EP0017093A1

EP0017093A1 - Entwicklungskammer

Info

Publication number: EP0017093A1
Application number: EP80101467A
Authority: EP
Inventors: Jochen Koblo; Götz Dr. von dem Bussche
Original assignee: Hoechst AG
Current assignee: Hoechst AG
Priority date: 1979-03-28
Filing date: 1980-03-20
Publication date: 1980-10-15
Also published as: JPS6239397Y2; DE7908775U1; DE3065346D1; JPS55141130U; EP0017093B1; US4317026A

Abstract

Entwicklungskammer (1) zum Entwickeln von Aufzeichnungsmaterial (7) im Vesikularverfahren, bestehend aus einem Entwicklungsgehäuse mit Ein- und Auslaufwalzenpaaren (5,9), wobei das Aufzeichnungsmaterial (1) zwischen zwei auf 100 - 250°C aufheizbaren und im Abstand voneinander einstellbaren Metallblöcken (6) geführt wird, welche im Durchlaufbereich mit einem die Oberfläche des Aufzeichnungsmaterials (7) nicht angreifenden Gleitmaterial (4), wie einem Gewebe, beaufschlagt sind, und eine Temperaturregelung vorhanden ist, die Temperaturschwankungen von höchstens 1% gewährleistet. Der Abstand der beaufschlagten Metallblockoberfläche zur jeweiligen Aufzeichnungsmaterial oberfläche beträgt vorzugsweise 25 - 50 um.

Description

Die Erfindung betrifft die Entwicklung eines photographischen Aufzeichnungsmaterials für das Vesikularverfahren mit einer gegebenenfalls auf einem Schichtträger befindlichen Schicht aus einem Gemisch polymerer Bindemittel und einer darin gleichmäßig verteilten, bei Belichtung Gas abspaltenden Verbindung.
Bei Belichtung dieser blasenbildenden, photographischen Aufzeichnungsmaterialien werden aus dem lichtempfindlichen Material Gasmoleküle, zum Beispiel bei Verwendung einer Diazoverbindung Stickstoffmoleküle, abgespalten, die zunächst in der Schicht unsichtbar verteilt bleiben, jedoch beim Erwärmen infolge einer Erweichung des Schichtmaterials zu Gasbläschen zusammendiffundieren, die sich ihrerseits ausdehnen. Hierdurch werden die belichteten Bereiche im durchfallenden Licht undurchsichtig und im auffallenden Licht infolge Reflexion und Lichtstreuung hell.
Das Prinzip des Vesikularverfahrens oder der Blasenphotographie ist bekannt, konnte sich aber nicht recht durchsetzen, da zum Beispiel erhebliche Schwierigkeiten bei der Beschaffung von Beschichtungsmaterialien, bei der Belichtung und bei der Entwicklung bestanden. Nach einem bekannten Verfahren belichtet man bildmäßig, indem man das Aufzeichnungsmaterial mit einer _Transparentvorlage in Kontakt bringt und belichtet. Das Material wird dann etwa 0,1 bis 3 Sekunden bei 70 bis 150°C erwärmt, wodurch ein Negativbild der Vorlage entsteht. Andererseits kann man das Aufzeichnungsmaterial bildmäßig belichten, worauf man das aus der Schicht freigesetzte Gas bei einer Temperatur aus der lichtempfindlichen Schicht diffundieren läßt, die für eine Entwicklung des Bildes zu niedrig ist. Anschließend wird das Aufzeichnungsmaterial in seiner Gesamtheit gleichmäßig belichtet und dann während oder kurz nach der zweiten Belichtung, aber vor einer wesent_- lichen Diffusion des entstandenen Gases aus der Schicht, 0,1 bis 3 Sekunden zwischen 70 und 150°C entwickelt. Dies führt zu einer Bildentwicklung in den Bereichen, die ursprünglich nicht vom Licht getroffen wurden, so daß ein Bild analog der Bildvorlage entsteht.
Zur Entwicklung der Aufzeichhungsmaterialien sind verschiedene Einrichtungen bekannt wie zum Beispiel ein Gerät, bei dem das Aufzeichnungsmaterial in Form eines Filmes um eine auf etwa 100 bis 120°C heiße Walze _beschichtungsseitig im Durchlauf geführt wird. Man verwendet dabei eine Aluminiumwalze mit hochglanzpolierter Oberfläche. Nachteilig hieran ist, daß offen- _sichtlich die Temperaturregelung nicht voll befriedigend wirksam ist, so daß zum Beispiel Schichtmaterial an den Oberflächen haften bleibt, wodurch das Aufzeichnungsmaterial unbrauchbar wird.
Ferner ist eine Entwicklungsvorrichtung bekannt bestehend aus einer auf etwa 100 bis 120⁰C beheizten Kammer, in welcher das Aufzeichnungsmaterial abgelegt, in etwa 2 bis 3 Sekunden entwickelt und wieder der Kammer entnommen wird. Eine solche Entwicklung hat den Nachteil, daß sie nicht gleichmäßig durchgeführt werden kann, da sich das Material in der Kammer verwirft und demzufolge an heißeren Stellen überentwickelt wird. Als Folge verschwinden die Bildstellen teilweise gemäß dem thermoplastischen Verhalten des Schichtmaterials.
Es ist auch bekannt, zur Entwicklung blasenbildender photographischer Aufzeichnungsmaterialien ein Transportband für die Materialien zu benutzen, welches durch Quecksilberdampfstrahler im Impulsbetrieb aufgeheizt wird. Bei dieser Entwicklung treten relativ große Temperaturschwankungen auf, die größer als ± 4°C sind. Auch hier ist eine gleichmäßige Entwicklung nicht gewährleistet.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung war es, ein Gerät zur Entwicklung von blasenphotographischem Aufzeichnungsmaterial zur Verfügung zu stellen, das möglichst im Durchlauf eine gleichmäßige Entwicklung über die gesamte Bildfläche gewährleistet.
Die Lösung dieser Aufgabe geht aus von einer Entwicklungskammer zum Entwickeln eines photographischen Aufzeichnungsmaterials für das Vesikularverfahren bestehend aus einem Entwicklungsgehäuse und Ein- und Auslaufwalzenpaaren und ist dadurch gekennzeichnet, daß sie zwei aufheizbare und im Abstand voneinander einstellbare Metallblöcke enthält, zwischen denen das Aufzeichnungsmaterial geführt wird, wobei die Metallblöcke im Durchlaufbereich mit einem die Oberfläche des Aufzeichnungsmaterials nicht angreifenden Gleitmaterial beaufschlagt sind, und eine Temperaturregelung vorhanden ist, die Temperaturschwankungen von höchstens 1% gewährleistet.
Die Metallblöcke sind auf Temperaturen im Bereich von etwa 100 bis 250°C, vorzugsweise 100 bis 140°C, aufheizbar.
In bevorzugter Ausführung bietet die Entwicklungskammer eine Temperaturführung mit einer Schwankung von ± 1,5°C. Die Entwicklungskammer ist lagenunabhängig, kann deshalb sowohl das Aufzeichnungsmaterial in horizontaler als auch in vertikaler oder in jeder dazwischenliegenden Richtung führen.
Die Temperatur in der Entwicklungskammer wird in erster Linie durch die Verweilzeit des Aufzeichnungsmaterials bestimmt. Bei höherer Temperatur wird so eine kürzere Verweilzeit notwendig sein als bei einer relativ geringen Temperatur. Die Verweilzeit ihrerseits hängt auch von der Belichtungszeit des Materials ab, so daß die vorliegende Entwicklungskammer allen Anforderungen optimal angepaßt werden kann.
Das blasenbildende photographische Aufzeichnungsmaterial wird schnell und gleichmäßig entwickelt, wobei es, trotz seiner thermischen Erweichung, während der Entwicklung weder oberflächlich angekratzt wird noch sich die Planlage des gegebenenfalls vorhandenen Schichtträgers verändert.
Die Entwicklungskammer wird anhand der beigefügten Zeichnung beispielhaft beschrieben:

über das Einlaufwalzenpaar 5, vorzugsweise mit einer Silikon-Auflage oder einer solchen aus einem fluorierten polymeren Kohlenwasserstoff, wird das belichtete Aufzeichnungsmaterial 7 vorzugsweise aus Schichtträger und lichtempfindlicher Schicht, eingeführt. Die Anordnung der Schichtseite ist dabei nicht kritisch, so daß das Material mit der lichtempfindlichen Schicht auf der Ober- oder Unterseite wahlweise eingeführt werden kann. Die Entwicklungskammer 1 enthält zwei Metallblöcke 6, die zum Beispiel aus Kupfer oder Messing oder ähnlichem Metall, vorzugsweise jedoch aus Aluminium oder einer Aluminiumlegierung, bestehen und Flächenheizkörper 2, die sowohl außer- als auch innerhalb der Blöcke angeordnet sein können, und die Oberfläche des Aufzeichnungsmaterials nicht angreifendes Gleitmaterial 4, welches zum Schutz vor Streifen- und Kratzerbildung auf der lichtempfindlichen Schicht auf den Metallblöcken im Durchlaufbereich angebracht ist. Das Gleitmaterial 4 kann in Form einer glatten Oberfläche angebracht sein, ist jedoch vorzugsweise ein Gewebe. Hier haben sich

Das Aufzeichnungsmaterial 7 durchläuft die Entwicklungskammer mit einer Geschwindigkeit, welche mit der vorausgehenden Belichtungszeit abgestimmt ist und welche im Durchlaufbetrieb in einem Bereich zwischen etwa 0,5 bis etwa 7 m/min liegt.
über das Auslaufwalzenpaar 9 wird das Aufzeichnungsmaterial zur Nachbelichtungsstation (nicht gezeigt) zwecks zum Beispiel der Zerstörung des verbliebenen lichtempfindlichen Materials geführt und kann anschließend verwendet oder gestapelt werden.
Zur Verhinderung der Wärmeabstrahlung von den Metallblöcken 6 auf das Einlauf- bzw. das Auslaufwalzenpaar ist jeweils ein Hitzeschild 3, zum Beispiel aus Asbest, vorgesehen. Die jeweils angetriebenen Walzen der Walzenpaare können vorzugsweise gekühlt werden, zwecks Vermeidung von Vor- oder Nachbelichtungseffekten auf dem Aufzeichnungsmaterial. Hier hat es sich auch als zweckmäßig erwiesen, das Entwicklungsgehäuse 1 im Bereich der Ein- und Auslaufwalzen mit Aussparungen 10 zu versehen, die auch als Öffnungen wie Löcher oder Schlitze in der Wandung des Gehäuses ausgebildet sein können, um eine gleichmäßige Wärmeabfuhr zu erzielen. Der Durchlaufbereich 11 in der Entwicklungskammer für das photographische Aufzeichnungsmaterial 7 ist im Abstand einstellbar. Die Einstellung erfolgt so, daß der Abstand der beschichteten Metallblockoberfläche zur jeweiligen Aufzeichnungsmaterialoberfläche in einem Bereich von etwa 25 bis 50 _/um, vorzugsweise 30 _/um, liegt. Es hat sich gezeigt, daß ein solcher Abstand zwecks gleichmäßiger Wärmeführung optimal ist.
Die Flächenheizkörper 2, die gemäß der Zeichnung außerhalb angeordnet sind, jedoch auch zum Beispiel in den Metallblöcken 6 angeordnet sein können, geben ihre Wärme an die Metallblöcke mit Hilfe des Thermoelements 8 ab. Die Temperatur des Aufzeichnungsmaterials liegt in Abhängigkeit von seiner Durchlaufgeschwindigkeit in einem Bereich von etwa 100 bis 150°C. Die Temperatur kann dabei so geregelt werden, daß Schwankungen über die gesamte Fläche geringer als etwa 1 % sind. Wenn die Temperatur der Metallblöcke in einem Bereich von etwa 110 - 140°C liegt, wird eine Temperaturschwankung von unter 1,5°C erzielt, wobei Durchlaufgeschwindigkeiten von etwa 2 m/min herrschen.
Die Entwicklungskammer ist einfach in ihrem Aufbau, betriebssicher und servicefreundlich. Sie gestattet eine Entwicklung der blasenbildenden photographischen Aufzeichnungsmaterialien hoher Qualität. Aufgrund ihrer Bauweise ist sie vielseitig einsetzbar und kann zum Beispiel auch an ein beliebiges, vorhandenes Dupliziergerät angebaut werden.

Claims

1. Entwicklungskammer zum Entwickeln eines photographischen Aufzeichnungsmaterials für das Vesikularverfahren bestehend aus einem Entwicklungsgehäuse und Ein- und Auslaufwalzenpaaren, dadurch gekennzeichnet, daß sie zwei aufheizbare und im Abstand voneinander einstellbare Metallblöcke (6) enthält, zwischen denen das Aufzeichnungsmaterial (7) geführt wird, wobei die Metallblöcke im Durchlaufbereich (11) mit einem die Oberfläche des Aufzeichnungsmaterials nicht angreifenden Gleitmaterial (4) beaufschlagt sind, und eine Temperaturregelung (8) vorhanden ist, die Temperaturschwankungen von höchstens 1 % gewährleistet.

2. Entwicklungskammer nach Anspruch l, dadurch gekennzeichnet, daß die Metallblöcke (6) auf Temperaturen im Bereich von etwa 100 bis 250°C aufheizbar sind.

3. Entwicklungskammer nach Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Metallblöcke (6) auf Temperaturen im Bereich von etwa 100 bis 140°C aufheizbar sind.

4. Entwicklungskammer nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Temperaturschwankung im Durchlaufbereich (11) kleiner als ± 1,5°C ist.

5. Entwicklungskammer nach Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das die Oberfläche des Aufzeichnungsmaterials (7) nicht angreifende Gleitmaterial (4) ein Gewebe darstellt.

6. Entwicklungskammer nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Gleitmaterial (4) ein Polyamidgewebe ist.

7. Entwicklungskammer nach Ansprüchen 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß der Abstand der beaufschlagten Metallblockoberfläche (6) zur jeweiligen Aufzeichnungsmaterialoberfläche 25 bis 50 µm beträgt.

8. Entwicklungskammer nach Ansprüchen 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die angetriebenen Ein- und Auslaufwalzen gekühlt werden.