EP2009648A1 - Heiz- und/oder Kühlvorrichtung mit mehreren Schichten - Google Patents

Heiz- und/oder Kühlvorrichtung mit mehreren Schichten Download PDF

Info

Publication number
EP2009648A1
EP2009648A1 EP20080015360 EP08015360A EP2009648A1 EP 2009648 A1 EP2009648 A1 EP 2009648A1 EP 20080015360 EP20080015360 EP 20080015360 EP 08015360 A EP08015360 A EP 08015360A EP 2009648 A1 EP2009648 A1 EP 2009648A1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
electrically conductive
heating
cooling device
layer
resistance
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
EP20080015360
Other languages
English (en)
French (fr)
Other versions
EP2009648B1 (de
Inventor
Elias Russegger
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Watlow Electric Manufacturing Co
Original Assignee
Watlow Electric Manufacturing Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=7709725&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=EP2009648(A1) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Watlow Electric Manufacturing Co filed Critical Watlow Electric Manufacturing Co
Publication of EP2009648A1 publication Critical patent/EP2009648A1/de
Application granted granted Critical
Publication of EP2009648B1 publication Critical patent/EP2009648B1/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Revoked legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
    • C23C4/01—Selective coating, e.g. pattern coating, without pre-treatment of the material to be coated
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C24/00—Coating starting from inorganic powder
    • C23C24/02—Coating starting from inorganic powder by application of pressure only
    • C23C24/04—Impact or kinetic deposition of particles
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C30/00—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
    • C23C4/04—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the coating material
    • C23C4/06—Metallic material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
    • C23C4/04—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the coating material
    • C23C4/06—Metallic material
    • C23C4/08—Metallic material containing only metal elements
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
    • C23C4/12—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
    • C23C4/14—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying for coating elongate material
    • C23C4/16—Wires; Tubes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
    • C23C4/18—After-treatment
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24H—FLUID HEATERS, e.g. WATER OR AIR HEATERS, HAVING HEAT-GENERATING MEANS, e.g. HEAT PUMPS, IN GENERAL
    • F24H1/00—Water heaters, e.g. boilers, continuous-flow heaters or water-storage heaters
    • F24H1/10—Continuous-flow heaters, i.e. heaters in which heat is generated only while the water is flowing, e.g. with direct contact of the water with the heating medium
    • F24H1/12—Continuous-flow heaters, i.e. heaters in which heat is generated only while the water is flowing, e.g. with direct contact of the water with the heating medium in which the water is kept separate from the heating medium
    • F24H1/14—Continuous-flow heaters, i.e. heaters in which heat is generated only while the water is flowing, e.g. with direct contact of the water with the heating medium in which the water is kept separate from the heating medium by tubes, e.g. bent in serpentine form
    • F24H1/142—Continuous-flow heaters, i.e. heaters in which heat is generated only while the water is flowing, e.g. with direct contact of the water with the heating medium in which the water is kept separate from the heating medium by tubes, e.g. bent in serpentine form using electric energy supply
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01C—RESISTORS
    • H01C17/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
    • H01C17/22—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for trimming
    • H01C17/24—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for trimming by removing or adding resistive material
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01C—RESISTORS
    • H01C17/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
    • H01C17/22—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for trimming
    • H01C17/24—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for trimming by removing or adding resistive material
    • H01C17/245—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for trimming by removing or adding resistive material by mechanical means, e.g. sand blasting, cutting, ultrasonic treatment
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B3/00—Ohmic-resistance heating
    • H05B3/40—Heating elements having the shape of rods or tubes
    • H05B3/42—Heating elements having the shape of rods or tubes non-flexible
    • H05B3/46—Heating elements having the shape of rods or tubes non-flexible heating conductor mounted on insulating base
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00—Metal working
    • Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002—Electrical device making
    • Y10T29/49082—Resistor making
    • Y10T29/49083—Heater type
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00—Metal working
    • Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002—Electrical device making
    • Y10T29/49082—Resistor making
    • Y10T29/49099—Coating resistive material on a base

Definitions

  • the invention initially relates to a method for producing an electrically conductive resistance layer, in which an electrically conductive material is applied by means of thermal spraying on a non-conductive substrate.
  • Such a method is from the DE 198 10 848 A1 known.
  • a heating element is described, which is produced by applying band-shaped layers of an electrically conductive and a resistance-forming material on surfaces of a substrate by means of arc sputtering or by plasma spraying.
  • a release liner is previously applied to the substrate by means of a printing process.
  • the separating layer is made of such a material that in those places of the Substrate on which the separation layer is present, the electrically conductive material does not adhere.
  • the known method has the disadvantage that it is relatively complicated and therefore the parts with the electrically conductive resistance layers are relatively expensive. In addition, only more or less flat parts can be provided with an electrically conductive layer with the known method.
  • the present invention therefore has the object of developing a method of the type mentioned so that the production of an electrically conductive layer on a substrate easier and cheaper possible and also complex shaped objects can be provided with such an electrically conductive resistance layer.
  • the electrically conductive material of which the resistance layer is made is applied flat and generally uniformly on the non-conductive substrate.
  • the application by means of thermal spraying ensures a high adhesion of the electrical conductive material on the non-conductive substrate.
  • a variety of materials can be applied quickly and very evenly in this way on the non-conductive substrate.
  • the applied electrically conductive material is removed at certain points by means of a suitable device.
  • a complex shaping of the electrically conductive layer is made possible in only two steps.
  • the partial removal of the material layer takes place by means of laser radiation or by means of a water jet or by means of a powder sandblast.
  • the material When using laser radiation, the material is heated so much that it evaporates.
  • the use of a laser beam has the advantage that with him very quickly very high energies can be coupled into the electrically conductive material, so that it evaporates immediately.
  • This instantaneous evaporation of the electrically conductive material ensures that only comparatively little heat is coupled into the substrate present under the electrically conductive material. This is therefore not damaged in the method according to the invention.
  • the evaporation has the advantage over incineration that essentially no residues remain in the evaporated areas on the substrate and so their insulation is very good.
  • the electrical resistance of the electrically conductive resistance layer is detected at least indirectly during the area-wise removal of the material layer. In this way, a precise quality control is already possible directly during the production of the electrically conductive layer.
  • an actual value of the electrical resistance of the electrically conductive resistance layer is compared with a desired value and the electrical resistance of the electrically conductive layer is changed by removal of additional electrically conductive material in regions such that the difference between the actual value and the desired value is reduced.
  • Such deviations may, for example, be caused by the fact that different amounts of the electrically conductive material reach the substrate during spraying of the thermally conductive material so that the resulting electrically conductive layer has a different thickness at one point than at another location.
  • deviations of the actual value of the electrical resistance of the electrically conductive layer from the desired value can be compensated for with an accuracy of +/- 1%.
  • the partial removal of additional electrically conductive material may include a shortening or lengthening of the electrically conductive layer and / or the variation of the width of the electrically conductive layer.
  • the material layer is removed in such a way that a desired melting point in the sense of a fuse is produced at at least one point of the electrically conductive layer.
  • a desired melting point in the sense of a fuse is produced at at least one point of the electrically conductive layer.
  • Such integrated fuse increases the safety when using the electrically conductive resistance layer.
  • the fuse can be integrated into the electrically conductive resistance layer virtually without additional costs and additional time.
  • the material layer is removed in such a way that the electrically conductive resistance layer is at least partially meandering. This allows the formation of the longest electrically conductive resistive layer on a small area.
  • the electrically conductive material preferably comprises bismuth, tellurium, germanium, silicon and / or Gallium arsenide. These materials have proved to be particularly favorable for the application by means of thermal spraying and the subsequent processing by means of laser radiation. In addition, with these materials, the relevant known technical effects can be realized.
  • Plasma spraying, high-speed flame spraying, arc spraying, autogenous spraying, laser spraying or cold gas spraying has proved to be advantageous for the application of the electrically conductive material to the substrate.
  • the electrically conductive material is applied in this way and the material layer is partially removed in such a way and comprises such a material that an electrical heating or an electrical cooling layer is formed.
  • the "Peltier effect" is advantageously utilized.
  • the local electrical resistance of the electrically conductive resistance layer is adjusted by a local heat treatment.
  • a local heat treatment By heating locally oxides can be registered in the layer, which has an effect on the local electrical conductivity of the material. This allows a special precise and fine adjustment of the electrical resistance.
  • the electrically conductive resistance layer is sealed.
  • This has advantages in particular with a porous substrate (for example metal with Al 2 O 3 intermediate layer). Sealing reduces the risk of electrical breakdown due to Humidity, especially at high voltage.
  • a material for sealing silicone, polyimide, or water glass the latter on sodium or potassium-based. The application can be done by dipping, spraying, brushing, etc. The seal of the seal is best when the sealant layer is applied under vacuum.
  • non-conductive substrate is also glass or glass ceramic in question.
  • the electrical resistance layer can be applied permanently, especially by plasma spraying.
  • the good insulating effect of glass makes grounding in the operation of the resistive layer superfluous.
  • special high-temperature glass such as Ceranglas (R).
  • the invention also relates to a heating and / or cooling device with a non-conductive substrate and an applied to the substrate by thermal spraying electrically conductive resistance layer.
  • the production costs for such a heating and / or cooling device can be reduced if the resistance layer comprises an electrically conductive material initially applied by thermal spraying, which was then removed in regions by means of laser radiation and thus brought into a desired shape.
  • FIG. 1 and 2 shows the production of a tubular water heater:
  • an electrically conductive material layer 14 is applied to a tube 12 made of a high-temperature resistant and an electrical insulator material ( Fig. 1 ).
  • the application takes place in the present exemplary embodiment by means of a device 16, with which germanium particles 18 are sprayed onto the tube 12.
  • the application is carried out by cold gas spraying (also "gas-dynamic Powder coatings called ").
  • the unmelted germanium particles are accelerated to speeds of about 300 - 1,200 m / s and sprayed onto the tube 12.
  • the germanium particles 18 and also the surface of the tube 12 deform.
  • the impact breaks up surface oxides on the surface of the tube 12. Micro-friction due to the impact increases the temperature at the contact surface and leads to micro-welds.
  • the acceleration of the germanium particles 18 takes place by means of a delivery gas, the temperature of which can be slightly increased.
  • the germanium powder 18 in no case reaches its melting temperature, the temperatures arising at the surface of the tube 12 are relatively moderate, so that, for example, a comparatively inexpensive plastic material for the tube 12 can be used.
  • plasma spraying, high-speed flame spraying, arc spraying, autogenous spraying or laser spraying for applying the electrically conductive material to the substrate can also be used instead of the cold gas spraying.
  • germanium, bismuth, tellurium, silicon and / or gallium arsenide are also suitable, depending on the desired technical effect.
  • the coating of the tube 12 with the germanium particles 18 is carried out initially so that gradually the entire surface of the tube 12 is covered with the germanium material layer 14 (see. Fig.1 ).
  • this material layer 14 does not yet have the desired shape:
  • an electrically conductive resistance layer must be made, which extends in the manner of a spiral in the circumferential direction around the tube 12. This will, as out Fig. 2 It can be seen, by means of a laser device 20, a laser beam 22 directed to the still "shapeless" material layer 14, that a spirally around the tube 12 extending portion 24 is created in which the sprayed electrically conductive material 14 is no longer present.
  • the laser device 20 on the one hand and a device, not shown in the figure, with which the tube 12 is held, are thereby moved so that a continuous working process by the laser device 20 is possible.
  • the actual electrical resistance WIST (see. Fig. 5 ) of the electrically conductive resistance layer 26 is less than the desired per se electrical resistance WSOLL.
  • the in Fig. 4 The lower connecting region 34 of the electrically conductive resistance layer 26 is therefore processed by the laser beam so that its width decreases, so that additional material is evaporated.
  • the electrically conductive resistance layer 26 extends by a dimension d1 (cf. Fig. 4 and 5 ) and, as a result, the actual electrical resistance WIST increases until it approximately corresponds to the desired resistance WSOLL.
  • the final position of the boundary line of the lower electrical connection 34 carries in Fig. 4 the reference numeral 42.
  • the electrically insulating intermediate layer 46 is applied in the further course of the manufacturing process. Then the process described above is repeated, i. H. again electrically conductive material is applied by means of thermal spraying onto the non-conductive intermediate layer 46 in such a way that a second material layer formed therefrom substantially does not yet have the desired shape. This is then processed by laser radiation and partially evaporated (reference numeral 24b) such that a second electrically conductive resistance layer (26b) is formed in the desired shape.
  • the material of the electrically conductive layer is selected such that instead of an electrical heating layer, an electrical cooling layer is formed.
  • the temperature of the heating layer is monitored by a ceramic switch.
  • a ceramic switch This is understood to mean a non-mechanical switch which has an element whose conductivity depends to a considerable extent on its temperature.
  • a bimetal switch can be used.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Coating By Spraying Or Casting (AREA)
  • Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
  • Resistance Heating (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)

Abstract

Eine Heiz- und/oder Kühlvorrichtung (28) umfasst mehrere Schichten, die durch thermisches Spritzen aufgebracht sind, wobei die Schichten einen nicht leitenden Untergrund (12), eine elektrisch leitende Widerstandsschicht (26; 26a; 26b) und eine elektrische Isolierschicht (46) umfassen. Es wird vorgeschlagen, dass die elektrisch leitende Widerstandsschicht (26; 26a; 26b) auf den nicht leitenden Untergrund (12) aufgebracht ist und ein elektrisch leitendes Material (14) aufweist, das zunächst durch Plasmaspritzen, Hochgeschwindigkeitsflammspritzen, Lichtbogenspritzen, Autogenspritzen, Laserspritzen oder Kaltgasspritzen aufgebracht ist und anschließend bereichsweise so entfernt wurde, dass eine gewünschte Form entsteht, und die elektrische Isolierschicht (46) auf der elektrisch leitende Widerstandsschicht (26; 26a; 26b) aufgebracht ist.

Description

  • Die Erfindung betrifft zunächst ein Verfahren zum Herstellen einer elektrisch leitenden Widerstandsschicht, bei dem ein elektrisch leitendes Material mittels thermischem Spritzen auf einen nicht leitenden Untergrund aufgebracht wird.
  • Ein solches Verfahren ist aus der DE 198 10 848 A1 bekannt. In dieser ist ein Heizelement beschrieben, welches dadurch hergestellt wird, dass auf Oberflächen eines Substrats mittels Lichtbogenzerstäubung oder im Plasmaspritzverfahren bandförmige Schichten aus einem elektrisch leitenden und einen Widerstand bildenden Material aufgetragen werden. Um die gewünschte Form der elektrisch leitenden Schicht zu erzielen, wird zuvor mittels eines Printverfahrens eine Trennlage auf das Substrat aufgebracht. Die Trennlage ist aus einem solchen Material, dass an jenen Stellen des Substrats, an denen die Trennlage vorhanden ist, das elektrisch leitende Material nicht anhaftet.
  • Das bekannte Verfahren hat den Nachteil, dass es relativ aufwändig ist und daher die Teile mit den elektrisch leitenden Widerstandsschichten vergleichsweise teuer sind. Darüber hinaus können mit dem bekannten Verfahren nur mehr oder weniger ebene Teile mit einer elektrisch leitenden Schicht versehen werden.
  • Die vorliegende Erfindung hat daher die Aufgabe, ein Verfahren der eingangs genannten Art so weiterzubilden, dass die Herstellung einer elektrisch leitenden Schicht auf einem Untergrund einfacher und preiswerter möglich ist und auch komplex geformte Gegenstände mit einer derartigen elektrisch leitenden Widerstandsschicht versehen werden können.
  • Diese Aufgabe wird bei einem Verfahren der eingangs genannten Art dadurch gelöst, dass das elektrisch leitende Material flächig derart aufgebracht wird, dass eine hieraus entstandene Materialschicht zunächst im Wesentlichen noch keine gewünschte Form aufweist und danach die Materialschicht bereichsweise derart entfernt wird, dass eine elektrisch leitende Widerstandsschicht entsteht, welche im Wesentlichen die gewünschte Form hat.
  • Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren ist keine spezielle Vorbehandlung erforderlich, um die gewünschte Form der elektrisch leitenden Widerstandsschicht zu erhalten. Stattdessen wird zunächst das elektrisch leitende Material, aus dem die Widerstandsschicht besteht, flächig und im Allgemeinen gleichmäßig auf dem nicht leitenden Untergrund aufgebracht. Die Aufbringung mittels thermischem Spritzen sorgt dabei für eine hohe Anhaftung des elektrisch leitenden Materials auf dem nicht leitenden Untergrund. Darüber hinaus können die unterschiedlichsten Materialien schnell und sehr gleichmäßig auf diese Art und Weise auf dem nicht leitenden Untergrund aufgebracht werden.
  • Danach wird mittels einer geeigneten Einrichtung das aufgebrachte elektrisch leitende Material an bestimmten Stellen entfernt. Hierdurch wird auch eine komplexe Formgebung der elektrisch leitenden Schicht in nur zwei Arbeitsschritten ermöglicht.
  • Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung sind in Unteransprüchen angegeben.
  • Zunächst wird vorgeschlagen, dass das bereichsweise Entfernen der Materialschicht mittels Laserstrahlung oder mittels eines Wasserstrahls oder mittels eines Pulver-Sandstrahls erfolgt.
  • Bei der Verwendung von Laserstrahlung wird das Material so stark erhitzt, dass es verdampft. Die Verwendung eines Laserstrahls hat dabei den Vorteil, dass mit ihm sehr rasch sehr hohe Energien in das elektrisch leitende Material eingekoppelt werden können, so dass dieses sofort verdampft. Durch diese augenblickliche Vedampfung des elektrisch leitenden Materials wird sichergestellt, dass nur vergleichsweise wenig Wärme in den unter dem elektrisch leitenden Material vorhandenen Untergrund eingekoppelt wird. Dieser wird bei dem erfindungsgemäßen Verfahren also nicht beschädigt. Das Abdampfen hat gegenüber dem Verbrennen den Vorteil, dass im Wesentlichen keine Rückstände in den abgedampften Bereichen auf dem Untergrund verbleiben und so deren Isolierwirkung sehr gut ist.
  • Durch eine entsprechende Optik der Vorrichtung, welche den Laserstrahl aussendet, kann dieser in beinahe beliebiger Weise auf das herzustellende Werkstück gerichtet werden. Somit können zum einen beliebig komplexe Konturen aus dem aufgespritzten elektrisch leitenden Material herausgedampft werden, so dass entsprechend komplex konturierte elektrische Widerstandsschichten hergestellt werden können. Zum anderen können aber auch solche Werkstücke bearbeitet werden, welche selbst dreidimensional komplex gestaltet sind. In insgesamt nur zwei Arbeitsschritten kann somit eine elektrisch leitende Widerstandsschicht mit komplexer Geometrie hergestellt werden.
  • Bei der Verwendung eines Wasserstrahls wird überhaupt keine thermische Energie in das Werkstück eingekoppelt. Dies ist besonders bei der Bearbeitung wärmeempfindlicher Kunststoffe vorteilhaft. Gleiches gilt auch für die Verwendung von Pulver-Sandstrahlen.
  • In einer anderen besonders bevorzugten Weiterbildung des erfindungsgemäßen Verfahrens wird vorgeschlagen, dass während des bereichsweisen Entfernens der Materialschicht der elektrische Widerstand der elektrisch leitenden Widerstandsschicht wenigstens mittelbar erfasst wird. Auf diese Weise ist bereits unmittelbar während der Herstellung der elektrisch leitenden Schicht eine präzise Qualitätskontrolle möglich.
  • In Weiterbildung hierzu wird vorgeschlagen, dass ein Istwert des elektrischen Widerstandes der elektrisch leitenden Widerstandsschicht mit einem Sollwert verglichen und durch bereichsweises Entfernen zusätzlichen elektrisch leitenden Materials der elektrische Widerstand der elektrisch leitenden Schicht derart verändert wird, dass die Differenz zwischen Istwert und Sollwert reduziert wird. Dies hat den Vorteil, dass bereits während der Herstellung der elektrisch leitenden Schicht Abweichungen von einem gewünschten Widerstand ausgeglichen werden können.
  • Derartige Abweichungen können bspw. dadurch entstehen, dass beim Spritzen des thermisch leitenden Materials bereichsweise unterschiedliche Mengen des elektrisch leitenden Materials auf den Untergrund gelangen, so dass die hieraus entstehende elektrisch leitende Schicht an einer Stelle eine andere Dicke aufweist als an einer anderen Stelle. Mit dem hier vorgeschlagenen Verfahren können Abweichungen des Istwerts des elektrischen Widerstands der elektrisch leitenden Schicht vom Sollwert mit einer Genauigkeit von +/- 1 % ausgeglichen werden. Das bereichsweise Entfernen zusätzlichen elektrisch leitenden Materials kann eine Verkürzung oder Verlängerung der elektrisch leitenden Schicht und/oder die Veränderung der Breite der elektrisch leitenden Schicht beinhalten.
  • Dabei ist es wiederum besonders vorteilhaft, wenn die Erfassung des Istwerts des elektrischen Widerstand der elektrisch leitenden Widerstandsschicht und die Reduktion der Differenz zwischen Istwert und Sollwert parallel erfolgen. Dies ist möglich, da bereits während der Bearbeitung der elektrisch leitenden Schicht mittels Laserstrahlung der elektrische Widerstand der elektrisch leitenden Schicht gemessen werden kann. Wird dieses erfindungsgemäße Verfahren angewendet, kann bei der Herstellung der elektrisch leitenden Widerstandsschicht Zeit und somit Geld gespart werden.
  • In einer Ausgestaltung des erfindungsgemäßen Verfahrens wird auch vorgeschlagen, dass die Materialschicht derart entfernt wird, dass an mindestens einer Stelle der elektrisch leitenden Schicht eine Soll-Schmelzstelle im Sinne einer Schmelzsicherung entsteht. Eine solche integrierte Schmelzsicherung erhöht die Sicherheit bei der Verwendung der elektrisch leitenden Widerstandsschicht. Dabei kann die Schmelzsicherung praktisch ohne zusätzliche Kosten und zusätzlichen Zeitaufwand in die elektrisch leitende Widerstandsschicht integriert werden.
  • Vorteilhaft ist auch, wenn die Materialschicht derart entfernt wird, dass die elektrisch leitende Widerstandsschicht wenigstens bereichsweise mäanderförmig ist. Dies ermöglicht die Ausbildung einer möglichst langen elektrisch leitenden Widerstandsschicht auf einer kleinen Fläche.
  • Vorgeschlagen wird auch, dass nach dem bereichsweisen Entfernen des elektrisch leitenden Materials und der Fertigstellung der elektrisch leitenden Widerstandsschicht auf diese eine nicht leitende Zwischenschicht aufgebracht, danach ein elektrisch leitendes Material mittels thermischem Spritzen auf die nicht leitende Zwischenschicht flächig derart aufgebracht wird, dass eine hieraus entstandene Materialschicht zunächst im Wesentlichen noch keine gewünschte Form aufweist, und danach mittels Laserstrahlung die Materialschicht bereichsweise derart entfernt wird, dass eine zweite elektrisch leitende Schicht entsteht, welche die gewünschte Form hat. Erfindungsgemäß ist es also möglich, mehrere Schichten übereinander anzuordnen. Dabei sei an dieser Stelle ausdrücklich darauf hingewiesen, dass das erfindungsgemäße Verfahren nicht nur für die Ausbildung von zwei übereinander angeordneten elektrisch leitenden Widerstandsschichten, sondern für eine beliebige Anzahl übereinander angeordneter Widerstandsschichten anwendbar ist.
  • Das elektrisch leitende Material umfasst vorzugsweise Bismut, Tellurium, Germanium, Silizium und/oder Galliumarsenid. Diese Materialien haben sich für das Aufbringen mittels thermischem Spritzen und die anschließende Bearbeitung mittels Laserstrahlung als besonders günstig erwiesen. Darüber hinaus sind mit diesen Materialien die einschlägig bekannten technischen Effekte realisierbar.
  • Als günstig für die Aufbringung des elektrisch leitenden Materials auf den Untergrund hat sich Plasmaspritzen, Hochgeschwindigkeitsflammspritzen, Lichtbogenspritzen, Autogenspritzen, Laserspritzen oder Kaltgasspritzen erwiesen.
  • Vorgeschlagen wird ferner, dass das elektrisch leitende Material so aufgebracht und die Materialschicht bereichsweise so entfernt wird und ein solches Material umfasst, dass eine elektrische Heiz- oder eine elektrische Kühlschicht gebildet wird. Bei der Herstellung einer elektrischen Kühlschicht wird vorteilhafterweise der "Peltier-Effekt" ausgenutzt.
  • In vorteilhafter Weiterbildung wird auch vorgeschlagen, dass der örtliche elektrische Widerstand der elektrisch leitenden Widerstandsschicht durch eine lokale Wärmebehandlung eingestellt wird. Durch eine Erwärmung können lokal Oxide in die Schicht eingetragen werden, was sich auf die örtliche elektrische Leitfähigkeit des Materials auswirkt. Dies ermöglicht eine besonderes präzise und feine Einstellung des elektrischen Widerstands.
  • Außerdem ist es günstig, wenn die elektrisch leitende Widerstandsschicht versiegelt wird. Dies hat vor allem Vorteile bei einem porösen Untergrund (beispielsweise Metall mit Al203-Zwischenschicht). Eine Versieglung vermindert das Risiko von Elektrodurchschlägen aufgrund der Luftfeuchtigkeit, insbesondere bei hoher Spannung. Als Material für die Versiegelung eignet sich Silikon, Polyimid, oder Wasserglas, letzteres auf Natrium- oder Kaliumbasis. Die Aufbringung kann durch Tauchen, Spritzen, Streichen, etc. erfolgen. Die Dichtigkeit der Versiegelung ist dann am besten, wenn die Versiegelungsschicht unter Vakuum aufgebracht wird.
  • Als nichtleitender Untergrund kommt auch Glas oder Glaskeramik in Frage. Hierauf kann die elektrische Widerstandsschicht vor allem durch Plasmaspritzen dauerhaft aufgebracht werden. Die gute Isolierwirkung von Glas macht eine Erdung im Betrieb der Widerstandsschicht überflüssig. Möglich ist auch die Verwendung von speziellem Hochtemperaturglas, wie beispielsweise Ceranglas (R).
  • Die Erfindung betrifft auch eine Heiz- und/oder Kühlvorrichtung mit einem nicht leitenden Untergrund und einer auf den Untergrund durch thermisches Spritzen aufgebrachten elektrisch leitenden Widerstandsschicht.
  • Die Herstellkosten für eine derartige Heiz- und/oder Kühlvorrichtung können gesenkt werden, wenn die Widerstandsschicht ein durch thermisches Spritzen zunächst flächig aufgebrachtes elektrisch leitendes Material umfasst, welches danach mittels Laserstrahlung bereichsweise entfernt und so in eine gewünschte Form gebracht wurde.
    • Nachfolgend werden besonders bevorzugte
  • Ausführungsbeispiele der Erfindung unter Bezugnahme auf die beiliegende Zeichnung im Detail erläutert. In der Zeichnung zeigen:
    • Figur 1
    eine perspektivische Darstellung eines Rohres, auf welches ein elektrisch leitendes Material aufgespritzt wird;
    Figur 2
    das Rohr von Fig. 1, dessen elektrisch leitende Materialschicht mittels Laserstrahlung bearbeitet wird;
    Figur 3
    eine Seitenansicht des Rohres von Fig. 2 nach der Bearbeitung;
    Figur 4
    eine Draufsicht auf ein plattenförmiges Teil mit einer mäanderförmigen elektrisch leitenden Widerstandsschicht;
    Figur 5
    zwei Diagramme, wobei im einen Diagramm der zeitliche Verlauf des elektrischen Widerstands und im anderen Diagramm der zeitliche Verlauf der Länge der elektrisch leitenden Widerstandsschicht von Fig. 4 während ihrer Herstellung dargestellt sind; und
    Figur 6
    einen Schnitt durch ein plattenförmiges Teil mit zwei übereinander angeordneten elektrisch leitenden Widerstandsschichten.
  • In den Figuren 1 und 2 ist die Herstellung eines rohrförmigen Durchlauferhitzers dargestellt: Dabei wird auf ein Rohr 12 aus einem hochtemperaturbeständigen und einen elektrischen Isolator bildenden Werkstoff eine elektrisch leitende Materialschicht 14 aufgebracht (Fig. 1). Die Aufbringung erfolgt im vorliegenden Ausführungsbeispiel mittels einer Vorrichtung 16, mit der Germaniumpartikel 18 auf das Rohr 12 aufgespritzt werden. Die Aufbringung erfolgt durch Kaltgasspritzen (auch "gasdynamisches Pulverbeschichten" genannt).
  • Bei diesem Spritzprozess werden die ungeschmolzenen Germaniumpartikel auf Geschwindigkeiten von ungefähr 300 - 1.200 m/s beschleunigt und auf das Rohr 12 gespritzt. Beim Aufprall auf das Rohr 12 verformen sich die Germaniumpartikel 18 und auch die Oberfläche des Rohres 12. Durch den Aufprall werden Oberflächenoxide auf der Oberfläche des Rohrs 12 aufgebrochen. Durch Mikroreibung aufgrund des Aufpralls steigt die Temperatur an der Berührungsfläche und führt zu Mikroverschweißungen.
  • Die Beschleunigung der Germaniumpartikel 18 erfolgt mittels eines Fördergases, dessen Temperatur leicht erhöht sein kann. Da jedoch das Germaniumpulver 18 in keinem Fall seine Schmelztemperatur erreicht, sind die an der Oberfläche des Rohres 12 entstehenden Temperaturen relativ moderat, so dass bspw. ein vergleichsweise preiswertes Kunststoffmaterial für das Rohr 12 verwendet werden kann.
  • In anderen, nicht dargestellten Ausführungsbeispielen kann anstelle des Kaltgasspritzens auch Plasmaspritzen, Hochgeschwindigkeitsflammspritzen, Lichtbogenspritzen, Autogenspritzen oder Laserspritzen zur Aufbringung des elektrisch leitenden Materials auf den Untergrund verwendet werden. Anstelle von Germanium eignen sich auch Bismut, Tellurium, Silizium und/oder Galliumarsenid, je nach gewünschtem technischen Effekt.
  • Die Beschichtung des Rohres 12 mit den Germaniumpartikeln 18 erfolgt zunächst so, dass nach und nach die gesamte Oberfläche des Rohres 12 mit der aus Germanium bestehenden Materialschicht 14 bedeckt ist (vgl. Fig.1). Diese Materialschicht 14 hat jedoch noch nicht die gewünschte Form: Um einen rohrförmigen Durchlauferhitzer herstellen zu können, muss eine elektrisch leitende Widerstandsschicht hergestellt werden, welche in der Art einer Spirale in Umfangsrichtung um das Rohr 12 verläuft. Hierzu wird, wie aus Fig. 2 ersichtlich ist, mittels einer Laservorrichtung 20 ein Laserstrahl 22 so auf die noch "formlose" Materialschicht 14 gerichtet, dass ein sich spiralenförmig um das Rohr 12 erstreckender Bereich 24 geschaffen wird, in dem das aufgespritzte elektrisch leitende Material 14 nicht mehr vorhanden ist.
  • Dies geschieht dadurch, dass das Material der Materialschicht 14 an dem Ort, an dem der Laserstrahl 22 auf die Schicht 14 trifft, schlagartig so stark erhitzt wird, dass es verdampft. Die Laservorrichtung 20 einerseits und eine in der Figur nicht dargestellte Vorrichtung, mit welcher das Rohr 12 gehalten ist, werden dabei so bewegt, dass ein kontinuierlicher Arbeitsprozess durch die Laservorrichtung 20 möglich ist.
  • Wie aus Fig. 3 ersichtlich ist, wird hierdurch eine sich von einem axialen Ende des Rohres 12 zum anderen erstreckende und spiralenförmig in Umfangsrichtung verlaufende elektrisch leitende Widerstandsschicht 26 geschaffen. Das Rohr 12 und die elektrisch leitende Widerstandsschicht 26 bilden insgesamt einen elektrischen Durchlauferhitzer 28.
  • Figur 4 zeigt in der Draufsicht eine ebene Heizplatte 28. Diese besteht aus einem in dieser Draufsicht nicht sichtbaren nicht leitenden Untergrund, auf dem analog zu dem in den Fign. 1 und 2 beschriebenen Verfahren zunächst eine flächige Materialschicht 14 aufgebracht wurde, aus der anschließend Bereiche 24 mittels eines Laserstrahls abgedampft wurden (aus Darstellungsgründen ist nur ein Bereich 24 mit Bezugszeichen versehen). Hierdurch entstand eine mäanderförmig sich von einem Ende zum anderen Ende der Platte 28 erstreckende elektrisch leitende Widerstandsschicht 26. Diese weist jedoch zwei Besonderheiten auf:
    • Zunächst ist an dem in Fig. 4 oberen Ende die Materialschicht 14, aus der die elektrisch leitende Widerstandsschicht 26 hergestellt ist, so abgedampft worden, dass die Leiterbahn 26 eine Querschnittsverengung aufweist. Hierdurch wird eine Schmelzsicherung 30 geschaffen, durch welche der Betrieb der Heizplatte 28 abgesichert wird.
  • Eine zweite Besonderheit besteht darin, dass die Heizleistung bzw. die Wärmestromdichte der elektrisch leitenden Widerstandsschicht noch während ihrer Herstellung so korrigiert wurde, dass sie mit sehr hoher Präzision der gewünschten Heizleistung und der gewünschten Wärmestromdichte entspricht. Dies geschieht auf folgende Art und Weise:
    • An Endbereiche 32 und 34 der elektrisch leitenden Widerstandsschicht 26 wird während des Abdampfens der Bereiche 24 eine elektrische Spannung angelegt, so dass während dieses Abdampfens der elektrische Widerstand der elektrisch leitenden Schicht 26 kontinuierlich gemessen werden kann. Mit dem Laserstrahl wird dabei die Materialschicht 14 nur in zunächst sehr schmalen Bereichen 24 abgedampft. Die in Fig. 4 horizontal verlaufenden abgedampften Bereiche 24 verlaufen also zunächst nur von einem in Fig. 4 gestrichelt dargestellten Rand 36 bis zu dem darüber liegenden horizontalen Rand 38 der elektrisch leitenden Widerstandsschicht 26 (auch hier ist aus Darstellungsgründen nur in einem Bereich 24 das entsprechende Bezugszeichen eingetragen). Darüber hinaus wird die Materialschicht 14 zunächst vom Laserstrahl so bearbeitet, dass der in Fig. 4 untere elektrische Endbereich 34 relativ breit ist. Dies ist ebenfalls durch eine gestrichelte Linie mit dem Bezugszeichen 40 dargestellt.
  • Im vorliegenden Ausführungsbeispiel wird während des Abdampfens der Bereiche 24 aus der Materialschicht 14 durch Widerstandsmessung der entstehenden Schicht 26 festgestellt, dass der tatsächliche elektrische Widerstand WIST (vgl. Fig. 5) der elektrisch leitenden Widerstandsschicht 26 geringer ist als der an sich gewünschte elektrische Widerstand WSOLL. Der in Fig. 4 untere Anschlussbereich 34 der elektrisch leitenden Widerstandsschicht 26 wird daher vom Laserstrahl so bearbeitet, dass seine Breite abnimmt, es wird also zusätzliches Material abgedampft. Hierdurch verlängert sich die elektrisch leitende Widerstandsschicht 26 um ein Maß dl (vgl. Fig. 4 und 5) und in der Folge steigt der tatsächliche elektrische Widerstand WIST an, bis er in etwa dem gewünschten Widerstand WSOLL entspricht. Die endgültige Position der Begrenzungslinie des unteren elektrischen Anschlusses 34 trägt in Fig. 4 das Bezugszeichen 42.
  • Um die Wärmestromdichte einzustellen, werden ferner die in Fig. 4 horizontalen abgedampften Bereiche 24 vergrößert. Die endgültige Begrenzung, bei welcher die elektrisch leitende Widerstandsschicht 26 die gewünschte Wärmestromdichte aufweist, trägt in Fig. 4 das Bezugszeichen 44 (aus Darstellungsgründen ist auch dieses Bezugszeichen nur bei einem abgedampften Bereich 24 eingetragen).
  • In Fig. 6 ist eine plattenförmige Heizvorrichtung im Schnitt dargestellt. Im Gegensatz zu den oben beschriebenen Ausführungsbeispielen umfasst sie nicht nur eine elektrisch leitende Widerstandsschicht, sondern zwei elektrisch leitende Widerstandsschichten 26a und 26b. Zwischen diesen ist eine elektrisch nicht leitende Zwischenschicht 46 vorhanden. Die Herstellung dieser elektrischen Heizplatte 28 erfolgt folgendermaßen:
    • Zunächst wird wie bei den obigen Ausführungsbeispielen ein elektrisch leitendes Material auf einen plattenförmigen Träger 12 aufgebracht. Die,Aufbringung erfolgt dabei flächig durch thermisches Spritzen in einer Art und Weise, dass die hieraus entstehende Materialschicht zunächst im Wesentlichen noch keine gewünschte Form aufweist. Anschließend wird mittels Laserstrahlung die Materialschicht bereichsweise (Bezugszeichen 24a) derart abgedampft, dass eine elektrisch leitende Widerstandsschicht 26a erzeugt wird, welche die gewünschte Form aufweist.
  • Auf die fertige elektrisch leitende Widerstandsschicht 26a wird im weiteren Verlauf des Herstellungsvorgangs die elektrisch isolierende Zwischenschicht 46 aufgebracht. Dann wird der oben beschriebene Vorgang wiederholt, d. h. es wird wieder elektrisch leitendes Material mittels thermischem Spritzen auf die nicht leitende Zwischenschicht 46 flächig derart aufgebracht, dass eine hieraus entstandene zweite Materialschicht im Wesentlichen noch nicht die gewünschte Form aufweist. Diese wird dann mittels Laserstrahlung bearbeitet und bereichsweise (Bezugszeichen 24b) derart abgedampft, dass eine zweite elektrisch leitende Widerstandsschicht (26b) in der gewünschten Form entsteht.
  • In einem nicht dargestellten Ausführungsbeispiel ist das Material der elektrisch leitenden Schicht so gewählt, dass anstelle einer elektrischen Heizschicht eine elektrische Kühlschicht gebildet wird.
  • In einem anderen nicht dargestellten Ausführungsbeispiel wird die Temperatur der Heizschicht durch einen keramischen Schalter überwacht. Hierunter wird ein nicht-mechanischer Schalter verstanden, welcher ein Element aufweist, dessen Leitfähigkeit in erheblichem Umfang von seiner Temperatur abhängt. Alternativ kann auch ein Bimetallschalter verwendet werden.

Claims (16)

  1. Heiz- und/oder Kühlvorrichtung (28) mit mehreren Schichten, die durch thermisches Spritzen aufgebracht sind, wobei die Schichten einen nicht leitenden Untergrund (12), eine elektrisch leitende Widerstandsschicht (26; 26a; 26b) und eine elektrische Isolierschicht (46) umfassen, dadurch gekennzeichnet, dass die elektrisch leitende Widerstandsschicht (26; 26a; 26b) auf den nicht leitenden Untergrund (12) aufgebracht ist und ein elektrisch leitendes Material (14) aufweist, das zunächst durch Plasmaspritzen, Hochgeschwindigkeitsflammspritzen, Lichtbogenspritzen, Autogenspritzen, Laserspritzen oder Kaltgasspritzen aufgebracht ist und anschließend bereichsweise so entfernt wurde, dass eine gewünschte Form entsteht, und die elektrische Isolierschicht (46) auf der elektrisch leitende Widerstandsschicht (26; 26a; 26b) aufgebracht ist.
  2. Heiz- und/oder Kühlvorrichtung (28) nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass sie mehrere elektrisch leitende Widerstandsschichten (26; 26a; 26b) umfasst, die durch eine entsprechende Mehrzahl von nicht leitenden Zwischenschichten (46) getrennt sind.
  3. Heiz- und/oder Kühlvorrichtung (28) nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die gewünschte Form lokal angepasst wird, um gewünschte elektrische Eigenschaften entlang der Form bereitzustellen.
  4. Heiz- und/oder Kühlvorrichtung (28) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der nicht leitende Untergrund (12) ein Glasmaterial ist.
  5. Heiz- und/oder Kühlvorrichtung (28) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die elektrisch leitende Widerstandsschicht (26; 26a; 26b) aus einem Material besteht, das Bismut, Tellurium, Germanium, Silizium und/oder Galliumarsenid enthält.
  6. Heiz- und/oder Kühlvorrichtung (28) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Bereiche des elektrisch leitenden Materials (14) mittels eines Lasers und/oder mittels eines Wasserstrahls und/oder mittels eines Pulver-Sandstrahls entfernt wurden.
  7. Heiz- und/oder Kühlvorrichtung (28) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass während des Entfernens des elektrisch leitenden Materials (14) zum Erhalten der gewünschten Form ein elektrischer Ist-Widerstand (WIST) der Form ermittelt wird.
  8. Heiz- und/oder Kühlvorrichtung (28) nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass der elektrische Ist-Widerstand (WIST) der Form mit einem Soll-Widerstand (WSOLL) verglichen wurde und bestimmte Bereiche des elektrisch leitenden Materials (14) entfernt wurden, um den Unterschied zwischen dem elektrischen Ist-Widerstand (WIST) und dem elektrischen Soll-Widerstand (WIST) zu reduzieren.
  9. Heiz- und/oder Kühlvorrichtung (28) nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass das Ermitteln des elektrischen Ist-Widerstandes (WIST) der Form und das Entfernen des Materials, um den Unterschied zwischen dem elektrischen Ist-Widerstand (WIST) und dem elektrischen Soll-Widerstand (WSOLL) zu reduzieren, parallel durchgeführt wurden.
  10. Heiz- und/oder Kühlvorrichtung (28) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens eine der Schichten unter Vakuum aufgebracht wurde.
  11. Heiz- und/oder Kühlvorrichtung (28) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Bereiche des elektrisch leitenden Materials (14) so durch einen Laser entfernt wurden, dass keine Rückstände dort, wo entfernt wurde, verbleiben, so dass die Isolierwirkung verbessert wird.
  12. Heiz- und/oder Kühlvorrichtung (28) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass durch eine Mikroreibung durch Aufprallen während des thermisches Spritzens die Temperatur ansteigt und zu einer Mikroverschweißung der thermisch gespritzten Partikel führt.
  13. Heiz- und/oder Kühlvorrichtung (28) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Größe des Bereichs (24) der entfernten elektrisch leitenden Widerstandsschicht (26; 26a; 26b) vergrößert ist, um eine Wärmestromdichte einzustellen.
  14. Heiz- und/oder Kühlvorrichtung (28) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Temperatur der elektrisch leitenden Widerstandsschicht (26; 26a; 26b) durch einen keramischen Schalter überwacht wird.
  15. Heiz- und/oder Kühlvorrichtung (28) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass sich eine Dicke der sich ergebenden elektrisch leitenden Widerstandsschicht (26; 26a; 26b) von einer Stelle zur anderen unterscheidet.
  16. Heiz- und/oder Kühlvorrichtung (28) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens ein Bereich der elektrisch leitenden Widerstandsschicht eine Soll-Schmelzstelle im Sinne einer Schmelzsicherung umfasst.
EP20080015360 2001-12-19 2002-12-16 Heiz- und/oder Kühlvorrichtung mit mehreren Schichten Revoked EP2009648B1 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10162276.7A DE10162276C5 (de) 2001-12-19 2001-12-19 Rohrförmiger Durchlauferhitzer und Heizplatte sowie Verfahren zu deren Herstellung
EP02796639A EP1459332B1 (de) 2001-12-19 2002-12-16 Verfahren zum herstellen einer elektrisch leitenden widerstandsschicht sowie heiz- und/oder kuehlvorrichtung

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EP02796639A Division EP1459332B1 (de) 2001-12-19 2002-12-16 Verfahren zum herstellen einer elektrisch leitenden widerstandsschicht sowie heiz- und/oder kuehlvorrichtung

Publications (2)

Publication Number Publication Date
EP2009648A1 true EP2009648A1 (de) 2008-12-31
EP2009648B1 EP2009648B1 (de) 2014-01-29

Family

ID=7709725

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EP02796639A Expired - Lifetime EP1459332B1 (de) 2001-12-19 2002-12-16 Verfahren zum herstellen einer elektrisch leitenden widerstandsschicht sowie heiz- und/oder kuehlvorrichtung
EP20080015360 Revoked EP2009648B1 (de) 2001-12-19 2002-12-16 Heiz- und/oder Kühlvorrichtung mit mehreren Schichten

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EP02796639A Expired - Lifetime EP1459332B1 (de) 2001-12-19 2002-12-16 Verfahren zum herstellen einer elektrisch leitenden widerstandsschicht sowie heiz- und/oder kuehlvorrichtung

Country Status (8)

Country Link
US (4) US7361869B2 (de)
EP (2) EP1459332B1 (de)
AT (1) ATE414321T1 (de)
CA (1) CA2471268C (de)
DE (2) DE10162276C5 (de)
ES (2) ES2314125T3 (de)
PT (2) PT2009648E (de)
WO (1) WO2003052776A2 (de)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020165080A1 (de) * 2019-02-12 2020-08-20 Vitesco Technologies GmbH Heizvorrichtung mit einer mehrzahl von elektrischen heizelementen
DE102019127753A1 (de) * 2019-10-15 2021-04-15 Türk + Hillinger GmbH Verfahren zur Herstellung eines elektrischen Heizelements für elektrische Heizvorrichtungen und/oder Lastwiderstände

Families Citing this family (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10162276C5 (de) * 2001-12-19 2019-03-14 Watlow Electric Manufacturing Co. Rohrförmiger Durchlauferhitzer und Heizplatte sowie Verfahren zu deren Herstellung
DE10355043A1 (de) 2003-11-25 2005-06-23 Watlow Electric Manufacturing Co., St. Louis Verfahren zum Befestigen eines elektrischen Leiters auf einem Flächenelement, sowie Heißkanalelement, insbesondere für eine Kunststoff-Spritzeinrichtung
DE102004047357A1 (de) * 2004-09-29 2006-04-06 eupec Europäische Gesellschaft für Leistungshalbleiter mbH Elektrische Anordnung und Verfahren zum Herstellen einer elektrischen Anordnung
US7280750B2 (en) * 2005-10-17 2007-10-09 Watlow Electric Manufacturing Company Hot runner nozzle heater and methods of manufacture thereof
ES2669070T3 (es) 2007-11-02 2018-05-23 Interpane Entwicklungs- Und Beratungsgesellschaft Mbh & Co. Kg Sistema multicapas con elementos de contacto y procedimiento para la creación de un elemento de contacto para un sistema multicapas
US8306408B2 (en) * 2008-05-30 2012-11-06 Thermoceramix Inc. Radiant heating using heater coatings
US20110188838A1 (en) * 2008-05-30 2011-08-04 Thermoceramix, Inc. Radiant heating using heater coatings
US8318265B2 (en) * 2008-06-12 2012-11-27 General Electric Company Plasma mediated processing of non-conductive substrates
US20100077602A1 (en) * 2008-09-27 2010-04-01 Wolfgang Kollenberg Method of making an electrical heater
DE102008049215A1 (de) 2008-09-27 2010-04-01 Hotset Heizpatronen U. Zubehör Gmbh Elektrisches Heizelement für technische Zwecke
US8291728B2 (en) * 2009-02-27 2012-10-23 Corning Incorporated Method for the joining of low expansion glass
US9090022B1 (en) 2009-09-17 2015-07-28 Flexible Steel Lacing Company Belt splicing apparatus for conveyor belts
EP3421980A3 (de) 2010-07-22 2019-03-27 Watlow Electric Manufacturing Company Fluidsensor-kombinationssystem
FR2977373B1 (fr) * 2011-06-30 2013-12-20 Valeo Systemes Thermiques Procede de fabrication d'un dispositif thermo electrique, notamment destine a generer un courant electrique dans un vehicule automobile, et dispositif thermo electrique obtenu par un tel procede
US20130071716A1 (en) * 2011-09-16 2013-03-21 General Electric Company Thermal management device
DE102011057105B4 (de) 2011-12-28 2016-11-17 Webasto Ag Elektrische Fahrzeugheizvorrichtung
DE102011057108A1 (de) 2011-12-28 2013-07-04 Webasto Ag Elektrische Fahrzeugheizvorrichtung mit Wärmeabschirmung
WO2013130593A1 (en) * 2012-02-27 2013-09-06 Watlow Electric Manufacturing Company Temperature detection and control system for layered heaters
US9224626B2 (en) 2012-07-03 2015-12-29 Watlow Electric Manufacturing Company Composite substrate for layered heaters
US9673077B2 (en) 2012-07-03 2017-06-06 Watlow Electric Manufacturing Company Pedestal construction with low coefficient of thermal expansion top
DE102013105292A1 (de) * 2013-05-23 2014-11-27 Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. Thermoelektrisches Modul, thermoelektrische Generatorvorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines thermoelektrischen Moduls
DE102014005339B4 (de) 2014-01-28 2022-06-09 Wolfgang B. Thörner Verfahren zur Herstellung eines Kontaktelements
CN112519243B (zh) 2015-12-03 2023-05-26 弹性钢接头公司 带拼接设备和方法
DE102017003416A1 (de) * 2017-04-07 2018-10-11 Stiebel Eltron Gmbh & Co. Kg Elektrisches Warmwasseraufbereitungssystem
DE102017213339A1 (de) 2017-08-02 2018-08-23 Continental Automotive Gmbh Schaltungsanordnung und Verfahren zur Herstellung einer Schaltungsanordnung
CN108070815B (zh) * 2017-11-20 2019-08-16 四川富乐德科技发展有限公司 一种应用于电子产业腔体设备的铝熔射层的制备工艺
DE102019133039A1 (de) * 2019-09-19 2021-03-25 Dbk David + Baader Gmbh Fluidheizer
DE102019214588A1 (de) 2019-09-24 2021-03-25 Vitesco Technologies GmbH Elektrische Heizvorrichtung für ein Fahrzeug
DE102019214550B4 (de) * 2019-09-24 2021-06-24 Vitesco Technologies GmbH Verfahren zum Herstellen eines elektrischen Heizelements
DE102019214566B4 (de) * 2019-09-24 2021-04-01 Vitesco Technologies GmbH Heizanordnung
DE102020207875A1 (de) 2020-06-24 2021-12-30 Vitesco Technologies GmbH Elektrische Heizanordnung und elektrische Heizvorrichtung mit einer solchen Heizanordnung
CN111778501A (zh) * 2020-06-30 2020-10-16 武汉武钢华工激光大型装备有限公司 一种在Cr20Ni80热喷涂层上制备导电层的方法及装置
DE102022117290A1 (de) 2022-07-12 2024-01-18 Marelli Automotive Lighting Reutlingen (Germany) GmbH Verfahren zum Bereitstellen einer Schaltungsträgerplatte und Schaltungsträgerplatte
WO2024017494A1 (en) * 2022-07-19 2024-01-25 Oerlikon Metco Ag, Wohlen Electric heating element production method

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1018375A (en) * 1963-04-10 1966-01-26 Corning Glass Works An article comprising a substrate and a metal oxide film
US3534472A (en) * 1967-05-30 1970-10-20 Philips Corp Method of making an electrical resistor
US3750049A (en) * 1970-09-30 1973-07-31 R Rorden Laser trimming tool
US4566936A (en) * 1984-11-05 1986-01-28 North American Philips Corporation Method of trimming precision resistors
JPH01220406A (ja) * 1988-02-29 1989-09-04 Taiyo Yuden Co Ltd 金属皮膜抵抗器の製造方法
EP0399376A2 (de) 1989-05-24 1990-11-28 Onoda Cement Company, Ltd. Beheizbare Fixierrolle für ein Kopiergerät, Verfahren zu ihrer Herstellung und elektronisches Kopiergerät mit einer solchen Rolle
JPH02304905A (ja) * 1989-05-19 1990-12-18 Tama Electric Co Ltd 抵抗器の製造法
DE19810848A1 (de) 1998-02-06 1999-08-12 Heinz Zorn Spiegelheizeinrichtung

Family Cites Families (85)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE235132C (de) * 1909-12-18
US1767715A (en) * 1927-02-19 1930-06-24 Central Radio Lab Electrical resistance
US2022314A (en) * 1933-12-29 1935-11-26 Globar Corp Electrical resistor and its manufacture
US2622178A (en) * 1946-04-22 1952-12-16 Blue Ridge Glass Corp Electric heating element and method of producing the same
US2673142A (en) * 1949-04-15 1954-03-23 Blue Ridge Glass Corp Electric heating element
US2623971A (en) * 1951-06-21 1952-12-30 Blue Ridge Glass Corp Electric resistance heater
US2842464A (en) * 1953-03-02 1958-07-08 Saint Gobain Method of producing an electrical resistance on glass
US2859321A (en) * 1955-07-11 1958-11-04 Garaway Alexander Electric resistance heater
US2878357A (en) * 1956-07-13 1959-03-17 Gen Dynamics Corp Electric heated laminated glass panel
US2966430A (en) * 1957-02-05 1960-12-27 Kanthal Ab Electric resistance elements
US3169892A (en) * 1959-04-08 1965-02-16 Jerome H Lemelson Method of making a multi-layer electrical circuit
US3220889A (en) * 1962-08-02 1965-11-30 Philco Corp Electrical circuit components
US3375342A (en) * 1963-03-04 1968-03-26 Sprague Electric Co Electron beam milling of electrical coatings
US3417229A (en) * 1965-10-14 1968-12-17 Sanders Associates Inc Electrical resistance heating articles
US3564475A (en) * 1967-10-24 1971-02-16 Nippon Kogaku Kk Variable resistance element with multiple patterns for measuring instruments
US3675317A (en) * 1970-05-13 1972-07-11 Welwya Canada Ltd Method for spiralling electrical resistors
US3657510A (en) * 1970-11-19 1972-04-18 Union Carbide Corp Q-switched laser device for altering surfaces
BE789555A (fr) * 1971-09-30 1973-03-29 Saint Gobain Correction de la resistance electrique de vitrages a chauffage electrique
US4032861A (en) * 1973-11-15 1977-06-28 Union Carbide Corporation Laser device for altering surfaces in accordance with given patterns
US4016645A (en) * 1974-05-02 1977-04-12 Asg Industries, Inc. Electric heater plate and terminal thereof
GB1546091A (en) * 1975-02-28 1979-05-16 Johnson Matthey Co Ltd Thermometers
US4057707A (en) * 1975-10-17 1977-11-08 Corning Glass Works Electric heating unit
US4034207A (en) * 1976-01-23 1977-07-05 Murata Manufacturing Co., Ltd. Positive temperature coefficient semiconductor heating element
US4176445A (en) * 1977-06-03 1979-12-04 Angstrohm Precision, Inc. Metal foil resistor
US4297670A (en) * 1977-06-03 1981-10-27 Angstrohm Precision, Inc. Metal foil resistor
US4306217A (en) * 1977-06-03 1981-12-15 Angstrohm Precision, Inc. Flat electrical components
FR2398374A1 (fr) * 1977-07-19 1979-02-16 Lignes Telegraph Telephon Ajustement de resistances pour circuits hybrides
US4258078A (en) * 1978-06-22 1981-03-24 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Metallization for integrated circuits
JPS5889380A (ja) * 1981-11-20 1983-05-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd サ−マルヘツド
JPS59175580A (ja) * 1983-03-25 1984-10-04 株式会社日立製作所 発熱抵抗体
JPS60140693A (ja) * 1983-12-28 1985-07-25 日立金属株式会社 抵抗膜加熱器具
DE3512659A1 (de) * 1985-04-06 1986-10-09 Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart Heizung fuer elektrisch betriebene warmwassergeraete
DE3630393C2 (de) * 1985-09-10 1994-06-23 Sharp Kk Widerstandsthermometer
DE3545454A1 (de) * 1985-12-20 1987-07-02 Bosch Siemens Hausgeraete Heizelement fuer thermische hausgeraete, insb. fuer kochstellen
KR870005921A (ko) * 1985-12-26 1987-07-07 노부오 사수가 전도성 유리판
US4684779A (en) * 1986-01-22 1987-08-04 General Motors Corporation Laser welding metal sheets with associated trapped gases
DE3619530A1 (de) * 1986-04-11 1987-10-15 Wolfgang Dr Hoettler Datentraeger, insbesondere in etiketten- oder kartenform
EP0257677A2 (de) * 1986-08-08 1988-03-02 SILICONIX Incorporated Abgleichbarer Widerstand mit hohem Wert aus polykristallinem Silizium
US4703557A (en) * 1986-10-07 1987-11-03 Cts Corporation Adjustment of thick film resistor (TCR) by laser annealing
DE3708577A1 (de) * 1987-03-17 1988-09-29 Ver Glaswerke Gmbh Mit einer elektrisch leitenden und waermestrahlen reflektierenden schicht versehene autoglasscheibe
FR2620820B1 (fr) * 1987-09-22 1992-06-19 Degussa Resistance electrique chauffante pour rheometre
US4897520A (en) * 1988-10-31 1990-01-30 American Telephone And Telegraph Company, At&T Technologies, Inc. Laser debris vacuum scoop
DE8908139U1 (de) 1989-07-04 1989-10-12 Siegert GmbH, 8501 Cadolzburg Sicherungselement in Bauelementen der Dickschichttechnik
JPH0832304B2 (ja) * 1989-08-18 1996-03-29 株式会社日立製作所 無機ポリマ薄膜の形成方法
JPH03295185A (ja) * 1990-04-13 1991-12-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd 発熱体
JP2564415B2 (ja) * 1990-04-18 1996-12-18 株式会社日立製作所 空気流量検出器
JP2938143B2 (ja) * 1990-05-29 1999-08-23 沖電気工業株式会社 定着装置の製造方法
US5233327A (en) * 1991-07-01 1993-08-03 International Business Machines Corporation Active resistor trimming by differential annealing
JPH05307926A (ja) * 1991-11-21 1993-11-19 Nippon Autom Kk 温度ヒューズ
DE69218134T2 (de) * 1991-12-09 1997-09-18 Toshiba Lighting & Technology Fixier-Heizelement und Verfahren zu dessen Herstellung
JPH05326112A (ja) * 1992-05-21 1993-12-10 Shin Etsu Chem Co Ltd 複層セラミックスヒーター
DE4222278C1 (de) * 1992-07-07 1994-03-31 Roederstein Kondensatoren Verfahren zur Herstellung elektrischer Dickschichtsicherungen
JPH06290917A (ja) * 1993-04-02 1994-10-18 Ebara Corp 溶射発熱体の製造法
JPH06326246A (ja) * 1993-05-13 1994-11-25 Mitsubishi Electric Corp 厚膜回路基板及びその製造方法
US5750958A (en) * 1993-09-20 1998-05-12 Kyocera Corporation Ceramic glow plug
US5804797A (en) * 1994-01-31 1998-09-08 Nippon Tungsten Co., Ltd. PTC planar heater and method for adjusting the resistance of the same
US5616266A (en) * 1994-07-29 1997-04-01 Thermal Dynamics U.S.A. Ltd. Co. Resistance heating element with large area, thin film and method
JPH08101592A (ja) * 1994-09-30 1996-04-16 Toshiba Lighting & Technol Corp 定着ヒータ、その製造方法、定着装置及び画像形成装置
GB2301223B (en) * 1995-05-26 1999-04-21 Johnson Electric Sa Polymeric type positive temperature coefficient thermistors
NL1000729C1 (nl) * 1995-07-05 1997-01-08 Ooithuis Beheer B V Spouwconstructie.
KR100280634B1 (ko) * 1996-05-05 2001-02-01 세이이치로 미야타 전기 발열체 및 이를 이용한 정전 척
GB9622695D0 (en) * 1996-10-31 1997-01-08 Delta Theta Ltd Thermal elements
DE29702813U1 (de) * 1997-01-10 1997-05-22 E.G.O. Elektro-Gerätebau Gmbh, 75038 Oberderdingen Kontaktwärmeübertragendes Kochsystem mit einer Elektro-Kochplatte
WO1998041901A1 (en) * 1997-03-17 1998-09-24 Koninklijke Philips Electronics N.V. Optical switching device
US5923995A (en) * 1997-04-18 1999-07-13 National Semiconductor Corporation Methods and apparatuses for singulation of microelectromechanical systems
US6762396B2 (en) * 1997-05-06 2004-07-13 Thermoceramix, Llc Deposited resistive coatings
US6096995A (en) * 1997-05-30 2000-08-01 Kyocera Corporation Heating roller for fixing
US6099974A (en) * 1997-07-16 2000-08-08 Thermal Spray Technologies, Inc. Coating that enables soldering to non-solderable surfaces
WO2000007850A1 (en) 1998-08-05 2000-02-17 Lear Automotive Dearborn, Inc. Trim panel having electrical connectors
DE19856087A1 (de) * 1998-12-04 2000-06-21 Siceram Gmbh Elektrischer Durchlauferhitzer und Verfahren zu seiner Herstellung
WO2000070915A1 (en) * 1999-05-18 2000-11-23 Advanced Heating Technologies Ltd. Electrical heating elements and method for producing same
DE10001330A1 (de) * 2000-01-14 2001-07-19 Heinrich Schuermann Elektrokochplatte
US6935016B2 (en) * 2000-01-17 2005-08-30 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method for manufacturing a resistor
US6433319B1 (en) * 2000-12-15 2002-08-13 Brian A. Bullock Electrical, thin film termination
WO2001067819A1 (en) * 2000-03-03 2001-09-13 Cooper Richard P Thin film tubular heater
KR100352892B1 (ko) * 2000-05-22 2002-09-16 주식회사 팍스텍 박막 발열체의 제조방법 및 이것을 이용한 발열장치
DE10029244A1 (de) * 2000-06-14 2002-01-03 Elias Russegger Elektrische Heizvorrichtung
US6609292B2 (en) * 2000-08-10 2003-08-26 Rohm Co., Ltd. Method of making chip resistor
US7057490B2 (en) * 2000-08-30 2006-06-06 Matsushita Electric Industrial Co. Ltd. Resistor and production method therefor
JP3967553B2 (ja) * 2001-03-09 2007-08-29 ローム株式会社 チップ型抵抗器の製造方法、およびチップ型抵抗器
DE10162276C5 (de) * 2001-12-19 2019-03-14 Watlow Electric Manufacturing Co. Rohrförmiger Durchlauferhitzer und Heizplatte sowie Verfahren zu deren Herstellung
DE10355043A1 (de) 2003-11-25 2005-06-23 Watlow Electric Manufacturing Co., St. Louis Verfahren zum Befestigen eines elektrischen Leiters auf einem Flächenelement, sowie Heißkanalelement, insbesondere für eine Kunststoff-Spritzeinrichtung
JP5263727B2 (ja) * 2007-11-22 2013-08-14 コーア株式会社 抵抗器
TWI381170B (zh) * 2009-09-17 2013-01-01 Cyntec Co Ltd 電流感測用電阻裝置與製造方法
US8686292B2 (en) * 2011-02-23 2014-04-01 Miraco, Inc. Tunable resistance conductive ink circuit

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1018375A (en) * 1963-04-10 1966-01-26 Corning Glass Works An article comprising a substrate and a metal oxide film
US3534472A (en) * 1967-05-30 1970-10-20 Philips Corp Method of making an electrical resistor
US3750049A (en) * 1970-09-30 1973-07-31 R Rorden Laser trimming tool
US4566936A (en) * 1984-11-05 1986-01-28 North American Philips Corporation Method of trimming precision resistors
JPH01220406A (ja) * 1988-02-29 1989-09-04 Taiyo Yuden Co Ltd 金属皮膜抵抗器の製造方法
JPH02304905A (ja) * 1989-05-19 1990-12-18 Tama Electric Co Ltd 抵抗器の製造法
EP0399376A2 (de) 1989-05-24 1990-11-28 Onoda Cement Company, Ltd. Beheizbare Fixierrolle für ein Kopiergerät, Verfahren zu ihrer Herstellung und elektronisches Kopiergerät mit einer solchen Rolle
DE19810848A1 (de) 1998-02-06 1999-08-12 Heinz Zorn Spiegelheizeinrichtung

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 013, no. 534 (E - 852) 29 November 1989 (1989-11-29) *
PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 015, no. 090 (E - 1040) 5 March 1991 (1991-03-05) *

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020165080A1 (de) * 2019-02-12 2020-08-20 Vitesco Technologies GmbH Heizvorrichtung mit einer mehrzahl von elektrischen heizelementen
DE102019127753A1 (de) * 2019-10-15 2021-04-15 Türk + Hillinger GmbH Verfahren zur Herstellung eines elektrischen Heizelements für elektrische Heizvorrichtungen und/oder Lastwiderstände

Also Published As

Publication number Publication date
CA2471268A1 (en) 2003-06-26
EP1459332B1 (de) 2008-11-12
DE10162276A1 (de) 2003-07-17
US7361869B2 (en) 2008-04-22
ES2452325T3 (es) 2014-03-31
PT2009648E (pt) 2014-03-25
US20150267288A1 (en) 2015-09-24
PT1459332E (pt) 2008-12-29
ATE414321T1 (de) 2008-11-15
DE10162276B4 (de) 2015-07-16
EP1459332A2 (de) 2004-09-22
US9029742B2 (en) 2015-05-12
ES2314125T3 (es) 2009-03-16
WO2003052776A2 (de) 2003-06-26
US20130260048A1 (en) 2013-10-03
WO2003052776A3 (de) 2004-03-04
CA2471268C (en) 2007-07-17
US20060108354A1 (en) 2006-05-25
US20050025470A1 (en) 2005-02-03
US9758854B2 (en) 2017-09-12
EP2009648B1 (de) 2014-01-29
DE50213016D1 (de) 2008-12-24
DE10162276C5 (de) 2019-03-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1459332B1 (de) Verfahren zum herstellen einer elektrisch leitenden widerstandsschicht sowie heiz- und/oder kuehlvorrichtung
EP1844181B1 (de) Verfahren zum kaltgasspritzen
EP3083107B1 (de) Vorrichtung und verfahren zum tiegelfreien schmelzen eines materials und zum zerstäuben des geschmolzenen materials zum herstellen von pulver
EP2179426B1 (de) Mehrschichtsystem mit kontaktelementen und verfahren zum erstellen eines kontaktelements für ein mehrschichtsystem
DE4129120C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten von Substraten mit hochtemperaturbeständigen Kunststoffen und Verwendung des Verfahrens
EP1791645B1 (de) Verfahren zum kaltgasspritzen und kaltgasspritzpistole mit erhöhter verweildauer des pulvers im gasstrahl
WO2018192865A1 (de) Kontinuierliche beschichtung von metallbändern durch additive fertigung
EP3147067A1 (de) Vorrichtung und verfahren zur herstellung und/oder reparatur von, insbesondere rotationssymmetrischen, bauteilen
CH691761A5 (de) Ueberwachung und Regelung von thermischen Spritzverfahren.
CH663922A5 (de) Elektrode fuer drahtschneide-funkenerosion.
DE2125643C2 (de) Halbleiterbauelement und Verfahren zu seiner Herstellung
WO2016071534A1 (de) Verfahren zur herstellung eines kontaktbereichs für eine schicht eines elektrischen heizgeräts sowie vorrichtung für ein elektrisches heizgerät für ein kraftfahrzeug
EP1104033B1 (de) Verfahren zur Erzeugung einer supraleitfähigen Schicht
DE19821772A1 (de) Keramische Verdampferschiffchen mit verbessertem Erstbenetzungsverhalten
DE20302566U1 (de) Lötspitze
DE102015210460A1 (de) Elektrisches Kontaktelement sowie Verfahren zur Veränderung mechanischer und/oder elektrischer Eigenschaften zumindest eines Bereichs eines solchen
DE3643208C2 (de)
WO2003049500A2 (de) Verfahren und vorrichtung zur erzeugung einer elektrischen leiterbahn auf einem substrat
AT503706B1 (de) Schaltungsträger
WO1989008332A1 (en) Process and device for depositing layers of a high-temperature superconducting material on substrates
DE102007010395A1 (de) Verfahren zur Herstellung einer elektrischen Heizung und/oder eines Temperaturfühlers für Heißkanalsysteme
EP0083091A2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten von Formteilen mit schmelzflüssigem Metall
DE102020215531A1 (de) Metalldruckvorrichtung und -Verfahren zur Erzeugung eines schichtweisen aufgebauten metallischen Werkstücks
EP3511108A1 (de) Verfahren zur herstellung eines lotmittels
DE2851130C2 (de)

Legal Events

Date Code Title Description
PUAI Public reference made under article 153(3) epc to a published international application that has entered the european phase

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009012

AC Divisional application: reference to earlier application

Ref document number: 1459332

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: P

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR IE IT LI LU MC NL PT SE SI SK TR

AX Request for extension of the european patent

Extension state: AL LT LV MK RO

17P Request for examination filed

Effective date: 20090206

17Q First examination report despatched

Effective date: 20090313

AKX Designation fees paid

Designated state(s): AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR IE IT LI LU MC NL PT SE SI SK TR

RIC1 Information provided on ipc code assigned before grant

Ipc: H01C 17/242 20060101ALI20130703BHEP

Ipc: H05B 3/40 20060101ALI20130703BHEP

Ipc: H01C 17/24 20060101AFI20130703BHEP

GRAP Despatch of communication of intention to grant a patent

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNIGR1

INTG Intention to grant announced

Effective date: 20130812

GRAS Grant fee paid

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNIGR3

GRAA (expected) grant

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009210

AC Divisional application: reference to earlier application

Ref document number: 1459332

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: P

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: B1

Designated state(s): AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR IE IT LI LU MC NL PT SE SI SK TR

REG Reference to a national code

Ref country code: GB

Ref legal event code: FG4D

Free format text: NOT ENGLISH

REG Reference to a national code

Ref country code: CH

Ref legal event code: EP

REG Reference to a national code

Ref country code: AT

Ref legal event code: REF

Ref document number: 651652

Country of ref document: AT

Kind code of ref document: T

Effective date: 20140215

REG Reference to a national code

Ref country code: IE

Ref legal event code: FG4D

Free format text: LANGUAGE OF EP DOCUMENT: GERMAN

REG Reference to a national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: R096

Ref document number: 50215885

Country of ref document: DE

Effective date: 20140313

REG Reference to a national code

Ref country code: NL

Ref legal event code: T3

REG Reference to a national code

Ref country code: PT

Ref legal event code: SC4A

Free format text: AVAILABILITY OF NATIONAL TRANSLATION

Effective date: 20140317

Ref country code: SE

Ref legal event code: TRGR

REG Reference to a national code

Ref country code: CH

Ref legal event code: NV

Representative=s name: DREISS PATENTANWAELTE, DE

Ref country code: ES

Ref legal event code: FG2A

Ref document number: 2452325

Country of ref document: ES

Kind code of ref document: T3

Effective date: 20140331

REG Reference to a national code

Ref country code: CH

Ref legal event code: PFA

Owner name: WATLOW ELECTRIC MANUFACTURING COMPANY, US

Free format text: FORMER OWNER: WATLOW ELECTRIC MANUFACTURING COMPANY, US

REG Reference to a national code

Ref country code: GR

Ref legal event code: EP

Ref document number: 20140400781

Country of ref document: GR

Effective date: 20140515

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: FI

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20140129

Ref country code: CY

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20140129

REG Reference to a national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: R026

Ref document number: 50215885

Country of ref document: DE

PLBI Opposition filed

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009260

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DK

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20140129

Ref country code: EE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20140129

26 Opposition filed

Opponent name: WEBASTO SE

Effective date: 20141019

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: SK

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20140129

PLAX Notice of opposition and request to file observation + time limit sent

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNOBS2

REG Reference to a national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: R026

Ref document number: 50215885

Country of ref document: DE

Effective date: 20141019

REG Reference to a national code

Ref country code: CH

Ref legal event code: PCAR

Free format text: NEW ADDRESS: FRIEDERICHSTR. 6, 70174 STUTTGART (DE)

REG Reference to a national code

Ref country code: CH

Ref legal event code: PCAR

Free format text: NEW ADDRESS: FRIEDRICHSTR. 6, 70174 STUTTGART (DE)

PLAF Information modified related to communication of a notice of opposition and request to file observations + time limit

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSCOBS2

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: SI

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20140129

PLBB Reply of patent proprietor to notice(s) of opposition received

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNOBS3

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: LU

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20141216

REG Reference to a national code

Ref country code: IE

Ref legal event code: MM4A

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: IE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20141216

REG Reference to a national code

Ref country code: FR

Ref legal event code: PLFP

Year of fee payment: 14

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: MC

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20140129

Ref country code: BG

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20140129

REG Reference to a national code

Ref country code: FR

Ref legal event code: PLFP

Year of fee payment: 15

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: CZ

Payment date: 20161208

Year of fee payment: 15

Ref country code: GB

Payment date: 20161228

Year of fee payment: 15

Ref country code: CH

Payment date: 20161227

Year of fee payment: 15

Ref country code: NL

Payment date: 20161226

Year of fee payment: 15

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: AT

Payment date: 20161202

Year of fee payment: 15

Ref country code: FR

Payment date: 20161227

Year of fee payment: 15

Ref country code: SE

Payment date: 20161129

Year of fee payment: 15

Ref country code: PT

Payment date: 20161202

Year of fee payment: 15

Ref country code: ES

Payment date: 20161227

Year of fee payment: 15

Ref country code: GR

Payment date: 20161229

Year of fee payment: 15

REG Reference to a national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: R064

Ref document number: 50215885

Country of ref document: DE

Ref country code: DE

Ref legal event code: R103

Ref document number: 50215885

Country of ref document: DE

RDAF Communication despatched that patent is revoked

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNREV1

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: THE PATENT HAS BEEN GRANTED

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DE

Payment date: 20161229

Year of fee payment: 15

Ref country code: TR

Payment date: 20161206

Year of fee payment: 15

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: BE

Payment date: 20161227

Year of fee payment: 15

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: IT

Payment date: 20161222

Year of fee payment: 15

RDAG Patent revoked

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009271

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: PATENT REVOKED

REG Reference to a national code

Ref country code: CH

Ref legal event code: PLX

27W Patent revoked

Effective date: 20170322

GBPR Gb: patent revoked under art. 102 of the ep convention designating the uk as contracting state

Effective date: 20170322

REG Reference to a national code

Ref country code: SE

Ref legal event code: ECNC

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: LI

Free format text: LAPSE BECAUSE OF THE APPLICANT RENOUNCES

Effective date: 20140129

Ref country code: CH

Free format text: LAPSE BECAUSE OF THE APPLICANT RENOUNCES

Effective date: 20140129

REG Reference to a national code

Ref country code: GR

Ref legal event code: NF

Ref document number: 20140400781

Country of ref document: GR

Effective date: 20171023

REG Reference to a national code

Ref country code: AT

Ref legal event code: MA03

Ref document number: 651652

Country of ref document: AT

Kind code of ref document: T

Effective date: 20170322

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: PATENT REVOKED