DE1219794B - Photopolymerisierbare Schicht - Google Patents
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Description
DEUTSCHES
PATENTAMT
AUSLEGESCHRIFT
Int. Cl.:
Nummer:
Aktenzeichen:
Anmeldetag:
Auslegetag:
Aktenzeichen:
Anmeldetag:
Auslegetag:
G03c
Deutsche KL: 57 b-10
1219 794
G28681IX a/57b
23. Dezember 1959
23.Juni 1966
G28681IX a/57b
23. Dezember 1959
23.Juni 1966
Die Erfindung betrifft eine photopolymerisierbare Schicht aus einer photopolymerisierbaren Vinylverbindung,
einem Bindemittel und einem Photopolymerisationskatalysator.
Es ist bekannt, daß monomere, eine Vinylgruppe enthaltende Verbindungen unter Mitverwendung von
als Katalysator wirkenden strahlungsempfindlichen Silberverbindungen durch Strahlen einer Wellenlänge
von 10-1 bis 10-10cm zu festen Produkten photopolymerisiert
werden können. Als Katalysatoren für derartige Photopolymerisationen sind lichtempfindliche
Halogensilberemulsionen und lichtempfindliche, durch amphotere Metalloxyde aktivierte Silberverbindungen
vorgeschlagen worden.
Nachteilig an photopolymerisierbaren Schichten, die derartige Katalysatoren enthalten, ist, daß sie
nicht die in manchen Fällen erforderliche Lichtempfindlichkeit gegenüber ultraviolettem Licht oder
Licht des sichtbaren Spektrums besitzen und die Photopolymerisierungsgeschwindigkeit zu wünschen
übrigläßt.
Aufgabe der Erfindung ist, eine photopolymerisierbare Schicht anzugeben, die auf Grund des in diesen
enthaltenen Katalysatorsystems eine verbesserte Empfindlichkeit gegen UV-Licht und sichtbares Licht
besitzt und zu einer beschleunigten Photopolymerisation führt.
Der Gegenstand der Erfindung geht von einer photopolymerisierbaren Schicht aus einer photopolymerisierbaren
Vinylverbindung, einem Bindemittel und einem Photopolymerisationskatalysator aus und
ist dadurch gekennzeichnet, daß sie als Photopolymerisationskatalysator ZnO und/oder TiO2 in Kombination
mit einem Fe-, Tl- oder Hg-SaIz oder in Kombination mit einer Carbonsäure, einem carbonsauren
Salz, einem Aldehyd, einem Phenol, einem Amid oder einem aromatischen Kohlenwasserstoff
oder in Kombination mit einem Sensibilisator enthält.
Vorzugsweise enthält die photopolymerisierbare Schicht als Photopolymerisationskatalysator
a) TiO2 und ein Hg(II)-salz,
b) TiO2 und ein Fe(III)-salz,
c) TiO2 und ein carbonsaures Salz,
d) ZnO und ein Tl(I)-salz oder
e) ZnO und ein Aminofluorim, Oxyfluorim oder
Oxyfluorenon, bei welchem das ungesättigte, die beiden Benzolringe verbindende Kohlenstoffatom
durch eine Phenylgruppe substituiert ist,
f) TiO2 und ein Aminofluorim, Oxyfluorim oder
Oxyfluorenon, bei welchem das ungesättigte, die beiden Benzolringe verbindende Kohlenstoffatom
durch eine Phenylgruppe substituiert ist.
Photopolymerisierbare Schicht
Anmelder:
General Aniline & Film Corporation,
New York, N. Y. (V. St. A.)
Vertreter:
Dr. W. Schalk, Dipl.-Ing. P. Wirth,
Dipl.-Ing. G. E. M. Dannenberg
und Dr. V. Schmied-Kowarzik, Patentanwälte,
Frankfurt/M., Große Eschenheimer Str. 39
Als Erfinder benannt:
Helene Donn Evans, Endwell, N. Y.;
Fritz Walter Hellmut Mueller,
Binghamton, N. Y.;
Steven Levinos, Vestal, N. Y. (V. St. A.)
Beanspruchte Priorität:
V. St. v. Amerika vom 30. Dezember 1958
(783 725)
V. St. v. Amerika vom 30. Dezember 1958
(783 725)
Als Titandioxyd eignet sich besonders eines, das aus Titantetraäthylat hergestellt worden ist, wie es
in »Naturwissenschaften« (Bd. 45, Nr. 11, S. 262,1958) beschrieben worden ist.
Beispiele für Eisen-, Thallium- oder Quecksilbersalze, die zur Aktivierung des ZnO oder TiO2 dienen,
sind: Eisen(III)-chlorid, Eisen(III)-sulfat, Eisen(III)-oxalat, Eisen(III) - formiat, Eisen(III) - propionat,
Eisen(III)-acetat; Thallium(I)-sulfat, Thallium(I)-nitrat, Thallium(I)-phosphat, Thallium(I)-formiat, Thallium(I)-oxalat,
Thallium(I)-butyrat, Thallium(I)-acetat; Quecksilber(II)-chlorid, Quecksilber(II)-sulfat,
Quecksilber(II)-formiat, Quecksilber(II)-oxalat, Quecksilber(II)-acetat.
Organische Salze sind wirksamer als anorganische, weshalb besser ein ersteres verwendet wird.
An Stelle eines Fe-, Tl- oder Hg-Salzes kann eine Carbonsäure, wie Ameisensäure, Essigsäure, Propionsäure oder Oxalsäure, ein carbonsaures Salz, wie Natrium- oder Kaliumf ormiat, Natrium- oder Kaliumoxalat, ein Aldehyd, wie Acetaldehyd oder Benzaldehyd, ein Phenol, wie Phenol, Cresol oder Naphthol, ein Amid, wie Methylacetamidobenzol oder Benzoylaminobenzol, oder ein aromatischer Kohlenwasserstoff, wie Toluol oder Äthylbenzol, in der photo-
An Stelle eines Fe-, Tl- oder Hg-Salzes kann eine Carbonsäure, wie Ameisensäure, Essigsäure, Propionsäure oder Oxalsäure, ein carbonsaures Salz, wie Natrium- oder Kaliumf ormiat, Natrium- oder Kaliumoxalat, ein Aldehyd, wie Acetaldehyd oder Benzaldehyd, ein Phenol, wie Phenol, Cresol oder Naphthol, ein Amid, wie Methylacetamidobenzol oder Benzoylaminobenzol, oder ein aromatischer Kohlenwasserstoff, wie Toluol oder Äthylbenzol, in der photo-
3 4
polymerisierbaren Schicht enthalten sein. Zu dem Tiefdruckformen, gedruckten Schaltungen oder Mikrogleichen
Zweck kann auch ein Sensibilisator-Farb- filmen gewerblich verwertet werden,
stoff, wie ein Aminoflubrim, Oxyfluorim oder Oxy- Durch die erfindungsgemäßen photopolymerisierfluoron, in dem das die beiden Benzolringe verbindende baren Schichten wird erreicht, daß die Belichtungsungesättigte Kohlenstoffatom durch einen Phenylrest 5 zeiten im Vergleich mit den bekannten photopolysubstituiert ist, oder ein Thiazin dienen. Beispiele merisierbaren Schichten herabgesetzt werden,
für derartige Verbindungen sind Epsin, Fluorescin,
stoff, wie ein Aminoflubrim, Oxyfluorim oder Oxy- Durch die erfindungsgemäßen photopolymerisierfluoron, in dem das die beiden Benzolringe verbindende baren Schichten wird erreicht, daß die Belichtungsungesättigte Kohlenstoffatom durch einen Phenylrest 5 zeiten im Vergleich mit den bekannten photopolysubstituiert ist, oder ein Thiazin dienen. Beispiele merisierbaren Schichten herabgesetzt werden,
für derartige Verbindungen sind Epsin, Fluorescin,
Erythrosin, Rose bengäle, Rhodamin' B öder Methylen- Beispiel 1
blau. Die Sensibilisatoren werden durch Licht nicht
blau. Die Sensibilisatoren werden durch Licht nicht
reduziert wie bei der optischen Sensibilisierung von io 180 g Acrylamid, 7 g Ν,Ν'-Methylen-bis-acrylamid
Silberhalogeniden, sondern oxydiert. und 120 g Wasser wurden vermischt. Dann wurde
Die Menge an Metalloxyd, die in der erfindungs- eine auf einem Schichtträger befindliche, gehärtete
gemäßen photopolymerisierbaren Schicht enthalten Gelatineschicht mit einer Beschichtungsflüssigkeit aus
ist, beträgt zwischen 1 und 200 Gewichtsprozent, be- 450 ecm lOgewichtsprozentiger Gelatine, 60 gTitanoxyd
zogen auf die photopolymerisierbare Vinylverbindung. 15 in 60 ecm Wasser, 90 ecm der erstgenannten Mischung,
Obgleich auch größere Mengen, angewendet werden 7,2 ecm Saponin (8gewichtsprozentig) und 3 ecm
können, wird dadurch keine Verbesserung des Er- Glycerin versehen,
gebnisses erzielt. Zu 25 g der Beschichtungsflüssigkeit wurden vor dem
Die Menge an Aktivator beträgt je Gramm Metall- Auftragen noch 5 ecm einer Lösung gegeben, die
oxyd 0,0005 bis 0,65 g. 20 Thallium(I)-nitrat in einem Verhältnis von Kation zu
Als Vinylverbindung eignen sich beispielsweise.- Titandioxyd wie 1:10 enthielt: Je 30 g der Beschich-
Acrylamid, Acrylnitril, N-Äthanolacrylamid, Meth- tungsfiüssigkeit enthielten dann 2,5 g TiO2.
acrylsäure, Acrylsäure, Calciumacrylat, Methacryl- Die Aufzeichnungsmaterialien wurden mit .einer
amid, Vinylacetat, Methacrylsäuremethylester, Acryl- 375-Watt-Wolframlampe aus einer Entfernung von
säuremethylester, Acrylsäureäthylester, Benzoesäure- 25 75 cm 2,5 Minuten lang belichtet. Die nichtpoly-
vinylester, Vinylpyrrolidon, Vinylmethyläther, Vinyl- merisierten Bildteile wurden dann durch Waschen
butyläther, VinyHsopropyläther," Vihylisobutyläther, entfernt.
Vinylbutyrat, Butadien oder Mischungen aus Acryl- Wurde kein ThalliumQ-nitrat mitverwendet, so
säureäthylester und Vinylacetat, Acrylnitril und mußte die photopolymerisiqrbare Schicht 15 Minuten
Styrol oder Acrylnitril und-Butadien. - 30 belichtet werden, bevor ein ,scharfes Relief bild er-
Das Molekulargewicht und damit einhergehend halten wurde. ■ . -.:
die Härte eines Vinylpolymerisates kann erhöht Beispiel 2
werden, wenn in bekannter Weise der photopoly-
werden, wenn in bekannter Weise der photopoly-
merisierbaren Schicht ein Vernetzungsmittel ein- Es wurde wie im Beispiel 1 verfahren, jedoch betrug
gelagert wird. Geeignete Vernetzungsmittel sind 35 das Verhältnis von Kation zu Titandioxyd 1:25.
Ν,Ν'-Methylen-bis-acrylamid, Triallylcyanurat, .Di- Die Belichtungszeit betrug 5 Minuten,
vinylbenzol, Divinylketon , oder JDiglykoldiacrylat. . . "
Das Vernetzungsmittel wird in einer Menge von . Beispiel;}
1 Gewichtsteil je 10 -bis -50 Teilen der monomeren Es wurde wie im Beispiel 1 verfahren, jedoch
Vinylverbindung angewendet. 40 betrug das Verhältnis von Kation zu Titandioxyd
Die photopolymerisierbaren Schichten werden her- 1:100. Die Belichtungszeit betrug 10 Minuten,
gestellt, indem das Metalloxyd zusammen mit der .
photopolymerisierbaren Vinylverbindung und dem Beispiel 4
Aktivator in einem Bindemittel dispergiert wird.-Um . Es wurde wie im Beispiel 1 verfahren, jedoch
das Auftragen der Beschichtungsflüssigkeit auf einen 45 wurde das Thallium(I)-nitrat durch Thalhum(T)-sulfat
Schichtträger zu erleichtern, können dieser auch ersetzt. Die Belichtungszeit betrug 5 Minuten.
Dispergiermittel, wie Saponin, oder Befeuchtungs- . -
mittel, wie Glycerin oder Glykol, zugegeben werden. Beispiel 5
Der genaue Reaktionsverlauf, ■ auf Grund dessen
diese Katalysatoren die. Photopolymerisation be- 50 Es wurde wie im Beispiel! verfahren, jedoch
wirken, ist nicht bekannt; es wird jedoch angenommen, wurde das Thallium(I)-nitrat durch Thallium(I)-daß
dabei freie Radikale eine Rolle spielen. Werden formiat ersetzt. Das Verhältnis von Kation zu Titannämlich ■ Suspensionen von Zinkoxyd oder Titan- dioxyd betrug 1: 5. Die Belichtungszeit betrug 10 Sedioxyd
mit ultraviolettem oder sichtbarem Licht künden.
bestrahlt, so treten Redoxreaktionen auf. Da be- 55 Wurde in der Beschichtungsflüssigkeit das Titanstimmte
Redoxreaktionen die Photopolymerisation dioxyd weggelassen, so betrug die Belichtungszeit
von Vinylverbindungen hervorzurufen vermögen, läßt mehr als 15 Minuten,
sich auf diese Weise die Umwandlung der Licht- . .
energie in chemische Energie erklären, zumal auch Beispiele
beobachtet wurde, daß eine Spur von Feuchtigkeit 60 Es wurde wie im Beispiel 5 verfahren, jedoch zur Förderung der Photopolymerisation außerordent- betrug das Verhältnis von Kation zu Titandioxyd Hch wichtig ist. Ein Aufzeichnungsmaterial aus einem 1:10. Die Belichtungszeit betrug nur 10 Sekunden. Schichtträger und einer photopolymerisierbaren
sich auf diese Weise die Umwandlung der Licht- . .
energie in chemische Energie erklären, zumal auch Beispiele
beobachtet wurde, daß eine Spur von Feuchtigkeit 60 Es wurde wie im Beispiel 5 verfahren, jedoch zur Förderung der Photopolymerisation außerordent- betrug das Verhältnis von Kation zu Titandioxyd Hch wichtig ist. Ein Aufzeichnungsmaterial aus einem 1:10. Die Belichtungszeit betrug nur 10 Sekunden. Schichtträger und einer photopolymerisierbaren
Schicht wird bildmäßig belichtet. Dann werden die Beispiel?
nicht polymerisierten unbelichteten Bildteile durch 65
Waschen entfernt. Es wurde wie im Beispiel 5 verfahren, jedoch
Die photopolymerisierbaren Schichten können zur betrug das Verhältnis von Kation zu Titandioxyd
Herstellung von Flachdruckformen, zylindrischen 1: 25. Die Belichtungszeit betrug 30 Sekunden.
Es wurde wie im Beispiel 1 verfahren, jedoch wurde das Titandioxyd durch 2,5 g Zinkoxyd je
30 g der Beschichtungsflüssigkeit und das Thallium(I)-nitrat durch Thallium(I)-oxalat ersetzt. Das Verhältnis
von Kation zu Zinkoxyd betrug 1:33. Die Belichtungszeit betrug 10 Minuten.
Es wurde wie im Beispiel 8 verfahren, jedoch wurde das Zinkoxyd durch Titandioxyd ersetzt Das Verhältnis
von Kation zu Titandioxyd betrug 1:65. Die Belichtungszeit betrug 2,5 Minuten.
Es wurde wie im Beispiel 17 verfahren, jedoch betrug das Verhältnis von Kation zu Titandioxyd
1:10. Die Belichtungszeit betrug 10 Sekunden
Es wurde wie im Beispiel 8 verfahren, jedoch ίο wurde das Thallium(I)-oxalat durch Quecksilber(II)-acetat
ersetzt. Das Verhältnis von Kation zu Zinkoxyd betrug 1: 5. Die Belichtungszeit betrug 5 Minuten.
Wurde kein Zinkoxyd mitverwendet, betrug die Belichtungszeit mehr als 15 Minuten.
Es wurde wie im Beispiel 1 verfahren, jedoch wurde das Titandioxyd durch 2,5 g Zinkoxyd je 30 g
Beschichtungsflüssigkeit ersetzt und das Thallium(I)-nitrat weggelassen. Die Belichtungszeit betrug 15 Minuten.
Beispiel 11 '
Es wurde wie im Beispiel 1 verfahren, jedoch wurde an Stelle" von Thallium(I)-nitrat Eisen(III)-chlorid
verwendet. Das Verhältnis von Kation zu Titandioxyd betrug 1: 200. Die Belichtungszeit betrug
1,25 Minuten.
Ohne Mitverwendung des Titandioxyds betrug die Belichtungszeit mehr als 10 Minuten.
Es wurde wie im Beispiel 11 verfahren, jedoch betrug das Verhältnis von Kation zu Titandioxyd
1: 500. Die Belichtungszeit betrug 30 Sekunden.
Es wurde wie im Beispiel 1 verfahren, jedoch wurde an Stelle von Thallium(I)-nitrat Eisen(III)-oxalat verwendet.
Das Verhältnis von Kation zu Titandioxyd betrug 1: 500. Die Belichtungszeit betrug 38 Sekunden.
Es wurde wie im Beispiel 13 verfahren, jedoch betrug das Verhältnis von Kation zu Titandioxyd
1:1000. Die Belichtungszeit betrug 20 Sekunden.
Es wurde wie im Beispiel 13 verfahren, jedoch betrug das Verhältnis von Kation zu Titandioxyd
1: 2000. Die Belichtungszeit betrug 38 Sekunden.
Es wurde wie im Beispiel 8 verfahren, jedoch wurde Thallium(I)-oxalat durch Eisen(III)-oxalat ersetzt.
Das Verhältnis von Kation zu Zinkoxyd betrug 1:1000. Die Belichtungszeit betrug 30 Sekunden.
Es wurde wie im Beispiel 1 verfahren, jedoch wurde das Thallium(I)-nitrat durch Quecksilber(II)-acetat
ersetzt. Das Verhältnis von Kation zu Titandioxyd betrug 1:5. Die Belichtungszeit betrug
10 Sekunden.
Wurde kein Titandioxyd mitverwendet, so betrug die Belichtungszeit mehr als 15 Minuten.
55
60
Es wurde wie im Beispiel 1 verfahren, jedoch wurden der Beschichtungsflüssigkeit vor dem Auftragen
10 Millimol Natriumf ormiat zugegeben und das Thallium(I)-nitrat weggelassen.. Die Belichtungszeit
betrug 10 Sekunden.
Bei Verwendung von 2,5 Millimol Natriumformiat betrug die Belichtungszeit 15 Sekunden.
. Bei Verwendung von 1,2 Millimol Natriumformiat betrug die Belichtungszeit 2,5 Minuten.
. Bei Verwendung von 1,2 Millimol Natriumformiat betrug die Belichtungszeit 2,5 Minuten.
Es wurde wie im Beispiel 8 verfahren, jedoch wurde das Thallium(I)-oxalat durch 10 Millimol Natriumformiat
ersetzt. Die Belichtungszeit betrug 10 Sekunden.
Es wurde wie im Beispiel 1 verfahren, jedoch wurde das Thallium(I)-nitrat durch 1,2 Millimol Natriumoxalat
ersetzt. Die Belichtungszeit betrug 2,5 Minuten.
Es wurde wie im Beispiel 8 verfahren, jedoch wurde das Thallium(I)-oxalat durch 1,2 Millimol
Natriumoxalat ersetzt. Die Belichtungszeit betrug 5 Minuten.
Es wurde wie im Beispiel 1 verfahren, jedoch betrug das Verhältnis von Kation zu Titandioxyd
1: 20. Vor dem Auftragen der Beschichtungsflüssigkeit wurden 10 Millimol Natriumformiat zugegeben. Die
Belichtungszeit betrug 10 Sekunden.
Es wurde wie im Beispiel 1 verfahren, jedoch wurde das Thallium(I)-nitrat durch 5 Milligramm
Rose bengale je 30 g der Beschichtungsflüssigkeit ersetzt. Die Belichtungszeit betrug 2,5 Sekunden.
Es wurde wie im Beispiel 25 verfahren, jedoch wurde Rose bengale durch die gleiche Menge Methylenblau
ersetzt. Die Belichtungszeit betrug 15 Sekunden.
Es wurde wie im Beispiel 25 verfahren, jedoch wurde Rose bengale durch die gleiche Menge Eosin
ersetzt. Die Belichtungszeit betrug 2,5 Sekunden.
10
Es wurde wie im Beispiel 1 verfahren, jedoch wurde das Titandioxyd durch 5 g Zinkoxyd je 30 g
der Beschichtungsflüssigkeit und das Thallium(I)-nitrat durch 5 Milligramm Rose bengale ersetzt. Die
Belichtungszeit betrug 5 Sekunden.
Es wurden die gleichen Ergebnisse erzielt, wenn das Rose bengale durch Methylenblau oder Erythrosin
ersetzt wurde.
Es wurde wie im Beispiel 1 verfahren, jedoch wurde das Acrylamid durch Calciumacrylat ersetzt. Die
Ergebnisse waren praktisch die gleichen wie im Beispiel 1.
Claims (2)
1. Photopolymerisierbare Schicht aus einer photopolymerisierbaren Vinylverbindung, einem
Bindemittel und einem Photopolymerisationskatalysator, dad.u.rch gekennzeichnet,
daß sie als Photopolymerisationskatalysator ZnO und/oder TiO2 in Kombination mit einem Fe-,
Ή- oder Hg-SaIz oder in Kombination mit einer
Carbonsäure, einem carbonsauren Salz, einem Aldehyd, einem Phenol, einem Amid oder einem
aromatischen Kohlenwasserstoff oder in Kombination mit einem Sensibilisator enthält.
2. Photopolymerisierbare Schicht nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie als
Photopolymerisationskatalysator
a) TiO2 und ein Hg(II)-SaIz,
b) TiO2 und ein Fe(III)-salz,
c) TiO2 und ein carbonsaures Salz,
d) ZnO und ein Tl(I)-SaIz,
e) ZnO und ein Aminofluorim, Oxyfluorim oder
Oxyfluorenon, bei welchem das ungesättigte, die beiden Benzolringe verbindende Kohlenstoffatom
durch eine Phenylgruppe substituiert ist, oder
f) TiO2 und ein Aminofluorim, Oxyfluorim oder
Oxyfluorenon, bei welchem das ungesättigte, die beiden Benzolringe verbindende Kohlenstoffatom
durch eine Phenylgruppe substituiert ist,
enthält.
In Betracht gezogene Druckschriften:
Deutsche Patentschriften Nr. 807 894, 893 142;
USA.-Patentschrift Nr. 2 831 768.
Deutsche Patentschriften Nr. 807 894, 893 142;
USA.-Patentschrift Nr. 2 831 768.
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GB1053806A (de) * | 1963-05-01 | |||
US3343959A (en) * | 1963-12-30 | 1967-09-26 | Gen Aniline & Film Corp | Photopolymerizable coated layers using organic salts of manganic ions and method of production |
US3368900A (en) * | 1964-06-03 | 1968-02-13 | Du Pont | Polymerizable compositions and elements |
BE638336A (de) * | 1964-12-21 | 1964-02-03 | ||
US4036644A (en) * | 1973-03-16 | 1977-07-19 | International Business Machines Corporation | Photoresist process and photosensitive O-quinone diazide article with aliphatic carboxylic acid as adhesion promotor |
FR2221754A1 (en) * | 1973-03-16 | 1974-10-11 | Ibm | Photoresist mask prodn. using carboxylic acid in lacquer - for short exposure and good adhesion to substrate |
US4257915A (en) * | 1979-07-23 | 1981-03-24 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photopolymer initiator system containing a semiconductor, a reducing agent and an oxidizing agent |
US4355091A (en) * | 1980-08-25 | 1982-10-19 | Polaroid Corporation | Polymeric neutralizing layer with temporary crosslinks from an organo-metallic crosslinking agent |
JPH02153353A (ja) * | 1988-07-25 | 1990-06-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 着色光重合組成物およびカラーフィルタ |
DE19726829A1 (de) * | 1997-06-24 | 1999-01-07 | Inst Neue Mat Gemein Gmbh | Verwendung von nanoskaligen Metalloxid-Teilchen als Polymerisationskatalysatoren |
US11254830B2 (en) | 2018-05-10 | 2022-02-22 | Sun Chemical Corporation | Actinic radiation curable compositions including semiconductor metal oxide materials |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE807894C (de) * | 1943-04-14 | 1951-07-09 | Ici Ltd | Verfahren zur Herstellung von Reliefbildern |
DE893142C (de) * | 1950-05-19 | 1953-10-12 | Kalle & Co Ag | Lichtempfindliches Material fuer die Bilderzeugung und Reproduktionstechnik |
US2831768A (en) * | 1956-01-19 | 1958-04-22 | Eastman Kodak Co | Polymeric light-sensitive photographic elements |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE465271A (de) * | 1941-12-31 | 1900-01-01 | ||
US2367661A (en) * | 1941-12-31 | 1945-01-23 | Du Pont | Process of photopolymerization |
US2435429A (en) * | 1943-08-11 | 1948-02-03 | Shell Dev | Alkyd resins |
US2500023A (en) * | 1946-03-16 | 1950-03-07 | Du Pont | Polymerization of substituted ethylenes containing organic coloring matter in presence of azo compounds |
US2491409A (en) * | 1946-11-02 | 1949-12-13 | American Cyanamid Co | Copolymer of unsaturated fumarate alkyd resin |
US2480749A (en) * | 1947-08-27 | 1949-08-30 | Du Pont | Process for preparing cast synthetic resin having integral patterned effects |
US2947216A (en) * | 1955-09-15 | 1960-08-02 | Robert C Drews | Retinal camera |
US2924561A (en) * | 1956-10-25 | 1960-02-09 | Universal Oil Prod Co | Polymerization of unsaturated organic compounds |
US2942561A (en) * | 1956-11-01 | 1960-06-28 | Int Steel Co | Unit load freight car |
US2947716A (en) * | 1957-07-16 | 1960-08-02 | H D Justi And Son Inc | Mixtures of lower alkyl acrylate polymers and methacrylate polymers for dough composition |
BE580664A (de) * | 1958-10-06 | |||
BE582954A (de) * | 1958-12-30 |
-
0
- BE BE582954D patent/BE582954A/xx unknown
-
1958
- 1958-12-30 US US783725A patent/US3041172A/en not_active Expired - Lifetime
-
1959
- 1959-12-14 GB GB42456/59A patent/GB879892A/en not_active Expired
- 1959-12-23 DE DEG28681A patent/DE1219794B/de active Pending
-
1962
- 1962-05-18 US US195997A patent/US3118767A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE807894C (de) * | 1943-04-14 | 1951-07-09 | Ici Ltd | Verfahren zur Herstellung von Reliefbildern |
DE893142C (de) * | 1950-05-19 | 1953-10-12 | Kalle & Co Ag | Lichtempfindliches Material fuer die Bilderzeugung und Reproduktionstechnik |
US2831768A (en) * | 1956-01-19 | 1958-04-22 | Eastman Kodak Co | Polymeric light-sensitive photographic elements |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US3041172A (en) | 1962-06-26 |
GB879892A (en) | 1961-10-11 |
US3118767A (en) | 1964-01-21 |
BE582954A (de) |
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