JP2000094575A - 成形用金属薄膜積層体 - Google Patents
成形用金属薄膜積層体Info
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- JP2000094575A JP2000094575A JP28350298A JP28350298A JP2000094575A JP 2000094575 A JP2000094575 A JP 2000094575A JP 28350298 A JP28350298 A JP 28350298A JP 28350298 A JP28350298 A JP 28350298A JP 2000094575 A JP2000094575 A JP 2000094575A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 プラスチックの射出成形品および押出成
形品等の分野において、特に成形物面が平面でない場合
に良好な金属光沢をこれらの成形物（製品）表面に付与
するための同時成形等に使用する成形用金属薄膜積層体
を提供する。 【解決手段】フイルム基材に、少なくとも金属薄膜層を
形成・積層した積層体であって、金属薄膜層がインジウ
ム又はインジウム系合金である金属または合金からなる
厚さ１０〜３０ｎｍの金属薄膜層であり、フイルム基材
がエチレンテレフタレート単位が８５ｍｏｌ％以上でエ
チレンテレフタレート以外の単位が３ｍｏｌ％以上であ
るポリエステル系フイルムである成形用金属薄膜積層
体。
形品等の分野において、特に成形物面が平面でない場合
に良好な金属光沢をこれらの成形物（製品）表面に付与
するための同時成形等に使用する成形用金属薄膜積層体
を提供する。 【解決手段】フイルム基材に、少なくとも金属薄膜層を
形成・積層した積層体であって、金属薄膜層がインジウ
ム又はインジウム系合金である金属または合金からなる
厚さ１０〜３０ｎｍの金属薄膜層であり、フイルム基材
がエチレンテレフタレート単位が８５ｍｏｌ％以上でエ
チレンテレフタレート以外の単位が３ｍｏｌ％以上であ
るポリエステル系フイルムである成形用金属薄膜積層
体。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラスチックの射
出成形品および押出成形品等の分野において、特に成形
物面が平面でない場合に良好な金属光沢をこれらの成形
物（製品）表面に付与するための同時成形等に使用する
成形用金属薄膜積層体に関する。すなわち、本発明の成
形用金属薄膜積層体を、例えば成形金型内にセットし、
該金型を使用してＡＢＳ樹脂、アクリル樹脂、ポリカー
ボネート樹脂、ポリエステル樹脂等を射出成形すること
によって、成形と同時に成形品に金属光沢を付与するこ
とが出来る同時成形用金属薄膜積層体等の成形用金属薄
膜積層体に関するものである。
出成形品および押出成形品等の分野において、特に成形
物面が平面でない場合に良好な金属光沢をこれらの成形
物（製品）表面に付与するための同時成形等に使用する
成形用金属薄膜積層体に関する。すなわち、本発明の成
形用金属薄膜積層体を、例えば成形金型内にセットし、
該金型を使用してＡＢＳ樹脂、アクリル樹脂、ポリカー
ボネート樹脂、ポリエステル樹脂等を射出成形すること
によって、成形と同時に成形品に金属光沢を付与するこ
とが出来る同時成形用金属薄膜積層体等の成形用金属薄
膜積層体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、プラスチック成形品表面の金属加
飾表面処理方法として、本発明と同様の同時成形転写方
法は提案されている。例えば、アルミニウムやクロム等
の金属薄膜層を有する転写材を使用して各種プラスチッ
ク成形製品に射出成形等と同時に全面もしくは部分的に
金属光沢を付与している。
飾表面処理方法として、本発明と同様の同時成形転写方
法は提案されている。例えば、アルミニウムやクロム等
の金属薄膜層を有する転写材を使用して各種プラスチッ
ク成形製品に射出成形等と同時に全面もしくは部分的に
金属光沢を付与している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】近年成形品の形状がよ
り複雑になってきており、例えば射出成形時に樹脂が溶
融し金型内に流入するゲート部分で、同時成形用転写箔
の接着剤層の流動変形に伴い、そのことによって金属薄
膜層にも歪みが起こり、歪みに追随変形し得ない金属薄
膜層に亀裂などが発生し、得られた製品の金属光沢に欠
陥を発生せしめることがしばしば見られる。この対策と
して金属薄膜層をゲート部分には設けないなどのデザイ
ン上の工夫をしたり、成形品そのもののデザインを犠牲
にして複雑形状部を減少せしめるなどの工夫が講じられ
てきた。また、金属薄膜層の厚さを小さくし、金属光沢
性を犠牲にし金属薄膜の変形追随をえんとするものも提
案されているが、折角の金属光沢性が不満足な場合がし
ばしば発生するものであった。
り複雑になってきており、例えば射出成形時に樹脂が溶
融し金型内に流入するゲート部分で、同時成形用転写箔
の接着剤層の流動変形に伴い、そのことによって金属薄
膜層にも歪みが起こり、歪みに追随変形し得ない金属薄
膜層に亀裂などが発生し、得られた製品の金属光沢に欠
陥を発生せしめることがしばしば見られる。この対策と
して金属薄膜層をゲート部分には設けないなどのデザイ
ン上の工夫をしたり、成形品そのもののデザインを犠牲
にして複雑形状部を減少せしめるなどの工夫が講じられ
てきた。また、金属薄膜層の厚さを小さくし、金属光沢
性を犠牲にし金属薄膜の変形追随をえんとするものも提
案されているが、折角の金属光沢性が不満足な場合がし
ばしば発生するものであった。
【０００４】さらに、金属薄膜層の亀裂を予め覚悟し
て、特開平６−１３５１９８号公報に開示されているよ
うに、金属粉体層を以って亀裂による欠陥をカバーする
方法も提案されているが金属層が二重になる等経済的に
も有利とは言えないものであるし、金属薄膜の光沢を完
全に補完しうる場合ばかりではないものであった。ま
た、特公昭６０−１１６３３号公報に開示のように金属
薄膜層に特定の金属薄膜を使用することも提案されてい
るが、該金属薄膜層が成形時に非平面表面への追随性を
有してはいるが、該金属薄膜層を支持している基体その
ものについての工夫が特になく通常ポリエチレンテレフ
タレートフイルム等を使用した時同時成形等に使用した
時十分な効果が得られない。本発明は、前記従来の成形
用転写箔等の課題を解決し、射出成形時に同時成形用転
写箔中の接着剤層の流動に伴う金属薄膜層の破壊や、成
形時におこる金属薄膜層の変形追随性不足による金属薄
膜層の亀裂発生を防止し、金属光沢に優れた金属調加飾
成形性品を得るため等に、成形用金属薄膜積層体を提供
するものである。
て、特開平６−１３５１９８号公報に開示されているよ
うに、金属粉体層を以って亀裂による欠陥をカバーする
方法も提案されているが金属層が二重になる等経済的に
も有利とは言えないものであるし、金属薄膜の光沢を完
全に補完しうる場合ばかりではないものであった。ま
た、特公昭６０−１１６３３号公報に開示のように金属
薄膜層に特定の金属薄膜を使用することも提案されてい
るが、該金属薄膜層が成形時に非平面表面への追随性を
有してはいるが、該金属薄膜層を支持している基体その
ものについての工夫が特になく通常ポリエチレンテレフ
タレートフイルム等を使用した時同時成形等に使用した
時十分な効果が得られない。本発明は、前記従来の成形
用転写箔等の課題を解決し、射出成形時に同時成形用転
写箔中の接着剤層の流動に伴う金属薄膜層の破壊や、成
形時におこる金属薄膜層の変形追随性不足による金属薄
膜層の亀裂発生を防止し、金属光沢に優れた金属調加飾
成形性品を得るため等に、成形用金属薄膜積層体を提供
するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】即ち本発明は、フイルム
基材に、少なくとも金属薄膜層を形成・積層した積層体
であって、金属薄膜層がインジウム又はインジウム系合
金である金属または合金からなる厚さ１０〜３０ｎｍの
金属薄膜層であり、フイルム基材がエチレンテレフタレ
ート単位が８５ｍｏｌ％以上でエチレンテレフタレート
以外の単位が３ｍｏｌ％以上であるポリエステル系フイ
ルムである、ことを特徴とする成形用金属薄膜積層体で
あり、ポリエステル系フイルムの厚さが２０〜７５μｍ
である前記の成形用金属薄膜積層体であり、またフイル
ム基材が、融点２００〜２５０℃のエチレンテレフタレ
ート単位が８５ｍｏｌ％以上でエチレンテレフタレート
以外の単位が３ｍｏｌ％以上であるポリエステル系フイ
ルムである前記の成形用金属薄膜積層体である。
基材に、少なくとも金属薄膜層を形成・積層した積層体
であって、金属薄膜層がインジウム又はインジウム系合
金である金属または合金からなる厚さ１０〜３０ｎｍの
金属薄膜層であり、フイルム基材がエチレンテレフタレ
ート単位が８５ｍｏｌ％以上でエチレンテレフタレート
以外の単位が３ｍｏｌ％以上であるポリエステル系フイ
ルムである、ことを特徴とする成形用金属薄膜積層体で
あり、ポリエステル系フイルムの厚さが２０〜７５μｍ
である前記の成形用金属薄膜積層体であり、またフイル
ム基材が、融点２００〜２５０℃のエチレンテレフタレ
ート単位が８５ｍｏｌ％以上でエチレンテレフタレート
以外の単位が３ｍｏｌ％以上であるポリエステル系フイ
ルムである前記の成形用金属薄膜積層体である。
【０００６】
【発明の実施態様】本発明は、上記したように、例えば
同時成形転写時に金属薄膜層が、亀裂等の欠陥を発生す
る原因が、金属薄膜層構成の金属そのものが、変形追随
性を成形時の変形に対して有していないこととそれを支
持している基材フイルムの性状にあると考え、インジウ
ム又はインジウム合金を使用して特定厚さの金属薄膜層
を作製することと支持基体であるフイルム基材に特定の
ポリエステル系フイルムを使用することで課題を解決し
たものである。本発明のフイルム基材としては、ポリエ
チレンテレフタレートに他のエステル形成性単量体を共
重合して得られる共重合ポリエステルのポリエステル系
フイルムが用いられる。他のエステル形成性単量体とし
ては特に限定される物ではなく、得られた共重合ポリエ
ステルの融点が２００〜２５０℃のものであればよく、
例として挙げれば、ジエチレングリコール、トリエチレ
ングリコール等のポリオキシアルキレングリコール、ブ
タンジオール、シクロヘキサンジオール、等のエチレン
グリコール以外のジオール成分、イソフタル酸、ナフタ
レン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、アジピン酸、等
のテレフタル酸以外のジカルボン酸成分、更には、ジオ
ール、ジカルボン酸以外の多官能エステル形成成分があ
る。本願発明に使用されるポリエステル系フイルムは、
エチレンテレフタレート単位が８５ｍｏｌ％以上で、エ
チレンテレフタレート以外の単位が３ｍｏｌ％以上であ
るポリエステル系フイルムであり、エチレンテレフタレ
ート単位が８５ｍｏｌ％に未満のとき成形流動性におい
ては満足できても、金属薄膜層形成時の熱などに耐える
ことに不充分であり、エチレンテレフタレート以外の単
位が３ｍｏｌ％未満のときは、金属薄膜層形成時の熱な
どに耐えることに充分であっても、成形流動性において
は不充分である。このエチレンテレフタレート単位は好
ましくは９０ｍｏｌ％以上であり、エチレンテレフタレ
ート以外の単位は好ましくは４．０ｍｏｌ％以上のポリ
エステル系フイルムであり、さらに好ましくはエチレン
テレフタレート単位は好ましくは９０ｍｏｌ％以上であ
り、エチレンテレフタレート以外の単位は好ましくは
５．０ｍｏｌ％以上のポリエステル系フイルムである。
本願発明に使用されるポリエステル系フイルムは、エチ
レンテレフタレート単位が８５ｍｏｌ％以上でエチレン
テレフタレート以外の単位が３ｍｏｌ％以上であるポリ
エステルであって、その融点が２００〜２５０℃のもの
であることが望ましい。また、本願発明に使用されるポ
リエステル系フイルムは、そのフイルムの性能が破断
強度が縦方向で１５〜２５ｋｇｆ／ｍｍ2、横方向で１
５〜２５ｋｇｆ／ｍｍ2であり、破断伸度が縦方向で
１５０％以上、横方向で１５０％以上であり、１５０
℃３０分での熱収縮率が縦方向で１．５〜５．０％、横
方向で１．２〜５．０％であるものが好ましい。
同時成形転写時に金属薄膜層が、亀裂等の欠陥を発生す
る原因が、金属薄膜層構成の金属そのものが、変形追随
性を成形時の変形に対して有していないこととそれを支
持している基材フイルムの性状にあると考え、インジウ
ム又はインジウム合金を使用して特定厚さの金属薄膜層
を作製することと支持基体であるフイルム基材に特定の
ポリエステル系フイルムを使用することで課題を解決し
たものである。本発明のフイルム基材としては、ポリエ
チレンテレフタレートに他のエステル形成性単量体を共
重合して得られる共重合ポリエステルのポリエステル系
フイルムが用いられる。他のエステル形成性単量体とし
ては特に限定される物ではなく、得られた共重合ポリエ
ステルの融点が２００〜２５０℃のものであればよく、
例として挙げれば、ジエチレングリコール、トリエチレ
ングリコール等のポリオキシアルキレングリコール、ブ
タンジオール、シクロヘキサンジオール、等のエチレン
グリコール以外のジオール成分、イソフタル酸、ナフタ
レン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、アジピン酸、等
のテレフタル酸以外のジカルボン酸成分、更には、ジオ
ール、ジカルボン酸以外の多官能エステル形成成分があ
る。本願発明に使用されるポリエステル系フイルムは、
エチレンテレフタレート単位が８５ｍｏｌ％以上で、エ
チレンテレフタレート以外の単位が３ｍｏｌ％以上であ
るポリエステル系フイルムであり、エチレンテレフタレ
ート単位が８５ｍｏｌ％に未満のとき成形流動性におい
ては満足できても、金属薄膜層形成時の熱などに耐える
ことに不充分であり、エチレンテレフタレート以外の単
位が３ｍｏｌ％未満のときは、金属薄膜層形成時の熱な
どに耐えることに充分であっても、成形流動性において
は不充分である。このエチレンテレフタレート単位は好
ましくは９０ｍｏｌ％以上であり、エチレンテレフタレ
ート以外の単位は好ましくは４．０ｍｏｌ％以上のポリ
エステル系フイルムであり、さらに好ましくはエチレン
テレフタレート単位は好ましくは９０ｍｏｌ％以上であ
り、エチレンテレフタレート以外の単位は好ましくは
５．０ｍｏｌ％以上のポリエステル系フイルムである。
本願発明に使用されるポリエステル系フイルムは、エチ
レンテレフタレート単位が８５ｍｏｌ％以上でエチレン
テレフタレート以外の単位が３ｍｏｌ％以上であるポリ
エステルであって、その融点が２００〜２５０℃のもの
であることが望ましい。また、本願発明に使用されるポ
リエステル系フイルムは、そのフイルムの性能が破断
強度が縦方向で１５〜２５ｋｇｆ／ｍｍ2、横方向で１
５〜２５ｋｇｆ／ｍｍ2であり、破断伸度が縦方向で
１５０％以上、横方向で１５０％以上であり、１５０
℃３０分での熱収縮率が縦方向で１．５〜５．０％、横
方向で１．２〜５．０％であるものが好ましい。
【０００７】上記該基材フイルムの性能は、本願発明の
金属薄膜層を該フイルム面上に形成するための手段、蒸
着、スパッタリング、イオンプレーテイングなど乾式薄
膜形成法における熱等に耐え得ることと、例えば非平面
保有成形物の表面に本願発明の成形用金属薄膜積層体を
接合する際の非平面への追随性との両者を同時に満足せ
しめるために必要なものである。これらのフイルムの厚
さは特に限定されるものではないが、金属薄膜層形成時
の耐性と、成形物表面へ適用された時の金属薄膜層保持
性等から、２０〜７５μｍであることが好ましい。
金属薄膜層を該フイルム面上に形成するための手段、蒸
着、スパッタリング、イオンプレーテイングなど乾式薄
膜形成法における熱等に耐え得ることと、例えば非平面
保有成形物の表面に本願発明の成形用金属薄膜積層体を
接合する際の非平面への追随性との両者を同時に満足せ
しめるために必要なものである。これらのフイルムの厚
さは特に限定されるものではないが、金属薄膜層形成時
の耐性と、成形物表面へ適用された時の金属薄膜層保持
性等から、２０〜７５μｍであることが好ましい。
【０００８】本発明に用いられる金属薄膜層形成は、イ
ンジウム金属、銀−インジウム合金、ビスマス−インジ
ウム合金、銅−インジウム合金、インジウム−リチウム
合金、インジウム−鉛合金、インジウム−アンチモン合
金、インジウム−錫合金、インジウム−亜鉛合金等から
選ばれる一種または二種以上である合金が好ましく使用
される。
ンジウム金属、銀−インジウム合金、ビスマス−インジ
ウム合金、銅−インジウム合金、インジウム−リチウム
合金、インジウム−鉛合金、インジウム−アンチモン合
金、インジウム−錫合金、インジウム−亜鉛合金等から
選ばれる一種または二種以上である合金が好ましく使用
される。
【０００９】本発明における金属薄膜層の厚さは、好ま
しくは１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下であり、更に好ましく
は１４ｎｍ以上２２ｎｍ以下である。かかる範囲の膜厚
さにすることで、金属光輝性が充分であり、薄膜にクラ
ックが発生し難く、絶縁性をも保持し、経済的にも優れ
ているものとなる。１０ｎｍに満たないときは、光輝性
（金属光沢性）において、その性能は乏しく、３０ｎｍ
を超えるときは、金属光沢性はこれ以上厚さを大きくし
ても影響が少ない上に経済的にも得策ではなく、クラッ
クの発生が起こり易くなる。この金属薄膜層のフイルム
基材上への形成は、その方法において特に限定されるも
のではなく、蒸着、スパッタリング、イオンプレーテイ
ングなど乾式薄膜形成法が適宜使用される。合金薄膜層
の形成には合金組成を均一に保つためにスパッタリング
法が好ましい。
しくは１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下であり、更に好ましく
は１４ｎｍ以上２２ｎｍ以下である。かかる範囲の膜厚
さにすることで、金属光輝性が充分であり、薄膜にクラ
ックが発生し難く、絶縁性をも保持し、経済的にも優れ
ているものとなる。１０ｎｍに満たないときは、光輝性
（金属光沢性）において、その性能は乏しく、３０ｎｍ
を超えるときは、金属光沢性はこれ以上厚さを大きくし
ても影響が少ない上に経済的にも得策ではなく、クラッ
クの発生が起こり易くなる。この金属薄膜層のフイルム
基材上への形成は、その方法において特に限定されるも
のではなく、蒸着、スパッタリング、イオンプレーテイ
ングなど乾式薄膜形成法が適宜使用される。合金薄膜層
の形成には合金組成を均一に保つためにスパッタリング
法が好ましい。
【００１０】本願発明の、成形用金属薄膜積層体は、特
定性能を保有するポリエステル系フイルム基材に、イン
ジウム又はインジウム系合金である金属または合金から
なる金属薄膜層を積層したものを基本とするものである
が、特定性能を保有するポリエステル系フイルム基材を
Ａとし、インジウム又はインジウム系合金である金属ま
たは合金からなる金属薄膜層をＢとしたとき、Ａ／Ｂの
構成に剥離層（Ｃ）、着色層（Ｄ）、絵柄層(Ｅ)、保護
層（Ｆ）、や他のオリゴマー防止層や密着向上層や背面
強化層や装飾層等を適宜付加せしめてもよいものであ
る。
定性能を保有するポリエステル系フイルム基材に、イン
ジウム又はインジウム系合金である金属または合金から
なる金属薄膜層を積層したものを基本とするものである
が、特定性能を保有するポリエステル系フイルム基材を
Ａとし、インジウム又はインジウム系合金である金属ま
たは合金からなる金属薄膜層をＢとしたとき、Ａ／Ｂの
構成に剥離層（Ｃ）、着色層（Ｄ）、絵柄層(Ｅ)、保護
層（Ｆ）、や他のオリゴマー防止層や密着向上層や背面
強化層や装飾層等を適宜付加せしめてもよいものであ
る。
【００１１】例えば、転写材としての本願発明の応用例
の場合は、フイルム基材に金属薄膜層形成に先立って、
離型層、保護層を形成し、金属薄膜層形成後、接着剤層
を形成することを基本とするものである。離型層は、転
写後にフイルム基材を成形品から剥離する場合には必要
な場合がありその時には、フイルム基材に離型層を形成
するが、フイルム基材が離型性がある場合またはフイル
ム基材を転写後も剥離しない時には形成しなくてもよい
ものであり、その形成は、アクリル系樹脂、塩素化オレ
フィン樹脂、パラフィンワックス、合成ワックスを使用
して、グラビア印刷法、スクリーン印刷法等印刷法やロ
ールコーター法等で実施される。保護層は、本発明の金
属薄膜層を保護するためのものであり例えば、アクリル
ウレタン樹脂、アクリルビニル樹脂、アクリル樹脂、ビ
ニルウレタン樹脂等を使用し、必要に応じて着色材で着
色してもよく、また形成時に模様を印刷したものでもよ
い。本発明における接着剤層は、成形時の加熱、加圧に
より転写材を成形製品の表面に接着固定するためのもの
であり、感熱溶融性接着剤が好ましく使用される。この
感熱溶融性接着剤は同時成形するプラスチックの種類に
応じて、特に転写材と接する最外層のプラスチックの種
類に応じて、適宜より好ましいものを選択し使用する。
たとえばＡＢＳ樹脂、ポリカーボネート樹脂と同時成形
するときはアクリル樹脂を、相手がポリオレフィンの場
合は塩素化ポリオレフィン樹脂、塩素化エチレン・酢ビ
樹脂を使用する。またＡ／Ｂの構成に保護層（Ｆ）を形
成したＡ／Ｂ／Ｆの構成でＡ側に、成形物構成素材との
接着性に優れた接着剤層を塗布して成形物に圧着成形し
てもよい。本願発明は、Ａ／Ｂの構成を基本とするもの
であり、他の応用例を制限するものではない。
の場合は、フイルム基材に金属薄膜層形成に先立って、
離型層、保護層を形成し、金属薄膜層形成後、接着剤層
を形成することを基本とするものである。離型層は、転
写後にフイルム基材を成形品から剥離する場合には必要
な場合がありその時には、フイルム基材に離型層を形成
するが、フイルム基材が離型性がある場合またはフイル
ム基材を転写後も剥離しない時には形成しなくてもよい
ものであり、その形成は、アクリル系樹脂、塩素化オレ
フィン樹脂、パラフィンワックス、合成ワックスを使用
して、グラビア印刷法、スクリーン印刷法等印刷法やロ
ールコーター法等で実施される。保護層は、本発明の金
属薄膜層を保護するためのものであり例えば、アクリル
ウレタン樹脂、アクリルビニル樹脂、アクリル樹脂、ビ
ニルウレタン樹脂等を使用し、必要に応じて着色材で着
色してもよく、また形成時に模様を印刷したものでもよ
い。本発明における接着剤層は、成形時の加熱、加圧に
より転写材を成形製品の表面に接着固定するためのもの
であり、感熱溶融性接着剤が好ましく使用される。この
感熱溶融性接着剤は同時成形するプラスチックの種類に
応じて、特に転写材と接する最外層のプラスチックの種
類に応じて、適宜より好ましいものを選択し使用する。
たとえばＡＢＳ樹脂、ポリカーボネート樹脂と同時成形
するときはアクリル樹脂を、相手がポリオレフィンの場
合は塩素化ポリオレフィン樹脂、塩素化エチレン・酢ビ
樹脂を使用する。またＡ／Ｂの構成に保護層（Ｆ）を形
成したＡ／Ｂ／Ｆの構成でＡ側に、成形物構成素材との
接着性に優れた接着剤層を塗布して成形物に圧着成形し
てもよい。本願発明は、Ａ／Ｂの構成を基本とするもの
であり、他の応用例を制限するものではない。
【００１２】
【実施例】＊＊実施例１ 厚さ３０μｍ（ミクロン）の破断強度が縦方向で２
０．５ｋｇｆ／ｍｍ2、横方向で１９．９ｋｇｆ／ｍｍ2
であり、破断伸度が縦方向で１８０％、横方向で１８
７％であり、１５０℃３０分での熱収縮率が縦方向で
２．４％、横方向で１．５％である、イソフタル酸３．
５モル％とナフタレンジカルボン酸１．５モル％を共重
合した共重合ポリエステルからの、ポリエステル系フイ
ルム（結果的に重合時に生成するジエチレングリコール
が１．０％含有され、該フイルムは、エチレンテレフタ
レート単位が９４ｍｏｌ％含有され、エチレンテレフタ
レート単位以外の単位が６ｍｏｌ％含有されたものであ
る）に、アクリル樹脂溶液（ＮＶ＝２５％）をグラビヤ
コーテイングにより乾燥膜厚約１μｍ（ミクロン）に塗
布形成して離型層を設けた。該離型層上にアクリルウレ
タン樹脂溶液（ＮＶ＝３０％）をグラビヤコーテイング
により乾燥膜厚約１μｍ（ミクロン）に塗布形成して保
護層を設けた。該保護層上に、インジウムを真空蒸着法
によって２０ｎｍの膜厚になるように金属薄膜層を形成
した。該金属薄膜層上にアクリル樹脂をリバースコーテ
イングにより接着剤層を３μｍ（ミクロン）厚で形成し
成形用金属薄膜積層体転写箔を得た。
０．５ｋｇｆ／ｍｍ2、横方向で１９．９ｋｇｆ／ｍｍ2
であり、破断伸度が縦方向で１８０％、横方向で１８
７％であり、１５０℃３０分での熱収縮率が縦方向で
２．４％、横方向で１．５％である、イソフタル酸３．
５モル％とナフタレンジカルボン酸１．５モル％を共重
合した共重合ポリエステルからの、ポリエステル系フイ
ルム（結果的に重合時に生成するジエチレングリコール
が１．０％含有され、該フイルムは、エチレンテレフタ
レート単位が９４ｍｏｌ％含有され、エチレンテレフタ
レート単位以外の単位が６ｍｏｌ％含有されたものであ
る）に、アクリル樹脂溶液（ＮＶ＝２５％）をグラビヤ
コーテイングにより乾燥膜厚約１μｍ（ミクロン）に塗
布形成して離型層を設けた。該離型層上にアクリルウレ
タン樹脂溶液（ＮＶ＝３０％）をグラビヤコーテイング
により乾燥膜厚約１μｍ（ミクロン）に塗布形成して保
護層を設けた。該保護層上に、インジウムを真空蒸着法
によって２０ｎｍの膜厚になるように金属薄膜層を形成
した。該金属薄膜層上にアクリル樹脂をリバースコーテ
イングにより接着剤層を３μｍ（ミクロン）厚で形成し
成形用金属薄膜積層体転写箔を得た。
【００１３】＊＊実施例２ 厚さ５０μｍの破断強度が縦方向で２１．５ｋｇｆ／
ｍｍ2、横方向で２０．９ｋｇｆ／ｍｍ2であり、破断
伸度が縦方向で１６８％、横方向で１７２％であり、
１５０℃３０分での熱収縮率が縦方向で２．６％、横方
向で１．３％である、ブタンジオール２．０モル％とシ
クロヘキサンジメタノールを３．０モル％共重合した共
重合ポリエステルからのポリエステルフイルム（結果的
に重合時に生成するジエチレングリコールが１．０％含
有され、該フイルムは、エチレンテレフタレート単位が
９４ｍｏｌ％含有され、エチレンテレフタレート単位以
外の単位が６ｍｏｌ％含有されたものである）に、ニト
ロセルロース樹脂溶液（ＮＶ＝１０％）をグラビヤコー
テイングにより乾燥膜厚約１μｍに塗布形成して離型層
を設けた。該離型層上にアクリルウレタン樹脂溶液（Ｎ
Ｖ＝２５％）をグラビヤコーテイングにより乾燥膜厚約
２μｍに塗布形成して保護層を設けた。該保護層上に、
銀−インジウム合金（融点２８０℃）をスパッタリング
法によって１８．５ｎｍの膜厚になるように金属薄膜層
を形成した。該金属薄膜層上にアクリル樹脂をリバース
コーテイングにより接着剤層を２μｍ厚で形成し成形用
金属薄膜積層体転写箔を得た。
ｍｍ2、横方向で２０．９ｋｇｆ／ｍｍ2であり、破断
伸度が縦方向で１６８％、横方向で１７２％であり、
１５０℃３０分での熱収縮率が縦方向で２．６％、横方
向で１．３％である、ブタンジオール２．０モル％とシ
クロヘキサンジメタノールを３．０モル％共重合した共
重合ポリエステルからのポリエステルフイルム（結果的
に重合時に生成するジエチレングリコールが１．０％含
有され、該フイルムは、エチレンテレフタレート単位が
９４ｍｏｌ％含有され、エチレンテレフタレート単位以
外の単位が６ｍｏｌ％含有されたものである）に、ニト
ロセルロース樹脂溶液（ＮＶ＝１０％）をグラビヤコー
テイングにより乾燥膜厚約１μｍに塗布形成して離型層
を設けた。該離型層上にアクリルウレタン樹脂溶液（Ｎ
Ｖ＝２５％）をグラビヤコーテイングにより乾燥膜厚約
２μｍに塗布形成して保護層を設けた。該保護層上に、
銀−インジウム合金（融点２８０℃）をスパッタリング
法によって１８．５ｎｍの膜厚になるように金属薄膜層
を形成した。該金属薄膜層上にアクリル樹脂をリバース
コーテイングにより接着剤層を２μｍ厚で形成し成形用
金属薄膜積層体転写箔を得た。
【００１４】＊＊比較例１ 実施例１での、フイルム基材を、厚さ３０μｍ（ミクロ
ン）の破断強度が縦方向で２２．５ｋｇｆ／ｍｍ2、
横方向で２１．９ｋｇｆ／ｍｍ2であり、破断伸度が
縦方向で１１０％、横方向で１２７％であり、１５０
℃３０分での熱収縮率が縦方向で１．１％、横方向で−
０．４％であるポリエチレンテレフタレートフイルム
（結果的に重合時に生成するジエチレングリコールが
１．０％含有され、該フイルムは、エチレンテレフタレ
ート単位が９９ｍｏｌ％含有され、エチレンテレフタレ
ート単位以外の単位が１ｍｏｌ％含有されたものであ
る）を用いた以外は同じようにして、成形用金属薄膜積
層体転写箔を得た。上記の実施例１、２と比較例１の成
形用金属薄膜積層体転写箔をそれぞれ表面が平面でない
湾曲部を有する三次元成形品用成形金型内にセットし、
ＡＢＳ樹脂を射出圧着成形し、成形後基材フイルムを剥
離したところ、実施例１、２共良好な金属調光沢を有す
る三次元成形性品が得られた。比較例１の場合は金属薄
膜の一部に亀裂が見られた。
ン）の破断強度が縦方向で２２．５ｋｇｆ／ｍｍ2、
横方向で２１．９ｋｇｆ／ｍｍ2であり、破断伸度が
縦方向で１１０％、横方向で１２７％であり、１５０
℃３０分での熱収縮率が縦方向で１．１％、横方向で−
０．４％であるポリエチレンテレフタレートフイルム
（結果的に重合時に生成するジエチレングリコールが
１．０％含有され、該フイルムは、エチレンテレフタレ
ート単位が９９ｍｏｌ％含有され、エチレンテレフタレ
ート単位以外の単位が１ｍｏｌ％含有されたものであ
る）を用いた以外は同じようにして、成形用金属薄膜積
層体転写箔を得た。上記の実施例１、２と比較例１の成
形用金属薄膜積層体転写箔をそれぞれ表面が平面でない
湾曲部を有する三次元成形品用成形金型内にセットし、
ＡＢＳ樹脂を射出圧着成形し、成形後基材フイルムを剥
離したところ、実施例１、２共良好な金属調光沢を有す
る三次元成形性品が得られた。比較例１の場合は金属薄
膜の一部に亀裂が見られた。
【００１５】
【発明の効果】プラスチックの射出成形品および押出成
形品等の分野において、本発明の成形用金属薄膜積層体
を使用して同時成形したときに、金属薄膜の亀裂等の発
生がなく、成形品に安定して金属光沢を付与することが
できた。
形品等の分野において、本発明の成形用金属薄膜積層体
を使用して同時成形したときに、金属薄膜の亀裂等の発
生がなく、成形品に安定して金属光沢を付与することが
できた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ２９Ｋ 67:00 Ｂ２９Ｌ 9:00
Claims (3)
- 【請求項１】フイルム基材に、少なくとも金属薄膜層を
形成・積層した積層体であって、金属薄膜層がインジウ
ム又はインジウム系合金である金属または合金からなる
厚さ１０〜３０ｎｍの金属薄膜層であり、フイルム基材
がエチレンテレフタレート単位が８５ｍｏｌ％以上でエ
チレンテレフタレート以外の単位が３ｍｏｌ％以上であ
るポリエステル系フイルムである、ことを特徴とする成
形用金属薄膜積層体。 - 【請求項２】ポリエステル系フイルムの厚さが２０〜７
５μｍである請求項１記載の成形用金属薄膜積層体。 - 【請求項３】フイルム基材が、融点２００〜２５０℃の
エチレンテレフタレート単位が８５ｍｏｌ％以上でエチ
レンテレフタレート以外の単位が３ｍｏｌ％以上である
ポリエステル系フイルムである請求項１、請求項２記載
の成形用金属薄膜積層体。
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|---|---|---|---|
| JP28350298A JP3608956B2 (ja) | 1998-09-18 | 1998-09-18 | 成形用金属薄膜積層体 |
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| JP28350298A JP3608956B2 (ja) | 1998-09-18 | 1998-09-18 | 成形用金属薄膜積層体 |
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| JP2000094575A true JP2000094575A (ja) | 2000-04-04 |
| JP3608956B2 JP3608956B2 (ja) | 2005-01-12 |
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| JP28350298A Expired - Fee Related JP3608956B2 (ja) | 1998-09-18 | 1998-09-18 | 成形用金属薄膜積層体 |
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|---|---|---|---|---|
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| JP2006264593A (ja) * | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Toyota Motor Corp | レーダ装置ビーム経路内用光輝装飾成形品 |
| WO2006104116A1 (ja) * | 2005-03-28 | 2006-10-05 | Toray Industries, Inc. | 二軸配向ポリエステルフィルムおよび金属調積層フィルム |
| JP2006297853A (ja) * | 2005-04-25 | 2006-11-02 | Teijin Dupont Films Japan Ltd | 成形用フィルム |
| JP2007111877A (ja) * | 2005-10-18 | 2007-05-10 | Toray Ind Inc | 成形部材用二軸配向ポリエステルフィルム |
| JP2007134278A (ja) * | 2005-11-14 | 2007-05-31 | Kojima Press Co Ltd | 金属調加工された意匠面を有するタッチスイッチ |
| WO2007123095A1 (ja) | 2006-04-19 | 2007-11-01 | Toray Industries, Inc. | 成形部材用二軸配向ポリエステルフィルム |
| US7619575B2 (en) | 2005-03-25 | 2009-11-17 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Metallically gross layer decorative molded article for use in the beam path of a radar device |
| WO2021095479A1 (ja) * | 2019-11-11 | 2021-05-20 | 尾池工業株式会社 | 積層フィルム、金属調製品、金属調看板 |
-
1998
- 1998-09-18 JP JP28350298A patent/JP3608956B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| US8354171B2 (en) | 2006-04-19 | 2013-01-15 | Toray Industries, Inc. | Biaxially oriented polyester film for molded part |
| WO2021095479A1 (ja) * | 2019-11-11 | 2021-05-20 | 尾池工業株式会社 | 積層フィルム、金属調製品、金属調看板 |
| JP2021074978A (ja) * | 2019-11-11 | 2021-05-20 | 尾池工業株式会社 | 積層フィルム、金属調製品、金属調看板 |
| JP2021192986A (ja) * | 2019-11-11 | 2021-12-23 | 尾池工業株式会社 | 積層フィルム、金属調製品、金属調看板 |
| JP6997491B2 (ja) | 2019-11-11 | 2022-01-17 | 尾池工業株式会社 | 積層フィルム、金属調製品、金属調看板 |
| CN114340891A (zh) * | 2019-11-11 | 2022-04-12 | 尾池工业株式会社 | 层叠膜、金属质感产品、金属质感招牌 |
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