EP0017093B1 - Entwicklungskammer - Google Patents
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- EP0017093B1 EP0017093B1 EP80101467A EP80101467A EP0017093B1 EP 0017093 B1 EP0017093 B1 EP 0017093B1 EP 80101467 A EP80101467 A EP 80101467A EP 80101467 A EP80101467 A EP 80101467A EP 0017093 B1 EP0017093 B1 EP 0017093B1
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- recording material
- metal blocks
- developing chamber
- development
- developing
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03D—APPARATUS FOR PROCESSING EXPOSED PHOTOGRAPHIC MATERIALS; ACCESSORIES THEREFOR
- G03D13/00—Processing apparatus or accessories therefor, not covered by groups G11B3/00 - G11B11/00
- G03D13/002—Heat development apparatus, e.g. Kalvar
Definitions
- the invention relates to the development of a photographic recording material for the vesicular process with a layer, optionally on a support, of a mixture of polymeric binders and a compound which is evenly distributed therein and releases gas upon exposure to light.
- the invention relates in particular to a development chamber for developing a photographic recording material for the vesicular process, consisting of a development housing, two heatable metal blocks and pairs of inlet and outlet rollers.
- gas molecules are split off from the light-sensitive material, for example when using a diazo compound, nitrogen molecules which initially remain invisibly distributed in the layer, but diffuse together when heated due to softening of the layer material to form gas bubbles, which in turn expand. This makes the exposed areas opaque in transmitted light and bright in reflected light due to reflection and light scattering.
- the principle of the vesicular method or the bubble photography is known, but could not really prevail because, for example, there were considerable difficulties in the procurement of coating materials, in the exposure and in the development.
- exposure is carried out imagewise by bringing the recording material into contact with a transparent original and exposing it. The material is then heated at 70 to 150 ° C for about 0.1 to 3 seconds, creating a negative image of the original.
- the recording material can be exposed to image cracks, whereupon the gas released from the layer is allowed to diffuse out of the photosensitive layer at a temperature which is too low for image development.
- the recording material is then exposed uniformly in its entirety and then developed during or shortly after the second exposure, but before the gas formed diffuses substantially from the layer, between 70 and 150 ° C. for 0.1 to 3 seconds. This leads to an image development in the areas that were not originally struck by the light, so that an image is created analogous to the original image.
- Various devices are known for developing the recording materials, such as, for example, an apparatus in which the recording material is passed in the form of a film around a roller which is heated to about 100 to 120 ° C. on the coating side.
- An aluminum roller with a highly polished surface is used.
- the disadvantage of this is that the temperature control is obviously not fully satisfactory, so that, for example, layer material sticks to the surfaces, making the recording material unusable.
- a developing device consisting of a chamber heated to approximately 100 to 120 ° C., in which the recording material is deposited, developed in approximately 2 to 3 seconds and removed from the chamber again.
- Such a development has the disadvantage that it cannot be carried out uniformly because the material warps in the chamber and is consequently overdeveloped in hotter places. As a result, the image areas partially disappear in accordance with the thermoplastic behavior of the layer material.
- the object of the present invention was to provide a device for developing bubble-photographic recording material which, as far as possible, ensures a uniform development over the entire image area.
- the solution to this problem is based on a development chamber for developing a photographic recording material for the vesicular process, consisting of a development housing, two heatable metal blocks and pairs of inlet and outlet rollers and is characterized in that the metal blocks 6 are adjustable in distance from one another, between which the recording material 7 is guided, wherein they are covered in the passage area 11 1 with a sliding material 4 which does not attack the surface of the recording material 7, and that a temperature control 8 is present which ensures temperature fluctuations of at most 1%.
- the metal blocks can be heated to temperatures in the range from approximately 100 to 250 ° C., preferably 100 to 140 ° C.
- the developer tion chamber a temperature fluctuation in the flow range 11 less than ⁇ 1.5 ° C.
- the development chamber is independent of the position and can therefore guide the recording material both horizontally and vertically or in any direction in between.
- the temperature in the developing chamber is primarily determined by the residence time of the recording material. A shorter residence time will be necessary at a higher temperature than at a relatively low temperature. The dwell time in turn also depends on the exposure time of the material, so that the present development chamber can be optimally adapted to all requirements.
- the bubble-forming photographic recording material is developed rapidly and uniformly, and despite its thermal softening, it is neither scratched on the surface during development nor does the flatness of the layer support which may be present change.
- the recording material 7 passes through the development chamber at a speed which is coordinated with the preceding exposure time and which is in a range between approximately 0.5 to approximately 7 m / min in the continuous mode.
- the recording material is guided to the post-exposure station (not shown) for the purpose of, for example, destroying the remaining light-sensitive material and can then be used or stacked.
- the respective driven rollers of the roller pairs can preferably be cooled in order to avoid pre- or post-exposure effects on the recording material.
- recesses 10 can also be designed as openings such as holes or slots in the wall of the housing in order to achieve uniform heat dissipation.
- the passage area 11 in the developing chamber for the photographic material 7 is adjustable in distance. The adjustment is made so that the distance between the coated metal block surface and the respective recording material surface is in a range from about 25 to 50 ⁇ m, preferably 30 ⁇ m. It has been shown that such a distance is optimal for the purpose of uniform heat conduction.
- the temperature of the recording material is in a range from about 100 to 150 ° C, depending on its throughput speed. The temperature can be controlled so that fluctuations over the entire area are less than about 1%. If the temperature of the metal blocks is in a range of approximately 110-140 ° C, a temperature fluctuation of less than 1.5 ° C is achieved, with throughput speeds of approximately 2 m / min.
- the development chamber is simple in construction, reliable and easy to service. It allows high quality bubble-forming photographic materials to be developed. Due to its design, it can be used in many different ways and can also be attached to any existing duplicating device, for example.
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- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Description
- Die Erfindung bezieht sich auf die Entwicklung eines photographischen Aufzeichnungsmaterials für das Vesikularverfahren mit einer gegebenenfalls auf einem Schichtträger befindlichen Schicht aus einem Gemisch polymerer Bindemittel und einer darin gleichmäßig verteilten, bei Belichtung Gas abspaltenden Verbindung. Die Erfindung betrifft insbesondere eine Entwicklungskammer zum Entwickeln eines photographischen Aufzeichnungsmaterials für das Vesikularverfahren, bestehend aus einem Entwicklungsgehäuse, zwei aufheizbaren Metallblöcken und Ein- und Auslaufwalzenpaaren.
- Bei Belichtung dieser blasenbildenden, photographischen Aufzeichnungsmaterialien werden aus dem lichtempfindlichen Material Gasmoleküle, zum Beispiel bei Verwendung einer Diazoverbindung Stickstoffmoleküle, abgespalten, die zunächst in der Schicht unsichtbar verteilt bleiben, jedoch beim Erwärmen infolge einer Erweichung des Schichtmaterials zu Gasbläschen zusammendiffundieren, die sich ihrerseits ausdehnen. Hierdurch werden die belichteten Bereiche im durchfallenden Licht undurchsichtig und im auffallenden Licht infolge Reflexion und Lichtstreuung hell.
- Das Prinzip des Vesikularverfahrens oder der Blasenphotographie ist bekannt, konnte sich aber nicht recht durchsetzen, da zum Beispiel erhebliche Schwierigkeiten bei der Beschaffung von Beschichtungsmaterialien, bei der Belichtung und bei der Entwicklung bestanden. Nach einem bekannten Verfahren belichtet man bildmäßig, indem man das Aufzeichnungsmaterial mit einer Transparentvorlage in Kontakt bringt und belichtet. Das Material wird dann etwa 0,1 bis 3 Sekunden bei 70 bis 150°C erwärmt, wodurch ein Negativbild der Vorlage entsteht. Andererseits kann man das Aufzeichnungsmaterial bildrrißig belichten, worauf man das aus der Schicht freigesetzte Gas bei einer Temperatur aus der lichtempfindlichen Schicht diffundieren läßt, die für eine Entwicklung des Bildes zu niedrig ist. Anschließend wird das Aufzeichnungsmaterial in seiner Gesamtheit gleichmäßig belichtet und dann während oder kurz nach der zweiten Belichtung, aber vor einer wesentlichen Diffusion des entstandenen Gases aus der Schicht, 0,1 bis 3 Sekunden zwischen 70 und 150°C entwickelt. Dies führt zu einer Bildentwicklung in den Bereichen, die ursprünglich nicht vom Licht getroffen wurden, so daß ein Bild analog der Bildvorlage entsteht.
- Zur Entwicklung der Aufzeichnungsmaterialien sind verschiedene Einrichtungen bekannt, wie zum Beispiel ein Gerät, bei dem das Aufzeichnungsmaterial in Form eines Filmes um eine auf etwa 100 bis 120°C heiße Walze beschichtungsseitig im Durchlauf geführt wird. Man verwendet dabei eine Aluminiumwalze mit hochglanzpolierter Oberfläche. Nachteilig hieran ist, daß offensichtlich die Temperaturregelung nicht voll befriedigend wirksam ist, so daß zum Beispiel Schichtmaterial an den Oberflächen haften bleibt, wodurch das Aufzeichnungsmaterial unbrauchbar wird.
- Ferner ist eine Entwicklungsvorrichtung bekannt, bestehend aus einer auf etwa 100 bis 120°C beheizten Kammer, in welcher das Aufzeichnungsmaterial abgelegt, in etwa 2 bis 3 Sekunden entwickelt und wieder der Kammer entnommen wird. Eine solche Entwicklung hat den Nachteil, daß sie nicht gleichmäßig durchgeführt werden kann, da sich das Material in der Kammer verwirft und demzufolge an heißeren Stellen überentwickelt wird. Als Folge verschwinden die Bildstellen teilweise gemäß dem thermoplastischen Verhalten des Schichtmaterials.
- Aus US-PS 4 052 732 ist eine Entwicklungskammer zum Entwickeln eines photographischen Aufzeichnungsmaterials für das Vesikularverfahren bekannt mit im Heißluftstrom aufheizbaren Platten, die einen Spalt bilden, der größer ist als die Dicke des Aufzeichnungsmaterials. Eine kontrollierbare Wärmezufuhr, wie sie zur gleichmäßigen Entwicklung über die gesamte Bildfläche im Durchlauf nötig ist, wird hierdurch jedoch nicht voll erreicht.
- Es ist auch bekannt, zur Entwicklung blasenbildender photographischer Aufzeichnungsmaterialien ein Transportband für die Materialien zu benutzen, welches durch Quecksilberdampfstrahler im Impulsbetrieb aufgeheizt wird. Bei dieser Entwicklung treten relativ große Temperaturschwankungen auf, die größer als ±4'C sind. Auch hier ist eine gleichmäßige Entwicklung nicht gewährleistet.
- Aufgabe der vorliegenden Erfindung war es, ein Gerät zur Entwicklung von blasenphotographischem Aufzeichnungsmaterial zur Verfügung zu stellen, das möglichst im Durchlauf eine gleichmäßige Entwicklung über die gesamte Bildfläche gewährleistet.
- Die Lösung dieser Aufgabe geht aus von einer Entwicklungskammer zum Entwickeln eines photographischen Aufzeichnungsmaterials für das Vesikularverfahren, bestehend aus einem Entwicklungsgehäuse, zwei aufheizbaren Metallblöcken und Ein- und Auslaufwalzenpaaren und ist dadurch gekennzeichnet, daß die Metallblökke 6 im Abstand voneinander einstellbar sind, zwischen denen das Aufzeichnungsmaterial 7 geführt wird, wobei sie im Durchlaufbereich 11 1 mit einem die Oberfläche des Aufzeichnungsmaterials 7 nicht angreifenden Gleitmaterial 4 aus einem Gewebe überzogen sind, und daß eine Temperaturregelung 8 vorhanden ist, die Temperaturschwankungen von höchstens 1% gewährleistet.
- Die Metallblöcke sind auf Temperaturen im Bereich von etwa 100 bis 250°C, vorzugsweise 100 bis 140° C, aufheizbar.
- In bevorzugter Ausführung bietet die Entwicklungskammer eine Temperaturschwankung im Durchlaufbereich 11 kleiner als ±1,5°C. Die Entwicklungskammer ist lagenunabhängig, kann deshalb sowohl das Aufzeichnungsmaterial in horizontaler als auch in vertikaler oder in jeder dazwischenliegenden Richtung führen.
- Die Temperatur in der Entwicklungskammer wird in erster Linie durch die Verweilzeit des Aufzeichnungsmaterials bestimmt. Bei höherer Temperatur wird so eine kürzere Verweilzeit notwendig sein als bei einer relativ geringen Temperatur. Die Verweilzeit ihrerseits hängt auch von der Belichtungszeit des Materials ab, so daß die vorliegende Entwicklungskammer allen Anforderungen optimal angepaßt werden kann.
- Das blasenbildende photographische Aufzeichnungsmaterial wird schnell und gleichmäßig entwickelt, wobei es, trotz seiner thermischen Erweichung, während der Entwicklung weder oberflächlich angekratzt wird noch sich die Planlage des gegebenenfalls vorhandenen Schichtträgers verändert.
- Die Entwicklungskammer wird anhand der Zeichnung beispielhaft beschrieben:
- Über das Einlaufwalzenpaar 5, vorzugsweise mit einer Silikon-Auflage oder einer solchen aus einem fluorierten polymeren Kohlenwasserstoff, wird das belichtete Aufzeichnungsmaterial 7 vorzugsweise aus Schichtträger und lichtempfindlicher Schicht eingeführt. Die Anordnung der Schichtseite ist dabei nicht kritisch, so daß das Material mit der lichtempfindlichen Schicht auf der Ober- oder Unterseite wahlweise eingeführt werden kann. Die Entwicklungskammer 1 enthält zwei Metallblöcke 6, die zum Beispiel aus Kupfer oder Messing oder ähnlichem Metall, vorzugsweise jedoch aus Aluminium oder einer Aluminiumlegierung, bestehen und Flächenheizkörper 2, die sowohl außer- als auch innerhalb der Blöcke angeordnet sein können, und die Oberfläche des Aufzeichnungsmaterials nicht angreifendes Gleitmaterial 4, welches zum Schutz vor Streifen- und Kratzerbildung auf der lichtempfindlichen Schicht auf den Metallblöcken im Durchlaufbereich angebracht ist. Das Gleitmaterial 4 ist ein Gewebe. Hier haben sich Materialien wie solche aus Silikongummi oder fluorierten Polymeren, insbesondere aus Polyamid, vorzüglich bewährt. Gleichzeitig dient das Gleitmaterial zur gleichmäßigeren Wärmeverteilung. Die Entwicklungskammer enthält weiterhin das Thermoelement 8, welches die gleichmäßige Temperaturführung regelt.
- Das Aufzeichnungsmaterial 7 durchläuft die Entwicklungskammer mit einer Geschwindigkeit, welche mit der vorausgehenden Belichtungszeit abgestimmt ist und welche im Durchlaufbetrieb in einem Bereich zwischen etwa 0,5 bis etwa 7 m/min liegt.
- Über das Auslaufwalzenpaar 9 wird das Aufzeichnungsmaterial zur Nachbelichtungsstation (nicht gezeigt) zwecks zum Beispiel der Zerstörung des verbliebenen lichtempfindlichen Materials geführt und kann anschließend verwendet oder gestapelt werden.
- Zur Verhinderung der Wärmeabstrahlung von den Metallblöcken 6 auf das Einlauf- bzw. das Auslaufwalzenpaar ist jeweils ein Hitzeschild 3, zum Beispiel aus Asbest, vorgesehen. Die jeweils angetriebenen Walzen der Walzenpaare können vorzugsweise gekühlt werden zwecks Vermeidung von Vor- oder Nachbelichtungseffekten auf dem Aufzeichnungsmaterial. Hier hat es sich auch als zweckmäßig erwiesen, das Entwicklungsgehäuse 1 im Bereich der Ein- und Auslaufwalzen mit Aussparungen 10 zu versehen, die auch als Öffnungen wie Löcher oder Schlitze in der Wandung des Gehäuses ausgebildet sein können, um eine gleichmäßige Wärmeabfuhr zu erzielen.
- Der Durchlaufbereich 11 in der Entwicklungskammer für das photographische Aufzeichnungsmaterial 7 ist im Abstand einstellbar. Die Einstellung erfolgt so, daß der Abstand der beschichteten Metallblockoberfläche zur jeweiligen Aufzeichnungsmaterialoberfläche in einem Bereich von etwa 25 bis 50 j.Lm, vorzugsweise 30 µm, liegt. Es hat sich gezeigt, daß ein solcher Abstand zwecks gleichmäßiger Wärmeführung optimal ist.
- Die Flächenheizkörper 2, die gemäß der Zeichnung außerhalb angeordnet sind, jedoch auch zum Beispiel in den Metallblöcken 6 angeordnet sein können, geben ihre Wärme an die Metallblöcke mit Hilfe des Thermoelements 8 ab. Die Temperatur des Aufzeichnungsmaterials liegt in Abhängigkeit von seiner Durchlaufgeschwindigkeit in einem Bereich von etwa 100 bis 150°C. Die Temperatur kann dabei so geregelt werden, daß Schwankungen über die gesamte Fläche geringer als etwa 1% sind. Wenn die Temperatur der Metallblöcke in einem Bereich von etwa 110-140°C liegt, wird eine Temperaturschwankung von unter 1,5°C erzielt, wobei Durchlaufgeschwindigkeiten von etwa 2 m/min herrschen.
- Die Entwicklungskammer ist einfach in ihrem Aufbau, betriebssicher und servicefreundlich. Sie gestattet eine Entwicklung der blasenbildenden photographischen Aufzeichnungsmaterialien hoher Qualität. Aufgrund ihrer Bauweise ist sie vielseitig einsetzbar und kann zum Beispiel auch an ein beliebiges, vorhandenes Dupliziergerät angebaut werden.
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