DE893142C - Lichtempfindliches Material fuer die Bilderzeugung und Reproduktionstechnik - Google Patents

Lichtempfindliches Material fuer die Bilderzeugung und Reproduktionstechnik

Info

Publication number
DE893142C
DE893142C DEO1006A DEO0001006A DE893142C DE 893142 C DE893142 C DE 893142C DE O1006 A DEO1006 A DE O1006A DE O0001006 A DEO0001006 A DE O0001006A DE 893142 C DE893142 C DE 893142C
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
photosensitive material
image generation
reproduction technology
parts
photosensitive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DEO1006A
Other languages
English (en)
Inventor
Wilhelm Dr Neugebauer
Theo Dr Scherer
Martha Dr Tomanek
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kalle GmbH and Co KG
Original Assignee
Kalle GmbH and Co KG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to DENDAT884152D priority Critical patent/DE884152C/de
Priority to NL87830D priority patent/NL87830C/xx
Priority to NL7413499.A priority patent/NL160533B/xx
Priority to BE502740D priority patent/BE502740A/xx
Application filed by Kalle GmbH and Co KG filed Critical Kalle GmbH and Co KG
Priority to DEO1006A priority patent/DE893142C/de
Priority to DEK8470A priority patent/DE901127C/de
Priority to GB9104/51A priority patent/GB712991A/en
Priority to FR1040784D priority patent/FR1040784A/fr
Priority to US226104A priority patent/US2768077A/en
Priority to CH295104D priority patent/CH295104A/de
Priority to CH297443D priority patent/CH297443A/de
Priority to CH295103D priority patent/CH295103A/de
Priority to CH295105D priority patent/CH295105A/de
Application granted granted Critical
Publication of DE893142C publication Critical patent/DE893142C/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0045Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

Erteilt auf Grund des Ersten öberleitungsgesetzes vom 8. Juli 1949
(WiGBl. S. 175)
BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND
AUSGEGEBEN AM 12. OKTOBER 1953
DEUTSCHES PATENTAMT
PATENTSCHRIFT
KLASSE 57 b GRUPPE 10
O ioo6IVaJ57b
Dr. Wilhelm Neugebauer, Wiesbaden-Biebrich,
Dr. Martha Tomanek, Wiesbaden-Biebrich und
Dr. Theo Scherer, Wiesbaden- Biebrich
sind als Erfinder genannt worden
Kalle Sd Co. Aktiengesellschaft, Wiesbaden-Biebrich
Lichtempfindliches Material für die Bilderzeugung und Reproduktionstechnik
Zusatz zum Patent 884 152 Patentiert im Gebiet der Bundesrepublik Deutschland vom 6. September 1950 an
Das Hauptpatent hat angefangen am 20. Mai 1950
Patentanmeldung bekanntgemacht am 24. Dezember 1£52
Patenterteilung bekanntgemacht am 3. September 1953
Das Patent 884152 betrifft Schiebten für die plhotomechanische Reproduktion sowie ein Verfahren zur Herstellung von Druckformen und schützt die Verwendung von ungesättigten Ketonen mit der Kohlenstoffgruppierung
-(C = C)x-CO-(C = C)2,.
in der χ und y für o, 1, 2 oder 3 stehen können, derart, daß die Summe von χ und y mindestens = 2 ist, oder von Ketonen mit der Gruppierung
HC CH
HC C-CH = C-CO-
als Bildner lichtempfindlicher Schichten bei der Erzeugung von lichtempfindlicheim Material, das in der photomechanischen Reproduktionstechnik gebraucht werden soll.
Nachdem das lichtempfindliche Material unter einer Vorlage belichtet und darauf entwickelt ist, z. B. mit verdünnter Phosphorsäure, nimmt es nur an den vom Licht getroffenen Stellen, die mit einem aus dem ungesättigten Keton entstandenen Photoprodukt bedeckt sind, fette Farbe an und kann als Flachdruckplatte dienen.
Die mit ungesättigten Ketonen !hergestellten lichtempfindlichen Schichten auf Metallplatten, besonders aus Aluminium, sind im unbelichteten Zustand wesentlich haltbarer als Bichromatschichten.
Bei weiterer Bearbeitung dieser neuen lichtempfindlichen Schichten und .des zur Herstellung von Druckformen einzuhaltenden Entwicklungsverfahrens ist nun gefunden worden, daß man eine wesentliche Verbesserung durch einen Zusatz von aromatischen Hydroxylverbindungen, Chinonen oder schwefelhaltigen Verbindungen als Polymerisationsinhibitoren zur lichtempfindlichen Schicht erzielt. Die Verbesserung ist hauptsächlich in einer
ίο verlängerten Lagerfähigkeit der lichtempfindlichen Schichten zu sehen.
Es genügt im allgemeinen der Zusatz sehr kleiner Mengen der Polymerisationsinhibitoren, beispielsweise sind in den meisten Fällen Mengen von etwa 0,1 °/o, .auf das verwendete Keton oder Ketongemisch berechnet, ausreichend. Praktisch wird man so verfahren, daß die Polymerisationsinhibitoren den Beschichtungslösungen zugesetzt werden, welche die lichtempfindlichen Ketone enthalten. Als wirksame Polymerisationsinhibitoren werden beispielsweise genannt Phenole, wie Hydrochinon, und von den schwefelhaltigen Verbindungen besonders Farbstoffe derThiazinreihe, wie Thionin, Thioninblau G, Methylenblau B, Toluidiniblau O
u. ä.
Da die Photoprodukte, welche die im Hauptpatent angeführten ungesättigten Ketone im Licht ergeben, wahrscheinlich identisch sind mit den Verbindungen, welche sich bei der Dunkelreaktion bei längerem Lagern der beschichteten Platten bilden und welche als Polymerisations- oder Dimerisationsprodukte anzusehen sind, ist es sehr überraschend, daß sich zwar die Dunkelreaktion wirksam durch die Inhibitoren verhindern läßt, daß aber die Lichtreaktion auf diese nicht oder nur unbedeutend anspricht.
Beispiele
i. Die Lösung von 2,5 Teilen a-Cinnamal-y-furfural-aceton und 0,1 Teilen Methylenblau B in 100 Teilen Alkohol wird auf eine mechanisch angerauhte Aluminiumplatte aufgebracht und getrocknet. Die so beschichtete Platte kann bei einer Temperatur von 400 C und einem relativen Feuchtigkeitsgehalt der Luft von 85 %> 4 Tage lang gelagert werden, ohne daß sidh die Schicht verändert, während ohne Zusatz von Methylenblau B nach 2 Tagen Veränderungen der Schicht eintreten.
Man belichtet die so gelagerte Platte unter einer negativen Vorlage bei Verwendung einer 18-Ampere-Bogenlampe in 60cmAbstand etwa 2Minuten, entwickelt die belichtete Schicht, indem man sie in 950 Teilen i8°/oiger Phosphorsäure, denen noch 50 Teile Metlhyläthylketon zugesetzt sind, badet.
Bereits nach kurzer Zeit kann man einen Farbumschlag beobachten. Hierauf wird die entwickelte Platte gut mit Wasser abgespült und mit fetter Farbe eingerieben. Es entsteht eine positive Druckplatte.
2. Man verfährt wie dn Beispiel 1, verwendet aber zum Beschichten der Aluminiumplatte die Lösung eines Gemisches von 1,5 Teilen a-Cinnamal-y-furfural-aceton, 1 Teil a-Cinnamal-y-citralaceton und 0,1 Teilen Thionin in 100 Teilen Alkohol. Die so beschichtete Platte kann in u'nverändertem Zustand unter den in Beispiel 1 beschriebenen Bedingungen 15 Tage lang aufbewahrt werden, ohne daß die lichtempfindliche Schicht sich ändert. Ohne den Zusatz von Thionin wäre nur etwa eine iotägige Aufbewahrungsizeit gegeben.
3. Man löst 2,5 Teile a-Cinnamal-y-furfuralaceton unter Zusatz von Spuren Hydrochinon in 100 Teilen eines Gemisches aus gleichen Teilen Dioxan und Alkohol; beschichtet mit dieser Lösung eine Aluminiumplatte und trocknet. Dann belichtet man 5 Minuten unter einer negativen Vorlage, entwickelt durch Überwischen mit 4°/oiger Phosphorsäure und reibt mit fetter Farbe ein. Man erhält auf diese Weise positive Druckformen. Der Zusatz von Hydrochinon bewirkt eine Erhöhung der Lagerfähigkeit der lichtempfindlich gemachten Aluminiumplatte in unbelichtetem Zustand.
4. Man verfährt wie in Beispiel 1, verwendet aber zum Beschichten der mechanisch aufgerauhten Aluminiumplatte die Lösung eines Gemisches aus ι Teil Cinnamal-2-acetothienon, 1 Teil a-Cinnamaly-citral-aceton und 0,1 Teilen p-Toluchinon in 100 Teilen Alkohol. Der Zusatz von p-Toluchinon bewirkt eine Erhöhung der Lagerfähigkeit der so beschichteten Platte auf das Dreifache.
Cinnamal-2-acetothienon mit der Formel HC CH
HCx /C-CO-CH = CH-CH = CH-C6H5
wird aus 2-Acetyl-jthiophen und Zimtaldehyd mittels Natronlauge gewonnen. Das Kondensationsprodukt stellt eine gelbe kristallinische Substanz dar, die bei ioo° C schmilzt.
5. Man löst 0,5 Teile ot-Cinnamal-y-anisalaceton, 0,5 Teile Furfural-acetophenon, 0,5 Teile Cinnamal-2-acetothienon und 0,2 Teile Chlpranil (2, 3, 5, ö-Tetrachlor-p-benzochinon) in 100 Teilen Alkohol, beschichtet mit dieser Lösung eine Aluminiumplatte und trocknet. Dann belichtet man die Schichtseite der Platte 1 Minute unter einer negativen Vorlage, entwickelt durch Überwischen mit 4%iger Phosphorsäure und reibt mit fetter Farbe'ein. Man erhält auf diese Weise positive Druckformen.
Der Zusatz von Chloranil bewirkt eine Lagerfähigkeit der beschichteten Platte von vielen Monaten in unbelichtetem und trockenem Zustand bei Zimmertemperatur, während ohne Zusatz die Platten bereits nach einigen Tagen unbrauchbar sind.

Claims (1)

  1. Patentanspruch:
    Lichtempfindliches Material für die Bilderzeugung und Reproduktionstechnik nach Patent 884 152, dadurch gekennzeichnet, daß in der lichtempfindlichen ' Schicht außer den Ketonen aromatische Hydroxylverbindungen, Chinone oder schwefelhaltige Verbindungen enthalten sind, die als Polymerisationsinhibitoren für die Ketone wirken.
    ) 5467 10.
DEO1006A 1950-05-19 1950-09-05 Lichtempfindliches Material fuer die Bilderzeugung und Reproduktionstechnik Expired DE893142C (de)

Priority Applications (13)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DENDAT884152D DE884152C (de) 1950-05-19 Schichten fuer die photomechanische Reproduktion und Verfahren zur Herstellung von Druckformen
NL87830D NL87830C (de) 1950-05-19
NL7413499.A NL160533B (nl) 1950-05-19 Capsule kantelapparaat.
BE502740D BE502740A (de) 1950-05-19
DEO1006A DE893142C (de) 1950-05-19 1950-09-05 Lichtempfindliches Material fuer die Bilderzeugung und Reproduktionstechnik
DEK8470A DE901127C (de) 1950-05-19 1950-12-22 Verfahren zur photomechanischen Herstellung von Bildern und Druckformen
GB9104/51A GB712991A (en) 1950-05-19 1951-04-18 Process of photo-mechanical reproduction
FR1040784D FR1040784A (fr) 1950-05-19 1951-05-02 Couches pour la reproduction photo-mécanique et procédé pour l'obtention de formes d'impression
US226104A US2768077A (en) 1950-05-19 1951-05-12 Photolithographic material and process
CH295104D CH295104A (de) 1950-05-19 1951-05-19 Verfahren zur photomechanischen Herstellung von Bildern und Druckformen.
CH297443D CH297443A (de) 1950-05-19 1951-05-19 Verfahren zur photomechanischen Herstellung von Bildern und Druckformen.
CH295103D CH295103A (de) 1950-05-19 1951-05-19 Verfahren zur photomechanischen Herstellung von Bildern und Druckformen.
CH295105D CH295105A (de) 1950-05-19 1951-05-30 Verfahren zur photomechanischen Herstellung von Bildern und Druckformen.

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DEO0000501 1950-05-19
DEO1006A DE893142C (de) 1950-05-19 1950-09-05 Lichtempfindliches Material fuer die Bilderzeugung und Reproduktionstechnik
DEK8470A DE901127C (de) 1950-05-19 1950-12-22 Verfahren zur photomechanischen Herstellung von Bildern und Druckformen

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE893142C true DE893142C (de) 1953-10-12

Family

ID=27211122

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DENDAT884152D Expired DE884152C (de) 1950-05-19 Schichten fuer die photomechanische Reproduktion und Verfahren zur Herstellung von Druckformen
DEO1006A Expired DE893142C (de) 1950-05-19 1950-09-05 Lichtempfindliches Material fuer die Bilderzeugung und Reproduktionstechnik
DEK8470A Expired DE901127C (de) 1950-05-19 1950-12-22 Verfahren zur photomechanischen Herstellung von Bildern und Druckformen

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DENDAT884152D Expired DE884152C (de) 1950-05-19 Schichten fuer die photomechanische Reproduktion und Verfahren zur Herstellung von Druckformen

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DEK8470A Expired DE901127C (de) 1950-05-19 1950-12-22 Verfahren zur photomechanischen Herstellung von Bildern und Druckformen

Country Status (7)

Country Link
US (1) US2768077A (de)
BE (1) BE502740A (de)
CH (4) CH297443A (de)
DE (3) DE893142C (de)
FR (1) FR1040784A (de)
GB (1) GB712991A (de)
NL (2) NL87830C (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1219794B (de) * 1958-12-30 1966-06-23 Gen Aniline & Film Corp Photopolymerisierbare Schicht

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3125597A (en) * 1964-03-17 chj oh
US2959482A (en) * 1951-07-17 1960-11-08 Azoplate Corp Light sensitive material
NL96874C (de) * 1954-04-03
NL96873C (de) * 1954-04-03
BE545630A (de) * 1955-03-02
NL126228C (de) * 1959-04-08
NL255071A (de) * 1959-08-20

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1965710A (en) * 1931-01-21 1934-07-10 Eastman Kodak Co Photomechanical resist
US2003268A (en) * 1933-09-13 1935-05-28 Multigraph Co Method of etching planographic plates, composition therefor, and resulting product
US2184283A (en) * 1935-07-26 1939-12-26 Emil R Capita Heating apparatus and supply therefor
US2312854A (en) * 1940-07-20 1943-03-02 Toland William Craig Light-sensitive element
US2373357A (en) * 1941-11-21 1945-04-10 Toland William Craig Method of making printing plates
US2367420A (en) * 1942-06-22 1945-01-16 Lithomat Corp Photogravure printing plate and method of making same
US2532865A (en) * 1946-05-01 1950-12-05 Toland William Craig Lithographic printing plate
US2556144A (en) * 1946-07-12 1951-06-05 Columbia Ribbon & Carbon Planographic master plate
US2570262A (en) * 1947-01-23 1951-10-09 Columbia Ribbon & Carbon Photosensitive planographic plate

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1219794B (de) * 1958-12-30 1966-06-23 Gen Aniline & Film Corp Photopolymerisierbare Schicht

Also Published As

Publication number Publication date
CH295103A (de) 1953-12-15
DE884152C (de) 1953-06-11
FR1040784A (fr) 1953-10-19
GB712991A (en) 1954-08-04
NL87830C (de)
CH297443A (de) 1954-03-31
CH295104A (de) 1953-12-15
DE901127C (de) 1954-01-07
US2768077A (en) 1956-10-23
BE502740A (de)
NL160533B (nl)
CH295105A (de) 1953-12-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE903529C (de) Lichtempfindliche Schichten
DE2064079C2 (de) Photopolymerisierbares Gemisch
DE2147947C2 (de) Lichtempfindliches Gemisch
DE2944237C2 (de) Lichtempfindliches Gemisch und es enthaltendes lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial
DE1203135B (de) Lichtempfindliches Material fuer die photo-mechanische Herstellung von Flachdruckformen
DE1447916B2 (de) Verfahren zur herstellung einer feuchtigkeitsfesten, lichtempfindlichen flachdruckplatte
DE893142C (de) Lichtempfindliches Material fuer die Bilderzeugung und Reproduktionstechnik
DE1254466B (de) Kopiermaterial fuer die photomechanische Herstellung von Druckformen und Verfahren zur Herstellung von Druckformen
DE918848C (de) Unter Verwendung von Diazoverbindungen hergestelltes lichtempfindliches Material
DE1267546B (de) Verfahren zur Herstellung von AEtzschutzschichten
DE1019556B (de) Photographische Emulsion, die einen gerbenden Entwickler enthaelt
DE1055957B (de) Lichtempfindliche Kopierschichten zur Herstellung von Flachdruckformen von hoher mechanischer Widerstandsfaehigkeit
DE2044233C3 (de) Photopolymerisierbare Verbindungen
DE1244582B (de) Verfahren zur Herstellung einer Flachdruckform
DE1447002B2 (de) Kopiermaterial fuer die photomechanische herstellung von flach- und offsetdruckformen
DE1572068C3 (de) Lichtempfindliche Schicht zur Herstellung von Druckformen
DE885198C (de) Schichten fuer photomechanische Reproduktion und Verfahren zur Herstellung von Druckformen
DE937569C (de) Lichtempfindliches Material fuer die photomechanische Herstellung von Druckformen
DE1572067C3 (de) Lichtempfindliches Kopiermaterial
DE945673C (de) Verfahren zur photomechanischen Herstellung von Druckplatten
DE2231247C2 (de) Vorsensibilisierte Druckplatte
DE888805C (de) Beschichtungsstoffe fuer Reproduktionszwecke
DE752852C (de) Lichtempfindliche Kolloidschichten zur Herstellung von Gerbbildern
DE2224843C3 (de) Naphthochinondiazldsulfonsäureester und diese enthaltende lichtempfindliche Massen
DE522636C (de) Verfahren zur Herstellung von Gerbbildern, die durch Bichromat oder aehnlich wirkende Stoffe hervorgerufen werden