JP2000086747A - 含ヘテロ芳香環スルホニウム塩及び熱硬化性組成物 - Google Patents

含ヘテロ芳香環スルホニウム塩及び熱硬化性組成物

Info

Publication number
JP2000086747A
JP2000086747A JP10279370A JP27937098A JP2000086747A JP 2000086747 A JP2000086747 A JP 2000086747A JP 10279370 A JP10279370 A JP 10279370A JP 27937098 A JP27937098 A JP 27937098A JP 2000086747 A JP2000086747 A JP 2000086747A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
sulfonium salt
hetero
usually
reaction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP10279370A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3566105B2 (ja
Inventor
Toshihiko Takasaki
俊彦 高崎
Takeshi Endo
剛 遠藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Japan Chemical Innovation Institute
Original Assignee
Japan Chemical Innovation Institute
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Japan Chemical Innovation Institute filed Critical Japan Chemical Innovation Institute
Priority to JP27937098A priority Critical patent/JP3566105B2/ja
Publication of JP2000086747A publication Critical patent/JP2000086747A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3566105B2 publication Critical patent/JP3566105B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 硬化温度が低く、かつカチオン重合性モノマ
ーへの溶解性に優れた新規なスルホニウム塩、及び硬化
温度が低く、かつカチオン重合性モノマーへの溶解性に
優れたスルホニウム塩を含む熱硬化性樹脂組成物を提供
する。 【解決手段】 化4の一般式(1) 【化4】 (式中、R1、R2は置換又は非置換の同一又は異なる
脂肪族又は脂環族基で、環を形成してもよい。R3は硫
黄原子に対してa位に一価のヘテロ芳香族基を有する炭
化水素基、XはBF4、PF6、AsF6及びSbF6
から選ばれる陰イオン)で表わされる含ヘテロ芳香環ス
ルホニウム塩及びカチオン重合性物質と、上記含ヘテロ
芳香環スルホニウム塩を含む熱硬化性組成物。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、エポキシ樹脂等の
カチオン重合性モノマーの硬化触媒として最適な含ヘテ
ロ芳香環スルホニウム塩及び室温において安定で、比較
的低温で熱硬化が可能な組成物に関に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、下記化2の式(2)
【化2】 で表されるベンジルテトラメチレンスルホニウムヘキサ
フルオロアンチモネートは知られている(K.Mori
oら:J.Appl.Polym.Sci.,198
6,Vol.32,p5727−5732、及び特開平
2ー37924号公報)。この化合物を触媒として用い
た熱硬化性樹脂組成物は、一定温度に達すると急激に硬
化反応が進行するいわゆる熱潜在性を有している。エポ
キシ樹脂等のカチオン重合性物質の重合触媒は無機酸、
ルイス酸、有機酸、アルキル化剤等多数知られている。
一方、常温での貯蔵安定性に優れ、かつ加熱により短時
間で硬化するいわゆる熱潜在性触媒もいくつか知られて
いる。例えばアミン-PE5錯体(米国特許第3565861号)
等が挙げられる。また、上記の式(2)で表されるベン
ジルテトラメチレンスルホニウムヘキサフルオロアンチ
モネート化合物を1mol%用い、カチオン重合性物質
としてフェニルグリシジルエーテルを用いて無溶媒中1
時間反応させた場合、50%以上モノマーが反応する温
度は約140℃であった(F.Hamazuら、J.P
olym.Sci.,Part A;Polymer
Chemistry,1991,Vol.29,p 1
675−1680)。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の化合物
硬化温度が比較的高く、かつカチオン重合性モノマーへ
の溶解性に問題がある。本発明は硬化温度が低く、かつ
カチオン重合性モノマーへの溶解性に優れた新規なスル
ホニウム塩を提供するものである。また本発明は、硬化
温度が低く、かつカチオン重合性モノマーへの溶解性に
優れたスルホニウム塩を含む熱硬化性樹脂組成物を提供
するものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明の含ヘテロ芳香環
スルホニウム塩は、化3の一般式(1)
【化3】 (式中、R1、R2は置換又は非置換の同一又は異なる
脂肪族又は脂環族基で、環を形成してもよい。R3は硫
黄原子に対してa位に一価のヘテロ芳香族基を有する炭
化水素基、XはBF4、PF6、AsF6及びSbF6から
選ばれる陰イオン)で表わされる。本発明の熱硬化性組
成物は、カチオン重合性物質と上記の含ヘテロ芳香環ス
ルホニウム塩を含む熱硬化性組成物である。
【0005】
【発明の実施の形態】一般式(1)において、脂肪族、
脂環族の基は、炭素数1〜20の脂肪族、脂環族基で、
例えば脂肪族基ではメチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ブチル、ベンチル、ヘキシル、ヘプチル、オク
チル、t−ブチル基等の直鎖、分岐飽和炭化水素基、ビ
ニル、プロペニル、ブテニル、ヘキセニル、プロビニ
ル、ブチニル基等の不飽和炭化水素基、例えば脂肪族基
ではトリメチレン、テトラメチレン、ヘプタメチレン、
ヘキサメチレン等がある。
【0006】炭化水素基は、炭素数1〜20の脂肪族、
脂環族、及び芳香族基で、例えばメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、ベンチル、ヘキシル、エ
チルベンジル、プロピルベンジル、シクロヘキシルメチ
ル、ジシクロヘキシルメチル等がある。炭化水素基中に
アルコキシ基、ニトロ基、ハロゲン基、水酸基、カルボ
キシル基、エステル基、シアノ基、スルホン基等の置換
基を含むことができる。
【0007】ヘテロ芳香族基は、ヒロリル基、イミダゾ
リル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル
基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、ピリダジニ
ル基、ピリミジニル基、ピラゾニル基、ピリジル基等が
使用でき、ヒロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基
の窒素原子上の水素は、炭素数1〜10の直鎖または分
岐脂肪族基で置換されていてもよい。
【0008】これらの脂肪族、脂環族基、炭化水素基は
基中に不飽和結合、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ
基、ハロゲン基、水酸基、カルボキシル基、エステル
基、エーテル基、シアノ基、スルホン基、チオエーテル
基等の置換基を含むことができる。またヘテロ芳香族基
はフリル基、チエニル基、ピロリル基等であり、置換位
置は2、3位のどちらでもよい。ヘテロ芳香族上の水素
は、不飽和結合、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ
基、ハロゲン基、水酸基、カルボキシル基、エステル
基、エーテル基、シアノ基、スルホン基、チオエーテル
基等の置換基で1つ又は複数置換されていてもよい。
【0009】一般式(1)で示される化合物は、対応す
るハロゲン化メチルヘテロ芳香族とスルフィドを反応さ
せ、ハロゲン陰イオンを有するスルホニウム塩を合成
し、その後、対応するルイス酸塩と陰イオン交換をする
ことにより得られる。ハロゲン化メチルヘテロ芳香族の
ハロゲンとしては塩素、臭素、ヨウ素等が用いられる
が、臭素が最も好ましい。スルフィドとの反応温度は、
好ましくは0〜40℃、更に好ましくは0〜20℃であ
る。反応時間は、反応が十分に進行するまでの時間とす
る。通常は10分〜2時間である。陰イオン交換反応
は、通常水中で行うが、メタノール、エタノール、イソ
プロパノール等の極性溶媒中でも可能である。反応温度
は0〜20℃が好ましい。反応時間は、反応が十分に進
行するまでの時間とする。通常は1分〜30分である。
反応物は粗結晶で得られる。これをメタノール、エタノ
ール、イソプロパノール等から再結晶化すれば、さらに
純度の高い精製結晶を得ることができる。
【0010】本発明に用いられるカチオン重合性物質と
しては、エポキシ樹脂、エピスルフィド樹脂、環状エー
テル、ラクトン、ビシクロオルトエステル類、スピロオ
ルトカーボナート類、環状カーボナート類、ビニルエー
テル、フェノール樹脂等が挙げられる。エポキシ樹脂の
種類としては、フェニルグリシジルエーテル、ビスフェ
ノールAとエピクロロヒドリンとの反応によって得られ
るグリシジルエーテル、エポキシノボラック樹脂等の芳
香族エポキシ樹脂、シクロヘキセンオキシド等の脂環式
エポキシ樹脂、脂肪族多価アルコールとエピクロロヒド
リンとの反応によって得られるポリグリシジルエーテル
等の脂肪族エポキシ樹脂等が挙げられる。
【0011】本発明のカチオン重合性物質は単独でも使
用することができるが、用途に応じて適当に配合して用
いることも可能であり、またカチオン重合を損なわない
程度の溶剤、非反応性の樹脂、フィラー、顔料、難燃
剤、界面活性剤等を配合して用いることが可能である。
本発明の熱硬化性樹脂組成物はカチオン重合性物質の反
応部位に対して,前記一般式(1)で示したスルホニウ
ム塩を好ましくは0.05乃至20mol%、さらに好
ましくは0.1乃至5mol%含有する。本発明樹脂組
成物の用途としては、インキ、塗料、接着剤、絶縁材
料、積層板、成型材料、とりわけ高速液状成型材料、注
型材料、封止材、結合材料等が挙げられる。
【0012】フェニルグリシジルエーテルの重合におい
て、上記一般式(1)で示されるスルホニウム塩のう
ち、R1、R2がテトラメチレンであり、R3が3−チ
エニルメチル基であり、XがSbF6である化合物を1
mol%用いた場合、無溶媒中、1時間で50%以上反
応する温度は約100℃であり、R1、R2がテトラメ
チレンであり、R3が3−フリルメチル基であり、Xが
SbF6である化合物では約90℃、さらにR1、R2
がテトラメチレンであり、R3が2−チエニルメチル基
であり、XがSbF6である化合物では約70℃と、従
来知られているスルホニウム塩より反応温度が低くな
る。各種熱硬化性材料において硬化温度を低くすること
は、熱応力の減少に伴うひずみの低下やまわりの材料に
熱による影響が少ない等多くの利点がある。また、上記
一般式(1)で示されるスルホニウム塩は、上記式
(2)で示されるスルホニウム塩よりもカチオン重合性
物質に対する溶解性に優れ、特に加熱や激しい撹拌操作
を必要とせずに速やかに溶解する。
【0013】本発明の熱硬化性組成物としては、カチオ
ン重合性物質がエポキシ樹脂が好ましく、本発明の硬化
触媒(B)はエポキシ樹脂(A)のエポキシ基1反応単
位に対し、0.05乃至20%、好ましくは0.1乃至
5%含有する。このの範囲でBはAに可溶で、組成物は
20℃で168時間放置しても反応しない。さらに、1
00℃、1時間でフェニルグリシジルエーテルの転化率
50%以上(3−チエニル誘導体)、70℃、1時間で
フェニルグリシジルエーテルの転化率50%以上(2−
チエニル誘導体)、100℃、1時間でフェニルグリシ
ジルエーテルの転化率50%以上(3−フリル誘導体)
である。
【0014】
【実施例】実施例1 3−ブロモメチルチオフェン0.875gとテトラヒド
ロチオフェン0.44gを室温で1時間撹拌後、蒸留水
30mlを加え、ジエチルエーテルで洗浄する。水溶液
にカリウムヘキサフルオロアントモネート1.37gの
飽和水溶液を加え、得られた無色固体を濾別することに
より粗結晶1.0gを得た。この粗結晶をメタノール−
エタノール混合溶媒から再結晶化させ、精製結晶0.8
gを得た。得られた精製結晶の理化学的性状は以下のと
おり。 (1)融点 73℃ (2)赤外線吸収スペクトル(KBr錠剤) g:3140、2924、746、658 (3)核磁気共鳴スペクトル(Acetone−d6
) d値:2.41(m,4H)、3.70(m,4H)、
4.81(s,2H)、7.35(m,1H)、7.6
8(m,1H)、7.87(m,1H) (4)元素分析 理論値:C 25.67 %、H 3.11 %、S
15.23 %(C9132SbF6として) 実測値:C 25.76 %、H 3.07 %、S
15.40 % 以上の結果から、精製結晶は3−メチルチエニルテトラ
メチルスルホニウムヘキサフルオロアントモネートであ
ることが確認される。
【0015】実施例2 2−ブロモメチルチオフェン1.67gとテトラヒドロ
チオフェン0.84gを氷浴中で30分撹拌後、蒸留水
30mlを加え、ジエチルエーテルで洗浄する。水溶液
にカリウムヘキサフルオロアントモネート2.80gの
飽和水溶液を加え、得られた無色固体を濾別することに
より粗結晶2.0gを得た。この粗結晶をメタノール−
エタノール混合溶媒から再結晶化させ、精製結晶1.5
gを得た。得られた精製結晶の理化学的性状は以下のと
おり。 (1)融点 80−81℃ (2)赤外線吸収スペクトル(KBr錠剤) g:3094、3000、907、858、623 (3)核磁気共鳴スペクトル(Acetone−d6) d値:2.45(m,4H)、3.75(m,4H)、
5.07(s,2H)、7.17(m,1H)、7.4
9(m,1H)、7.70(m,1H) (4)元素分析 理論値:C 25.67 %、H 3.11 %、S
15.23 %(C9132SbF6として) 実測値:C 25.63 %、H 2.97 %、S
15.70 % 以上の結果から、2−メチルチエニルテトラメチルスル
ホニウムヘキサフルオロアントモネートであることが確
認される。
【0016】実施例3 3−ブロモメチルフラン1.59gとテトラヒドロチオ
フェン0.88gを氷浴中で3時間撹拌後、蒸留水30
mlを加え、ジエチルエーテルで洗浄する。水溶液にカ
リウムヘキサフルオロアントモネート2.85gの飽和
水溶液を加え、得られた無色固体を濾別することにより
粗結晶1.5gを得た。この粗結晶をメタノール−エタ
ノール混合溶媒から再結晶化させ、精製結晶1.0gを
得た。得られた精製結晶の理化学的性状は以下のとお
り。 (1)融点 81.5−82.5℃ (2)赤外線吸収スペクトル(KBr錠剤) g:3140、2965、876、746、666 (3)核磁気共鳴スペクトル(Acetone−d6) d値:2.50(m,4H)、3.75(m,4H)、
4.68(s,2H)、6.75(m,1H)、7.7
0(m,1H)、7.96(m,1H) (4)元素分析 理論値:C 26.69 %、H 3.24 %、S
7.92 %(C913OSSbF6として) 実測値:C 25.56 %、H 3.09 %、S
7.91 % 以上の結果から、精製結晶は3−メチルフリルテトラメ
チルスルホニウムヘキサフルオロアントモネートである
ことが確認される。
【0017】実施例4 3−メチルチエニルテトラメチルスルホニウムヘキサフ
ルオロアントモネート1mol%とフェニルグリシジル
エーテルを窒素置換後1時間所定温度に加熱する。トリ
エチルアミンを少量加えて反応を停止した後、1H−N
MRより反応の転化率を求めた。分取HPLCでポリマ
ー成分のみを分取しGPCで分子量及び分子量分布を求
めた。反応の転化率、ポリマーの分子量及び分子量分布
は表1に示す。
【0018】実施例5 2−メチルチエニルテトラメチルスルホニウムヘキサフ
ルオロアントモネート1mol%とフェニルグリシジル
エーテルを窒素置換後1時間所定温度に加熱する。トリ
エチルアミンを少量加えて反応を停止した後、1H−N
MRより反応の転化率を求めた。分取HPLCでポリマ
ー成分のみを分取しGPCで分子量及び分子量分布を求
めた。反応の転化率、ポリマーの分子量及び分子量分布
は表1に示す。
【0019】実施例6 3−メチルフリルテトラメチルスルホニウムヘキサフル
オロアントモネート1mol%とフェニルグリシジルエ
ーテルを窒素置換後1時間所定温度に加熱する。トリエ
チルアミンを少量加えて反応を停止した後、1H−NM
Rより反応の転化率を求めた。分取HPLCでポリマー
成分のみを分取しGPCで分子量及び分子量分布を求め
た。反応の転化率、ポリマーの分子量及び分子量分布は
表1に示す。
【0020】 表1 各種スルホニウム塩を用いたフェニルグリシジルエーテルの重合 スルホニウム塩 温度℃ 転化率% 数平均分子量 分子量分布 1ー3S 80 3.0 1ー3S 90 32.5 5050 1.74 1ー3S 100 58.6 4600 1.81 1ー3S 110 63.4 4900 1.94 1ー3S 120 66.3 4700 1.94 1ー2S 50 0.0 1ー2S 60 35.8 7900 1.38 1ー2S 70 52.4 8100 1.41 1ー2S 80 64.9 8200 1.55 1ー2S 90 69.3 7800 1.59 1ー30 80 0.0 1ー30 90 9.1 6400 1.34 1ー30 100 73.3 8400 1.66 1ー30 110 81.6 8100 1.71 1ー30 120 92.5 4900 3.59 1ー3S:3−メチルチエニルテトラメチルスルホニウムヘキサフルオロアン トモネート 1ー2S:2−メチルチエニルテトラメチルスルホニウムヘキサフルオロアン トモネート 1ー30:3−メチルフリルテトラメチルスルホニウムヘキサフルオロアント モネート
【0021】
【発明の効果】請求項1ー4の含ヘテロ芳香族は、新規
な化合物である。これらは反応性、溶解性に優れ、エポ
キシ樹脂等のカチオン重合性モノマーの硬化触媒として
有用である。本発明の熱硬化性組成物は、比較的低温で
反応し、かつ触媒の溶解性に優れ、塗料や成型材料とし
て有用である。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 化1の一般式(1) 【化1】 (式中、R1、R2は置換又は非置換の同一又は異なる
    脂肪族又は脂環族基で、環を形成してもよい。R3は硫
    黄原子に対してa位に一価のヘテロ芳香族基を有する炭
    化水素基、XはBF4、PF6、AsF6及びSbF6から
    選ばれる陰イオン)で表わされる含ヘテロ芳香環スルホ
    ニウム塩。
  2. 【請求項2】 R1、R2がテトラメチレンであり、R
    3が3−チエニルメチル基であり、XがSbF6である
    請求項1記載の含ヘテロ芳香環スルホニウム塩。
  3. 【請求項3】 R1、R2がテトラメチレンであり、R
    3が2−チエニルメチル基であり、XがSbF6である
    請求項1記載の含ヘテロ芳香環スルホニウム塩。
  4. 【請求項4】 R1、R2がテトラメチレンであり、R
    3が3−フリルメチル基であり、XがSbF6である請
    求項1記載の含ヘテロ芳香環スルホニウム塩。
  5. 【請求項5】 カチオン重合性物質と、請求項1〜4各
    項記載の含ヘテロ芳香環スルホニウム塩を含む熱硬化性
    組成物。
JP27937098A 1998-09-14 1998-09-14 含ヘテロ芳香環スルホニウム塩及び熱硬化性組成物 Expired - Fee Related JP3566105B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27937098A JP3566105B2 (ja) 1998-09-14 1998-09-14 含ヘテロ芳香環スルホニウム塩及び熱硬化性組成物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27937098A JP3566105B2 (ja) 1998-09-14 1998-09-14 含ヘテロ芳香環スルホニウム塩及び熱硬化性組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000086747A true JP2000086747A (ja) 2000-03-28
JP3566105B2 JP3566105B2 (ja) 2004-09-15

Family

ID=17610215

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP27937098A Expired - Fee Related JP3566105B2 (ja) 1998-09-14 1998-09-14 含ヘテロ芳香環スルホニウム塩及び熱硬化性組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3566105B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010512333A (ja) * 2006-12-07 2010-04-22 ヘルシン ヘルスケア ソシエテ アノニム 塩酸パロノセトロンの結晶及び非晶質形

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010512333A (ja) * 2006-12-07 2010-04-22 ヘルシン ヘルスケア ソシエテ アノニム 塩酸パロノセトロンの結晶及び非晶質形

Also Published As

Publication number Publication date
JP3566105B2 (ja) 2004-09-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6118761A (ja) 二環式イミド及びその製法
JPH06184093A (ja) カチオン重合性材料の熱硬化開始剤として特に適している選択された新規のスルホニウム化合物
US5872196A (en) Liquid epoxy resin composition
JPS5829286B2 (ja) ビス ( ヒドロキシフエニル ) アルカンルイコンゴウブツ ノ セイゾウホウホウ
JP3716416B2 (ja) 新規スルホニウム塩化合物および重合開始剤
JPH0245630B2 (ja)
CN105829388A (zh) 环氧树脂、其制造方法、环氧树脂组合物和其固化物
JPH0237924B2 (ja) Netsukokaseisoseibutsu
JPS62178564A (ja) メルカプタン含有ポリフエノ−ル、該ポリフエノ−ルを含有する組成物及び該組成物の使用方法
JP3566105B2 (ja) 含ヘテロ芳香環スルホニウム塩及び熱硬化性組成物
JP2007091702A (ja) スルホニウム化合物および重合組成物
JP2007091702A5 (ja)
JP4517487B2 (ja) オキセタン環を有するシアヌル酸誘導体
JPS6312092B2 (ja)
JP2020532567A (ja) スルホニウム塩光開始剤、その製造方法、それを含む光硬化性組成物及びその適用
JP2000336133A (ja) 新規なオキセタンスルフォン酸エステルおよびそれを用いたオキセタン化ノボラック樹脂ならびにその製造法
TW201315721A (zh) 三環氧化物及其製造方法
KR20120097458A (ko) 신규 에피술피드 화합물, 상기 에피술피드 화합물을 함유하는 경화성 수지 조성물 및 그 경화물
JP3992181B2 (ja) エポキシ樹脂の製造方法
JP3983935B2 (ja) エピサルファイド樹脂の製造方法
JPH11116663A (ja) 熱硬化性組成物およびそれから得られる硬化物ならびにその製造方法
KR20020055372A (ko) 에폭시 수지 결정화물, 이 결정화물의 제조 방법 및 이결정화물을 포함하는 경화성 조성물
JPS6141910B2 (ja)
JP4565489B2 (ja) エポキシ樹脂用の硬化剤、エポキシ樹脂組成物、及びその硬化物
JPS5936632B2 (ja) 新規エポキシ化合物の製造法

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20040219

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20040302

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040506

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20040601

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20040609

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080618

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090618

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100618

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100618

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110618

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110618

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120618

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120618

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130618

Year of fee payment: 9

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130618

Year of fee payment: 9

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees