ES2275507T3 - Sustrato transparente con revestimiento antirreflejos de baja emisividad o antisolar. - Google Patents
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Abstract
Sustrato transparente que incluye sobre al menos una de sus caras un revestimiento antirreflejos hecho de un apilamiento de capas finas, de índices de refracción alternativamente altos y bajos, a base de material dieléctrico, caracterizado porque al menos una de las capas finas de alto índice de dicho revestimiento antirreflejos comprende óxido de titanio depositado por pulverización catódica que se modifica químicamente por incorporación de nitrógeno de tal modo que reduzca su índice de refracción hasta un valor de a lo sumo 2, 40, en particular, 2, 38 y preferentemente hasta valores comprendidos entre 2, 25 y 2, 38 de una longitud de onda de 580 nm.
Description
Sustrato transparente con revestimiento
antirreflejos de baja emisividad o antisolar.
La presente invención se refiere a los sustratos
transparentes a base de polímero(s) orgánico(s) o de
vidrio, que están provistos de un revestimiento antirreflejos, así
como su modo de fabricación. Se refiere igualmente a su
utilización, en particular, como acristalamientos. Un revestimiento
antirreflejos está constituido generalmente por un apilamiento de
capas finas interferenciales, en general una alternancia de capas de
alto y bajo índices de refracción. Depositado sobre un sustrato
transparente, tal revestimiento tiene como función disminuir su
reflexión luminosa, por lo tanto, de aumentar su transmisión
luminosa. Un sustrato así revestido ve, por lo tanto, aumentar su
ratio luz transmitida/luz reflejada, lo que mejora la visibilidad de
los objetos colocados detrás de él.
Se puede entonces emplear en numerosas
aplicaciones, por ejemplo para proteger un cuadro iluminado por una
luz colocada detrás del observador, o para constituir o formar parte
de un escaparate de tienda con el fin de distinguir mejor lo que se
encuentra en el escaparate, incluso cuando el alumbrado interior es
bajo con respecto al alumbrado exterior.
Los resultados ópticos de un revestimiento
antirreflejos se aprecian según distintos criterios. Se considera
que un revestimiento antirreflejos es eficaz si puede reducir la
reflexión luminosa de un sustrato de vidrio claro estándar hasta un
valor dado, por ejemplo 2%, o incluso 1% y menos.
La colorimetría del acristalamiento así obtenido
es igualmente importante: se busca a menudo que el revestimiento no
modifica sustancialmente el aspecto de color en reflexión del
sustrato desnudo, y, generalmente que este aspecto sea el más
neutro posible.
Otros criterios secundarios se pueden igualmente
tener en cuenta según la aplicación considerada, en particular, la
durabilidad química y/o mecánica del revestimiento o su eventual
aptitud de sufrir sin deterioro tratamientos térmicos. Otro punto
importante es la viabilidad de una producción industrial de tal
revestimiento, que depende de la técnica de deposición utilizada,
del coste y de la naturaleza de los materiales constitutivos del
apilamiento, del tiempo de ciclo necesario para la producción del
revestimiento, del tamaño y de la forma del sustrato....
La optimización, a nivel óptico al menos, de los
espesores e índices de refracción de las capas de revestimiento
antirreflejos fue objeto de numerosas publicaciones. En lo que se
refiere a los revestimientos antirreflejos de cuatro capas, que
ofrecen un buen compromiso entre el efecto antirreflejos deseado del
producto y su coste de fabricación, se puede por ejemplo citar la
patente de EE.UU. nº 3.432.225, que describe apilamientos del tipo
(ZrO_{2}/MgF_{2})_{2}, la patente de EE.UU. nº
3.565.509 que describe apilamientos del tipo
(CeO_{2}/MgF_{2})_{2} o
(CeO_{2}/SiO_{2})_{2} o igualmente la publicación
"All-oxide broadband antireflection coating..."
de M. Buehler et al del 15 de agosto de 1998 (vol.
27-nº 16- Applied Optics) que describe apilamientos
(TiO_{2}/SiO_{2})_{2}.
Este último tipo de apilamiento es interesante,
ya que utiliza como material constitutivo de las capas de alto
índice de óxido de titanio, que tiene efectivamente un índice del
orden de 2,45. Este material presenta la ventaja de poder ser
depositado, de manera conocida, por una técnica de pulverización
catódica reactiva asistida por campo magnético, en una atmósfera de
oxígeno, a partir de dianas de titanio disponibles comercialmente
de bajo coste. Su utilización no se libra sin embargo de
inconvenientes: si su incorporación en un revestimiento
antirreflejos permite alcanzar completamente niveles de reflexión
muy bajos, en cambio no es óptimo en lo que se refiere a la
"estabilidad" del aspecto en reflexión del sustrato revestido.
Se entiende con esto dos cosas: \blacktriangleright por una
parte, la estabilidad en función del ángulo de incidencia. En
efecto, es preferible que las modificaciones de intensidad de
reflexión y de tono en reflexión sean los menos importantes posibles
cuando se pasa de un ángulo de incidencia normal del
acristalamiento a un ángulo de incidencia más rasante (o más
generalmente de un ángulo de incidencia dado que corresponde al
ángulo de incidencia más probable con el cual el acristalamiento se
va a ver con respecto a un ángulo de incidencia que se aleja),
\blacktriangleright por otra parte, la estabilidad en función de
las variaciones de los espesores de las capas, de ángulo de
incidencia fijo. Es igualmente importante que el aspecto en
reflexión se mantiene casi sin cambiar, aunque se debe admitir,
según las herramientas de producción a disposición, una cierta
tolerancia sobre los espesores y/o los índices de las capas
efectivamente depositadas.
La invención tiene entonces por objeto la puesta
a punto de un nuevo tipo de revestimiento antirreflejos que atenúa
estos inconvenientes siendo mejores las prestaciones ópticamente, y,
en particular, confiriendo al sustrato revestido una mayor
"estabilidad" de su aspecto en reflexión en la aceptación del
término tal como se describe más arriba. Tiene, en particular, por
objeto la puesta a punto de un nuevo tipo de revestimiento
antirreflejos que concilia mejor los resultados ópticos y las
exigencias de viabilidad industrial y económica para este tipo de
producto.
La invención tiene en primer lugar por objeto un
sustrato transparente que implica sobre al menos una de sus caras
un revestimiento antirreflejos hecho de un apilamiento de capas
finas con índices de refracción alternativamente altos y bajos, y a
base de materiales dieléctricos. En este apilamiento, al menos una
de las capas finas de alto índice de dicho revestimiento comprende
óxido de titanio depositado por pulverización catódica que se
modifica de tal modo que reduzca su índice de refracción hasta un
valor de a lo sumo 2,40, en particular, hasta un valor de a lo sumo
2,38 y preferentemente hasta valores comprendidos entre 2,25 y 2,35
con una longitud de onda de 580 nm.
Modificando así el óxido de titanio resultó muy
ventajoso: al reducir su índice, se tuvo en cuenta que se mejoraba
significativamente la "estabilidad" del aspecto en reflexión
del sustrato revestido tal como se describió más arriba. Ahora bien
la estabilidad frente al ángulo de incidencia se requiere cada vez
más para cualquier clase de aplicación, muy especialmente, por
ejemplo, cuando se trata de pantallas de visualización o de
parabrisas de vehículos. En cuanto a la estabilidad frente a las
tolerancias de espesores, permite, con herramientas de producción
estándar, aumentar la productividad disminuyendo la tasa de rechazo
de los sustratos no conformes ópticamente al pliego de condiciones.
Guardar el óxido de titanio en vez de sustituirlo por un cualquier
otro material permite por otro lado conservar la ventaja de una
tecnología de deposición bien conocida para este tipo de
materiales. Para obtener esta modificación, la invención propone, de
manera no limitativa, cuatro variantes de realización que son
alternativas o
acumulativas.
acumulativas.
La primera variante consiste en modificar
químicamente el óxido de titanio por incorporación de nitrógeno. Se
obtiene así un oxinitruro de titanio con una tasa de nitruración que
puede variar entre 1 y 20% atómico, que se puede ajustar para
obtener el descenso de índice de refracción buscado. Esta
nitruración se puede controlar eligiendo un modo de deposición por
pulverización catódica, en particular, asistida por campo magnético,
a partir de dianas de titanio en una atmósfera reactiva que
contiene a la vez O_{2} y N_{2} en proporciones definidas de
manera apropiada. Se puede así obtener óxido de titanio nitrurado
que presenta un índice de refracción de aproximadamente 2,35 a 550
nm para un ratio N_{2}/(N_{2}+O_{2}+Ar) de aproximadamente 17%
en volumen en la cámara de deposición, (un ratio, medido en
porcentaje volumétrico, N_{2}/O_{2} en la cámara de deposición
que varía entre 0,2 y 1,8 permite ajustar el índice de refracción en
valores del orden de 2,31 a 2,41). Una ventaja subsidiaria de esta
variante es que el TiO_{x}N_{y} tiene una velocidad de
deposición por pulverización catódica reactiva sensiblemente
superior a la del TiO_{z}. El TiO_{x}N_{y} formado casi no es
absorbente, y presenta una absorción luminosa inferior al 2%, lo
contrario que con TiN.
La segunda variante consiste también en una
modificación química del óxido de titanio, por incorporación de al
menos un metal "dopante" Me cuyo óxido tiene un índice inferior
al del óxido de titanio, en particular, un índice de a lo sumo 2,3
y preferentemente comprendido entre 1,90 y 2,2. El término
"dopante" no tiene aquí el significado que puede tener en el
ámbito de los semiconductores. Se trata exactamente de destacar que
se trata de un metal minoritario, e incluso ampliamente
minoritario, con respecto al titanio, con el cual forma un óxido
mixto.
Este metal dopante Me se elige preferentemente
entre uno al menos de los siguientes metales: Ta, Zr, Sn, In, Zn o
Al.
Ventajosamente, el porcentaje atómico del metal
o de los metales dopantes Me con respecto al titanio en la capa
\SigmaMe/Ti es a lo sumo de 40%, en particular, de a lo sumo 35 o
30% por ángulo comprendido entre 0,1 y 20% y preferentemente entre
2 y 10%. En realidad, la tasa de Me en el óxido de titanio se modula
de tal modo que se obtenga el índice de refracción final buscado,
al igual que la tasa de nitruración de la variante anterior. Si se
elige también un modo de deposición por pulverización catódica, se
puede por ejemplo utilizar una deposición reactiva en presencia de
oxígeno a partir de la diana de titanio combinada con el o los
metales dopantes Me en proporciones apropiadas (siendo estas
proporciones cercanas a las que se encuentran en la capa). Otra
posibilidad consiste en utilizar una diana de titanio puro cubierta
parcialmente del metal "dopante" bajo forma metálica.
Se puede tener en cuenta que en esta variante,
la presencia del metal dopando en el óxido de titanio puede no sólo
afectar a su índice de refracción sino también le puede conferir una
funcionalidad suplementaria. Así, la presencia de cerio puede
conferir a la capa, y en consecuencia al revestimiento en su
conjunto, propiedades de filtración de los rayos ultravioletas. Al
igual que en el caso de una nitruración, dicho "dopaje" del
óxido de titanio permite igualmente aumentar la velocidad de
deposición de la capa cuando se elige un modo de deposición por
pulverización catódica. Cuanto más el metal "dopante" presenta
un rendimiento de pulverización elevado más notable es la ganancia
en velocidad de deposición. Por orden de aumento creciente de
velocidad de deposición, se puede citar Zr, luego Ta, luego Zn y
luego Sn.
La tercera variante consiste en modificar el
óxido de titanio físicamente, en su estructura, en particular, por
descenso de su densidad, aumento de su porosidad. Se pueden ajustar
los parámetros de deposición de la capa, en particular, por ejemplo
la presión a la cual se efectúa la deposición por pulverización
catódica reactiva del óxido de titanio, para obtener una capa cuya
densidad solo es, por ejemplo, de 80 a 95% de su densidad teórica,
la que corresponde al índice estándar del óxido de titanio, es decir
de aproximadamente 2,45. Esta solución es técnicamente ventajosa,
puesto que permite utilizar dianas de titanio estándar.
La cuarta variante consiste en integrar la capa
de óxido de titanio en una multicapa de alto índice, asociando a la
capa de óxido de titanio al menos otra capa de elevado índice pero
sin embargo de a lo sumo 2,3, de tal modo que se reduzca el índice
de refracción "global" o "medio" de dicha multicapa. En
este caso hipotético, se puede, por lo tanto, seguir utilizando
capas de TiO_{2} estándar con índice superior a 2,35, pero
transformando la capa de alto índice en una superposición de capas
de materiales diferentes. Se obtiene, por lo tanto, una multicapa
de alto índice, cuyo índice global es inferior al del TiO_{2}
estándar y que se puede calcular haciendo la relación de la suma de
los espesores ópticos de todas las capas que forman parte de la
multicapa con respecto a la suma de sus espesores físicos. Para
alcanzar el índice de refracción "global" deseado, se tiene
aquí la posibilidad a la vez de seleccionar el espesor físico de
cada una de las capas, y el índice de cada una ellas, aparte la que
es a base de TiO_{2}. Para que este multicapa de alto índice tenga
un papel óptico equivalente al cumplido por la monocapa usual, se
confiere a ésta preferentemente un espesor óptico global idéntico.
Esto significa que se conduce a utilizar en estas multicapas capas
de TiO_{2} más finas que los espesores deseados cuando se
utilizan en monocapa. Es un punto ventajoso a nivel industrial, ya
que el óxido de titanio tiende a tener velocidades de deposición
poco elevadas por pulverización catódica.
En particular, en el caso de la segunda y de la
cuarta variante, se observó por otro lado que los apilamientos eran
abombables/templables, pudiendo ser sometidos a tratamientos
térmicos de más de 500ºC sin daños sensibles ópticamente. Esto se
debería a una más baja cristalización del TiO_{2} así modificado
bajo el efecto del calor.
La o las otras capas de la multicapa tienen
preferentemente un índice de refracción comprendido entre 1,9 y
2,2. Se eligen, en particular, a base de óxido(s) metálico
del tipo de óxido de tantalio Ta_{2}O_{5}, de circonio
ZrO_{2}, de estaño SnO_{2}, de indio In_{2}O_{3}, de cinc
ZnO o a base de nitruro de silicio Si_{3}N_{4} o de aluminio
AlN.
Se vio que la elección del uno u otro de estos
materiales podía ser dictada por su naturaleza y/o por su velocidad
de deposición por pulverización catódica, superior a la de
TiO_{2}. Además, al igual que en el caso de la segunda variante,
esta o estas capas suplementarias pueden conferir una funcionalidad
suplementaria al apilamiento.
Siempre en el contexto de esta cuarta variante,
una configuración particular se ha revelado propicia a una
estabilidad del aspecto en reflexión: se trata de la configuración
donde la multicapa comprende dos capas contiguas de éstas que
comprende óxido de titanio, presentando estas dos capas una
diferencia de índices de refracción \Deltai negativa partiendo
del sustrato. Esto significa que si una de las capas es la enésima
contando a partir del sustrato y que la siguiente es la (enésima+1),
la diferencia de índices \Deltai igual al índice de la enésima
capa menos el índice de la capa (enésima+1) es negativa, por lo
tanto, más simplemente, que es la capa que tiene el índice más
elevado (en este caso la de TiO_{2}) que es la más distante del
sustrato.
Del mismo modo, una configuración preferida, que
se puede acumular a la configuración citada más arriba, consiste en
que, en valores absolutos, estas dos capas contiguas presentan una
diferencia de índices \Deltai comprendida entre 0,1 y 0,6, en
particular, entre 0,4 y 0,5 y preferentemente superiores a 0,4. Será
en efecto más fácil reducir el índice global de la multicapa que se
elige un material que se debe asociar al TiO_{2} cuyo índice se
desmarca sensiblemente del de TiO_{2}.
Según la invención, las capas de bajo índice del
revestimiento antirreflejos tienen un índice de refracción
comprendido entre 1,30 y 1,65. Ventajosamente, se puede tratar de
óxido de silicio SiO_{2}, de óxido de aluminio Al_{2}O_{3},
de oxifluoruro de aluminio AlO_{x}F_{y} o de fluoruro de
aluminio AlF, de fluoruro de magnesio MgF_{2} o de sus mezclas, y
eventualmente halogenados en lo que se refiere a los óxidos
(fluorados).
Se puede así prever que al menos una de las
capas de bajo índice de apilamiento antirreflejos sea a base de una
mezcla de óxido de silicio y de aluminio, (eventualmente fluorado),
en particular, la última capa del apilamiento: dicha capa de óxido
"mixta" presenta en efecto una durabilidad, en particular,
química, mejor que una capa de SiO_{2} pura. Se selecciona la
tasa óptima de aluminio en la capa para obtener esta mejor
durabilidad, no obstante, sin aumentar demasiado el índice de
refracción de la capa con respecto al de la sílice pura, para no
afectar a las propiedades ópticas del antirreflejos, teniendo el
óxido de aluminio en efecto un índice de aproximadamente 1,60 a
1,65, superior al de SiO_{2} que es de aproximadamente 1,45. El
porcentaje atómico preferido de Al con respecto a Si es de por
ejemplo 5 a 20%, en particular, de aproximadamente 8 a 12%, en
particular, de aproximadamente 10%. No se excluye que una de las
capas al menos, denominada de bajo índice, en el apilamiento sea en
realidad una "multicapa" de bajo índice, de manera similar a la
"multicapa" de alto índice de la cuarta variante expuesta más
arriba.
Según la invención, el revestimiento
antirreflejos puede ser en forma de un apilamiento de tipo (capa de
alto índice/capa de bajo índice)n, con n = 2 ó 3.
El caso en que n es igual a 2 corresponde así a
un revestimiento antirreflejos de cuatro capas. Ventajosamente, sus
espesores ópticos son (siendo las capas contadas a partir del
sustrato):
- \ding{226}
- para la primera capa, de alto índice: aproximadamente \lambda/15 con \lambda = 580 nm, por lo tanto de aproximadamente 18 a 22 nm, (con por ejemplo un índice de refracción de aproximadamente 2,00).
- \ding{226}
- para la segunda capa, de bajo índice: aproximadamente \lambda/11 con \lambda = 580 nm, por lo tanto de aproximadamente 32 a 38 nm, (con por ejemplo un índice de refracción de aproximadamente 1,48).
- \ding{226}
- para la tercera capa, de alto índice: aproximadamente \lambda/2 con \lambda = 580 nm, por lo tanto de aproximadamente 105 a 125 nm, (con por ejemplo un índice de refracción de 2,45). y
- \ding{226}
- para la cuarta capa, de bajo índice: aproximadamente \lambda/4 con \lambda = 580 nm, por lo tanto de aproximadamente 80 a 90 nm, (con por ejemplo un índice de refracción de 1,48).
(Está claro que de aquí en adelante
del texto, "capa" puede significar "multicapa" y que en
este último caso, su espesor óptico es la suma de los espesores
ópticos de capas que lo
componen).
Otra posibilidad consiste en sustituir en el
apilamiento descrito anteriormente una de las secuencias (capa de
alto índice/capa de bajo índice) por una única capa de índice
"intermedio", índice por ejemplo comprendido entre 1,65 y
1,85, preferentemente de aproximadamente 1,75 a 1,80.
Preferentemente, es la primera secuencia a contar del sustrato que
se puede así sustituir, el espesor óptico de la capa de índice
intermedio que puede ser de aproximadamente 80 a 120 nm.
Dicha capa de índice intermedio tiene un efecto
óptico muy similar al de una secuencia de alto índice/capa de bajo
índice, y presenta la ventaja de disminuir el número global de capas
del apilamiento. Es ventajosamente a base de una mezcla de óxido de
silicio y de estaño, de silicio y de cinc, de silicio y de titanio,
o también a base de oxinitruro de silicio o de aluminio. La
proporción relativa entre los distintos constituyentes de estos
materiales permite ajustar el índice de refracción de la capa.
Se puede utilizar una técnica de pulverización
catódica reactiva que utiliza respectivamente, una diana a base de
la aleación deseada en presencia de oxígeno y eventualmente de
nitrógeno en el caso de una capa de óxido mixto, una diana de
silicio o de aluminio en presencia de una mezcla O_{2}/N_{2} en
proporciones apropiadas en el caso de capas SiO_{x}N_{y} o
AlO_{x}N_{y}. Al adaptar las condiciones de deposición, se
puede en efecto hacer variar el índice de capas de SiO_{x}N_{y}
en una gama que va de 1,46 a 2,1 y el índice de las capas de
AlO_{x}N_{y} en una gama que va de 1,65 a 2,1.
Existen también óxidos simples compatibles con
la gama de índice buscada, y que se puede depositar por
pulverización catódica reactiva, tal como algunos óxidos de tierra
rara (La_{2}O_{3}) o emparentados (Y_{2}O_{3}), pero el
coste de las dianas es elevado.
En lo que se refiere a capas de alto índice,
aparte de las que son a base de TiO_{2} modificado según la
invención, que pueden formar parte del revestimiento, tienen
preferentemente un índice de al menos 1,9 a 2,0 y, en particular,
comprendido entre 1,9 y 2,2. Se puede tratar de los óxidos citados
del tipo ZnO, Ta_{2}O_{5}, SnO_{2}, Nb_{2}O_{5},
ZrO_{2}. Se puede también tratar de nitruro de silicio o de
aluminio. Estos últimos materiales a base de nitruro tienen un
activo suplementario: permiten formar barrera eficazmente a la
migración de especies del tipo alcalinos susceptibles de emigrar del
vidrio, cuando el sustrato es de tipo vidriero, y son también una
barrera eficaz frente a la oxidación: utilizados en una
configuración apropiada, estos materiales que forman parte
integrante del revestimiento pueden también conferirle una capacidad
para resistir sin deterioro a los tratamientos térmicos, en
particular, del tipo de recalentado, temple, abombado cuando el
sustrato portador es de vidrio. Si no, es posible depositar el
revestimiento sobre el sustrato vidriero una vez que éste haya
sufrido su tratamiento térmico, una vez recocido, templado
y/o
abombado.
abombado.
A tener en cuenta mientras que la invención se
aplica igualmente a los sustratos denominados plásticos a base de
polímero(s) orgánico(s) tales como los sustratos
rígidos a base de policarbonato tal como el polmetacrilato de
metilo PMMA. Se puede también tratar de sustratos plásticos
"flexibles", que se aplican a continuación, una vez
funcionalizados sobre una cara por el revestimiento antirreflejos, a
un sustrato rígido del tipo vidrio por ejemplo.
Por otra parte, se puede tener en cuenta que el
óxido de titanio modificado de distintas maneras de acuerdo con la
invención se puede también utilizar ventajosamente en revestimientos
multicapas distintos que los revestimientos antirreflejos. Se
pueden incorporar muy especialmente como capa de dieléctrico en
apilamientos de capas de tipo de emisión baja, o antisolar,
utilizando una o más capas funcionales de metal del tipo Ag o de
nitruro de metal del tipo TiN, ZrN, NbN asociados a capas de
material dieléctrico. Estos tipos de apilamiento por ejemplo se
describen en las patentes europeas nº 718 250, 638 528, 638 527, 650
938 y, en lo que se refiere a los apilamientos de emisión baja,
comercializados bajo la denominación "Planitherm" por
Saint-Gobain Vitrage. Las capas funcionales pueden
también ser de Ni, de NiCr, de acero inox o de inconel.
Preferentemente, cada una de las caras del
sustrato que se debe tratar incluye un revestimiento antirreflejos
según la invención, para obtener el efecto antirreflejos máximo. Se
vio que los materiales implicados en el revestimiento antirreflejos
son generalmente materiales dieléctricos. Es sin embargo posible que
sean al menos ligeramente conductores, por ejemplo dopando de
manera conocida un óxido metálico del apilamiento, lo que permite
conferir eventualmente al conjunto del revestimiento una
funcionalidad antiestática suplementaria (por ejemplo SnO_{2}
dopado con flúor o antimonio, ZnO dopado con Al.
La invención tiene también por objeto los
acristalamientos que incorporan los sustratos revestidos, que sean
monolíticos, estratificados, o de múltiples lámina(s) de gas
intercalada(s). Estos acristalamientos se pueden también
utilizar tanto como acristalamientos interiores o exteriores de
edificio como vidrio de protección de objeto de tipo cuadro,
escaparate, muebles acristalados tal como un mostrador o una vitrina
refrigerada, como acristalamientos de automóviles del tipo de
parabrisas estratificado, espejos, pantallas antideslumbramiento
para ordenadores, vidrio decorativo o cualquier tipo de pantallas de
visualización.
El acristalamiento que incorpora el sustrato de
revestimiento antirreflejos según la invención puede presentar
propiedades adicionales interesantes. Así, se puede tratar de un
acristalamiento con función de seguridad, como acristalamientos
estratificados comercializados por Saint-Gobain
Vitrage, bajo el nombre de Stadip, o de acristalamientos templados
tal como los cristales templados comercializados por
Saint-Gobain Vitrage bajo el nombre de Sekurit. Se
puede también tratar de acristalamientos antifractura, tales como
los comercializados por Saint-Gobain Vitrage bajo
el nombre de Contrasonor (cristales dobles) o Phonip
(acristalamientos estratificados), o también de protección frente
al fuego (parallamas o corta-fuego).
El acristalamiento se puede también elegir tal
que sobre el sustrato ya provisto del apilamiento antirreflejos o
sobre una de las caras de los otros sustratos constitutivos del
acristalamiento, se deposita una capa (o un apilamiento de capas)
con función específica, por ejemplo antisolar o absorbente
térmicamente, como capas de nitruro de titanio (tal como se
describe en las patentes antes citadas), o también capas tales como
las comercializadas bajo el nombre Cool-lite o
Antelio o Cool-lite K por
Saint-Gobain Vitrage, o también con función
antiultravioletas, antiestática (del tipo de capa de óxido metálico
dopado ligeramente conductora), de emisión baja, tal como las capas
a base de plata de Planitherm (descritas por ejemplo en las
patentes antes citadas), o de óxido de estaño dopado del tipo de
EKO comercializadas por Saint-Gobain Vitrage. En el
caso de una capa con función antiestática, es preferible que ésta
esté dispuesta sobre la cara del sustrato provisto del apilamiento
antirreflejos. La capa puede también estar prevista calentadora (del
tipo de capa de metal con suministros de corriente adecuados), lo
que puede ser interesante, en particular, para las vitrinas
refrigeradas, para evitar la deposición de vaho en su superficie.
Se puede también tratar de capa con propiedades antimanchas tal
como una muy fina capa de TiO_{2} (descrita por ejemplo en las
solicitudes de patentes internacionales nº
WO-97/10186 y WO-97/10185) o también
una capa orgánica hidrófoba con función impermeable o hidrófila con
función antivaho. Como ejemplo de capa hidrófoba, se podrá referir a
la capa a base silano organo-silano fluorado
descrita en las patentes de EE.UU. nº 5.368.892 y 5.389 427. Estas
capas se pueden depositar sobre el revestimiento antirreflejos o
directamente sobre el sustrato si su otra cara no es tratada por un
revestimiento antirreflejos.
Se puede también tratar de una capa de plateado
con función espejo. Todas las configuraciones son posibles. Así, en
el caso de un acristalamiento monolítico con función espejo, se
tiene interés en depositar el revestimiento antirreflejos en la
cara 1 (es decir, del lado donde se encuentra el espectador) y la
capa de plateado en la cara 2 (es decir, del lado donde el espejo
se cuelga en una pared), evitando así, el apilamiento antirreflejos
de la invención, el desdoblamiento de la imagen reflejada.
En el caso de un doble acristalamiento, (donde
se numeran convencionalmente las caras de los sustratos vidrieros
comenzando por la cara más exterior), se puede así disponer el
apilamiento antirreflejos usualmente en la cara 1, y las otras
capas funcionales en la cara 2 para unos antiultravioletas o un
antisolar, 3 para una capa de emisión baja. En un
doble-acristalamiento, se puede así tener al menos
un apilamiento antirreflejos sobre una de las caras de los
sustratos y al menos otra capa u otro apilamiento de capas que
aportan una funcionalidad suplementaria. El doble acristalamiento
puede también incluir varios revestimientos antirreflejos, en
particular, al menos en la cara 2 ó 3.
Para un acristalamiento monolítico, se puede
prever depositar una capa con función antiestática, asociada a un
segundo apilamiento antirreflejos.
Del mismo modo, el vidrio elegido para el
sustrato revestido del apilamiento según la invención o para los
otros sustratos que se le asocian para formar un acristalamiento,
puede ser particular, por ejemplo extraclaro, del tipo del
comercializado por Saint-Gobain Vitrage bajo la
denominación de Diamante, o claro del tipo Planilux o teñido del
tipo Parsol, dos productos comercializados por
Saint-Gobain Vitrage. Este mismo puede ser filtrado
frente a la radiación del tipo ultravioleta. El o los sustratos
pueden haber sufrido tratamientos térmicos, un temple, un bombeado
o incluso un plegado, es decir, un bombeado con un muy pequeño rayo
de curvatura (aplicación para los
vitrinas-mostrador de las tiendas en particular). Se
pudo comprobar que el revestimiento antirreflejos depositado sobre
un vidrio extraclaro confería al acristalamiento una visibilidad de
transmisión extraordinaria.
El sustrato puede también haber sufrido un
tratamiento superficial, en particular, un esmerilado, pudiendo el
apilamiento antirreflejos ser depositado sobre la cara esmerilada o
sobre la cara opuesta.
El sustrato, donde uno de los cuales con el que
se asocia, puede ser también del tipo vidrio decorativo, impreso, o
serigrafiado.
Un acristalamiento especialmente interesante que
incorpora el sustrato con revestimiento antirreflejos según la
invención es el siguiente: se trata de un acristalamiento que
incluye una estructura estratificada con dos sustratos vidrieros
asociados con una hoja de polímero de montaje del tipo
polivinilbutiral. Está provisto al menos uno de los sustratos y
preferentemente los dos, del revestimiento antirreflejos según la
invención, preferentemente en la cara exterior, en particular,
según la secuencia: revestimiento
antirreflejos/vidrio/PVB/vidrio/revestimiento antirreflejos.
Esta configuración, en particular, con los dos
sustratos bombeados y/o templados, permite la obtención de un
acristalamiento de automóvil, y, en particular, de un parabrisas,
muy ventajoso: en efecto, las normas imponen en los automóviles de
parabrisas con alta transmisión luminosa, de al menos 75% en
incidencia normal. Gracias a la incorporación de revestimientos
antirreflejos en una estructura estratificada de parabrisas usual,
la transmisión luminosa del acristalamiento se encuentra aumentada,
lo que permite reducir ligeramente su transmisión energética al
mismo tiempo siguiendo las normas en términos de transmisión
luminosa. Se puede así aumentar el efecto antisolar del parabrisas,
por ejemplo por absorción de los sustratos de vidrio. Concretamente,
se puede así hacer pasar el valor de reflexión luminoso de un
parabrisas estratificado estándar de 8 a menos de 1%, bajando al
mismo tiempo su transmisión energética de 1 a 10% por ejemplo al
hacerla pasar de 85 a 81%. Se pueden así utilizar vidrios más
teñidos, por lo tanto más antisolares, compensando al mismo tiempo
la caída en transmisión luminosa inducida gracias al revestimiento
antirreflejos.
La invención tiene igualmente por objeto el
procedimiento de fabricación de los sustratos vidrieros con
revestimiento antirreflejos. Un procedimiento que consiste en
depositar el conjunto de las capas, por una técnica al vacío, en
particular, por pulverización catódica asistida por campo magnético.
Así, se pueden depositar las capas de óxido por pulverización
reactiva del metal en cuestión en presencia de oxígeno, las capas de
nitruro en presencia de nitrógeno, las capas de oxinitruro en
presencia de nitrógeno y de oxígeno.
Otra elección puede consistir en depositar la
totalidad o parte de las capas del apilamiento, en particular, la o
las primeras capas, por una técnica de pirolisis de precursores
adaptados.
Cualquiera que sea el modo de realización
elegido, la invención permite la fabricación de sustratos que, una
vez funcionalizados con los apilamientos antirreflejos descritos más
arriba, presentan una reflexión luminosa R_{L} de a lo sumo 2 e
incluso de a lo sumo 1% con incidencia normal (por supuesto,
modificando de manera apropiada los espesores ópticos de capas del
apilamiento, se puede también elegir de minimizar la reflexión
luminosa hasta un ángulo de incidencia no normal, lo que es por
ejemplo interesante en el caso de una aplicación a un parabrisas
que se encuentra inclinado con respecto a la vertical de
aproximadamente 65º.
Del mismo modo, su colorimetría en reflexión es
especialmente estable comparada con revestimientos antirreflejos
conocidos, en particular, los que utilizan TiO_{2} estándar como
material de alto índice. Así, aunque la minimización de la
reflexión luminosa se optimiza con la incidencia normal, el valor de
reflexión y el tono en reflexión se modifican poco incluso cuando
el sustrato se observa con ángulos de incidencia diferentes
sensiblemente a la normal.
Muy especialmente, las señales de a* y b* en el
sistema de colorimetría (L*, a*, b*) permanecen sin cambiar
incluso con incidencia desfavorable, en particular, rasante. El
mantenimiento de las señales de "a* y b*" se traduce en que no
hay "oscilación" de un tono a otro, en particular, de un tono
favorable en los azules o azul-verdoso (a* y b* los
dos negativos) hacia un tono menos favorable (donde a* y/o b* se
vuelven positivos, correspondiente a tonos amarillos, violetas o
rojos). Se limita igualmente cualquier aumento de la saturación C*,
característico teniendo en cuenta la intensidad del color (c* =
(a*^{2} + b*^{2})^{1/2}).
Los revestimientos antirreflejos de la invención
autorizan por otro lado tolerancias sobre los espesores de las
capas que los constituyen, del orden por ejemplo de \pm 2%, sin
notable modificación de su aspecto en reflexión, con todavía una
conservación de las señales de a* y b* (con, para dar órdenes de
magnitud, diferencias en valores de a* y b* tenidas en cuenta
\Deltaa_{k} y \Deltab* de a lo sumo 2 en valores
absolutos).
Los detalles y características ventajosas de la
invención van ahora a resultar de los ejemplos siguientes no
limitativos, con la ayuda de las figuras 1 a 4.
Las figuras 1 a 4 muy esquemáticas representan
en corte un sustrato que está por encima de un apilamiento
antirreflejos según la invención (las proporciones entre el espesor
del sustrato y las de las capas no se respetaron para facilitar la
lectura). De hecho, cada una de las caras del sustrato está provista
de un apilamiento idéntico, pero un solo apilamiento ha sido
representado para más claridad. La utilización de un revestimiento
sobre cada una de las caras del sustrato se efectuó sobre el
conjunto de los ejemplos que siguen, refiriéndose más bien a
acristalamientos destinados a equipar edificios.
Se precisa que en estos ejemplos, las
deposiciones sucesivas de capas finas se hacen por pulverización
catódica reactiva asistida por campo magnético, pero se puede
realizar por cualquier otra técnica al vacío o del tipo de
pirolisis que permite un buen control de los espesores de capas
obtenidas.
Los sustratos sobre los cuales se depositan los
revestimientos antirreflejos son sustratos de vidrio
silico-sodo-cálcico claro del tipo
Planilux de 4 mm de espesor.
Este ejemplo se ajusta a la figura 1: incluye un
vidrio 1 que está por encima del apilamiento antirreflejos según la
invención 6 que está compuesto por dos capas finas de alto índice
2,4 y por dos capas finas de bajo índice 3,5.
- \ding{226}
- la capa 3 de bajo índice es de SiO_{2}
- \ding{226}
- la capa 5 de bajo índice es una mezcla de óxidos de silicio y de aluminio SiAl_{x}O_{y} (de aproximadamente 10% atómico de Al con respecto a Si).
- \ding{226}
- la capa 2 de alto índice es de SnO_{2}
- \ding{226}
- la capa 4 de alto índice es un óxido de titanio modificado por nitruración parcial según la invención, material que responde a la fórmula TiO_{x}N_{y}, estando la tasa de nitruración ajustada para alcanzar un índice de refracción de aproximadamente 2,35 a 580 nm o sea un ratio en % volumétrico N_{2}/(N_{2}+O_{2}+Ar) de nitrógeno de aproximadamente 15 a 20% en la cámara de deposición.
La tabla 1 siguiente recoge el índice, el
espesor físico y óptico de las capas del apilamiento:
Este ejemplo retoma el apilamiento del ejemplo 1
sustituyendo a las capas 2 y 3 tal como se representa en la figura
2, por una única capa de índice intermedio 7 de oxinitruro de
silicio SiO_{x}N_{y}, en el que se modula la tasa de nitrógeno
para ajustar el índice a un valor de aproximadamente 1,78.
La tabla 2 retoma para este ejemplo de
revestimiento a tres capas los datos mencionados en la tabla
anterior.
Este ejemplo retoma la configuración de
apilamiento a tres capas del ejemplo 2, utilizando otro tipo de capa
de óxido de titanio modificado: en lugar de la capa 4 de
TiO_{x}N_{y}, se utiliza aquí una capa 4 de óxido de titanio
que contiene tantalio en una proporción en % atómica Ta/Ti en la
capa de aproximadamente 10 a 15%, en particular, de 13% (se utiliza
una diana de aleación Ti-Ta en proporciones
apropiadas), de modo que el índice de la capa sea de
aproximadamente 2,33 a 2,40, en particular, de 2,35 (los espesores
ópticos son los mismos que en el ejemplo 2).
Se tiene, por lo tanto, el siguiente
apilamiento:
Vidrio/SiO_{x}N_{y}/Ti-Ta_{x}O_{y}/SiAl_{x}O_{y}
(1) (7) (4)
(5)
Se comprobó que el óxido de titanio modificado
con el tantalio permite alcanzar velocidades de deposición 40%
superiores a las del TiO_{2}.
Este ejemplo es idéntico al ejemplo 3, pero aquí
el óxido de titanio no se modifica por tantalio sino por circonio:
se tiene aquí una capa 4 de fórmula TiZr_{x}O_{y}, destinada a
alcanzar un índice de refracción de aproximadamente 2,24 a 2,39, en
particular, de 2,30, para un % atómico de Zr en la capa de
aproximadamente 25 a 30%, en particular, de 27%. Se comprobó que el
óxido de titanio así modificado con el circonio presenta una
velocidad de deposición 20% superior a la del TiO_{2}.
Este ejemplo se ilustra en la figura 3: se trata
aquí de un apilamiento de cinco capas en que las capas 2, 3 y 5 son
del mismo tipo que las del ejemplo 1. La diferencia con este ejemplo
reside en el hecho de que la capa 4 de alto índice se sustituye
aquí por una bicapa que comprende la secuencia SnO_{2}/TiO_{2}:
se trata aquí de la variante según la invención donde se modifica
el índice de la capa de óxido de titanio (4b) asociándolo a una
capa (4a) de un material que se recoge siempre en la definición de
una capa de alto índice (al menos 1,9) pero de un índice sin
embargo inferior al del TiO_{2} estándar. Se confiere a la bicapa
(4a + 4b) un espesor óptico próximo al de la capa 4 del ejemplo
1.
La tabla 3 siguiente recoge los datos que se
refieren a este apilamiento.
Este ejemplo retoma los datos del ejemplo 5 pero
sustituyendo la bicapa 4a-4b por una tricapa
4c-4d-4e según la figura 4.
Esta tricapa está compuesta de la secuencia:
TiO_{2 } | / | SnO_{2} | / | TiO_{2} |
(4c) | (4d) | (4e) |
Aquí, se tienen, por lo tanto, dos capas de
TiO_{2} "estándar" encuadrando una capa de SnO_{2} de
índice menor. Así también, se confiere aproximadamente a la tricapa
4c-4d-4e un espesor óptico global
cercano al de la bicapa del ejemplo 5 o al de la sola monocapa del
ejemplo 1, (en realidad aproximadamente un valor del orden de
\lambda/2 con \lambda = 580 nm).
La tabla 4 siguiente recoge los datos que se
refieren a este apilamiento.
Hay que tener en cuenta que en todos los
ejemplos anteriores, se pueden sustituir a las capas 5 de
SiAl_{x}O_{y} por las capas simplemente de SiO_{2},
permitiendo la presencia de aluminio esencialmente aumentar la
durabilidad de la capa y, en consecuencia, del apilamiento en su
conjunto.
Del mismo modo, la sustitución de la primera
secuencia de capas por una capa intermedia tal como esto se realizó
en el ejemplo 3 se puede también realizar en los otros ejemplos.
Los espesores ópticos se eligieron para
minimizar la reflexión de incidencia normal.
A título comparativo, se realizó también un
ejemplo comparativo 5 bis sustituyendo la bicapa
SnO_{2}/TiO_{2} por una monocapa de TiO_{2} estándar (índice
2,45) de espesor óptico equivalente al de la bicapa (espesor
óptico: 262 nm; espesor físico: 107 nm).
Este ejemplo es, por lo tanto, de tipo:
Vidrio/SnO_{2}/SiO_{2}/TiO_{2} \
estándar/SiAl_{x}O_{y}
Entonces, se midieron los valores de R_{L} (en
%) y de a* y b* en el sistema de colorimetría (L*, a*, b*) de los
sustratos revestidos según el ejemplo 5 y el ejemplo 5 bis a
distintos ángulos de incidencia \alpha (\alpha = 0 corresponde
a una incidencia normal).
Los resultados se recogen en la tabla 5
siguiente:
Lo que se puede deducir de esta tabla es que el
ejemplo 5 es más favorable a nivel colorimétrico que el ejemplo 5
bis de dos niveles:
- \ding{226}
- por una parte, incluso a ángulo de incidencia muy desfavorable (\alpha = 60 o 70º), el ejemplo según la invención guarda los valores a* y b* sin cambios y los dos negativos: se conserva un aspecto azulado. Al contrario, se ve que para el ejemplo comparativo, a* se vuelve positivo, lo que significa que oscila hacia otro tono,
- \ding{226}
- por otra parte, hay una tendencia general, en cuanto se separa de la incidencia normal, en lo que el ejemplo según la invención, presenta, en valores absolutos, valores de a* y de b* que disminuye (la saturación c* disminuye): se tiende, por lo tanto, a aproximarse a la neutralidad en reflexión cuando \alpha aumenta, lo que es favorable ya que, en paralelo, y eso parece inevitable, el valor de R_{L} tiende, él mismo, a aumentar: aumentando el nivel de reflexión global que se encuentra así menos penalizante, "compensado" hasta cierto punto con la ganancia en neutralidad de color.
Este ejemplo retoma los datos del ejemplo 5,
pero invirtiendo el orden de las capas 4a y 4b.
Se tiene así el apilamiento:
Vidrio^{(1)}/SnO_{2}{}^{(2)}/SiO_{2}{}^{(3)}/TiO_{2}{}^{(4b)}/SnO_{2}{}^{(4a)}/SiAlO_{x}{}^{(5)}
Guardando para cada una de las capas
consideradas los espesores de las capas de la misma naturaleza del
ejemplo 5.
Este ejemplo retoma los datos del ejemplo 7,
sustituyendo a las dos capas 2 y 4a de SnO_{2} en capas de
Si_{3}N_{4} (con el mismo espesor, siendo los índices de
refracción de estos dos materiales sensiblemente idénticos,
alrededor de 2).
Se tiene así el apilamiento:
Vidrio^{(1)}/Si_{3}N_{4}{}^{(2)}/SiO_{2}{}^{(3)}/TiO_{2}{}^{(4b)}/Si_{3}N_{4}{}^{(4a)}/SiAlO_{x}^{}{(5)}
Este ejemplo retoma los datos del ejemplo 7,
sustituyendo a la capa 4a de SnO_{2} por una capa de nitruro de
silicio.
Se tiene así el apilamiento:
Vidrio^{(1)}/SnO_{2}{}^{(2)}/SiO_{2}{}^{(3)}/TiO_{2}{}^{(4b)}/Si_{3}N_{4}{}^{(4a)}/SiAlO_{x}{}^{(5)}
El ejemplo 7 da buenos resultados a nivel
óptico: permite confirmar que, en la variante de la invención donde
se asocia al TiO_{2} una capa de un material de índice inferior,
se puede elegir de disponer el TiO_{2} por encima o por debajo de
dicha capa.
Los ejemplos 8 y 9 utilizan del Si_{3}N_{4}:
este material permite conferir una mejor durabilidad, en
particular, mecánica, al conjunto del apilamiento. Para obtener esta
mejora de la manera más óptima, es la capa que se encuentra justo
debajo de la última capa de bajo índice que debe ser de
Si_{3}N_{4}, como es el caso del ejemplo 9. Una segunda capa de
Si_{3}N_{4}, como en el ejemplo 8, refuerza también esta mejora
de la durabilidad.
Los ejemplos 5, 7, 8 y 9, en particular, son
sustratos revestidos abombables/templables: los vidrios pueden,
después de la deposición de las capas, sufrir un tratamiento térmico
del orden de 500 a 550ºC sin alteración óptica significativa. Una
explicación de esta propiedad notable sería que asociar a la capa de
TiO_{2} otra capa permite utilizar el TiO_{2} en espesores
menos importantes. Capas de TiO_{2} más finas tendrían menos la
capacidad para cristalizarse, de modificarse ópticamente bajo el
efecto del calor que capas de TiO_{2} que superan un cierto
espesor, 100 nm por ejemplo.
Esta ausencia de cristalización o de esta baja
cristalización bajo el efecto del calor se observa también cuando
se modifica químicamente el TiO_{2}, en la variante de la
invención donde se incorpora en el TiO_{2} un "dopante"
metálico.
En conclusión, los revestimientos antirreflejos
según la invención son eficaces a nivel óptico. Están, en al menos
una parte de las variantes de la invención, por otro lado
extremadamente duraderos a nivel mecánico y abombables/templables.
Se pueden destinar a equipar los edificios, a proteger cuadros.
Pueden también equipar pantallas de todas las clases, en
particular, las pantallas de ordenador. En este último caso, se
tiene generalmente un vidrio de pantalla con "del lado del
usuario" un revestimiento antirreflejos, y del otro lado otro
revestimiento antirreflejos que es también antiestático (por
ejemplo sustituyendo a toda una parte de una capa de alto índice
del apilamiento por una capa conductora del tipo de óxido de indio
dopado con estaño ITO). El apilamiento puede así comenzar por 10 nm
de ITO: puede, por lo tanto, tener simetría de estructuras entre los
dos revestimientos antirreflejos que equipan un sustrato, pudiendo
los dos seguir la enseñanza de la invención o solamente uno de los
dos. El revestimiento antirreflejos de la invención puede también
tener otras propiedades, en particular, la de filtrar los rayos
ultravioletas, por ejemplo incorporando óxido de cerio en al menos
una de sus capas.
Claims (14)
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1. Sustrato transparente que incluye sobre al menos una de sus caras un revestimiento antirreflejos hecho de un apilamiento de capas finas, de índices de refracción alternativamente altos y bajos, a base de material dieléctrico, caracterizado porque al menos una de las capas finas de alto índice de dicho revestimiento antirreflejos comprende óxido de titanio depositado por pulverización catódica que se modifica químicamente por incorporación de nitrógeno de tal modo que reduzca su índice de refracción hasta un valor de a lo sumo 2,40, en particular, 2,38 y preferentemente hasta valores comprendidos entre 2,25 y 2,38 de una longitud de onda de 580 nm. - 2. Sustrato según la reivindicación 1, caracterizado porque la capa fina que comprende óxido de titanio forma parte de una multicapa de alto índice que asocia a ésta al menos otra capa de elevado de índice pero de a lo sumo 2,3, de tal modo que reduzca el índice de refracción "global" de dicha multicapa.
- 3. Sustrato según la reivindicación 2, caracterizado porque el otro o las otras capas de alto índice de la multicapa tienen un índice comprendido entre 1,9 y 2,2, y, en particular, elegidas a base de óxido(s) metálico(s) elegidos entre el óxido de tantalio, de circonio, de estaño, de indio, de cinc o a base de nitruro de silicio Si_{3}N_{4} o de nitruro de aluminio AlN.
- 4. Sustrato según la reivindicación 2 o la reivindicación 3, caracterizado porque la multicapa comprende dos capas contiguas donde aquella comprende óxido de titanio, presentando estas dos capas una diferencia de índices de refracción \Deltai negativa partiendo del sustrato.
- 5. Sustrato según una cualquiera de las reivindicaciones 2 a 4, caracterizado porque la multicapa comprende dos capas contiguas donde aquella comprendiendo óxido de titanio, comprendiendo estas dos capas una diferencia de índice de refracción, en valores absolutos, comprendida entre 0,1 y 0,6, en particular, entre 0,4 y 0,5 y preferentemente superior a 0,4.
- 6. Sustrato según una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, caracterizado porque las capas de bajo índice están comprendidas entre 1,30 y 1,65 y, en particular, elegidas a base de óxido de silicio SiO_{2}, de óxido de aluminio Al_{2}O_{3}, de oxifluoruro de aluminio AlO_{x}F_{y}, de fluoruro de aluminio AlF, de fluoruro de magnesio MgF_{2} o de sus mezclas, eventualmente halogenados, en particular, a base de una mezcla SiO_{2}-Al_{2}O_{3} para la última capa del revestimiento antirreflejos.
- 7. Sustrato según una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, caracterizado porque el revestimiento antirreflejos está en forma de un apilamiento (capa de alto índice/capa de bajo índice)_{n}, con n = 2 ó 3.
- 8. Sustrato según una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, caracterizado porque al menos una secuencia (capa de alto índice/capa de bajo índice) del revestimiento antirreflejos, en particular, la primera a partir del sustrato, es sustituida por una capa de índice de refracción intermedio, en particular, de índice comprendido entre 1,65 y 1,85.
- 9. Sustrato según la reivindicación 8, caracterizado porque la capa de índice de refracción intermedio es a base de oxinitruro y/o de oxicarburo de silicio o de una mezcla de óxido de silicio y de óxido de estaño, de cinc, de titanio y de tantalio.
- 10. Acristalamiento monolítico, estratificado o múltiple de lámina(s) de gas intercalada(s), caracterizado porque incorpora el sustrato de revestimiento antirreflejos según una cualquiera de las reivindicaciones anteriores.
- 11. Acristalamiento según la reivindicación 10, caracterizado porque sobre el sustrato (1) provisto del revestimiento antirreflejos (6) o sobre al menos uno de los otros sustratos constitutivos de dicho acristalamiento, se deposita una capa (o un apilamiento de capas) con función antisolar, absorbente, anti-ultravioleta, antiestático, de emisión baja, que calienta o antimanchas y/o una capa orgánica hidrófoba con función impermeable o hidrófila con función antivaho, o también una capa de plateado con función de espejo.
- 12. Acristalamiento según una cualquiera de las reivindicaciones 10 ó 11, caracteriza porque el sustrato (1) provisto del revestimiento antirreflejos (6) o al menos uno de los otros sustratos constitutivos de dicho acristalamiento es de vidrio extraclaro, o de vidrio teñido en la masa, eventualmente templado o armado, o abombado o plegado, y eventualmente filtrando los ultravioletas.
- 13. Acristalamiento según una cualquiera de las reivindicaciones 10 a 12, caracterizado porque el sustrato provisto del revestimiento antirreflejos o al menos uno de los otros eventuales sustratos constitutivos de dicho acristalamiento es de material polímero transparente, en particular, en poliacrilato tal como el PMMA.
- 14. Aplicación de los sustratos (1) de revestimiento antirreflejos (6) según una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 10 o de los acristalamientos según una cualquiera de las reivindicaciones 11 a 13 para la fabricación de acristalamientos interiores o exteriores de edificio, o de vidrios de protección de objetos del tipo cuadros, de acristalamientos de automóviles del tipo parabrisas estratificado, de espejos, cualquier tipo de pantalla de visualización tales como pantallas antideslumbramiento para ordenadores, de vidrio decorativo, de escaparate, de mobiliario vidriero del tipo mostrador de tienda o vitrina refrigerada.
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