DE893142C - Lichtempfindliches Material fuer die Bilderzeugung und Reproduktionstechnik - Google Patents
Lichtempfindliches Material fuer die Bilderzeugung und ReproduktionstechnikInfo
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- DE893142C DE893142C DEO1006A DEO0001006A DE893142C DE 893142 C DE893142 C DE 893142C DE O1006 A DEO1006 A DE O1006A DE O0001006 A DEO0001006 A DE O0001006A DE 893142 C DE893142 C DE 893142C
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
Erteilt auf Grund des Ersten öberleitungsgesetzes vom 8. Juli 1949
(WiGBl. S. 175)
BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND
AUSGEGEBEN AM 12. OKTOBER 1953
DEUTSCHES PATENTAMT
PATENTSCHRIFT
O ioo6IVaJ57b
Dr. Wilhelm Neugebauer, Wiesbaden-Biebrich,
Dr. Martha Tomanek, Wiesbaden-Biebrich und
Dr. Theo Scherer, Wiesbaden- Biebrich
sind als Erfinder genannt worden
Kalle Sd Co. Aktiengesellschaft, Wiesbaden-Biebrich
Lichtempfindliches Material für die Bilderzeugung und Reproduktionstechnik
Zusatz zum Patent 884 152 Patentiert im Gebiet der Bundesrepublik Deutschland vom 6. September 1950 an
Das Hauptpatent hat angefangen am 20. Mai 1950
Patentanmeldung bekanntgemacht am 24. Dezember 1£52
Patenterteilung bekanntgemacht am 3. September 1953
Das Patent 884152 betrifft Schiebten für die
plhotomechanische Reproduktion sowie ein Verfahren zur Herstellung von Druckformen und
schützt die Verwendung von ungesättigten Ketonen mit der Kohlenstoffgruppierung
-(C = C)x-CO-(C = C)2,.
in der χ und y für o, 1, 2 oder 3 stehen können,
derart, daß die Summe von χ und y mindestens = 2 ist, oder von Ketonen mit der Gruppierung
HC CH
HC C-CH = C-CO-
als Bildner lichtempfindlicher Schichten bei der Erzeugung
von lichtempfindlicheim Material, das in der photomechanischen Reproduktionstechnik gebraucht
werden soll.
Nachdem das lichtempfindliche Material unter einer Vorlage belichtet und darauf entwickelt ist,
z. B. mit verdünnter Phosphorsäure, nimmt es nur an den vom Licht getroffenen Stellen, die mit einem
aus dem ungesättigten Keton entstandenen Photoprodukt bedeckt sind, fette Farbe an und kann als
Flachdruckplatte dienen.
Die mit ungesättigten Ketonen !hergestellten lichtempfindlichen Schichten auf Metallplatten, besonders
aus Aluminium, sind im unbelichteten Zustand wesentlich haltbarer als Bichromatschichten.
Bei weiterer Bearbeitung dieser neuen lichtempfindlichen
Schichten und .des zur Herstellung von Druckformen einzuhaltenden Entwicklungsverfahrens
ist nun gefunden worden, daß man eine wesentliche Verbesserung durch einen Zusatz von
aromatischen Hydroxylverbindungen, Chinonen oder schwefelhaltigen Verbindungen als Polymerisationsinhibitoren
zur lichtempfindlichen Schicht erzielt. Die Verbesserung ist hauptsächlich in einer
ίο verlängerten Lagerfähigkeit der lichtempfindlichen
Schichten zu sehen.
Es genügt im allgemeinen der Zusatz sehr kleiner Mengen der Polymerisationsinhibitoren,
beispielsweise sind in den meisten Fällen Mengen von etwa 0,1 °/o, .auf das verwendete Keton oder
Ketongemisch berechnet, ausreichend. Praktisch wird man so verfahren, daß die Polymerisationsinhibitoren
den Beschichtungslösungen zugesetzt werden, welche die lichtempfindlichen Ketone enthalten.
Als wirksame Polymerisationsinhibitoren werden beispielsweise genannt Phenole, wie Hydrochinon,
und von den schwefelhaltigen Verbindungen besonders Farbstoffe derThiazinreihe, wie Thionin,
Thioninblau G, Methylenblau B, Toluidiniblau O
u. ä.
Da die Photoprodukte, welche die im Hauptpatent angeführten ungesättigten Ketone im Licht
ergeben, wahrscheinlich identisch sind mit den Verbindungen, welche sich bei der Dunkelreaktion
bei längerem Lagern der beschichteten Platten bilden und welche als Polymerisations- oder
Dimerisationsprodukte anzusehen sind, ist es sehr überraschend, daß sich zwar die Dunkelreaktion
wirksam durch die Inhibitoren verhindern läßt, daß aber die Lichtreaktion auf diese nicht oder nur
unbedeutend anspricht.
i. Die Lösung von 2,5 Teilen a-Cinnamal-y-furfural-aceton
und 0,1 Teilen Methylenblau B in 100 Teilen Alkohol wird auf eine mechanisch angerauhte Aluminiumplatte aufgebracht und getrocknet.
Die so beschichtete Platte kann bei einer Temperatur von 400 C und einem relativen Feuchtigkeitsgehalt
der Luft von 85 %> 4 Tage lang gelagert werden, ohne daß sidh die Schicht verändert, während
ohne Zusatz von Methylenblau B nach 2 Tagen Veränderungen der Schicht eintreten.
Man belichtet die so gelagerte Platte unter einer negativen Vorlage bei Verwendung einer 18-Ampere-Bogenlampe
in 60cmAbstand etwa 2Minuten,
entwickelt die belichtete Schicht, indem man sie in 950 Teilen i8°/oiger Phosphorsäure, denen noch
50 Teile Metlhyläthylketon zugesetzt sind, badet.
Bereits nach kurzer Zeit kann man einen Farbumschlag beobachten. Hierauf wird die entwickelte
Platte gut mit Wasser abgespült und mit fetter Farbe eingerieben. Es entsteht eine positive Druckplatte.
2. Man verfährt wie dn Beispiel 1, verwendet
aber zum Beschichten der Aluminiumplatte die Lösung eines Gemisches von 1,5 Teilen a-Cinnamal-y-furfural-aceton,
1 Teil a-Cinnamal-y-citralaceton
und 0,1 Teilen Thionin in 100 Teilen
Alkohol. Die so beschichtete Platte kann in u'nverändertem
Zustand unter den in Beispiel 1 beschriebenen Bedingungen 15 Tage lang aufbewahrt
werden, ohne daß die lichtempfindliche Schicht sich ändert. Ohne den Zusatz von Thionin wäre nur
etwa eine iotägige Aufbewahrungsizeit gegeben.
3. Man löst 2,5 Teile a-Cinnamal-y-furfuralaceton
unter Zusatz von Spuren Hydrochinon in 100 Teilen eines Gemisches aus gleichen Teilen
Dioxan und Alkohol; beschichtet mit dieser Lösung eine Aluminiumplatte und trocknet. Dann belichtet
man 5 Minuten unter einer negativen Vorlage, entwickelt durch Überwischen mit 4°/oiger Phosphorsäure
und reibt mit fetter Farbe ein. Man erhält auf diese Weise positive Druckformen. Der Zusatz
von Hydrochinon bewirkt eine Erhöhung der Lagerfähigkeit der lichtempfindlich gemachten Aluminiumplatte
in unbelichtetem Zustand.
4. Man verfährt wie in Beispiel 1, verwendet aber zum Beschichten der mechanisch aufgerauhten
Aluminiumplatte die Lösung eines Gemisches aus ι Teil Cinnamal-2-acetothienon, 1 Teil a-Cinnamaly-citral-aceton
und 0,1 Teilen p-Toluchinon in 100 Teilen Alkohol. Der Zusatz von p-Toluchinon
bewirkt eine Erhöhung der Lagerfähigkeit der so beschichteten Platte auf das Dreifache.
Cinnamal-2-acetothienon mit der Formel HC CH
HCx /C-CO-CH = CH-CH = CH-C6H5
wird aus 2-Acetyl-jthiophen und Zimtaldehyd mittels
Natronlauge gewonnen. Das Kondensationsprodukt stellt eine gelbe kristallinische Substanz
dar, die bei ioo° C schmilzt.
5. Man löst 0,5 Teile ot-Cinnamal-y-anisalaceton,
0,5 Teile Furfural-acetophenon, 0,5 Teile Cinnamal-2-acetothienon
und 0,2 Teile Chlpranil (2, 3, 5, ö-Tetrachlor-p-benzochinon) in 100 Teilen Alkohol,
beschichtet mit dieser Lösung eine Aluminiumplatte und trocknet. Dann belichtet man die Schichtseite
der Platte 1 Minute unter einer negativen Vorlage, entwickelt durch Überwischen mit 4%iger
Phosphorsäure und reibt mit fetter Farbe'ein. Man erhält auf diese Weise positive Druckformen.
Der Zusatz von Chloranil bewirkt eine Lagerfähigkeit der beschichteten Platte von vielen
Monaten in unbelichtetem und trockenem Zustand bei Zimmertemperatur, während ohne Zusatz die
Platten bereits nach einigen Tagen unbrauchbar sind.
Claims (1)
- Patentanspruch:Lichtempfindliches Material für die Bilderzeugung und Reproduktionstechnik nach Patent 884 152, dadurch gekennzeichnet, daß in der lichtempfindlichen ' Schicht außer den Ketonen aromatische Hydroxylverbindungen, Chinone oder schwefelhaltige Verbindungen enthalten sind, die als Polymerisationsinhibitoren für die Ketone wirken.) 5467 10.
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