JP2000141634A - 音響レンズを備えたプリントヘッドおよび音響レンズの製造方法 - Google Patents
音響レンズを備えたプリントヘッドおよび音響レンズの製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 一層完全な半球形状に近い改良された音響レ
ンズを提供する。 【解決手段】 全体的に放物状に形成されたレンズ１１
のくぼみが基板１０にエッチングされることによって、
音響レンズを製造する。特に、エッチング溶剤１３を基
板１０上に載せ、平行な光源１９からマスク１７を用い
て作ったパターン化した光１５を、エッチング溶剤１３
に照射して、音響レンズを製造する。
ンズを提供する。 【解決手段】 全体的に放物状に形成されたレンズ１１
のくぼみが基板１０にエッチングされることによって、
音響レンズを製造する。特に、エッチング溶剤１３を基
板１０上に載せ、平行な光源１９からマスク１７を用い
て作ったパターン化した光１５を、エッチング溶剤１３
に照射して、音響レンズを製造する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、全体的に音響イン
クプリント（ＡＩＰ）に関し、特に改良したＡＩＰ用音
響レンズに関する。さらに本発明は、音響レンズ、およ
び実際各種のアプリケーション用レンズを製造するため
の改良したプロセスに関する。
クプリント（ＡＩＰ）に関し、特に改良したＡＩＰ用音
響レンズに関する。さらに本発明は、音響レンズ、およ
び実際各種のアプリケーション用レンズを製造するため
の改良したプロセスに関する。
【０００２】
【従来の技術】ＡＩＰは、インクを直接記録媒体に送る
方法であり、他の直接プリント方式に対していくつかの
利点を備えている。重要な利点の１つは、ＡＩＰはノズ
ルや放出オリフィスを必要としないことである。ノズル
や放出オリフィスは、多くの信頼性の問題（例えば、目
詰まり）や画素（すなわち、ピクセル）配置精度の問題
の原因となることがあり、これらの問題は、従来のドロ
ップオンデマンド式プリンタや連続流れインクジェット
プリンタが経験している。ＡＩＰは、ドロップオンデマ
ンドのノズルベースのインクジェットプリントに関連す
る目詰まりや製造の問題を避けるので、有望な直接マー
キング技術を示す。一般にこのプロセスは、概して、液
体の自由表面から記録媒体に液体粒子を放射するため
の、集束した音響エネルギーのバーストを使用すること
に関する。
方法であり、他の直接プリント方式に対していくつかの
利点を備えている。重要な利点の１つは、ＡＩＰはノズ
ルや放出オリフィスを必要としないことである。ノズル
や放出オリフィスは、多くの信頼性の問題（例えば、目
詰まり）や画素（すなわち、ピクセル）配置精度の問題
の原因となることがあり、これらの問題は、従来のドロ
ップオンデマンド式プリンタや連続流れインクジェット
プリンタが経験している。ＡＩＰは、ドロップオンデマ
ンドのノズルベースのインクジェットプリントに関連す
る目詰まりや製造の問題を避けるので、有望な直接マー
キング技術を示す。一般にこのプロセスは、概して、液
体の自由表面から記録媒体に液体粒子を放射するため
の、集束した音響エネルギーのバーストを使用すること
に関する。
【０００３】他のタイプのプリンタと競合するために、
音響インクプリンタは少ないコストで高品質の画像を作
らなければならない。そのような要求事項に適合するた
めに、個別に大多数の液体粒子を放射するプリントヘッ
ドを製造することは有利である。特定のＡＩＰを実現す
るために変化することがあるが、また別のコンポーネン
トを使用することもできるが、それぞれの液体粒子のエ
ミッタは、超音波トランスジューサ（ボディの一方の表
面に取り付けられている）、液体粒子エミッタをオン／
オフに切り換えるアクティベータ、音響レンズ、および
インクの自由表面が音響レンズの音響焦点の近くにある
ようにインクを保持するキャビティを備えている。関連
する配列の行と列を適当に選択することによって、個々
の液体粒子エミッタを起動できる。
音響インクプリンタは少ないコストで高品質の画像を作
らなければならない。そのような要求事項に適合するた
めに、個別に大多数の液体粒子を放射するプリントヘッ
ドを製造することは有利である。特定のＡＩＰを実現す
るために変化することがあるが、また別のコンポーネン
トを使用することもできるが、それぞれの液体粒子のエ
ミッタは、超音波トランスジューサ（ボディの一方の表
面に取り付けられている）、液体粒子エミッタをオン／
オフに切り換えるアクティベータ、音響レンズ、および
インクの自由表面が音響レンズの音響焦点の近くにある
ようにインクを保持するキャビティを備えている。関連
する配列の行と列を適当に選択することによって、個々
の液体粒子エミッタを起動できる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来は、フレネルレン
ズをＡＩＰプロセスに使用してきた。フレネルレンズは
全体的に満足なものであると証明されているが、一層完
全な半球形状に近づく改良した音響レンズ、および無論
その製造プロセスは望まれる。
ズをＡＩＰプロセスに使用してきた。フレネルレンズは
全体的に満足なものであると証明されているが、一層完
全な半球形状に近づく改良した音響レンズ、および無論
その製造プロセスは望まれる。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、光可溶性材料
の第１の層を有する音響レンズに関するものであり、こ
の光可溶性材料は全体的に凹面形の放物状のくぼみ、音
波発生素子、および音波発生素子を起動させるソースを
含む。さらに本発明は、材料の層をフォトエッチングす
るステップを含むレンズを製造する方法に関する。好都
合なことに、このフォトエッチングプロセスは、非干渉
性の光またはレーザ光を使用できる。この光は輝度変調
または輝度変更できる。同様に、腐食剤の材料は、乾
式、湿式、または液体であってもよい。このコンテクス
トにおいては、「ドライ」エッチングは一般に、フォト
エッチ材料を濡らさない気相のことであり、一方「ウェ
ット」エッチングは、少なくともフォトエッチ材料の分
子コーティングが起こる液相または気相のことである。
非干渉性の光を使用する場合、本発明は上部層またはマ
スクを使用して、エッチングプロセスをコントロールす
ることが好ましい。本発明は前面側および裏面側の両方
の光照射に適合できる。本発明の特に好適な形態におい
ては、リフロー処理を使用して、エッチングした放物状
のくぼみを平滑にする。
の第１の層を有する音響レンズに関するものであり、こ
の光可溶性材料は全体的に凹面形の放物状のくぼみ、音
波発生素子、および音波発生素子を起動させるソースを
含む。さらに本発明は、材料の層をフォトエッチングす
るステップを含むレンズを製造する方法に関する。好都
合なことに、このフォトエッチングプロセスは、非干渉
性の光またはレーザ光を使用できる。この光は輝度変調
または輝度変更できる。同様に、腐食剤の材料は、乾
式、湿式、または液体であってもよい。このコンテクス
トにおいては、「ドライ」エッチングは一般に、フォト
エッチ材料を濡らさない気相のことであり、一方「ウェ
ット」エッチングは、少なくともフォトエッチ材料の分
子コーティングが起こる液相または気相のことである。
非干渉性の光を使用する場合、本発明は上部層またはマ
スクを使用して、エッチングプロセスをコントロールす
ることが好ましい。本発明は前面側および裏面側の両方
の光照射に適合できる。本発明の特に好適な形態におい
ては、リフロー処理を使用して、エッチングした放物状
のくぼみを平滑にする。
【０００６】
【発明の実施の形態】添付の図面は、明細書の一部に組
み込まれそれを構成しているが、本発明の１つの実施形
態を説明するものであり、解説を加えることによって、
本発明の原理を説明するために役に立つ。
み込まれそれを構成しているが、本発明の１つの実施形
態を説明するものであり、解説を加えることによって、
本発明の原理を説明するために役に立つ。
【０００７】図１を参照すると、本発明による全体的な
方法が示されている。この方法では、基板１０が設けて
あり、全体的に放物状に形成されたレンズ１１のくぼみ
が基板１０にエッチングされている。特に、エッチング
溶剤１３を基板１０上に載せ、平行な光源１９からマス
ク１７を用いて作ったパターン化した光１５を、エッチ
ング溶剤１３に照射する。一般に、このマスクはガラス
上にクロムを形成したものであるが、多くの好適な組合
わせが当業者には周知である。光がない場合は、光が存
在する場合の速度に比べて、エッチング速度はごくわず
かである。この方法で、整列したレンズの列と行を含む
仕上がった基板を形成できる。
方法が示されている。この方法では、基板１０が設けて
あり、全体的に放物状に形成されたレンズ１１のくぼみ
が基板１０にエッチングされている。特に、エッチング
溶剤１３を基板１０上に載せ、平行な光源１９からマス
ク１７を用いて作ったパターン化した光１５を、エッチ
ング溶剤１３に照射する。一般に、このマスクはガラス
上にクロムを形成したものであるが、多くの好適な組合
わせが当業者には周知である。光がない場合は、光が存
在する場合の速度に比べて、エッチング速度はごくわず
かである。この方法で、整列したレンズの列と行を含む
仕上がった基板を形成できる。
【０００８】図２を参照する。それぞれのレンズはＡＩ
Ｐプリントヘッド２１内に組み込むように、個々の音響
発生手段を用いて位置決めされる。特に好ましい音響発
生手段には、ｒｆ駆動電圧（電源は図示せず）と電気的
に接続している薄膜圧電トランスジューサ２３が含まれ
る。動作する場合、レンズ１１は集束する音響ビーム２
５をインクのプール２７に発射する。このレンズ１１の
焦点距離は、ビーム２５がプール２７の自由表面２９上
またはその近くに集束するようにして、インクの液体粒
子３１をオンデマンドで射出するように設計される。
Ｐプリントヘッド２１内に組み込むように、個々の音響
発生手段を用いて位置決めされる。特に好ましい音響発
生手段には、ｒｆ駆動電圧（電源は図示せず）と電気的
に接続している薄膜圧電トランスジューサ２３が含まれ
る。動作する場合、レンズ１１は集束する音響ビーム２
５をインクのプール２７に発射する。このレンズ１１の
焦点距離は、ビーム２５がプール２７の自由表面２９上
またはその近くに集束するようにして、インクの液体粒
子３１をオンデマンドで射出するように設計される。
【０００９】本発明の特に好ましい形態においては、基
板１０は、光可溶性ガラス、コーニング１７３７などの
シリカをドープした金属酸化物、金属酸化物、プラスチ
ックまたは当業者に周知の他の材料から構成される。２
つの主な要求事項は、この材料は、（ｉ）プールの液体
よりも約５倍大きい音響速度を有すること、また（ii）
光エッチング可能なことである。本発明の特別な利点
は、放物形状のレンズを使用する場合、形状が非球形な
ため、例えば２倍のより小さい速度比で行うことができ
ることである。
板１０は、光可溶性ガラス、コーニング１７３７などの
シリカをドープした金属酸化物、金属酸化物、プラスチ
ックまたは当業者に周知の他の材料から構成される。２
つの主な要求事項は、この材料は、（ｉ）プールの液体
よりも約５倍大きい音響速度を有すること、また（ii）
光エッチング可能なことである。本発明の特別な利点
は、放物形状のレンズを使用する場合、形状が非球形な
ため、例えば２倍のより小さい速度比で行うことができ
ることである。
【００１０】本発明は、使用する光エッチングシステム
のタイプについて、特に限定されない。特に、本発明は
コヒーレント光または非コヒーレント光および平行光ま
たは集束光を使用するのに好適である。この点について
は、マスクと組み合わせた非コヒーレントで平行光の広
いビームを用いて、またはマスクを用いずに空間的にス
キャンし輝度変調したレーザを用いることによって、処
理を実行できる。さらに、基板がＵＶに対して透明な場
合、基板の前面側または裏面側から、ＵＶ放射を照射す
ることができる。
のタイプについて、特に限定されない。特に、本発明は
コヒーレント光または非コヒーレント光および平行光ま
たは集束光を使用するのに好適である。この点について
は、マスクと組み合わせた非コヒーレントで平行光の広
いビームを用いて、またはマスクを用いずに空間的にス
キャンし輝度変調したレーザを用いることによって、処
理を実行できる。さらに、基板がＵＶに対して透明な場
合、基板の前面側または裏面側から、ＵＶ放射を照射す
ることができる。
【００１１】エッチングシステムに関して、ガス、蒸気
または液体エッチングを使用できる。ガス／蒸気を用い
る連続したガスフローが好ましく、また液体が選択され
た場合は、わずかな振動を基板に加えることによって、
エッチングの均一性を一層高めることができる。本発明
に好適な各種の優れたエッチングシステムの例が存在す
る。この装置には、エッチングすべき基板を収容する真
空チャンバを含むハウジングが設けられている。真空ポ
ンプを使用してチャンバ内を真空にし、ハロゲン主体の
ガスをこのチャンバに導入する。このハロゲン主体のガ
スは、光で活性化されたとき、ガラスエッチングの化学
種を形成できる。ガスを通して所定の波長と輝度の光ビ
ームを送る光源も設ける。光ビームをパターン化するた
めにマスクを光源に光学的に結合して、基板上のハロゲ
ンのエッチングガスを所望通りに励起させる。好ましい
エッチングガスは、キセノンジフルオライドである。光
源は炭酸ガスレーザまたはエキシマーレーザのいずれか
であるとする。無論、このシステムは接触マスク（すな
わち、エッチング基板の近くに形成したマスク）や当業
者に周知の別の手段を使用して変更できる。
または液体エッチングを使用できる。ガス／蒸気を用い
る連続したガスフローが好ましく、また液体が選択され
た場合は、わずかな振動を基板に加えることによって、
エッチングの均一性を一層高めることができる。本発明
に好適な各種の優れたエッチングシステムの例が存在す
る。この装置には、エッチングすべき基板を収容する真
空チャンバを含むハウジングが設けられている。真空ポ
ンプを使用してチャンバ内を真空にし、ハロゲン主体の
ガスをこのチャンバに導入する。このハロゲン主体のガ
スは、光で活性化されたとき、ガラスエッチングの化学
種を形成できる。ガスを通して所定の波長と輝度の光ビ
ームを送る光源も設ける。光ビームをパターン化するた
めにマスクを光源に光学的に結合して、基板上のハロゲ
ンのエッチングガスを所望通りに励起させる。好ましい
エッチングガスは、キセノンジフルオライドである。光
源は炭酸ガスレーザまたはエキシマーレーザのいずれか
であるとする。無論、このシステムは接触マスク（すな
わち、エッチング基板の近くに形成したマスク）や当業
者に周知の別の手段を使用して変更できる。
【００１２】本発明と一緒に使用するのに好適な別のシ
ステムは、エッチングすべき基板を内蔵する真空チャン
バである。真空にして、Ｏ2，Ｆ2、またはＣＦ4などの
安定な有機ハロゲン化物のような反応性イオンエッチン
グ化学種を含むプラズマを導入する。このシステムで
は、６００〜１０００オングストローム（６０〜１００
ｎｍ）の連続する波長範囲を有する紫外光を発生する反
復性放電源を備えている。
ステムは、エッチングすべき基板を内蔵する真空チャン
バである。真空にして、Ｏ2，Ｆ2、またはＣＦ4などの
安定な有機ハロゲン化物のような反応性イオンエッチン
グ化学種を含むプラズマを導入する。このシステムで
は、６００〜１０００オングストローム（６０〜１００
ｎｍ）の連続する波長範囲を有する紫外光を発生する反
復性放電源を備えている。
【００１３】本発明の好ましい形態においては、基板は
光エッチング可能なガラスである。光エッチング可能な
ガラスは、シリケートガラスに金属イオンおよび増感剤
を加えて形成した感光性アモルファスタイプのガラスで
あることが好ましい。そのようなガラスは、紫外光に照
射されて加熱処理されると、結晶性の核を有する金属コ
ロイドを生成する。この結晶構造は極めて微細であり、
ガラスを酸の中で容易に溶解することができる。このこ
とは、最終的に規定の構造体にまでエッチングすること
にも役立つ。そのようなガラスの例としては、ドイツの
マインツ（Ｍａｉｎｚ）のショットグラスレック社（Ｓ
ｃｈｏｔｔ Ｇｌａｓｗｒｅｋｅ）の光学部門が製造し
たコーニング１７３７、ＦＯＴＵＲＡＮや日本の東京の
ＨＯＹＡ社の光学部門が製造したＰＥＧ３がある。
光エッチング可能なガラスである。光エッチング可能な
ガラスは、シリケートガラスに金属イオンおよび増感剤
を加えて形成した感光性アモルファスタイプのガラスで
あることが好ましい。そのようなガラスは、紫外光に照
射されて加熱処理されると、結晶性の核を有する金属コ
ロイドを生成する。この結晶構造は極めて微細であり、
ガラスを酸の中で容易に溶解することができる。このこ
とは、最終的に規定の構造体にまでエッチングすること
にも役立つ。そのようなガラスの例としては、ドイツの
マインツ（Ｍａｉｎｚ）のショットグラスレック社（Ｓ
ｃｈｏｔｔ Ｇｌａｓｗｒｅｋｅ）の光学部門が製造し
たコーニング１７３７、ＦＯＴＵＲＡＮや日本の東京の
ＨＯＹＡ社の光学部門が製造したＰＥＧ３がある。
【００１４】エッチング処理は温度および圧力によって
高くコントロールされることを、当業者が明確に理解で
きることに、留意すべきである。従って、システムのこ
れらのパラメータを変えることによって、担当者は望ま
しいエッチング速度やレンズの形状を達成するようにプ
ロセスを調整できる。
高くコントロールされることを、当業者が明確に理解で
きることに、留意すべきである。従って、システムのこ
れらのパラメータを変えることによって、担当者は望ま
しいエッチング速度やレンズの形状を達成するようにプ
ロセスを調整できる。
【００１５】このため、本発明は以下の基本的なシステ
ムとその変形を用いて動作できる。
ムとその変形を用いて動作できる。
【００１６】（１）前方または後方の集束したまたは細
く変調したレーザ（マスクなし）、（２）接触マスク付
きの、前方または後方のランプまたはデフォーカス（焦
点ぼけ）レーザ、（３）際だたせる（ｒｅｌｉｅｖｅ
ｄ）マスク付きの、前方または後方のランプまたはデフ
ォーカスレーザ、（４）１つ、２つ、または３つのガス
／蒸気エッチング付きのシステム、または（５）１つ、
２つ、または３つの液体エッチング付きのシステム。
く変調したレーザ（マスクなし）、（２）接触マスク付
きの、前方または後方のランプまたはデフォーカス（焦
点ぼけ）レーザ、（３）際だたせる（ｒｅｌｉｅｖｅ
ｄ）マスク付きの、前方または後方のランプまたはデフ
ォーカスレーザ、（４）１つ、２つ、または３つのガス
／蒸気エッチング付きのシステム、または（５）１つ、
２つ、または３つの液体エッチング付きのシステム。
【００１７】好ましいプロセスは、裏側の空間的にスキ
ャンし輝度変調したレーザからの紫外光放射による気相
の光エッチングによって、ＡＩＰプロセスで使用するの
に好適な音響レンズのシートを形成する。エッチングさ
れたレンズの好ましい形状は、再度図１を参照して、輝
度変調したレーザ光のパターンによって達成される。こ
のパターンは、所望する最も深いレンズの部分で最高の
輝度を有し、各個々の音響レンズのエッジに向かって外
側に漸進的に小さくなる輝度を有している。この方法で
は、望ましい凹面の放物状、球状、または他の形状を達
成するために、エッチングは中央部分で一層重要とな
る。
ャンし輝度変調したレーザからの紫外光放射による気相
の光エッチングによって、ＡＩＰプロセスで使用するの
に好適な音響レンズのシートを形成する。エッチングさ
れたレンズの好ましい形状は、再度図１を参照して、輝
度変調したレーザ光のパターンによって達成される。こ
のパターンは、所望する最も深いレンズの部分で最高の
輝度を有し、各個々の音響レンズのエッジに向かって外
側に漸進的に小さくなる輝度を有している。この方法で
は、望ましい凹面の放物状、球状、または他の形状を達
成するために、エッチングは中央部分で一層重要とな
る。
【００１８】図３を参照する。好ましいレンズ形状に
は、角度によって決定される約８０〜１５０゜の角度が
ある。本発明の特に好ましい形態においては、エッチン
グプロセスによって形成された音響レンズを、その表面
粗さを向上させるためにさらに変形させる。この点に関
しては、前述した光エッチングプロセスは、必ずしも内
面を完璧にスムーズにすることはできない。例えば、面
３３は第１の光エッチングによって形成できる。このた
め、表面粗さを向上させるためにリフロープロセスを採
用できる。特に、限定した加熱／エッチング処理を採用
して、形成したレンズの表面を再溶融／リフローでき、
また粗さを液体内の音響波長の１／１０以下にできる。
同様に、低融点のガラスまたはプラスチックの薄い層３
５でレンズをコートでき、また加えた材料のリフローを
行うために加熱できる。音響インピーダンスρｖ（ここ
で、ρは材料の密度であり、ｖは音響速度である）を持
つように、材料を選択する必要がある。この音響インピ
ーダンスρｖは、基板材料のそれと厳密にマッチしてい
る。加えた材料の溶融温度は、ベースの基板材料よりも
低いことが好ましい。表面張力によって、自由表面領域
が最小にされ、その結果表面粗さが減少する。
は、角度によって決定される約８０〜１５０゜の角度が
ある。本発明の特に好ましい形態においては、エッチン
グプロセスによって形成された音響レンズを、その表面
粗さを向上させるためにさらに変形させる。この点に関
しては、前述した光エッチングプロセスは、必ずしも内
面を完璧にスムーズにすることはできない。例えば、面
３３は第１の光エッチングによって形成できる。このた
め、表面粗さを向上させるためにリフロープロセスを採
用できる。特に、限定した加熱／エッチング処理を採用
して、形成したレンズの表面を再溶融／リフローでき、
また粗さを液体内の音響波長の１／１０以下にできる。
同様に、低融点のガラスまたはプラスチックの薄い層３
５でレンズをコートでき、また加えた材料のリフローを
行うために加熱できる。音響インピーダンスρｖ（ここ
で、ρは材料の密度であり、ｖは音響速度である）を持
つように、材料を選択する必要がある。この音響インピ
ーダンスρｖは、基板材料のそれと厳密にマッチしてい
る。加えた材料の溶融温度は、ベースの基板材料よりも
低いことが好ましい。表面張力によって、自由表面領域
が最小にされ、その結果表面粗さが減少する。
【００１９】本発明の特に好ましい実施形態において
は、上塗層（ｏｖｅｒ ｌａｙｅｒ）を設ける。この上
塗層は、不要な反射を抑制するための、音響的反射防止
マッチング層として機能する。さらに具体的に言えば、
厚さが約λ／４（ここで、λは音波の波長である）のイ
ンピーダンスマッチング材料３７を、レンズ１１の凹面
上にコーティングできる。このマッチング層の音響イン
ピーダンスρｖは、基板材料と液体とのインピーダンス
の積の平方根に近づける必要がある。同様に、オーバコ
ート（図示せず）を凹面上に付着形成して、プリントヘ
ッドを平坦化できる。このオーバコートの音響インピー
ダンスと音響速度は、インクと基板のそれの中間とす
る。このオーバコートは、パリレンおよび他の共形的に
付着形成された材料を含むグループから選択することが
好ましい。
は、上塗層（ｏｖｅｒ ｌａｙｅｒ）を設ける。この上
塗層は、不要な反射を抑制するための、音響的反射防止
マッチング層として機能する。さらに具体的に言えば、
厚さが約λ／４（ここで、λは音波の波長である）のイ
ンピーダンスマッチング材料３７を、レンズ１１の凹面
上にコーティングできる。このマッチング層の音響イン
ピーダンスρｖは、基板材料と液体とのインピーダンス
の積の平方根に近づける必要がある。同様に、オーバコ
ート（図示せず）を凹面上に付着形成して、プリントヘ
ッドを平坦化できる。このオーバコートの音響インピー
ダンスと音響速度は、インクと基板のそれの中間とす
る。このオーバコートは、パリレンおよび他の共形的に
付着形成された材料を含むグループから選択することが
好ましい。
【００２０】本発明のさらに好ましい実施形態は、基板
の裏側にアライメントマーク（図３の３２）を形成する
マスク付きの裏側照射またはレーザ変調を使用すること
である。この点に関しては、アライメントマークは、一
般にそれぞれのレンズに隣接した適切な位置に酸化亜鉛
で作られており、トランスジューサを適切に配置するた
めに使用できる。このため、ＡＩＰプリントヘッドのア
センブリーを一層容易に完成できる。
の裏側にアライメントマーク（図３の３２）を形成する
マスク付きの裏側照射またはレーザ変調を使用すること
である。この点に関しては、アライメントマークは、一
般にそれぞれのレンズに隣接した適切な位置に酸化亜鉛
で作られており、トランスジューサを適切に配置するた
めに使用できる。このため、ＡＩＰプリントヘッドのア
センブリーを一層容易に完成できる。
【００２１】最後に、本発明は音響レンズの作成に単独
で限定されるものではないことに注意されたい。さらに
特定して言うと、上述した技術によって、光を集束する
レンズのアレイを製作できる。無論、光集束レンズは一
般には形状が凸面である。それにも関わらず、そのよう
な結果は前述した方法を使用することによって容易に達
成できる。
で限定されるものではないことに注意されたい。さらに
特定して言うと、上述した技術によって、光を集束する
レンズのアレイを製作できる。無論、光集束レンズは一
般には形状が凸面である。それにも関わらず、そのよう
な結果は前述した方法を使用することによって容易に達
成できる。
【図１】 典型的なエッチング処理の概略図である。
【図２】 本発明のレンズを含むプリントヘッドの拡大
断面図である。
断面図である。
【図３】 レンズの拡大側面の部分断面図でる。
１０ 基板、１１ レンズ、１３ エッチング溶剤、１
５ 光、１７ マスク、１９ 光源、２１ ＡＩＰプリ
ントヘッド、２３ 薄膜圧電トランジューサ、２５ 音
響ビーム、２７ プール、２９ 自由表面、３１ 液体
粒子、３３ 面、３５ 薄い層、３７ インピーダンス
マッチング材料。
５ 光、１７ マスク、１９ 光源、２１ ＡＩＰプリ
ントヘッド、２３ 薄膜圧電トランジューサ、２５ 音
響ビーム、２７ プール、２９ 自由表面、３１ 液体
粒子、３３ 面、３５ 薄い層、３７ インピーダンス
マッチング材料。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 スコット エー エルロッド アメリカ合衆国 カリフォルニア州 ラ ホンダ セニック ドライブ 401 (72)発明者 ラージャ ビー アプテ アメリカ合衆国 カリフォルニア州 パロ アルト マタデロ アベニュー 210 (72)発明者 ドナルド スミス アメリカ合衆国 カリフォルニア州 パロ アルト ラカール コート 3645
Claims (3)
- 【請求項１】 個々の液体粒子をオンデマンドで液体供
給部の自由表面から放出する音響プリントヘッドであっ
て、 下側面と、中にレンズを形成する複数の全体的に放物状
または球形状のくぼみを備えた上側面と、を有する光溶
融可能なガラス、シリカ、金属酸化物、またはプラスチ
ックのプレートと、 前記プレートの前記下側面に取り付けられた複数の音波
発生素子であって、前記発生素子からの音波が前記レン
ズに選択的に衝撃を与え、前記レンズの焦点距離が液体
のほぼ自由表面の離間したポイント上に前記ビームを集
束させる前記液体中に音響ビームを集束させるように配
置された複数の音波発生素子と、 を備えることを特徴とするプリントヘッド。 - 【請求項２】 レンズを製造する方法であって、 対向する第１および第２の表面を有する光溶融可能な基
板を提供する工程と、 前記基板の表面の一方を光反応性エッチング剤にさらす
工程と、 前記基板内にコントロールされた凸面または凹面の全体
的に半球形状の膨れまたはくぼみが形成するように、前
記エッチング剤をパターン化された光にさらす工程と、 を備えることを特徴とするレンズを製造する方法。 - 【請求項３】 請求項２に記載のレンズの製造方法にお
いて、 前記膨れまたはくぼみの表面をリフローする工程を含む
ことを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US09/184483 | 1998-11-02 | ||
| US09/184,483 US6136210A (en) | 1998-11-02 | 1998-11-02 | Photoetching of acoustic lenses for acoustic ink printing |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000141634A true JP2000141634A (ja) | 2000-05-23 |
Family
ID=22677069
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11309613A Pending JP2000141634A (ja) | 1998-11-02 | 1999-10-29 | 音響レンズを備えたプリントヘッドおよび音響レンズの製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6136210A (ja) |
| EP (1) | EP0999049B1 (ja) |
| JP (1) | JP2000141634A (ja) |
| CA (1) | CA2283551C (ja) |
| DE (1) | DE69937134T2 (ja) |
Families Citing this family (45)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IL127484A (en) * | 1998-12-09 | 2001-06-14 | Aprion Digital Ltd | Laser container printing method and method |
| FR2811316B1 (fr) * | 2000-07-06 | 2003-01-10 | Saint Gobain | Substrat texture transparent et procedes pour l'obtenir |
| US6596239B2 (en) * | 2000-12-12 | 2003-07-22 | Edc Biosystems, Inc. | Acoustically mediated fluid transfer methods and uses thereof |
| US7121275B2 (en) * | 2000-12-18 | 2006-10-17 | Xerox Corporation | Method of using focused acoustic waves to deliver a pharmaceutical product |
| US8122880B2 (en) * | 2000-12-18 | 2012-02-28 | Palo Alto Research Center Incorporated | Inhaler that uses focused acoustic waves to deliver a pharmaceutical product |
| US6932933B2 (en) * | 2001-03-30 | 2005-08-23 | The Aerospace Corporation | Ultraviolet method of embedding structures in photocerams |
| AU2002303842A1 (en) * | 2001-05-22 | 2002-12-03 | Reflectivity, Inc. | A method for making a micromechanical device by removing a sacrificial layer with multiple sequential etchants |
| US20030062126A1 (en) * | 2001-10-03 | 2003-04-03 | Scaggs Michael J. | Method and apparatus for assisting laser material processing |
| US6976639B2 (en) | 2001-10-29 | 2005-12-20 | Edc Biosystems, Inc. | Apparatus and method for droplet steering |
| US6925856B1 (en) | 2001-11-07 | 2005-08-09 | Edc Biosystems, Inc. | Non-contact techniques for measuring viscosity and surface tension information of a liquid |
| US7429359B2 (en) * | 2002-12-19 | 2008-09-30 | Edc Biosystems, Inc. | Source and target management system for high throughput transfer of liquids |
| US7275807B2 (en) * | 2002-11-27 | 2007-10-02 | Edc Biosystems, Inc. | Wave guide with isolated coupling interface |
| KR100590525B1 (ko) | 2003-01-15 | 2006-06-15 | 삼성전자주식회사 | 잉크젯 프린트헤드 및 잉크 토출 방법 |
| US7448734B2 (en) * | 2004-01-21 | 2008-11-11 | Silverbrook Research Pty Ltd | Inkjet printer cartridge with pagewidth printhead |
| US20090301550A1 (en) * | 2007-12-07 | 2009-12-10 | Sunprint Inc. | Focused acoustic printing of patterned photovoltaic materials |
| US8286561B2 (en) | 2008-06-27 | 2012-10-16 | Ssw Holding Company, Inc. | Spill containing refrigerator shelf assembly |
| US11786036B2 (en) | 2008-06-27 | 2023-10-17 | Ssw Advanced Technologies, Llc | Spill containing refrigerator shelf assembly |
| WO2010042191A1 (en) | 2008-10-07 | 2010-04-15 | Ross Technology Corporation | Highly durable superhydrophobic, oleophobic and anti-icing coatings and methods and compositions for their preparation |
| US20100184244A1 (en) * | 2009-01-20 | 2010-07-22 | SunPrint, Inc. | Systems and methods for depositing patterned materials for solar panel production |
| WO2011056742A1 (en) | 2009-11-04 | 2011-05-12 | Ssw Holding Company, Inc. | Cooking appliance surfaces having spill containment pattern and methods of making the same |
| MX2012010669A (es) | 2010-03-15 | 2013-02-07 | Ross Technology Corp | Destacadores y metodos para producir supreficies hidrofobas. |
| BR112013021231A2 (pt) | 2011-02-21 | 2019-09-24 | Ross Tech Corporation | revestimentos super-hidrofóbicos e oleofóbicos com sistemas ligantes de baixo voc |
| DE102011085428A1 (de) | 2011-10-28 | 2013-05-02 | Schott Ag | Einlegeboden |
| WO2013090939A1 (en) | 2011-12-15 | 2013-06-20 | Ross Technology Corporation | Composition and coating for superhydrophobic performance |
| CA2878189C (en) | 2012-06-25 | 2021-07-13 | Ross Technology Corporation | Elastomeric coatings having hydrophobic and/or oleophobic properties |
| KR20160140598A (ko) * | 2014-01-24 | 2016-12-07 | 3디 글래스 솔루션즈 인코포레이티드 | 마이크로-렌즈 및 어레이용 광활성 기판의 제작 방법 |
| KR101940981B1 (ko) | 2014-05-05 | 2019-01-23 | 3디 글래스 솔루션즈 인코포레이티드 | 2d 및 3d 인덕터 안테나 및 변압기 제작 광 활성 기판 |
| US10070533B2 (en) | 2015-09-30 | 2018-09-04 | 3D Glass Solutions, Inc. | Photo-definable glass with integrated electronics and ground plane |
| WO2017147511A1 (en) | 2016-02-25 | 2017-08-31 | 3D Glass Solutions, Inc. | 3d capacitor and capacitor array fabricating photoactive substrates |
| WO2017177171A1 (en) | 2016-04-08 | 2017-10-12 | 3D Glass Solutions, Inc. | Methods of fabricating photosensitive substrates suitable for optical coupler |
| EP3616254B1 (en) | 2017-04-28 | 2023-06-14 | 3D Glass Solutions, Inc. | Rf circulator |
| CA3067812C (en) | 2017-07-07 | 2023-03-14 | 3D Glass Solutions, Inc. | 2d and 3d rf lumped element devices for rf system in a package photoactive glass substrates |
| US10854946B2 (en) | 2017-12-15 | 2020-12-01 | 3D Glass Solutions, Inc. | Coupled transmission line resonate RF filter |
| CA3082624C (en) | 2018-01-04 | 2022-12-06 | 3D Glass Solutions, Inc. | Impedance matching conductive structure for high efficiency rf circuits |
| US10940501B2 (en) * | 2018-01-30 | 2021-03-09 | Ford Motor Company | Composite ultrasonic material applicators with individually addressable micro-applicators and methods of use thereof |
| DE102019102232A1 (de) * | 2018-01-30 | 2019-08-01 | Ford Motor Company | Ultraschallzerstäuber mit akustischer fokussiervorrichtung |
| EP3643148A4 (en) | 2018-04-10 | 2021-03-31 | 3D Glass Solutions, Inc. | RF INTEGRATED POWER STATE CAPACITOR |
| WO2019231947A1 (en) | 2018-05-29 | 2019-12-05 | 3D Glass Solutions, Inc. | Low insertion loss rf transmission line |
| WO2019231009A1 (ko) * | 2018-05-30 | 2019-12-05 | 한국표준과학연구원 | 메가 소닉 범위에서 서브파장 집속을 위한 초박막 음향렌즈 및 그 설계방법 |
| AU2019344542B2 (en) | 2018-09-17 | 2022-02-24 | 3D Glass Solutions, Inc. | High efficiency compact slotted antenna with a ground plane |
| JP7257707B2 (ja) | 2018-12-28 | 2023-04-14 | スリーディー グラス ソリューションズ，インク | 環状コンデンサｒｆ、マイクロ波及びｍｍ波システム |
| KR102393450B1 (ko) | 2018-12-28 | 2022-05-04 | 3디 글래스 솔루션즈 인코포레이티드 | 광활성 유리 기판들에서 ｒｆ, 마이크로파, 및 ｍｍ 파 시스템들을 위한 이종 통합 |
| JP7140435B2 (ja) | 2019-04-05 | 2022-09-21 | スリーディー グラス ソリューションズ，インク | ガラスベースの空基板集積導波路デバイス |
| WO2020214788A1 (en) | 2019-04-18 | 2020-10-22 | 3D Glass Solutions, Inc. | High efficiency die dicing and release |
| CA3177603C (en) | 2020-04-17 | 2024-01-09 | 3D Glass Solutions, Inc. | Broadband induction |
Family Cites Families (30)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3954534A (en) * | 1974-10-29 | 1976-05-04 | Xerox Corporation | Method of forming light emitting diode array with dome geometry |
| US4183780A (en) * | 1978-08-21 | 1980-01-15 | International Business Machines Corporation | Photon enhanced reactive ion etching |
| US4260649A (en) * | 1979-05-07 | 1981-04-07 | The Perkin-Elmer Corporation | Laser induced dissociative chemical gas phase processing of workpieces |
| JPS57182449A (en) * | 1981-05-07 | 1982-11-10 | Fuji Xerox Co Ltd | Forming method of ink jet multinozzle |
| US4391683A (en) * | 1982-09-10 | 1983-07-05 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Mask structures for photoetching procedures |
| US4478677A (en) * | 1983-12-22 | 1984-10-23 | International Business Machines Corporation | Laser induced dry etching of vias in glass with non-contact masking |
| JPS60155552A (ja) * | 1984-01-24 | 1985-08-15 | Oki Electric Ind Co Ltd | 平板マイクロレンズの製造方法 |
| JPS6137981A (ja) * | 1984-07-31 | 1986-02-22 | Toshiba Corp | レ−ザ併用ケミカルエツチング装置 |
| JPS6148581A (ja) * | 1984-08-10 | 1986-03-10 | Toshiba Corp | レ−ザ併用ケミカルエツチング方法 |
| GB8516984D0 (en) * | 1985-07-04 | 1985-08-07 | British Telecomm | Etching method |
| JPS62111433A (ja) * | 1985-11-11 | 1987-05-22 | Hitachi Ltd | エツチング方法 |
| US4842782A (en) * | 1986-10-14 | 1989-06-27 | Allergan, Inc. | Manufacture of ophthalmic lenses by excimer laser |
| US4782350A (en) * | 1987-10-28 | 1988-11-01 | Xerox Corporation | Amorphous silicon varactors as rf amplitude modulators and their application to acoustic ink printers |
| US5122818A (en) * | 1988-12-21 | 1992-06-16 | Xerox Corporation | Acoustic ink printers having reduced focusing sensitivity |
| US5028937A (en) * | 1989-05-30 | 1991-07-02 | Xerox Corporation | Perforated membranes for liquid contronlin acoustic ink printing |
| GB2234631B (en) * | 1989-07-27 | 1993-02-17 | Stc Plc | Selective etching of insulating materials |
| US5100499A (en) * | 1989-12-20 | 1992-03-31 | Texas Instruments Incorporated | Copper dry etch process using organic and amine radicals |
| US5041849A (en) * | 1989-12-26 | 1991-08-20 | Xerox Corporation | Multi-discrete-phase Fresnel acoustic lenses and their application to acoustic ink printing |
| US5229793A (en) * | 1990-12-26 | 1993-07-20 | Xerox Corporation | Liquid surface control with an applied pressure signal in acoustic ink printing |
| FR2671430A1 (fr) * | 1991-01-04 | 1992-07-10 | Alsthom Cge Alcatel | Procede de gravure d'un film, notamment en oxyde supraconducteur, et film en resultant. |
| US5121141A (en) * | 1991-01-14 | 1992-06-09 | Xerox Corporation | Acoustic ink printhead with integrated liquid level control layer |
| JPH04287320A (ja) * | 1991-03-16 | 1992-10-12 | Fujitsu Ltd | 光励起エッチング方法 |
| US5316640A (en) * | 1991-06-19 | 1994-05-31 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Fabricating method of micro lens |
| US5238530A (en) * | 1992-04-20 | 1993-08-24 | Texas Instruments Incorporated | Anisotropic titanate etch |
| MX9305898A (es) * | 1992-10-30 | 1995-01-31 | Texas Instruments Inc | Metodo de grabado fotoquimico anisotropico para la fabricacion decircuitos integrados. |
| JP2795126B2 (ja) * | 1993-04-16 | 1998-09-10 | 株式会社デンソー | 曲面加工方法及びその装置 |
| DE69523815T2 (de) * | 1994-05-18 | 2002-04-18 | Xerox Corp | Akustischbeschichtung von Materialschichten |
| US5565113A (en) * | 1994-05-18 | 1996-10-15 | Xerox Corporation | Lithographically defined ejection units |
| US5919607A (en) * | 1995-10-26 | 1999-07-06 | Brown University Research Foundation | Photo-encoded selective etching for glass based microtechnology applications |
| US5705079A (en) * | 1996-01-19 | 1998-01-06 | Micron Display Technology, Inc. | Method for forming spacers in flat panel displays using photo-etching |
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