EP0017093A1 - Developing chamber - Google Patents

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EP0017093A1
EP0017093A1 EP80101467A EP80101467A EP0017093A1 EP 0017093 A1 EP0017093 A1 EP 0017093A1 EP 80101467 A EP80101467 A EP 80101467A EP 80101467 A EP80101467 A EP 80101467A EP 0017093 A1 EP0017093 A1 EP 0017093A1
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EP
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recording material
development chamber
development
chamber according
metal blocks
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EP80101467A
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Jochen Koblo
Götz Dr. von dem Bussche
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Hoechst AG
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Hoechst AG
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03D—APPARATUS FOR PROCESSING EXPOSED PHOTOGRAPHIC MATERIALS; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03D13/00—Processing apparatus or accessories therefor, not covered by groups G11B3/00 - G11B11/00
    • G03D13/002—Heat development apparatus, e.g. Kalvar

Definitions

  • the invention relates to the development of a photographic recording material for the vesicular process with a layer of a mixture of polymeric binders, optionally on a support, and a compound which is evenly distributed therein and releases gas upon exposure.
  • gas molecules are split off from the light-sensitive material, for example when using a diazo compound, nitrogen molecules which initially remain invisibly distributed in the layer, but diffuse together when heated due to softening of the layer material to form gas bubbles, which in turn expand. This makes the exposed areas opaque in transmitted light and bright in reflected light due to reflection and light scattering.
  • the principle of the vesicular method or the bubble photography is known, but could not really prevail because, for example, there were considerable difficulties in obtaining coating materials, in exposure and in development.
  • exposed imagewise by ransparentvorlage the recording material with a T is brought into contact and exposed. The The material is then heated at 70 to 150 ° C for about 0.1 to 3 seconds, creating a negative image of the original.
  • the recording material can be exposed imagewise, whereupon the gas released from the layer is allowed to diffuse out of the photosensitive layer at a temperature which is too low for image development.
  • the recording material is exposed uniformly in its entirety and then during or shortly after the second exposure, but prior to a Wesent - developed union diffusion of the gas produced from the layer, 0.1 to 3 seconds between 70 and 150 ° C. This leads to an image development in the areas that were not originally struck by the light, so that an image is created analogous to the original image.
  • a developing device consisting of a chamber heated to approximately 100 to 120 ° C., in which the recording material is deposited, developed in approximately 2 to 3 seconds and removed from the chamber again.
  • Such a development has the disadvantage that it cannot be carried out uniformly because the material warps in the chamber and is consequently overdeveloped in hotter places. As a result, the image areas partially disappear in accordance with the thermoplastic behavior of the layer material.
  • the object of the present invention was to provide a device for developing bubble-photographic recording material which, as far as possible, ensures a uniform development over the entire image area.
  • the solution to this problem is based on a development chamber for developing a photographic recording material for the vesicular process consisting of a development housing and input and Outlet roller pairs and is characterized in that it contains two heatable and spacable adjustable metal blocks, between which the recording material is guided, the metal blocks in the passage area being acted upon by a sliding material not attacking the surface of the recording material, and a temperature control is present, the temperature fluctuations guaranteed of at most 1%.
  • the metal blocks can be heated to temperatures in the range from approximately 100 to 250 ° C., preferably 100 to 140 ° C.
  • the development chamber offers temperature control with a fluctuation of ⁇ 1.5 ° C.
  • the development chamber is independent of the position and can therefore guide the recording material both horizontally and vertically or in any direction in between.
  • the temperature in the developing chamber is primarily determined by the residence time of the recording material. A shorter residence time will be necessary at a higher temperature than at a relatively low temperature. The dwell time in turn also depends on the exposure time of the material, so that the present development chamber can be optimally adapted to all requirements.
  • the bubble-forming photographic recording material is developed quickly and uniformly, and despite its thermal softening, it is neither scratched on the surface during development nor does the flatness of the layer support which may be present change.
  • the recording material 7 passes through the development chamber at a speed which is coordinated with the preceding exposure time and which is in a range between approximately 0.5 to approximately 7 m / min in the continuous mode.
  • the recording material is led via the pair of discharge rollers 9 to the post-exposure station (not shown) for the purpose of, for example, destroying the remaining light-sensitive material and can then be used or stacked.
  • the respective driven rollers of the roller pairs can preferably be cooled in order to avoid pre- or post-exposure effects on the recording material.
  • the development housing 1 in the region of the inlet and outlet rollers with recesses 10, which can also be designed as openings such as holes or slots in the wall of the housing in order to achieve uniform heat dissipation.
  • the passage area 11 in the developing chamber for the photographic material 7 is adjustable in distance. The adjustment is made so that the distance from the coated metal block surface to the respective recording material surface is in a range of about 25 to 50 / ⁇ m, preferably 30 / ⁇ m. It has been shown that such a distance is optimal for the purpose of uniform heat conduction.
  • the temperature of the recording material is in a range from about 100 to 150 ° C, depending on its throughput speed. The temperature can be controlled so that fluctuations over the entire area are less than about 1%. If the temperature of the metal blocks is in a range of approximately 110-140 ° C, a temperature fluctuation of less than 1.5 ° C is achieved, with throughput speeds of approximately 2 m / min.
  • the development chamber is simple in construction, reliable and easy to service. It allows high quality bubble-forming photographic materials to be developed. Due to its design, it can be used in many different ways and can also be attached to any existing duplicating device, for example.

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Abstract

Entwicklungskammer (1) zum Entwickeln von Aufzeichnungsmaterial (7) im Vesikularverfahren, bestehend aus einem Entwicklungsgehäuse mit Ein- und Auslaufwalzenpaaren (5,9), wobei das Aufzeichnungsmaterial (1) zwischen zwei auf 100 - 250°C aufheizbaren und im Abstand voneinander einstellbaren Metallblöcken (6) geführt wird, welche im Durchlaufbereich mit einem die Oberfläche des Aufzeichnungsmaterials (7) nicht angreifenden Gleitmaterial (4), wie einem Gewebe, beaufschlagt sind, und eine Temperaturregelung vorhanden ist, die Temperaturschwankungen von höchstens 1% gewährleistet. Der Abstand der beaufschlagten Metallblockoberfläche zur jeweiligen Aufzeichnungsmaterial oberfläche beträgt vorzugsweise 25 - 50 um.Development chamber (1) for developing recording material (7) in the vesicular process, consisting of a development housing with pairs of inlet and outlet rollers (5,9), the recording material (1) between two metal blocks that can be heated to 100-250 ° C. and adjusted at a distance from one another (6) is guided, which is acted upon in the passage area with a sliding material (4), such as a fabric, which does not attack the surface of the recording material (7), and a temperature control is present which ensures temperature fluctuations of at most 1%. The distance between the applied metal block surface and the respective recording material surface is preferably 25-50 μm.

Description

Die Erfindung betrifft die Entwicklung eines photographischen Aufzeichnungsmaterials für das Vesikularverfahren mit einer gegebenenfalls auf einem Schichtträger befindlichen Schicht aus einem Gemisch polymerer Bindemittel und einer darin gleichmäßig verteilten, bei Belichtung Gas abspaltenden Verbindung.The invention relates to the development of a photographic recording material for the vesicular process with a layer of a mixture of polymeric binders, optionally on a support, and a compound which is evenly distributed therein and releases gas upon exposure.

Bei Belichtung dieser blasenbildenden, photographischen Aufzeichnungsmaterialien werden aus dem lichtempfindlichen Material Gasmoleküle, zum Beispiel bei Verwendung einer Diazoverbindung Stickstoffmoleküle, abgespalten, die zunächst in der Schicht unsichtbar verteilt bleiben, jedoch beim Erwärmen infolge einer Erweichung des Schichtmaterials zu Gasbläschen zusammendiffundieren, die sich ihrerseits ausdehnen. Hierdurch werden die belichteten Bereiche im durchfallenden Licht undurchsichtig und im auffallenden Licht infolge Reflexion und Lichtstreuung hell.When these bubble-forming photographic recording materials are exposed, gas molecules are split off from the light-sensitive material, for example when using a diazo compound, nitrogen molecules which initially remain invisibly distributed in the layer, but diffuse together when heated due to softening of the layer material to form gas bubbles, which in turn expand. This makes the exposed areas opaque in transmitted light and bright in reflected light due to reflection and light scattering.

Das Prinzip des Vesikularverfahrens oder der Blasenphotographie ist bekannt, konnte sich aber nicht recht durchsetzen, da zum Beispiel erhebliche Schwierigkeiten bei der Beschaffung von Beschichtungsmaterialien, bei der Belichtung und bei der Entwicklung bestanden. Nach einem bekannten Verfahren belichtet man bildmäßig, indem man das Aufzeichnungsmaterial mit einer Transparentvorlage in Kontakt bringt und belichtet. Das Material wird dann etwa 0,1 bis 3 Sekunden bei 70 bis 150°C erwärmt, wodurch ein Negativbild der Vorlage entsteht. Andererseits kann man das Aufzeichnungsmaterial bildmäßig belichten, worauf man das aus der Schicht freigesetzte Gas bei einer Temperatur aus der lichtempfindlichen Schicht diffundieren läßt, die für eine Entwicklung des Bildes zu niedrig ist. Anschließend wird das Aufzeichnungsmaterial in seiner Gesamtheit gleichmäßig belichtet und dann während oder kurz nach der zweiten Belichtung, aber vor einer wesent- lichen Diffusion des entstandenen Gases aus der Schicht, 0,1 bis 3 Sekunden zwischen 70 und 150°C entwickelt. Dies führt zu einer Bildentwicklung in den Bereichen, die ursprünglich nicht vom Licht getroffen wurden, so daß ein Bild analog der Bildvorlage entsteht.The principle of the vesicular method or the bubble photography is known, but could not really prevail because, for example, there were considerable difficulties in obtaining coating materials, in exposure and in development. According to a known process, exposed imagewise by ransparentvorlage the recording material with a T is brought into contact and exposed. The The material is then heated at 70 to 150 ° C for about 0.1 to 3 seconds, creating a negative image of the original. On the other hand, the recording material can be exposed imagewise, whereupon the gas released from the layer is allowed to diffuse out of the photosensitive layer at a temperature which is too low for image development. Subsequently, the recording material is exposed uniformly in its entirety and then during or shortly after the second exposure, but prior to a Wesent - developed union diffusion of the gas produced from the layer, 0.1 to 3 seconds between 70 and 150 ° C. This leads to an image development in the areas that were not originally struck by the light, so that an image is created analogous to the original image.

Zur Entwicklung der Aufzeichhungsmaterialien sind verschiedene Einrichtungen bekannt wie zum Beispiel ein Gerät, bei dem das Aufzeichnungsmaterial in Form eines Filmes um eine auf etwa 100 bis 120°C heiße Walze beschichtungsseitig im Durchlauf geführt wird. Man verwendet dabei eine Aluminiumwalze mit hochglanzpolierter Oberfläche. Nachteilig hieran ist, daß offen- sichtlich die Temperaturregelung nicht voll befriedigend wirksam ist, so daß zum Beispiel Schichtmaterial an den Oberflächen haften bleibt, wodurch das Aufzeichnungsmaterial unbrauchbar wird.For the development of Aufzeichhungsmaterialien Various devices are known such as an apparatus in which the recording material in the form of a film around a 120 ° C hot roll at about 100 b is eschichtungsseitig out in continuous. An aluminum roller with a highly polished surface is used. Disadvantage of this is that open- s, the temperature control is not fully satisfactory ichtlich effective so that, for example, sheet material remains adhered to the surfaces, whereby the recording material is unusable.

Ferner ist eine Entwicklungsvorrichtung bekannt bestehend aus einer auf etwa 100 bis 1200C beheizten Kammer, in welcher das Aufzeichnungsmaterial abgelegt, in etwa 2 bis 3 Sekunden entwickelt und wieder der Kammer entnommen wird. Eine solche Entwicklung hat den Nachteil, daß sie nicht gleichmäßig durchgeführt werden kann, da sich das Material in der Kammer verwirft und demzufolge an heißeren Stellen überentwickelt wird. Als Folge verschwinden die Bildstellen teilweise gemäß dem thermoplastischen Verhalten des Schichtmaterials.Furthermore, a developing device is known consisting of a chamber heated to approximately 100 to 120 ° C., in which the recording material is deposited, developed in approximately 2 to 3 seconds and removed from the chamber again. Such a development has the disadvantage that it cannot be carried out uniformly because the material warps in the chamber and is consequently overdeveloped in hotter places. As a result, the image areas partially disappear in accordance with the thermoplastic behavior of the layer material.

Es ist auch bekannt, zur Entwicklung blasenbildender photographischer Aufzeichnungsmaterialien ein Transportband für die Materialien zu benutzen, welches durch Quecksilberdampfstrahler im Impulsbetrieb aufgeheizt wird. Bei dieser Entwicklung treten relativ große Temperaturschwankungen auf, die größer als ± 4°C sind. Auch hier ist eine gleichmäßige Entwicklung nicht gewährleistet.It is also known to use a conveyor belt for the materials for the development of bubble-forming photographic recording materials, which conveyor belt is heated by impulse mercury vapor lamps. With this development, relatively large temperature fluctuations occur, which are greater than ± 4 ° C. Even development is not guaranteed here.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung war es, ein Gerät zur Entwicklung von blasenphotographischem Aufzeichnungsmaterial zur Verfügung zu stellen, das möglichst im Durchlauf eine gleichmäßige Entwicklung über die gesamte Bildfläche gewährleistet.The object of the present invention was to provide a device for developing bubble-photographic recording material which, as far as possible, ensures a uniform development over the entire image area.

Die Lösung dieser Aufgabe geht aus von einer Entwicklungskammer zum Entwickeln eines photographischen Aufzeichnungsmaterials für das Vesikularverfahren bestehend aus einem Entwicklungsgehäuse und Ein- und Auslaufwalzenpaaren und ist dadurch gekennzeichnet, daß sie zwei aufheizbare und im Abstand voneinander einstellbare Metallblöcke enthält, zwischen denen das Aufzeichnungsmaterial geführt wird, wobei die Metallblöcke im Durchlaufbereich mit einem die Oberfläche des Aufzeichnungsmaterials nicht angreifenden Gleitmaterial beaufschlagt sind, und eine Temperaturregelung vorhanden ist, die Temperaturschwankungen von höchstens 1% gewährleistet.The solution to this problem is based on a development chamber for developing a photographic recording material for the vesicular process consisting of a development housing and input and Outlet roller pairs and is characterized in that it contains two heatable and spacable adjustable metal blocks, between which the recording material is guided, the metal blocks in the passage area being acted upon by a sliding material not attacking the surface of the recording material, and a temperature control is present, the temperature fluctuations guaranteed of at most 1%.

Die Metallblöcke sind auf Temperaturen im Bereich von etwa 100 bis 250°C, vorzugsweise 100 bis 140°C, aufheizbar.The metal blocks can be heated to temperatures in the range from approximately 100 to 250 ° C., preferably 100 to 140 ° C.

In bevorzugter Ausführung bietet die Entwicklungskammer eine Temperaturführung mit einer Schwankung von ± 1,5°C. Die Entwicklungskammer ist lagenunabhängig, kann deshalb sowohl das Aufzeichnungsmaterial in horizontaler als auch in vertikaler oder in jeder dazwischenliegenden Richtung führen.In a preferred embodiment, the development chamber offers temperature control with a fluctuation of ± 1.5 ° C. The development chamber is independent of the position and can therefore guide the recording material both horizontally and vertically or in any direction in between.

Die Temperatur in der Entwicklungskammer wird in erster Linie durch die Verweilzeit des Aufzeichnungsmaterials bestimmt. Bei höherer Temperatur wird so eine kürzere Verweilzeit notwendig sein als bei einer relativ geringen Temperatur. Die Verweilzeit ihrerseits hängt auch von der Belichtungszeit des Materials ab, so daß die vorliegende Entwicklungskammer allen Anforderungen optimal angepaßt werden kann.The temperature in the developing chamber is primarily determined by the residence time of the recording material. A shorter residence time will be necessary at a higher temperature than at a relatively low temperature. The dwell time in turn also depends on the exposure time of the material, so that the present development chamber can be optimally adapted to all requirements.

Das blasenbildende photographische Aufzeichnungsmaterial wird schnell und gleichmäßig entwickelt, wobei es, trotz seiner thermischen Erweichung, während der Entwicklung weder oberflächlich angekratzt wird noch sich die Planlage des gegebenenfalls vorhandenen Schichtträgers verändert.The bubble-forming photographic recording material is developed quickly and uniformly, and despite its thermal softening, it is neither scratched on the surface during development nor does the flatness of the layer support which may be present change.

Die Entwicklungskammer wird anhand der beigefügten Zeichnung beispielhaft beschrieben:

  • über das Einlaufwalzenpaar 5, vorzugsweise mit einer Silikon-Auflage oder einer solchen aus einem fluorierten polymeren Kohlenwasserstoff, wird das belichtete Aufzeichnungsmaterial 7 vorzugsweise aus Schichtträger und lichtempfindlicher Schicht, eingeführt. Die Anordnung der Schichtseite ist dabei nicht kritisch, so daß das Material mit der lichtempfindlichen Schicht auf der Ober- oder Unterseite wahlweise eingeführt werden kann. Die Entwicklungskammer 1 enthält zwei Metallblöcke 6, die zum Beispiel aus Kupfer oder Messing oder ähnlichem Metall, vorzugsweise jedoch aus Aluminium oder einer Aluminiumlegierung, bestehen und Flächenheizkörper 2, die sowohl außer- als auch innerhalb der Blöcke angeordnet sein können, und die Oberfläche des Aufzeichnungsmaterials nicht angreifendes Gleitmaterial 4, welches zum Schutz vor Streifen- und Kratzerbildung auf der lichtempfindlichen Schicht auf den Metallblöcken im Durchlaufbereich angebracht ist. Das Gleitmaterial 4 kann in Form einer glatten Oberfläche angebracht sein, ist jedoch vorzugsweise ein Gewebe. Hier haben sich
Materialien wie solche aus Silikongummi oder fluorierten Polymeren, insbesondere aus Polyamid, vorzüglich bewährt. Gleichzeitig dient das Gleitmaterial zur gleichmäßigeren Wärmeverteilung. Die Entwicklungskammer 1 enthält weiterhin das Thermoelement 8, welches die gleichmäßige Temperaturführung regelt.The development chamber is described using the attached drawing as an example:
  • The exposed recording material 7, preferably composed of a substrate and a photosensitive layer, is introduced via the pair of inlet rollers 5, preferably with a silicone coating or one made of a fluorinated polymeric hydrocarbon. The arrangement of the layer side is not critical, so that the material with the light-sensitive layer on the top or bottom can optionally be introduced. The development chamber 1 contains two metal blocks 6, which consist for example of copper or brass or similar metal, but preferably of aluminum or an aluminum alloy, and surface heating elements 2, which can be arranged both outside and inside the blocks, and the surface of the recording material non-attacking sliding material 4, which is attached to the light-sensitive layer on the metal blocks in the passage area to protect against streaking and scratching. The sliding material 4 can be applied in the form of a smooth surface, but is preferably a fabric. Have here
Materials such as those made of silicone rubber or fluorinated polymers, in particular made of polyamide, have proven extremely successful. At the same time, the sliding material serves for more even heat distribution. The development chamber 1 also contains the thermocouple 8, which regulates the uniform temperature control.

Das Aufzeichnungsmaterial 7 durchläuft die Entwicklungskammer mit einer Geschwindigkeit, welche mit der vorausgehenden Belichtungszeit abgestimmt ist und welche im Durchlaufbetrieb in einem Bereich zwischen etwa 0,5 bis etwa 7 m/min liegt.The recording material 7 passes through the development chamber at a speed which is coordinated with the preceding exposure time and which is in a range between approximately 0.5 to approximately 7 m / min in the continuous mode.

über das Auslaufwalzenpaar 9 wird das Aufzeichnungsmaterial zur Nachbelichtungsstation (nicht gezeigt) zwecks zum Beispiel der Zerstörung des verbliebenen lichtempfindlichen Materials geführt und kann anschließend verwendet oder gestapelt werden.The recording material is led via the pair of discharge rollers 9 to the post-exposure station (not shown) for the purpose of, for example, destroying the remaining light-sensitive material and can then be used or stacked.

Zur Verhinderung der Wärmeabstrahlung von den Metallblöcken 6 auf das Einlauf- bzw. das Auslaufwalzenpaar ist jeweils ein Hitzeschild 3, zum Beispiel aus Asbest, vorgesehen. Die jeweils angetriebenen Walzen der Walzenpaare können vorzugsweise gekühlt werden, zwecks Vermeidung von Vor- oder Nachbelichtungseffekten auf dem Aufzeichnungsmaterial. Hier hat es sich auch als zweckmäßig erwiesen, das Entwicklungsgehäuse 1 im Bereich der Ein- und Auslaufwalzen mit Aussparungen 10 zu versehen, die auch als Öffnungen wie Löcher oder Schlitze in der Wandung des Gehäuses ausgebildet sein können, um eine gleichmäßige Wärmeabfuhr zu erzielen. Der Durchlaufbereich 11 in der Entwicklungskammer für das photographische Aufzeichnungsmaterial 7 ist im Abstand einstellbar. Die Einstellung erfolgt so, daß der Abstand der beschichteten Metallblockoberfläche zur jeweiligen Aufzeichnungsmaterialoberfläche in einem Bereich von etwa 25 bis 50 /um, vorzugsweise 30 /um, liegt. Es hat sich gezeigt, daß ein solcher Abstand zwecks gleichmäßiger Wärmeführung optimal ist.A heat shield 3, for example made of asbestos, is provided in each case to prevent heat radiation from the metal blocks 6 onto the pair of inlet and outlet rollers. The respective driven rollers of the roller pairs can preferably be cooled in order to avoid pre- or post-exposure effects on the recording material. Here it has also proven to be expedient to provide the development housing 1 in the region of the inlet and outlet rollers with recesses 10, which can also be designed as openings such as holes or slots in the wall of the housing in order to achieve uniform heat dissipation. The passage area 11 in the developing chamber for the photographic material 7 is adjustable in distance. The adjustment is made so that the distance from the coated metal block surface to the respective recording material surface is in a range of about 25 to 50 / µm, preferably 30 / µm. It has been shown that such a distance is optimal for the purpose of uniform heat conduction.

Die Flächenheizkörper 2, die gemäß der Zeichnung außerhalb angeordnet sind, jedoch auch zum Beispiel in den Metallblöcken 6 angeordnet sein können, geben ihre Wärme an die Metallblöcke mit Hilfe des Thermoelements 8 ab. Die Temperatur des Aufzeichnungsmaterials liegt in Abhängigkeit von seiner Durchlaufgeschwindigkeit in einem Bereich von etwa 100 bis 150°C. Die Temperatur kann dabei so geregelt werden, daß Schwankungen über die gesamte Fläche geringer als etwa 1 % sind. Wenn die Temperatur der Metallblöcke in einem Bereich von etwa 110 - 140°C liegt, wird eine Temperaturschwankung von unter 1,5°C erzielt, wobei Durchlaufgeschwindigkeiten von etwa 2 m/min herrschen.The panel radiators 2, which are arranged outside according to the drawing, but can also be arranged for example in the metal blocks 6, give off their heat to the metal blocks with the aid of the thermocouple 8. The temperature of the recording material is in a range from about 100 to 150 ° C, depending on its throughput speed. The temperature can be controlled so that fluctuations over the entire area are less than about 1%. If the temperature of the metal blocks is in a range of approximately 110-140 ° C, a temperature fluctuation of less than 1.5 ° C is achieved, with throughput speeds of approximately 2 m / min.

Die Entwicklungskammer ist einfach in ihrem Aufbau, betriebssicher und servicefreundlich. Sie gestattet eine Entwicklung der blasenbildenden photographischen Aufzeichnungsmaterialien hoher Qualität. Aufgrund ihrer Bauweise ist sie vielseitig einsetzbar und kann zum Beispiel auch an ein beliebiges, vorhandenes Dupliziergerät angebaut werden.The development chamber is simple in construction, reliable and easy to service. It allows high quality bubble-forming photographic materials to be developed. Due to its design, it can be used in many different ways and can also be attached to any existing duplicating device, for example.

Claims (8)

1. Entwicklungskammer zum Entwickeln eines photographischen Aufzeichnungsmaterials für das Vesikularverfahren bestehend aus einem Entwicklungsgehäuse und Ein- und Auslaufwalzenpaaren, dadurch gekennzeichnet, daß sie zwei aufheizbare und im Abstand voneinander einstellbare Metallblöcke (6) enthält, zwischen denen das Aufzeichnungsmaterial (7) geführt wird, wobei die Metallblöcke im Durchlaufbereich (11) mit einem die Oberfläche des Aufzeichnungsmaterials nicht angreifenden Gleitmaterial (4) beaufschlagt sind, und eine Temperaturregelung (8) vorhanden ist, die Temperaturschwankungen von höchstens 1 % gewährleistet.1. Development chamber for developing a photographic recording material for the vesicular process consisting of a development housing and pairs of inlet and outlet rollers, characterized in that it contains two heatable and adjustable metal blocks (6), between which the recording material (7) is guided, whereby the metal blocks in the passage area (11) are acted upon with a sliding material (4) which does not attack the surface of the recording material, and a temperature control (8) is present which ensures temperature fluctuations of at most 1%. 2. Entwicklungskammer nach Anspruch l, dadurch gekennzeichnet, daß die Metallblöcke (6) auf Temperaturen im Bereich von etwa 100 bis 250°C aufheizbar sind.2. Development chamber according to claim 1, characterized in that the metal blocks (6) can be heated to temperatures in the range of approximately 100 to 250 ° C. 3. Entwicklungskammer nach Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Metallblöcke (6) auf Temperaturen im Bereich von etwa 100 bis 140°C aufheizbar sind.3. Development chamber according to claims 1 and 2, characterized in that the metal blocks (6) can be heated to temperatures in the range of about 100 to 140 ° C. 4. Entwicklungskammer nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Temperaturschwankung im Durchlaufbereich (11) kleiner als ± 1,5°C ist.4. Development chamber according to claim 3, characterized in that the temperature fluctuation in the passage area (11) is less than ± 1.5 ° C. 5. Entwicklungskammer nach Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das die Oberfläche des Aufzeichnungsmaterials (7) nicht angreifende Gleitmaterial (4) ein Gewebe darstellt.5. Development chamber according to claims 1 to 4, characterized in that the surface of the on Drawing material (7) non-aggressive sliding material (4) represents a fabric. 6. Entwicklungskammer nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Gleitmaterial (4) ein Polyamidgewebe ist.6. Development chamber according to claim 5, characterized in that the sliding material (4) is a polyamide fabric. 7. Entwicklungskammer nach Ansprüchen 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß der Abstand der beaufschlagten Metallblockoberfläche (6) zur jeweiligen Aufzeichnungsmaterialoberfläche 25 bis 50 µm beträgt.7. Development chamber according to claims 1 to 6, characterized in that the distance between the applied metal block surface (6) to the respective recording material surface is 25 to 50 µm. 8. Entwicklungskammer nach Ansprüchen 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die angetriebenen Ein- und Auslaufwalzen gekühlt werden.8. Development chamber according to claims 1 to 7, characterized in that the driven inlet and outlet rollers are cooled.
EP80101467A 1979-03-28 1980-03-20 Developing chamber Expired EP0017093B1 (en)

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