JP2001321428A - 消臭剤 - Google Patents
消臭剤Info
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- JP2001321428A JP2001321428A JP2000143675A JP2000143675A JP2001321428A JP 2001321428 A JP2001321428 A JP 2001321428A JP 2000143675 A JP2000143675 A JP 2000143675A JP 2000143675 A JP2000143675 A JP 2000143675A JP 2001321428 A JP2001321428 A JP 2001321428A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 硫化水素、メルカプタン類の１種類以上を含
む臭気を少ない量で効果的に消臭する消臭剤を提供す
る。 【解決手段】 （１）過酸化物、（２）硫酸、塩酸およ
び燐酸から選ばれる少なくとも１種、並びに（３）キレ
ート剤からなる消臭剤。ここで過酸化物が過酸化水素ま
たは過炭酸ナトリウムであり、キレート剤が、カルボン
酸基を２個以上有するキレート剤およびその塩、並びに
ホスホン酸基を２個以上有するキレート剤およびその塩
から選ばれる少なくとも一種であり、カルボン酸基を２
個以上有するキレート剤がエチレンジアミン四酢酸、ニ
トリロ三酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、トリエチ
レンテトラアミン六酢酸およびポリヒドロキシカルボン
酸から選ばれる少なくとも１種である。
む臭気を少ない量で効果的に消臭する消臭剤を提供す
る。 【解決手段】 （１）過酸化物、（２）硫酸、塩酸およ
び燐酸から選ばれる少なくとも１種、並びに（３）キレ
ート剤からなる消臭剤。ここで過酸化物が過酸化水素ま
たは過炭酸ナトリウムであり、キレート剤が、カルボン
酸基を２個以上有するキレート剤およびその塩、並びに
ホスホン酸基を２個以上有するキレート剤およびその塩
から選ばれる少なくとも一種であり、カルボン酸基を２
個以上有するキレート剤がエチレンジアミン四酢酸、ニ
トリロ三酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、トリエチ
レンテトラアミン六酢酸およびポリヒドロキシカルボン
酸から選ばれる少なくとも１種である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、硫化水素、メルカ
プタン類の１種類以上を含む臭気を少ない量で効果的に
消臭する消臭剤に関するものである。
プタン類の１種類以上を含む臭気を少ない量で効果的に
消臭する消臭剤に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】下水管渠や下水処理場、ビル廃水処理設
備などの廃水処理やその廃水処理から発生する汚泥の処
理において、廃水や汚泥中から硫化水素、メルカプタン
類といった悪臭がしばしば発生する。硫化水素は廃水中
などに存在している硫酸還元菌の活動によって発生する
ことが知られている。そこで、廃水や汚泥中に存在する
硫化水素やメルカプタン類を酸化除去する手段として従
来、過酸化水素を臭気が発生している場所に添加する方
法や、硫酸還元菌による硫化水素の発生を防止する手段
として、硝酸塩を添加し硫化水素の生成を防止する方法
等がある。また、硫酸還元菌の活性を低下させるｐＨに
し、硝酸塩を併用して硫化水素の発生を防止する方法も
提案されている（特開平１０−８５７８５号公報）。
備などの廃水処理やその廃水処理から発生する汚泥の処
理において、廃水や汚泥中から硫化水素、メルカプタン
類といった悪臭がしばしば発生する。硫化水素は廃水中
などに存在している硫酸還元菌の活動によって発生する
ことが知られている。そこで、廃水や汚泥中に存在する
硫化水素やメルカプタン類を酸化除去する手段として従
来、過酸化水素を臭気が発生している場所に添加する方
法や、硫酸還元菌による硫化水素の発生を防止する手段
として、硝酸塩を添加し硫化水素の生成を防止する方法
等がある。また、硫酸還元菌の活性を低下させるｐＨに
し、硝酸塩を併用して硫化水素の発生を防止する方法も
提案されている（特開平１０−８５７８５号公報）。
【０００３】しかしながら、過酸化水素を添加する方法
では、添加直後は硫化水素を除去できるものの、その後
再び硫酸還元菌の活動によって硫化水素が再発生してし
まうという問題がある。また、硝酸塩や鉱酸を添加する
方法では、硫化水素の発生を防止することはできるもの
の、廃水や汚泥中に既に存在している硫化水素やメルカ
プタン類を迅速に除去することはできない。また、使用
する薬剤が２種類以上であることから、薬注ポンプや薬
注タンクといった薬注設備を２個以上準備する必要が
り、設備費用が高くなってしまうという問題点がある。
では、添加直後は硫化水素を除去できるものの、その後
再び硫酸還元菌の活動によって硫化水素が再発生してし
まうという問題がある。また、硝酸塩や鉱酸を添加する
方法では、硫化水素の発生を防止することはできるもの
の、廃水や汚泥中に既に存在している硫化水素やメルカ
プタン類を迅速に除去することはできない。また、使用
する薬剤が２種類以上であることから、薬注ポンプや薬
注タンクといった薬注設備を２個以上準備する必要が
り、設備費用が高くなってしまうという問題点がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、従来
技術における上記したような課題を解決し、硫化水素、
メルカプタン類を迅速にかつ効率良く分解除去する方法
を提供することにある。
技術における上記したような課題を解決し、硫化水素、
メルカプタン類を迅速にかつ効率良く分解除去する方法
を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者等は上記目的を
達成するために鋭意研究を重ねた結果、過酸化物と硫
酸、塩酸または燐酸とキレート剤とからなる消臭剤が安
定で、廃水および汚泥中の硫化水素およびメルカプタン
類を迅速にかつ効率良く除去でき、なおかつ硫化水素や
メルカプタン類の発生を長時間にわたって抑制しうるこ
とを見い出し本発明に到達した。すなわち、本発明は
（１）過酸化物、（２）硫酸、塩酸および燐酸から選ば
れる少なくとも１種、並びに（３）キレート剤からなる
消臭剤に関するものである。
達成するために鋭意研究を重ねた結果、過酸化物と硫
酸、塩酸または燐酸とキレート剤とからなる消臭剤が安
定で、廃水および汚泥中の硫化水素およびメルカプタン
類を迅速にかつ効率良く除去でき、なおかつ硫化水素や
メルカプタン類の発生を長時間にわたって抑制しうるこ
とを見い出し本発明に到達した。すなわち、本発明は
（１）過酸化物、（２）硫酸、塩酸および燐酸から選ば
れる少なくとも１種、並びに（３）キレート剤からなる
消臭剤に関するものである。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明が適用される廃水、汚泥と
しては、家庭からの一般廃水、ビル廃水、または工場に
代表される事業所からの廃水、また洗浄装置中の洗浄水
が含まれる。また、汚泥としては、下水、し尿または工
場廃水を処理する際に発生する生汚泥、余剰汚泥、消化
汚泥、凝集汚泥等やそれらの混合物が含まれる。
しては、家庭からの一般廃水、ビル廃水、または工場に
代表される事業所からの廃水、また洗浄装置中の洗浄水
が含まれる。また、汚泥としては、下水、し尿または工
場廃水を処理する際に発生する生汚泥、余剰汚泥、消化
汚泥、凝集汚泥等やそれらの混合物が含まれる。
【０００７】本発明による消臭剤における過酸化物とし
ては、過酸化水素、過酢酸、過硫酸塩、過炭酸塩、過ホ
ウ素酸塩、その他無機、有機の過酸化物が使用し得る
が、好ましくは過酸化水素、過炭酸ナトリウムが使用さ
れる。過酸化水素は３５重量％、６０重量％の濃度のも
のが市販されているが、これをそのまま使用しても良
く、また希釈して使用しても良い。
ては、過酸化水素、過酢酸、過硫酸塩、過炭酸塩、過ホ
ウ素酸塩、その他無機、有機の過酸化物が使用し得る
が、好ましくは過酸化水素、過炭酸ナトリウムが使用さ
れる。過酸化水素は３５重量％、６０重量％の濃度のも
のが市販されているが、これをそのまま使用しても良
く、また希釈して使用しても良い。
【０００８】硫酸は９０重量％以上のものが市販されて
いるが、これをそのまま使用しても良く、また希釈して
使用しても良い。塩酸としては３５重量％のものが市販
されているが、これをそのまま使用しても良く、また希
釈して使用しても良い。燐酸は７５重量％以上のものが
市販されているが、これをそのまま使用しても良く、ま
た希釈して使用しても良い。また、これらから２種類以
上を混合し、使用しても良い。過酸化物に対する硫酸、
塩酸または燐酸の量は特に制限は無いが、通常は過酸化
水素１００％換算に対して、無機酸として１０〜１００
０重量％程度使用される。
いるが、これをそのまま使用しても良く、また希釈して
使用しても良い。塩酸としては３５重量％のものが市販
されているが、これをそのまま使用しても良く、また希
釈して使用しても良い。燐酸は７５重量％以上のものが
市販されているが、これをそのまま使用しても良く、ま
た希釈して使用しても良い。また、これらから２種類以
上を混合し、使用しても良い。過酸化物に対する硫酸、
塩酸または燐酸の量は特に制限は無いが、通常は過酸化
水素１００％換算に対して、無機酸として１０〜１００
０重量％程度使用される。
【０００９】キレート剤としては、カルボン酸基を２個
以上有するキレート剤及びその塩、並びにホスホン酸基
を２個以上有するキレート剤及びその塩から選ばれる少
なくとも１種が用いられる。カルボン酸基を２個以上有
するキレート剤としてはエチレンジアミン四酢酸、ニト
リロ三酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、トリエチレ
ンテトラミン六酢酸、ポリヒドロキシカルボン酸等が挙
げられる。ホスホン酸基を２個以上有するキレート剤と
しては１−ヒドロキシエチリデンー１，１ジホスホン
酸、アミノトリメチレンホスホン酸、エチレンジアミン
テトラメチレンホスホン酸、１，２−プロピレンジアミ
ンテトラメチレンホスホン酸、ジエチレントリアミンペ
ンタメチレンホスホン酸、ヘキサメチレンジアミンテト
ラメチレンホスホン酸、トリエチレンテトラアミンヘキ
サメチレンホスホン酸、トリアミノトリエチルアミンメ
キサメチレンホスホン酸、トランスー１，２−シクロヘ
キサンジアミンテトラメチレンホスホン酸、グリコール
エーテルジアミンテトラメチレンホスホン酸、テトラエ
チレンヘプタメチレンホスホン酸等が挙げられる。これ
らのキレート剤は、遊離酸でも良く、塩の形でも良い。
塩の形で使用する場合は、アルカリ金属塩、アルカリ土
類金属塩、アンモニウム塩および有機アミン塩等が使用
できるが、好ましくはナトリウム塩、アンモニウム塩が
使用される。キレート剤の使用量は過酸化物と硫酸の混
合液に対し、１〜５０,０００ｐｐｍ程度が好適に使用
される。また、必要に応じてリン酸等の他の安定剤を併
用しても良い。
以上有するキレート剤及びその塩、並びにホスホン酸基
を２個以上有するキレート剤及びその塩から選ばれる少
なくとも１種が用いられる。カルボン酸基を２個以上有
するキレート剤としてはエチレンジアミン四酢酸、ニト
リロ三酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、トリエチレ
ンテトラミン六酢酸、ポリヒドロキシカルボン酸等が挙
げられる。ホスホン酸基を２個以上有するキレート剤と
しては１−ヒドロキシエチリデンー１，１ジホスホン
酸、アミノトリメチレンホスホン酸、エチレンジアミン
テトラメチレンホスホン酸、１，２−プロピレンジアミ
ンテトラメチレンホスホン酸、ジエチレントリアミンペ
ンタメチレンホスホン酸、ヘキサメチレンジアミンテト
ラメチレンホスホン酸、トリエチレンテトラアミンヘキ
サメチレンホスホン酸、トリアミノトリエチルアミンメ
キサメチレンホスホン酸、トランスー１，２−シクロヘ
キサンジアミンテトラメチレンホスホン酸、グリコール
エーテルジアミンテトラメチレンホスホン酸、テトラエ
チレンヘプタメチレンホスホン酸等が挙げられる。これ
らのキレート剤は、遊離酸でも良く、塩の形でも良い。
塩の形で使用する場合は、アルカリ金属塩、アルカリ土
類金属塩、アンモニウム塩および有機アミン塩等が使用
できるが、好ましくはナトリウム塩、アンモニウム塩が
使用される。キレート剤の使用量は過酸化物と硫酸の混
合液に対し、１〜５０,０００ｐｐｍ程度が好適に使用
される。また、必要に応じてリン酸等の他の安定剤を併
用しても良い。
【００１０】本発明による消臭剤の消臭効果を効率良く
行うためには、廃水や汚泥と混合し撹拌することが好ま
しい。撹拌方法として、撹拌混合槽、撹拌翼、インライ
ンミキサー等、本消臭剤と排水あるいは汚泥が良く混合
する方法であればいずれの方法でも良く、また、廃水や
汚泥等を移送する配管内に直接注入する方法でも良い。
薬剤の添加方法としては、ダイヤフラム式、プランジャ
ー式の定量ポンプ等消臭剤を正確に供給できる方式であ
ればいずれの方法でも良い。
行うためには、廃水や汚泥と混合し撹拌することが好ま
しい。撹拌方法として、撹拌混合槽、撹拌翼、インライ
ンミキサー等、本消臭剤と排水あるいは汚泥が良く混合
する方法であればいずれの方法でも良く、また、廃水や
汚泥等を移送する配管内に直接注入する方法でも良い。
薬剤の添加方法としては、ダイヤフラム式、プランジャ
ー式の定量ポンプ等消臭剤を正確に供給できる方式であ
ればいずれの方法でも良い。
【００１１】
【実施例】次に、本発明の方法を実施例により更に具体
的に説明する。但し、本発明はこれらの実施例によって
限定されるものではない。
的に説明する。但し、本発明はこれらの実施例によって
限定されるものではない。
【００１２】実施例１ ｐＨ６．０の下水濃縮汚泥１０００ｍＬに、６０重量％
過酸化水素１００ｇ、３５重量％塩酸１７１．４ｇおよ
び６０重量％１−ヒドロキシエチリデン−１、１−ジス
ルホン酸０．２ｇからなる混合溶液４５３ｍｇ（１００
重量％過酸化水素：１００ｍｇ／Ｌ、１００重量％塩
酸：１００ｍｇ／Ｌ相当）を添加、撹拌混合した後、処
理後０．５、２４、４８時間後の硫化水素とメチルメル
カプタンをガス検知管を用いてヘッドスペース法により
測定した結果を表１に示す。また、この消臭剤を常温で
1日放置した後の過酸化水素の安定度は９８.０％であっ
た。 過酸化水素の安定度＝（（一定期間後の過酸化水素濃
度）／（消臭剤調整後の過酸化水素濃度））×１００
過酸化水素１００ｇ、３５重量％塩酸１７１．４ｇおよ
び６０重量％１−ヒドロキシエチリデン−１、１−ジス
ルホン酸０．２ｇからなる混合溶液４５３ｍｇ（１００
重量％過酸化水素：１００ｍｇ／Ｌ、１００重量％塩
酸：１００ｍｇ／Ｌ相当）を添加、撹拌混合した後、処
理後０．５、２４、４８時間後の硫化水素とメチルメル
カプタンをガス検知管を用いてヘッドスペース法により
測定した結果を表１に示す。また、この消臭剤を常温で
1日放置した後の過酸化水素の安定度は９８.０％であっ
た。 過酸化水素の安定度＝（（一定期間後の過酸化水素濃
度）／（消臭剤調整後の過酸化水素濃度））×１００
【００１３】比較例１ 消臭剤を添加しなかった以外は、実施例１と同様に処理
を行った。結果を表１に示す。
を行った。結果を表１に示す。
【００１４】比較例２ ３５重量％過酸化水素２８６ｍｇ（１００重量％過酸化
水素：１００ｍｇ／Ｌ相当）添加した他は、実施例１と
同様に処理を行った。結果を表１に示す。
水素：１００ｍｇ／Ｌ相当）添加した他は、実施例１と
同様に処理を行った。結果を表１に示す。
【００１５】比較例３ ３５重量％塩酸を２８６ｍｇ（１００％重量塩酸：１０
０ｍｇ／Ｌ相当）添加した他は、実施例１と同様に処理
を行った。結果を表１に示す。
０ｍｇ／Ｌ相当）添加した他は、実施例１と同様に処理
を行った。結果を表１に示す。
【００１６】
【表１】
【００１７】実施例２ ｐＨ５.８、汚泥濃度２.０％の下水濃縮汚泥１０００ｍ
Ｌに、６０重量％過酸化水素１００ｇ、９８重量％硫酸
２４４．９ｇおよび５０重量％アミノトリメチレンホス
ホン酸０．２ｇからなる混合溶液５７５ｍｇ（１００重
量％過酸化水素：１００ｍｇ／Ｌ、１００重量％硫酸：
４００ｍｇ／Ｌ相当）を添加し撹拌混合を行った。次
に、１重量％のポリアミジン水溶液を凝集剤として２０
ｇ添加し撹拌混合した後、遠心脱水機で汚泥の脱水を行
った。その後、生成した脱水ケーキを処理後０.５、２
４、４８時間後の硫化水素とメチルメルカプタンをガス
検知管を用いてヘッドスペース法により測定した結果を
表２に示す。また、この消臭剤を常温で1週間放置した
後の過酸化水素の安定度は９８.５％であった。
Ｌに、６０重量％過酸化水素１００ｇ、９８重量％硫酸
２４４．９ｇおよび５０重量％アミノトリメチレンホス
ホン酸０．２ｇからなる混合溶液５７５ｍｇ（１００重
量％過酸化水素：１００ｍｇ／Ｌ、１００重量％硫酸：
４００ｍｇ／Ｌ相当）を添加し撹拌混合を行った。次
に、１重量％のポリアミジン水溶液を凝集剤として２０
ｇ添加し撹拌混合した後、遠心脱水機で汚泥の脱水を行
った。その後、生成した脱水ケーキを処理後０.５、２
４、４８時間後の硫化水素とメチルメルカプタンをガス
検知管を用いてヘッドスペース法により測定した結果を
表２に示す。また、この消臭剤を常温で1週間放置した
後の過酸化水素の安定度は９８.５％であった。
【００１８】比較例４ 消臭剤を添加しなかった以外は、実施例２と同様に処理
を行った。結果を表２に示す。
を行った。結果を表２に示す。
【００１９】比較例５ ３５重量％過酸化水素６００ｍｇ（１００重量％過酸化
水素：２１０ｍｇ／Ｌ相当）添加した他は、実施例２と
同様に処理を行った。結果を表２に示す。
水素：２１０ｍｇ／Ｌ相当）添加した他は、実施例２と
同様に処理を行った。結果を表２に示す。
【００２０】比較例６ ９８重量％硫酸を６００ｍｇ（１００重量％硫酸：５８
８ｍｇ／L相当）添加した他は、実施例２と同様に処理
を行った。結果を表２に示す。
８ｍｇ／L相当）添加した他は、実施例２と同様に処理
を行った。結果を表２に示す。
【００２１】
【表２】
【００２２】実施例３ Ａ処理場に流入する下水管渠から採取した下水（ｐＨ
７.０）１０００ｍＬに、３５重量％過酸化水素１００
ｇ、３５重量％塩酸１００ｇおよび２５重量％ジエチレ
ントリアミンペンタメチレンホスホン酸０.２ｇからな
る混合溶液８６ｍｇ（１００重量％過酸化水素：１５ｍ
ｇ／Ｌ、１００重量％塩酸：１５ｍｇ／Ｌ相当）を添加
し撹拌混合を行った後、処理後０.５、２４、４８時間
後の硫化水素とメチルメルカプタンをガス検知管を用い
てヘッドスペース法により測定した結果を表３に示す。
また、この消臭剤を常温で１日放置した後の過酸化水素
の安定度は９８.２％であった。
７.０）１０００ｍＬに、３５重量％過酸化水素１００
ｇ、３５重量％塩酸１００ｇおよび２５重量％ジエチレ
ントリアミンペンタメチレンホスホン酸０.２ｇからな
る混合溶液８６ｍｇ（１００重量％過酸化水素：１５ｍ
ｇ／Ｌ、１００重量％塩酸：１５ｍｇ／Ｌ相当）を添加
し撹拌混合を行った後、処理後０.５、２４、４８時間
後の硫化水素とメチルメルカプタンをガス検知管を用い
てヘッドスペース法により測定した結果を表３に示す。
また、この消臭剤を常温で１日放置した後の過酸化水素
の安定度は９８.２％であった。
【００２３】比較例７ 消臭剤を添加しなかった以外は、実施例３と同様に処理
を行った。結果を表３に示す。
を行った。結果を表３に示す。
【００２４】比較例８ ３５重量％過酸化水素１００ｍｇ（１００重量％過酸化
水素：３５ｍｇ／Ｌ相当）添加した他は、実施例３と同
様に処理を行った。結果を表３に示す。
水素：３５ｍｇ／Ｌ相当）添加した他は、実施例３と同
様に処理を行った。結果を表３に示す。
【００２５】比較例９ ３５重量％塩酸を１００ｍｇ（１００重量％塩酸：３５
ｍｇ／Ｌ相当）添加した他は、実施例３と同様に処理を
行った。結果を表３に示す。
ｍｇ／Ｌ相当）添加した他は、実施例３と同様に処理を
行った。結果を表３に示す。
【００２６】
【表３】
【００２７】実施例４ ６０重量％過酸化水素１００ｇ、９８重量％硫酸１２
２.４ｇおよび６０重量％１−ヒドロキシエチリデン−
１、１ジホスホン酸０.２ｇからなる組成の消臭剤を常
温にて１週間放置した後の過酸化水素の濃度を測定し安
定性を求めた。結果を表４に示す。
２.４ｇおよび６０重量％１−ヒドロキシエチリデン−
１、１ジホスホン酸０.２ｇからなる組成の消臭剤を常
温にて１週間放置した後の過酸化水素の濃度を測定し安
定性を求めた。結果を表４に示す。
【００２８】比較例１０ キレート剤を使用しなかった以外は実施例４と同様の組
成にし、安定性を求めた。結果を表４に示す。
成にし、安定性を求めた。結果を表４に示す。
【００２９】
【表４】
【００３０】
【発明の効果】本発明によれば、過酸化水素、無機酸を
単独で用いた使用量よりも少ない量で、硫化水素、メル
カプタン類を迅速にそしてかつ効率良く除去することが
できる。
単独で用いた使用量よりも少ない量で、硫化水素、メル
カプタン類を迅速にそしてかつ効率良く除去することが
できる。
フロントページの続き Ｆターム(参考） 4C080 AA07 BB02 CC04 CC05 CC12 HH03 JJ01 KK06 LL02 MM01 MM12 MM14 MM18 MM40 4D050 AA12 AB04 AB18 AB41 BB09 BB14 BB20 BC10 4D059 AA03 BK03 DA32 DA33 DA38 DA39 DA44 DB08 DB22
Claims (5)
- 【請求項１】 （１）過酸化物、（２）硫酸、塩酸およ
び燐酸から選ばれる少なくとも１種、並びに（３）キレ
ート剤からなる消臭剤。 - 【請求項２】 過酸化物が過酸化水素または過炭酸ナト
リウムである請求項１記載の消臭剤。 - 【請求項３】 キレート剤が、カルボン酸基を２個以上
有するキレート剤およびその塩、並びにホスホン酸基を
２個以上有するキレート剤およびその塩から選ばれる少
なくとも１種である請求項１記載の消臭剤。 - 【請求項４】 カルボン酸基を２個以上有するキレート
剤がエチレンジアミン四酢酸、ニトリロ三酢酸、ジエチ
レントリアミン五酢酸、トリエチレンテトラアミン六酢
酸およびポリヒドロキシカルボン酸から選ばれる少なく
とも１種である請求項３記載の消臭剤。 - 【請求項５】 ホスホン酸基を２個以上有するキレート
剤が１−ヒドロキシエチリデンー１，１ジホスホン酸、
アミノトリメチレンホスホン酸、エチレンジアミンテト
ラメチレンホスホン酸、１，２−プロピレンジアミンテ
トラメチレンホスホン酸、ジエチレントリアミンペンタ
メチレンホスホン酸、ヘキサメチレンジアミンテトラメ
チレンホスホン酸、トリエチレンテトラアミンヘキサメ
チレンホスホン酸、トリアミノトリエチルアミンメキサ
メチレンホスホン酸、トランスー１，２−シクロヘキサ
ンジアミンテトラメチレンホスホン酸、グリコールエー
テルジアミンテトラメチレンホスホン酸およびテトラエ
チレンヘプタメチレンホスホン酸から選ばれる少なくと
も１種である請求項３記載の消臭剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000143675A JP2001321428A (ja) | 2000-05-16 | 2000-05-16 | 消臭剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000143675A JP2001321428A (ja) | 2000-05-16 | 2000-05-16 | 消臭剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001321428A true JP2001321428A (ja) | 2001-11-20 |
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ID=18650459
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000143675A Pending JP2001321428A (ja) | 2000-05-16 | 2000-05-16 | 消臭剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| WO2006114651A1 (en) * | 2005-04-28 | 2006-11-02 | Probe Industries Limited | Method for treating effluent |
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- 2000-05-16 JP JP2000143675A patent/JP2001321428A/ja active Pending
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