FR2610603A3 - Etui pour stocker et expedier sous vide des tranches de silicium - Google Patents
Etui pour stocker et expedier sous vide des tranches de silicium Download PDFInfo
- Publication number
- FR2610603A3 FR2610603A3 FR8800592A FR8800592A FR2610603A3 FR 2610603 A3 FR2610603 A3 FR 2610603A3 FR 8800592 A FR8800592 A FR 8800592A FR 8800592 A FR8800592 A FR 8800592A FR 2610603 A3 FR2610603 A3 FR 2610603A3
- Authority
- FR
- France
- Prior art keywords
- case
- edge
- face
- shipping
- silicon wafers
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
- H01L21/6735—Closed carriers
- H01L21/67353—Closed carriers specially adapted for a single substrate
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65D—CONTAINERS FOR STORAGE OR TRANSPORT OF ARTICLES OR MATERIALS, e.g. BAGS, BARRELS, BOTTLES, BOXES, CANS, CARTONS, CRATES, DRUMS, JARS, TANKS, HOPPERS, FORWARDING CONTAINERS; ACCESSORIES, CLOSURES, OR FITTINGS THEREFOR; PACKAGING ELEMENTS; PACKAGES
- B65D81/00—Containers, packaging elements, or packages, for contents presenting particular transport or storage problems, or adapted to be used for non-packaging purposes after removal of contents
- B65D81/18—Containers, packaging elements, or packages, for contents presenting particular transport or storage problems, or adapted to be used for non-packaging purposes after removal of contents providing specific environment for contents, e.g. temperature above or below ambient
- B65D81/20—Containers, packaging elements, or packages, for contents presenting particular transport or storage problems, or adapted to be used for non-packaging purposes after removal of contents providing specific environment for contents, e.g. temperature above or below ambient under vacuum or superatmospheric pressure, or in a special atmosphere, e.g. of inert gas
- B65D81/2007—Containers, packaging elements, or packages, for contents presenting particular transport or storage problems, or adapted to be used for non-packaging purposes after removal of contents providing specific environment for contents, e.g. temperature above or below ambient under vacuum or superatmospheric pressure, or in a special atmosphere, e.g. of inert gas under vacuum
- B65D81/2015—Containers, packaging elements, or packages, for contents presenting particular transport or storage problems, or adapted to be used for non-packaging purposes after removal of contents providing specific environment for contents, e.g. temperature above or below ambient under vacuum or superatmospheric pressure, or in a special atmosphere, e.g. of inert gas under vacuum in an at least partially rigid container
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
- H01L21/6735—Closed carriers
- H01L21/67386—Closed carriers characterised by the construction of the closed carrier
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Packaging Frangible Articles (AREA)
- Details Of Rigid Or Semi-Rigid Containers (AREA)
Abstract
ETUI POUR STOCKER ETOU EXPEDIER SOUS VIDE DES TRANCHES DE SILICIUM, CARACTERISE EN CE QU'IL COMPREND DEUX PARTIES CIRCULAIRES 2, 3 QUI COMPORTENT SELON LEUR CIRCONFERENCE, SUR DES FACES BOMBEES SUPERIEURE ET INFERIEURE 4, 5, DES BORDS EXTERIEURS RESPECTIFS 7 RELEVES, LA FACE SUPERIEURE 4 DE LA PARTIE CIRCULAIRE 2, QUI VA CONSTITUER LA PARTIE INFERIEURE DE L'ETUI 1 A ASSEMBLAGE ACHEVE, COMPORTANT VERS L'INTERIEUR DE LADITE FACE 4 UN BORD INTERIEUR 8.
Description
ETUI POUR STOCKER ET EXPEDIER SOUS VIDE DES TRANCHES DE
SILICIUM.
L'invention concerne un étui utilisable pour le stockage
et/ou l'expédition sous vide de tranches de silicium.
Les tranches de silicium utilisées pour la fabrication des circuits intégrés sont amincies, en fin d'usinage, jusqu'à 300 g d'épaisseur, testées électriquement, puis envoyées à l'assemblage. Dans des cas fréquents, cette opération n'est effectuée que longtemps après l'usinage et les essais, de
sorte que le stockage des tranches de silicium est nécessai-
re pendant une certaine période; en outre, le lieu d'assem-
blage peut souvent être assez éloigné du lieu de fabrica-
tion, de là l'exigence d'une expédition sous conditions de
sécurité du matériau considéré.
Dans les deux cas, des prescriptions précises sont à prévoir pour ces étuis, lesquels doivent:
-a) être confectionnés sous vide en vue d'éviter l'absorp-
tion d'humidité, -b) être mécaniquement robustes et capables de protéger les tranches qui sont minces et fragiles, -c) avoir un poids minimum et occuper le moins d'espace possible pour éviter des frais d'expédition élevés, - 2 -
-d) être constitués de matériaux non susceptibles de conta-
miner les tranches et construits de telle façon qu'ils
ne puissent toucher, ou qu'ils touchent le moins possi-
ble, les deux faces d'une tranche pour empêcher celle-ci d'être contaminée,
-e) doivent ne pas transmettre des décharges électrostati-
ques auxdites tranches.
I1 existe plusieurs étuis sur le marché, qui ne possèdent cependant pas dans tous les cas les qualités requises mentionnées ci-dessus et, par exemple, ils sont susceptibles de libérer des impuretés métalliques (sodium, potassium, etc...), peuvent endommager les dispositifs ou toucher une face de tranche en plusieurs points, ne permettent pas d'être confectionnés sous vide, ont des dimensions et des
pris élevés, et posent de grandes difficultés d'automatisa-
tion de la confection sous vide.
La présente invention a pour objet la réalisation d'un étui pour tranches de silicium facile à mettre sous enveloppe sous vide, apte à protéger mécaniquement, d'une manière appropriée, des tranches minces, doué de caractéristiques antistatiques adéquates, non susceptible de contaminer lesdites tranches, et apte à être utilisé même pour des
tranches non entières.
L'étui suivant l'invention est essentiellement caractérisé
en ce qu'il comprend deux parties circulaires, d'égal diamè-
tre, comportant chacune sur une face, des bords relevés situés à des distances différentes du centre de ladite face, la face supérieure de la partie qui va constituer ensuite la partie inférieure de l'étui ayant un petit bord intérieur de hauteur réduite par rapport au bord extérieur et se situant au contact de celui-ci, ladite face comportant un second bord étant la face qui a le bord extérieur de plus grand diamètre et, en outre, les deux bords prévus sur une même face d'étui étant interrompus en un point et recommencés en un point situé à petite distance du premier, pour créer - 3- ainsi une ouverture, laquelle, l'étui une fois assemblé, va se situer sur la paroi latérale de l'étui pour permettre de
former un vide à l'intérieur de celui-ci.
Moyennant l'accouplement des deux faces d'étui, dont l'une a un bord extérieur de plus grand diamètre et l'autre un bord extérieur de plus petit diamètre, faces appartenant à deux parties circulaires distinctes de l'étui, on obtient l'étui dans sa configuration apte à l'utilisation, c'est-à-dire la configuration pour laquelle le bord extérieur situé sur la face interne de la partie d'étui supérieure vient se situer
en regard du bord intérieur de la partie d'étui inférieure.
Or, lorsqu'une tranche de silicium est placée à l'intérieur
de cet étui, celle-ci n'appuie que par une partie périphéri-
que sur lesdits bords intérieur et extérieur de plus petit diamètre, ladite partie de tranche périphérique étant d'une importance minimale par rapport à l'étendue globale des faces. On obtient ainsi un bon positionnement d'une tranche
tout en réduisant en même temps la possibilité de contamina-
tion de celle-ci, compte tenu que les portions de tranche périphériques en contact avec la structure interne de l'étui
ne sont pas utilisées pour la fabrication de circuits inté-
grés. En ce qui concerne la possibilité de former un vide dans l'étui de l'invention, cela est obtenu en introduisant l'étui dans une enveloppe plastique, ou moyen analogue, et en créant un vide dans cette enveloppe: grâce à ladite ouverture que présente la paroi latérale de l'étui, un vide
sera simultanément réalisé à l'intérieur de l'étui lui-même.
De plus, le matériau dont est constitué cet étui, à savoir
du polycarbonate, lui permet de posséder les caractéristi-
ques antistatiques recherchées.
-4- L'invention sera mieux comprise en se rapportant aux dessins annexés donnés à titre d'exemple non limitatif, dans lesquels: La figure 1 est une vue de dessus en perspective montrant les parties d'un étui selon l'invention placées à c8té l'une de l'autre; La figure 2 est une vue en perspective éclatée dudit étui avec une tranche de silicium logée dedans; et La figure 3 est une vue en coupe transversale de l'étui fermé, dans lequel une tranche de silicium a
été mise en place.
L'étui 1 comprend deux parties circulaires séparables 2, 3
dont les faces respectives 4, 5 sont bombées.
Ces parties ont des bords relevés 6, 7, dont l'un - 6 -
s'étend sur la circonférence extérieure et l'autre - 7 -
légèrement en retrait. La hauteur du bord 7 est inférieure à celle du bord 6. La face supérieure 4 de la partie d'étui circulaire 2 porte selon sa circonférence, à l'intérieur du bord extérieur 6, un bord intérieur 8 situé en contact avec
ledit bord extérieur 6 et de hauteur plus faible.
Sur lesdits bords intérieur 8 et extérieur 7 vient s'appuyer la partie périphérique d'une tranche de silicium 9, tandis qu'il n'existe aucun autre point de contact entre cette
tranche 9 et l'étui 1.
De cette façon, une contamination par l'étui est rendue
moins probable que dans le cas des étuis de l'art connu.
En outre, l'étui selon l'invention a une bonne résistance
mécanique et des qualités antistatiques satisfaisantes.
-5- De plus, les bords 6 et 8 sur la face 4 de la partie d'étui 2, sont interrompus en un point A puis recommencent en C, à faible distance de A, pour réaliser ainsi, l'étui une fois
assemblé, une ouverture 10 dans la paroi latérale de l'étui.
L'étui étant introduit dans une enveloppe et un vide étant formé dans cette enveloppe, on réalise aussi un vide à l'intérieur de l'étui, du fait de la présence de l'ouverture susmentionnée. Le bombement des faces d'étui 4 et 5 permet d'empêcher lesdites faces, lors de la formation d'un vide, de venir entrer en contact, par flexion, avec une tranche de
silicium logée dans l'étui.
- 6 -
Claims (4)
1. Etui pour stocker et/ou expédier sous vide des tranches de silicium, caractérisé en ce qu'il comprend deux parties circulaires (2, 3) qui comportent selon leur circonférence, sur des faces bombées supérieure et inférieure (4, 5), des bords extérieurs respectifs (6, 7) relevés, la face supérieure (4) de la partie circulaire (2), qui va constituer la partie inférieure de l'étui (1) à assemblage achevé, comportant
vers l'intérieur de ladite face (4) un bord intérieur (8).
2. Etui selon la revendication 1, caractérisé en ce que les bords extérieurs (6, 7) sont de hauteurs différentes, le second bord (7) étant de hauteur
plus faible que le premier bord (6) et d'un diamètre légère-
ment plus petit que le diamètre de ladite face inférieure (5).
3. Etui selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que le bord intérieur (8) a une hauteur plus faible que le bord extérieur (6) sur la face (4) de la partie inférieure (2) de l'étui (1) et se trouve situé
directement en contact avec ledit bord extérieur (6).
4. Etui selon l'une des revendications 1 à 3,
caractérisé en ce qu'il comporte une ouverture (10) ménagée
d'une manière avantageuse dans un bord périphérique.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
IT8720755U IT209910Z2 (it) | 1987-02-06 | 1987-02-06 | Contenitore porta-wafer o fretta di slicio, utilizzato perl'immagazzinamento e/o spedizione sotto vuoto degli stessi. |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FR2610603A3 true FR2610603A3 (fr) | 1988-08-12 |
FR2610603B3 FR2610603B3 (fr) | 1989-02-10 |
Family
ID=11171585
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FR888800592A Expired FR2610603B3 (fr) | 1987-02-06 | 1988-01-20 | Etui pour stocker et expedier sous vide des tranches de silicium |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4886162A (fr) |
JP (1) | JPS63200344U (fr) |
DE (1) | DE8801235U1 (fr) |
FR (1) | FR2610603B3 (fr) |
IT (1) | IT209910Z2 (fr) |
Families Citing this family (225)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3907793A1 (de) * | 1989-03-10 | 1990-10-04 | Helmut Boss Kg | Vakuumverpackung mit schutzgasfuellung fuer druckempfindliche waren, insbesondere zum aufbewahren von auf schalen oder platten bereits fertig garnierter speisen |
FR2663003B1 (fr) * | 1990-06-12 | 1992-09-11 | Sgs Thomson Microelectronics | Conteneur pour plaquette semiconductrice. |
US5280894A (en) * | 1992-09-30 | 1994-01-25 | Honeywell Inc. | Fixture for backside wafer etching |
FR2697000B1 (fr) * | 1992-10-16 | 1994-11-25 | Commissariat Energie Atomique | Boîte plate de confinement d'un objet plat sous atmosphère spéciale. |
US5476173A (en) * | 1994-04-20 | 1995-12-19 | Opresco; Ovidiu | Packaging construction |
US5474177A (en) * | 1994-10-14 | 1995-12-12 | Capitol Vial, Inc. | Container for a wafer chip |
US5553711A (en) * | 1995-07-03 | 1996-09-10 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company | Storage container for integrated circuit semiconductor wafers |
JPH09129719A (ja) * | 1995-08-30 | 1997-05-16 | Achilles Corp | 半導体ウエハの収納構造および半導体ウエハの収納・取出し方法 |
KR0169786B1 (ko) * | 1995-12-21 | 1999-02-18 | 김광호 | 웨이퍼 표면 불순물의 전 처리 분석 장치 |
US6003674A (en) * | 1996-05-13 | 1999-12-21 | Brooks; Ray Gene | Method and apparatus for packing contaminant-sensitive articles and resulting package |
JP2882377B2 (ja) * | 1996-08-23 | 1999-04-12 | 日本電気株式会社 | 金属の回収容器及び金属の回収方法 |
US6030514A (en) * | 1997-05-02 | 2000-02-29 | Sony Corporation | Method of reducing sputtering burn-in time, minimizing sputtered particulate, and target assembly therefor |
US6193068B1 (en) * | 1998-05-07 | 2001-02-27 | Texas Instruments Incorporated | Containment device for retaining semiconductor wafers |
US6341695B1 (en) | 1998-05-07 | 2002-01-29 | Texas Instruments Incorporated | Containment device for retaining semiconductor wafers |
US6068130A (en) * | 1999-02-05 | 2000-05-30 | Lucent Technologies Inc. | Device and method for protecting electronic component |
AU777945B2 (en) * | 1999-07-12 | 2004-11-04 | Flexplay Technologies, Inc. | Disposable optical storage media and manufacturing method |
US6234316B1 (en) * | 1999-12-28 | 2001-05-22 | United Microelectronics Corp. | Wafer protective container |
US6550619B2 (en) | 2000-05-09 | 2003-04-22 | Entergris, Inc. | Shock resistant variable load tolerant wafer shipper |
US6982109B2 (en) | 2000-12-11 | 2006-01-03 | Flexplay Technologies, Inc. | Method for rendering surface layer of limited play disk lightfast |
US6678239B2 (en) | 2001-01-29 | 2004-01-13 | Flexplay Technologies, Inc. | Hermetically sealed package for optical media disk |
US20030112737A1 (en) * | 2001-06-05 | 2003-06-19 | Thompson Robert F. | Limited play optical devices with interstitial reactive layer and methods of making same |
US7040487B2 (en) * | 2001-07-14 | 2006-05-09 | Entegris, Inc. | Protective shipper |
US6637998B2 (en) | 2001-10-01 | 2003-10-28 | Air Products And Chemicals, Inc. | Self evacuating micro environment system |
AU2003283248A1 (en) * | 2002-10-07 | 2004-05-04 | Schott Ag | Extremely thin substrate support |
US7147107B2 (en) * | 2003-03-11 | 2006-12-12 | E.Pak International, Inc. | Packaging platform having an adjustable thickness |
US20050072121A1 (en) * | 2003-10-06 | 2005-04-07 | Texas Instruments Incorporated | Method and system for shipping semiconductor wafers |
US20060000747A1 (en) * | 2004-06-30 | 2006-01-05 | 3M Innovative Properties Company | Shipping container for integrated circuit wafers |
US7246703B1 (en) * | 2006-05-11 | 2007-07-24 | D Aquisto James | Guitar string case |
JP4893156B2 (ja) * | 2006-08-21 | 2012-03-07 | 栗田工業株式会社 | 水質評価方法及びそれに用いられる基板接触器具 |
JP5274938B2 (ja) * | 2008-08-28 | 2013-08-28 | シャープ株式会社 | Tabテープの梱包方法 |
US20130023129A1 (en) | 2011-07-20 | 2013-01-24 | Asm America, Inc. | Pressure transmitter for a semiconductor processing environment |
TWI541928B (zh) * | 2011-10-14 | 2016-07-11 | 晶元光電股份有限公司 | 晶圓載具 |
US10714315B2 (en) | 2012-10-12 | 2020-07-14 | Asm Ip Holdings B.V. | Semiconductor reaction chamber showerhead |
US20160376700A1 (en) | 2013-02-01 | 2016-12-29 | Asm Ip Holding B.V. | System for treatment of deposition reactor |
JP6310803B2 (ja) * | 2014-07-29 | 2018-04-11 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
US10941490B2 (en) | 2014-10-07 | 2021-03-09 | Asm Ip Holding B.V. | Multiple temperature range susceptor, assembly, reactor and system including the susceptor, and methods of using the same |
US10276355B2 (en) | 2015-03-12 | 2019-04-30 | Asm Ip Holding B.V. | Multi-zone reactor, system including the reactor, and method of using the same |
US10458018B2 (en) | 2015-06-26 | 2019-10-29 | Asm Ip Holding B.V. | Structures including metal carbide material, devices including the structures, and methods of forming same |
US10211308B2 (en) | 2015-10-21 | 2019-02-19 | Asm Ip Holding B.V. | NbMC layers |
US11139308B2 (en) | 2015-12-29 | 2021-10-05 | Asm Ip Holding B.V. | Atomic layer deposition of III-V compounds to form V-NAND devices |
US10529554B2 (en) | 2016-02-19 | 2020-01-07 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming silicon nitride film selectively on sidewalls or flat surfaces of trenches |
US11453943B2 (en) | 2016-05-25 | 2022-09-27 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming carbon-containing silicon/metal oxide or nitride film by ALD using silicon precursor and hydrocarbon precursor |
US10612137B2 (en) | 2016-07-08 | 2020-04-07 | Asm Ip Holdings B.V. | Organic reactants for atomic layer deposition |
US9859151B1 (en) | 2016-07-08 | 2018-01-02 | Asm Ip Holding B.V. | Selective film deposition method to form air gaps |
US9812320B1 (en) | 2016-07-28 | 2017-11-07 | Asm Ip Holding B.V. | Method and apparatus for filling a gap |
US9887082B1 (en) | 2016-07-28 | 2018-02-06 | Asm Ip Holding B.V. | Method and apparatus for filling a gap |
US11532757B2 (en) | 2016-10-27 | 2022-12-20 | Asm Ip Holding B.V. | Deposition of charge trapping layers |
US10714350B2 (en) | 2016-11-01 | 2020-07-14 | ASM IP Holdings, B.V. | Methods for forming a transition metal niobium nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related semiconductor device structures |
KR102546317B1 (ko) | 2016-11-15 | 2023-06-21 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기체 공급 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 |
KR20180068582A (ko) | 2016-12-14 | 2018-06-22 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
US11447861B2 (en) | 2016-12-15 | 2022-09-20 | Asm Ip Holding B.V. | Sequential infiltration synthesis apparatus and a method of forming a patterned structure |
US11581186B2 (en) | 2016-12-15 | 2023-02-14 | Asm Ip Holding B.V. | Sequential infiltration synthesis apparatus |
US10269558B2 (en) | 2016-12-22 | 2019-04-23 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a structure on a substrate |
US11390950B2 (en) | 2017-01-10 | 2022-07-19 | Asm Ip Holding B.V. | Reactor system and method to reduce residue buildup during a film deposition process |
US10468261B2 (en) | 2017-02-15 | 2019-11-05 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a metallic film on a substrate by cyclical deposition and related semiconductor device structures |
US10770286B2 (en) | 2017-05-08 | 2020-09-08 | Asm Ip Holdings B.V. | Methods for selectively forming a silicon nitride film on a substrate and related semiconductor device structures |
US11306395B2 (en) | 2017-06-28 | 2022-04-19 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a transition metal nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related deposition apparatus |
KR20190009245A (ko) | 2017-07-18 | 2019-01-28 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 반도체 소자 구조물 형성 방법 및 관련된 반도체 소자 구조물 |
US11374112B2 (en) | 2017-07-19 | 2022-06-28 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a group IV semiconductor and related semiconductor device structures |
US10590535B2 (en) | 2017-07-26 | 2020-03-17 | Asm Ip Holdings B.V. | Chemical treatment, deposition and/or infiltration apparatus and method for using the same |
US10692741B2 (en) | 2017-08-08 | 2020-06-23 | Asm Ip Holdings B.V. | Radiation shield |
US10770336B2 (en) | 2017-08-08 | 2020-09-08 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate lift mechanism and reactor including same |
US11769682B2 (en) | 2017-08-09 | 2023-09-26 | Asm Ip Holding B.V. | Storage apparatus for storing cassettes for substrates and processing apparatus equipped therewith |
US11830730B2 (en) | 2017-08-29 | 2023-11-28 | Asm Ip Holding B.V. | Layer forming method and apparatus |
US11295980B2 (en) | 2017-08-30 | 2022-04-05 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a molybdenum metal film over a dielectric surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures |
US10658205B2 (en) | 2017-09-28 | 2020-05-19 | Asm Ip Holdings B.V. | Chemical dispensing apparatus and methods for dispensing a chemical to a reaction chamber |
TWI779134B (zh) | 2017-11-27 | 2022-10-01 | 荷蘭商Asm智慧財產控股私人有限公司 | 用於儲存晶圓匣的儲存裝置及批爐總成 |
WO2019103610A1 (fr) | 2017-11-27 | 2019-05-31 | Asm Ip Holding B.V. | Appareil comprenant un mini-environnement propre |
US10872771B2 (en) | 2018-01-16 | 2020-12-22 | Asm Ip Holding B. V. | Method for depositing a material film on a substrate within a reaction chamber by a cyclical deposition process and related device structures |
TW202325889A (zh) | 2018-01-19 | 2023-07-01 | 荷蘭商Asm 智慧財產控股公司 | 沈積方法 |
US11482412B2 (en) | 2018-01-19 | 2022-10-25 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a gap-fill layer by plasma-assisted deposition |
US11081345B2 (en) | 2018-02-06 | 2021-08-03 | Asm Ip Holding B.V. | Method of post-deposition treatment for silicon oxide film |
US10896820B2 (en) | 2018-02-14 | 2021-01-19 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a ruthenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process |
CN111699278B (zh) | 2018-02-14 | 2023-05-16 | Asm Ip私人控股有限公司 | 通过循环沉积工艺在衬底上沉积含钌膜的方法 |
KR102636427B1 (ko) | 2018-02-20 | 2024-02-13 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 방법 및 장치 |
US10975470B2 (en) | 2018-02-23 | 2021-04-13 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus for detecting or monitoring for a chemical precursor in a high temperature environment |
US11473195B2 (en) | 2018-03-01 | 2022-10-18 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor processing apparatus and a method for processing a substrate |
US11629406B2 (en) | 2018-03-09 | 2023-04-18 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor processing apparatus comprising one or more pyrometers for measuring a temperature of a substrate during transfer of the substrate |
KR102646467B1 (ko) | 2018-03-27 | 2024-03-11 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 상에 전극을 형성하는 방법 및 전극을 포함하는 반도체 소자 구조 |
US11230766B2 (en) | 2018-03-29 | 2022-01-25 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus and method |
KR20190128558A (ko) | 2018-05-08 | 2019-11-18 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 상에 산화물 막을 주기적 증착 공정에 의해 증착하기 위한 방법 및 관련 소자 구조 |
KR102596988B1 (ko) | 2018-05-28 | 2023-10-31 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 방법 및 그에 의해 제조된 장치 |
US11718913B2 (en) | 2018-06-04 | 2023-08-08 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distribution system and reactor system including same |
US11270899B2 (en) | 2018-06-04 | 2022-03-08 | Asm Ip Holding B.V. | Wafer handling chamber with moisture reduction |
US11286562B2 (en) | 2018-06-08 | 2022-03-29 | Asm Ip Holding B.V. | Gas-phase chemical reactor and method of using same |
KR102568797B1 (ko) | 2018-06-21 | 2023-08-21 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 시스템 |
US10797133B2 (en) | 2018-06-21 | 2020-10-06 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a phosphorus doped silicon arsenide film and related semiconductor device structures |
US11492703B2 (en) | 2018-06-27 | 2022-11-08 | Asm Ip Holding B.V. | Cyclic deposition methods for forming metal-containing material and films and structures including the metal-containing material |
CN112292477A (zh) | 2018-06-27 | 2021-01-29 | Asm Ip私人控股有限公司 | 用于形成含金属的材料的循环沉积方法及包含含金属的材料的膜和结构 |
US10612136B2 (en) | 2018-06-29 | 2020-04-07 | ASM IP Holding, B.V. | Temperature-controlled flange and reactor system including same |
US10755922B2 (en) | 2018-07-03 | 2020-08-25 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition |
US10388513B1 (en) | 2018-07-03 | 2019-08-20 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition |
US11430674B2 (en) | 2018-08-22 | 2022-08-30 | Asm Ip Holding B.V. | Sensor array, apparatus for dispensing a vapor phase reactant to a reaction chamber and related methods |
KR20200030162A (ko) | 2018-09-11 | 2020-03-20 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 박막 증착 방법 |
US11024523B2 (en) | 2018-09-11 | 2021-06-01 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus and method |
CN110970344A (zh) | 2018-10-01 | 2020-04-07 | Asm Ip控股有限公司 | 衬底保持设备、包含所述设备的系统及其使用方法 |
US11232963B2 (en) | 2018-10-03 | 2022-01-25 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus and method |
KR102592699B1 (ko) | 2018-10-08 | 2023-10-23 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 지지 유닛 및 이를 포함하는 박막 증착 장치와 기판 처리 장치 |
KR102546322B1 (ko) | 2018-10-19 | 2023-06-21 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
KR102605121B1 (ko) | 2018-10-19 | 2023-11-23 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
US11087997B2 (en) | 2018-10-31 | 2021-08-10 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus for processing substrates |
KR20200051105A (ko) | 2018-11-02 | 2020-05-13 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 지지 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 |
US11572620B2 (en) | 2018-11-06 | 2023-02-07 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for selectively depositing an amorphous silicon film on a substrate |
US10818758B2 (en) | 2018-11-16 | 2020-10-27 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a metal silicate film on a substrate in a reaction chamber and related semiconductor device structures |
US11217444B2 (en) | 2018-11-30 | 2022-01-04 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming an ultraviolet radiation responsive metal oxide-containing film |
KR102636428B1 (ko) | 2018-12-04 | 2024-02-13 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치를 세정하는 방법 |
US11158513B2 (en) | 2018-12-13 | 2021-10-26 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a rhenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures |
TW202037745A (zh) | 2018-12-14 | 2020-10-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 形成裝置結構之方法、其所形成之結構及施行其之系統 |
TWI819180B (zh) | 2019-01-17 | 2023-10-21 | 荷蘭商Asm 智慧財產控股公司 | 藉由循環沈積製程於基板上形成含過渡金屬膜之方法 |
KR20200091543A (ko) | 2019-01-22 | 2020-07-31 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
JP2020136678A (ja) | 2019-02-20 | 2020-08-31 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | 基材表面内に形成された凹部を充填するための方法および装置 |
US11482533B2 (en) | 2019-02-20 | 2022-10-25 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus and methods for plug fill deposition in 3-D NAND applications |
KR102626263B1 (ko) | 2019-02-20 | 2024-01-16 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 처리 단계를 포함하는 주기적 증착 방법 및 이를 위한 장치 |
JP2020136677A (ja) | 2019-02-20 | 2020-08-31 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | 基材表面内に形成された凹部を充填するための周期的堆積方法および装置 |
JP2020133004A (ja) | 2019-02-22 | 2020-08-31 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | 基材を処理するための基材処理装置および方法 |
US11742198B2 (en) | 2019-03-08 | 2023-08-29 | Asm Ip Holding B.V. | Structure including SiOCN layer and method of forming same |
KR20200108242A (ko) | 2019-03-08 | 2020-09-17 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 실리콘 질화물 층을 선택적으로 증착하는 방법, 및 선택적으로 증착된 실리콘 질화물 층을 포함하는 구조체 |
KR20200116033A (ko) | 2019-03-28 | 2020-10-08 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 도어 개방기 및 이를 구비한 기판 처리 장치 |
KR20200116855A (ko) | 2019-04-01 | 2020-10-13 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 반도체 소자를 제조하는 방법 |
US11447864B2 (en) | 2019-04-19 | 2022-09-20 | Asm Ip Holding B.V. | Layer forming method and apparatus |
KR20200125453A (ko) | 2019-04-24 | 2020-11-04 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기상 반응기 시스템 및 이를 사용하는 방법 |
KR20200130118A (ko) | 2019-05-07 | 2020-11-18 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 비정질 탄소 중합체 막을 개질하는 방법 |
KR20200130121A (ko) | 2019-05-07 | 2020-11-18 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 딥 튜브가 있는 화학물질 공급원 용기 |
KR20200130652A (ko) | 2019-05-10 | 2020-11-19 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 표면 상에 재료를 증착하는 방법 및 본 방법에 따라 형성된 구조 |
JP2020188254A (ja) | 2019-05-16 | 2020-11-19 | エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. | ウェハボートハンドリング装置、縦型バッチ炉および方法 |
JP2020188255A (ja) | 2019-05-16 | 2020-11-19 | エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. | ウェハボートハンドリング装置、縦型バッチ炉および方法 |
USD975665S1 (en) | 2019-05-17 | 2023-01-17 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor shaft |
USD947913S1 (en) | 2019-05-17 | 2022-04-05 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor shaft |
KR20200141003A (ko) | 2019-06-06 | 2020-12-17 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 가스 감지기를 포함하는 기상 반응기 시스템 |
KR20200143254A (ko) | 2019-06-11 | 2020-12-23 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 개질 가스를 사용하여 전자 구조를 형성하는 방법, 상기 방법을 수행하기 위한 시스템, 및 상기 방법을 사용하여 형성되는 구조 |
USD944946S1 (en) | 2019-06-14 | 2022-03-01 | Asm Ip Holding B.V. | Shower plate |
KR20210005515A (ko) | 2019-07-03 | 2021-01-14 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치용 온도 제어 조립체 및 이를 사용하는 방법 |
JP7499079B2 (ja) | 2019-07-09 | 2024-06-13 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | 同軸導波管を用いたプラズマ装置、基板処理方法 |
CN112216646A (zh) | 2019-07-10 | 2021-01-12 | Asm Ip私人控股有限公司 | 基板支撑组件及包括其的基板处理装置 |
KR20210010307A (ko) | 2019-07-16 | 2021-01-27 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
KR20210010820A (ko) | 2019-07-17 | 2021-01-28 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 실리콘 게르마늄 구조를 형성하는 방법 |
KR20210010816A (ko) | 2019-07-17 | 2021-01-28 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 라디칼 보조 점화 플라즈마 시스템 및 방법 |
US11643724B2 (en) | 2019-07-18 | 2023-05-09 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming structures using a neutral beam |
CN112242296A (zh) | 2019-07-19 | 2021-01-19 | Asm Ip私人控股有限公司 | 形成拓扑受控的无定形碳聚合物膜的方法 |
CN112309843A (zh) | 2019-07-29 | 2021-02-02 | Asm Ip私人控股有限公司 | 实现高掺杂剂掺入的选择性沉积方法 |
CN112309900A (zh) | 2019-07-30 | 2021-02-02 | Asm Ip私人控股有限公司 | 基板处理设备 |
CN112309899A (zh) | 2019-07-30 | 2021-02-02 | Asm Ip私人控股有限公司 | 基板处理设备 |
US11587814B2 (en) | 2019-07-31 | 2023-02-21 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly |
US11227782B2 (en) | 2019-07-31 | 2022-01-18 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly |
US11587815B2 (en) | 2019-07-31 | 2023-02-21 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly |
CN112323048B (zh) | 2019-08-05 | 2024-02-09 | Asm Ip私人控股有限公司 | 用于化学源容器的液位传感器 |
USD965524S1 (en) | 2019-08-19 | 2022-10-04 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor support |
USD965044S1 (en) | 2019-08-19 | 2022-09-27 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor shaft |
JP2021031769A (ja) | 2019-08-21 | 2021-03-01 | エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. | 成膜原料混合ガス生成装置及び成膜装置 |
USD940837S1 (en) | 2019-08-22 | 2022-01-11 | Asm Ip Holding B.V. | Electrode |
KR20210024423A (ko) | 2019-08-22 | 2021-03-05 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 홀을 구비한 구조체를 형성하기 위한 방법 |
USD979506S1 (en) | 2019-08-22 | 2023-02-28 | Asm Ip Holding B.V. | Insulator |
USD949319S1 (en) | 2019-08-22 | 2022-04-19 | Asm Ip Holding B.V. | Exhaust duct |
US11286558B2 (en) | 2019-08-23 | 2022-03-29 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a molybdenum nitride film on a surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures including a molybdenum nitride film |
KR20210024420A (ko) | 2019-08-23 | 2021-03-05 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 비스(디에틸아미노)실란을 사용하여 peald에 의해 개선된 품질을 갖는 실리콘 산화물 막을 증착하기 위한 방법 |
KR20210029090A (ko) | 2019-09-04 | 2021-03-15 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 희생 캡핑 층을 이용한 선택적 증착 방법 |
KR20210029663A (ko) | 2019-09-05 | 2021-03-16 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
US11562901B2 (en) | 2019-09-25 | 2023-01-24 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing method |
CN112593212B (zh) | 2019-10-02 | 2023-12-22 | Asm Ip私人控股有限公司 | 通过循环等离子体增强沉积工艺形成拓扑选择性氧化硅膜的方法 |
KR20210042810A (ko) | 2019-10-08 | 2021-04-20 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 활성 종을 이용하기 위한 가스 분배 어셈블리를 포함한 반응기 시스템 및 이를 사용하는 방법 |
CN112635282A (zh) | 2019-10-08 | 2021-04-09 | Asm Ip私人控股有限公司 | 具有连接板的基板处理装置、基板处理方法 |
EP3806138B1 (fr) * | 2019-10-09 | 2022-11-30 | Infineon Technologies AG | Système de transport |
KR20210043460A (ko) | 2019-10-10 | 2021-04-21 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 포토레지스트 하부층을 형성하기 위한 방법 및 이를 포함한 구조체 |
US12009241B2 (en) | 2019-10-14 | 2024-06-11 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly with detector to detect cassette |
TWI834919B (zh) | 2019-10-16 | 2024-03-11 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 氧化矽之拓撲選擇性膜形成之方法 |
US11637014B2 (en) | 2019-10-17 | 2023-04-25 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for selective deposition of doped semiconductor material |
KR20210047808A (ko) | 2019-10-21 | 2021-04-30 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 막을 선택적으로 에칭하기 위한 장치 및 방법 |
KR20210050453A (ko) | 2019-10-25 | 2021-05-07 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 표면 상의 갭 피처를 충진하는 방법 및 이와 관련된 반도체 소자 구조 |
US11646205B2 (en) | 2019-10-29 | 2023-05-09 | Asm Ip Holding B.V. | Methods of selectively forming n-type doped material on a surface, systems for selectively forming n-type doped material, and structures formed using same |
KR20210054983A (ko) | 2019-11-05 | 2021-05-14 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 도핑된 반도체 층을 갖는 구조체 및 이를 형성하기 위한 방법 및 시스템 |
US11501968B2 (en) | 2019-11-15 | 2022-11-15 | Asm Ip Holding B.V. | Method for providing a semiconductor device with silicon filled gaps |
KR20210062561A (ko) | 2019-11-20 | 2021-05-31 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판의 표면 상에 탄소 함유 물질을 증착하는 방법, 상기 방법을 사용하여 형성된 구조물, 및 상기 구조물을 형성하기 위한 시스템 |
CN112951697A (zh) | 2019-11-26 | 2021-06-11 | Asm Ip私人控股有限公司 | 基板处理设备 |
KR20210065848A (ko) | 2019-11-26 | 2021-06-04 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 제1 유전체 표면과 제2 금속성 표면을 포함한 기판 상에 타겟 막을 선택적으로 형성하기 위한 방법 |
CN112885693A (zh) | 2019-11-29 | 2021-06-01 | Asm Ip私人控股有限公司 | 基板处理设备 |
CN112885692A (zh) | 2019-11-29 | 2021-06-01 | Asm Ip私人控股有限公司 | 基板处理设备 |
JP2021090042A (ja) | 2019-12-02 | 2021-06-10 | エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. | 基板処理装置、基板処理方法 |
KR20210070898A (ko) | 2019-12-04 | 2021-06-15 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
KR20210078405A (ko) | 2019-12-17 | 2021-06-28 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 바나듐 나이트라이드 층을 형성하는 방법 및 바나듐 나이트라이드 층을 포함하는 구조 |
US11527403B2 (en) | 2019-12-19 | 2022-12-13 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for filling a gap feature on a substrate surface and related semiconductor structures |
JP2021109175A (ja) | 2020-01-06 | 2021-08-02 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | ガス供給アセンブリ、その構成要素、およびこれを含む反応器システム |
US11993847B2 (en) | 2020-01-08 | 2024-05-28 | Asm Ip Holding B.V. | Injector |
TW202129068A (zh) | 2020-01-20 | 2021-08-01 | 荷蘭商Asm Ip控股公司 | 形成薄膜之方法及修飾薄膜表面之方法 |
TW202130846A (zh) | 2020-02-03 | 2021-08-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 形成包括釩或銦層的結構之方法 |
KR20210100010A (ko) | 2020-02-04 | 2021-08-13 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 대형 물품의 투과율 측정을 위한 방법 및 장치 |
US11776846B2 (en) | 2020-02-07 | 2023-10-03 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing gap filling fluids and related systems and devices |
TW202146715A (zh) | 2020-02-17 | 2021-12-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於生長磷摻雜矽層之方法及其系統 |
TW202203344A (zh) | 2020-02-28 | 2022-01-16 | 荷蘭商Asm Ip控股公司 | 專用於零件清潔的系統 |
KR20210116249A (ko) | 2020-03-11 | 2021-09-27 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 록아웃 태그아웃 어셈블리 및 시스템 그리고 이의 사용 방법 |
KR20210116240A (ko) | 2020-03-11 | 2021-09-27 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 조절성 접합부를 갖는 기판 핸들링 장치 |
CN113394086A (zh) | 2020-03-12 | 2021-09-14 | Asm Ip私人控股有限公司 | 用于制造具有目标拓扑轮廓的层结构的方法 |
KR20210124042A (ko) | 2020-04-02 | 2021-10-14 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 박막 형성 방법 |
TW202146689A (zh) | 2020-04-03 | 2021-12-16 | 荷蘭商Asm Ip控股公司 | 阻障層形成方法及半導體裝置的製造方法 |
TW202145344A (zh) | 2020-04-08 | 2021-12-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於選擇性蝕刻氧化矽膜之設備及方法 |
US11821078B2 (en) | 2020-04-15 | 2023-11-21 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming precoat film and method for forming silicon-containing film |
US11996289B2 (en) | 2020-04-16 | 2024-05-28 | Asm Ip Holding B.V. | Methods of forming structures including silicon germanium and silicon layers, devices formed using the methods, and systems for performing the methods |
KR20210132576A (ko) | 2020-04-24 | 2021-11-04 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 바나듐 나이트라이드 함유 층을 형성하는 방법 및 이를 포함하는 구조 |
KR20210132600A (ko) | 2020-04-24 | 2021-11-04 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 바나듐, 질소 및 추가 원소를 포함한 층을 증착하기 위한 방법 및 시스템 |
TW202146831A (zh) | 2020-04-24 | 2021-12-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 垂直批式熔爐總成、及用於冷卻垂直批式熔爐之方法 |
KR20210134226A (ko) | 2020-04-29 | 2021-11-09 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 고체 소스 전구체 용기 |
KR20210134869A (ko) | 2020-05-01 | 2021-11-11 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | Foup 핸들러를 이용한 foup의 빠른 교환 |
KR20210141379A (ko) | 2020-05-13 | 2021-11-23 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 반응기 시스템용 레이저 정렬 고정구 |
TW202147383A (zh) | 2020-05-19 | 2021-12-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 基材處理設備 |
KR20210145078A (ko) | 2020-05-21 | 2021-12-01 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 다수의 탄소 층을 포함한 구조체 및 이를 형성하고 사용하는 방법 |
TW202200837A (zh) | 2020-05-22 | 2022-01-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於在基材上形成薄膜之反應系統 |
TW202201602A (zh) | 2020-05-29 | 2022-01-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 基板處理方法 |
TW202218133A (zh) | 2020-06-24 | 2022-05-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 形成含矽層之方法 |
TW202217953A (zh) | 2020-06-30 | 2022-05-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 基板處理方法 |
TW202219628A (zh) | 2020-07-17 | 2022-05-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於光微影之結構與方法 |
TW202204662A (zh) | 2020-07-20 | 2022-02-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於沉積鉬層之方法及系統 |
KR20220027026A (ko) | 2020-08-26 | 2022-03-07 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 금속 실리콘 산화물 및 금속 실리콘 산질화물 층을 형성하기 위한 방법 및 시스템 |
USD990534S1 (en) | 2020-09-11 | 2023-06-27 | Asm Ip Holding B.V. | Weighted lift pin |
USD1012873S1 (en) | 2020-09-24 | 2024-01-30 | Asm Ip Holding B.V. | Electrode for semiconductor processing apparatus |
US12009224B2 (en) | 2020-09-29 | 2024-06-11 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus and method for etching metal nitrides |
TW202229613A (zh) | 2020-10-14 | 2022-08-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 於階梯式結構上沉積材料的方法 |
TW202217037A (zh) | 2020-10-22 | 2022-05-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 沉積釩金屬的方法、結構、裝置及沉積總成 |
TW202223136A (zh) | 2020-10-28 | 2022-06-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於在基板上形成層之方法、及半導體處理系統 |
TW202235675A (zh) | 2020-11-30 | 2022-09-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 注入器、及基板處理設備 |
US11946137B2 (en) | 2020-12-16 | 2024-04-02 | Asm Ip Holding B.V. | Runout and wobble measurement fixtures |
TW202231903A (zh) | 2020-12-22 | 2022-08-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 過渡金屬沉積方法、過渡金屬層、用於沉積過渡金屬於基板上的沉積總成 |
USD1023959S1 (en) | 2021-05-11 | 2024-04-23 | Asm Ip Holding B.V. | Electrode for substrate processing apparatus |
USD980814S1 (en) | 2021-05-11 | 2023-03-14 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distributor for substrate processing apparatus |
USD981973S1 (en) | 2021-05-11 | 2023-03-28 | Asm Ip Holding B.V. | Reactor wall for substrate processing apparatus |
USD980813S1 (en) | 2021-05-11 | 2023-03-14 | Asm Ip Holding B.V. | Gas flow control plate for substrate processing apparatus |
USD990441S1 (en) | 2021-09-07 | 2023-06-27 | Asm Ip Holding B.V. | Gas flow control plate |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1370294A (en) * | 1919-09-12 | 1921-03-01 | Dumons Jean Ambroise Ludovic | Box for articles of perfumery |
US3109539A (en) * | 1960-11-17 | 1963-11-05 | Walfredo Toscanni | Record album |
US3661253A (en) * | 1969-12-04 | 1972-05-09 | Monsanto Co | Retaining trays for semiconductor wafers and the like |
US3850296A (en) * | 1971-07-21 | 1974-11-26 | Shinetsu Handotai Kk | Device and method for accommodating semiconductor wafers |
FR2238211B1 (fr) * | 1973-07-19 | 1976-09-17 | Paudras Francis | |
DE2534074A1 (de) * | 1975-07-30 | 1977-02-17 | Wacker Chemitronic | Stapelbare paletten-verpackung fuer halbleiterscheiben |
US4120398A (en) * | 1977-09-29 | 1978-10-17 | Mobil Oil Corporation | Packaging support structure |
US4387807A (en) * | 1981-10-02 | 1983-06-14 | Rosa Jorge De | Ring cover protector for records |
US4470508A (en) * | 1983-08-19 | 1984-09-11 | Micro Lithography, Inc. | Dustfree packaging container and method |
AU3199284A (en) * | 1983-08-29 | 1985-03-07 | Idn Inventions And Development Of Novelties A.G. | Compact disk storage |
US4499996A (en) * | 1983-12-29 | 1985-02-19 | Rca Corporation | Protective cartridge for disc record |
US4511038A (en) * | 1984-01-30 | 1985-04-16 | Ekc Technology, Inc. | Container for masks and pellicles |
-
1987
- 1987-02-06 IT IT8720755U patent/IT209910Z2/it active
-
1988
- 1988-01-20 FR FR888800592A patent/FR2610603B3/fr not_active Expired
- 1988-01-28 JP JP1988010432U patent/JPS63200344U/ja active Pending
- 1988-02-02 DE DE8801235U patent/DE8801235U1/de not_active Expired
- 1988-02-02 US US07/151,454 patent/US4886162A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
IT209910Z2 (it) | 1988-11-04 |
DE8801235U1 (de) | 1988-09-01 |
IT8720755V0 (it) | 1987-02-06 |
JPS63200344U (fr) | 1988-12-23 |
US4886162A (en) | 1989-12-12 |
FR2610603B3 (fr) | 1989-02-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
FR2610603A3 (fr) | Etui pour stocker et expedier sous vide des tranches de silicium | |
FR2522979A1 (fr) | Dispositif de filtration de liquides | |
CH634973A5 (fr) | Boite a dejeuner pour enfants. | |
EP0127522B1 (fr) | Dispositif d'équilibrage de pression étanche aux eaux de pluie ou de ruissellement, notamment pour conteneur de transport | |
FR2656541A1 (fr) | Dispositif en cassette pour la filtration de gaz. | |
EP2893227B1 (fr) | Joint circulaire d'etancheite a brosse | |
CH637744A5 (fr) | Valve de securite pour emballage. | |
EP0926080B1 (fr) | Récipient muni d'un dispositif d'extraction automatique d'une paille | |
FR2722858A1 (fr) | Joint d'etancheite, notamment joint de culasse ou joint de collecteur | |
WO1996002135A1 (fr) | Dispositif pour repousser les volatiles | |
CA2764182A1 (fr) | Dispositif d'emballage formant recipient | |
EP0557804A1 (fr) | Emballage | |
EP0789542B1 (fr) | Boitier de conditionnement pour preservatif | |
FR2646481A1 (fr) | Dispositif de fixation pour article a rapporter sur un quelconque support, et article, en particulier boitier, equipe d'au moins un tel dispositif de fixation | |
FR2883849A1 (fr) | Dispositif de bouchage pour bouteille | |
BE1022506B1 (fr) | Ensemble comprenant un climbia et au moins un élément de support. | |
FR2565942A1 (fr) | Procede d'operculage d'une boite de conditionnement et boite de conditionnement obtenue par ce procede | |
FR2678357A1 (fr) | Aspirateur statique antirefouleur. | |
FR2821064A1 (fr) | Conditionnement, tel que bouteille, bocal ou autre recipient similaire, et joint pour ledit conditionnement | |
FR2942443A1 (fr) | Ensemble de transport pour une tente repliee, ou autre objet volumineux similaire | |
FR2928903A1 (fr) | Emballage pour aliments | |
FR2720796A1 (fr) | Cassette pour casier de coffre fort ou de banque. | |
FR2749567A1 (fr) | Barquette destinee a recevoir un materiau absorbant les exsudats de produits alimentaires contenus dans la barquette | |
FR2761668A1 (fr) | Dispositif de support et de presentation d'un produit deformable | |
WO2020216960A1 (fr) | Séparateur pour boite en vue de compartimenter la boite de façon étanche |