JP2782093B2 - 重合性組成物 - Google Patents
重合性組成物Info
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- JP2782093B2 JP2782093B2 JP1196340A JP19634089A JP2782093B2 JP 2782093 B2 JP2782093 B2 JP 2782093B2 JP 1196340 A JP1196340 A JP 1196340A JP 19634089 A JP19634089 A JP 19634089A JP 2782093 B2 JP2782093 B2 JP 2782093B2
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- polymerization
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Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、カチオン重合性組成物、重合触媒および重
合方法に関する。更に詳しくは、カチオン重合性物質を
光、電子線等の放射線および/または熱により短時間に
重合させ、良好な物性をもった硬化物や、実用性のある
カチオン重合性ビニル化合物のオリゴマーを得るための
重合組成物、その重合のための触媒および重合方法に関
する。
合方法に関する。更に詳しくは、カチオン重合性物質を
光、電子線等の放射線および/または熱により短時間に
重合させ、良好な物性をもった硬化物や、実用性のある
カチオン重合性ビニル化合物のオリゴマーを得るための
重合組成物、その重合のための触媒および重合方法に関
する。
[従来の技術および解決すべき問題点] 一般に、カチオン重合性物質、とりわけエポキシ樹脂
は、高性能材料を必要とする種々の用途に使われてい
る。特に、紫外線等所定の波長の放射線の照射により重
合硬化させる方法は、短時間で硬化させることが可能
で、重合工程が簡易であるため、各種用途に供せられて
いる。
は、高性能材料を必要とする種々の用途に使われてい
る。特に、紫外線等所定の波長の放射線の照射により重
合硬化させる方法は、短時間で硬化させることが可能
で、重合工程が簡易であるため、各種用途に供せられて
いる。
従来、エポキシ樹脂は硬化剤として活性なアミン含有
化合物やカルボン酸無水物を混入し、2液系で広く利用
されている。しかし、これらの硬化剤を用いた2液系
は、完全に成分を混合する必要があり、硬化時間も数時
間に及ぶ。
化合物やカルボン酸無水物を混入し、2液系で広く利用
されている。しかし、これらの硬化剤を用いた2液系
は、完全に成分を混合する必要があり、硬化時間も数時
間に及ぶ。
エポキシ樹脂を1液系として硬化するのにフッ化ホウ
素−モノエチルアミンの系があるが、これは160℃ある
いはそれ以上の温度でも1〜8時間を要している。この
改良として米国特許3565861号が挙げられるが、やはり
高温を必要としている。従ってこれらの組成物は、熱に
敏感な電子部品等の被覆には使用できない。
素−モノエチルアミンの系があるが、これは160℃ある
いはそれ以上の温度でも1〜8時間を要している。この
改良として米国特許3565861号が挙げられるが、やはり
高温を必要としている。従ってこれらの組成物は、熱に
敏感な電子部品等の被覆には使用できない。
更に、光によりエポキシ樹脂を硬化させるのに金属ハ
ロゲン化合物アリールジアゾニウム塩が提案されてい
る。しかし、これらは、急速に重合し、また早過ぎるゲ
ル化を受け易く、そのため暗所においてさえ寸時も満足
に貯蔵できない組成物になってしまうことが予想され
る。金属ハロゲン化物アリールジアゾニウム塩を含有す
るエポキシ材料に、その組成物の早過ぎるゲル化を抑制
し、また暗所における貯蔵性を与えることが提案された
が、コストが増大し、また全く満足すべき結果は得られ
ていない。
ロゲン化合物アリールジアゾニウム塩が提案されてい
る。しかし、これらは、急速に重合し、また早過ぎるゲ
ル化を受け易く、そのため暗所においてさえ寸時も満足
に貯蔵できない組成物になってしまうことが予想され
る。金属ハロゲン化物アリールジアゾニウム塩を含有す
るエポキシ材料に、その組成物の早過ぎるゲル化を抑制
し、また暗所における貯蔵性を与えることが提案された
が、コストが増大し、また全く満足すべき結果は得られ
ていない。
また、これら組成物は、硬化中に窒素が放出されるた
め、これにより得られる硬化物質が好ましくない気胞を
含むという問題がある。
め、これにより得られる硬化物質が好ましくない気胞を
含むという問題がある。
ところで、オニウム塩については種々の光分解性スル
ホニウム塩が公知である。例えば特開昭54−53181号に
はp−ヒドロキシフェニルジメチスルホニウム ヘキサ
フルオロアルセネート類を光硬化剤とすることが、また
特開昭50−151997号においては、フェニルスルホニウム
塩をエポキシ用光硬化剤とすることが知られている。し
かし、これらは光による硬化に関する開示であり、熱硬
化に関する開示はない。
ホニウム塩が公知である。例えば特開昭54−53181号に
はp−ヒドロキシフェニルジメチスルホニウム ヘキサ
フルオロアルセネート類を光硬化剤とすることが、また
特開昭50−151997号においては、フェニルスルホニウム
塩をエポキシ用光硬化剤とすることが知られている。し
かし、これらは光による硬化に関する開示であり、熱硬
化に関する開示はない。
一方、熱を加えることによりオニウム塩を活性化さ
せ、エポキシ樹脂を硬化させることのできる熱潜在性触
媒について、特開昭58−37003号や特開昭63−223002号
にはジアルキルベンジルスルホニウム ヘキサフルオロ
アンチモネート塩のごときベンジルスルホニウム塩が、
特開昭56−152833号にはトリアルキル型のスルホニウム
塩が報告されている。しかし、このスルホニウム塩はエ
ポキシ樹脂を硬化させるのに150℃以上を必要とするな
ど、加熱時間、温度とも実用的とはいえない。
せ、エポキシ樹脂を硬化させることのできる熱潜在性触
媒について、特開昭58−37003号や特開昭63−223002号
にはジアルキルベンジルスルホニウム ヘキサフルオロ
アンチモネート塩のごときベンジルスルホニウム塩が、
特開昭56−152833号にはトリアルキル型のスルホニウム
塩が報告されている。しかし、このスルホニウム塩はエ
ポキシ樹脂を硬化させるのに150℃以上を必要とするな
ど、加熱時間、温度とも実用的とはいえない。
また、これら脂肪族あるいは脂環式スルホニウム塩の
出発原料であるスルフィド類は、一般に特有の悪臭を有
しており工業的製造において問題となるばかりか硬化物
にも臭気が残る。
出発原料であるスルフィド類は、一般に特有の悪臭を有
しており工業的製造において問題となるばかりか硬化物
にも臭気が残る。
また、スピロ型エステルのごとき特殊エステルについ
ては特開昭60−188425号にその加熱重合に関する硬化剤
が開示されている。
ては特開昭60−188425号にその加熱重合に関する硬化剤
が開示されている。
一方、カチオン重合性ビニル化合物のカチオン重合触
媒としては、鉱酸,BF3,ZnCl2,AlCl3などのルイス酸型触
媒や、AlR2Cl,AlRCl2といったハロゲン含有有機アルミ
ニウム化合物などが公知である。しかしながら、これら
触媒は0℃以上の温度ではカチオン重合反応があまりに
も激しく、重合反応の調整が思うように制御できず重合
度が高まらない。もちろん、カチオン重合性モノマーと
これら触媒をあらかじめ室温で一液化し、保存すること
も不可能である。
媒としては、鉱酸,BF3,ZnCl2,AlCl3などのルイス酸型触
媒や、AlR2Cl,AlRCl2といったハロゲン含有有機アルミ
ニウム化合物などが公知である。しかしながら、これら
触媒は0℃以上の温度ではカチオン重合反応があまりに
も激しく、重合反応の調整が思うように制御できず重合
度が高まらない。もちろん、カチオン重合性モノマーと
これら触媒をあらかじめ室温で一液化し、保存すること
も不可能である。
ビニル化合物を重合させようとすると、連鎖移動反応
や停止反応を制御する必要があり、通常、適当な溶媒に
溶解したカチオン重合性モノマーを所定の極低温まで冷
却した後に、触媒液が仕込まれ重合反応が行われる。し
かし、重合反応を工業的に極めて低温(例えば−130〜
−40℃)で行うためには、低温の冷媒を使用する必要が
あるため操作が煩雑であり、また冷却費用がかさむなど
決して満足すべき方法とはいえない。
や停止反応を制御する必要があり、通常、適当な溶媒に
溶解したカチオン重合性モノマーを所定の極低温まで冷
却した後に、触媒液が仕込まれ重合反応が行われる。し
かし、重合反応を工業的に極めて低温(例えば−130〜
−40℃)で行うためには、低温の冷媒を使用する必要が
あるため操作が煩雑であり、また冷却費用がかさむなど
決して満足すべき方法とはいえない。
[発明の目的] 本発明の目的は、放射線および/または熱でエポキシ
樹脂などのカチオン重合性物質を重合することができ、
かつまた、室温での貯蔵安定性に優れ、封止剤、複合材
用マトリックス樹脂などに利用されるカチオン重合性組
成物を提供し、その重合の方法、重合用の触媒を提案す
ることにある。または、スチレンなどのカチオン重合性
ビニル化合物を一定の条件のもとに重合させるととも
に、重合触媒と混合物との貯蔵安定性に優れたモノマー
組成物を提供するとともに、実用性のあるビニル化合物
のオリゴマーを工業的に提供し、その重合の方法、重合
用の触媒を提案することにある。
樹脂などのカチオン重合性物質を重合することができ、
かつまた、室温での貯蔵安定性に優れ、封止剤、複合材
用マトリックス樹脂などに利用されるカチオン重合性組
成物を提供し、その重合の方法、重合用の触媒を提案す
ることにある。または、スチレンなどのカチオン重合性
ビニル化合物を一定の条件のもとに重合させるととも
に、重合触媒と混合物との貯蔵安定性に優れたモノマー
組成物を提供するとともに、実用性のあるビニル化合物
のオリゴマーを工業的に提供し、その重合の方法、重合
用の触媒を提案することにある。
[問題点を解決するための手段] 本発明者らは、前記したような問題点を解決すべく鋭
意研究を重ねた結果、本発明に至った。
意研究を重ねた結果、本発明に至った。
即ち、本発明は、カチオン重合性物質と、これを放射
線および/または熱により重合させることのできる下記
一般式[I]で示されるスルホニウム塩を含む重合性組
成物、および下記一般式[I]を主成分とする重合触
媒、更には重合方法に関する。
線および/または熱により重合させることのできる下記
一般式[I]で示されるスルホニウム塩を含む重合性組
成物、および下記一般式[I]を主成分とする重合触
媒、更には重合方法に関する。
R1:アセチル基,ベンジルオキシカルボニル基,ベンゾ
イル基,フェノキシカルボニル基のいずれかである。
イル基,フェノキシカルボニル基のいずれかである。
R2,R3:それぞれ独立して水素,ハロゲン,C1〜C4のアル
キル基のいずれかである。
キル基のいずれかである。
R4,R5:それぞれ独立してメチル基,エチル基のいずれか
である。
である。
X:SbF6,AsF6,PF6のいずれかである。
[発明の構成] 本発明の重合触媒は、ジアルキル−4−置換オキシフ
ェニル スルホニウム化合物と所定の陰イオンとの対の
化合物であり、これらを構成要件としている。
ェニル スルホニウム化合物と所定の陰イオンとの対の
化合物であり、これらを構成要件としている。
また、本発明に使用されるカチオン重合性物質とは、
酸重合性または酸硬化性物質、とりわけエポキシ樹脂が
好ましく用いられる。適当な物質の例は、エポキシド単
量体類、エピサルファイド単量体類、ポリエポキシド類
(あるいはエポキシ樹脂)、ポリエピサルファイド類
(あるいはエピサルファイド樹脂)、フェノール/ホル
ムアルデヒド樹脂、メラミン/ホルムアルデヒド樹脂、
尿素/ホルムアルデヒド樹脂、スピロオルトエステル、
ビシクロオルソエステル、スピロオルトカーボネートの
ような環状エーテルおよび環状チオエーテル(エポキシ
ドおよびエピサルファイド以外のもの)およびそれらの
重合体、ラクトン、スチレン、ビニルエーテルおよびビ
ニルチオエーテルならびに、酸により処理されたとき樹
脂を交叉結合または硬化させる交叉結合剤を含有する樹
脂であり、単独でも2種類以上の混合でもかまわない。
酸重合性または酸硬化性物質、とりわけエポキシ樹脂が
好ましく用いられる。適当な物質の例は、エポキシド単
量体類、エピサルファイド単量体類、ポリエポキシド類
(あるいはエポキシ樹脂)、ポリエピサルファイド類
(あるいはエピサルファイド樹脂)、フェノール/ホル
ムアルデヒド樹脂、メラミン/ホルムアルデヒド樹脂、
尿素/ホルムアルデヒド樹脂、スピロオルトエステル、
ビシクロオルソエステル、スピロオルトカーボネートの
ような環状エーテルおよび環状チオエーテル(エポキシ
ドおよびエピサルファイド以外のもの)およびそれらの
重合体、ラクトン、スチレン、ビニルエーテルおよびビ
ニルチオエーテルならびに、酸により処理されたとき樹
脂を交叉結合または硬化させる交叉結合剤を含有する樹
脂であり、単独でも2種類以上の混合でもかまわない。
[作用] このような本発明の重合触媒として使用されるスルホ
ニウム塩は前述のとおりであり、このスルホニウム塩
は、対応する4−(置換オキシ)フェニルアルキルスル
フィドをアルキル硫酸と反応させ、アルキル硫酸イオン
を有するスルホニウム塩を合成し、しかる後に所定の錯
塩と陰イオン交換を行うことで高収率に得られる。
ニウム塩は前述のとおりであり、このスルホニウム塩
は、対応する4−(置換オキシ)フェニルアルキルスル
フィドをアルキル硫酸と反応させ、アルキル硫酸イオン
を有するスルホニウム塩を合成し、しかる後に所定の錯
塩と陰イオン交換を行うことで高収率に得られる。
本発明におけるスルホニウム塩として好ましいのは、
4−アセトキシフェニルジメチルスルホニウム ヘキサ
フルオロアンチモネート、4−アセトキシフェニルジメ
チルスルホニウム ヘキサフルオロアルセネート、ジメ
チル−4−(ベンジルオキシカルボニルオキシ)フェニ
ルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ジエ
チル−4−(ベンジルオキシカルボニルオキシ)フェニ
ルスルホニウム ヘキサフルオロホスフェート、ジメチ
ル−4−(ベンゾイルオキシ)フェニルスルホニウム
ヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル−4−(ベン
ゾイルオキシ)フェニルスルホニウム ヘキサフルオロ
アルセネート、ジメチル−4−(フェノキシカルボニル
オキシ)フェニルスルホニウム ヘキサフルオロアルセ
ネート、ジメチル−2−クロロ−4−(ベンジルオキシ
カルボニルオキシ)フェニルスルホニウム ヘキサフル
オロアンチモネート、ジメチル−3−メチル−4−(ベ
ンジルオキシカルボニルオキシ)フェニルスルホニウム
ヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル−3−クロ
ロ−4−アセトキシフェニルスルホニウム ヘキサフル
オロアンチモネート等が挙げられる。
4−アセトキシフェニルジメチルスルホニウム ヘキサ
フルオロアンチモネート、4−アセトキシフェニルジメ
チルスルホニウム ヘキサフルオロアルセネート、ジメ
チル−4−(ベンジルオキシカルボニルオキシ)フェニ
ルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ジエ
チル−4−(ベンジルオキシカルボニルオキシ)フェニ
ルスルホニウム ヘキサフルオロホスフェート、ジメチ
ル−4−(ベンゾイルオキシ)フェニルスルホニウム
ヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル−4−(ベン
ゾイルオキシ)フェニルスルホニウム ヘキサフルオロ
アルセネート、ジメチル−4−(フェノキシカルボニル
オキシ)フェニルスルホニウム ヘキサフルオロアルセ
ネート、ジメチル−2−クロロ−4−(ベンジルオキシ
カルボニルオキシ)フェニルスルホニウム ヘキサフル
オロアンチモネート、ジメチル−3−メチル−4−(ベ
ンジルオキシカルボニルオキシ)フェニルスルホニウム
ヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル−3−クロ
ロ−4−アセトキシフェニルスルホニウム ヘキサフル
オロアンチモネート等が挙げられる。
本発明において使用されるスルホニウム塩は、熱に対
して活性を上げるだけでなく、光、電子線などの放射線
に対しても活性がある。すなわち、熱または放射線で励
起されたこれらスルホニウム塩は、アシルカチオンを放
出し、前述のカチオン重合性物質の重合を進行させると
考えられる。
して活性を上げるだけでなく、光、電子線などの放射線
に対しても活性がある。すなわち、熱または放射線で励
起されたこれらスルホニウム塩は、アシルカチオンを放
出し、前述のカチオン重合性物質の重合を進行させると
考えられる。
また本発明において、カチオン重合性物質がビニル化
合物の場合は、重合反応に際して通常、触媒、モノマー
などに不活性な溶媒を用いた溶液重合が行われるが、場
合によっては塊状重合も行われる。溶媒としては、例え
ば、トルエン、ベンゼン、キシレンのような芳香族炭化
水素類、n−ヘキサン、n−ヘプタンのような脂肪族炭
化水素類、シクロヘキサンのような脂環式炭化水素類、
石油エーテル、リグロインのような炭化水素混合物類、
クロルベンゼン、ジクロルエタンのようなハロゲン化炭
化水素類などが使用でき、また、これらビニル化合物の
重合反応は常圧または加圧下で行われ、反応温度は80℃
以上の温度、好ましくは100〜150℃である。
合物の場合は、重合反応に際して通常、触媒、モノマー
などに不活性な溶媒を用いた溶液重合が行われるが、場
合によっては塊状重合も行われる。溶媒としては、例え
ば、トルエン、ベンゼン、キシレンのような芳香族炭化
水素類、n−ヘキサン、n−ヘプタンのような脂肪族炭
化水素類、シクロヘキサンのような脂環式炭化水素類、
石油エーテル、リグロインのような炭化水素混合物類、
クロルベンゼン、ジクロルエタンのようなハロゲン化炭
化水素類などが使用でき、また、これらビニル化合物の
重合反応は常圧または加圧下で行われ、反応温度は80℃
以上の温度、好ましくは100〜150℃である。
また、本発明において重合触媒として使用されるスル
ホニウム塩は室温ではカチオン重合反応を開始しないた
め、必要によってはあらかじめモノマーと触媒を適当な
溶媒を用いて一液化し、保存しておくことも可能であ
る。
ホニウム塩は室温ではカチオン重合反応を開始しないた
め、必要によってはあらかじめモノマーと触媒を適当な
溶媒を用いて一液化し、保存しておくことも可能であ
る。
本発明に使用されるスルホニウム塩は、樹脂100重量
部に対して0.01〜20重量部、好ましくは0.1〜5重量部
である。0.01重量部より少ないと充分な重合物が得られ
ない。20重量部を越える添加量では、重合後の物性にお
いて好ましいものが得られず、コストの面においても好
ましくない。また、重合硬化は、放射線処理または加熱
処理により行われ、必要によっては加熱と放射線照射を
併用することも可能である。また、重合時には、必要に
より溶媒を用いることもできる。
部に対して0.01〜20重量部、好ましくは0.1〜5重量部
である。0.01重量部より少ないと充分な重合物が得られ
ない。20重量部を越える添加量では、重合後の物性にお
いて好ましいものが得られず、コストの面においても好
ましくない。また、重合硬化は、放射線処理または加熱
処理により行われ、必要によっては加熱と放射線照射を
併用することも可能である。また、重合時には、必要に
より溶媒を用いることもできる。
本発明による放射線としては、波長250〜400nm範囲の
紫外線が最も効率よく、それゆえ、光源としては、低圧
水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンランプ、カ
ーボンアーク灯などが挙げられ、さらに電子線を照射す
ることによっても重合、硬化させることができる。
紫外線が最も効率よく、それゆえ、光源としては、低圧
水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンランプ、カ
ーボンアーク灯などが挙げられ、さらに電子線を照射す
ることによっても重合、硬化させることができる。
本発明の組成物は、更に場合によっては、増量剤、難
燃剤、静電防止剤、界面活性剤、酸無水物に代表される
助剤等を混合して用いられる。
燃剤、静電防止剤、界面活性剤、酸無水物に代表される
助剤等を混合して用いられる。
本発明の組成物は、艶出しワニス、インキ、塗料、接
着剤、積層板、プリプレグ、成型材料、封止材料等に使
用できる。
着剤、積層板、プリプレグ、成型材料、封止材料等に使
用できる。
本発明の硬化性組成物は、室温において長期間保存可
能であり、150℃以下の加熱で速やかに重合を開始する
機能を備え、高温硬化性に優れ、吸湿性がなく、耐水
性、耐薬品性、電気特性に優れた硬化物を与える。
能であり、150℃以下の加熱で速やかに重合を開始する
機能を備え、高温硬化性に優れ、吸湿性がなく、耐水
性、耐薬品性、電気特性に優れた硬化物を与える。
また、カチオン重合性ビニル化合物との組成物におい
ては、従来困難であったモノマーと触媒の一液化保存、
更には80℃以上でのカチオン重合反応を可能とし、か
つ、簡単な加熱で実用性のある重合度の高い重合体を得
ることが可能になった点にある。
ては、従来困難であったモノマーと触媒の一液化保存、
更には80℃以上でのカチオン重合反応を可能とし、か
つ、簡単な加熱で実用性のある重合度の高い重合体を得
ることが可能になった点にある。
[実施例] 以下実施例にて本発明を詳細にするが、本発明は以下
のみに限定されるものではない。
のみに限定されるものではない。
実施例1〜5 フェニルグリシジルエーテル1gに対して、種々のスル
ホニウム塩を0.030g混合した。この混合物を脱気、封管
し、60℃,140℃でそれぞれ1時間重合させた時のフェニ
ルグリシジルエーテルの転化率を1H−NMRを用いて決定
した。結果を表1に示す。また、ここで調製した組成物
を40℃で1カ月放置したところ、著しい増粘は見られな
かった。
ホニウム塩を0.030g混合した。この混合物を脱気、封管
し、60℃,140℃でそれぞれ1時間重合させた時のフェニ
ルグリシジルエーテルの転化率を1H−NMRを用いて決定
した。結果を表1に示す。また、ここで調製した組成物
を40℃で1カ月放置したところ、著しい増粘は見られな
かった。
実施例6 3,9−ジベンジル−1,5,7,11−テトラオキサビシクロ
[5,5]ウンデカン 0.5gに対して、ジメチル−4−
(ベンジルオキシカルボニルオキシ)フェニルスルホニ
ウム ヘキサフルオロアンチモネートを3mol%(0.0231
g)混合し、脱気、封管した。この混合物を、140℃で2
時間塊状重合させた。重合後、1H−NMRスペクトルより
転化率99%を確認した。
[5,5]ウンデカン 0.5gに対して、ジメチル−4−
(ベンジルオキシカルボニルオキシ)フェニルスルホニ
ウム ヘキサフルオロアンチモネートを3mol%(0.0231
g)混合し、脱気、封管した。この混合物を、140℃で2
時間塊状重合させた。重合後、1H−NMRスペクトルより
転化率99%を確認した。
次に、重合物を塩化メチレン2mlで溶解し、ヘキサン1
00ml中に注入した。ついでヘキサン不溶部を乾燥させ、
0.45gのポリマーを得た。
00ml中に注入した。ついでヘキサン不溶部を乾燥させ、
0.45gのポリマーを得た。
実施例7 精製したスチレン0.5gに対してジメチル−4−(ベン
ジルオキシカルボニルオキシ)フェニルスルホニウム
ヘキサフルオロアンチモネート 1mol%を混合し、脱
気,封管した。ついで、撹拌下、140℃で重合を行っ
た。30分後、固化した反応液を四塩化炭素2mlで溶解
し、この1H−NMRスペクトルより転化率96%を各確認し
た。
ジルオキシカルボニルオキシ)フェニルスルホニウム
ヘキサフルオロアンチモネート 1mol%を混合し、脱
気,封管した。ついで、撹拌下、140℃で重合を行っ
た。30分後、固化した反応液を四塩化炭素2mlで溶解
し、この1H−NMRスペクトルより転化率96%を各確認し
た。
次にメタノール中にこれを注入し、重合を停止させ重
合体を析出させた。精製乾燥した重合体は白色結晶で収
率83%であった。
合体を析出させた。精製乾燥した重合体は白色結晶で収
率83%であった。
また、GPC(ポリスチレン換算)により▲=3100,
▲▼/▼=2.12であり、また熱重合体(ラジカ
ル重合体)は含まれなかった。
▲▼/▼=2.12であり、また熱重合体(ラジカ
ル重合体)は含まれなかった。
実施例8〜11 実施例7に準じ種々のスルホニウム塩を用いてスチレ
ンの重合を行った。結果を表2に示す。
ンの重合を行った。結果を表2に示す。
実施例12 実施例7に準じ、40℃,60分でスチレンの重合を行っ
たが、転化率は0%であった。
たが、転化率は0%であった。
実施例13 精製したスチレン10gとジメチル−4−(ベンジルオ
キシカルボニルオキシ)フェニルスルホニウム ヘキサ
フルオロアンチモネート 0.50gをクロルベンゼン100ml
で溶解させ、脱気、封管し室温で1か月放置したが、ス
チレンの重合は起こらなかった。
キシカルボニルオキシ)フェニルスルホニウム ヘキサ
フルオロアンチモネート 0.50gをクロルベンゼン100ml
で溶解させ、脱気、封管し室温で1か月放置したが、ス
チレンの重合は起こらなかった。
実施例14〜18 エピコート828(油化シェルエポキシ製ビスフェノー
ルA型エポキシ樹脂)100重量部と種々のスルホニウム
塩2重量部からなる配合物を調整し、各々約100mgをと
り、150℃に加熱した熱板上(日新科学株式会社製 ゲ
ル化試験器 GT−D−JIS型)でゲル化時間を測定し
た。結果を表3に示す。
ルA型エポキシ樹脂)100重量部と種々のスルホニウム
塩2重量部からなる配合物を調整し、各々約100mgをと
り、150℃に加熱した熱板上(日新科学株式会社製 ゲ
ル化試験器 GT−D−JIS型)でゲル化時間を測定し
た。結果を表3に示す。
実施例19 実施例8〜11で調製した組成物を40℃で1カ月放置し
たが、著しい増粘は見られなかった。
たが、著しい増粘は見られなかった。
実施例20〜23 フェニルグリシジルエーテル1.0gに対して種々のスル
ホニウム塩を0.030g混合した。この混合物を脱気、封管
し、60分光塊状重合を行い、転化率を1H−NMRより求め
た。光源は400w高圧水銀灯を用い、理工科学産業製のロ
ータリー光化学反応装置を使用した。重合温度は20℃
(水冷下)とした。結果を表4に示す。
ホニウム塩を0.030g混合した。この混合物を脱気、封管
し、60分光塊状重合を行い、転化率を1H−NMRより求め
た。光源は400w高圧水銀灯を用い、理工科学産業製のロ
ータリー光化学反応装置を使用した。重合温度は20℃
(水冷下)とした。結果を表4に示す。
[発明の効果] 以上のとおり本発明に係る所定のスルホニウム塩は、
カチオン重合性物質の重合触媒として有効であり、これ
らを含有する重合組成物は加熱処理による重合方法で重
合、硬化することができる。またこの一液化した組成物
は混合後も安定であり、室温での貯蔵性に優れている。
よって所期の目的を達成できる。
カチオン重合性物質の重合触媒として有効であり、これ
らを含有する重合組成物は加熱処理による重合方法で重
合、硬化することができる。またこの一液化した組成物
は混合後も安定であり、室温での貯蔵性に優れている。
よって所期の目的を達成できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭64−26550(JP,A) 特許2562178(JP,B2) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C08F 4/00 CAS
Claims (12)
- 【請求項1】カチオン重合性物質の一種または二種以上
と、一般式[I]で示されるスルホニウム塩を含む重合
性組成物からなり、カチオン重合性物質100重量部に対
して、一般式[I]で示されるスルホニウム塩が0.01〜
20重量部からなる重合性組成物。 R1:アセチル基,ベンジルオキシカルボニル基,ベンゾ
イル基,フェノキシカルボニル基のいずれかである。 R2,R3:それぞれ独立して水素,ハロゲン,C1〜C4のアル
キル基のいずれかである。 R4,R5:それぞれ独立してメチル基,エチル基のいずれか
である。 X:SbF6,AsF6,PF6のいずれかである。 - 【請求項2】カチオン重合性物質が、エポキシ基を有す
る化合物である請求項1に記載の重合性組成物。 - 【請求項3】カチオン重合性物質がカチオン重合性ビニ
ル化合物である請求項1に記載の重合性組成物。 - 【請求項4】カチオン重合性物質が、スピロオルソエス
テル基,ビシクロオルソエステル基,スピロオルトカー
ボネート基のいずれかを一種または二種以上有する化合
物である請求項1に記載の重合性組成物。 - 【請求項5】請求項1に記載の一般式[I]で示される
スルホニウム塩を主成分とするカチオン重合性物質の重
合触媒。 - 【請求項6】スルホニウム塩が4−アセトキシフェニル
ジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート
である請求項5に記載の重合触媒。 - 【請求項7】スルホニウム塩がジメチル−4−(ベンジ
ルオキシカルボニルオキシ)フェニルスルホニウム ヘ
キサフルオロアンチモネートである請求項5に記載の重
合触媒。 - 【請求項8】スルホニウム塩がジメチル−4−(ベンゾ
イルオキシ)フェニルスルホニウム ヘキサフルオロア
ンチモネートである請求項5に記載の重合触媒。 - 【請求項9】カチオン重合性物質の一種または二種以上
に請求項1に記載の一般式[I]で示されるスルホニウ
ム塩の一種または二種以上を触媒として加え、これを放
射線および/または熱により、重合を開始させることを
特徴とするカチオン重合性物質の重合方法。 - 【請求項10】放射線が紫外線である請求項9に記載の
重合方法。 - 【請求項11】重合を80℃以上の温度で行うことを特徴
とする請求項9に記載の重合方法。 - 【請求項12】カチオン重合性物質100重量部に対し
て、請求項1に記載の一般式[I]で示されるスルホニ
ウム塩を、0.01〜20重量部添加してなる請求項9に記載
の重合方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1196340A JP2782093B2 (ja) | 1989-07-27 | 1989-07-27 | 重合性組成物 |
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JP1196340A JP2782093B2 (ja) | 1989-07-27 | 1989-07-27 | 重合性組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0359001A JPH0359001A (ja) | 1991-03-14 |
JP2782093B2 true JP2782093B2 (ja) | 1998-07-30 |
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ID=16356207
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JP1196340A Expired - Fee Related JP2782093B2 (ja) | 1989-07-27 | 1989-07-27 | 重合性組成物 |
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Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2782093B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022270536A1 (ja) | 2021-06-24 | 2022-12-29 | 株式会社Adeka | エポキシ樹脂組成物 |
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---|---|---|---|---|
US7358408B2 (en) | 2003-05-16 | 2008-04-15 | Az Electronic Materials Usa Corp. | Photoactive compounds |
JP2006096742A (ja) * | 2004-08-31 | 2006-04-13 | Sanshin Chem Ind Co Ltd | スルホニウム化合物 |
JP5752832B2 (ja) * | 2008-09-30 | 2015-07-22 | 東京応化工業株式会社 | 化合物及びそれからなる酸発生剤 |
JP5559501B2 (ja) * | 2008-09-30 | 2014-07-23 | 東京応化工業株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2562178B2 (ja) | 1987-07-01 | 1996-12-11 | ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト | 感光層形成材料用の放射線感応性混合物 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3721740A1 (de) * | 1987-07-01 | 1989-01-12 | Basf Ag | Sulfoniumsalze mit saeurelabilen gruppierungen |
-
1989
- 1989-07-27 JP JP1196340A patent/JP2782093B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JP2562178B2 (ja) | 1987-07-01 | 1996-12-11 | ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト | 感光層形成材料用の放射線感応性混合物 |
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WO2022270536A1 (ja) | 2021-06-24 | 2022-12-29 | 株式会社Adeka | エポキシ樹脂組成物 |
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JPH0359001A (ja) | 1991-03-14 |
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