ES2241941T3 - Laminado de resina fotosensible. - Google Patents
Laminado de resina fotosensible.Info
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Abstract
Un laminado de resina fotosensible que comprende un soporte, una capa de resina fotosensible, una capa para ablación por rayos IR y una película de recubrimiento, en la que la capa para ablación por rayos IR comprende una capa que consiste esencialmente en un metal que absorbe rayos IR, la capa de metal que absorbe los rayos IR está en contacto con la capa de resina fotosensible y la capa de metal que absorbe los rayos IR tiene un grosor de 430 Å ¿ 20.000 Å.
Description
Laminado de resina fotosensible.
La presente invención se refiere a un laminado de
resina fotosensible. Más particularmente, esta invención se refiere
a un laminado de resina fotosensible usado para producir una plancha
para imprimir o una plancha con relieve mediante una técnica de
elaboración de planchas por ordenador.
En el campo de la impresión en relieve tal como
la tipografía y la flexografía, actualmente se está generalizando
extremadamente la técnica de elaboración de planchas por ordenador
(técnica de ordenador a plancha (CTP)), también conocida como
técnica digital de formación de imágenes. En la técnica de CTP, una
máscara fotográfica (también denominada una fotomáscara o película
negativa) que se usa convencionalmente para cubrir un área que no se
desea que se polimerice en una plancha de impresión fotosensible ha
sido sustituida por una máscara formada e integrada en la plancha de
impresión. Existen dos técnicas en el mercado como procedimiento
para obtener tal máscara integrada. Uno es un procedimiento de
imprimir una máscara sobre una plancha fotosensible mediante una
impresora de chorro de tinta, y el otro es un procedimiento para
formar una máscara formando, en una capa fotosensible, una capa que
es sustancialmente no transparente a los rayos ultravioleta (UV) (es
decir, que sustancialmente bloquea los rayos ultravioleta) y que
puede someterse a ablación mediante irradiación con láser IR (esta
capa generalmente se denomina "capa para ablación por rayos IR"
en la presente memoria descriptiva) y que forma una imagen en esta
capa con un láser IR. Usando estas técnicas, se forma una imagen
(máscara) directamente sobre una plancha, y se irradian rayos
ultravioleta a través de esta imagen (máscara) en la siguiente etapa
para lograr elaborar la plancha.
El documento
EP-A-1146392 describe un
procedimiento para la preparación in situ de una imagen con
relieve que comprende las siguientes etapas: (a) laminar un material
que comprende, en el orden dado, un primer soporte que puede pelarse
(1), una capa de grabación de imágenes (2) y una capa adhesiva (3)
sobre un material sensible a los rayos UV que comprende un soporte
(7), una capa sensible a los rayos UV (6) en la que la capa adhesiva
(3) se lamina sobre la capa sensible a los rayos UV (6); (b) exponer
la capa de grabación de imágenes en el sentido de la imagen (2) para
formar una máscara; (c) exponer por inundación el material sensible
a los rayos UV a través de la máscara; (d) revelar el material
sensible a los rayos UV; en el que el soporte que puede pelarse (1)
se retira antes de la etapa (b), (c) o (d). Las etapas (a) a (d) se
realizan en un periodo inferior a 2 meses. Como resultado, se reduce
la extensión de la difusión monomérica desde la capa sensible a los
rayos UV hacia la capa de grabación de imágenes. De forma adicional
se optimiza la adhesión entre la capa de grabación de imágenes y el
material sensible a los rayos UV. Además, en este procedimiento
pueden aplicarse casi todos los materiales convencionales de
formación de imágenes que se usan normalmente para la exposición por
contacto.
El documento
US-B1-6.245.486 describe un
procedimiento para la formación de imágenes sobre una plancha de
impresión que comprende una capa fotosensible sobre un sustrato y
una capa superior de máscara que puede someterse a ablación con
láser. El procedimiento incluye exponer la plancha en el sentido de
la imagen con un láser infrarrojo para eliminar la capa de máscara
en las áreas expuestas, exponer la plancha globalmente con una luz
actínica para endurecer o solubilizar la capa fotosensible en las
áreas en las que se ha eliminado la capa de máscara y exponer la
plancha adicionalmente a la radiación con láser infrarrojo en las
áreas no expuestas al láser para eliminar la capa de máscara
restante. La plancha expuesta completamente puede revelarse para
descubrir el sustrato en las áreas no endurecidas o solubilizadas de
la capa fotosensible.
El documento US 4.132.168 describe una plancha de
impresión planográfica presensibilizada en la que se forman imágenes
por exposición a fuentes de luz ultravioleta a través de una máscara
que se forma en la superficie de la plancha mediante un haz de
láser.
La técnica de CTP es práctica porque no requiere
una película de negativo y puede proporcionar una resolución mucho
mayor que mediante una técnica convencional usando una película
negativa. Hay una descripción detallada de la superioridad de la
técnica de CTP sobre la técnica convencional.
En una plancha fotosensible que tiene la capa
para ablación por rayos IR mencionada anteriormente, la capa para
ablación por rayos IR generalmente está formada por una composición
que contiene un ligante polimérico que contiene negro de carbón en
una gran cantidad (por ejemplo, la patente japonesa nº 2916408
(página 1, reivindicaciones). En general, se forma una película de
recubrimiento sobre una capa para ablación por rayos IR para
proteger la capa para ablación por rayos IR durante la conservación
de la plancha y su manejo y esta capa de recubrimiento se retira
antes de irradiar con el láser IR o después de irradiar con el láser
IR (generalmente después de la exposición principal y antes de
revelar). Como resultado de la investigación realizada por los
presentes inventores, sin embargo, se ha encontrado que una capa
para ablación por rayos IR se rompe (daña) o araña cuando se pela la
película, lo que ejerce una influencia adversa sobre la imagen de
impresión obtenida finalmente. Además, el coste de la impresión se
hace mayor por que el negro de carbón de la capa para ablación por
rayos IR se transfiere y mancha un revelador durante el revelado con
el revelador después de la exposición principal (irradiación de
rayos ultravioletas) después de la ablación mediante rayos IR, lo
que hace necesario cambiar el revelador cada vez que se prepara una
plancha.
A la vista de lo anterior, es por lo tanto un
objeto de la presente invención proporcionar un laminado de resina
fotosensible que proporcione imágenes de impresión de una calidad
mayor que las convencionales y que reduzca el manchado de un
revelador debido al revelado.
Se ha encontrado de acuerdo con la presente
invención que, al emplear una constitución en la que la capa para
ablación por rayos IR comprende una capa metálica que contiene un
metal que absorbe los rayos IR (en lo sucesivo denominada también
"capa de metal que absorbe los rayos IR" y la capa de metal
está colocada en contacto con la capa de resina fotosensible, puede
solventarse el problema anterior, puede obtenerse una imagen de
impresión de alta calidad y puede reducirse el manchado del
revelador.
Por lo tanto, un objeto de la presente invención
es un laminado de resina fotosensible que comprende un soporte, una
la capa de resina fotosensible, una capa para ablación por rayos IR
y una película de recubrimiento, en el que la capa para ablación
por rayos IR comprende una capa que consiste esencialmente en un
metal que absorbe los rayos IR, la capa de metal que absorbe los
rayos IR colocada en contacto con la capa de resina fotosensible y
la capa de metal que absorbe los rayos IR tiene un grosor de 430
\ring{A} - 20.000 \ring{A}.
Un objeto adicional de la invención es un
laminado de resina fotosensible que comprende un soporte, una la
capa de resina fotosensible, una capa para ablación por rayos IR y
una película de recubrimiento, en el que la capa para ablación por
rayos IR comprende una capa que consiste esencialmente en un metal
que absorbe los rayos IR, la capa de metal que absorbe los rayos IR
está colocada en contacto con la capa de resina fotosensible y la
capa de metal que absorbe los rayos IR tiene un grosor de 430
\ring{A} - 20.000 \ring{A} que comprende además una resina
polimérica no sensible a los rayos IR entre la capa de metal que
absorbe los rayos IR y la película de recubrimiento, en el que la
capa de resina polimérica no sensible a los rayos IR contiene un
absorbente de rayos UV.
La Fig. 1 es un corte transversal esquemático de
una primera realización del laminado de resina fotosensible de la
presente invención.
La Fig. 2 es un corte transversal esquemático de
una segunda realización del laminado de resina fotosensible de la
presente invención.
La Fig. 3 es un corte transversal esquemático de
una tercera realización del laminado de resina fotosensible de la
presente invención.
La Fig. 4 es una perspectiva esquemática
explicativa de una muestra de medición de la tasa de alabeo.
La Fig. 5 es una perspectiva esquemática
explicativa de una muestra de medición de la tasa de alabeo.
A continuación, se explica la presente invención
en detalle.
El laminado de resina fotosensible de la presente
invención comprende un soporte, una la capa de resina fotosensible,
una capa para ablación por rayos IR y una película de recubrimiento,
en el que la capa para ablación por rayos IR comprende una capa que
consiste esencialmente en un metal que absorbe los rayos IR, la capa
de metal que absorbe los rayos IR está colocada en contacto con la
capa de resina fotosensible y la capa de metal que absorbe los rayos
IR tiene un grosor de 430 \ring{A} - 20.000 \ring{A}.
Las Fig. 1, 2 y 3 muestran ejemplos de la
estructura del laminado del laminado de resina fotosensible de la
presente invención. La Fig. 1 muestra una constitución en la que se
laminan sucesivamente un soporte 1, una la capa de resina
fotosensible 2, una capa metálica que absorbe rayos IR 3 y una
película de recubrimiento 5 y la Fig. 2 muestra una constitución en
la que se laminan sucesivamente un soporte 1, una la capa de resina
fotosensible 2, una capa metálica que absorbe rayos IR 3, una capa
de polímero orgánico 4 y una película de recubrimiento 5. La Fig. 3
muestra una constitución en la que la capa de polímero orgánico 4 de
la Fig. 2 es una capa de resina polimérica no sensible a IR 6 o una
constitución en la que se laminan sucesivamente un soporte 1, una la
capa de resina fotosensible 2, una capa metálica que absorbe rayos
IR 3, una capa de resina polimérica no sensible a IR y 6 una
película de recubrimiento 5.
En el ejemplo de las Fig. 1, 2 y 3, la capa para
ablación por rayos IR 10 está formada únicamente por la capa
metálica que absorbe rayos IR 3 y en el ejemplo de la Fig. 2, una
capa para ablación por rayos IR 10 está formada únicamente por dos
capas de la capa de metal que absorbe los rayos IR 3 y la capa
polimérica 4 formada sobre ella.
En el laminado de resina fotosensible de la
presente invención, tal como se muestra en los ejemplos de las Fig.
1, Fig. 2 y Fig. 3 mencionadas anteriormente, la capa para ablación
por rayos IR 10 incluye la capa de metal que absorbe los rayos IR
3. Como resultado, la capa para ablación por rayos IR 10 tiene una
alta resistencia de película y no sufre roturas o desperfectos
fácilmente cuando se pela la película de recubrimiento 5. Además, la
capa de metal que absorbe los rayos IR 3 está colocada en contacto
con la capa de resina fotosensible 2 (directamente laminada) y no se
coloca otra capa (capa de polímero orgánico o una capa que tiene una
composición que contiene un polímero orgánico) entre la capa de
metal que absorbe los rayos IR 3 y la capa de resina fotosensible
2. Como resultado, la capa para ablación por rayos IR resiste la
rotura y el relieve obtenido por la exposición principal y el
revelado tras la ablación mediante rayos IR puede tener una
resolución lo suficientemente alta.
La realización que se muestra en la Fig. 1 tiene
una constitución preferible considerando la sensibilidad (es decir,
tiempo reducido de la ablación al absorber los rayos IR) de la capa
para ablación por rayos IR 10 durante la exposición a la luz. La
realización que se muestra en la Fig. 2 tiene una constitución
preferible considerando la función y resistencia de la capa para
ablación por rayos IR 10 como máscara tras la ablación con rayos
IR.
En la presente invención, las Fig. 1, Fig. 2 y
Fig. 3 mencionadas anteriormente son meros ejemplos y en tanto en
cuanto se mantengan las características mencionadas anteriormente (o
la constitución en la que la capa para ablación por rayos IR incluye
una capa de metal que absorbe los rayos IR y la capa de metal que
absorbe los rayos IR está colocada en contacto con la capa de resina
fotosensible), puede aplicarse cualquier técnica conocida de este
tipo para el laminado de resina fotosensible a otras partes.
En la presente invención, por "metal que
absorbe rayos IR" se quiere decir un metal, una aleación o un
compuesto que contiene metales que pueden someterse a ablación al
absorber rayos IR, en la que la aleación aquí incluye no sólo un
producto de fusión de dos o más tipos de elementos metálicos sino un
producto de fusión que contiene dos o más tipos de elementos
metálicos así como un elemento distinto de los elementos metálicos.
El "metal que absorbe rayos IR" puede ser un tipo de material o
una combinación de dos o más tipos de materiales.
Ejemplos preferibles del metal mencionado
anteriormente incluyen Al, Zn y Cu. Ejemplos preferibles de la
aleación mencionada anteriormente incluyen una aleación de dos o más
tipos de metales que se seleccionan de Al, Ca, Sc, Tl, V, Sb, Cr,
Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Y, Zr, Nb, Mo, Ag, In, Sn, Ta, W, Au, Bi y
Pb y una aleación que contiene, junto con los dos o más tipos de
metales, un elemento no metálico (carbono, silicio, etc.) y/o un
elemento de tierras raras (Nd, Sm, Gd, Tb, etc.). Como compuesto
que contiene metales, pueden usarse diversos compuestos de óxido
metálico y nitruro metálico, en tanto en cuanto absorban rayos IR y
se corten. De entre estos, son preferibles pigmentos inorgánicos
oscuros tales como cromito de cobre, óxido crómico y aluminato de
cobalto-cromo.
Para prevenir las roturas y desperfectos
(resistencia de la película) de la capa para ablación por rayos IR,
la capa de metal que absorbe los rayos IR es preferiblemente un
metal o una aleación, de forma particularmente preferible Al, Zn, Cu
y una aleación de Bi-In-Cu, de forma
particularmente preferible Al. En una realización preferible de la
presente invención, la capa de metal que absorbe los rayos IR es
una capa aluminizada.
En la presente invención, la capa para ablación
por rayos IR sustancialmente no permite la transmisión de rayos
ultravioletas (radiación actínica). Es decir, una densidad óptica
para los rayos ultravioletas (radiación actínica) es superior a 2,0,
preferiblemente superior a 2,5 y más preferiblemente superior a
3,0.
Cuando la densidad óptica es inferior a 2,0, la
parte enmascarada se endurece debido a la fuga de rayos UV durante
la exposición principal, convirtiendo una parte que originalmente no
era de imagen en un área de imagen, lo que de forma no preferible
produce, lo que se denomina, un fenómeno de velado.
Para alcanzar la densidad óptica mencionada
anteriormente, la capa de metal que absorbe los rayos IR 3 tiene un
grosor de 430 - 20.000 \ring{A}, más preferiblemente 430 - 8.000
\ring{A}, de forma particularmente preferible 430 - 5.000
\ring{A}. Cuando el grosor es inferior a 70 \ring{A}, la función
de enmascaramiento tras la ablación por rayos IR se vuelve no
preferiblemente baja, y cuando supera 20.000 \ring{A}, los rayos
IR para la formación de imágenes, de forma no preferible, no logran
provocar la ablación.
Por el contrario, tal como se describe a
continuación, cuando la capa para ablación por rayos IR consiste en
la capa de metal que absorbe los rayos IR 3 y la capa de polímero
orgánico 4 laminada sobre la capa metálica, la capa de metal que
absorbe los rayos IR preferiblemente tiene un grosor de 430 - 15.000
\ring{A}, más preferiblemente 430 - 8.000 \ring{A}, de forma
particularmente preferible 430 - 5.000 \ring{A}. Cuando el grosor
es inferior a 50 \ring{A}, la función de enmascaramiento tras la
ablación mediante rayos IR se vuelve no preferiblemente baja, y
cuando supera 15.000 \ring{A}, los rayos IR para la formación de
imágenes, de forma no preferible, no logra provocar la
ablación.
La capa para ablación por rayos IR mencionada
anteriormente puede incluir una capa de metal que absorbe los rayos
IR y la capa de polímero orgánico laminada sobre la capa
metálica.
Ejemplos del polímero de la capa de polímero
orgánico en la presente invención incluyen poliamida, polietileno,
polipropileno, poliéster, gomas, compuestos de epoxi, alcohol
polivinílico, ácido poliacrílico, óxido de polietileno,
interpolímero anfótero, alquilcelulosa, polímero celulósico (en
particular hidroxipropilcelulosa, hidroxiletilcelulosa,
nitrocelulosa), copolímero de etileno y acetato de vinilo, acetato
butirato de celulosa y polibutiral. Pueden usarse solos o en
combinaciones de dos o más tipos de los mismos. En la presente
invención, el polímero de la capa de polímero orgánico mencionada
anteriormente es preferiblemente soluble en agua. El interpolímero
anfótero se describe en la patente de Estados Unidos nº
4.293.635.
En la presente invención como polímero de los
polímeros ejemplificados anteriormente, se usan alcohol
polivinílico, alcohol polivinílico modificado, ácido poliacrílico,
óxido de polietileno a la vista de la capacidad de revelado en agua
o un medio acuoso y de la aparición de arrugas. De estos, se usa
alcohol polivinílico o alcohol polivinílico modificado que tiene un
grado de polimerización de 500 - 4000, preferiblemente de 1000 -
3000 y un grado de saponificación de 70% - 99%, preferiblemente de
80 - 99%, más preferiblemente de 80 - 90%. Tal como se usa en la
presente memoria, alcohol polivinílico modificado quiere decir uno
que tiene un grupo carboxilo, un grupo carbonilo, un grupo
polioxialquileno, un grupo acetoacetilo, un grupo sulfona o un grupo
silanol introducido en una cadena del extremo o una cadena principal
mediante reacción secundaria con un compuesto que reacciona con un
grupo hidroxilo del alcohol polivinílico (por ejemplo, un compuesto
que tiene un grupo carboxilo, enlace doble y anillo aromático) o
mediante saponificación de un copolímero de acetato de vinilo y un
monómero de vinilo diferente.
La capa de polímero orgánico de la presente
invención tiene un grosor de 0,01 - 200 \mum, preferiblemente de
0,1 - 100 \mum, de forma particularmente preferible de 0,1 - 50
\mum. Cuando el grosor supera 200 \mum, puede no ser fácil de
ajustar sobre un tambor para la ablación por rayos IR, o el relieve
obtenido mediante la exposición principal y el revelado puede
mostrar una resolución menor, que no es preferible. La capa de
polímero orgánico 4 puede contener un compuesto que absorbe rayos
ultravioleta, tales como metal que absorbe rayos UV para prevenir el
fenómeno de velado durante la exposición principal.
Preferiblemente, la capa de polímero orgánico
mencionada anteriormente laminada sobre la capa metálica es una capa
de resina polimérica no fotosensible.
Preferiblemente, la capa de polímero orgánico
mencionada anteriormente laminada sobre la capa metálica contiene un
absorbente de rayos UV.
Como procedimiento para añadir un absorbente de
rayos UV a la capa de polímero orgánico, existe un procedimiento que
comprende añadir una sustancia que absorbe rayos UV a la capa de
polímero orgánico y un procedimiento que comprende la
copolimerización de una sustancia que absorbe rayos UV reactiva con
un monómero proporcionando una capa polimérica.
Ejemplos de la sustancia que absorbe rayos UV
incluyen absorbentes generales de rayos UV, tales un como compuesto
de benzofenona, un compuesto de benzotriazol, un compuesto de
salicilato y un compuesto de indol. Ejemplos del compuesto de
benzofenona incluyen 2,4-dihidroxibenzofenona,
2-hidroxi-4-metoxibenzofenona,
2-hidroxi-4-octoxibenzofenona,
2-hidroxi-4-benciloxibenzofenona,
2-hidroxi-4-dodeciloxibenzofenona,
2,2'-dihidroxi-4-metoxibenzofenona,
2,2'-hidroxi-4,4'-dimetoxibenzofenona
y
2-hidroxi-4-metoxi-5-sulfobenzofenona.
Ejemplos del compuesto de benzotriazol incluyen
2-(2'-hidroxi-5'-metilfenil)benzotriazol,
2-(2'-hidroxi-5'-terc-butilfenil)benzotriazol,
2-(2'-hidroxi-2',5'-diterc-butilfenil)benzotriazol,
2-(2'-hidroxi-terc-butil-5'-metilfenil)-5-clorobenzotriazol,
2-(2'-hidroxi-3',5'-diterc-butilfenil)-5-clorobenzotriazol,
2-(2'-hidroxi-3',5'-diterc-amilfenil)benzotriazol
y
2-(2'-hidroxi-3'-(3'',4'',5'',6''-tetrahidroftalimidemetil)-5'-metilfenil)benzotriazol.
Ejemplos del compuesto de salicilato incluyen fenilsalicilato,
p-terc-butilfenilsalicilato y
p-octilfenilsalicilato. Además, también puede usarse
un compuesto que tiene un esqueleto de naftaleno tal como éster
propilenglicólico del ácido
2-hidroxi-3-naftoico,
un compuesto que tiene un esqueleto de antraceno tal como
9-antracenometanol, un compuesto que tiene un
esqueleto de benzotiazol tal como
dihidrotio-p-toluidina, un compuesto
que tiene un esqueleto de quinazolina tal como quinazolidindiona.
Además, pude usarse un polímero que absorbe rayos UV que se obtiene
por copolimerización de un compuesto polimerizable con radicales tal
como éster del ácido (met)acrílico y estireno con un
absorbente de rayos UV polimerizable con radicales que tiene un
esqueleto de benzofenona o un esqueleto de benzotriazol. También
puede usarse un compuesto inorgánico tal como óxido de titanio,
óxido de cerio, óxido de zinc, óxido de magnesio y alúmina. Puede
usarse un pigmento tal como rojo de toluidina, amarillo de
toluidina, ftalocianina de cobre, quinacridona, YW de toluidina,
rojo BWC de Watchung, amarillo GW de toluidina, azul BW de
monastral, verde BW de monastral, pigmento escarlata, verde de
monastral, marrón B de monastral, naranja de monastral, negro de
carbón y grafito. Pueden usarse cualquiera de estos o dos o más
tipos de los mismos de forma concurrente.
La proporción de las cantidades de las sustancias
que absorben rayos UV mencionadas anteriormente es de 0,1 - 50% en
peso, preferiblemente de 0,5 - 40% en peso, de forma particularmente
deseable de 1 - 30% en peso, relativo a la capa de polímero
orgánico. Cuando es inferior a 0,1% en peso, la absorbencia de UV
desciende de forma dramática no mostrando, de forma no preferible,
ningún efecto de ampliación de la latitud de la exposición. Por el
contrario, cuando supera 50% en peso, el tiempo necesario para la
exposición a la luz se vuelve demasiado largo, impidiendo así su
aplicabilidad práctica y la capa de polímero orgánico de forma no
preferible se vuelve frágil.
La densidad óptica de la capa de polímero
orgánico que absorbe rayos UV a 365 nm es preferiblemente 0,05 -
1,00. Cuando es inferior a 0,05, no es eficaz para ampliar la
latitud de la exposición y cuando es 1,00 o superior, el tiempo
necesario para la exposición a la luz se vuelve demasiado largo,
impidiendo así su aplicabilidad práctica.
Tal como se menciona más adelante, cuando el
laminado de resina fotosensible de la presente invención es una
plancha flexográfica fotosensible, en una realización de la
presente invención, la capa de polímero orgánico mencionada
anteriormente laminada sobre la capa metálica es una capa de resina
polimérica no sensible a los rayos IR y la capa de resina polimérica
no sensible a los rayos IR contiene un polímero soluble en agua y un
plastificador. El polímero soluble en agua mencionado anteriormente
puede ser un copolímero con una sustancia que tenga plasticidad
(plastificador).
Ejemplos del polímero soluble en agua son los que
se citan anteriormente. Como plastificador puede usarse cualquier
plastificador que puede usarse generalmente para las resinas
poliméricas solubles en agua. Ejemplos de plastificadores de ese
tipo incluyen alquilenglicoles tales como etilenglicol,
trimetilenglicol, tetrametilenglicol, propilenglicol,
pentametilenglicol, hexilenglicol, hexametilenglicol y similares,
polialquilenglicoles tales como dietilenglicol, dipropilenglicol,
trietilenglicol, tetraetilenglicol, polietilenglicol nº 200,
polietilenglicol nº 300, polietilenglicol nº 400, polietilenglicol
nº 600, polietilenglicol nº 100, polietilenglicol nº 2000,
polietilenglicol nº 4000, un copolímero de polietilenglicol y
polipropilenglicol y similares, butanodioles tales como
2,3-butanodiol y 1,3-butanodiol,
alcoholes polihídricos tales como alcoholes de trivalentes o más
(por ejemplo glicerina, sorbitol, pentaeritritol, trimetilolpropano,
etc.), etanolaminas tales como monoetanolamina, dietanolamina,
trietanolamina, compuestos de amina tales como
N-metilpirrolidona, ciclohexilamina, urea. De estos,
son preferibles polietilenglicol, un copolímero de polietilenglicol
y polipropilenglicol, propilenglicol y glicerina. Particularmente
preferido es un copolímero de polietilenglicol y
polipropilenglicol. La cantidad del copolímero de polietilenglicol y
polipropilenglicol es preferiblemente de 1 - 100 partes en peso por
100 partes en peso de la resina polimérica soluble en agua. Cuando
es inferior a 1 parte en peso, la adhesión entre una capa de resina
polimérica formada aplicando una solución acuosa de la resina
polimérica de la presente invención sobre un soporte tal como una
película de poliéster y el soporte mencionado anteriormente
temporalmente se vuelve demasiado elevada haciendo que su
desprendimiento sea difícil. Además, la plasticidad se vuelve
insuficiente. Cuando es de 100 partes en peso o más, un copolímero
de polietilenglicol y polipropilenglicol se al exterior de la
superficie recubierta y forma un bloqueo cuando se aplica y se seca
una solución acuosa de la resina polimérica de la presente
invención. También es posible usar una mezcla de dos clases o más
de los componentes en una combinación diferente.
La capa de resina fotosensible 2 de la presente
invención es una capa de una composición que contiene al menos un
compuesto polimérico sintético soluble (aglutinante polimérico)
conocido, un compuesto insaturado fotopolimerizable (en lo sucesivo
denominado también agente de entrecruzamiento) y un iniciador de la
fotopolimerización o una capa de una composición que contiene al
menos un aglutinante elastomérico, un compuesto polimerizable (en lo
sucesivo denominado también agente de entrecruzamiento) y un
fotoiniciador, en la que la composición es de forma general
aproximadamente 5 - 150 partes en peso de un compuesto
polimerizable, y aproximadamente 0,1 - 10 partes en peso de un
fotoiniciador, relativo a 100 partes en peso del polímero. Además,
puede contener un aditivo tal como un plastificador, un inhibidor de
la polimerización térmica, un tinte, un pigmento, un absorbente de
rayos UV, un aroma o un antioxidante. Puede aplicarse directamente
una capa de resina fotosensible usada para una plancha de impresión
con relieve tal como las conocidas tipografía y flexografía. Puede
ser una capa única o un laminado de dos o más capas que tengan
composiciones diferentes.
El polímero que se usa para la tipografía puede
contener un aglutinante de polímero sintético que puede disolverse o
dispersarse en agua o en una mezcla de agua y alcohol. Por ejemplo,
se mencionan polieteramida (documento
JP-A-55-79437),
poliéter esteramida (documento
JP-A-58-113537),
poliamida que contiene átomos de nitrógeno terciario (documento
JP-A-50-76055),
poliamida que contiene átomos de nitrógeno terciario tipo sal de
amonio (documento
JP-A-53-36555),
polímero de adición de un compuesto de amida que tiene uno o más
enlaces amida y compuesto de diisocianato orgánico (documento
JP-A-58-140737),
polímero de adición de diamina sin enlace amida y compuesto de
diisocianato orgánico (documento
JP-A-4-97154) y
similares. De estos son preferibles poliamida que contiene átomos de
nitrógeno terciario y poliamida que contiene átomos de nitrógeno
terciario tipo sal de amonio.
El polímero que se usa para la flexografía puede
ser un polímero único o una mezcla polimérica. Puede ser un polímero
hidrófobo, un polímero hidrófilo o una mezcla de un polímero
hidrófobo y un polímero hidrófilo. Ejemplos preferibles del
polímero hidrófobo incluyen goma de butadieno, goma de isopreno,
1,2-polibutadieno, goma de estireno y butadieno,
goma de cloropreno, goma de nitrilo y butadieno, copolímero de
bloque de
estireno-butadieno-estireno,
copolímero de bloque de
estireno-isopreno-estireno, goma de
butilo, goma de etileno y propileno, polietileno clorosulfonado,
copolímero de butadieno-éster del ácido (met)acrílico,
copolímero de acrilonitrilo-éster del ácido (met)acrílico,
goma de epiclorohidrina, polietileno clorado, goma de silicona y
goma de uretano, que puede usarse solo en combinaciones de dos o más
clases del mismo. Ejemplos preferibles del polímero hidrófilo
incluyen uno que tiene un grupo hidrófilo, tal como -COOH, -COOM, (M
es un ión metálico monovalente, divalente o trivalente o un ión de
amonio sustituido o no sustituido), -OH, -NH_{2}, -SO_{3}H, un
grupo éster del ácido fosfórico y similares, que es específicamente
polímeros del ácido (met)acrílico o una sal del mismo,
copolímeros del ácido (met)acrílico o una sal del mismo y
(met)acrilato de alquilo, copolímeros de ácido
(met)acrílico o una sal del mismo y estireno, copolímeros de
ácido (met)acrílico o una sal del mismo y acetato de vinilo,
copolímeros de ácido (met)acrílico o una sal del mismo y
acrilonitrilo, alcohol polivinílico, carboximetilcelulosa,
poliacrilamida, hidroxietilcelulosa, óxido de polietileno,
polietilenimina, poliuretano que tiene un grupo -COOM,
poliureauretano que tiene un grupo -COOM, ácido poliámico que tiene
un grupo -COOM, y sus sales o sus derivados, que pueden usarse solos
o en combinaciones de dos o más clases de los mismos.
El compuesto insaturado fotopolimerizable que
preferiblemente se usa en la presente invención se ejemplifica con
compuestos etilénicamente insaturados, tales como los productos de
las reacciones de adición con apertura de anillos (por ejemplo
poliglicidiléter de alcohol polihídrico con ácido metacrílico y
ácido acrílico). Ejemplos del alcohol polihídrico mencionado
anteriormente incluyen, pero sin limitación, dipentaeritritol,
pentaeritritol, trimetilolpropano, glicerina, etilenglicol,
dietilenglicol, trietilenglicol, aducto de óxido de etileno de ácido
ftálico, aductos de ácido acrílico de diglicidiléter de bisfenol A
y bisfenol F. Estos compuestos pueden usarse en una mezcla de dos o
más clases de los mismos. De estos, es preferible
trimetilolpropano.
Cuando el compuesto de polímero sintético soluble
es un aglutinante elastomérico, el compuesto polimerizable
preferible es un compuesto orgánico etilénicamente monoinsaturado o
poliinsaturado polimerizable que puede usarse para la producción de
una plancha de impresión fotosensible y es compatible con un
polímero. Ejemplos del compuesto incluyen estireno, viniltolueno,
t-butilestireno,
\alpha-metilestireno, acrilonitrilo, ácido
(met)acrílico, (met)acrilato de metilo,
(met)acrilato de etilo, (met)acrilato de
n-propilo, (met)acrilato de isopropilo,
(met)acrilato de n-butilo,
(met)acrilato de isobutilo, (met)acrilato de
sec-butilo, (met)acrilato de
t-butilo, (met)acrilato de
2-etilhexilo, (met)acrilato de
n-decilo, (met)acrilato de laurilo,
(met)acrilato de n-tridecilo,
(met)acrilato de estearilo, mono(met)acrilato
de etilenglicol, mono(met)acrilato de propilenglicol,
mono(met)acrilato de dietilenglicol,
mono(met)acrilato de dipropilenglicol,
mono(met)acrilato de polietilenglicol,
mono(met)acrilato de polipropilenglicol,
mono(met)acrilato de polietilenglicol monometiléter,
mono(met)acrilato de polipropilenglicol monometiléter,
mono(met)acrilato de polietilenglicol monoetiléter,
mono(met)acrilato de polipropilenglicol monoetiléter,
(met)acrilato de n-butoxietilo,
(met)acrilato de fenoxietilo, (met)acrilato de
2-fenoxipropilo, (met)acrilato de
ciclohexilo, (met)acrilato de tetrahidrofurfurilo,
(met)acrilato de glicidilo, (met)acrilato de alilo,
(met)acrilato de bencilo, (met)acrilato de
tribromofenilo, (met)acrilato de
2,3-dicloropropilo, (met)acrilato de
3-cloro-2-hidroxipropilo,
(met)acrilato de N,N-dietilaminoetilo,
(met)acrilato de N,N-dimetilaminoetilo,
(met)acrilato de
n-t-butilaminoetilo, acrilamida,
N,N-dimetilacrilamida,
N,N-dietilacrilamida, di(met)acrilato
de etilenglicol, di(met)acrilato de dietilenglicol,
di(met)acrilato de polietilenglicol,
di(met)acrilato de propilenglicol,
di(met)acrilato de dipropilenglicol,
di(met)acrilato de polipropilenglicol,
(met)acrilato de 1,3-butilenglicol,
(met)acrilato de 1,4-butanodiol,
di(met)acrilato de neopentilglicol,
di(met)acrilato de 1,6-hexanodiol,
di(met)acrilato de 1,9-nonanodiol,
di(met)acrilato de 1,10-decanodiol,
di(met)acrilato de 1,12-dodecanodiol,
di(met)acrilato de
1,14-tetradecanodiol, di(met)acrilato
de pentaeritritol, tri(met)acrilato de
pentaeritritol, tetra(met)acrilato de pentaeritritol,
di(met)acrilato de glicelol,
di(met)acrilato de glicelolaliloxi,
di(met)acrilato de trimetiloletano,
tri(met)acrilato de trimetiloletano,
di(met)acrilato de trimetilolpropano,
tri(met)acrilato de trimetilolpropano,
di(met)acrilato de diciclopentildimetileno,
di(met)acrilato de diciclopentadecano,
di(met)acrilato de triciclodecanodiildimetilo,
trialilcianurato, trialilisocianurato, trialiltrimetilitato,
dialilftalato, divinilbenceno, (met)acrilato de poliuretano,
(met)acrilato de poliéster, (met)acrilato de
oligobutadieno, (met)acrilato de oligoisopreno y
(met)acrilato de oligopropileno, que pueden usarse solos o en
combinaciones de dos o más clases de los mismos.
Ejemplos preferibles del fotoiniciador incluyen
benzofenonas, benzoinas, aceofenonas, bencilos, alquiléteres de
benzoina, bencilalquilcetales, antraquinonas y tioxantonas, que son
específicamente benzofenona, clorobenzofenona, benzoína,
acetofenona, bencilo, benzoinmetiléter, benzoinetiléter,
benzoinisopropiléter, benzoinisobutiléter, bencildimetilcetal,
bencildietilcetal, bencildiisopropilcetal, antraquinona,
2-etilantraquinona,
2-metilantraquinona,
2-allilantraquinona,
2-cloroantraquinona, tioxantona y
2-clorotioxantona, que pueden usarse solos o en
combinaciones de dos o más clases de los mismos.
La capa de resina fotosensible en la presente
invención puede contener, además del polímero, el compuesto
polimerizable y el fotoiniciador, un aditivo tal como un
plastificador, un inhibidor de la polimerización térmica, un tinte y
un antioxidante.
La capa de resina fotosensible puede prepararse
en una capa soluble o dispersable en un revelador soluble en agua,
un revelador semisoluble en agua y un revelador de disolvente
orgánico cambiando los materiales de cada componente de forma
apropiada. Preferiblemente se prepara de forma que sea revelable en
agua o un medio acuoso. Cuando se prepara una capa de resina
fotosensible que puede revelarse en agua o en un medio acuoso,
preferiblemente corresponde a la capa de resina fotosensible que se
describe específicamente en los documentos
EP-A767407,
JP-A-60-211451,
JP-A-2-175702,
JP-A-4-3162,
JP-A-2-305805,
JP-A-3-228060,
JP-A-10-339951.
Tal como se menciona más adelante, cuando el
laminado de resina fotosensible de la presente invención es una
plancha de tipografía fotosensible, en una realización de la
presente invención, la capa de resina fotosensible tiene un
contenido en disolvente residual de 3 - 10%, preferiblemente 4 - 7%.
Cuando el contenido en disolvente residual es inferior a 3%, se
degrada la fluencia durante la formación, que impide la
administración con una máquina de concentración o la formación con
un grosor deseado. Cuando el contenido en disolvente residual excede
el 10%, la exposición de una plancha fotosensible a la radiación
actínica sin despresurización de forma no preferible provoca un
curvado hacia el interior durante la exposición a la luz, lo que
impide una irradiación uniforme.
El disolvente residual de una capa de resina
fotosensible en la presente invención consiste principalmente en
agua y un alcohol alifático inferior, cuyo contenido se mide por el
procedimiento que se mencionará más adelante.
Ejemplos del alcohol alifático inferior
mencionado anteriormente incluyen alcohol metílico, alcohol etílico,
alcohol propílico, alcohol isopropílico, etilenglicol y
etilenglicol monometiléter y sus mezclas. Considerando las
propiedades de manejo durante la producción preferiblemente se usan
alcohol metílico y alcohol etílico.
Cuando el laminado de resina fotosensible de la
presente invención es una plancha tipográfica fotosensible, en el
componente de disolvente residual de la capa de resina fotosensible
de la presente invención, la relación entre el alcohol alifático
inferior y el agua es preferiblemente 2/8 - 8/2, de forma deseable
3/7 - 7/3. Cuando la proporción de agua supera el 80%, la
concentración requiere más tiempo y se degrada la productividad.
Cuando es inferior a 20%, un compuesto de polímero sintético soluble
tiende a mostrar propiedades de disolución deficientes y el tiempo
de disolución de forma no preferible se hace mayor.
El soporte de la presente invención es
preferiblemente un material que tiene una flexibilidad y
estabilidad
dimensional superiores y ejemplos del mismo incluyen una película de metal tal como acero, aluminio, cobre, níquel,
una película plástica tal como tereftalato de polietileno, naftalato de polietileno, tereftalato de polibutileno y policarbonato. De estos, se usa película de tereftalato de polietileno como material de soporte con una estabilidad dimensional y flexibilidad superiores. El soporte que se usa aquí de forma deseable tiene un grosor de 50 - 350 \mum, preferiblemente 100 - 250 \mum, considerando las propiedades mecánicas, estabilidad de la forma y propiedades de manejos durante la elaboración de las planchas de impresión. Cuando el grosor no es superior a 50 \mum, el soporte mismo puede sufrir deformaciones tales como curvatura y un grosor no inferior a 350 \mum degrada la flexibilidad provocando de forma no preferible unas propiedades menores de adaptación a un cilindro durante la ablación por rayos IR. Cuando es necesario, puede formarse un adhesivo usado generalmente para mejorar la adhesión entre un soporte y un laminado de resina fotosensible. El laminado de resina fotosensible de acuerdo con la presente invención comprende adicionalmente una película de recubrimiento. También puede laminarse una película de recubrimiento sobre el laminado de resina fotosensible de la presente invención. La película de recubrimiento se forma para proteger una capa para ablación por rayos IR durante el almacenamiento y el manejo de la plancha y se retira (se pela) antes de la irradiación con rayos IR o después de la irradiación con rayos IR. En la plancha de la presente invención, pueden evitarse roturas o desperfectos de la capa para ablación por rayos IR durante la remoción de la película de recubrimiento o una operación de pelado.
dimensional superiores y ejemplos del mismo incluyen una película de metal tal como acero, aluminio, cobre, níquel,
una película plástica tal como tereftalato de polietileno, naftalato de polietileno, tereftalato de polibutileno y policarbonato. De estos, se usa película de tereftalato de polietileno como material de soporte con una estabilidad dimensional y flexibilidad superiores. El soporte que se usa aquí de forma deseable tiene un grosor de 50 - 350 \mum, preferiblemente 100 - 250 \mum, considerando las propiedades mecánicas, estabilidad de la forma y propiedades de manejos durante la elaboración de las planchas de impresión. Cuando el grosor no es superior a 50 \mum, el soporte mismo puede sufrir deformaciones tales como curvatura y un grosor no inferior a 350 \mum degrada la flexibilidad provocando de forma no preferible unas propiedades menores de adaptación a un cilindro durante la ablación por rayos IR. Cuando es necesario, puede formarse un adhesivo usado generalmente para mejorar la adhesión entre un soporte y un laminado de resina fotosensible. El laminado de resina fotosensible de acuerdo con la presente invención comprende adicionalmente una película de recubrimiento. También puede laminarse una película de recubrimiento sobre el laminado de resina fotosensible de la presente invención. La película de recubrimiento se forma para proteger una capa para ablación por rayos IR durante el almacenamiento y el manejo de la plancha y se retira (se pela) antes de la irradiación con rayos IR o después de la irradiación con rayos IR. En la plancha de la presente invención, pueden evitarse roturas o desperfectos de la capa para ablación por rayos IR durante la remoción de la película de recubrimiento o una operación de pelado.
La película de recubrimiento 5 preferiblemente
está formada por materiales de poliamida; alcohol polivinílico;
copolímero de etileno y acetato de vinilo; interpolímero anfótero;
polímeros de celulosa tales como hidroxialquilcelulosa y acetato de
celulosa; polibutiral; goma cíclica, polietileno, polipropileno,
tereftalato de polietileno, 2,6-naftalato de
polietileno, nylon 6, nylon 4, nylon 66, nylon 12, cloruro de
polivinilo, cloruro de polivinilideno, poliamida aromática completa,
poliamidaimida, poliimida, polieterimida, polisulfona, sulfuro de
polifenileno, óxido de polifenileno. Tal como se usa en la presente
memoria, el interpolímero anfótero se describe en la patente de
Estados Unidos nº 4.293.635. Estos materiales pueden usarse solos o
en combinaciones de dos o más clases de los mismos. Además de estos,
puede copolimerizarse o mezclarse una pequeña cantidad de un
polímero orgánico diferente. Además, pueden usarse también
compuestos autooxidativos tales como nitrocelulosa y nitroglicerina;
polímeros no autooxidativos tales como alquilcelulosa (por ejemplo
etilcelulosa), ácido poliacrílico y sales de metales alcalinos de
los mismos; poliacetal; poliimida; policarbonato; poliéster;
polialquileno tal como polietileno y polibutileno; éter de
polifenileno; óxido de polietileno; polilactona; sus
combinaciones.
La película de recubrimiento 5 puede retirarse
antes de la irradiación con rayos IR o después de la irradiación con
rayos IR (estar presente durante la irradiación con rayos IR).
La película de recubrimiento 5 preferiblemente
tiene un grosor de 10 - 300 \mum, de forma particularmente
preferible de 10 - 200 \mum.
En la presente invención, puede estar presente
una capa de desprendimiento entre una película de recubrimiento y
una capa para ablación por rayos IR. El material de la capa de
desprendimiento es preferiblemente un agente de desprendimiento de
silicona, resina de flúor, resina de ácido esteárico, cera de
polietileno y parafina líquida y su grosor es preferiblemente
aproximadamente 0,001 - 10 \mum, de forma particularmente
preferible 0,001 - 5 \mum.
En una realización de la presente invención, la
proporción de cambio del radio de un punto de medio tono tras la
ablación por rayos IR por unidad de energía (J/cm_{2}) no es
superior al \pm30%.
En la presente invención, la "la proporción de
cambio del radio de un punto de medio tono tras la ablación por
rayos IR" se define mediante las siguientes fórmulas:
A>B \
proporción \ de \ cambio \ (%) = (A-B) \ / \ B \
x \ (D-C) \ x \
100
A>B \
proporción \ de \ cambio \ (%) = (A-B) \ / \ A \
x \ (D-C) \ x \
100
en las que el radio de un punto de
medio tono cuando se irradia un cierto valor (D) de energía láser es
(A) y el radio de un punto de medio tono cuando se cambia un valor
de energía láser a un valor opcional (C) es
(B).
En la presente invención, una proporción de
cambio del radio de un punto de medio tono por variación de energía
(J/cm^{2}) de láser IR es preferiblemente no superior a \pm30%,
más preferiblemente no superior a \pm25%, todavía más
preferiblemente no superior a \pm20%, de acuerdo con la definición
mencionada anteriormente. Cuando la proporción de cambio mencionada
anteriormente supera \pm30%, el tamaño de un punto de medio tono
cambia más que un tamaño de un punto de medio tono teórico en
respuesta a cambios en la iluminación láser. Por ejemplo, cuando es
inferior a -30%, los puntos de medio tono destacados se vuelven
demasiado finos y se eliminan mecánicamente durante el revelado, o
se colapsan durante la impresión, lo que a su vez provoca la no
formación de imágenes definidas. A la inversa, cuando supera +30%,
los puntos de medio tono destacados se vuelven demasiado gruesos y
de forma no preferible hacen la parte de medios tonos más oscura
(ganancia de puntos) durante la impresión.
En una realización de la presente invención, el
radio de curvatura para la aparición de arrugas no es superior
a
5 cm.
5 cm.
En la presente invención, por "radio de
curvatura para la aparición de arrugas" se quiere decir un radio
mínimo que carece de arrugas o roturas en la superficie de la
plancha cuando se enrolla una plancha (laminado de resina
fotosensible) alrededor de un tambor de metal cilíndrico que tiene
un radio de curvatura diferente, se retira y se coloca sobre una
superficie plana, que se mide por el procedimiento siguiente.
Se prepararon seis tipos de tambores de metal
cilíndricos que tenían un radio de curvatura desde 3 cm hasta 13 cm
con intervalos de 2 cm y se enrolló una plancha (laminado de resina
fotosensible) alrededor de cada tambor de metal cilíndrico con una
capa de metal que absorbía los rayos IR sobre la parte exterior, se
retiró y se colocó sobre una superficie plana. La superficie de la
plancha se observó con una lupa (aumento de x10) y se determinó el
radio de curvatura cuando aparecieron arrugas.
En una realización de la presente invención, la
tasa de alabeo antes de la exposición a la radiación actínica del
laminado de resina fotosensible está en \pm2% y este valor cambia
en no más del 15% tras la exposición del laminado de resina
fotosensible a la radiación actínica.
En la "tasa de alabeo" de la presente
invención, un cambio cóncavo o convexo en la dirección paralela a un
lado se denomina alabeo y se expresa en porcentaje del alabeo máximo
con respecto a la longitud de 100 mm. La concavidad se expresa
negativa y la convexidad positiva. El cambio en la tasa de alabeo
quiere decir un valor absoluto de diferencia en la tasa de alabeo
antes y después de la exposición a la radiación actínica.
Para la medición de la tasa de alabeo en la
presente invención, se mide un laminado de resina fotosensible que
tiene un diámetro de 100 mm para determinar la tasa de alabeo antes
de la exposición a la radiación actínica después de retirar la
película protectora y similares, si existieran sobre la capa para
ablación por rayos IR, para exponer completamente la capa para
ablación por rayos IR. A partir de ahí, se dispara una radiación de
650 mJ a la superficie completa y se mide la tasa de alabeo. Se
calcula la diferencia antes y después de la irradiación.
En la presente invención, cuando la tasa de
alabeo supera +2% y cuando una plancha fotosensible se coloca en una
máquina de exposición a la luz sin una lámina de descompresión, no
es posible obtener una irradiación uniforme en el momento en el que
la plancha se expone a la radiación actínica. Cuando los cambios en
la tasa de alabeo antes y después de la exposición a la radiación
actínica supera el 15%, la plancha fotosensible se alabea mucho
durante la exposición a la radiación actínica, que a su vez produce
una irradiación inconsistente sobre la plancha y una expresión de
menor resolución.
El procedimiento para preparar un laminado de
resina fotosensible de la presente invención no está particularmente
limitado pero en general, se forma una capa de resina fotosensible
sobre un soporte aplicando, recubriendo por pulverización y
similares proporcionando uno de los dos laminados, o se pela una
película protectora de una plancha de impresión fotosensible
disponible en el mercado proporcionando un laminado. De forma
separada, se forma una capa de polímero orgánico aplicando o
recubriendo por pulverización una película de sustrato (película de
recubrimiento), después formando una capa de metal que absorbe los
rayos IR por deposición a vacío o por bombardeo iónico
proporcionando el otro laminado. Los dos laminados obtenidos de este
modo se laminan usando maquinaria de prensado térmico. Las
condiciones de laminado son temperatura: de temperatura ambiente a
150ºC, preferiblemente 50 - 120ºC, presión: 20 - 200 kg de
peso/cm^{2}, preferiblemente 50 - 150 kg de peso/cm^{2}.
El uso del laminado de resina fotosensible de la
presente invención no está particularmente limitado y se
ejemplifica mediante una plancha para imprimir, plancha de rótulo,
plancha para formar un troquel madre, material enmascarador para
circuito impreso flexible. La plancha para imprimir incluye, por
ejemplo, una plancha flexográfica, una plancha tipográfica, una
plancha para impresión por presión (plancha para huecogravado),
plancha para impresión en pantalla y plancha para impresión
litográfica. En una realización de la presente invención, el
laminado de resina fotosensible mencionado anteriormente es una
plancha fotosensible.
En una realización de la presente invención, el
laminado de resina fotosensible mencionado anteriormente es una
plancha flexográfica fotosensible o una plancha tipográfica
fotosensible.
El laminado de resina fotosensible de la presente
invención tiene al menos un soporte, una capa de resina fotosensible
y una capa para ablación por rayos IR, en el que la capa para
ablación por rayos IR contiene una capa de metal que absorbe los
rayos IR y la capa metálica tiene una capa de polímero orgánico que
absorbe rayos UV al menos en una superficie.
Realizaciones preferibles del soporte, capa de
resina fotosensible, capa para ablación por rayos IR, capa de metal
que absorbe los rayos IR y capa de polímero orgánico que absorbe
rayos UV mencionados anteriormente son tal como se describen
anteriormente.
Una plancha de impresión en una plancha de
relieve puede prepararse a partir de una plancha fotosensible tal
como más adelante.
Después de pelar o no una película de
recubrimiento, se expone una capa de ablación a la formación de
imágenes
por rayos IR para la ablación por IR, formando así una máscara en una capa de resina fotosensible. Ejemplos de láser IR adecuados incluyen láser de ND/YAG (1064 nm) y láser de diodos (por ejemplo, 830 nm). Un sistema de láser adecuado para una técnica de elaboración de planchas por ordenador está disponible comercialmente y se ejemplifica mediante Cyrle Digital Imager Spark (fabricado por BARCO), el sistema de láser de diodos OmniSetter (marca registrada) (longitud de onda láser: 830 nm; eje del tambor: 1800 mm) y sistema de láser de ND/YAG Digilas (marca registrada). Estos incluyen un tambor cilíndrico giratorio para soportar una plancha fotosensible, una aparato de irradiación de láser IR y un ordenador de bocetación. La información de las imágenes se transmite directamente del ordenador de bocetación al aparato láser.
por rayos IR para la ablación por IR, formando así una máscara en una capa de resina fotosensible. Ejemplos de láser IR adecuados incluyen láser de ND/YAG (1064 nm) y láser de diodos (por ejemplo, 830 nm). Un sistema de láser adecuado para una técnica de elaboración de planchas por ordenador está disponible comercialmente y se ejemplifica mediante Cyrle Digital Imager Spark (fabricado por BARCO), el sistema de láser de diodos OmniSetter (marca registrada) (longitud de onda láser: 830 nm; eje del tambor: 1800 mm) y sistema de láser de ND/YAG Digilas (marca registrada). Estos incluyen un tambor cilíndrico giratorio para soportar una plancha fotosensible, una aparato de irradiación de láser IR y un ordenador de bocetación. La información de las imágenes se transmite directamente del ordenador de bocetación al aparato láser.
Después de escribir la máscara sobre la capa para
ablación por rayos IR tal como se menciona anteriormente, la plancha
fotosensible se expone completamente a la radiación actínica a
través de la máscara. Esto se realiza de forma ventajosa
directamente sobre el cilindro de láser. De forma alternativa, la
plancha puede retirarse del aparato de láser y exponerse a la
radiación actínica sobre una unidad de irradiación plana
convencional. Durante la etapa de irradiación, la capa de resina
fotosensible se polimeriza en el área expuesta en la etapa de
formación de máscara mencionada anteriormente (etapa de ablación) y
si no en el área de la capa para ablación por rayos IR que está
cubierta por la capa para ablación por rayos IR que no es
transparente a la luz de irradiación. La radiación actínica puede
aplicarse en un entorno de vacío convencional sin oxígeno. También
puede aplicarse en presencia de oxígeno atmosférico.
Cuando una imagen escrita mediante láser IR
necesita ser modificada antes de la exposición mencionada
anteriormente de la superficie completa a la radiación actínica en
la presente invención, se aplica un agente opaco a la capa de resina
fotosensible para permitir una modificación sencilla de la imagen.
En una realización de la presente invención, una capa de polímero
orgánico laminada sobre la capa metálica puede recibir un agente
opaco no transparente a la radiación actínica. El agente opaco en la
presente invención es una sustancia que sustancialmente evita la
transmisión de rayos ultravioleta (radiación actínica). Sus
ejemplos incluyen tinta con base de aceite, tinta con base de agua y
cinta de bloqueo de luz. Se prefiere uno que tenga una densidad
óptica no inferior a 2,0 para la radiación actínica.
Después de la exposición a la radiación actínica
tal como se menciona anteriormente, la plancha se somete a revelado.
La etapa de revelado puede realizarse usando una unidad de revelado
convencional y, dependiendo de las propiedades de la plancha, puede
usarse agua, un disolvente orgánico o una mezcla de los mismos.
Durante el revelado, se retiran el área no polimerizada de la capa
de resina fotosensible y la parte restante de la capa para ablación
por rayos IR. Es posible eliminar primero la capa para ablación por
rayos IR con un tipo de disolvente o una mezcla de disolventes y
revelar la capa de resina fotosensible con un revelador diferente.
Después de la etapa de revelado, se seca la plancha de impresión
obtenida. Las condiciones de secado de la plancha son, por ejemplo,
45 - 80ºC durante 15 minutos - 4 horas y 60 - 70ºC durante 5 minutos
- 60 minutos. Después de secar, pueden realizarse algunos
tratamientos posteriores. Por ejemplo, para preparar una plancha de
impresión no adhesiva puede usarse irradiación con una lámpara
germicida o un tratamiento con Br_{2}.
La presente invención se explica en detalle
mediante referencia a los Ejemplos, el Ejemplo de referencia
comparativo y los Ejemplos comparativos. Los ejemplos son meras
ejemplificaciones y no limitan la presente invención en modo
alguno.
Se mide usando un densitómetro de transmisión de
blanco y negro DM-520 (DAINIPPON SCREEN MFG. CO.,
LTD.)
Energía IR
(J/cm^{2}) = W / ((R/60) X D X
L)
en la que W es la emisión del láser
(en vatios), R es el número de rotaciones (rpm), D es un diámetro
del haz IR (cm) y L es una longitud periférica (cm) de un
tambor.
Evaluación del alabeo: Se preparó una muestra
mediante el procedimiento mencionado anteriormente y se expuso a la
luz usando un dispositivo de exposición (fabricado por NIHON DENSHI
SEIKI CO., LTD.) que contenía una lámpara que tenía una iluminación
de 20 - 30 w/m^{2} (fabricada por Mitsubishi Electric
Corporation). Se midió el alabeo antes y después de la exposición y
se calcularon los cambios del alabeo.
Ejemplo de referencia
1
Se aplicó una solución acuosa de alcohol
polivinílico (GOHSENOL GH-20 fabricado por NIPPON
SYNTHETIC CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD.: grado de saponificación: 88%)
/ polietilenglicol (fabricado por ASAHI DENKA Co., Ltd.) /
tensioactivo (EPAN 740 fabricado por Dai-ichi Kogyo
Seiyaku Co., Ltd.) / agua pura = 8,75 g / 8,75 g / 0,01 g / 332, 5 g
a una película de PET (el tejido completo fue fabricado por Toyo
Boseki Kabushiki Kaisha, E5002, grosor de 125 \mum), que había
sufrido un tratamiento de deslustrado químico con un aplicador en
barra nº 26 y se secó a 100ºC durante 3 minutos formando una
película que tenía un grosor después de secar de 1 \mum. Después,
se evaporó el aluminio de la superficie de la película mediante un
procedimiento de deposición a vacío con un grosor de aproximadamente
800 \ring{A}. La densidad óptica en ese momento era de 3,5.
Ejemplo de referencia
2
Se pulverizó un agente de desprendimiento de
silicona (NUC SILICONE fabricado por KOHZAI CORPORATION) durante
aproximadamente 2 segundos desde una distancia de aproximadamente 20
cm sobre una película de PET (el tejido completo fue fabricado por
Toyo Boseki Kabushiki Kaisha, E5002, grosor de 125 \mum,
tratamiento de deslustrado químico). Después de esto, se evaporó el
aluminio mediante un procedimiento de deposición a vacío con un
grosor de aproximadamente 450 \ring{A} sobre la superficie en la
que el agente de desprendimiento de silicona había sido pulverizado.
La densidad óptica en ese momento era de 2,5.
Ejemplo de referencia
3
Se usó una película de CPP con aluminio
depositado disponible comercialmente (película de polipropileno no
orientado: CHEMILIGHT S fabricado por NAKAI INDUSTRIES CO., LTD.,
grosor de la película: 25 \mum, grosor del aluminio depositado:
430 \ring{A}, densidad óptica: 2,3.
Ejemplo de referencia
4
Se aplicó una solución acuosa de alcohol
polivinílico (GOHSENOL GH-23 fabricado por NIPPON
SYNTHETIC CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD.: grado de saponificación: 88%)
/ copolímero de polietilenglicol y polipropilenglicol (SANFLEX SE
270 fabricado por Sanyo Chemical Industries, Ltd.) / tensioactivo
(EPAN 740 fabricado por Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co.,
Ltd.) / agua pura = 10,0 g / 7,5 g / 0,01 g / 332,5 g a una
película de PET (el tejido completo fue fabricado por Toyo Boseki
Kabushiki Kaisha, E5002, grosor de 125 \mum, con un tratamiento de
deslustrado químico realizado por TOYOCLOTH CO., LTD), que había
sufrido un tratamiento de deslustrado químico con un aplicador en
barra nº 26 y se secó a 100ºC durante 3 minutos formando una
película que tenía un grosor después de secar de 1,8 \mum. Después
se evaporó el aluminio de la superficie de la película mediante un
procedimiento de deposición a vacío con un grosor de aproximadamente
500 \ring{A}. La densidad óptica en ese momento era de 3,0.
Ejemplo de referencia
5
Se aplicó una solución acuosa de alcohol
polivinílico (GOHSENOL KH-20 fabricado por NIPPON
SYNTHETIC CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD.: grado de saponificación: 80%)
/ polietilenglicol nº 600 (fabricado por Nacalai Tesque, Inc.) /
absorbente de rayos UV WF-825 (fabricado por SANNAN
KAGAKU) / agua pura = 2,0 g / 1,0 g / 0,5 g
/ 106,5 g a una película de PET (E5002, el tejido completo fue fabricado por Toyo Boseki Kabushiki Kaisha, grosor de 125 \mum, con un tratamiento de deslustrado químico realizado por TOYOCLOTH CO., LTD), que había sufrido un tratamiento de deslustrado químico con un aplicador en barra nº 26 y se secó a 100ºC durante 3 minutos formando una película que tenía un grosor después de secar de 2 \mum. Después se evaporó el aluminio de la superficie de la película mediante un procedimiento de deposición a vacío con un grosor de aproximadamente 800 \ring{A}. La densidad óptica en ese momento era de 4,5.
/ 106,5 g a una película de PET (E5002, el tejido completo fue fabricado por Toyo Boseki Kabushiki Kaisha, grosor de 125 \mum, con un tratamiento de deslustrado químico realizado por TOYOCLOTH CO., LTD), que había sufrido un tratamiento de deslustrado químico con un aplicador en barra nº 26 y se secó a 100ºC durante 3 minutos formando una película que tenía un grosor después de secar de 2 \mum. Después se evaporó el aluminio de la superficie de la película mediante un procedimiento de deposición a vacío con un grosor de aproximadamente 800 \ring{A}. La densidad óptica en ese momento era de 4,5.
Ejemplo de referencia comparativo
1
Usando los componentes que se muestran en la
Tabla 1 a continuación, se preparó una dispersión que contenía negro
de carbón, alcohol polivinílico (GOHSENOL GH-23
fabricado por NIPPON SYNTHETIC CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD.: grado de
saponificación: 88%) y un plastificador. Esta dispersión se aplicó
sobre una película de PET (grosor de 125 \mum) con un aplicador en
barra nº 26 y se secó a 100ºC durante 3 minutos para evaporar el
agua, obteniendo así una película de recubrimiento no adhesiva
(cantidad recubierta 4,1 g/m^{2} y densidad óptica del área de
radiación actínica 4,8), o una capa de recubrimiento que tenía una
capa para ablación por rayos IR.
Componente | Cantidad añadida (g) | Peso sin agua (g) | Notas |
Solución acuosa al 3% de GH-23 | 53,9 | 36,3 | |
Polietilenglicol nº 400 | 1,13 | 25,4 | Plastificador |
EPAN 740 | 0,004 | 0,09 | Dispersante (tensioactivo) |
Negro de carbón CW1 | 8,5 | 38,2 | Dispersión acuosa al 20% |
Agua destilada | 36,0 | - | |
Negro de carbón CW1: fabricado por Orient Chemical Industries, Ltd. |
Se separó una película protectora de PET químico
mate de una plancha de impresión flexográfica (Cosmolight NEO,
fabricada por Toyo Boseki Kabushiki Kaisha) que consistía en un
soporte de película de PET de 100 \mum de grueso (E5002, fabricado
por Toyo Boseki Kabushiki Kaisha), una capa de resina fotosensible,
una capa de alcohol polivinílico y una película protectora de PET
químico mate, y una capa de alcohol polivinílico por debajo de ésta
se retiró de la capa de resina fotosensible usando una cinta
adhesiva convencional. La superficie con depósito de la película con
depósito de aluminio preparada en el Ejemplo de referencia 1 se
superpuso a la capa de resina fotosensible expuesta y se laminó
usando una máquina de prensado térmico a 100ºC, 100 kg de
peso/cm^{2} proporcionando una plancha que consistía en un soporte
de PET, una capa de resina fotosensible, una capa de depósito de
aluminio, una capa de alcohol polivinílico y una película protectora
de PET químico mate (película de recubrimiento). El grosor total de
esta plancha era de 1,90 mm.
Para la contraexposición para hacer la
profundidad de relieve de una profundidad empleada generalmente de
aproximadamente 8,0 mm, la cara del soporte de PET de la plancha
flexográfica mencionada anteriormente se expuso a la radiación
actínica (fuente de luz: Philips 10R, iluminación a 365 nm 7,5
mW/cm^{2}) durante 20 segundos y se retiró la película protectora
de PET químico mate (película de recubrimiento). En este punto, se
retiró la película protectora (película de recubrimiento) sola y la
capa de alcohol polivinílico y la capa con aluminio depositado
permaneció sobre la capa de resina fotosensible. Esta capa de resina
fotosensible se observó con una lupa (aumento de 10x). Como
resultado no se observaron roturas ni desperfectos en la capa de
alcohol polivinílico ni en la capa con depósito de aluminio. Esta
plancha se enrolló alrededor de un tambor giratorio de Cyrle Digital
Imager Spark (fabricado por BARCO) con la capa de alcohol
polivinílico en la cara superior y la película de PET de soporte en
la cara posterior. Después de someter a vacío, se formó una imagen
con láser de diodos. La emisión del láser de este aparato usado era
de 4,8 mW, la resolución del láser era de 2540 dpi y el diámetro del
punto láser era de 15 \mum. El tambor giratorio giraba a 700 rpm.
Después de la ablación con IR, se extrajo la plancha y se observó
con una lupa (aumento de 10x). Como resultado se había producido la
ablación de la capa con depósito de aluminio sin ningún
problema.
La plancha de impresión de flexografía
fotosensible completa cubierta con una máscara de imagen digital,
que se había sometido a la ablación con IR mencionada anteriormente
se expuso a la radiación actínica durante 8 minutos y después se
reveló a 40ºC durante 6 minutos con una máquina de revelado (Stuck
System) fabricado por Anderson & Vreeland, Inc. Como revelador
se usó agua del grifo a la que se había añadido detergente
lavavajillas Cascade al 1% (fabricado por US Procter & Gamble
Company). Durante el revelado, se eliminaron la capa para ablación
por rayos IR que quedaba (capa con aluminio depositado, capa de
alcohol polivinílico) y las áreas no irradiadas de la capa de
resina fotosensible, dejando el área expuesta a la radiación
actínica. Después del revelado, se secó a 60ºC durante 20 minutos,
se expuso a la radiación actínica durante 5 minutos y finalmente se
expuso a una lámpara germicida durante 5 minutos para eliminar la
adherencia de la superficie.
La plancha de impresión flexográfica terminada se
examinó con una lupa (aumento de 10x). Se observó que todos los
patrones de experimentación de una parte convexa de 2 puntos y
letras cóncavas, línea fina de 30 \mum de ancho, punto aislado de
100 \mum de diámetro y 156 lpi, puntos de medio tono al 1% se
habían formado correctamente.
Un polímero hidrófilo (10,5 partes) obtenido
haciendo reaccionar polietrametilenglicol (10 partes,
G-850, fabricado por Hodoya Chemical Inc.), ácido
dimetilolpropiónico (35 partes, FUJIIGI TSUSHO), diisocianato de
hexametileno (25 partes, fabricado por NIPPON POLYURETHANE INDUSTRY
CO, LTD.), metacrilato de hidroxietilo (10 partes), acrilonitrilo
que contenía grupos amino y oligómero de butadieno (35 partes,
Hycar ATBNX 1300 x 16, UBE INDUSTRIES LTD.), goma de nitrilo y
butadieno (acrilonitrilo: 35%) (NIPOL-1042, 33
partes, fabricado por ZEON CORPORATION), goma de butadieno (22
partes, JSR BROLLL), oligoacrilato de butadieno (29 partes,
PB-A, fabricado por KYOEISHA CHEMICAL Co., LTD),
dimetacrilato de 1,6-hexanodiol (3 partes), como
fotoiniciador, bencildimetilcetal (1 parte) y monometiléter de
hidroquinona (0,1 partes), tolueno (40 partes) y agua (10 partes) se
tejió en una tejedora calefactora a 70ºC. El disolvente se evaporó
a presión reducida proporcionando una composición de resina
fotosensible. Se superpusieron una película que comprendía una
película de tereftalato de polietileno de 125 \mum de grueso y
esta composición de resina fotosensible aplicada sobre ella con un
adhesivo de poliéster y la superficie con depósito de la película
con depósito de aluminio preparada en el Ejemplo de referencia 1 se
superpusieron y se presionaron con calor en una máquina de prensa
térmica a 100ºC, 100 kg de peso/cm^{2} proporcionando una plancha
que consistía en un soporte de PET, una capa de resina fotosensible,
una capa con depósito de aluminio, una capa de alcohol polivinílico
y una capa protectora de PET químico mate (película de
recubrimiento). El grosor total de esta plancha era de 1,95 mm (1,70
mm para la capa de resina fotosensible).
Del mismo modo que en el Ejemplo 1, el laminado
de resina fotosensible obtenido se sometió a ablación mediante rayos
IR. Como resultado, el radio del punto de medio tono al 1% de 156
lpi era de 9,5 \mum de media. A partir de aquí, la ablación se
repitió del mismo modo sin cambiar la emisión del láser pero después
de cambiar el número de rotación a 700 rpm y se midió el tamaño del
punto de medio tono. Como resultado, el tamaño era de 9,9 \mum y
el cambio porcentual del radio del punto de medio tono por unidad
de energía era de 4,70%.
La elaboración de las planchas a partir de ahí
del mismo modo que en el Ejemplo 1 proporcionó una plancha
flexográfica que mostraba una reproducibilidad de imagen similar a
la del Ejemplo 1.
Una película protectora de PET se peló de una
plancha de impresión en relieve de resina fotosensible (Printight
EF95GC, fabricada por Toyo Boseki Kabushiki Kaisha) que consistía en
un soporte de película de PET de 100 \mum de grueso (E5002,
fabricado por Toyo Boseki Kabushiki Kaisha), una capa de resina
fotosensible, una capa de alcohol polivinílico y una capa protectora
de PET y la capa de alcohol polivinílico por debajo de ésta se
retiró de la capa de resina fotosensible usando una cinta adhesiva
convencional. La superficie con depósito de la película con depósito
de aluminio preparada en el Ejemplo de referencia 1 se superpuso a
la capa de resina fotosensible expuesta y se laminó usando una
máquina de prensa térmica a 100ºC, 100 kg de peso/cm^{2} durante 1
minuto proporcionando una plancha que consistía en un soporte de
PET, una capa de resina fotosensible, una capa con depósito de
aluminio, una capa de alcohol polivinílico y una capa protectora de
PET químico mate (película de recubrimiento). El grosor total de
esta plancha era de 1,05 mm.
A partir de ahí, la ablación de la plancha
obtenida se realizó del mismo modo pero no se realizó la contra
exposición y toda la plancha de impresión de relieve de resina
fotosensible cubierta con una máscara de imagen digital, que se
había sometido a la ablación por rayos IR mencionada anteriormente,
se expuso a radiación actínica durante 2 minutos y después se reveló
a 25ºC durante 2 minutos con una máquina reveladora
(JEM-A2, fabricada por NIHON DENSHI SEIKI CO.,
LTD.). Como revelador se usó agua del grifo. Durante el revelado, se
eliminaron la capa para ablación por rayos IR que quedaba (capa con
aluminio depositado, capa de alcohol polivinílico) y las áreas no
irradiadas de la capa de resina fotosensible, dejando el área
expuesta a la radiación actínica. Después del revelado, la plancha
se secó a 70ºC durante 10 minutos, se expuso a la radiación actínica
durante 3 minutos.
La plancha de impresión de relieve de resina
terminada se examinó con una lupa (aumento de 10x). No se observó
velado y se observó que todos los patrones de experimentación de una
parte convexa de 2 puntos y letras cóncavas, línea fina de 30 \mum
de ancho, punto aislado de 100 \mum de diámetro y 156 lpi, puntos
de medio tono al 1% se habían formado correctamente.
Una sal de nylon (390 partes en peso) de
\varepsilon-caprolactamo (610 partes en peso),
aminoetilpiperacina y ácido adípico se polimerizaron por fusión
proporcionando una poliamida copolimerizada. La poliamida obtenida
de este modo (50 partes) se disolvió en metanol (200 partes) y agua
(24 partes) y se añadieron ácido itacónico (4 partes), ácido adípico
(4 partes), aducto de diglicidiléter de bisfenol A y ácido acrílico
(32 partes),
N-etil-p-toluenosulfonamida
(8 partes), hidroquinona monometiléter (0,1 partes) y
bencildimetilcetal (1 parte) a esta disolución proporcionando una
solución de composición de resina fotosensible. Esta solución se
administró a una máquina concentradora y se concentró a 110ºC
logrando un contenido en disolvente residual de la capa de resina
fotosensible de 5% y una relación entre metanol y agua de 6:4, que
se intercaló entre una película de PET de 250 \mum de grueso
recubierta con un adhesivo de 20 \mum de grueso y una película que
tenía la capa para ablación por rayos IR del Ejemplo de referencia
1 y se formaron por fusión a 110ºC proporcionando una plancha
flexográfica fotosensible que tenía una capa de resina fotosensible
de 680 \mum de grueso. Se midió el alabeo de esta plancha y se
encontró que era de 0% antes de la exposición a la radiación
actínica y de 10% de cambio alabeo después de la exposición a la
radiación actínica. Se eliminó la película de cubierta de esta
plancha y la capa para ablación por rayos IR, después de grabar una
imagen, se expuso a la radiación actínica durante 3 minutos sin
despresurización. La plancha se reveló con agua neutra a 25ºC
durante 2 minutos y se desecó a 70ºC durante 10 minutos. La resina
fotosensible obtenida mostró una sensibilidad de 14 puntos y la
dureza de la resina por Shore D era de 57. La reproducibilidad de la
imagen de la materia de impresión fue satisfac-
toria.
toria.
Del mismo modo que en el Ejemplo 1 pero usando la
capa con depósito de aluminio que se obtuvo en el Ejemplo de
referencia 2, se obtuvo una plancha de impresión flexográfica. La
plancha de impresión flexográfica obtenida se examinó con una lupa
(aumento de 10x). No se observó velado y se observó que todos los
patrones de experimentación de una parte convexa de 2 puntos y
letras cóncavas, línea fina de 30 \mum de ancho, punto aislado de
100 \mum de diámetro y 156 lpi, puntos de medio tono al 1% se
habían formado correctamente.
Del mismo modo que en el Ejemplo 3 pero usando la
capa con depósito de aluminio que se obtuvo en el Ejemplo de
referencia 2, se obtuvo una plancha de relieve de resina
fotosensible. La plancha de relieve obtenida se examinó con una
lupa (aumento de 10x). No se observó velado y se observó que todos
los patrones de experimentación de una parte convexa de 2 puntos y
letras cóncavas, línea fina de 30 \mum de ancho, punto aislado de
100 \mum de diámetro y 156 lpi,
puntos de medio tono al 1% se habían formado correctamente.
puntos de medio tono al 1% se habían formado correctamente.
Del mismo modo que en el Ejemplo 1 pero usando la
capa de papel de aluminio que se obtuvo en el Ejemplo de referencia
3, se obtuvo una plancha de impresión flexográfica. La plancha de
impresión flexográfica obtenida se examinó con una lupa (aumento de
10x). No se observó velado y se observó que todos los patrones de
experimentación de una parte convexa de 2 puntos y letras cóncavas,
línea fina de 30 \mum de ancho, punto aislado de 100 \mum de
diámetro y 156 lpi, puntos de medio tono al 1% se habían formado
correctamente.
Del mismo modo que en el Ejemplo 3 pero usando la
capa de papel de aluminio que se obtuvo en el Ejemplo de referencia
3, se obtuvo una plancha de relieve de resina fotosensible. La
plancha de relieve obtenida se examinó con una lupa (aumento de
10x). No se observó velado y se observó que todos los patrones de
experimentación de una parte convexa de 2 puntos y letras cóncavas,
línea fina de 30 \mum de ancho, punto aislado de 100 \mum de
diámetro y 156 lpi, puntos de medio tono al 1% se habían formado
correctamente.
Del mismo modo que en el Ejemplo 1 pero usando la
capa con depósito de aluminio que se obtuvo en el Ejemplo de
referencia 4, se obtuvo una plancha de impresión flexográfica. Se
peló la película de PET mate químico de la plancha obtenida, se
enrolló alrededor de un tambor de metal cilíndrico con la capa de
alcohol polivinílico en la parte exterior y el soporte de la
película de PET en la cara interior, se desenrolló, y se colocó
sobre una superficie plana. El radio de curvatura para la aparición
de arrugas no fue superior a 5 cm.
La ablación por rayos IR y la elaboración de la
plancha se aplicó del mismo modo que en el Ejemplo 1 proporcionando
una plancha de impresión flexográfica. La plancha de impresión
obtenida se examinó con una lupa (aumento de 10x). No se observó
velado y se observó que todos los patrones de experimentación de una
parte convexa de 2 puntos y letras cóncavas, línea fina de 30 \mum
de ancho, punto aislado de 100 \mum de diámetro y 156 lpi, puntos
de medio tono al 1% se habían formado correctamente.
Del mismo modo que en el Ejemplo 1 pero usando la
capa con depósito de aluminio que se obtuvo en el Ejemplo de
referencia 5, se obtuvo una plancha de impresión flexográfica. La
plancha flexográfica obtenida se sometió a ablación por rayos IR y
elaboración de la plancha del mismo modo que el Ejemplo 1
proporcionando una plancha de impresión flexográfica. Se confirmó
que la latitud de exposición en la etapa de elaboración de la
plancha había aumentado comparada con el Ejemplo 1. La plancha de
impresión flexográfica obtenida se examinó con una lupa (aumento de
10x). No se observó velado y se observó que todos los patrones de
experimentación de una parte convexa de 2 puntos y letras cóncavas,
línea fina de 30 \mum de ancho, punto aislado de 100 \mum de
diámetro y 156 lpi, puntos de medio tono al 1% se habían formado
correctamente.
Del mismo modo que en el Ejemplo 3 pero usando la
capa con depósito de aluminio que se obtuvo en el Ejemplo de
referencia 5, se obtuvo una plancha de relieve de resina
fotosensible. La plancha de relieve obtenida se sometió a ablación
por rayos IR y elaboración de la plancha del mismo modo que el
Ejemplo 2 proporcionando una plancha de relieve de resina
fotosensible. Se confirmó que la latitud de exposición de la plancha
de impresión obtenida en la etapa de elaboración de la plancha había
aumentado comparada con el Ejemplo 2. La plancha de relieve de
resina obtenida se examinó con una lupa (aumento de 10x). No se
observó velado y se observó que todos los patrones de
experimentación de una parte convexa de 2 puntos y letras cóncavas,
línea fina de 30 \mum de ancho, punto aislado de 100 \mum de
diámetro y 156 lpi, puntos de medio tono al 1% se habían formado
correctamente.
La plancha de impresión flexográfica obtenida se
examinó con una lupa (aumento de 10x). No se observó velado y se
observó que todos los patrones de experimentación de una parte
convexa de 2 puntos y letras cóncavas, línea fina de 30 \mum de
ancho, punto aislado de 100 \mum de diámetro y 156 lpi, puntos de
medio tono al 1% se habían formado correctamente.
Ejemplo comparativo
1
Del mismo modo que en el Ejemplo 1, pero usando
la capa para ablación por rayos IR que contenía negro de carbón
obtenida en el Ejemplo de referencia 1 comparativo, se obtuvo una
plancha flexográfica.
Después, se peló la película de PET, que era una
película de recubrimiento de la plancha obtenida y, del mismo modo
que en el Ejemplo 1, se examinó la capa para ablación por rayos IR
ampliando con una lupa (aumento de 10x) antes de la exposición a la
radiación actínica. Como resultado se observó una rotura parcial y
numerosos desperfectos. El cambio porcentual del radio del punto de
medio tono por unidad de energía fue de hasta el 33,90%.
Del mismo modo que en el Ejemplo 1, la plancha se
reveló después de la exposición a la radiación actínica. Como
resultado, el revelador se manchó con una gran cantidad de negro de
carbón y el revelador no pudo usarse para la producción de la
plancha siguiente. La plancha de impresión flexográfica terminada se
examinó con una lupa (aumento de 10x). Como resultado se encontraron
pequeñas partes convexas y partes defectuosas del relieve distintas
de las de la imagen deseada debido al efecto de los desperfectos que
se produjeron en la capa para ablación por rayos IR mencionada
anteriormente y la reproducibilidad de la imagen fue deficiente.
Ejemplo comparativo
2
Del mismo modo que en el Ejemplo 3, pero usando
la capa para ablación por rayos IR que contenía negro de carbón
obtenida en el Ejemplo de referencia 1 comparativo, se obtuvo una
plancha de relieve de resina fotosensible.
Después, se peló la película de PET, que era una
película de recubrimiento de la plancha obtenida y, del mismo modo
que en el Ejemplo 1, se examinó la capa para ablación por rayos IR
ampliando con una lupa (aumento de 10x) antes de la exposición a la
radiación actínica. Como resultado se observó una rotura parcial y
numerosos desperfectos.
Del mismo modo que en el Ejemplo 2, la plancha se
reveló después de la exposición a la radiación actínica. Como
resultado, el revelador se manchó con una gran cantidad de negro de
carbón y el revelador no pudo usarse para la producción de la
plancha siguiente. La plancha de impresión de relieve de resina
terminada se examinó con una lupa (aumento de 10x). Como resultado
se encontraron pequeñas partes convexas y partes defectuosas del
relieve distintas de las de la imagen deseada debido al efecto de
los desperfectos que se produjeron en la capa para ablación por
rayos IR mencionada anteriormente y la reproducibilidad de la imagen
fue deficiente.
Como queda claro a partir de las explicaciones
anteriores, de acuerdo con la presente invención, pueden evitarse
roturas y desperfectos de la capa para ablación por rayos IR
provocadas por el pelado de una película de recubrimiento. Por lo
tanto, puede formarse una máscara de alta precisión que, a su vez,
proporciona una plancha de impresión que proporciona imágenes
impresas de alta calidad. Además, debido a un menor manchado del
revelador durante el revelado, puede realizarse el revelado sucesivo
de varias planchas. Por lo tanto, la presente invención contribuye
considerablemente a la industria.
Claims (15)
1. Un laminado de resina fotosensible que
comprende un soporte, una capa de resina fotosensible, una capa para
ablación por rayos IR y una película de recubrimiento, en la que la
capa para ablación por rayos IR comprende una capa que consiste
esencialmente en un metal que absorbe rayos IR, la capa de metal que
absorbe los rayos IR está en contacto con la capa de resina
fotosensible y la capa de metal que absorbe los rayos IR tiene un
grosor de 430 \ring{A} - 20.000 \ring{A}.
2. El laminado de resina fotosensible de la
reivindicación 1, en el que la capa para ablación por rayos IR es
una capa aluminizada.
3. El laminado de resina fotosensible de la
reivindicación 1, que además comprende una capa de resina polimérica
sensible a los rayos IR entre la capa de metal que absorbe los rayos
IR y la película de recubrimiento.
4. El laminado de resina fotosensible de la
reivindicación 3, en el que la capa de resina polimérica no sensible
a los rayos IR puede recibir un agente opaco no transparente a la
radiación actínica.
5. El laminado de resina fotosensible de la
reivindicación 3, en el que la capa de resina polimérica no sensible
a los rayos IR contiene un absorbente de rayos UV.
6. El laminado de resina fotosensible de la
reivindicación 1, en el que la capa para ablación por rayos IR tiene
una densidad óptica no inferior a 2,0.
7. El laminado de resina fotosensible de la
reivindicación 1, que muestra una proporción de cambio del radio de
un punto de medio tono tras la ablación por IR no superior a
\pm30% por unidad de energía (J/cm^{2}).
8. El laminado de resina fotosensible de la
reivindicación 1, que es una plancha fotosensible.
9. El laminado de resina fotosensible de la
reivindicación 1, que es una plancha flexográfica fotosensible.
10. El laminado de resina fotosensible de la
reivindicación 9, en el que no se producen arrugas cuando un radio
de curvatura no es superior a 5 cm.
11. El laminado de resina fotosensible de la
reivindicación 9, que además comprende una capa de resina polimérica
no sensible a los rayos IR entre la capa de metal que absorbe los
rayos IR y la capa de recubrimiento y en el que la capa de resina
polimérica no sensible a los rayos IR comprende un polímero soluble
en agua y un plastificador.
12. El laminado de resina fotosensible de la
reivindicación 1, en el que el laminado de resina fotosensible es
una plancha tipográfica fotosensible.
13. El laminado de resina fotosensible de la
reivindicación 12, en el que la capa de resina fotosensible
comprende una composición que comprende un ligante polimérico, un
compuesto etilénicamente insaturado y un fotoiniciador, el laminado
de resina fotosensible muestra una tasa de alabeo de \pm2% antes
de la exposición a la radiación actínica y un cambio en el alabeo
tras la exposición a la radiación actínica no es superior a
15%.
14. El laminado de resina fotosensible de la
reivindicación 12, en el que la capa de resina fotosensible tiene
un contenido en disolvente residual de 3 - 10%.
15. Un laminado de resina fotosensible que
comprende un soporte, una capa de resina fotosensible, una capa para
ablación por rayos IR y una película de recubrimiento, en la que la
capa para ablación por rayos IR comprende una capa que consiste
esencialmente en un metal que absorbe rayos IR, la capa de metal que
absorbe los rayos IR está en contacto con la capa de resina
fotosensible y la capa de metal que absorbe los rayos IR tiene un
grosor de 430 \ring{A} - 20.000 \ring{A} que además comprende
una capa de resina polimérica no sensible a los rayos IR entre la
capa de metal que absorbe los rayos IR y la película de
recubrimiento, en el que la capa de resina polimérica no sensible a
los rayos IR contiene un absorbente de rayos UV.
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