DE893142C - Lichtempfindliches Material fuer die Bilderzeugung und Reproduktionstechnik - Google Patents
Lichtempfindliches Material fuer die Bilderzeugung und ReproduktionstechnikInfo
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- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 5
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 title claims description 4
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims description 10
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 6
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims description 3
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 claims description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 7
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 239000001667 (E)-4-furan-2-ylbut-3-en-2-one Substances 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M methylene blue Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC2=[S+]C3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 3
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- VTWDKFNVVLAELH-UHFFFAOYSA-N 2-methylcyclohexa-2,5-diene-1,4-dione Chemical compound CC1=CC(=O)C=CC1=O VTWDKFNVVLAELH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 108010076830 Thionins Proteins 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- KJPRLNWUNMBNBZ-QPJJXVBHSA-N (E)-cinnamaldehyde Chemical compound O=C\C=C\C1=CC=CC=C1 KJPRLNWUNMBNBZ-QPJJXVBHSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MOMFXATYAINJML-UHFFFAOYSA-N 2-Acetylthiazole Chemical group CC(=O)C1=NC=CS1 MOMFXATYAINJML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N acetone Substances CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940117916 cinnamic aldehyde Drugs 0.000 description 1
- KJPRLNWUNMBNBZ-UHFFFAOYSA-N cinnamic aldehyde Natural products O=CC=CC1=CC=CC=C1 KJPRLNWUNMBNBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- BBFBNDYGZBKPIA-UHFFFAOYSA-K dichlorozinc [7-(diethylamino)phenothiazin-3-ylidene]-dimethylazanium chloride Chemical compound [Cl-].Cl[Zn]Cl.C1=CC(=[N+](C)C)C=C2SC3=CC(N(CC)CC)=CC=C3N=C21 BBFBNDYGZBKPIA-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N dichromate(2-) Chemical compound [O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006471 dimerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- MMNXLZXDQPYOGN-UHFFFAOYSA-N furan-2-carbaldehyde;1-phenylethanone Chemical compound O=CC1=CC=CO1.CC(=O)C1=CC=CC=C1 MMNXLZXDQPYOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 hydroquinone Chemical class 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 235000019239 indanthrene blue RS Nutrition 0.000 description 1
- UHOKSCJSTAHBSO-UHFFFAOYSA-N indanthrone blue Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=C4NC5=C6C(=O)C7=CC=CC=C7C(=O)C6=CC=C5NC4=C3C(=O)C2=C1 UHOKSCJSTAHBSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N tetrachloro-1,4-benzoquinone Chemical compound ClC1=C(Cl)C(=O)C(Cl)=C(Cl)C1=O UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004897 thiazines Chemical class 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
Erteilt auf Grund des Ersten öberleitungsgesetzes vom 8. Juli 1949
(WiGBl. S. 175)
BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND
AUSGEGEBEN AM 12. OKTOBER 1953
DEUTSCHES PATENTAMT
PATENTSCHRIFT
O ioo6IVaJ57b
Dr. Wilhelm Neugebauer, Wiesbaden-Biebrich,
Dr. Martha Tomanek, Wiesbaden-Biebrich und
Dr. Theo Scherer, Wiesbaden- Biebrich
sind als Erfinder genannt worden
Kalle Sd Co. Aktiengesellschaft, Wiesbaden-Biebrich
Lichtempfindliches Material für die Bilderzeugung und Reproduktionstechnik
Zusatz zum Patent 884 152 Patentiert im Gebiet der Bundesrepublik Deutschland vom 6. September 1950 an
Das Hauptpatent hat angefangen am 20. Mai 1950
Patentanmeldung bekanntgemacht am 24. Dezember 1£52
Patenterteilung bekanntgemacht am 3. September 1953
Das Patent 884152 betrifft Schiebten für die
plhotomechanische Reproduktion sowie ein Verfahren zur Herstellung von Druckformen und
schützt die Verwendung von ungesättigten Ketonen mit der Kohlenstoffgruppierung
-(C = C)x-CO-(C = C)2,.
in der χ und y für o, 1, 2 oder 3 stehen können,
derart, daß die Summe von χ und y mindestens = 2 ist, oder von Ketonen mit der Gruppierung
HC CH
HC C-CH = C-CO-
als Bildner lichtempfindlicher Schichten bei der Erzeugung
von lichtempfindlicheim Material, das in der photomechanischen Reproduktionstechnik gebraucht
werden soll.
Nachdem das lichtempfindliche Material unter einer Vorlage belichtet und darauf entwickelt ist,
z. B. mit verdünnter Phosphorsäure, nimmt es nur an den vom Licht getroffenen Stellen, die mit einem
aus dem ungesättigten Keton entstandenen Photoprodukt bedeckt sind, fette Farbe an und kann als
Flachdruckplatte dienen.
Die mit ungesättigten Ketonen !hergestellten lichtempfindlichen Schichten auf Metallplatten, besonders
aus Aluminium, sind im unbelichteten Zustand wesentlich haltbarer als Bichromatschichten.
Bei weiterer Bearbeitung dieser neuen lichtempfindlichen
Schichten und .des zur Herstellung von Druckformen einzuhaltenden Entwicklungsverfahrens
ist nun gefunden worden, daß man eine wesentliche Verbesserung durch einen Zusatz von
aromatischen Hydroxylverbindungen, Chinonen oder schwefelhaltigen Verbindungen als Polymerisationsinhibitoren
zur lichtempfindlichen Schicht erzielt. Die Verbesserung ist hauptsächlich in einer
ίο verlängerten Lagerfähigkeit der lichtempfindlichen
Schichten zu sehen.
Es genügt im allgemeinen der Zusatz sehr kleiner Mengen der Polymerisationsinhibitoren,
beispielsweise sind in den meisten Fällen Mengen von etwa 0,1 °/o, .auf das verwendete Keton oder
Ketongemisch berechnet, ausreichend. Praktisch wird man so verfahren, daß die Polymerisationsinhibitoren
den Beschichtungslösungen zugesetzt werden, welche die lichtempfindlichen Ketone enthalten.
Als wirksame Polymerisationsinhibitoren werden beispielsweise genannt Phenole, wie Hydrochinon,
und von den schwefelhaltigen Verbindungen besonders Farbstoffe derThiazinreihe, wie Thionin,
Thioninblau G, Methylenblau B, Toluidiniblau O
u. ä.
Da die Photoprodukte, welche die im Hauptpatent angeführten ungesättigten Ketone im Licht
ergeben, wahrscheinlich identisch sind mit den Verbindungen, welche sich bei der Dunkelreaktion
bei längerem Lagern der beschichteten Platten bilden und welche als Polymerisations- oder
Dimerisationsprodukte anzusehen sind, ist es sehr überraschend, daß sich zwar die Dunkelreaktion
wirksam durch die Inhibitoren verhindern läßt, daß aber die Lichtreaktion auf diese nicht oder nur
unbedeutend anspricht.
i. Die Lösung von 2,5 Teilen a-Cinnamal-y-furfural-aceton
und 0,1 Teilen Methylenblau B in 100 Teilen Alkohol wird auf eine mechanisch angerauhte Aluminiumplatte aufgebracht und getrocknet.
Die so beschichtete Platte kann bei einer Temperatur von 400 C und einem relativen Feuchtigkeitsgehalt
der Luft von 85 %> 4 Tage lang gelagert werden, ohne daß sidh die Schicht verändert, während
ohne Zusatz von Methylenblau B nach 2 Tagen Veränderungen der Schicht eintreten.
Man belichtet die so gelagerte Platte unter einer negativen Vorlage bei Verwendung einer 18-Ampere-Bogenlampe
in 60cmAbstand etwa 2Minuten,
entwickelt die belichtete Schicht, indem man sie in 950 Teilen i8°/oiger Phosphorsäure, denen noch
50 Teile Metlhyläthylketon zugesetzt sind, badet.
Bereits nach kurzer Zeit kann man einen Farbumschlag beobachten. Hierauf wird die entwickelte
Platte gut mit Wasser abgespült und mit fetter Farbe eingerieben. Es entsteht eine positive Druckplatte.
2. Man verfährt wie dn Beispiel 1, verwendet
aber zum Beschichten der Aluminiumplatte die Lösung eines Gemisches von 1,5 Teilen a-Cinnamal-y-furfural-aceton,
1 Teil a-Cinnamal-y-citralaceton
und 0,1 Teilen Thionin in 100 Teilen
Alkohol. Die so beschichtete Platte kann in u'nverändertem
Zustand unter den in Beispiel 1 beschriebenen Bedingungen 15 Tage lang aufbewahrt
werden, ohne daß die lichtempfindliche Schicht sich ändert. Ohne den Zusatz von Thionin wäre nur
etwa eine iotägige Aufbewahrungsizeit gegeben.
3. Man löst 2,5 Teile a-Cinnamal-y-furfuralaceton
unter Zusatz von Spuren Hydrochinon in 100 Teilen eines Gemisches aus gleichen Teilen
Dioxan und Alkohol; beschichtet mit dieser Lösung eine Aluminiumplatte und trocknet. Dann belichtet
man 5 Minuten unter einer negativen Vorlage, entwickelt durch Überwischen mit 4°/oiger Phosphorsäure
und reibt mit fetter Farbe ein. Man erhält auf diese Weise positive Druckformen. Der Zusatz
von Hydrochinon bewirkt eine Erhöhung der Lagerfähigkeit der lichtempfindlich gemachten Aluminiumplatte
in unbelichtetem Zustand.
4. Man verfährt wie in Beispiel 1, verwendet aber zum Beschichten der mechanisch aufgerauhten
Aluminiumplatte die Lösung eines Gemisches aus ι Teil Cinnamal-2-acetothienon, 1 Teil a-Cinnamaly-citral-aceton
und 0,1 Teilen p-Toluchinon in 100 Teilen Alkohol. Der Zusatz von p-Toluchinon
bewirkt eine Erhöhung der Lagerfähigkeit der so beschichteten Platte auf das Dreifache.
Cinnamal-2-acetothienon mit der Formel HC CH
HCx /C-CO-CH = CH-CH = CH-C6H5
wird aus 2-Acetyl-jthiophen und Zimtaldehyd mittels
Natronlauge gewonnen. Das Kondensationsprodukt stellt eine gelbe kristallinische Substanz
dar, die bei ioo° C schmilzt.
5. Man löst 0,5 Teile ot-Cinnamal-y-anisalaceton,
0,5 Teile Furfural-acetophenon, 0,5 Teile Cinnamal-2-acetothienon
und 0,2 Teile Chlpranil (2, 3, 5, ö-Tetrachlor-p-benzochinon) in 100 Teilen Alkohol,
beschichtet mit dieser Lösung eine Aluminiumplatte und trocknet. Dann belichtet man die Schichtseite
der Platte 1 Minute unter einer negativen Vorlage, entwickelt durch Überwischen mit 4%iger
Phosphorsäure und reibt mit fetter Farbe'ein. Man erhält auf diese Weise positive Druckformen.
Der Zusatz von Chloranil bewirkt eine Lagerfähigkeit der beschichteten Platte von vielen
Monaten in unbelichtetem und trockenem Zustand bei Zimmertemperatur, während ohne Zusatz die
Platten bereits nach einigen Tagen unbrauchbar sind.
Claims (1)
- Patentanspruch:Lichtempfindliches Material für die Bilderzeugung und Reproduktionstechnik nach Patent 884 152, dadurch gekennzeichnet, daß in der lichtempfindlichen ' Schicht außer den Ketonen aromatische Hydroxylverbindungen, Chinone oder schwefelhaltige Verbindungen enthalten sind, die als Polymerisationsinhibitoren für die Ketone wirken.) 5467 10.
Priority Applications (13)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL87830D NL87830C (de) | 1950-05-19 | ||
| DENDAT884152D DE884152C (de) | 1950-05-19 | Schichten fuer die photomechanische Reproduktion und Verfahren zur Herstellung von Druckformen | |
| NL7413499.A NL160533B (nl) | 1950-05-19 | Capsule kantelapparaat. | |
| BE502740D BE502740A (de) | 1950-05-19 | ||
| DEO1006A DE893142C (de) | 1950-05-19 | 1950-09-05 | Lichtempfindliches Material fuer die Bilderzeugung und Reproduktionstechnik |
| DEK8470A DE901127C (de) | 1950-05-19 | 1950-12-22 | Verfahren zur photomechanischen Herstellung von Bildern und Druckformen |
| GB9104/51A GB712991A (en) | 1950-05-19 | 1951-04-18 | Process of photo-mechanical reproduction |
| FR1040784D FR1040784A (fr) | 1950-05-19 | 1951-05-02 | Couches pour la reproduction photo-mécanique et procédé pour l'obtention de formes d'impression |
| US226104A US2768077A (en) | 1950-05-19 | 1951-05-12 | Photolithographic material and process |
| CH295104D CH295104A (de) | 1950-05-19 | 1951-05-19 | Verfahren zur photomechanischen Herstellung von Bildern und Druckformen. |
| CH295103D CH295103A (de) | 1950-05-19 | 1951-05-19 | Verfahren zur photomechanischen Herstellung von Bildern und Druckformen. |
| CH297443D CH297443A (de) | 1950-05-19 | 1951-05-19 | Verfahren zur photomechanischen Herstellung von Bildern und Druckformen. |
| CH295105D CH295105A (de) | 1950-05-19 | 1951-05-30 | Verfahren zur photomechanischen Herstellung von Bildern und Druckformen. |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DEO0000501 | 1950-05-19 | ||
| DEO1006A DE893142C (de) | 1950-05-19 | 1950-09-05 | Lichtempfindliches Material fuer die Bilderzeugung und Reproduktionstechnik |
| DEK8470A DE901127C (de) | 1950-05-19 | 1950-12-22 | Verfahren zur photomechanischen Herstellung von Bildern und Druckformen |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE893142C true DE893142C (de) | 1953-10-12 |
Family
ID=27211122
Family Applications (3)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DENDAT884152D Expired DE884152C (de) | 1950-05-19 | Schichten fuer die photomechanische Reproduktion und Verfahren zur Herstellung von Druckformen | |
| DEO1006A Expired DE893142C (de) | 1950-05-19 | 1950-09-05 | Lichtempfindliches Material fuer die Bilderzeugung und Reproduktionstechnik |
| DEK8470A Expired DE901127C (de) | 1950-05-19 | 1950-12-22 | Verfahren zur photomechanischen Herstellung von Bildern und Druckformen |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DENDAT884152D Expired DE884152C (de) | 1950-05-19 | Schichten fuer die photomechanische Reproduktion und Verfahren zur Herstellung von Druckformen |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DEK8470A Expired DE901127C (de) | 1950-05-19 | 1950-12-22 | Verfahren zur photomechanischen Herstellung von Bildern und Druckformen |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US2768077A (de) |
| BE (1) | BE502740A (de) |
| CH (4) | CH295104A (de) |
| DE (3) | DE893142C (de) |
| FR (1) | FR1040784A (de) |
| GB (1) | GB712991A (de) |
| NL (2) | NL160533B (de) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| DE1219794B (de) * | 1958-12-30 | 1966-06-23 | Gen Aniline & Film Corp | Photopolymerisierbare Schicht |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3125597A (en) * | 1964-03-17 | chj oh | ||
| US2959482A (en) * | 1951-07-17 | 1960-11-08 | Azoplate Corp | Light sensitive material |
| NL196090A (de) * | 1954-04-03 | |||
| NL195961A (de) * | 1954-04-03 | |||
| NL97270C (de) * | 1955-03-02 | |||
| LU38469A1 (de) * | 1959-04-08 | |||
| NL255071A (de) * | 1959-08-20 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US1965710A (en) * | 1931-01-21 | 1934-07-10 | Eastman Kodak Co | Photomechanical resist |
| US2003268A (en) * | 1933-09-13 | 1935-05-28 | Multigraph Co | Method of etching planographic plates, composition therefor, and resulting product |
| US2184283A (en) * | 1935-07-26 | 1939-12-26 | Emil R Capita | Heating apparatus and supply therefor |
| US2312854A (en) * | 1940-07-20 | 1943-03-02 | Toland William Craig | Light-sensitive element |
| US2373357A (en) * | 1941-11-21 | 1945-04-10 | Toland William Craig | Method of making printing plates |
| US2367420A (en) * | 1942-06-22 | 1945-01-16 | Lithomat Corp | Photogravure printing plate and method of making same |
| US2532865A (en) * | 1946-05-01 | 1950-12-05 | Toland William Craig | Lithographic printing plate |
| US2556144A (en) * | 1946-07-12 | 1951-06-05 | Columbia Ribbon & Carbon | Planographic master plate |
| US2570262A (en) * | 1947-01-23 | 1951-10-09 | Columbia Ribbon & Carbon | Photosensitive planographic plate |
-
0
- DE DENDAT884152D patent/DE884152C/de not_active Expired
- NL NL87830D patent/NL87830C/xx active
- NL NL7413499.A patent/NL160533B/xx unknown
- BE BE502740D patent/BE502740A/xx unknown
-
1950
- 1950-09-05 DE DEO1006A patent/DE893142C/de not_active Expired
- 1950-12-22 DE DEK8470A patent/DE901127C/de not_active Expired
-
1951
- 1951-04-18 GB GB9104/51A patent/GB712991A/en not_active Expired
- 1951-05-02 FR FR1040784D patent/FR1040784A/fr not_active Expired
- 1951-05-12 US US226104A patent/US2768077A/en not_active Expired - Lifetime
- 1951-05-19 CH CH295104D patent/CH295104A/de unknown
- 1951-05-19 CH CH295103D patent/CH295103A/de unknown
- 1951-05-19 CH CH297443D patent/CH297443A/de unknown
- 1951-05-30 CH CH295105D patent/CH295105A/de unknown
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CH295105A (de) | 1953-12-15 |
| NL87830C (de) | |
| DE901127C (de) | 1954-01-07 |
| BE502740A (de) | |
| CH297443A (de) | 1954-03-31 |
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| US2768077A (en) | 1956-10-23 |
| NL160533B (nl) |
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