JP2000005772A - 消臭剤 - Google Patents

消臭剤

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JP2000005772A
JP2000005772A JP18090098A JP18090098A JP2000005772A JP 2000005772 A JP2000005772 A JP 2000005772A JP 18090098 A JP18090098 A JP 18090098A JP 18090098 A JP18090098 A JP 18090098A JP 2000005772 A JP2000005772 A JP 2000005772A
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chelating agent
deodorant
nitrate
peroxide
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JP18090098A
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Takayoshi Hamaguchi
高嘉 浜口
Kazuyuki Minato
一之 湊
Tadashi Shimomura
正 下村
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Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
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Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
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Abstract

(57)【要約】 【課題】廃水または汚泥の臭気を温和な条件で除去する
ための消臭剤を提供する。 【解決手段】過酸化物、硝酸イオン及びキレート剤から
なる消臭剤。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、消臭剤組成に関す
るものである。更に詳しくは、硫化水素、メルカプタン
類の1種類以上を含む臭気を少ない量で効果的に消臭す
る消臭剤組成である。
【0002】
【従来の技術】最近の都市及び近郊への人口の密集は、
大量の水資源の消費につながっている。そこで使用され
た水資源はさまざまな有機、無機物を含有する廃水とな
って公共下水道やビル中のピット等へ排出される。さら
にこれらは下水処理場にて処理される過程で、大量の生
汚泥、余剰汚泥、消化汚泥を産出する。また、規模の大
きな工場等の事業所も河川、海洋等の深刻な環境汚染に
伴い排水規制が強化され所定の水質まで処理することが
義務づけられているが、この事業所での凝集沈殿処理や
活性汚泥処理等でも大量の汚泥が産出する。
【0003】これら廃水や汚泥の中には、硫酸塩や多量
のBOD成分が含まれる。また廃水や汚泥中には通常硫
酸還元菌が存在し汚泥中の硫酸塩を硫化水素に還元して
生産活動を行っている。生成された硫化水素は常温では
気体であるため気相へ放散される。この硫化水素は、毒
性のある不快な臭気を持つため、下水道設備のマンホー
ルやビルの地下から漏洩し、周辺住民への悪臭問題の原
因となったり、汚泥の処理時には作業者に対する危険性
が危惧される。また、硫化水素は、コンクリート施設中
に付着する硫黄酸化菌および空気により酸化を受け、ミ
スト中に溶け込み硫酸を生成する。こうして生成した硫
酸はアルカリ性であるコンクリートや金属を腐蝕し建築
物の構造に致命的な欠陥をもたらす原因となっている。
さらに硫化水素と同様に廃水および汚泥の腐敗の過程で
メルカプタン類を産出し悪臭問題の原因となっている。
【0004】これら臭気の発生や構造物の腐蝕を防止す
る手段としては、苛性ソーダ等を用いてpHをアルカリ
性にし硫化水素の放散を抑制する方法もあるが、これは
硫化水素そのものを分解もしくは除去するわけではない
ので、中和した際、硫化水素が再発生したり、アルカリ
スケールが発生するなど充分な処理とは言えない。また
悪臭成分を酸化する方法として過酸化水素を添加する方
法がある。この方法は硫化水素、メルカプタン類の除去
ができるが、添加量が少量であると、汚泥を長時間放置
しておく場合などは酸化された硫黄もしくは硫酸イオン
が、バクテリアにより再び硫化水素を生成してしまうと
いう問題がある。硫化水素を金属塩として固定化してし
まう方法として金属塩を添加する方法があるが、この方
法は硫化水素と金属イオンが反応し、金属硫化物として
硫化水素を固定する方法であるが、スラッジを大量に生
成するという欠点があった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従来技術は、硫化水
素、メルカプタン類の除去が不充分であったり、経済的
にも問題があった。本発明は、硫化水素、メルカプタン
類を温和な条件で効率良く分解除去し、悪臭の拡散及び
施設の腐蝕を防止する消臭剤の提供を目的とするもので
ある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、硫化水
素、メルカプタン類等からなる臭気を除去する消臭剤組
成を鋭意研究した結果、過酸化物と硝酸イオンおよびキ
レート剤からなる組成の消臭剤が安定で、廃水および汚
泥中の硫化水素、メルカプタン類を迅速にかつ効率的に
除去でき、なおかつその除去に持続性が付与できること
を見いだし、本発明を完成した。すなわち、本発明は、
過酸化物、硝酸イオン及びキレート剤からなることを特
徴とする消臭剤に関するものである。
【0007】
【発明の実施の形態】つぎに本発明の方法を具体的に説
明する。本発明による消臭剤における過酸化物として
は、過酸化水素、過酢酸、過硫酸塩、過炭酸塩、過ホウ
素酸塩、その他無機、有機の過酸化物が使用し得るが、
好ましくは過酸化水素、過炭酸ナトリウムが使用され
る。過酸化水素は35重量%、60重量%の濃度のもの
が市販されているが、これをそのまま使用しても良く、
希釈して使用しても良い。
【0008】硝酸イオンとしては、硝酸または硝酸塩で
供給される。硝酸は、68、62重量%の濃度のものが
市販されているがこれをそのまま使用しても良く、希釈
して使用しても良い。硝酸塩としては、ナトリウム塩、
カリウム塩、カルシウム塩、アンモニア塩等の無機塩が
例示され、無水塩、含水塩の何れでも良い。過酸化物に
対する硝酸イオンの量は特に制限はないが、通常は過酸
化水素100%換算に対して硝酸イオンとして2〜20
0重量%程度使用される。
【0009】キレート剤としては、カルボン酸基を2個
以上有するキレート剤及びその塩、並びにホスホン酸基
を2個以上有するキレート剤及びその塩から選ばれる少
なくとも1種が用いられる。カルボン酸基を2個以上有
するキレート剤としては、エチレンジアミン四酢酸、ニ
トリロ三酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、トリエチ
レンテトラミン六酢酸、ポリヒドロキシカルボン酸等が
挙げられる。
【0010】ホスホン酸基を2個以上有するキレート剤
としては、1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホス
ホン酸、アミノトリ(メチレンホスホン酸)、エチレン
ジアミンテトラ(メチレンホスホン酸)、1,2−プロ
ピレンジアミンテトラ(メチレンホスホン酸)、ジエチ
レントリアミンペンタ(メチレンホスホン酸)、ヘキサ
メチレンジアミンテトラ(メチレンホスホン酸)、トリ
エチレンテトラミンへキサ(メチレンホスホン酸)、ト
リアミノトリエチルアミンへキサ(メチレンホスホン
酸)、トランス−1,2−シクロヘキサンジアミンテト
ラ(メチレンホスホン酸)、グリコールエーテルジアミ
ンテトラ(メチレンホスホン酸)、テトラエチレンヘプ
タ(メチレンホスホン酸)等が挙げられる。
【0011】これらのキレート剤は、遊離酸でも良く、
塩の形でも良い。塩の形で使用する場合は、アルカリ金
属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩および有機
アミン塩等が使用できるが、ナトリウム塩、アンモニウ
ム塩が好適に使用される。キレート剤の使用量は、硝酸
イオン量に依存するが過酸化物と硝酸イオンの混合液に
対し1〜50,000ppm程度が好適に使用される。
このキレート剤の使用量は、過酸化物の濃度とは無関係
である。また、必要に応じてリン酸等の他の安定剤を併
用してもよい。
【0012】
【実施例】次に本発明の方法を実施例により更に具体的
に説明する。但し、本発明はこれらの実施例によって限
定されるものではない。
【0013】実施例1 工場廃水を処理して産出した汚泥1000mlに60重
量%過酸化水素100.0g、62重量%硝酸101.
7g、ジエチレントリアミンペンタ(メチレンホスホン
酸)25重量%水溶液0.2gよりなる組成の消臭剤を
0.34g(過酸化水素約100mg/L、硝酸イオン
約100mg/L相当)添加、撹拌混合し処理30分後
と24、48時間放置しておいた後、硫化水素とメチル
メルカプタンをガス検知管を用いてヘッドスペース法に
より測定した結果を表1に示した。また、この消臭剤を
100℃の温浴に5時間浸漬した後の安定性は98%で
あった。
【0014】
【式1】
【0015】比較例1 60重量%過酸化水素を0.50g(過酸化水素300
mg/L相当)添加した以外は実施例1と同様の処理を
行った。結果を表1に示した。実施例1の本発明品は、
比較例1に比べ少量でも長時間消臭することができる。
【0016】
【表1】
【0017】実施例2 下水汚泥1000mlに35重量%過酸化水素114.
2g、硝酸ナトリウム54.8g、1−ヒドロキシエチ
リデン−1,1−ジホスホン酸0.114gよりなる組
成の消臭剤を0.42g(過酸化水素約100mg/
L、硝酸イオン約100mg/L相当)添加した以外は
実施例1と同様の処理を行った。結果を表2に示した。
また、この消臭剤を100℃の温浴に5時間浸漬した後
の安定性は100%であった。
【0018】比較例2 硝酸ナトリウムを0.55g(硝酸イオン400mg/
L相当)添加した以外は実施例1と同様の処理を行っ
た。結果を表2に示した。
【0019】
【表2】
【0020】実施例3 500mlの浮遊固形分を多量に含んだビル廃水に35
重量%過酸化水素100.0g、62重量%硝酸34.
4g、1,2−プロピレンジアミンテトラ(メチレンホ
スホン酸)0.15gよりなる組成の消臭剤を0.01
9g(過酸化水素約10mg/L、硝酸イオン約6mg
/L相当)添加し、撹拌混合し20℃の恒温槽に浸漬し
た。処理後30分、12、24時間後に液相の硫化水素
を測定した結果を表3に示した。本発明では、24時間
後でも硫化水素の発生を完全に抑制することができた。
【0021】比較例3 消臭剤を添加しなかった以外は実施例3と同様の処理を
行なった。結果を表3に示した。
【0022】比較例4 35重量%過酸化水素を0.028g(過酸化水素20
mg/L相当)添加した以外は実施例3と同様の処理を
行った。結果を表3に示した。
【0023】
【表3】
【0024】実施例4 500mlの浮遊固形分を多量に含んだ下水に35重量
%過酸化水素114.2g、硝酸ナトリウム27.4
g、1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン酸
0.114gよりなる組成の消臭剤を0.018g(過
酸化水素約10mg/L、硝酸イオン約5mg/L相
当)添加した以外は実施例3と同様の処理を行った。結
果を表4に示した。
【0025】比較例5 消臭剤を添加しなかった以外は実施例4と同様の処理を
行なった。結果を表4に示した。
【0026】比較例6 35重量%過酸化水素を0.028g(過酸化水素20
mg/L相当)添加した以外は実施例4と同様の処理を
行った。結果を表4に示した。
【0027】
【表4】
【0028】実施例5 35重量%過酸化水素100gに硝酸28.7g、ジエ
チレントリアミンペンタ(メチレンホスホン酸)25重
量%水溶液0.01gよりなる組成の消臭剤を100℃
の温浴に5時間浸漬した後の過酸化水素の濃度を測定し
安定性を求めた。結果を表5に示した。
【0029】実施例6 ジエチレントリアミンペンタ(メチレンホスホン酸)2
5%水溶液の添加量を0.02gにした以外は実施例5
と同様の処理を行った。結果を表5に示した。
【0030】比較例7 キレート剤を使用しなかった以外は実施例5と同様の処
理を行った。結果を表5に示した。
【0031】
【表5】
【0032】実施例7 35重量%過酸化水素100gに硝酸カリウム42.8
g、1,2−プロピレンジアミンテトラ(メチレンホス
ホン酸)0.005gよりなる組成の消臭剤を100℃
の温浴に5時間浸漬した後の過酸化水素の濃度を測定し
安定性を求めた。結果を表6に示した。
【0033】実施例8 1,2−プロピレンジアミンテトラ(メチレンホスホン
酸)の添加量を0.01gにした以外は実施例7と同様
の処理を行った。結果を表6に示した。
【0034】比較例8 キレート剤を使用しなかった以外は実施例7と同様の処
理を行った。結果を表6に示した。
【0035】
【表6】
【0036】実施例9 35重量%過酸化水素100gに硝酸ナトリウム38.
4g、キレート剤としてジエチレントリアミンペンタ
(メチレンホスホン酸)25重量%水溶液0.01gよ
りなる組成の消臭剤を室温にて6ヶ月放置した後の過酸
化水素の濃度を測定し安定性を求めた。結果を表7に示
した。
【0037】実施例10 キレート剤としてエチレンジトリアミン五酢酸を使用し
た以外は実施例9と同組成にし安定性を求めた。結果を
表7に示した。
【0038】比較例9 キレート剤を使用しなかった以外は実施例9と同組成に
し安定性を求めた。結果を表7に示した。
【0039】
【表7】
【0040】
【発明の効果】本発明の消臭剤は、過酸化水素、硝酸イ
オンそれぞれ単独で用いていた使用量よりも少ない量で
硫化水素、メルカプタン類を迅速にそして持続性をもっ
て除去することができる。
フロントページの続き Fターム(参考) 4D050 AB04 AB17 AB41 BB08 BB09 4D059 AA03 BC02 BK01 DA01 DA38 DA44 DB08 DB40

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 過酸化物、硝酸イオン及びキレート剤か
    らなることを特徴とする消臭剤。
  2. 【請求項2】 過酸化物が過酸化水素または過炭酸ナト
    リウムである請求項1記載の消臭剤。
  3. 【請求項3】 硝酸イオンが硝酸、硝酸ナトリウム、硝
    酸カリウム、硝酸カルシウム及び硝酸アンモニウムから
    選ばれる少なくとも1種である請求項1記載の消臭剤
  4. 【請求項4】 キレート剤が、カルボン酸基を2個以上
    有するキレート剤及びその塩、並びにホスホン酸基を2
    個以上有するキレート剤及びその塩から選ばれる少なく
    とも1種である請求項1記載の消臭剤。
  5. 【請求項5】 カルボン酸基を2個以上有するキレート
    剤がエチレンジアミン四酢酸、ニトリロ三酢酸、ジエチ
    レントリアミン五酢酸、トリエチレンテトラミン六酢
    酸、ポリヒドロキシカルボン酸から選ばれる少なくとも
    1種である請求項4記載の消臭剤。
  6. 【請求項6】 ホスホン酸基を2個以上有するキレート
    剤が1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン
    酸、アミノトリ(メチレンホスホン酸)、エチレンジア
    ミンテトラ(メチレンホスホン酸)、1,2−プロピレ
    ンジアミンテトラ(メチレンホスホン酸)、ジエチレン
    トリアミンペンタ(メチレンホスホン酸)、ヘキサメチ
    レンジアミンテトラ(メチレンホスホン酸)、トリエチ
    レンテトラミンへキサ(メチレンホスホン酸)、トリア
    ミノトリエチルアミンへキサ(メチレンホスホン酸)、
    トランス−1,2−シクロヘキサンジアミンテトラ(メ
    チレンホスホン酸)、グリコールエーテルジアミンテト
    ラ(メチレンホスホン酸)及びテトラエチレンヘプタ
    (メチレンホスホン酸)から選ばれる少なくとも1種で
    ある請求項4記載の消臭剤。
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