JP2007091702A5 - - Google Patents
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Description
この発明は、新規なスルホニウム化合物に関する。さらに詳しくは、光および熱硬化組成物の硬化開始剤として有用であり、特にエポキシ樹脂の重合硬化開始剤としての効果を有する新規なスルホニウム化合物に関する。
特許文献1によれば、この出願とアニオン部が同一あるいは類似しているエポキシ樹脂等の重合開始剤としてp−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアルセネート類を光硬化剤とすることが開示されている。これらを始めとして、現在、提供されている重合開始剤のうち、オニウム ヘキサフルオロアンチモナート型の多くは臭気はないものの、低活性であることが知られている。このため、通常のオニウム ヘキサフルオロアンチモナート型化合物は、一液性潜在性重合開始剤として使用するための特性としては不十分であると考えられている。
また、非特許文献1によれば、この出願とカチオン部が同一あるいは類似している2−(ジメチルスルホニオ)安息香酸のハライドまたはテトラフルオロほう酸塩を合成した記載がある。しかしながら、本出願の構成である(ジアルキルスルホニオ)安息香酸 または(ジアルキルスルホニオ)ベンズアルデヒドの特定アニオンとの塩は開示されていない。
従って、本出願は、光または熱に対して高活性の重合開始剤として使用される新規化合物を提供するものである。
本発明は、上記の課題を解決すべく検討された、化2で表わされる新規なスルホニウム化合物に関するものである。この化合物は、(ジアルキルスルホニオ)安息香酸 または(ジアルキルスルホニオ)ベンズアルデヒドの特定アニオンとの塩を要件としており、ここに新規性が存在するものである。なお、請求項に記載のとおり、スルホニウム基に結合したジアルキルと称する2つのアルキル基は異なっていてもよい。本明細書中で「ジアルキルスルホニオ」と記すが、同様である。
また、本発明の目的は、放射線および/または熱でエポキシ樹脂などのカチオン重合性物質を重合することができ、かつまた、貯蔵安定性に優れ、封止剤、複合材用マトリックス樹脂などに利用されるカチオン重合性組成物を提供し、その重合の方法、重合用の開始剤を提案することにある。
(ただし、Qは-CHO または-COOHを、R1は水素,C1〜C4のアルキル基,ハロゲン
を、R 2 ,R 3 は独立してC 1 〜C 4 のアルキル基のいずれかを示す。Xは、SbF6,PF6,CF3SO3,(CF3SO2)2N
を示す。)
を、R 2 ,R 3 は独立してC 1 〜C 4 のアルキル基のいずれかを示す。Xは、SbF6,PF6,CF3SO3,(CF3SO2)2N
を示す。)
本発明の化2で表されるスルホニウム化合物を例示すれば、2−または4−(ジアルキルスルホニオ)ベンズアルデヒド ヘキサフルオロアンチモン酸塩、2−または4−(ジアルキルスルホニオ)ベンズアルデヒド ヘキサフルオロリン酸塩、2−または4−(ジアルキルスルホニオ)安息香酸 ヘキサフルオロアンチモン酸塩、2−または4−(ジアルキルスルホニオ)安息香酸 ヘキサフルオロリン酸塩、2−または4−(ジアルキルスルホニオ)安息香酸 トリフルオロメタンスルホン酸塩、2−または4−(ジアルキルスルホニオ)安息香酸 ビス(トリフルオロメタンスルホン)イミド等である。
本発明の新規化合物である(ジアルキルスルホニオ)安息香酸 または(ジアルキルスルホニオ)ベンズアルデヒドの塩は、臭気がなく、安定であり、熱潜在性で所定の温度で短時間に硬化する性質を持ち、硬化剤としての物性も優れるなど、カチオン重合性物質の重合開始剤として有効であり、これらを含有する重合組成物は光、電子線などの放射線の照射および/または加熱処理による重合方法で重合、硬化することができる。すなわち、熱または放射線で励起されたこれらのスルホニウム塩は、活性なカチオンを放出し、前述のカチオン重合性物質の重合を進行させると考えられる。
本発明に使用されるカチオン重合性物質とは、酸重合性または酸硬化性物質、とりわけエポキシ樹脂が好ましく用いられる。適当な物質の例は、エポキシド単量体類、エピサルファイド単量体類、ポリエポキシド類(あるいはエポキシ樹脂)、ポリエピサルファイド類(あるいはエピサルファイド樹脂)およびそれらの重合体であり、単独でも2種類以上の混合でもかまわない。
本発明における硬化開始剤とモノマーとの重合性組成物を調製するにあたっては、硬化開始剤を予め反応性のない有機溶媒と混合してからモノマーと混合するのが好ましい。ここで使用する有機溶媒としては、エステル類、ラクトン類が好ましい。
このようにして調製された重合組成物は、ワニス、インキ、塗料、接着剤、積層板、プリプレグ、成型材料、封止材料等に使用できる。本発明の重合性組成物は、長期間保存可能で光や電子線などの放射線の照射や加熱、あるいは放射線処理と加熱の併用で速やかに重合を開始する機能を備え、高温硬化性に優れ、吸湿性がなく、耐水性、耐薬品性、電気性に優れた硬化物を与える。
この重合性組成物の特徴としては、簡単な加熱等でカチオン重合反応を可能とし、実用性のある重合度の高い重合体を得ることが可能になった点にある。よって所期の目的を達成する。
本化合物は、相当するアルキルフェニルスルフィド化合物を出発原料として、ジメチル硫酸を反応させて中間体のフェニルスルホニウム メチル硫酸塩として、これにヘキサフルオロアンチモン酸など所定のアニオンのアルカリ金属塩を有機溶媒単独あるいは水−有機溶媒の2層系中で反応させて合成する。この場合の有機溶媒としては、単独で使用するものとしては、エタノール,イソプロピルアルコール等のアルコール類が、2層系で使用するものとしては酢酸エチルが好ましい。
なお、本化合物は、中間体のフェニルスルホニウム メチル硫酸塩にハロゲン化水素を作用させてフェニルスルホニウム ハライドを得て、これにヘキサフルオロアンチモン酸など所定のアニオンのアルカリ金属塩を有機溶媒単独あるいは水−有機溶媒の2層系中で反応させて合成することもできる。この場合のイオン交換反応の溶媒としては、上記のものが使用される。イオン交換の反応温度は20℃以下が好ましく、生成物の分解を避ける意味から、10℃以下が特に好ましい。生成した本発明の新規化合物は有機層から単離される。
本発明の新規化合物は、光および/または熱硬化組成物の硬化開始剤として有用であり、特にエポキシ樹脂の重合硬化開始剤、特に潜在性重合硬化開始剤としての効果を有している。従って、必要によってはあらかじめモノマーと開始剤を適当な溶媒を用いて一液化し、保存し、あるいは商品化することも可能である。
本発明の化合物は、重合硬化開始剤として、重合反応が一時に開始されるという特徴を有している。本発明の化合物は、従来の重合硬化開始剤に比べて短時間で硬化を完了させるので、シャープな硬化反応を提供することができ、安定な一液性潜在性重合開始剤としての使用は言うに及ばず、応用の用途は広範囲に及ぶと考えられる。
重合硬化時に使用する本発明のスルホニウム塩は、樹脂100重量部に対して0.01〜20重量部、好ましくは0.1〜5重量部、配合する。0.01重量部より少ないと充分な重合物が得られない。20重量部を越える添加量では、重合後の物性において好ましいものが得られず、コストの面においても好ましくない。また、重合硬化は、放射線処理または加熱処理により行われ、必要によっては加熱と放射線照射を併用することも可能である。また、重合時には、必要により溶媒を用いることもできる。また、この化合物に公知の安定剤、更に場合によっては、増量剤、難燃剤、静電防止剤、界面活性剤、酸無水物に代表される助剤等を混合して使用することを妨げるものでもない。以下に本発明の実施例を示すが、本発明の範囲はこれに限定されるものではない。
中間体 4−(ジメチルスルホニオ)ベンズアルデヒド メチル硫酸塩の合成
4−(メチルチオ)ベンズアルデヒド 7.61g(50ミリモル)とジメチル硫酸6.81g(54ミリモル)を混合し、105℃で2時間反応させる。反応後、常温まで冷却し、ヘキサン80mLを加え、撹拌すると固化する。得られた固体をヘキサンで洗浄し、真空乾燥させる。乳白色の4−(ジメチルスルホニオ)ベンズアルデヒド メチル硫酸塩13.10g(収率94.1%)を得た。
4−(メチルチオ)ベンズアルデヒド 7.61g(50ミリモル)とジメチル硫酸6.81g(54ミリモル)を混合し、105℃で2時間反応させる。反応後、常温まで冷却し、ヘキサン80mLを加え、撹拌すると固化する。得られた固体をヘキサンで洗浄し、真空乾燥させる。乳白色の4−(ジメチルスルホニオ)ベンズアルデヒド メチル硫酸塩13.10g(収率94.1%)を得た。
融点 130〜134℃
IR (KBr) cm-1 1213,1255,1222,1700,1027,1011,1065,2982,1397,577
NMR
3.30ppm(s,6H,スルホニウムメチル)
3.52ppm(s,3H,メチル硫酸)
8.16ppm(s,4H,ベンゼン核)
10.12ppm(s,1H,アルデヒド)
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NMR
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3.52ppm(s,3H,メチル硫酸)
8.16ppm(s,4H,ベンゼン核)
10.12ppm(s,1H,アルデヒド)
中間体 4−(ジメチルスルホニオ)安息香酸 メチル硫酸塩の合成
4−(メチルチオ)安息香酸8.41g(50ミリモル)とジメチル硫酸6.81g(54ミリモル)を混合し、105℃で2時間反応させる。反応後、常温まで冷却し、アセトニトリル80mLを加え、撹拌すると固化する。得られた固体をアセトニトリルで洗浄し、真空乾燥させる。乳白色の4−(ジメチルスルホニオ)安息香酸 メチル硫酸塩12.64g(収率85.9%)を得た。
4−(メチルチオ)安息香酸8.41g(50ミリモル)とジメチル硫酸6.81g(54ミリモル)を混合し、105℃で2時間反応させる。反応後、常温まで冷却し、アセトニトリル80mLを加え、撹拌すると固化する。得られた固体をアセトニトリルで洗浄し、真空乾燥させる。乳白色の4−(ジメチルスルホニオ)安息香酸 メチル硫酸塩12.64g(収率85.9%)を得た。
融点 120〜125℃
IR (KBr) cm-1 998,757,770,1222,1713,1162,695
NMR
3.40ppm(s,6H,スルホニウムメチル)
3.96ppm(s,3H,メチル硫酸)
8.30ppm(dd,4H,ベンゼン核)
IR (KBr) cm-1 998,757,770,1222,1713,1162,695
NMR
3.40ppm(s,6H,スルホニウムメチル)
3.96ppm(s,3H,メチル硫酸)
8.30ppm(dd,4H,ベンゼン核)
中間体 2−(ジメチルスルホニオ)安息香酸 メチル硫酸塩の合成
2−(メチルチオ)安息香酸 8.41g(50ミリモル)とジメチル硫酸9.46g(75ミリモル)を混合し、150℃で2時間反応させる。実施例2に準じて処理することで、白色の2−(ジメチルスルホニオ)安息香酸 メチル硫酸塩12.79g(収率86.9%)を得た。
2−(メチルチオ)安息香酸 8.41g(50ミリモル)とジメチル硫酸9.46g(75ミリモル)を混合し、150℃で2時間反応させる。実施例2に準じて処理することで、白色の2−(ジメチルスルホニオ)安息香酸 メチル硫酸塩12.79g(収率86.9%)を得た。
融点 166〜169℃
IR (KBr) cm-1 1217,1256,1282,1703,1030,760,773,1064,2851,3410
NMR
3.31ppm(s,6H,スルホニウムメチル)
3.70ppm(s,3H,メチル硫酸)
7.70〜8.45ppm(m,4H,ベンゼン核)
IR (KBr) cm-1 1217,1256,1282,1703,1030,760,773,1064,2851,3410
NMR
3.31ppm(s,6H,スルホニウムメチル)
3.70ppm(s,3H,メチル硫酸)
7.70〜8.45ppm(m,4H,ベンゼン核)
4−(ジメチルスルホニオ)ベンズアルデヒド ヘキサフルオロアンチモナートの合成
実施例1で合成した4−(ジメチルスルホニオ)ベンズアルデヒド メチル硫酸塩11.13g(40ミリモル)とヘキサフルオロアンチモン酸ナトリウム10.35g(40ミリモル)を酢酸エチル30mLと水15mLの2層溶媒に投入し、1時間反応させる。有機層を分取して乾燥させ、溶媒を蒸発させる。蒸発残液にヘキサン100mLを加え、撹拌すると固化する。得られた固体をヘキサンで洗浄し、真空乾燥させる。白色の4−(ジメチルスルホニオ)ベンズアルデヒド ヘキサフルオロアンチモナート 12.24g(収率75.9%)を得た。
実施例1で合成した4−(ジメチルスルホニオ)ベンズアルデヒド メチル硫酸塩11.13g(40ミリモル)とヘキサフルオロアンチモン酸ナトリウム10.35g(40ミリモル)を酢酸エチル30mLと水15mLの2層溶媒に投入し、1時間反応させる。有機層を分取して乾燥させ、溶媒を蒸発させる。蒸発残液にヘキサン100mLを加え、撹拌すると固化する。得られた固体をヘキサンで洗浄し、真空乾燥させる。白色の4−(ジメチルスルホニオ)ベンズアルデヒド ヘキサフルオロアンチモナート 12.24g(収率75.9%)を得た。
融点 107.5〜110℃
IR (KBr) cm-1 1709,662,3436,825,1002,1204,1291,1416,1389,1596
NMR
3.20ppm(s,6H,スルホニウムメチル)
8.11ppm(s,4H,ベンゼン核)
10.20ppm(s,1H,アルデヒド)
IR (KBr) cm-1 1709,662,3436,825,1002,1204,1291,1416,1389,1596
NMR
3.20ppm(s,6H,スルホニウムメチル)
8.11ppm(s,4H,ベンゼン核)
10.20ppm(s,1H,アルデヒド)
4−(ジメチルスルホニオ)安息香酸 ヘキサフルオロアンチモナートの合成
実施例2で合成した4−(ジメチルスルホニオ)安息香酸 メチル硫酸塩11.77g(40ミリモル)とヘキサフルオロアンチモン酸ナトリウム10.35g(40ミリモル)を実施例4に準じて反応させた。白色の4−(ジメチルスルホニオ)安息香酸 ヘキサフルオロアンチモナート 13.44g(収率80.2%)を得た。
実施例2で合成した4−(ジメチルスルホニオ)安息香酸 メチル硫酸塩11.77g(40ミリモル)とヘキサフルオロアンチモン酸ナトリウム10.35g(40ミリモル)を実施例4に準じて反応させた。白色の4−(ジメチルスルホニオ)安息香酸 ヘキサフルオロアンチモナート 13.44g(収率80.2%)を得た。
融点 145〜150℃
IR (KBr) cm-1 1721,1222,667,2977,2921,1400,806,1376,3423
NMR
3.36ppm(s,6H,スルホニウムメチル)
7.96〜8.40ppm(dd,4H,ベンゼン核)
IR (KBr) cm-1 1721,1222,667,2977,2921,1400,806,1376,3423
NMR
3.36ppm(s,6H,スルホニウムメチル)
7.96〜8.40ppm(dd,4H,ベンゼン核)
4−(ジメチルスルホニオ)ベンズアルデヒド ヘキサフルオロホスファートの合成
実施例1で合成した4−(ジメチルスルホニオ)ベンズアルデヒド メチル硫酸塩13.92g(50ミリモル)とヘキサフルオロリン酸ナトリウム9.48g(51.5ミリモル)を実施例4に準じて反応させた。得られた固体をヘキサンで洗浄し、真空乾燥させる。白色の4−(ジメチルスルホニオ)ベンズアルデヒド ヘキサフルオロホスファート 11.89g(収率76.2%)を得た。
実施例1で合成した4−(ジメチルスルホニオ)ベンズアルデヒド メチル硫酸塩13.92g(50ミリモル)とヘキサフルオロリン酸ナトリウム9.48g(51.5ミリモル)を実施例4に準じて反応させた。得られた固体をヘキサンで洗浄し、真空乾燥させる。白色の4−(ジメチルスルホニオ)ベンズアルデヒド ヘキサフルオロホスファート 11.89g(収率76.2%)を得た。
融点 114〜118℃
IR (KBr) cm-1 1709,820,833,559,1006,1417,1205,3044,3403
NMR
3.20ppm(s,6H,スルホニウムメチル)
8.10ppm(s,4H,ベンゼン核)
10.08ppm(s,1H,アルデヒド)
IR (KBr) cm-1 1709,820,833,559,1006,1417,1205,3044,3403
NMR
3.20ppm(s,6H,スルホニウムメチル)
8.10ppm(s,4H,ベンゼン核)
10.08ppm(s,1H,アルデヒド)
2−(ジメチルスルホニオ)安息香酸 ヘキサフルオロアンチモナートの合成
実施例3で合成した2−(ジメチルスルホニオ)安息香酸 メチル硫酸塩11.77g(40ミリモル)とヘキサフルオロアンチモン酸ナトリウム10.35g(40ミリモル)を、実施例4に準じて反応させた。白色の2−(ジメチルスルホニオ)安息香酸 ヘキサフルオロアンチモナート 12.64g(収率75.4%)を得た。
実施例3で合成した2−(ジメチルスルホニオ)安息香酸 メチル硫酸塩11.77g(40ミリモル)とヘキサフルオロアンチモン酸ナトリウム10.35g(40ミリモル)を、実施例4に準じて反応させた。白色の2−(ジメチルスルホニオ)安息香酸 ヘキサフルオロアンチモナート 12.64g(収率75.4%)を得た。
融点 208〜211℃
IR (KBr) cm-1 1714,667,637,759,1224,3342,1117,1435,1385
NMR
3.28ppm(s,6H,スルホニウムメチル)
7.55〜8.60ppm(m,4H,ベンゼン核)
IR (KBr) cm-1 1714,667,637,759,1224,3342,1117,1435,1385
NMR
3.28ppm(s,6H,スルホニウムメチル)
7.55〜8.60ppm(m,4H,ベンゼン核)
4−(ジメチルスルホニオ)安息香酸 トリフルオロメタンスルホナートの合成
実施例2で合成した4−(ジメチルスルホニオ)安息香酸 メチル硫酸塩5.89g(20ミリモル)とトリフルオロメタンスルホン酸ナトリウム3.61g(21ミリモル)をイソプロピルアルコール100mL中で1時間反応させ、反応後、溶媒を蒸発させる。蒸発残液にヘキサン70mLを加え、撹拌すると固化する。得られた固体をヘキサンで洗浄し、真空乾燥させる。白色の4−(ジメチルスルホニオ)安息香酸 トリフルオロメタンスルホナート 6.18g(収率93.0%)を得た。
実施例2で合成した4−(ジメチルスルホニオ)安息香酸 メチル硫酸塩5.89g(20ミリモル)とトリフルオロメタンスルホン酸ナトリウム3.61g(21ミリモル)をイソプロピルアルコール100mL中で1時間反応させ、反応後、溶媒を蒸発させる。蒸発残液にヘキサン70mLを加え、撹拌すると固化する。得られた固体をヘキサンで洗浄し、真空乾燥させる。白色の4−(ジメチルスルホニオ)安息香酸 トリフルオロメタンスルホナート 6.18g(収率93.0%)を得た。
融点 127〜132℃
IR (KBr) cm-1 1718,1027,1222,1242,1290,637,1152,3042,1001,1182,2951,1412
NMR
3.33ppm(s,6H,スルホニウムメチル)
7.95〜8.38ppm(dd,4H,ベンゼン核)
IR (KBr) cm-1 1718,1027,1222,1242,1290,637,1152,3042,1001,1182,2951,1412
NMR
3.33ppm(s,6H,スルホニウムメチル)
7.95〜8.38ppm(dd,4H,ベンゼン核)
4−(ジメチルスルホニオ)安息香酸 ビス(トリフルオロメタンスルホン)イミドの合成
実施例2で合成した4−(ジメチルスルホニオ)安息香酸 メチル硫酸塩5.89g(20ミリモル)とリチウム ビス(トリフルオロメタンスルホン)イミド6.03g(21ミリモル)を実施例4に準じて反応させた。白色の4−(ジメチルスルホニオ)安息香酸 ビス(トリフルオロメタンスルホン)イミド 8.03g(収率86.6%)を得た。
実施例2で合成した4−(ジメチルスルホニオ)安息香酸 メチル硫酸塩5.89g(20ミリモル)とリチウム ビス(トリフルオロメタンスルホン)イミド6.03g(21ミリモル)を実施例4に準じて反応させた。白色の4−(ジメチルスルホニオ)安息香酸 ビス(トリフルオロメタンスルホン)イミド 8.03g(収率86.6%)を得た。
融点 103〜109℃
IR (KBr) cm-1 1713,1189,1340,1131,1208,1060,600,1232,1427,3033,1003
NMR
3.31ppm(s,6H,スルホニウムメチル)
7.94〜8.41ppm(dd,4H,ベンゼン核)
IR (KBr) cm-1 1713,1189,1340,1131,1208,1060,600,1232,1427,3033,1003
NMR
3.31ppm(s,6H,スルホニウムメチル)
7.94〜8.41ppm(dd,4H,ベンゼン核)
4−(ジメチルスルホニオ)安息香酸 ビス(トリフルオロメタンスルホン)イミドの合成(2)
実施例2で合成した4−(ジメチルスルホニオ)安息香酸 メチル硫酸塩29.44g(0.1モル)をエタノール500mLに溶解させ、35%塩酸10.44g(0.1モル)を滴下する。撹拌後、10℃に冷却すると、4−(ジメチルスルホニオ)安息香酸 クロライド 17.66g(0.081モル)が析出する。このクロライド4.37g(20ミリモル)とリチウム ビス(トリフルオロメタンスルホン)イミド6.03g(21ミリモル)を実施例4に準じて反応させた。白色の4−(ジメチルスルホニオ)安息香酸 ビス(トリフルオロメタンスルホン)イミド8.67g(クロライドからの収率93.6%)を得た。融点、IRは実施例9で製造したものに一致した。
実施例2で合成した4−(ジメチルスルホニオ)安息香酸 メチル硫酸塩29.44g(0.1モル)をエタノール500mLに溶解させ、35%塩酸10.44g(0.1モル)を滴下する。撹拌後、10℃に冷却すると、4−(ジメチルスルホニオ)安息香酸 クロライド 17.66g(0.081モル)が析出する。このクロライド4.37g(20ミリモル)とリチウム ビス(トリフルオロメタンスルホン)イミド6.03g(21ミリモル)を実施例4に準じて反応させた。白色の4−(ジメチルスルホニオ)安息香酸 ビス(トリフルオロメタンスルホン)イミド8.67g(クロライドからの収率93.6%)を得た。融点、IRは実施例9で製造したものに一致した。
比較例
比較例として、従来技術の特許文献1として引用した、公開特許公報昭和54年第53181号に記載の化合物中、p−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモナート(比較例1)とp−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロホスファート(比較例2)を合成して重合試験を行った。
比較例として、従来技術の特許文献1として引用した、公開特許公報昭和54年第53181号に記載の化合物中、p−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモナート(比較例1)とp−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロホスファート(比較例2)を合成して重合試験を行った。
重合試験例1
各実施例の方法で製造した化合物1g、溶剤としてγ−ブチロラクトン1gを混合した。この混合物0.2gを、エピコート828(ジャパンエポキシレジン株式会社製 エポキシ樹脂の商品名)10gと混合して、JISK7071(1988)の手法に準じて所定の温度におけるゲル化時間を測定した。結果を下記にまとめる。
各実施例の方法で製造した化合物1g、溶剤としてγ−ブチロラクトン1gを混合した。この混合物0.2gを、エピコート828(ジャパンエポキシレジン株式会社製 エポキシ樹脂の商品名)10gと混合して、JISK7071(1988)の手法に準じて所定の温度におけるゲル化時間を測定した。結果を下記にまとめる。
化合物 温度 ゲル化時間
実施例4 160℃ 1分54秒
実施例4 190℃ 0分35秒
実施例5 160℃ 4分06秒
実施例7 160℃ 2分56秒
比較例1 190℃ 7分05秒
実施例4 160℃ 1分54秒
実施例4 190℃ 0分35秒
実施例5 160℃ 4分06秒
実施例7 160℃ 2分56秒
比較例1 190℃ 7分05秒
重合試験例2
各実施例の方法で製造した化合物1g、溶剤としてγ−ブチロラクトン2gを混合した。この混合物0.3gを、セロキサイド2021(ダイセル化学工業株式会社製 エポキシ樹脂の商品名)10gと混合して、上記と同様にゲル化時間を測定した。結果を下記にまとめる。
実施例6 190℃ 3分36秒
実施例8 190℃ 1分33秒
実施例9 190℃ 1分36秒
比較例2 190℃ 24分
各実施例の方法で製造した化合物1g、溶剤としてγ−ブチロラクトン2gを混合した。この混合物0.3gを、セロキサイド2021(ダイセル化学工業株式会社製 エポキシ樹脂の商品名)10gと混合して、上記と同様にゲル化時間を測定した。結果を下記にまとめる。
実施例6 190℃ 3分36秒
実施例8 190℃ 1分33秒
実施例9 190℃ 1分36秒
比較例2 190℃ 24分
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