JPS616154A - 微小光学素子の製造方法 - Google Patents

微小光学素子の製造方法

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JPS616154A
JPS616154A JP12341384A JP12341384A JPS616154A JP S616154 A JPS616154 A JP S616154A JP 12341384 A JP12341384 A JP 12341384A JP 12341384 A JP12341384 A JP 12341384A JP S616154 A JPS616154 A JP S616154A
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JP
Japan
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sample cell
molten salt
electric field
flat plate
glass
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JP12341384A
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JPH0582337B2 (ja
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Masatake Matsuo
誠剛 松尾
Norihisa Okamoto
岡本 則久
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Seiko Epson Corp
Suwa Seikosha KK
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Suwa Seikosha KK
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は電界移入法を用いた平板マイクロレンズの製造
方法に関する。
〔従来技術〕
近年、伊賀、入用らによって、平板基板へのドーパント
の選択拡散によってできる平板マイクロレンズが報告さ
り1、注目をあつめている。(Appl。
Opt、22.441 (1988))この平板マイク
ロレンズは、多iのマイクロレンズを所望の位置関係で
モノリシックに集積できるという特徴をもち、他のアレ
イ状の光学素子(面発光型LD、面発光5LED、ファ
イバアレイ、液晶光スイッチアレイ等)と積層すること
によって光回路をアレイ状に一括して製作できるなど、
将来の光フアイバ通信分野等において基本的なエレメン
トになることが期待されている。また複写器、静電プリ
ンタ、イメージセンサ、ファクシミリ等、画像伝送の分
野においても基本的なエレメントになってゆくと思われ
る。
さらには光ディスクのピックアップ等にも応用されよう
。このように平板マイクロレンズは光関連の多くの分野
で基本的なエレメントになることが期待できる。
平板マイクロレンズの製造方法としては、電界移入法、
イオン熱拡散法、プラズマCvD法、ゾルゲル法、拡散
重合法が知らh−ているが、開口数が大きく収差の少な
い平板マイクロレンズを得る方法としては現在電界移入
法が最もすぐtlていると思われる。
ところが従来の電界移入法による平板マイクロレンズの
製造方法には次の様な欠点があった。
■ 電界移入を行なうための実験系のセットアツプ、プ
ラス基鈑の種類、熔融塩の組成、電界移入時間、電界移
入温度、印加電圧、系の加熱・徐冷の方法等、電界移入
条件を外部からみて同一にしても得らノLる平板マイク
ロレンズの層特性(レンズ径、焦点距離、屈折率分布等
)がばらついてしまう、(同一基板内でのバラツキ、基
板間でのバラツキ)すなわち望みの特性の平板マイクロ
レンズを再現性良く作れない。
■ 得られた基板がそったり、うねったりしているので
、レンズアレイ中でのレンズの光軸が互いに少しずつ傾
いていたり、表面研磨後、基板の中心部のレンズと外周
部のレンズの特性が異なったりした。
従来の電界移入法による平板マイクロレンズは上記の欠
点をもつため、光フアイバ通信等に作われる光の分岐、
結合、合波、分波等を目的とする素子には用いられなか
った。
〔目的〕
本発明はこれらの欠点を除去することを目的として考案
したものである。すなわち電界移入法による平板マイク
ロレンズの製造方法において、試料セルの側面にもマス
クを設けて電界移入を行なうことで上hピの欠点を除去
した。
〔概要〕
以下、図面を用いて本発明の詳細な説明する。
第1図で従来の電界移入法の説明を行なう。セラミック
ボート1に熔融塩5がはいっているものを灯:M1塩浴
とする。箱型の構造をもった試料セル2の底面をパター
ンマスク3で被樫し、内側KfyL3融塩6のはいって
いる状態でさきの試料セルを熔融塩浴に浸す。熔融塩の
中に電極7,8を図の様に配置し底部のガラスの両面に
電圧を印加し、その電界効果によって熔融塩5中の一価
の金&イオンをガラス中に注入し平板マイクロレンズ4
を得る。
それに対して本発明の平板マイクロレンズの製造方法を
第2図で説明する。従来の電界移入法で用いた試料セル
2の側面にもマスク9を設け、試料セル10とする。本
発明では該試料セルを用いて電界移入を行ない、平板マ
イクロレンズを製造する。
〔実施例1〕 (1)  3(l m 口X 1(l WJ厚のKF2
ガラスを加工して箱型セルとした。(底部ガラス厚み4
IIJ側面のガラス厚み2羽) (2)底面と側面を研賠後、RPスパッタによって底面
と側面にチタン薄膜を1μmずつ形成した。
(8)  フォト工程により、底面のチタン汽り股にパ
ターンを形成した。(半径100μmの開口部がマトリ
クス状に2朋ピツチで10X10=100コ集積されて
いるバ・ターン) (4)第2図のようにセットした後、電界移入を行なっ
た。
(電界移入条件) ・熔融塩の組成 T、4.SO2: ZnSO4−1:
 1@淵度 520℃ ・印加電圧 2■ ・電界移入時間 5時間 ・雰囲気 N。
(5)電界移入後、試料セルの内側の熔融塩を捨てて徐
冷した。
(6)試料セルを湯洗し、熔融塩の成分を除いた。
(7)熱りん酸でチタン脹をエツチングにより落とした
(8)試tjセルを切断して24!J口X4M厚とした
後に、ガラス両面を研1”41J・研屯した。
〔実施例2〕 (1)80舖 ×4藺厚のKF2ガラス基板11の両面
を研磨した。
(2)RFスパッタ装置を用いてさきのガラスの片面に
チタンをlAm形成した。
(8)  フォト工程により、パターンマスクを形成し
た。(半径100μmの開口部がマトリクス状に2闘ピ
ツチでl(l X 1(1= 100コ隼積されている
パターン) (4)  セラミック12と無機接着剤13を用いて箱
型の試料セル14を作製した。(第3図) (5)第4図のようにセットした後、電界移入を行なっ
た。電界移入条件は実施例1と同じ。
(6)  [界移入後、試料セルの内側の熔融塩を捨て
て徐冷した。
(7)試料セルを湯洗した後、セラミックとガラス基板
をはがした。
(8)熱りん酸でチタン#に−をエツチングにより落と
した。
(9)  ガラス基板を切断して24 *a DX 4
 wua厚とした後に、ガラス両面を研削・研磨した。
〔実施例1.実施例2において得られた平板マイクロレ
ンズの特性〕 *実施例1.実施例2.従来法とも3回ずつ電界移入を
行なった結果である。
NAはヘリウムネオンレーザを基板のレンズ側から入射
させその遠視野像から求めた。レンズ径のバラツキは、
得られた平版マイクロレンズ100コのレンズ径を全数
測定し、計800コずつのテークから計算した。
〔効果〕
実施例の表でも明らかなように本発明の平板マイクロレ
ンズの製造方法を用いたときの効果は絶大である。(例
えば焦点距離のバラツキは従来法の±20μ情から±3
μmに改善されているし、基板のそり等もほとんど許め
られない、)以上の様に、本発明の平板マイクロレンズ
の製造方法によると、光関連の多くの分野で基本的なエ
レメント九なってゆくであろう平板マイクロレンズを再
現性よく高精度で計度することができるので本発明が光
関連の多くの分野で多大な寄与をすると確信する。なお
本発明の平板マイクロレンズの製造方法は、平板マイク
ロレンズのほかに、電界移入法を用いて製造できる微小
光学デバイス(例えば、*、ffQ導波路、埋め込み導
波路等)の製造においても多大な効果があった。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の電界移入法による平板マイクロレンズの
製造法’t−説明するための図である。第2図〜第4図
は本発明の平板マイクロレンズの製造法を説明するため
の(¥1でちる。 1−1セラミツクボート 2・・・試料セル 311@−パタ角ンマスク。 4・・・屈折率分布領域 5・・・熔融塩 6・・・熔融塩 7・・・負極 8・・・正極 91・マスク 1(+−・・実施例2での試料セル 11・壷−ガラス基板 1z−−・セラミック ■3・・・無機接着剤 14・・・実施例3での試料セル 以   上

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 箱型の構造をもった試料セルの底面をパターンマスクで
    被覆し、内側に熔融塩のはいっている状態で上記試料セ
    ルを、上記熔融塩とは隔てられている熔融塩浴に浸し、
    上記試料セル底部のガラスの両面に電圧を印加し、その
    電界効果によって熔融塩中の金属イオンをガラス内に注
    入する電界移入法を用いた平板マイクロレンズの製造方
    法において、上記試料セルの側面にもマスクを設けて電
    界移入を行なったことを特徴とする平板マイクロレンズ
    の製造方法。
JP12341384A 1984-06-15 1984-06-15 微小光学素子の製造方法 Granted JPS616154A (ja)

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JP12341384A JPS616154A (ja) 1984-06-15 1984-06-15 微小光学素子の製造方法

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JP12341384A JPS616154A (ja) 1984-06-15 1984-06-15 微小光学素子の製造方法

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Publication Number Publication Date
JPS616154A true JPS616154A (ja) 1986-01-11
JPH0582337B2 JPH0582337B2 (ja) 1993-11-18

Family

ID=14859937

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JP (1) JPS616154A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4842629A (en) * 1986-12-01 1989-06-27 Siemens Aktiengesellschaft Method for producing buried regions of raised refractive index in a glass member by ion exchange
US20180085293A1 (en) * 2016-09-23 2018-03-29 The Procter & Gamble Company Stable Foam Compositions and Methods of Using the Same to Provide Enhanced Sensory and Visual Benefits to Skin

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4842629A (en) * 1986-12-01 1989-06-27 Siemens Aktiengesellschaft Method for producing buried regions of raised refractive index in a glass member by ion exchange
US20180085293A1 (en) * 2016-09-23 2018-03-29 The Procter & Gamble Company Stable Foam Compositions and Methods of Using the Same to Provide Enhanced Sensory and Visual Benefits to Skin

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JPH0582337B2 (ja) 1993-11-18

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