JP6427116B2 - エポキシ樹脂混合物、エポキシ樹脂組成物、その硬化物、および半導体装置 - Google Patents

エポキシ樹脂混合物、エポキシ樹脂組成物、その硬化物、および半導体装置 Download PDF

Info

Publication number
JP6427116B2
JP6427116B2 JP2015561027A JP2015561027A JP6427116B2 JP 6427116 B2 JP6427116 B2 JP 6427116B2 JP 2015561027 A JP2015561027 A JP 2015561027A JP 2015561027 A JP2015561027 A JP 2015561027A JP 6427116 B2 JP6427116 B2 JP 6427116B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
epoxy resin
parts
resin mixture
epoxy
resin composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2015561027A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2015119196A1 (ja
Inventor
政隆 中西
政隆 中西
一貴 松浦
一貴 松浦
篤彦 長谷川
篤彦 長谷川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Kayaku Co Ltd
Original Assignee
Nippon Kayaku Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Kayaku Co Ltd filed Critical Nippon Kayaku Co Ltd
Publication of JPWO2015119196A1 publication Critical patent/JPWO2015119196A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6427116B2 publication Critical patent/JP6427116B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/02Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule
    • C08G59/04Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule of polyhydroxy compounds with epihalohydrins or precursors thereof
    • C08G59/06Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule of polyhydroxy compounds with epihalohydrins or precursors thereof of polyhydric phenols
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/02Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule
    • C08G59/04Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule of polyhydroxy compounds with epihalohydrins or precursors thereof
    • C08G59/06Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule of polyhydroxy compounds with epihalohydrins or precursors thereof of polyhydric phenols
    • C08G59/08Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule of polyhydroxy compounds with epihalohydrins or precursors thereof of polyhydric phenols from phenol-aldehyde condensates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/20Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the epoxy compounds used
    • C08G59/22Di-epoxy compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L63/00Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
    • C08L63/04Epoxynovolacs
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/29Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the material, e.g. carbon
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/29Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the material, e.g. carbon
    • H01L23/293Organic, e.g. plastic
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16225Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32225Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73201Location after the connecting process on the same surface
    • H01L2224/73203Bump and layer connectors
    • H01L2224/73204Bump and layer connectors the bump connector being embedded into the layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/91Methods for connecting semiconductor or solid state bodies including different methods provided for in two or more of groups H01L2224/80 - H01L2224/90
    • H01L2224/92Specific sequence of method steps
    • H01L2224/921Connecting a surface with connectors of different types
    • H01L2224/9212Sequential connecting processes
    • H01L2224/92122Sequential connecting processes the first connecting process involving a bump connector
    • H01L2224/92125Sequential connecting processes the first connecting process involving a bump connector the second connecting process involving a layer connector

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Description

本発明は耐熱性、また耐熱分解特性に優れた硬化物を与えるエポキシ樹脂混合物、エポキシ樹脂組成物に関する。
さらに、本発明は高機能が要求される電気電子材料用途、特に半導体の封止剤、薄膜基板材料として好適なエポキシ樹脂混合物、エポキシ樹脂組成物、およびその硬化物と、それらを用いた半導体装置に関する。
エポキシ樹脂組成物は作業性及びその硬化物の優れた電気特性、耐熱性、接着性、耐湿性(耐水性)等により電気・電子部品、構造用材料、接着剤、塗料等の分野で幅広く用いられている。
しかし近年、電気・電子分野においてはその発展に伴い、樹脂組成物の高純度化をはじめ耐湿性、密着性、誘電特性、フィラー(無機または有機充填剤)を高充填させるための低粘度化、成型サイクルを短くするための反応性のアップ等の諸特性の一層の向上が求められている。又、構造材としては航空宇宙材料、レジャー・スポーツ器具用途などにおいて軽量で機械物性の優れた材料が求められている。特に近年、省エネの視点からパワーデバイスへの注目が大きくなってきている(非特許文献1)。
従来、パワーデバイスはシリコンゲルでの封止が主流であったが、今後、生産性やコストの面、さらにその強度、信頼性の面から熱硬化性の樹脂への変換がこれから大きく進展しようとしている。さらにこのパワーデバイスの駆動温度は年々上昇していく傾向にあり、例えばシリコン系の半導体では150℃以上での駆動温度を想定して設計されており、150℃を超える、少なくとも160℃以上の非常に高い温度に対する耐熱性が求められている(非特許文献2)。
"2008年 STRJ報告 半導体ロードマップ専門委員会 平成20年度報告"、第8章、p1−17、[online]、平成21年3月、JEITA(社)電子情報技術産業協会 半導体技術ロードマップ専門委員会、[平成24年5月30日検索]、インターネット<URL:http://strj−jeita.elisasp.net/strj/nenjihoukoku−2008.cfm> 高倉信之他、松下電工技報 車関連デバイス技術 車載用高温動作IC、74号、日本、2001年5月31日、35−40頁
耐熱性の高いエポキシ樹脂は一般に架橋密度の高いエポキシ樹脂となる。
そして架橋密度の高いエポキシ樹脂は吸水率が高く、もろく、熱分解特性が悪くなる。また電気特性が悪くなる傾向にある。高温駆動の半導体の場合、熱分解特性が重要であるだけでなく電気特性が重要であるため、架橋密度の高いエポキシ樹脂の使用は好ましくない。架橋密度を下げるとこれらの不利な特性は改善されるが、耐熱性が低くなり、ガラス転移点(Tg)が低下する。駆動温度がガラス転移点を超える場合、一般にTgを超える温度で体積抵抗率が低下することから、電気特性が悪化する。
こういった特性を改善しようとした場合、樹脂自体の分子量を大きくすることで耐熱性を向上させるという手法が用いられる場合があるが、非常に粘度が高くなるため、半導体の封止においては半導体全体をきれいに覆う必要があるところ、ボイド等の未充填部ができ、半導体封止材としては適当でない。
即ち、本発明は、半導体封止用に好適な流動性を有し、かつ耐熱性、耐熱分解特性に優れたエポキシ樹脂混合物、エポキシ樹脂組成物と、その硬化物、およびそれらを用いた半導体装置を提供することを目的とする。
本発明者らは前記したような実状に鑑み、鋭意検討した結果、本発明を完成させるに至った。
すなわち本発明は、下記[1]〜[8]に関する。
[1]軟化点(ASTM D 3104準拠)が100〜120℃である下記式(1)で表されるエポキシ樹脂と、下記式(2)で表されるエポキシ化合物とを含有するエポキシ樹脂混合物。
(式(1)中、nは平均値で5〜20の数を表す。)
[2]前記式(2)で表されるエポキシ化合物が、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(検出器:RI)で測定したエポキシ樹脂混合物のチャートの全面積の10〜25面積%を占める[1]に記載のエポキシ樹脂混合物。
[3]軟化点(ASTM D 3104準拠)が120〜150℃であるオルソクレゾールノボラック樹脂と4,4’−ビフェノールを混合し、塩基性条件下でエピハロヒドリンと反応させて得られる[1]または[2]に記載のエポキシ樹脂混合物。
[4]150℃における溶融粘度が0.11Pa・s以上1.0Pa・s以下である[1]〜[3]のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂混合物。
[5][1]〜[4]のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂混合物と、硬化剤とを含有するエポキシ樹脂組成物。
[6][1]〜[4]のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂混合物と、重合触媒とを含有するエポキシ樹脂組成物。
[7][5]または[6]に記載のエポキシ樹脂組成物を硬化して得られる硬化物。
[8]粒状またはタブレット状に成型した[5]または[6]に記載のエポキシ樹脂組成物で半導体チップを覆い、175℃〜250℃で成型した半導体装置。
本発明によれば、半導体封止用に好適な流動性を有し、かつ耐熱性、耐熱分解特性に優れたエポキシ樹脂混合物、エポキシ樹脂組成物と、その硬化物、およびそれらを用いた半導体装置を提供することができる。
本発明のエポキシ樹脂組成物は半導体の封止、特にパワーデバイス用の半導体素子の封止にきわめて有用である。
実施例の評価結果を示すグラフである。
本発明のエポキシ樹脂混合物は、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂と4,4’−ビスグリシジルオキシビフェニルを含有する。尚、以下軟化点は特に断りのない限りASTM D 3104準拠での値である。
本発明のエポキシ樹脂混合物は、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂を主成分とする。一方、4,4’−ビスグリシジルオキシビフェニルは、エポキシ樹脂混合物中、10〜25面積%(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(検出器:RI)で得られたチャートにより算出)含まれることが好ましく、より好ましくは10〜23面積%、特に好ましくは15〜20面積%である。
4,4’−ビスグリシジルオキシビフェニルとオルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂の好ましい割合は、GPCチャートの面積%比で9:1〜3:1(オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂:4,4’−ビスグリシジルオキシビフェニル)であり、特に好ましい割合は、9:1〜4:1である。
4,4’−ビスグリシジルオキシビフェニルは、10面積%以上含まれることにより流動性の向上に役立つが、25面積%以下であることで耐熱分解特性、耐水特性の維持に有効である。
本発明においては、上記の通りオルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂を主成分とするところ、このようなオルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂は、下記式(1)で表されるエポキシ樹脂である。
(式(1)中、nは平均値で5〜20の数を表す。)
本発明のエポキシ樹脂混合物中のオルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂は、nが平均値で5〜20であり、5〜10であることが好ましい。また、このようなオルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂はゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)での測定において、数平均分子量が100〜10000であることが好ましく、1000〜5000であることがより好ましい。
また、本発明のエポキシ樹脂混合物中のオルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂の軟化点は100〜120℃であり、好ましくは100〜115℃である。軟化点100℃を下回る樹脂であるとできたエポキシ樹脂組成物の耐熱性や、耐熱分解特性が低下し、120℃を超えるエポキシ樹脂の場合、ビフェノールのエポキシ樹脂との組成物となってもその溶融粘度が下がりきらず、半導体封止用途等の用途においては流動性に課題があり、ボイドの発生要因となる。
本発明のエポキシ樹脂混合物の形状としては、均質に混合されている場合、結晶性を帯びた固形樹脂形状を持つことが好ましく、軟化点(ASTM D 3104準拠)はハンドリング性、また硬化時の成形性の問題から、98〜120℃であることが好ましく、より好ましくは98〜110℃である。一般の樹脂は室温で取り扱うとベタつきを生じやすく、少なくとも軟化点の50℃以下の温度で使用することが好ましいとされる。特に電子材料に関しては東南アジアでの生産が考えられるため、室内が40℃を超えることが想定されるため、軟化点が98℃を超えることで、室温での取り扱いが非常に簡便になるだけでなく、粉砕、混練性に優れる。しかしながら軟化点が高すぎる場合、混練時にきれいに溶解しないという課題があるばかりか、溶融させようと温度をかけすぎると、混練時に反応をしてしまう可能性が高い。したがって120℃以下の軟化点が好ましい。
本発明のエポキシ樹脂混合物はその150℃における溶融粘度が0.11Pa・s以上1.0Pa・s以下であることが好ましく、さらに好ましくは0.11Pa・s以上0.8Pa・s以下であり、特に0.11Pa・s以上0.7Pa・s以下であることが好ましい。
特にパワーデバイスにおいてはワイヤが太いため、粘度が高くても封止ができるが、1.0Pa・sを超えると、成型性に課題が出てくる恐れがある。また、逆に低すぎる場合、空気を巻き込んだまま硬化してしまうウェルドボイドができる等の課題があり、ある程度の粘度、すなわち0.11Pa・s以上の粘度がある方が空気をベントより金型の外に押し出しやすく、好ましい。
本発明のエポキシ樹脂混合物はそれぞれのエポキシ樹脂を均一に混合しても構わないが、本発明においてはクレゾールノボラックと4,4’−ビフェノールを混合し、エピハロヒドリンと反応させることで得ることが好ましい。クレゾールノボラックとしてはオルソクレゾールノボラックであることが好ましい。
単純に混合する場合、クレゾールノボラックのエポキシ化と、4,4’−ビフェノールのエポキシ化を別々に行う。その場合、エポキシ化時にクレゾールノボラック同士が一部重合する、また4,4’−ビフェノール同士が一部結合するという反応がおこる。この場合、クレゾールノボラック同士の一部重合により粘度が一気に上昇する。また、4,4’−ビフェノール同士が結合したものは結晶性が非常に高く、相溶性が悪いため、均質に溶解させることが難しい。また耐熱性の低下も誘引する。
これに対し、同時にエポキシ化する場合、クレゾールノボラックとビフェノールの一部結合した化合物ができることでクレゾールノボラック同士の重合を抑え、低粘度化を促進することができる。さらに、本化合物はクレゾールノボラックとビフェノール両方の特性を有し、相溶性にもすぐれ、また耐熱性の低下をより抑えることができる。
本発明において使用できるクレゾールノボラック樹脂は市販されているものを使用してもよいが、クレゾールとホルムアルデヒドの反応により製造することもできる(日本国特開2002−179750号公報、日本国特開2004−131585号公報を参照)。当該クレゾールノボラック樹脂の軟化点は120〜150℃が好ましく、より好ましくは120〜145℃、特に好ましくは120〜140℃が好ましい。
またその構造としてはオルソクレゾールノボラックが好ましく、特に2官能のビスクレゾールFが5面積%以下(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(検出器:RI)で得られたチャートにより算出。以下、「GPC」と称す)、3官能のクレゾールノボラックが5面積%以下(GPC)であることが好ましい。
またそのMw(平均分子量)は1000以上10000未満が好ましく、特に1000以上5000未満が好ましい。本範囲内にあることで流動性、相溶性、耐熱性、耐熱分解性のバランスが優れる傾向にある。
4,4’−ビフェノールに関しては純度99%以上であることが好ましい。酸化等により一部酸化されてしまっている場合、一官能となってしまうことから耐熱性の低下を招く恐れがあるためである。
クレゾールノボラックと4,4’−ビフェノールの混合物とエピハロヒドリンとの反応の手法としては特に限定しないが、以下にその合成方法の一例を記載する。
本発明のエポキシ樹脂混合物を得る反応において、クレゾールノボラック(CN)と4,4’−ビフェノール(BP)を同時にエピハロヒドリンと反応させることでエポキシ樹脂混合物とすることができる。ここで(CN)と(BP)の比率(重量比)としてはCN/BP=3〜9が好ましく、より好ましくは3.5〜5.7、特に好ましくは3.5〜4.5である。耐熱性、難燃性、流動性のバランスの面から本範囲が好ましい。なお、以下、(CN)と(BP)の混合物を本発明におけるフェノール混合物と称す。
本発明のエポキシ樹脂混合物を得る反応において、エピハロヒドリンとしては工業的に入手が容易なエピクロルヒドリンが好ましい。エピハロヒドリンの使用量は本発明におけるフェノール混合物の水酸基1モルに対し通常3.0〜15モル、好ましくは3.0〜10モル、より好ましくは3.5〜8.5モルであり、特に好ましくは4.0〜6.0モルである。
3.0モルを下回るとエポキシ当量が大きくなることがあり、また、できたエポキシ樹脂の作業性が悪くなることがあり、15モルを超えると溶剤量が多量になることがある。
特に本発明においては、クレゾールノボラックとビフェノールの反応物が特性に寄与するため、6.0モル以下のエピクロルヒドリン量であることが好ましい。これによりクレゾールノボラックとビフェノールの結合を調整する。
この際、ビフェノールのクレゾールノボラック樹脂への取り込まれ量としては1〜10%が好ましく、特に好ましくは1〜8%である。この量はNMR等でビフェノールとクレゾールのモル数とGPCデータとから算出できるほか、合成時に仕込んだ際の理論的な反応比率とGPCの面積%から算出することができる。具体的な計算方法としては、下記の通り求められる。即ち、仕込み量から理論上のジグリシジルオキシビフェニルの量を確認する。これに対し、GPCの面積比より、ジグリシジルオキシビフェニルのピーク面積(検出器:RI)にて含有量を確認する。この差引分が取り込まれ量となる。ビフェノールのみであるとビフェノール同士の結合が優先的であるが、クレゾールノボラックの量が多い条件下においては確率論からクレゾールノボラックに優先的に取り込まれることから、その差引分が取り込まれ量と判断して差し支えないと判断する。なお、NMRでの測定においては各々のベンゼン核のプロトン、あるいはカーボンのピーク面積比率によりモル比率を算出する。そのモル比率より理論上のジグリシジルオキシビフェニル量を確認する。後は上記と同様である。なお、仕込み比率から算出される理論エポキシ当量に対する実際のエポキシ当量との差異により大雑把には算出することも可能である。
上記反応において、エピハロヒドリンとの反応にはアルカリ金属水酸化物の使用が好ましい。使用しうるアルカリ金属水酸化物としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられ、固形物を利用してもよく、その水溶液を使用してもよいが、本発明においては特に、水分、溶解性、ハンドリングの面からフレーク状に成型された固形物の使用が好ましい。
アルカリ金属水酸化物の使用量はフェノール混合物の水酸基1モルに対して通常0.90〜1.5モルであり、好ましくは0.95〜1.25モル、より好ましくは0.99〜1.15モルである。
反応を促進するためにテトラメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムブロマイド、トリメチルベンジルアンモニウムクロライド等の4級アンモニウム塩を触媒として添加してもかまわない。4級アンモニウム塩の使用量としては本発明におけるフェノール混合物の水酸基1モルに対し通常0.1〜15gであり、好ましくは0.2〜10gである。
本反応においては上記エピハロヒドリンに加え、非極性プロトン溶媒(ジメチルスルホキシド、ジオキサン、ジメチルイミダゾリジノン等、本発明においてはジメチルスルホキシド、ジオキサンが好ましい。)や、炭素数1〜5のアルコールを併用することが好ましい。炭素数1〜5のアルコールとしてはメタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類である(本発明においてはメタノールが好ましい。)。非極性プロトン溶媒もしくは炭素数1〜5のアルコールの使用量はエピハロヒドリンの使用量に対し通常2〜50重量%、好ましくは4〜25重量%である。また、共沸脱水等の手法により、系内の水分をコントロールしながらエポキシ化を行ってもかまわない。
反応系中の水分が多い場合には、得られたエポキシ樹脂混合物において電気信頼性が低下することがあり、水分は5%以下にコントロールして合成することが好ましい。また、非極性プロトン溶媒を使用してエポキシ樹脂混合物を得た際には、電気信頼性に優れるエポキシ樹脂混合物が得られるため、非極性プロトン溶媒は好適に使用できる。
反応温度は通常30〜90℃であり、好ましくは35〜80℃である。特に本発明においては、より高純度なエポキシ化のために60℃以上が好ましく、還流条件に近い条件での反応が特に好ましい。反応時間は通常0.5〜10時間であり、好ましくは1〜8時間、特に好ましくは1〜3時間である。反応時間が短いと反応が進みきらず、反応時間が長くなると副生成物ができることがある。
これらのエポキシ化反応の反応物を水洗後、または水洗無しに加熱減圧下でエピハロヒドリンや溶媒等を除去する。また更に加水分解性ハロゲンの少ないエポキシ樹脂混合物とするために、回収したエポキシ樹脂混合物を炭素数4〜7のケトン化合物(たとえば、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等が挙げられる。)を溶剤として溶解し、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物の水溶液を加えて反応を行い、閉環を確実なものにすることも出来る。この場合アルカリ金属水酸化物の使用量はエポキシ化に使用した本発明におけるフェノール混合物の水酸基1モルに対して通常0.01〜0.3モル、好ましくは0.05〜0.2モルである。反応温度は通常50〜120℃、反応時間は通常0.5〜2時間である。
反応終了後、生成した塩を濾過、水洗などにより除去し、更に加熱減圧下溶剤を留去することにより本発明のエポキシ樹脂混合物が得られる。なお、加熱減圧下、溶剤を留去した後、110〜170℃に保った後、100℃以下、より好ましくは80℃以下の板状体(プレート状、シート状、ベルト状等の形状のもの)上に流延もしくは滴下することで、板状、水滴状(マーブル状)等の形状に成型し、取り出すことが好ましい。なお、80℃以下での冷却後、さらに60℃以下で冷却するという段階的な冷却方法でもかまわない。本工程で得られる固形物は透明なアモルファス状、もしくは結晶が分散した白濁した形状を示すが、もし、固形物は透明なアモルファス状であっても50〜100℃で30分〜10時間加温することで、結晶が分散した白濁した形状となる。
本発明のエポキシ樹脂混合物の好ましい樹脂特性としてはエポキシ当量が175〜215g/eq.であることが好ましく、より好ましくは175〜210g/eq.である。エポキシ当量が上記範囲内にあることで、硬化物の耐熱性、電気信頼性に優れたエポキシ樹脂混合物をより容易に得ることができる。エポキシ当量が215g/eq.を超えている場合、エポキシの環が閉環しきらず、官能基を有さない化合物が多く含まれることがあり、エポキシ当量が下がっていないことがある。またこれら閉環しきらなかった化合物の多くには塩素が含有されている場合が多く、電子材料用途としては高温多湿条件での塩素イオンの遊離、およびそれによる配線の腐食が生じることがある。
また、エポキシ樹脂混合物に残存している全塩素としては、好ましくは1500ppm以下、より好ましくは1200ppm以下、特に900ppm以下であることが好ましい。なお、塩素イオン、ナトリウムイオンについては各々5ppm以下が好ましく、より好ましくは3ppm以下である。塩素イオンは先に記載し、いうまでも無いが、ナトリウムイオン等のカチオンも、特にパワーデバイス用途においては非常に重要なファクターとなり、高電圧がかかった際の不良モードの一因となる。
以下、本発明のエポキシ樹脂混合物を含む本発明のエポキシ樹脂組成物(以下、硬化性樹脂組成物とも称する)について記載する。
本発明の硬化性樹脂組成物においては、硬化剤または重合触媒を必須成分として使用する。
本発明の硬化性樹脂組成物は大きく二種に分類でき、以下、硬化性樹脂組成物A、硬化性樹脂組成物Bと表現する。
硬化性樹脂組成物Aは本発明のエポキシ樹脂混合物と硬化剤を必須成分とする組成物である。
硬化性樹脂組成物Bは本発明のエポキシ樹脂混合物と重合触媒(硬化促進剤)を必須成分とする組成物である。
本発明の硬化性樹脂組成物Aにおいて硬化剤の使用量は、全エポキシ樹脂のエポキシ基1当量に対して0.7〜1.2当量が好ましい。エポキシ基1当量に対して、0.7当量に満たない場合、あるいは1.2当量を超える場合、いずれも硬化が不完全となり良好な硬化物性が得られないことがある。
本発明の硬化性樹脂組成物Bが含有しうる重合触媒としては含窒素系の硬化促進剤が使用できる。この場合、エポキシ樹脂総量に対し、0.5〜10重量%加えることが好ましく、特に好ましくは1〜5重量%である。
用い得る硬化促進剤の具体例としては、2−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール等のイミダゾ−ル類、2−(ジメチルアミノメチル)フェノール、1,8−ジアザ−ビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7等の第3級アミン類、トリフェニルフォスフィン等のフォスフィン類、テトラブチルアンモニウム塩、トリイソプロピルメチルアンモニウム塩、トリメチルデカニルアンモニウム塩、セチルトリメチルアンモニウム塩などの4級アンモニウム塩、トリフェニルベンジルフォスフォニウム塩、トリフェニルエチルフォスフォニウム塩、テトラブチルフォスフォニウム塩などの4級フォスフォニウム塩(4級塩のカウンターイオンはハロゲン、有機酸イオン、水酸化物イオンなど、特に指定は無いが、特に有機酸イオン、水酸化物イオンが好ましい。)、オクチル酸スズ等の金属化合物等が挙げられる。硬化促進剤を用いる場合は、エポキシ樹脂100重量部に対して0.01〜5.0重量部が必要に応じ用いられる。
硬化性樹脂組成物Bの場合は特に含窒素系の硬化促進剤を用いることが好ましく、イミダゾール類、第3級アミン類、グアニジン誘導体等のアニオン重合用の硬化促進剤が好ましい。これらは一般的な化合物が含包される。
以下、本発明の硬化性樹脂組成物A、Bについてそれぞれ説明する。硬化性樹脂組成物Bに関しては硬化性樹脂組成物Aにおける硬化剤を含有しないのみであり他は同様である。以下、硬化性樹脂組成物A、Bをまとめて硬化性樹脂組成物と表記する。
硬化性樹脂組成物において、本発明のエポキシ樹脂混合物以外に他のエポキシ樹脂を併用することが出来る。併用する場合、本発明のエポキシ樹脂混合物の全エポキシ樹脂中に占める割合は30重量%以上が好ましく、特に40重量%以上が好ましい。ただし、本発明のエポキシ樹脂を硬化性樹脂組成物の改質剤として使用する場合は、1〜30重量%の割合で添加する。
他のエポキシ樹脂の具体例としては、ノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂などが挙げられる。具体的には、ビスフェノールA、ビスフェノールS、チオジフェノール、フルオレンビスフェノール、テルペンジフェノール、4,4’−ビフェノール、2,2’−ビフェノール、3,3’,5,5’−テトラメチル−[1,1’−ビフェニル]−4,4’−ジオール、ハイドロキノン、レゾルシン、ナフタレンジオール、トリス−(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、フェノール類(フェノール、アルキル置換フェノール、ナフトール、アルキル置換ナフトール、ジヒドロキシベンゼン、ジヒドロキシナフタレン等)とホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、p−ヒドロキシベンズアルデヒド、o−ヒドロキシベンズアルデヒド、p−ヒドロキシアセトフェノン、o−ヒドロキシアセトフェノン、ジシクロペンタジエン、フルフラール、4,4’−ビス(クロルメチル)−1,1’−ビフェニル、4,4’−ビス(メトキシメチル)−1,1’−ビフェニル、1,4−ビス(クロロメチル)ベンゼン、1,4−ビス(メトキシメチル)ベンゼン等との重縮合物及びこれらの変性物、テトラブロモビスフェノールA等のハロゲン化ビスフェノール類、アルコール類から誘導されるグリシジルエーテル化物、脂環式エポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹脂、等シルセスキオキサン系のエポキシ樹脂(鎖状、環状、ラダー状、あるいはそれら少なくとも2種以上の混合構造のシロキサン構造にグリシジル基、および/またはエポキシシクロヘキサン構造を有するエポキシ樹脂)等の固形または液状エポキシ樹脂が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
本発明の硬化性樹脂組成物が含有する硬化剤としては例えばフェノール樹脂、フェノール系化合物、アミン系化合物、酸無水物系化合物、アミド系化合物、カルボン酸系化合物などが挙げられる。
用いうる硬化剤の具体例としては以下の通りである。
フェノール樹脂、フェノール化合物;ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール、テルペンジフェノール、4,4’−ビフェノール、2,2’−ビフェノール、3,3’,5,5’−テトラメチル−[1,1’−ビフェニル]−4,4’−ジオール、ハイドロキノン、レゾルシン、ナフタレンジオール、トリス−(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、フェノール類(フェノール、アルキル置換フェノール、ナフトール、アルキル置換ナフトール、ジヒドロキシベンゼン、ジヒドロキシナフタレン等)とホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、p−ヒドロキシベンズアルデヒド、o−ヒドロキシベンズアルデヒド、p−ヒドロキシアセトフェノン、o−ヒドロキシアセトフェノン、ジシクロペンタジエン、フルフラール、4,4’−ビス(クロロメチル)−1,1’−ビフェニル、4,4’−ビス(メトキシメチル)−1,1’−ビフェニル、1,4’−ビス(クロロメチル)ベンゼン、1,4’−ビス(メトキシメチル)ベンゼン等との重縮合物及びこれらの変性物、テトラブロモビスフェノールA等のハロゲン化ビスフェノール類、テルペンとフェノール類の縮合物などのポリフェノール類が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらは単独で用いてもよく、2種以上を用いてもよい。
好ましいフェノール樹脂としては、フェノールアラルキル樹脂(芳香族アルキレン構造を有する樹脂)が挙げられ、特に好ましくはフェノール、ナフトール、クレゾールから選ばれる少なくとも一種を有する構造であり、そのリンカーとなるアルキレン部が、ベンゼン構造、ビフェニル構造、ナフタレン構造から選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする樹脂(具体的にはザイロック、ナフトールザイロック、フェノールビフェニレンノボラック樹脂、クレゾール−ビフェニレンノボラック樹脂、フェノール−ナフタレンノボラック樹脂などが挙げられる。)である。
アミン系化合物、アミド系化合物;ジアミノジフェニルメタン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ジアミノジフェニルスルホン、イソホロンジアミン、ジシアンジアミド、リノレン酸の2量体とエチレンジアミンより合成されるポリアミド樹脂などの含窒素化合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらは単独で用いてもよく、2種以上を用いてもよい。
酸無水物系化合物、カルボン酸系化合物;無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、無水ナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ブタンテトラカルボン酸無水物、ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2,3−ジカルボン酸無水物、メチルビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2,3−ジカルボン酸無水物、シクロヘキサン−1,3,4−トリカルボン酸−3,4−無水物、などの酸無水物;各種アルコール、カルビノール変性シリコーン、と前述の酸無水物との付加反応により得られるカルボン酸樹脂が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらは単独で用いてもよく、2種以上を用いてもよい。
その他の併用し得る硬化剤としては、イミダゾール、トリフルオロボラン−アミン錯体、グアニジン誘導体の化合物などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらは単独で用いてもよく、2種以上を用いてもよい。
本発明においては特に信頼性の面からフェノール樹脂の使用が好ましい。
本発明の硬化性樹脂組成物において硬化剤の使用量は、全エポキシ樹脂のエポキシ基1当量に対して0.7〜1.2当量が好ましい。エポキシ基1当量に対して、0.7当量に満たない場合、あるいは1.2当量を超える場合、いずれも硬化が不完全となり良好な硬化物性が得られないことがある。
本発明の硬化性樹脂組成物においては、硬化剤とともに硬化促進剤を併用しても差し支えない。用い得る硬化促進剤の具体例としては前記のものが挙げられる。硬化促進剤を用いる場合は、エポキシ樹脂100重量部に対して0.01〜5.0重量部が必要に応じ用いられる。
本発明の硬化性樹脂組成物には、リン含有化合物を難燃性付与成分として含有させることもできる。リン含有化合物としては反応型のものでも添加型のものでもよい。リン含有化合物の具体例としては、トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリキシリレニルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、クレジル−2,6−ジキシリレニルホスフェート、1,3−フェニレンビス(ジキシリレニルホスフェート)、1,4−フェニレンビス(ジキシリレニルホスフェート)、4,4’−ビフェニル(ジキシリレニルホスフェート)等のリン酸エステル類;9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド、10(2,5−ジヒドロキシフェニル)−10H−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド等のホスファン類;エポキシ樹脂と前記ホスファン類の活性水素とを反応させて得られるリン含有エポキシ化合物、赤リン等が挙げられるが、リン酸エステル類、ホスファン類またはリン含有エポキシ化合物が好ましく、1,3−フェニレンビス(ジキシリレニルホスフェート)、1,4−フェニレンビス(ジキシリレニルホスフェート)、4,4’−ビフェニル(ジキシリレニルホスフェート)またはリン含有エポキシ化合物が特に好ましい。リン含有化合物の含有量はリン含有化合物/全エポキシ樹脂=0.1〜0.6(重量比)が好ましい。0.1以下では難燃性が不十分であり、0.6以上では硬化物の吸湿性、誘電特性が低下することがある。
さらに本発明の硬化性樹脂組成物には、必要に応じて酸化防止剤を添加しても構わない。使用できる酸化防止剤としては、フェノール系、イオウ系、リン系酸化防止剤が挙げられる。酸化防止剤は単独で又は2種以上を組み合わせて使用できる。酸化防止剤の使用量は、本発明の硬化性樹脂組成物中の樹脂成分に対して100重量部に対して、通常0.008〜1重量部、好ましくは0.01〜0.5重量部である。
フェノール系酸化防止剤の具体例として、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、2,6−ジ−t−ブチル−p−エチルフェノール、ステアリル−β−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、イソオクチル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2,4−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルアニリノ)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス[(オクチルチオ)メチル]−o−クレゾール、等のモノフェノール類;2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、トリエチレングリコール−ビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、1,6−ヘキサンジオール−ビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、N,N’−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド)、2,2−チオ−ジエチレンビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、3,9−ビス[1,1−ジメチル−2−{β−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ}エチル]2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン、ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルスルホン酸エチル)カルシウム等のビスフェノール類;1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、テトラキス−[メチレン−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン、ビス[3,3’−ビス−(4’−ヒドロキシ−3’−t−ブチルフェニル)ブチリックアシッド]グリコールエステル、トリス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−イソシアヌレイト、1,3,5−トリス(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシベンジル)−S−トリアジン−2,4,6−(1H,3H,5H)トリオン、トコフェノール等の高分子型フェノール類が例示される。
イオウ系酸化防止剤の具体例として、ジラウリル−3,3’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−3,3’−チオジプロピオネート、ジステアリル−3,3’−チオジプロピオネート等が例示される。
リン系酸化防止剤の具体例として、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、ジイソデシルペンタエリスリトールホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス(オクタデシル)ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビ(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビ(2,4−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ホスファイト、ビス[2−t−ブチル−6−メチル−4−{2−(オクタデシルオキシカルボニル)エチル}フェニル]ヒドロゲンホスファイト等のホスファイト類;9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド、10−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド、10−デシロキシ−9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド等のオキサホスファフェナントレンオキサイド類などが例示される。
これらの酸化防止剤はそれぞれ単独で使用できるが、2種以上を組み合わせて併用しても構わない。特に本発明においてはリン系の酸化防止剤が好ましい。
さらに本発明の硬化性樹脂組成物には、必要に応じて光安定剤を添加しても構わない。
光安定剤としては、ヒンダートアミン系の光安定剤、特にHALS等が好適である。HALSとしては特に限定されるものではないが、代表的なものとしては、ジブチルアミン・1,3,5−トリアジン・N,N’―ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル−1,6−ヘキサメチレンジアミンとN−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ブチルアミンの重縮合物、コハク酸ジメチル−1−(2−ヒドロキシエチル)−4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン重縮合物、ポリ〔{6−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)アミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル}{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}ヘキサメチレン{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}〕、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)〔〔3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドリキシフェニル〕メチル〕ブチルマロネート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1−オクチロキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、2−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2−n−ブチルマロン酸ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)、等が挙げられる。HALSは1種のみが用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。
さらに本発明の硬化性樹脂組成物には、必要に応じてバインダー樹脂を配合することも出来る。バインダー樹脂としてはブチラール系樹脂、アセタール系樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ−ナイロン系樹脂、NBR−フェノール系樹脂、エポキシ−NBR系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、シリコーン系樹脂などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。バインダー樹脂の配合量は、硬化物の難燃性、耐熱性を損なわない範囲であることが好ましく、エポキシ樹脂成分100重量部に対して通常0.05〜50重量部、好ましくは0.05〜20重量部が必要に応じて用いられる。
また、本発明の硬化性樹脂組成物には、必要に応じてシアネート樹脂、マレイミド樹脂、ベンゾオキサジン等の耐熱性向上のための樹脂を配合しても構わず、その配合量は、エポキシ樹脂成分100重量部に対して通常10〜50重量部、好ましくは15〜40重量部が必要に応じて用いられる。
本発明の硬化性樹脂組成物には、必要に応じて無機充填剤を添加することができる。無機充填剤としては、結晶シリカ、溶融シリカ、アルミナ、ジルコン、珪酸カルシウム、炭酸カルシウム、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ホウ素、ジルコニア、フォステライト、ステアタイト、スピネル、チタニア、タルク等の粉体またはこれらを球形化したビーズ等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらは単独で用いてもよく、2種以上を用いてもよい。これら無機充填剤の含有量は、本発明の硬化性樹脂組成物中において通常60〜95重量%、特に70〜90重量%を占める量が好適に用いられる。更に本発明の硬化性樹脂組成物には、シランカップリング剤、ステアリン酸、パルミチン酸、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム等の離型剤、界面活性剤、染料、顔料、紫外線吸収剤等の種々の配合剤、各種熱硬化性樹脂を添加することができ、その添加量は硬化性樹脂組成物の総量に対し、好ましくは0.05重量%〜1.5重量%、特に好ましくは0.05〜1.0重量%である。
本発明の硬化性樹脂組成物は、各成分を均一に混合することにより得られる。本発明の硬化性樹脂組成物は従来知られている方法と同様の方法で容易にその硬化物とすることができる。例えばエポキシ樹脂と硬化剤および/または硬化促進剤、リン含有化合物、バインダー樹脂、無機充填材及び配合剤などを必要に応じて粉砕後、押出機、ニーダ、ロール等を用いて混合して硬化性樹脂組成物を得、その硬化性樹脂組成物をさらに粉砕、タブレット状もしくは粒状としトランスファー成型機、もしくは圧縮成型機などを用いて140〜250℃で成型し、さらに100〜220℃で1〜10時間加熱することにより本発明の硬化物を得ることができる。
本発明の半導体装置は、プリント配線板に半導体素子を実装、封止したものである。半導体素子の実装方法、封止方法は特に限定されない。例えば、フリップチップボンダーなどを用いて多層プリント配線板上の接続用電極部と半導体素子の半田バンプの位置合わせを行う。その後、半田バンプを融点以上に加熱し、プリント配線板と半田バンプとを溶融接合することにより接続する。次に、プリント配線板と半導体素子との間に液状封止樹脂を充填し、硬化させる。これにより、半導体装置が得られる。こうして得られた半導体装置は、優れた耐熱性および耐熱分解性を有することから、特に車載用のパワーデバイスなどに有用である。
次に本発明を実施例により更に具体的に説明するが、以下において部は特に断わりのない限り重量部である。尚、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
以下に実施例で用いた各種分析方法について記載する。また、以降面積%は、特に断りのない限りゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)での測定値を示す。
エポキシ当量:JIS K 7236(ISO 3001)に準拠
ICI溶融粘度:JIS K 7117−2(ISO 3219)に準拠
軟化点:ASTM D 3104に準拠
GPC:
カラム(Shodex KF−603、KF−602.5、KF−602、KF−601x2)
連結溶離液はテトラヒドロフラン
流速は0.5ml/min.
カラム温度は40℃
検出:RI(示差屈折検出器)
以下、実施例、比較例により本発明を具体的に説明する。
(実施例1)
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、窒素パージを施しながらオルソクレゾールノボラック(軟化点138℃ 2核体 2.5面積% 3核体 3.4面積% 水酸基当量120g/eq.)92.6部、4,4’−ビフェノール21.2部、エピクロロヒドリン416部、ジメチルスルホキシド95.8部を加え、撹拌下で溶解し、45℃にまで昇温した。次いでフレーク状の水酸化ナトリウム42部を90分かけて分割添加した後、更に45℃で2時間、70℃で75分反応を行った。反応終了後,油層からロータリーエバポレーターを用いて減圧下、過剰のエピクロルヒドリン等の溶剤類を留去した。残留物にメチルイソブチルケトン352部を加え溶解し、水洗後、75℃にまで昇温した。撹拌下で30重量%の水酸化ナトリウム水溶液13部を加え、1時間反応を行った後、油層の洗浄水が中性になるまで水洗を行い、得られた溶液から、ロータリーエバポレーターを用いて減圧下にメチルイソブチルケトン等を留去することで本発明のエポキシ樹脂混合物(EP1)153部を得た。得られたエポキシ樹脂混合物のエポキシ当量は187g/eq.、軟化点108℃、150℃におけるICI溶融粘度は0.60Pa・sであった。
原料から算出したジグリシジルオキシビフェニルの理論量は20%。これに対し、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーより算出したジグリシジルオキシビフェニルの量は16.2面積%であった。このことから3.8%のビフェノール構造がクレゾールノボラック構造に取り込まれたことがわかる。なお平均分子量Mwは2517であった。
(実施例2)
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、窒素パージを施しながらオルソクレゾールノボラック(軟化点138℃ 2核体 1.8面積% 3核体 3.0面積% 水酸基当量120g/eq.)92.6部、4,4’−ビフェノール21.2部、エピクロロヒドリン602部、ジメチルスルホキシド95.8部を加え、撹拌下で溶解し、45℃にまで昇温した。次いでフレーク状の水酸化ナトリウム42部を90分かけて分割添加した後、更に45℃で2時間、70℃で75分反応を行った。反応終了後,油層からロータリーエバポレーターを用いて減圧下、過剰のエピクロルヒドリン等の溶剤類を留去した。残留物にメチルイソブチルケトン352部を加え溶解し、水洗後、75℃にまで昇温した。撹拌下で30重量%の水酸化ナトリウム水溶液13部を加え、1時間反応を行った後、油層の洗浄水が中性になるまで水洗を行い、得られた溶液から、ロータリーエバポレーターを用いて減圧下にメチルイソブチルケトン等を留去することで本発明のエポキシ樹脂混合物(EP2)158部を得た。得られたエポキシ樹脂混合物のエポキシ当量は185g/eq.、軟化点118℃、150℃におけるICI溶融粘度は0.53Pa・sであった。
原料から算出したジグリシジルオキシビフェニルの理論量は20%。これに対し、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーより算出したジグリシジルオキシビフェニルの量は18.7面積%であった。このことから1.3%のビフェノール構造がクレゾールノボラック構造に取り込まれたことがわかる。なお平均分子量Mwは2368であった。
(実施例3)
還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、窒素パージを施しながらオルソクレゾールノボラック(軟化点130℃ 2核体 3.4面積% 3核体 4.8面積% 水酸基当量120g/eq.)92.6部、4,4’−ビフェノール21.2部、、エピクロロヒドリン416部、ジメチルスルホキシド95.8部を加え、撹拌下で溶解し、45℃にまで昇温した。次いでフレーク状の水酸化ナトリウム42部を90分かけて分割添加した後、更に45℃で2時間、70℃で75分反応を行った。反応終了後,油層からロータリーエバポレーターを用いて減圧下、過剰のエピクロルヒドリン等の溶剤類を留去した。残留物にメチルイソブチルケトン352部を加え溶解し、水洗後、75℃にまで昇温した。撹拌下で30重量%の水酸化ナトリウム水溶液13部を加え、1時間反応を行った後、油層の洗浄水が中性になるまで水洗を行い、得られた溶液から、ロータリーエバポレーターを用いて減圧下にメチルイソブチルケトン等を留去することで本発明のエポキシ樹脂混合物(EP4)160部を得た。得られたエポキシ樹脂混合物のエポキシ当量は187g/eq.、軟化点109℃、150℃におけるICI溶融粘度は0.29Pa・sであった。
原料から算出したジグリシジルオキシビフェニルの理論量は20%。これに対し、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーより算出したジグリシジルオキシビフェニルの量は16.8面積%であった。このことから3.2%のビフェノール構造がクレゾールノボラック構造に取り込まれたことがわかる。なお平均分子量Mwは2019であった。
(実施例4)
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、窒素パージを施しながらオルソクレゾールノボラック(軟化点139℃ 2核体 1.7面積% 3核体 2.9面積% 水酸基当量120g/eq.)90.0部、4,4’−ビフェノール23.3部、エピクロロヒドリン416部、ジメチルスルホキシド95.8部を加え、撹拌下で溶解し、45℃にまで昇温した。次いでフレーク状の水酸化ナトリウム42部を90分かけて分割添加した後、更に45℃で2時間、70℃で75分反応を行った。反応終了後,油層からロータリーエバポレーターを用いて減圧下、過剰のエピクロルヒドリン等の溶剤類を留去した。残留物にメチルイソブチルケトン352部を加え溶解し、水洗後、75℃にまで昇温した。撹拌下で30重量%の水酸化ナトリウム水溶液13部を加え、1時間反応を行った後、油層の洗浄水が中性になるまで水洗を行い、得られた溶液から、ロータリーエバポレーターを用いて減圧下にメチルイソブチルケトン等を留去することで本発明のエポキシ樹脂混合物(EP5)149部を得た。得られたエポキシ樹脂混合物のエポキシ当量は179g/eq.、軟化点111℃、150℃におけるICI溶融粘度は0.43Pa・sであった。
原料から算出したジグリシジルオキシビフェニルの理論量は22%。これに対し、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーより算出したジグリシジルオキシビフェニルの量は19.3面積%であった。このことから2.7%のビフェノール構造がクレゾールノボラック構造に取り込まれたことがわかる。なお平均分子量Mwは2410であった。
(実施例5)
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、窒素パージを施しながらオルソクレゾールノボラック(軟化点130℃ 2核体<5面積% 3核体<5面積% 水酸基当量130g/eq.)98.4部、4,4’−ビフェノール16.8部、エピクロロヒドリン416部、ジメチルスルホキシド95.8部を加え、撹拌下で溶解し、45℃にまで昇温した。次いでフレーク状の水酸化ナトリウム42部を90分かけて分割添加した後、更に45℃で2時間、70℃で75分反応を行った。反応終了後,油層からロータリーエバポレーターを用いて減圧下、過剰のエピクロルヒドリン等の溶剤類を留去した。残留物にメチルイソブチルケトン352部を加え溶解し、水洗後、75℃にまで昇温した。撹拌下で30重量%の水酸化ナトリウム水溶液13部を加え、1時間反応を行った後、油層の洗浄水が中性になるまで水洗を行い、得られた溶液から、ロータリーエバポレーターを用いて減圧下にメチルイソブチルケトン等を留去することで本発明のエポキシ樹脂混合物(EP6)149部を得た。得られたエポキシ樹脂混合物のエポキシ当量は195g/eq.、軟化点98℃、150℃におけるICI溶融粘度は0.95Pa・sであった。
原料から算出したジグリシジルオキシビフェニルの理論量は15.7%。これに対し、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーより算出したジグリシジルオキシビフェニルの量は13.1面積%であった。このことから2.6%のビフェノール構造がクレゾールノボラック構造に取り込まれたことがわかる。なお平均分子量Mwは2167であった。
(実施例6)
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、窒素パージを施しながらオルソクレゾールノボラック(軟化点130℃ 2核体<5面積% 3核体<5面積% 水酸基当量130g/eq.)85.2部、4,4’−ビフェノール27部、エピクロロヒドリン416部、ジメチルスルホキシド95.8部を加え、撹拌下で溶解し、45℃にまで昇温した。次いでフレーク状の水酸化ナトリウム42部を90分かけて分割添加した後、更に45℃で2時間、70℃で75分反応を行った。反応終了後,油層からロータリーエバポレーターを用いて減圧下、過剰のエピクロルヒドリン等の溶剤類を留去した。残留物にメチルイソブチルケトン352部を加え溶解し、水洗後、75℃にまで昇温した。撹拌下で30重量%の水酸化ナトリウム水溶液13部を加え、1時間反応を行った後、油層の洗浄水が中性になるまで水洗を行い、得られた溶液から、ロータリーエバポレーターを用いて減圧下にメチルイソブチルケトン等を留去することで本発明のエポキシ樹脂混合物(EP7)141部を得た。得られたエポキシ樹脂混合物のエポキシ当量は180g/eq.、軟化点111℃、150℃におけるICI溶融粘度は0.30Pa・sであった。
原料から算出したジグリシジルオキシビフェニルの理論量は25.7%。これに対し、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーより算出したジグリシジルオキシビフェニルの量は21.0面積%であった。このことから4.7%のビフェノール構造がクレゾールノボラック構造に取り込まれたことがわかる。なお平均分子量Mwは1997であった。
(合成例1)
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、窒素パージを施しながらオルソクレゾールノボラック(軟化点138℃ 2核体 2.2面積% 3核体 3.6面積% 水酸基当量120g/eq.)120部、エピクロロヒドリン600部、ジメチルスルホキシド95.8部を加え、撹拌下で溶解し、45℃にまで昇温した。次いでフレーク状の水酸化ナトリウム42部を90分かけて分割添加した後、更に45℃で2時間、70℃で75分反応を行った。反応終了後,油層からロータリーエバポレーターを用いて減圧下、過剰のエピクロルヒドリン等の溶剤類を留去した。残留物にメチルイソブチルケトン352部を加え溶解し、水洗後、75℃にまで昇温した。撹拌下で30重量%の水酸化ナトリウム水溶液13部を加え、1時間反応を行った後、油層の洗浄水が中性になるまで水洗を行い、得られた溶液から、ロータリーエバポレーターを用いて減圧下にメチルイソブチルケトン等を留去することで比較用のエポキシ樹脂(EP8)166部を得た。得られたエポキシ樹脂のエポキシ当量は202g/eq.、軟化点103℃、150℃におけるICI溶融粘度は3.1Pa・sであった。なお平均分子量Mwは3073であった。
(合成例1−A)
合成例1において、「オルソクレゾールノボラック(軟化点138℃ 2核体 2.2面積% 3核体 3.6面積% 水酸基当量120g/eq.)120部」を「オルソクレゾールノボラック樹脂(軟化点130℃ 2核体<5% 3核体<5% 水酸基当量130g/eq.)130部」に変更した以外は同様に合成した。得られたエポキシ樹脂(EP-A)はエポキシ当量202g/eq.、軟化点101℃、150℃におけるICI溶融粘度は2.9Pa・sであった。なお平均分子量は2980であった。
(合成例1−B)
合成例1において、「オルソクレゾールノボラック(軟化点138℃ 2核体 2.2面積% 3核体 3.6面積% 水酸基当量120g/eq.)120部」を「オルソクレゾールノボラック(軟化点100℃ 2核体8.2% 3核体9.1% 水酸基当量120g/eq.)120部」に変更した以外は同様に合成した。
得られたエポキシ樹脂(EP-B)はエポキシ当量196g/eq.、軟化点61℃、150℃におけるICI溶融粘度は0.1Pa・sであった(EOCN-1020-62)。なお平均分子量は1526であった。
(合成例2)
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、窒素パージを施しながらオルソクレゾールノボラック(軟化点100℃ 2核体 8.2面積% 3核体 9.1面積% 水酸基当量120g/eq.)96部、4,4’−ビフェノール18.6部、エピクロロヒドリン416部、ジメチルスルホキシド95.8部を加え、撹拌下で溶解し、45℃にまで昇温した。次いでフレーク状の水酸化ナトリウム42部を90分かけて分割添加した後、更に45℃で2時間、70℃で75分反応を行った。反応終了後,油層からロータリーエバポレーターを用いて減圧下、過剰のエピクロルヒドリン等の溶剤類を留去した。残留物にメチルイソブチルケトン352部を加え溶解し、水洗後、75℃にまで昇温した。撹拌下で30重量%の水酸化ナトリウム水溶液13部を加え、1時間反応を行った後、油層の洗浄水が中性になるまで水洗を行い、得られた溶液から、ロータリーエバポレーターを用いて減圧下にメチルイソブチルケトン等を留去することで比較用のエポキシ樹脂混合物(EP9)165部を得た。得られたエポキシ樹脂混合物のエポキシ当量は187g/eq.、軟化点95℃、150℃におけるICI溶融粘度は0.05Pa・sであった。
原料から算出したジグリシジルオキシビフェニルの理論量は17.5%。これに対し、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーより算出したジグリシジルオキシビフェニルの量は15.9面積%であった。このことから1.6%のビフェノール構造がクレゾールノボラック構造に取り込まれたことがわかる。なお平均分子量Mwは1087であった。
実施例8
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、合成例1のエポキシ樹脂(EP8)を14.86部、4,4’−ビフェノールのエポキシ化物(融点147℃、エポキシ当量145g/eq.)を5.14部(全エポキシ樹脂20部中25.7%)、メチルイソブチルケトンを40部加え、75℃で1時間撹拌したが、結晶の溶け残りがあった。
これに対し、実施例6で得られたエポキシ樹脂混合物(EP7)20部に対し(理論的なジグリシジルオキシビフェニル量25.7%)とメチルイソブチルケトンを40部で同様の操作を行ったところ均一に溶解した。本結果からフェノール樹脂同士を混合させて、エピハロヒドリンと反応させることで得られる本発明のエポキシ樹脂混合物は溶剤溶解性に優れ、作業性、均一性に優れた樹脂が得られることを確認した。
実施例9、10、11および比較例1
<耐熱性試験>
前記で得られたエポキシ樹脂混合物を下記表1の割合(重量部)で配合し、ミキシングロールを用いて均一に混合・混練し、封止用エポキシ樹脂組成物を得た。このエポキシ樹脂組成物をミキサーにて粉砕し、更にタブレットマシーンにてタブレット化した。このタブレット化されたエポキシ樹脂組成物をトランスファー成型(175℃×60秒)し、更に脱型後160℃×2時間+180℃×6時間の条件で硬化、評価用試験片を得た。
なお、硬化物の物性は以下の要領で測定した。結果を以下の表1に示す。
・耐熱性(TMA):JIS K 7244に準拠して測定した。
・耐熱性(DMA)
動的粘弾性測定器:TA−instruments、DMA−2980
測定温度範囲:−30〜280℃
温速度:2℃/分
試験片サイズ:5mm×50mmに切り出した物を使用した(厚みは約800μm)
Tg:Tan−δのピーク点をTgとした
※表1中、TMA、DMAの単位は℃である。
本結果より、本発明のエポキシ樹脂混合物(EP1、EP2、EP6)を用いた組成物の硬化物は、原料軟化点の低いクレゾールノボラックを使用して製造し、それ自体も低い軟化点を有するエポキシ樹脂混合物EP9を用いた組成物の硬化物と比較して非常に高い耐熱性を有することができることが明らかとなった。
実施例12および比較例2
<各種硬化物性試験>
前記で得られたエポキシ樹脂混合物を下記表2の割合(重量部)で配合し、ミキシングロールを用いて均一に混合・混練し、封止用エポキシ樹脂組成物を得た。このエポキシ樹脂組成物をミキサーにて粉砕し、更にタブレットマシーンにてタブレット化した。このタブレット化されたエポキシ樹脂組成物をトランスファー成型(175℃×60秒)し、更に脱型後160℃×2時間+180℃×6時間の条件で硬化、評価用試験片を得た。
なお、硬化物の物性は以下の要領で測定した。結果を以下の表2に示す。
・曲げ試験:JIS K 6911に準拠 室温と120℃でテストを行った。
・ピール強度:180℃剥離試験 JIS K 6854−2に準拠 圧延銅箔使用
・K1C:破壊靭性試験 コンパクトテンション ASTM E−399に準拠
・吸湿率:85℃85%の高温高湿槽にて24時間放置後の重量増加%で評価
本結果より、本発明のエポキシ樹脂混合物は粘度が大幅に低下しても元のエポキシ樹脂混合物の特性と同等レベルであり、特性を落とさないことが確認できた。すなわち、他の特性に影響を与えることなく低粘度化のみを達成することができた。
実施例13、14、15
<各種硬化物性試験>
前記で得られたエポキシ樹脂混合物を以下の表3の割合(重量部)で配合し、ミキシングロールを用いて均一に混合・混練し、封止用エポキシ樹脂組成物を得た。このエポキシ樹脂組成物をミキサーにて粉砕し、更にタブレットマシーンにてタブレット化した。このタブレット化されたエポキシ樹脂組成物をトランスファー成型(175℃×60秒)し、更に脱型後160℃×2時間+180℃×6時間の条件で硬化、評価用試験片を得た。
以上の結果から本発明のエポキシ樹脂混合物は高い耐熱性を有することが確認できた。
実施例16、17および比較例3〜13
前記で得られたエポキシ樹脂混合物(EP1、2)と比較用のエポキシ樹脂混合物(EP9〜EP19)を用いた。EP10〜EP19の詳細については下記表4に示す。なお、EP10〜EP19はすべて日本化薬(株)製品である。
*上記表4において軟化点はJIS K−7234準拠
硬化剤としてフェノールノボラックをエポキシ樹脂と等当量、硬化促進剤としてトリトルイルフォスフィン(TPTP)をエポキシ樹脂に対し1重量%配合し、ミキシングロールを用いて均一に混合・混練し、封止用エポキシ樹脂組成物を得た。このエポキシ樹脂組成物をミキサーにて粉砕し、更にタブレットマシーンにてタブレット化した。このタブレット化されたエポキシ樹脂組成物をトランスファー成型(175℃×40秒)し、更に脱型後160℃×2時間+180℃×6時間の条件で硬化、評価用試験片を得た。
なお、硬化物の物性は以下の要領で測定した。結果を以下の表5に示す。
<TMA測定条件>
熱機械測定装置 真空理工(株)製 TM−7000 昇温速度:2℃/分
<Td5:5%熱重量減少温度>
得られた硬化物を粉砕し粉状にしたものを100メッシュの金網を通過し、200メッシュの金網状に残る粒径をそろえたサンプルを用い、TG−DTAにより、熱分解温度を測定した。サンプル使用量約10mg、昇温速度:10℃/min.空気 200mL/minでフローした状態で測定を行い、5%の重量減少があった温度を評価した。
また上記結果をグラフ化し、グラフに示した(図参照)。
以上の結果から本発明のエポキシ樹脂、およびその組成物は耐熱性だけでなく、耐熱分解性に優れた硬化物を与えることが明らかとなった。
このことは樹脂骨格の安定性が良好であることを示し、耐熱着色性等の特性においても優れることがわかる。
本発明を特定の態様を参照して詳細に説明したが、本発明の精神と範囲を離れることなく様々な変更および修正が可能であることは、当業者にとって明らかである。
なお、本出願は、2014年2月7日付で出願された日本国特許出願(特願2014−021879)に基づいており、その全体が引用により援用される。また、ここに引用されるすべての参照は全体として取り込まれる。
本発明のエポキシ樹脂混合物は好適な流動性を有し、耐熱性が高くかつ耐熱分解特性に優れるので、本発明のエポキシ樹脂を含む樹脂組成物は、電気電子材料用途、特に半導体の封止剤、薄膜基板材料として有用である。

Claims (7)

  1. 軟化点(ASTM D 3104準拠)が120〜150℃であるオルソクレゾールノボラック樹脂と4,4’−ビフェノールを混合し、塩基性条件下でエピハロヒドリンと反応させて得られるエポキシ樹脂混合物であり、軟化点(ASTM D 3104準拠)が100〜120℃である下記式(1)で表されるエポキシ樹脂と、下記式(2)で表されるエポキシ化合物とを含有するエポキシ樹脂混合物。

    (式(1)中、nは平均値で5〜20の数を表す。)
  2. 前記式(2)で表されるエポキシ化合物が、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(検出器:RI)で測定したエポキシ樹脂混合物のチャートの全面積の15〜25面積%を占める請求項1に記載のエポキシ樹脂混合物
  3. 150℃における溶融粘度が0.11Pa・s以上1.0Pa・s以下である請求項1又は2に記載のエポキシ樹脂混合物。
  4. 請求項1〜のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂混合物と、硬化剤とを含有するエポキシ樹脂組成物。
  5. 請求項1〜のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂混合物と、重合触媒とを含有するエポキシ樹脂組成物。
  6. 請求項4又は5に記載のエポキシ樹脂組成物を硬化して得られる硬化物。
  7. 粒状またはタブレット状に成型した請求項4又は5に記載のエポキシ樹脂組成物で半導体チップを覆い、175℃〜250℃で成型した半導体装置。
JP2015561027A 2014-02-07 2015-02-05 エポキシ樹脂混合物、エポキシ樹脂組成物、その硬化物、および半導体装置 Active JP6427116B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014021879 2014-02-07
JP2014021879 2014-02-07
PCT/JP2015/053239 WO2015119196A1 (ja) 2014-02-07 2015-02-05 エポキシ樹脂混合物、エポキシ樹脂組成物、その硬化物、および半導体装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2015119196A1 JPWO2015119196A1 (ja) 2017-03-23
JP6427116B2 true JP6427116B2 (ja) 2018-11-21

Family

ID=53777997

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015561027A Active JP6427116B2 (ja) 2014-02-07 2015-02-05 エポキシ樹脂混合物、エポキシ樹脂組成物、その硬化物、および半導体装置

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP6427116B2 (ja)
KR (1) KR102250971B1 (ja)
CN (1) CN105899566B (ja)
TW (1) TWI650340B (ja)
WO (1) WO2015119196A1 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018090770A (ja) * 2016-11-29 2018-06-14 京セラ株式会社 透明エポキシ樹脂組成物および光半導体装置

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SG160334A1 (en) * 2005-02-25 2010-04-29 Nippon Kayaku Kk Epoxy resin, hardenable resin composition containing the same and use thereof
JP5379066B2 (ja) * 2010-04-23 2013-12-25 パナソニック株式会社 半導体封止用エポキシ樹脂組成物
JP6102112B2 (ja) * 2012-07-30 2017-03-29 日立化成株式会社 エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置

Also Published As

Publication number Publication date
KR102250971B1 (ko) 2021-05-12
CN105899566A (zh) 2016-08-24
TWI650340B (zh) 2019-02-11
KR20160119751A (ko) 2016-10-14
JPWO2015119196A1 (ja) 2017-03-23
CN105899566B (zh) 2018-10-26
TW201534634A (zh) 2015-09-16
WO2015119196A1 (ja) 2015-08-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPWO2015037584A1 (ja) エポキシ樹脂混合物、エポキシ樹脂組成物、硬化物および半導体装置
JP6735097B2 (ja) エポキシ樹脂混合物、エポキシ樹脂組成物、硬化物および半導体装置
JP6090765B2 (ja) フェノール樹脂、エポキシ樹脂、および硬化性樹脂組成物
JP6120363B2 (ja) エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物およびその硬化物
KR102047682B1 (ko) 에폭시 수지 혼합물, 에폭시 수지 조성물 및 그 경화물
JP2016089072A (ja) フェノール樹脂、エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物およびそれらの硬化物
JP6427116B2 (ja) エポキシ樹脂混合物、エポキシ樹脂組成物、その硬化物、および半導体装置
JP6359024B2 (ja) フェノール樹脂の製造方法、フェノール樹脂、エポキシ樹脂およびエポキシ樹脂組成物
JP6284732B2 (ja) エポキシ樹脂混合物、および硬化性樹脂組成物
JP6403554B2 (ja) フェノール樹脂、エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物、およびその硬化物
JP2015067615A (ja) エポキシ樹脂混合物、硬化性樹脂組成物、およびその硬化物
JP6470186B2 (ja) エポキシ樹脂組成物、その硬化物、および半導体装置
JP6504709B2 (ja) フェノール樹脂、エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物、およびその硬化物
JP6508780B2 (ja) エポキシ樹脂混合物、エポキシ樹脂組成物、プリプレグ、およびその硬化物
JP6090784B2 (ja) エポキシ樹脂ワニス、エポキシ樹脂組成物、硬化性シート、プリプレグ、積層板、プリント配線板および半導体装置
JP6414845B2 (ja) フェノール樹脂、エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物、およびそれらの硬化物
WO2015137299A1 (ja) エポキシ樹脂混合物、硬化性樹脂組成物、その硬化物、および半導体装置
JPWO2015060307A1 (ja) フェノール樹脂、エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物、プリプレグ、およびその硬化物
JP2017149900A (ja) エポキシ樹脂組成物、その硬化物、およびそれを用いた接着剤
JPWO2015125760A1 (ja) 樹脂変性フィラー、エポキシ樹脂組成物、およびその硬化物

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170922

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180724

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180906

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20181016

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20181026

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6427116

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250