JPS60155552A - 平板マイクロレンズの製造方法 - Google Patents
平板マイクロレンズの製造方法Info
- Publication number
- JPS60155552A JPS60155552A JP948184A JP948184A JPS60155552A JP S60155552 A JPS60155552 A JP S60155552A JP 948184 A JP948184 A JP 948184A JP 948184 A JP948184 A JP 948184A JP S60155552 A JPS60155552 A JP S60155552A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass substrate
- etching
- microlens
- protective film
- hole
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
- C03C2218/355—Temporary coating
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（技術分野）
この発明は平板マイクロレンズの製造方法に関する。
（技術的背景）
従来、平板マイクロレンズの作製は電界印加イオン交換
法によシなされていた。（１９８３年春季、第３０回応
用物理学関係連合講演会講演予稿集、Ｐ １７７ ．４
ａ−Ｊ−９参照）しかし、この方法では加熱炉、イオン
源、電源等の設備を必要とするため製造コストが高くつ
き、また、印加電界の方向に依存したイオン交換がなさ
れるため、基板の両面にレンズを作製するとと ′がで
きなかった。したがって、組合せレンズを必要とする場
合は別々に作った２組のレンズをはシ合わせる等によシ
作製せねばならなかった。
法によシなされていた。（１９８３年春季、第３０回応
用物理学関係連合講演会講演予稿集、Ｐ １７７ ．４
ａ−Ｊ−９参照）しかし、この方法では加熱炉、イオン
源、電源等の設備を必要とするため製造コストが高くつ
き、また、印加電界の方向に依存したイオン交換がなさ
れるため、基板の両面にレンズを作製するとと ′がで
きなかった。したがって、組合せレンズを必要とする場
合は別々に作った２組のレンズをはシ合わせる等によシ
作製せねばならなかった。
（発明の目的）
この発明の目的は従来技術の上記問題点を解決すること
にある。
にある。
（発明の概要）
この発明の要点は、ガラス基板のマイクロレンズを設け
る位置に化学エツチングの等方性を利用して略半球面状
穴部を形成し、との略半球面状穴部にガラス基板と屈折
率の異なる透明な物質を堆積もしくは充填した後、その
外表面を研磨して平板マイクロレンズを形成するように
したことにある。
る位置に化学エツチングの等方性を利用して略半球面状
穴部を形成し、との略半球面状穴部にガラス基板と屈折
率の異なる透明な物質を堆積もしくは充填した後、その
外表面を研磨して平板マイクロレンズを形成するように
したことにある。
（実施例）
第１図、第２図はこの発明の第１の実施例を説明するた
めの図である。
めの図である。
まず、第１図（ａ）〜（ｃ）はこの発明におけるガラス
。
。
基板上のマイクロレンズを形成する位置に略半球面状穴
部を形成するまでの工程を示した図である。
部を形成するまでの工程を示した図である。
第１図（ａ）において、石英等のガラス基板１に耐エツ
チング性保護膜２ （Ｎ１ｙＣｒ−Ａｕなど）を蒸着等
によ多形成した後、マイクロレンズを形成する位置に対
応して前記耐エツチング性保護膜２に小孔３をあける。
チング性保護膜２ （Ｎ１ｙＣｒ−Ａｕなど）を蒸着等
によ多形成した後、マイクロレンズを形成する位置に対
応して前記耐エツチング性保護膜２に小孔３をあける。
次に、弗酸等のエツチング液に侵し化学エツチングを行
う。レンズ径りに比べ小孔の径ｄは無視できる大きさで
あシ、この化学エツチングは等方性エツチングであるか
ら、くぼみ４は第１図（ｂ）に示すように半径ｒの略半
球面状にエツチングされる。半径ｒはエツチング液濃度
、時間によ多制御できる。温度は室温でよい。次に耐工
。
う。レンズ径りに比べ小孔の径ｄは無視できる大きさで
あシ、この化学エツチングは等方性エツチングであるか
ら、くぼみ４は第１図（ｂ）に示すように半径ｒの略半
球面状にエツチングされる。半径ｒはエツチング液濃度
、時間によ多制御できる。温度は室温でよい。次に耐工
。
チング性保護膜２を除去すると第１図（ｃ）に示すよう
に略半球面状穴部５を有するガラス基板が完成する。
に略半球面状穴部５を有するガラス基板が完成する。
第２図（ａ）〜（ｃ）は本発明におけるガラス基板に略
半球面状穴部をあけた後平板マイクロレンズができあが
るまでの工程を示した図である。
半球面状穴部をあけた後平板マイクロレンズができあが
るまでの工程を示した図である。
第２図（、）は第１図（ａ）〜（ｃ）で説明した工程に
よシ作製した略半球面状穴部５を設けたガラス基板ｌで
ある。このガラス基板ｌに第２図（ｂ）に示すように屈
折率の異なる透明な物質６（例えばガラス、樹脂）を堆
積させる。この透明物質６の屈折率がガラス基板ｌの屈
折率よシ高いとき（例えば工ｌキシ樹脂を用いた時）は
凸レンズ、低いとき（例えばフッソ樹脂を用いた時）は
凹レンズとなる。
よシ作製した略半球面状穴部５を設けたガラス基板ｌで
ある。このガラス基板ｌに第２図（ｂ）に示すように屈
折率の異なる透明な物質６（例えばガラス、樹脂）を堆
積させる。この透明物質６の屈折率がガラス基板ｌの屈
折率よシ高いとき（例えば工ｌキシ樹脂を用いた時）は
凸レンズ、低いとき（例えばフッソ樹脂を用いた時）は
凹レンズとなる。
次に第２図（ｃ）に示すように外表面７を研磨すること
で平板マイクロレンズ８ができあがる。
で平板マイクロレンズ８ができあがる。
第３図（、）〜（ｃ）は、本発明の第２の実施例を説明
するための図であシ、ガラス基板の表裏両面にマイクロ
レンズを形成する工程を示したものである。
するための図であシ、ガラス基板の表裏両面にマイクロ
レンズを形成する工程を示したものである。
第３図（ａ）は第１図（ａ）〜（ｃ）で説明した方法に
ょシガラス基板９の表裏両面の相対向する位置に略半球
面状穴部１０．１１を設けたものである。第３図（ｂ）
においてガラス基板９の表裏両面の略半球面状穴部１０
．１１にガラス基板とは屈折率の異なる透明な物質１２
．１３を堆積もしくは充填させる。これらの透明物質１
２．１３の屈折率をそれぞれ異ならせることで種々の組
合せレンズが作成可能である。第３図（ｃ）において外
表面１４．１５を研磨し、マイクロレンズ１６．１７が
できあがる。このマイクロレンズ１６と１７とはその光
軸を一致させるように構成されるものである。
ょシガラス基板９の表裏両面の相対向する位置に略半球
面状穴部１０．１１を設けたものである。第３図（ｂ）
においてガラス基板９の表裏両面の略半球面状穴部１０
．１１にガラス基板とは屈折率の異なる透明な物質１２
．１３を堆積もしくは充填させる。これらの透明物質１
２．１３の屈折率をそれぞれ異ならせることで種々の組
合せレンズが作成可能である。第３図（ｃ）において外
表面１４．１５を研磨し、マイクロレンズ１６．１７が
できあがる。このマイクロレンズ１６と１７とはその光
軸を一致させるように構成されるものである。
以上第１の実施例では１つのマイクロレンズを示し、第
２の実施例では２個のマイクロレンズで構成する１組の
組合せレンズを示したが、これら（７） し７ 、ｆ
ヲアレイ状に配列してマイクロレンズアレイを構成する
こともできる。
２の実施例では２個のマイクロレンズで構成する１組の
組合せレンズを示したが、これら（７） し７ 、ｆ
ヲアレイ状に配列してマイクロレンズアレイを構成する
こともできる。
伺、半球面状穴部のエツチング寸法のコントロールはエ
ツチング液濃度と時間、温度で行うが、温度は室温とし
、エツチング液はエツチング中は変化しないと見なせる
から、時間のみでコントロールが可能という容易さがあ
る。
ツチング液濃度と時間、温度で行うが、温度は室温とし
、エツチング液はエツチング中は変化しないと見なせる
から、時間のみでコントロールが可能という容易さがあ
る。
（発明の効果）
以上説明したように、この発明は化学エツチングによシ
容易にガラス基板上のマイクロレンズ形成位置に略半球
面状穴部を設けることができ、且つそのエツチング寸法
のコントロールも容易であるため、ガラス基板の一方の
面のみあるいは両面に平板マイクロレンズを容易に、精
度よく、且つ安価に製造することができるものである。
容易にガラス基板上のマイクロレンズ形成位置に略半球
面状穴部を設けることができ、且つそのエツチング寸法
のコントロールも容易であるため、ガラス基板の一方の
面のみあるいは両面に平板マイクロレンズを容易に、精
度よく、且つ安価に製造することができるものである。
この発明によシ製造される平板マイクロレンズは発光ダ
イオードの光出射部あるいは受光ダイオードの光入射部
に封止機能を兼ねて用いることができる。
イオードの光出射部あるいは受光ダイオードの光入射部
に封止機能を兼ねて用いることができる。
第１図（ａ）〜（Ｃ）はこの発明の第１の実施例を説明
するだめの図、第２図ｔａ）〜（ｃ）はこの発明の第１
の実施例を説明するための図、第３図（ａ）〜（Ｃ）は
この発明の第２の実施例を説明するだめの図。 １．９・・・ガラス基板、２・・・保護膜、３・・・小
孔、４・・・くぼみ、５，１０．１１・・・半球面状穴
部、６゜１２．１３・・・透明な物質、７，１４．１５
・・・外表面、８．１６．１７・・・マイクロレンズ。 特許出願人 沖電気工業株式会社 （ｂ）（ｂ）
するだめの図、第２図ｔａ）〜（ｃ）はこの発明の第１
の実施例を説明するための図、第３図（ａ）〜（Ｃ）は
この発明の第２の実施例を説明するだめの図。 １．９・・・ガラス基板、２・・・保護膜、３・・・小
孔、４・・・くぼみ、５，１０．１１・・・半球面状穴
部、６゜１２．１３・・・透明な物質、７，１４．１５
・・・外表面、８．１６．１７・・・マイクロレンズ。 特許出願人 沖電気工業株式会社 （ｂ）（ｂ）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 ガラス基板上に耐エツチング性保護膜を形成する
工程と、 マイクロレンズを形成する位置に対応して前記耐エツチ
ング性保護膜に小孔をあける工程と、化学エツチングに
よシ前記小孔よシ等方性エツチングを行い前記ガラス基
板に略半球面状穴部を形成する工程と、 前記耐エツチング性保護膜を除去する工程と、ガラス基
板の前記略半球面状穴部に前記ガラス基板と屈折率の異
なる透明な物質を堆積もしくは充填した後、その外表面
を研磨する工程とを備え、少なくともガラス基板の一方
の面に平板マイクロレンズを形成することを特徴とする
平板マイクロレンズの製造方法。 ２、 ガラス基板の表裏両面に光軸□を一致させて少な
くとも１対のマイクロレンズを形成し、組合せレンズと
したことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の平板
マイクロレンズの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP948184A JPS60155552A (ja) | 1984-01-24 | 1984-01-24 | 平板マイクロレンズの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP948184A JPS60155552A (ja) | 1984-01-24 | 1984-01-24 | 平板マイクロレンズの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60155552A true JPS60155552A (ja) | 1985-08-15 |
Family
ID=11721435
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP948184A Pending JPS60155552A (ja) | 1984-01-24 | 1984-01-24 | 平板マイクロレンズの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60155552A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH057569U (ja) * | 1991-07-13 | 1993-02-02 | 福井小松株式会社 | パネルの積替え台車 |
| US5843321A (en) * | 1993-04-19 | 1998-12-01 | Olympus Optical Company, Ltd. | Method of manufacturing optical element |
| US6136210A (en) * | 1998-11-02 | 2000-10-24 | Xerox Corporation | Photoetching of acoustic lenses for acoustic ink printing |
| EP1237019A2 (en) * | 2001-02-28 | 2002-09-04 | Fujitsu Limited | Optical wiring substrate, method of manufacturing optical wiring substrate and multilayer optical wiring |
| JP2005008442A (ja) * | 2003-06-17 | 2005-01-13 | Nishiyama Stainless Chem Kk | ガラス板表面の凹部形成方法、マイクロレンズアレイの製造方法、及び、液晶表示装置 |
-
1984
- 1984-01-24 JP JP948184A patent/JPS60155552A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH057569U (ja) * | 1991-07-13 | 1993-02-02 | 福井小松株式会社 | パネルの積替え台車 |
| US5843321A (en) * | 1993-04-19 | 1998-12-01 | Olympus Optical Company, Ltd. | Method of manufacturing optical element |
| US6136210A (en) * | 1998-11-02 | 2000-10-24 | Xerox Corporation | Photoetching of acoustic lenses for acoustic ink printing |
| EP1237019A2 (en) * | 2001-02-28 | 2002-09-04 | Fujitsu Limited | Optical wiring substrate, method of manufacturing optical wiring substrate and multilayer optical wiring |
| EP1237019A3 (en) * | 2001-02-28 | 2004-05-19 | Fujitsu Limited | Optical wiring substrate, method of manufacturing optical wiring substrate and multilayer optical wiring |
| US6810160B2 (en) | 2001-02-28 | 2004-10-26 | Fujitsu Limited | Optical wiring substrate, method of manufacturing optical wiring substrate and multilayer optical wiring |
| JP2005008442A (ja) * | 2003-06-17 | 2005-01-13 | Nishiyama Stainless Chem Kk | ガラス板表面の凹部形成方法、マイクロレンズアレイの製造方法、及び、液晶表示装置 |
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