JP2000040208A5

JP2000040208A5 - 薄膜磁気ヘッドの製造方法および磁気ヘッド

Info

Publication number: JP2000040208A5
Application number: JP1998207491A
Authority: JP
Filing date: 1998-07-23
Publication date: 2005-10-06
Anticipated expiration: 2018-07-23

Description

この磁気ヘッドの製造工程において、上部磁気コアの先端部を形成後、保護膜を形成し、エッチバックする工程について図５を用いて説明する。記録ヘッドの下部磁気コアを兼用するシールドをもつ再生ヘッドを形成後、記録ヘッド用のギャップ膜を形成し、上部磁気コアの先端部用のフレームを形成する。このフレームを用いて飽和磁束密度（Ｂｓ）が１.６ＴのCoNiFeをめっきし、先端部を形成したところを図５−（ａ）に示す。但し、再生ヘッド部は省略した。図５−(ｂ)に保護膜用のＡｌ₂Ｏ₃をスパッタしたところを示す。基板にバイアスを印加しながら、スパッタすることでステップカバレッジを良好にすることができる。図５−（ｃ）に、続いてレジストを塗布して、全面に紫外線を照射後、１５０℃でベークし、レジスト表面を平坦にしたところを示す。図５−(ｄ)にＢＣｌ₃ を用いたＲＩＥにより、保護膜とレジストを同じエッチング速度でエッチングし、先に形成した先端部の表面を保護膜から露出させたところを示す。もちろんＣＭＰ等の研磨法により、先端部の表面が露出させても良い。

Claims

下部磁気コアを形成し、その上にギャップ膜を形成する工程と、
前記ギャップ膜の上に上部磁気コアの先端部を形成する工程と、
その後保護膜を被覆し、前記上部磁気コアの先端部を前記保護膜で埋め込んだ後、ケミカルメカニカルポリッシングにより前記上部磁気コアの先端部の表面を露出させて前記保護膜を平坦化する工程と、
平坦化された前記保護膜の上にコイル及び絶縁膜を形成する工程と、
ネガレジストを塗布し、前記ネガレジストの露光・現像によりフレームを形成する工程と、
前記フレームを用いてめっき法により前記上部磁気コアの先端部の一部と前記絶縁膜上に上部磁気コアの後部を媒体対向面に露出しないように形成する工程とを有する磁気ヘッドの製造方法。
請求項１の磁気ヘッドの製造方法において、
前記保護膜はＡｌ₂Ｏ₃である磁気ヘッドの製造方法。
請求項１乃至請求項２のいずれかの磁気ヘッドの製造方法において、
前記保護膜は上部磁気コアの先端部の媒体対向面と反対側の端面に接し、前記コイルと前記ギャップ膜の間に形成される磁気ヘッドの製造方法。
下部磁気コアを形成し、その上にギャップ膜を形成する工程と、
前記ギャップ膜の上に上部磁気コアの先端部を形成する工程と、
前記上部磁気コアの先端部を形成する工程後Ａｌ₂Ｏ₃又はＳｉＯ₂を堆積し、ケミカルメカニカルポリッシングで研磨し、Ａｌ₂Ｏ₃又はＳｉＯ₂膜を形成する工程と、
前記Ａｌ₂Ｏ₃又はＳｉＯ₂膜の上にコイル及び絶縁膜を形成する工程と、
前記コイル及び絶縁膜を形成する工程後ネガレジストを塗布し、露光・現像してフレームを形成する工程と、
前記フレームを用いてめっき法により前記上部磁気コアの先端部の一部と前記絶縁膜上に上部磁気コアの後部を媒体対向面に露出しないように形成する工程とを有し、
前記Ａｌ₂Ｏ₃又はＳｉＯ₂膜を形成する工程において、前記上部磁気コアの先端部の上に堆積されたＡｌ₂Ｏ₃又はＳｉＯ₂は除去される磁気ヘッドの製造方法。
請求項１乃至請求項４のいずれかの磁気ヘッドの製造方法において、
前記Ａｌ₂Ｏ₃又はＳｉＯ₂膜と媒体対向面との間に前記上部磁気コアの先端部は形成され、
前記Ａｌ₂Ｏ₃又はＳｉＯ₂膜と前記上部磁気コアの先端部の上面は平坦に合わせられている磁気ヘッドの製造方法。
請求項１乃至請求項５のいずれかの磁気ヘッドの製造方法において、
前記上部磁気コアの後部と前記上部磁気コアの先端部との接続部の端部と媒体対向面との間の距離は,ギャップ深さを決定する位置と媒体対向面との間の距離よりも小さい磁気ヘッドの製造方法。
請求項１乃至請求項６のいずれかの磁気ヘッドの製造方法において、
前記上部磁気コアの先端部の飽和磁束密度（Ｂｓ）は、前記上部磁気コアの後部の飽和
磁束密度（Ｂｓ）より大きい磁気ヘッドの製造方法。
請求項１乃至請求項７のいずれかの磁気ヘッドの製造方法は、さらに
再生ヘッドを形成する工程とを有し、
前記再生ヘッドのシールドは前記下部磁気コアと兼用される磁気ヘッドの製造方法。
下部磁気コアと、
上部磁気コアの先端部と、
前記下部磁気コアと前記上部磁気コアの先端部との間に形成されたギャップ膜と、
前記上部磁気コアの先端部の媒体対向面とは反対側の端面に接し、前記上部磁気コアの先端部の上面と上面が平坦に合わせられた保護膜と、
前記保護膜の上に形成されたコイルとコイル絶縁膜と、
前記上部磁気コアの先端部の一部と前記コイル絶縁膜上に形成された上部磁気コアの後部とを有し、
前記上記磁気コアの後部は、ネガレジストにより形成されたフレームでめっき法により形成され、
前記上部磁気コアの後部は媒体対向面には露出せず、
前記上部磁気コアの後部と前記上部磁気コアの先端部との接続部の端部を媒体対向面とギャップ深さを決定する位置の間に配置させた磁気ヘッド。
請求項９の磁気ヘッドにおいて、
前記上部磁気コアの先端部と、上部磁気コアの後部の接続部の端部の距離は、０．２〜１．５μｍである磁気ヘッド。
請求項９乃至請求項１０のいずれかの磁気ヘッドにおいて、
前記上部磁気コアの先端部の飽和磁束密度（Ｂｓ）は、前記上部磁気コアの後部の飽和磁束密度（Ｂｓ）より大きい磁気ヘッド。
請求項９乃至請求項１１のいずれかの磁気ヘッドにおいて、
前記上部磁気コアの先端部は、前記上部磁気コアの後部の材料と異なる材料で形成されている磁気ヘッド。
請求項９乃至請求項１２のいずれかの磁気ヘッドにおいて、
前記上部磁気コアの先端部と前記保護膜の表面はケミカルメカニカルポリッシングにより処理されている磁気ヘッド。
請求項９乃至請求項１３のいずれかの磁気ヘッドにおいて、
前記保護膜はＡｌ₂Ｏ₃である磁気ヘッド。