HU212487B - Baths and method for chemically polishing stainless steel surfaces - Google Patents
Baths and method for chemically polishing stainless steel surfaces Download PDFInfo
- Publication number
- HU212487B HU212487B HU9202705A HU270592A HU212487B HU 212487 B HU212487 B HU 212487B HU 9202705 A HU9202705 A HU 9202705A HU 270592 A HU270592 A HU 270592A HU 212487 B HU212487 B HU 212487B
- Authority
- HU
- Hungary
- Prior art keywords
- mol
- baths
- quaternary ammonium
- polishing
- acid
- Prior art date
Links
- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims description 47
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 title claims description 14
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 title claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 9
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 claims description 17
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 17
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 9
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 8
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 7
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 7
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 6
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 5
- 150000005165 hydroxybenzoic acids Chemical class 0.000 claims description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims 1
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- -1 2-keto-butyl Chemical group 0.000 description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 6
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 description 6
- JBIROUFYLSSYDX-UHFFFAOYSA-M benzododecinium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 JBIROUFYLSSYDX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 4
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 4
- GKQHIYSTBXDYNQ-UHFFFAOYSA-M 1-dodecylpyridin-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCC[N+]1=CC=CC=C1 GKQHIYSTBXDYNQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000002075 main ingredient Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WXHLLJAMBQLULT-UHFFFAOYSA-N 2-[[6-[4-(2-hydroxyethyl)piperazin-1-yl]-2-methylpyrimidin-4-yl]amino]-n-(2-methyl-6-sulfanylphenyl)-1,3-thiazole-5-carboxamide;hydrate Chemical compound O.C=1C(N2CCN(CCO)CC2)=NC(C)=NC=1NC(S1)=NC=C1C(=O)NC1=C(C)C=CC=C1S WXHLLJAMBQLULT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPNXSZJPSVBLHP-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-n-phenylpyridine-3-carboxamide Chemical compound ClC1=NC=CC=C1C(=O)NC1=CC=CC=C1 MPNXSZJPSVBLHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCPXWRQRBFJBPZ-UHFFFAOYSA-N 5-sulfosalicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(S(O)(=O)=O)=CC=C1O YCPXWRQRBFJBPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000851 Alloy steel Inorganic materials 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001825 Polyoxyethene (8) stearate Substances 0.000 description 1
- 125000001539 acetonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910000963 austenitic stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- SXPWTBGAZSPLHA-UHFFFAOYSA-M cetalkonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 SXPWTBGAZSPLHA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229960000228 cetalkonium chloride Drugs 0.000 description 1
- YMKDRGPMQRFJGP-UHFFFAOYSA-M cetylpyridinium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+]1=CC=CC=C1 YMKDRGPMQRFJGP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229960001927 cetylpyridinium chloride Drugs 0.000 description 1
- WOWHHFRSBJGXCM-UHFFFAOYSA-M cetyltrimethylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C WOWHHFRSBJGXCM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N chromium nickel Chemical compound [Cr].[Ni] VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- REZZEXDLIUJMMS-UHFFFAOYSA-M dimethyldioctadecylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCCCCCCCCCCCC REZZEXDLIUJMMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 239000004664 distearyldimethylammonium chloride (DHTDMAC) Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 238000009533 lab test Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F3/00—Brightening metals by chemical means
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F3/00—Brightening metals by chemical means
- C23F3/04—Heavy metals
- C23F3/06—Heavy metals with acidic solutions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Chemical Treatment Of Metals (AREA)
Description
A találmány tárgya eljárás és fürdők rozsdamentes acél felületek kémiai polírozására.
A fémfelületek kémiai polfrozása jól ismert technika (lásd: W. J. McG. Tegart: Fémek elektrolitikus és kémiai polfrozása, = Dunod, 1960, 122. és a rákövetkező oldalak); ez a polírozandó fémfelületek oxidáló fürdővel történő kezeléséből áll. Ausztenites rozsdamentes acélok kémiai polírozására általában hidrogénklorid, foszforsav és salétromsav vizes oldatának elegyéből álló fürdő használatos (2 662 814 számú amerikai egyesült államokbeli szabadalmi leírás). A polírozás minőségét javítandó, általában alkalmas adalékanyagokkal egészítik ki ezt a fürdőt, például felületaktív anyagokkal, viszkozitás-szabályozókkal és fényesítő anyagokkal. így a 3 709 824 számú amerikai egyesült államokbeli szabadalmi leírásban olyan fürdőöszszetételt írnak le rozsdamentes acél felületek kémiai polírozására, amely vizes oldatban hidrogén-klorid, salétromsav és foszforsav elegyét tartalmazza, emellett viszkozitás-szabályozásra vízben oldható polimert, egy felületaktív anyagot, fényesítő anyagként pedig szulfoszalicilsavat tartalmaz.
Ezeknek az ismert polírozó fürdőknek megkülönböztető tulajdonsága, hogy nagyon erőteljesen támadják a fémet Ilyen fürdővel a rozsdamentes acél felület polírozó kezelése általában nem haladhatja meg a néhány percet, különben helyi korróziós jelenségeket hoz létre. Az ismert polírozó fürdőknek ez az erőteljes hatása előnytelen, mert bizonyos alkalmazásokra, különösen a nagy edények, például bojlerek, autoklávok, kristályosítók fala belső oldalának a polírozására használhatatlanná teszi őket. Mivel az ilyen edények megtöltéséhez és kiürítéséhez szükséges időtartam általában sokkal hosszabb, mint a kémiai polírozó kezelés optimális időtartama, valójában lehetetlenné válik a fal egyenletes polírozottságának elérése, mivel a fal egyes részei elégtelenül polírozódnak, ugyanakkor más részei mélyen korrodálódnak. Mindemellett az ismert kémiai polírozó fürdők nagy aktivitása bonyolulttá teszi a polírozás kézbentartását
A 19 964 számú európai szabadalmi leírásban (Solvay és Cie) nagyon lassan ható kémiai polírozó fürdőt írnak le, amely következésképpen a fent említett hátrányoktól mentes. Ezek az ismert fürdők vizes oldatban hidrogén-klorid, salétromsav, foszforsav, szulfoszalicilsav, alkil-piridinium-klorid és metil-cellulóz elegyét tartalmazzák. Ezeket az ismert lassú hatású polírozó fürdőket úgy tervezték, hogy legalább 45 ’C hőmérsékleten, általában 50 ’C és 100 ’C között működjenek.
A találmány célja olyan fürdők létrehozása, amelyek összetételük folytán rozsdamentes acél felületek lassú és hatásos kémiai polfrozását eredményezik 50 ’C alatti munkahőmérsékleten.
Következésképpen a találmány tárgyát rozsdamentes acél felületek kémiai polírozására szolgáló olyan fürdők képezik, amelyek vizes oldatban hidrogén-klorid, salétromsav, foszforsav, egy adott esetben szubsztituált hidroxi-benzoesav, legalább egy kvaterner ammóniumsó és egy adalékanyag elegyét tartalmazzák, amely utóbbi adalékanyag vagy perklórsav, vagy a perklórsavnak egy vízben oldható sója.
A találmány szerinti fürdőkben a hidroxi-benzoesav a fényesítőszer szerepét tölti be. Lehet szubsztituálatlan, például szalicilsav, vagy szubsztituált, például szulfoszalicilsav. Előnyös a szalicilsav.
A kvaterner ammóniumsót előnyösen azon vegyületek közül választjuk, amelyek legalább egy, szubsztituált vagy szubsztituálatlan, hosszú láncú, legalább négy szénatomot tartalmazó alkilcsoportot tartalmaznak. Előnyös az olyan kvaterner ammóniumsó, amelyben a hosszú láncú alkilcsoport legalább 8 szénatomot, előnyösen legalább 12 szénatomot tartalmaz, például amelyben ez a csoport lauril-, cetilvagy sztearil-csoport. Különösen ajánlott kvaterner ammóniumsók a vízben oldható alkil-piridinium-sók, valamint azok a vízben oldható kvaterner ammóniumsók, amelyek a fent meghatározott hosszú láncú alkilcsoport mellett még legalább egy másik szubsztituált vagy szubsztituálatlan alkilcsoportot és/vagy egy szubsztituált vagy szubsztituálatlan benzilcsoportot is tartalmaznak. Előnyösek a halogenidek, különösen a kloridok. A fürdőkben a találmány szerint alkalmazható kvaterner ammóniumsőkra példaként szolgálhatnak a cetil-trimetil-ammónium-klorid, a cetildimetil-benzil-ammónium-klorid, a disztearil-dimetil-ammőnium-klorid, a lauril-dimetil-benzil-ammónium-klorid, a lauril-trimetil-ammónium-klorid és az alkil-piridinium-kloridok, különösen a cetil-piridinium-klorid és a lauril-piridinium-klorid. Ezek a kvatemer ammóniumsók beszerezhetők a Henkel cég Dehyquart márkanevű termékei köréből.
A találmány szerinti fürdőkben célszerűen egyrészt a kvaterner ammóniumsó, másrészt a perklórsav és annak vízben oldható sói köréből választott adalékanyag egymáshoz viszonyított mennyiségét úgy állítjuk be, hogy lehetővé váljék azok koadszorpciója a polírozandó acél felszínén, ugyanakkor elkerülhető legyen, hogy meghaladjuk termékük oldhatóságát. Általános szabályként célszerűnek mondható, hogy a találmány szerinti fürdők literenként 0,005 g és 1 g közötti mennyiségben tartalmazzanak kvaterner ammóniumsót és 0,001 mól és 0,5 mól közötti mennyiségben a perklórsav és annak vízben oldható sói köréből választott adalékanyagot.
A találmány szerinti fürdők különböző alkotórészeinek alkalmas mennyisége függ a polírozandó rozsdamentes acél minőségétől és a polírozás körülményeitől, különösen a polírozandó acéltárgy profiljától, nagyságától, a fürdő térfogatától, hőmérsékletétől és keverésének lehetőségétől. A szükséges mennyiségeket tehát minden egyedi esetben rutinszerű laboratóriumi vizsgálatok segítségével kell meghatározni.
Például króm-nikkel ötvözésű ausztenites rozsdamentes acélok 20 ’C és 50 ’C közötti hőmérsékleten történő polírozására a találmány szerinti fürdők a vizes oldat minden literére számítva
0,5-5 mól (előnyösen 1-3 mól) hidrogén-kloridot, 0,005-1 mól (előnyösen 0,05-0,5 mól) salétromsavat, 0,005-1 mól (előnyösen 0,01-0,5 mól) foszforsavat,
HU 212 487 Β
0,0005-0,5 mól (előnyösen 0,001-0,2 mól) adalékanyagot a perklórsav és annak vízben oldható sói köréből választva,
0,001-5 g szubsztituált vagy szubsztituálatlan hidroxi-benzoesavat (szubsztituálatlan sav esetén előnyösen 0,005-0,3 grammot), valamint
0,005-1 g előnyösen 0,02-0,2 g) kvaterner ammóniumsót tartalmaznak.
A találmány szerinti polírozó fürdők kívánt esetben tartalmazhatnak olyan adalékanyagokat, amelyek rendszerint megtalálhatók a fémek kémiai polírozására szolgáló ismert fürdőkben, például felületaktív anyagokat, alkoholokat és viszkozitás-szabályozókat Tartalmazhatnak például vízben oldható abietil-vegyületet, amely az (1) általános képletű abietil-csoportot vagy hidroabietil- vagy dehidroabietil-csoportot tartalmazó vegyület.
A találmány szerint az abietil-vegyületnek a vizes oldatban oldhatónak kell lennie.
A találmány szerinti fürdőkben alkalmazható abietil-vegyületek az abietaminok.
A találmány szerinti fürdőkben különösen előnyös abietaminok az (I) általános képletű vegyületek, ahol Rj jelentése a fent meghatározott abietil-, hidroabietilvagy dehidroabietilcsoport;
X] jelentése olyan csoport, amely legalább egy karbonilcsoportot tartalmaz; és
X2 jelentése hidrogénatom vagy olyan csoport, amely legalább egy karbonilcsoportot tartalmaz.
A találmány szerinti fürdőkben alkalmazhatók például azok az abietaminok, amelyekben az X! és X2 csoportok közül legalább az egyik a (2) általános képlet szerinti, ahol R2 jelentése telített vagy telítetlen, szubsztituált vagy szubsztituálatlan, lineáris vagy ciklikus alkilcsoport, amely legalább egy karbonilcsoportot tartalmaz. Ezek közül a vegyületek közül előnyösek azok, amelyekben a -CH2-csoport az R2 helyettesítő karbonilcsoportjához olyan szénatommal kapcsolódik, amely legalább egy hidrogénatomot hordoz. Az ilyen helyettesített abietaminok és előállítási módjuk leírása megtalálható a 734 665 számú nagy-britanniai szabadalmi leírásban. A találmány szerinti fürdőkben alkalmazható ilyen típusú abietaminok például azok, amelyek R2 alkilcsoportja acetonil-, 2-keto-butil-, 4-metil2-keto-3-pentenil-, 4-hidroxi-4-metil-2-keto-pentil-, 2keto-ciklopentil-, 4-hidroxi-2-keto-3-pentenil-, 2-ketociklohexil-, 2,5-diketo-hexil- vagy 2-fenil-2-keto-etilcsoport.
A találmány szerinti fürdők alkalmasak bármely ausztenites rozsdamentes acél felület kémiai polírozására. Különösen alkalmasak olyan ausztenites rozsdamentes acélok polírozására, amelyek 16 és 26 tömeg% közötti mennyiségű krómot és 6 és 22 tömeg% közötti mennyiségű nikkelt tartalmaznak, mint például a 18/8 és 18/10 minőségű molibdénmentes acélok (AISI 304 és 304L acélok). A találmány szerinti fürdők különleges tulajdonsága, hogy az ilyen acélokat lassan polírozzák, általában 5 és 12 óra közötti érintkezési időtartamot igényelve. A fenti fürdők bármely hőmérsékleten alkalmazhatók 20 ’C-tól a forráspontig. Figyelemre méltó sajátságuk azonban, hogy kiválóan hatásosan 50 ’C alatti hőmérsékleten, általában 35 ’C és 45 ’C között, normál légköri nyomáson, ez pedig könnyűvé teszi a használatukat, és egyszerűsíti azokat a rendszabályokat, amelyeket azért kell hozni, hogy a polírozó műhely egészségügyileg megfeleljen. További előnyük a találmány szerinti fürdőknek az, hogy jó minőségű polírozást eredményeznek azokon a munkadarabokon, amelyeket a szakma szabályait betartva végzett hegesztéssel állítottak össze.
A találmány tárgya továbbá egy eljárás rozsdamentes acél felületek oly módon történő polírozására, hogy a felületet érintkezésbe hozzuk a találmány szerinti kémiai polírozó fürdővel.
A találmány szerinti eljárás megvalósításában a fémfelület és a fürdő közötti érintkezés bármilyen alkalmas módszerrel létrehozható, például bemerítéssel. A polírozandó felület és a fürdő közötti érintkezés időtartama elegendő kell legyen ahhoz, hogy a felület hatékony polirozását biztosítsa. Nem szabad azonban, hogy meghaladjon egy kritikus értéket, amelyen túl a fündő elveszíti polírozó jellegét. Az érintkezési időtartam optimuma sok paramétertől függ, például az acél összetételétől, a polírozandó felület alakjától és kezdeti érdességétől, a fiirdő összetételétől, a működtetés hőmérsékletétől, a felülettel érintkező fürdő bárminemű keverésétől, valamint a polírozandó felület nagysága és a fürdő mennyisége közötti aránytól. Ez az időtartam minden egyes esetre egyedileg határozandó meg a szokásos laboratóriumi eljárásokkal.
A találmány szerinti eljárás egy előnyös megvalósításában a fürdőt 20 ’C és 50 ’C, előnyösen 35 ’C és 45 ’C közötti hőmérsékleten alkalmazzuk, normál légköri nyomáson, a polírozandó felület és a fürdő közötti érintkezést pedig 5 és 12 óra közötti időtartamon át tartjuk fenn.
A találmány előnyeit az alábbi példákban világítjuk meg.
Az alábbiakban leírt példákban olyan rozsdamentes acél lapokat használtunk, amelyek 18/10 összetételű molibdénmentes ötvözött acélból készültek (18,0% króm- és 10,0% nikkel-tartalommal).
A lapot minden példában olyan polírozó fürdőbe merítettük, amelyet lényegében állandó hőmérsékleten tartottunk és mérsékelten kevertünk. A bemerítést időszak végén a lapot a fürdőből kiemeltük, ioncserélt vízzel leöblítettük, majd megszárítottuk. Megmértük a következő paramétereket;
- a fém korróziójának átlagos mélységét, a következő összefüggéssel definiálva:
Áe=104xAP/Sxd ahol
S jelentése a lap felülete cm2 egységekben, d jelentése a fém sűrűsége g/cm3 egységekben,
Δρ jelentése a lap tömegvesztesége a fürdőbe történő bemerítés ideje alatt, g egységekben,
Δε jelentése a korrózió mélysége gm egységekben;
HU 212 487 Β
- az Ra átlagos aritmetikai érdességet, tehát a lap főfelületétől való átlagos eltérést (ld. Michael B. Bever: Encyclopedia of Materials Science and Engineering, 6. köt.; Pergamon Press, 1986., 48064808. oldalak) a (4806. oldalon szereplő) következő összefüggés szerint
Ra = (l/L)0JL|y(x)|dx a mérést olyan érzékelővel végezve, amelynek 5 pm átmérőjű hegye van, és 0,25 mm elvágást értéknek felel meg;
- a felületi fényességet.
1. példa
Egy olyan, a találmány szerinti fürdőt használunk, amely literenként
1,5 mól hidrogén-kloridot,
0,2 mól salétromsavat,
0,2 mól foszforsavat,
0,2 mól perklórsavat,
0,1 g szalicilsavat,
0,03 g Dehyquart C nevű terméket tartalmaz, amely utóbbi lauril-piridinium-klorid tartalmú elektrolit. (A Dehyquart név a Henkel cég bejegyzett márkaneve.)
A műveleti körülmények a következők:
- a fürdő térfogata 1940 cm3,
- a polírozott felület nagysága 87 cm2,
- a hőmérséklet 35 ’C,
- a bemerítés időtartama 12 órakor 30 perc. Eredményeink a következők:
- a maratás átlagos mélysége mintegy 25 pm, átlagos aritmetikai érdesség:
- a polírozás előtt 0,3±0,l pm,
- a polírozás után 0,12±0,02 pm, fényesség:
- 30 ‘C-os szögben (az ASTM E430 szabvány szerint) 40%,
- 20 ’C-os szögben (az ASTM D523 szabvány szerint) 25%.
2. példa
Egy olyan, a találmány szerinti fürdőt használunk, amely literenként
1,5 mól hidrogén-kloridot,
0,2 mól salétromsavat,
0,2 mól foszforsavat,
0,005 mól perklórsavat,
0,1 g szalicilsavat,
0,075 g Dehyquart LDB márkanevű Henkel terméket tartalmazott, amely utóbbi fő alkotórészként lauril-dimetil-benzil-ammónium-kloridot tartalmazó elektrolit.
A műveleti körülmények a következők:
- a fürdő térfogata 970 cm3,
- a polírozott felület nagysága 87 cm2,
- a hőmérséklet 35 ’C,
- a bemerítés időtartama 5 órakor 30 perc. Eredményeink a következők:
- a maratás átlagos mélysége 24 pm, átlagos aritmetikai érdesség:
- a polírozás előtt 0,3 pm,
- a polírozás után 0,12 pm,
- fényesség 20 ’C-os szögben (az ASTM D523 szabvány szerint) 25%.
3. példa (összehasonlító)
A 2. példa szerinti vizsgálatot ismételjük meg olyan kémiai polírozó fürdővel, amely nem a találmány szerinti, nem tartalmaz perklórsavat. A fürdő literenként
1,5 mól hidrogén-kloridot,
0,2 mól salétromsavat,
0,2 mól foszforsavat,
0,1 g szalicilsavat,
0,075 g Dehyquart LDB márkanevű Henkel terméket tartalmazott, amely utóbbi fő alkotórészként lauril-dimetil-benzil-ammónium-kloridot tartalmazó elektrolit.
A műveleti körülmények a következők:
- a fürdő térfogata 970 cm3,
- a polírozott felület nagysága 87 cm2,
- a hőmérséklet 35 ’C,
- a bemerítés időtartama 6 óra.
Eredményeink a következők:
- a maratás átlagos mélysége 25 pm, átlagos aritmetikai érdesség:
- a polírozás előtt 0,3 pm,
- a polírozás után 0,3 pm,
- fényesség 20 ’C-os szögben (az ASTM D523 szabvány szerint) kevesebb mint 1%.
4. példa (összehasonlító)
A 2. példa szerinti vizsgálatot ismételjük meg olyan kémiai polírozó fürdővel, amely nem a találmány szerinti, nem tartalmaz sem perklórsavat, sem elektrolitot. A fürdő literenként
1,5 mól hidrogén-kloridot,
0,2 mól salétromsavat,
0,2 mól foszforsavat,
0,1 g szalicilsavat tartalmaz.
A műveleti körülmények a következők:
- a fürdő térfogata 1940 cm3,
- a polírozott felület nagysága 87 cm2,
- a hőmérséklet 35 ’C,
- a bemerítés időtartama 6 órakor 30 perc.
Eredményeink a következők:
- a maratás átlagos mélysége 25 pm, átlagos aritmetikai érdesség:
- a polírozás előtt 0,20 pm,
- a polírozás után 0,25 pm,
- fényesség 20 ’C-os szögben (az ASTM D523 szabvány szerint) kevesebb mint 1%.
Claims (9)
- SZABADALMI IGÉNYPONTOK1. Fürdők rozsdamentes acél felületek kémiai polírozására, amelyek vizes oldatban elegyítve hidrogénkloridot, salétromsavat, foszforsavat, egy fényesítő4HU 212 487 Β szert, amely valamely szubsztituált vagy szubsztituálatlan hidroxi-benzoesav, valamint legalább egy olyan kvaterner ammóniumsót tartalmaznak, amelyben legalább egy négyszénatomos alkilcsoport van, azzal jellemezve, hogy a vizes oldat egy literére számítva 0,005 g és 1 g közötti mennyiségben a kvaterner ammóniumsót és 0,001 mól és 0,5 mól közötti mennyiségben egy olyan adalékanyagot tartalmaznak, amely vagy perklórsav vagy a perklórsavnak valamely vízben oldható sója,
- 2. Az 1. igénypont szerinti fürdők, azzal jellemezve, hogy kvaterner ammóniumsó összetevőjük legalább egy hosszú láncú, legalább 12 szénatomos alkilcsoportot tartalmaz.
- 3. Az 1. vagy 2. igénypont szerinti fürdők, azzal jellemezve, hogy kvaterner ammóniumsó összetevőjük egy halogenid.
- 4. A 3. igénypont szerint fürdők, azzal jellemezve, hogy kvaterner ammóniumsó összetevőjük alkil-piridínium-klorid.
- 5. A 2-4. igénypontok bármelyike szerinti fürdők, azzal jellemezve, hogy kvaterner ammóniumsó összetevőjük a hosszú szénláncú alkilcsoporton kívül még legalább egy másik alkilcsoportot és/vagy egy benzilcsoportot is tartalmaz.
- 6. Az 1-5. igénypontok bármelyike szerinti fürdők, azzal jellemezve, hogy még egy vízben oldható abietilvegyületet is tartalmaznak.
- 7. Az 1-5. igénypontok bármelyike szerinti fürdők, azzal jellemezve, hogy a vizes oldat egy literére számítva0,5 mól és 5 mól közötti mennyiségű hidrogénkloridot,0,005 mól és 1 mól közötti mennyiségű salétromsavat,0,005 mól és 1 mól közötti mennyiségű foszforsavat, 0,0005 mól és 0,5 mól közötti mennyiségű vagy a perklórsav vízben oldható sója, 0,001 g és 5 g közötti mennyiségű hidroxi-benzoesavat, és0,005 g és 1 g közötti mennyiségű kvaterner ammóniumsót, tartalmaznak.
- 8. Eljárás rozsdamentes acél felületeknek a felület kémiai polírozó fürdővel való érintkezésbe hozása útján történő polírozására, azzal jellemezve, hogy a fürdő az 1-7. igénypontok szerinti fürdők bármelyike, amelyet 20 *C és 50 ’C közötti hőmérsékleten alkalmazunk.
- 9. A 8. igénypont szerinti eljárás, azzal jellemezve, hogy ausztenites acél felületeket polírozunk.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| BE9000210A BE1003670A3 (fr) | 1990-02-23 | 1990-02-23 | Bains et procede pour le polissage chimique de surfaces en acier inoxydable. |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| HUT63467A HUT63467A (en) | 1993-08-30 |
| HU212487B true HU212487B (en) | 1996-07-29 |
Family
ID=3884686
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| HU9202705A HU212487B (en) | 1990-02-23 | 1991-02-18 | Baths and method for chemically polishing stainless steel surfaces |
Country Status (22)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5599399A (hu) |
| EP (1) | EP0516653B1 (hu) |
| JP (1) | JPH05505423A (hu) |
| KR (1) | KR100226881B1 (hu) |
| CN (1) | CN1036080C (hu) |
| AT (1) | ATE111971T1 (hu) |
| BE (1) | BE1003670A3 (hu) |
| BG (1) | BG60974B1 (hu) |
| BR (1) | BR9106052A (hu) |
| CA (1) | CA2076382A1 (hu) |
| CZ (1) | CZ281338B6 (hu) |
| DE (1) | DE69104190T2 (hu) |
| ES (1) | ES2065001T3 (hu) |
| HR (2) | HRP920973A2 (hu) |
| HU (1) | HU212487B (hu) |
| MY (1) | MY105439A (hu) |
| PL (1) | PL165490B1 (hu) |
| PT (1) | PT96851B (hu) |
| RU (1) | RU2060301C1 (hu) |
| SG (1) | SG20195G (hu) |
| WO (1) | WO1991013187A1 (hu) |
| YU (1) | YU47808B (hu) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1058303C (zh) * | 1995-11-20 | 2000-11-08 | 高平 | 不锈钢设备动态电解复合抛光方法 |
| JP2000158077A (ja) * | 1998-11-20 | 2000-06-13 | Nec Ibaraki Ltd | ネジの鍛造方法及びそれに係るネジ転造工具 |
| BE1012670A3 (fr) * | 1999-05-07 | 2001-02-06 | Solvay | Bains et procede pour le polissage chimique de surfaces en acier inoxydable. |
| CN104213123A (zh) * | 2014-09-22 | 2014-12-17 | 无锡贺邦金属制品有限公司 | 不锈钢材料抛光液及其制备方法 |
| CN106119855B (zh) * | 2016-08-17 | 2018-08-21 | 安徽红桥金属制造有限公司 | 一种不锈钢材料抛光剂的制备方法 |
| KR102704166B1 (ko) * | 2021-11-18 | 2024-09-09 | 인하대학교 산학협력단 | 인공지능 모델 학습을 이용한 전해 연마 공정 장치 및 그 방법 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3125475A (en) * | 1964-03-17 | Method of producing a bright finish | ||
| US2446060A (en) * | 1944-07-04 | 1948-07-27 | Battelle Development Corp | Chemical polishing of metal surfaces |
| US3457107A (en) * | 1965-07-20 | 1969-07-22 | Diversey Corp | Method and composition for chemically polishing metals |
| US3709824A (en) * | 1971-01-07 | 1973-01-09 | Nippon Soda Co | Method and composition for chemical polishing of stainless steel surfaces |
| FR2457315A1 (fr) * | 1979-05-25 | 1980-12-19 | Solvay | Bain pour le polissage chimique de surfaces en acier |
| SU1239172A1 (ru) * | 1984-06-29 | 1986-06-23 | Предприятие П/Я Г-4517 | Раствор дл химического травлени нержавеющих сталей |
| US5135610A (en) * | 1986-12-15 | 1992-08-04 | Solvay & Cie | Baths and process for chemical polishing of stainless steel surfaces |
| FR2608173B1 (fr) * | 1986-12-15 | 1993-07-16 | Solvay | Bains et procede pour le polissage chimique de surfaces en acier inoxydable |
| BE1004452A3 (fr) * | 1990-06-19 | 1992-11-24 | Solvay | Bains et procede pour le polissage chimique de surfaces en acier inoxydable. |
-
1990
- 1990-02-23 BE BE9000210A patent/BE1003670A3/fr not_active IP Right Cessation
-
1991
- 1991-02-18 AT AT91903566T patent/ATE111971T1/de not_active IP Right Cessation
- 1991-02-18 JP JP91503636A patent/JPH05505423A/ja active Pending
- 1991-02-18 DE DE69104190T patent/DE69104190T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-02-18 KR KR1019920702013A patent/KR100226881B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1991-02-18 CA CA002076382A patent/CA2076382A1/fr not_active Abandoned
- 1991-02-18 BR BR919106052A patent/BR9106052A/pt not_active IP Right Cessation
- 1991-02-18 EP EP91903566A patent/EP0516653B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1991-02-18 HU HU9202705A patent/HU212487B/hu not_active IP Right Cessation
- 1991-02-18 RU SU915053077A patent/RU2060301C1/ru active
- 1991-02-18 ES ES91903566T patent/ES2065001T3/es not_active Expired - Fee Related
- 1991-02-18 PL PL91295789A patent/PL165490B1/pl unknown
- 1991-02-18 WO PCT/BE1991/000010 patent/WO1991013187A1/fr active IP Right Grant
- 1991-02-20 YU YU29991A patent/YU47808B/sh unknown
- 1991-02-20 MY MYPI91000267A patent/MY105439A/en unknown
- 1991-02-22 PT PT96851A patent/PT96851B/pt not_active IP Right Cessation
- 1991-02-23 CN CN91101197A patent/CN1036080C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1991-02-25 CZ CS91478A patent/CZ281338B6/cs not_active IP Right Cessation
-
1992
- 1992-08-21 BG BG96808A patent/BG60974B1/bg unknown
- 1992-10-02 HR HR920973A patent/HRP920973A2/hr not_active Application Discontinuation
- 1992-10-02 HR HRP-299/91A patent/HRP920944B1/xx not_active IP Right Cessation
-
1995
- 1995-02-07 SG SG20195A patent/SG20195G/en unknown
- 1995-05-25 US US08/450,811 patent/US5599399A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1054276A (zh) | 1991-09-04 |
| KR100226881B1 (ko) | 1999-10-15 |
| HRP920973A2 (en) | 1995-04-30 |
| PT96851A (pt) | 1991-10-31 |
| EP0516653A1 (fr) | 1992-12-09 |
| US5599399A (en) | 1997-02-04 |
| DE69104190T2 (de) | 1995-05-04 |
| MY105439A (en) | 1994-10-31 |
| HUT63467A (en) | 1993-08-30 |
| CA2076382A1 (fr) | 1991-08-24 |
| ES2065001T3 (es) | 1995-02-01 |
| YU47808B (sr) | 1996-01-09 |
| HRP920944B1 (en) | 1999-10-31 |
| WO1991013187A1 (fr) | 1991-09-05 |
| PT96851B (pt) | 1998-07-31 |
| JPH05505423A (ja) | 1993-08-12 |
| ATE111971T1 (de) | 1994-10-15 |
| BG96808A (bg) | 1993-12-24 |
| CN1036080C (zh) | 1997-10-08 |
| BE1003670A3 (fr) | 1992-05-19 |
| PL165490B1 (pl) | 1994-12-30 |
| CS9100478A2 (en) | 1991-11-12 |
| DE69104190D1 (de) | 1994-10-27 |
| YU29991A (sh) | 1993-11-16 |
| KR920703874A (ko) | 1992-12-18 |
| RU2060301C1 (ru) | 1996-05-20 |
| SG20195G (en) | 1995-08-18 |
| CZ281338B6 (cs) | 1996-08-14 |
| HRP920944A2 (hr) | 1995-02-28 |
| BR9106052A (pt) | 1992-11-24 |
| EP0516653B1 (fr) | 1994-09-21 |
| BG60974B1 (en) | 1996-07-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0049678B1 (en) | Etchant for chemical milling a high tungsten content superalloy and process | |
| US5209820A (en) | Baths and process for the chemical polishing of stainless steel surfaces | |
| HU212487B (en) | Baths and method for chemically polishing stainless steel surfaces | |
| US5098517A (en) | Baths and process for chemical polishing of copper or copper alloy surfaces | |
| US4678541A (en) | Baths and process for chemical polishing of stainless steel surfaces | |
| HU212489B (en) | Baths for chemically polishing stainless steel surfaces | |
| US4981553A (en) | Copper etching bath and method of using | |
| US4460479A (en) | Method for polishing, deburring and descaling stainless steel | |
| JP3291512B2 (ja) | 過酸化水素、フッ化水素アンモニウム、及び硫酸を含有する酸性溶液の安定剤、及びこれを用いた鉄−ニッケル合金の化学的溶解処理液 | |
| US4592854A (en) | Steel etchant | |
| JP2614879B2 (ja) | ステンレス鋼表面を化学研磨する浴および方法 | |
| JP2003519290A (ja) | 窒素酸化物放出の危険が無い金属表面の光沢／不動態化 | |
| US5135610A (en) | Baths and process for chemical polishing of stainless steel surfaces | |
| US5762819A (en) | Baths and process for chemical polishing of stainless steel surfaces | |
| US3264219A (en) | Method of pickling and chemically milling zirconium and zirconium alloys | |
| JP3577345B2 (ja) | 銅およびパラジウムを含む酸性過酸化水素水溶液の安定化法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| HMM4 | Cancellation of final prot. due to non-payment of fee |