO2008095570A1 (de) * | 2007-02-09 | 2008-08-14 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur herstellung von glycidyloxyalkyltrialkoxysilanen |
| JP2012025668A (ja) * | 2010-07-20 | 2012-02-09 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | アルコキシシリル化鎖状炭化水素の製造方法及びアルコキシシリル化鎖状炭化水素 |
| EP2463291A2 (en) | 2010-12-09 | 2012-06-13 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Hydrosilylation method, method for producing organosilicon compound, and organosilicon compound. |
| JP2012121854A (ja) * | 2010-12-09 | 2012-06-28 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | ヒドロシリル化方法、有機ケイ素化合物の製造方法、及び有機ケイ素化合物 |
| JP2013060376A (ja) * | 2011-09-12 | 2013-04-04 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | オルガノキシシラン化合物の製造方法 |
| JP2014505114A (ja) * | 2010-11-10 | 2014-02-27 | ダウ・コーニング・コーポレイション | 表面処理組成物、表面処理組成物の製造方法、及び表面処理した物品 |
| EP2765134A1 (en) | 2013-02-07 | 2014-08-13 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Organosilicon compound having conjugated diene structure and making method |
| JP2018016626A (ja) * | 2016-07-22 | 2018-02-01 | エボニック デグサ ゲーエムベーハーＥｖｏｎｉｋ Ｄｅｇｕｓｓａ ＧｍｂＨ | トリス［３−（アルコキシシリル）プロピル］イソシアヌレートの製造方法 |
| JP2018145191A (ja) * | 2017-03-08 | 2018-09-20 | エボニック デグサ ゲーエムベーハーＥｖｏｎｉｋ Ｄｅｇｕｓｓａ ＧｍｂＨ | トリス［３−（アルコキシシリル）プロピル］イソシアヌレートの製造方法 |
| JP2018145190A (ja) * | 2017-03-08 | 2018-09-20 | エボニック デグサ ゲーエムベーハーＥｖｏｎｉｋ Ｄｅｇｕｓｓａ ＧｍｂＨ | トリス［３−（アルコキシシリル）プロピル］イソシアヌレートの製造方法 |
| CN110669067A (zh) * | 2018-07-03 | 2020-01-10 | 赢创德固赛有限公司 | 制备烷基烷氧基硅烷的方法 |
| JP2020063203A (ja) * | 2018-10-16 | 2020-04-23 | 信越化学工業株式会社 | ケイ素化合物の製造方法及びケイ素化合物 |
| JP2020537676A (ja) * | 2017-10-19 | 2020-12-24 | エボニック オペレーションズ ゲーエムベーハー | 新規のエポキシ官能性アルコキシシラン、その製造方法およびその使用 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58143844A (ja) * | 1982-02-18 | 1983-08-26 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 付加反応用白金触媒組成物 |
| JPS6081189A (ja) * | 1983-09-26 | 1985-05-09 | ユニオン・カ−バイド・コ−ポレ−シヨン | アミノアルキルアルコキシシランの製造法 |
-
1998
- 1998-12-18 JP JP36093998A patent/JP4540141B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58143844A (ja) * | 1982-02-18 | 1983-08-26 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 付加反応用白金触媒組成物 |
| JPS6081189A (ja) * | 1983-09-26 | 1985-05-09 | ユニオン・カ−バイド・コ−ポレ−シヨン | アミノアルキルアルコキシシランの製造法 |
Cited By (31)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0985675A3 (en) * | 1998-09-11 | 2001-04-04 | Crompton Corporation | High yield hydrosilation process |
| WO2001051495A1 (en) * | 2000-01-12 | 2001-07-19 | Crompton Corporation | High purity organofunctional alkyldialkoxysilanes through inverse addition |
| JP2008149228A (ja) * | 2006-12-15 | 2008-07-03 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ヒドロシリル化触媒及びヒドロシリル化触媒組成物 |
| WO2008095570A1 (de) * | 2007-02-09 | 2008-08-14 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur herstellung von glycidyloxyalkyltrialkoxysilanen |
| JP2010518031A (ja) * | 2007-02-09 | 2010-05-27 | エボニック デグサ ゲーエムベーハー | グリシジルオキシアルキルトリアルコキシシランの製造方法 |
| US8039646B2 (en) | 2007-02-09 | 2011-10-18 | Evonik Degussa Gmbh | Process for preparing glycidyloxyalkyltrialkoxysilanes |
| JP2012025668A (ja) * | 2010-07-20 | 2012-02-09 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | アルコキシシリル化鎖状炭化水素の製造方法及びアルコキシシリル化鎖状炭化水素 |
| JP2014505114A (ja) * | 2010-11-10 | 2014-02-27 | ダウ・コーニング・コーポレイション | 表面処理組成物、表面処理組成物の製造方法、及び表面処理した物品 |
| US9045647B2 (en) | 2010-11-10 | 2015-06-02 | Dow Corning Corporation | Surface treatment composition, method of producing the surface treatment composition, and surface-treated article |
| US8946464B2 (en) | 2010-12-09 | 2015-02-03 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Hydrosilylation method, method for producing organosilicon compound, and organosilicon compound |
| EP2787000A1 (en) | 2010-12-09 | 2014-10-08 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Hydrosilylation method, method for producing oranosilicon compound, and organosilicon compound |
| EP2799439A1 (en) | 2010-12-09 | 2014-11-05 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Hydrosilylation method, method for producing organosilicon compound, and organosilicon compound |
| JP2012121854A (ja) * | 2010-12-09 | 2012-06-28 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | ヒドロシリル化方法、有機ケイ素化合物の製造方法、及び有機ケイ素化合物 |
| EP2463291A2 (en) | 2010-12-09 | 2012-06-13 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Hydrosilylation method, method for producing organosilicon compound, and organosilicon compound. |
| US9156864B2 (en) | 2010-12-09 | 2015-10-13 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Hydrosilylation method, method for producing organosilicon compound, and organosilicon compound |
| US9163037B2 (en) | 2010-12-09 | 2015-10-20 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Hydrosilylation method, method for producing organosilicon compound, and organosilicon compound |
| JP2013060376A (ja) * | 2011-09-12 | 2013-04-04 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | オルガノキシシラン化合物の製造方法 |
| EP2765134A1 (en) | 2013-02-07 | 2014-08-13 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Organosilicon compound having conjugated diene structure and making method |
| US9359387B2 (en) | 2013-02-07 | 2016-06-07 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Organosilicon compound having conjugated diene structure and making method |
| JP2018016626A (ja) * | 2016-07-22 | 2018-02-01 | エボニック デグサ ゲーエムベーハーＥｖｏｎｉｋ Ｄｅｇｕｓｓａ ＧｍｂＨ | トリス［３−（アルコキシシリル）プロピル］イソシアヌレートの製造方法 |
| JP2018145191A (ja) * | 2017-03-08 | 2018-09-20 | エボニック デグサ ゲーエムベーハーＥｖｏｎｉｋ Ｄｅｇｕｓｓａ ＧｍｂＨ | トリス［３−（アルコキシシリル）プロピル］イソシアヌレートの製造方法 |
| JP2018145190A (ja) * | 2017-03-08 | 2018-09-20 | エボニック デグサ ゲーエムベーハーＥｖｏｎｉｋ Ｄｅｇｕｓｓａ ＧｍｂＨ | トリス［３−（アルコキシシリル）プロピル］イソシアヌレートの製造方法 |
| JP7085863B2 (ja) | 2017-03-08 | 2022-06-17 | エボニック オペレーションズ ゲーエムベーハー | トリス［３－（アルコキシシリル）プロピル］イソシアヌレートの製造方法 |
| JP2020537676A (ja) * | 2017-10-19 | 2020-12-24 | エボニック オペレーションズ ゲーエムベーハー | 新規のエポキシ官能性アルコキシシラン、その製造方法およびその使用 |
| CN110669067A (zh) * | 2018-07-03 | 2020-01-10 | 赢创德固赛有限公司 | 制备烷基烷氧基硅烷的方法 |
| JP2020007307A (ja) * | 2018-07-03 | 2020-01-16 | エボニック デグサ ゲーエムベーハーＥｖｏｎｉｋ Ｄｅｇｕｓｓａ ＧｍｂＨ | アルキルアルコキシシランを製造する方法 |
| JP7280128B2 (ja) | 2018-07-03 | 2023-05-23 | エボニック オペレーションズ ゲーエムベーハー | アルキルアルコキシシランを製造する方法 |
| CN110669067B (zh) * | 2018-07-03 | 2024-06-04 | 赢创运营有限公司 | 制备烷基烷氧基硅烷的方法 |
| JP2020063203A (ja) * | 2018-10-16 | 2020-04-23 | 信越化学工業株式会社 | ケイ素化合物の製造方法及びケイ素化合物 |
| CN111057088A (zh) * | 2018-10-16 | 2020-04-24 | 信越化学工业株式会社 | 硅化合物的制备方法及硅化合物 |
| CN111057088B (zh) * | 2018-10-16 | 2023-02-17 | 信越化学工业株式会社 | 硅化合物的制备方法及硅化合物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4540141B2 (ja) | 2010-09-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5986124A (en) | Method for making compounds containing hydrocarbonoxysilyi groups by hydrosilylation using hydrido (hydrocarbonoxy) silane compounds | |
| JP4540141B2 (ja) | ヒドリド｛ハイドロカーボンオキシ｝シラン化合物を用いたヒドロシリル化による｛ハイドロカーボンオキシ｝シリル基含有化合物の製造方法 | |
| US6048994A (en) | Selective hydrosilylation method using hydrido (hydrocarbonoxy) silane | |
| US6191220B1 (en) | Method for manufacturing hydrocarbon oxysilyl functional polymer | |
| JP2000095785A5 (ja) | ||
| EP1237894B1 (en) | Process for producing epoxyorganosilicon compounds | |
| JP3108427B2 (ja) | カルビノール基含有オルガノポリシロキサンの製造方法 | |
| JP6689005B2 (ja) | シクロジエン添加剤を使用する白金触媒ヒドロシリル化反応 | |
| JP4392869B2 (ja) | ハイドロカーボンオキシシリル基を有するトリアリールアミンの製造方法 | |
| JP4222662B2 (ja) | Ｓｉ−Ｃ結合を介してケイ素原子に結合した官能基を有するアシロキシシラン化合物の製造方法 | |
| JP5640997B2 (ja) | オルガノクロロシラン化合物の製造方法 | |
| JP4540140B2 (ja) | Ｓｉ−Ｃ結合を介してケイ素原子に結合した官能基を有するケイ素化合物の製造方法 | |
| JP4435893B2 (ja) | Ｓｉ−Ｃ結合を介してケイ素原子に結合した置換基を有するケイ素化合物類の製造方法 | |
| JP4216354B2 (ja) | ヒドロシリル化方法 | |
| JP4435894B2 (ja) | ヒドロシリル化反応による脂肪族クロロシラン化合物の製造方法 | |
| JP2000016996A (ja) | ヒドロシリル化反応による芳香族クロロシラン化合物の製造方法 | |
| JP4009335B2 (ja) | アクリロキシ基またはメタクリロキシ基含有有機ケイ素化合物の製造方法 | |
| US10513584B2 (en) | Platinum catalyzed hydrosilylation reactions utilizing cyclodiene additives | |
| JP6384890B1 (ja) | ビスシリルアミノ基含有有機ケイ素化合物の製造方法 | |
| JP3823337B2 (ja) | γー（メタ）アクリロキシプロピルシラン化合物の製造方法 | |
| JP7107636B2 (ja) | シクロジエン添加剤を使用する白金触媒ヒドロシリル化反応 | |
| JP2004182669A (ja) | 改良されたエポキシシラン化合物の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20050331 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20051213 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090223 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090303 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090603 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091110 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100210 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100525 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100622 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130702 Year of fee payment: 3 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |