DE1447916B2 - Verfahren zur herstellung einer feuchtigkeitsfesten, lichtempfindlichen flachdruckplatte - Google Patents
Verfahren zur herstellung einer feuchtigkeitsfesten, lichtempfindlichen flachdruckplatteInfo
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- DE1447916B2 DE1447916B2 DE1964P0034990 DEP0034990A DE1447916B2 DE 1447916 B2 DE1447916 B2 DE 1447916B2 DE 1964P0034990 DE1964P0034990 DE 1964P0034990 DE P0034990 A DEP0034990 A DE P0034990A DE 1447916 B2 DE1447916 B2 DE 1447916B2
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Description
Die Verwendung von Diazo-Verbindungen zur Herstellung
lichtempfindlicher Flachdruckplatten ist bereits bekannt. Diese Diazo-Verbindungen werden in an
sich bekannter Weise beispielsweise aus einer Lösung auf Platten aus Metall, Kunststoff oder Papier aufgebracht.
Beim Belichten der so aufgebrachten lichtempfindlichen Schicht der Flachdruckplatte, beispielsweise
durch ein Negativ, werden die belichteten Bildteile gehärtet und damit unlöslich in dem Entwicklungsmittel
gemacht. Anschließend werden die unbelichteten Schichtteile mit Hilfe eines Entwicklungsmittels herausgelöst.
Aus der deutschen Patentschrift Nr 11 18 606 sind
lichtempfindliche Schichten für die photomechanische Herstellung von Druckformen bekannt, die ganz oder
teilweise aus einem oder mehreren, noch mindestens eine freie Hydroxylgruppe tragenden, lichtempfindlichen
Ester aus Naphthochinon-l,2-diazid-sulfonsäure einerseits und mindestens 2 Hydroxylgruppen enthaltenden
organischen Verbindungen andererseits bestehen, die zwei durch ein Bindeglied X verknüpfte
Benzol- und/oder Naphthalinkerne enthalten, wobei X eine Methylengruppe, eine durch ein oder zwei niedere
Alkylreste, Aryl- oder substituierte Arylreste substituierte Methylengruppe, eine Methylengruppe, die einem
gesättigten, al !'cyclischen System angehört, Schwefel oder mit Sauerstoff verbundenen Schwefel darstellt
und wobei die Benzol- und/oder Naphthalinkerne neben den Hydroxylgruppen noch Halogen und/oder
Alkyl- und/oder Oxy- und/oder Carbalkoxyreste enthalten können.
Es wurde jedoch festgestellt, daß bekanntermaßen für lichtempfindliche Schichten verwendete Diazoverbindungen
eine Affinität zu Wasser besitzen, das bei längerer Lagerung, insbesondere in feuchten Jahreszeiten,
durch die lichtempfindliche Schicht hindurchdringt und mit Zwischenschichten oder mit der Metallgrundplatte
reagieren kann. Werden beispielsweise Platten mit K.^rFg-Zwischenschichten, wie sie in der
USA.-Patentschrift Nr. 29 46 683 beschrieben sind, unter dem Überzug der Diazo-Verbindungen verwendet,
so bewirkt das Eindringen von Feuchtigkeit, daß die Bindung zwischen der lichtempfindlichen Schicht
und der Zwischenschicht geschwächt wird und sich die gehärtete lichtempfindliche Schicht beim Druckvorgang
ablöst. Daher ist die Lagerfähigkeit solcher durch Diazo-Verbindung vorsensibilisierter Flachdruckplatten begrenzt, wenn man nicht für Feuchtigkeitsausschluß während der Lagerung Sorge trägt.
Darüberhinaus sind die nach der deutschen Auslegeschrift 11 18 606 verwendeten lichtempfindlichen Verbindungen
nur aus SpezialChemikalien herstellbar, was die Produktion solcher bekannter lichtempfindlicher
Druckformen umständlich und kostspielig macht. Aufgabe der Erfindung war es, ausgehend von möglichst
handelsüblichen Stoffen, feuchtigkeitsfeste, lichtempfindliche Flachdruckplatten mit besserer Lagerbeständigkeit
auch in feuchter Atmosphäre zu erhalten, die durch an sich bekannte Entwicklungsmittel, wie
Gummi-arabicum, Phosphorsäure oder Natriumlaurylsulfonat, entwickelt werden können.
Die Lösung der Aufgabe erfolgt gemäß dem vorstehenden Anspruch 1.
Nach dem erfindungsgemäßen Verfahren erhält man Flachdruckplatten, die nicht nur feuchtigkeitsfest und
weniger empfindlich gegen unerwünschte chemische
ao Reaktionen während der Lagerung im Dunklen sind, sondern außerdem überraschend stark lichtempfindlich
sind.
Die nach der Erfindung für die Beschichtung verwendeten Reaktionsprodukte sind intermediäre Veras
bindungen, die Additionsverbindungen des Diazo-Kondensationsproduktes und der phenolischen Verbindung
bzw. der N-Alkyl-5-Sulfoanthranilsäure sind
und ausreichend widerstandsfähig gegen das Eindringen von Feuchtigkeit sind, so daß selbst unter ungünstigen
Bedingungen Fleckenbildung u. dgl. unterbleibt. Daher sind die erfindungsgemäß herstellbaren Flachdruckplatten
nicht nur für lange Lagerung, sondern auch für lange Druckdurchläufe bei hohen Auflagen
besonders geeignet.
Wird das erfindungsgemäß verwendete Diazo-Kondensationsprodukt in alkalischem Medium mit den
vorstehend genannten Verbindungen umgesetzt, so verharzen die Produkte und sind für die Weiterverarbeitung
zu lichtempfindlichen Schichten auf Flachdruckplatten ungeeignet. Daher ist es wesentlich, daß die
erfindungsgemäß verwendeten Reaktionsprodukte aus dem Kondensationsprodukt und der weiteren Verbindung
bei einem pH-Wert unterhalb 7,5 gewonnen wurden.
Als Verbindungen können vorzugsweise Hydroxybenzophenone, Säuren mit zwei phenolischen Gruppen,
wie 4,4-Bis-(4'-hydroxyphenyl)-valeriansäure, Resorcin, Diresorcin, l-Naphthol-3-sulfonamid, Natrium-2-naphthol-3,6-disulfonat
oder auch N-Alkyl-5-sulfoanthranilsäuren
verwendet werden. Diese Verbindungen haben die Wasserlöslichkeit erhöhende Gruppen,
wie Carboxylgruppen oder Sulfonsäuregruppen, und sind daher besonders geeignet. Als Hydroxybenzophenone
kommen die Verbindungen 2,4-Dihydroxy-
benzophenon, 2-Hydroxy-4-methoxybenzophenon, 2,2'- Hydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenon, 2,2',4,4'-Tetrahydroxybenzophenon,
Natrium-2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxy-5-sulfobenzophenon, 2-Hydroxy-4-methoxybenzophenon-5-sulfonsäure,
das Trihydratdieser Säure und Gemische der genannten Verbindungen in Betracht. Besonders bevorzugt ist in dieser Gruppe
das 2,2'-, 4,4'-Tetrahydroxybenzophenon.
Die als Ausgangsstoffe verwendeten Kondensationsprodukte sind beispielsweise solche von para-Diazodi-
phenylamin und Formaldehyd, die etwa durch Kondensation
von para-Diazodiphenylaminsulfat und Formaldehyd/Zinkchlorid
oder Para-formaldehyd gewonnen v/erden.
Bei einer Ausführungsform nach der Erfindung wird die Unterlageplatte zunächst mit dem Kondensationsprodukt
von Diazodiphenylamin und Formaldehyd überzogen und so dann mit einer Lösung der
phenolischen Verbindung behandelt, wobei die Lösung vorzugsweise 0,01 bis 0,5% der phenolische Verbindung
und vorzugsweise geringe Mengen von Zusatzstoffen, wie eines Netzmittels oder einer Polyhydroxysäure,
enthält. Die Lösung der phenolischen Verbindung reagiert mit dem Kondensationsprodukt von
Diazodiphenylamin und Formaldehyd je nach der Konzentration, Temperatur und dem speziell verwendeten
Lösungsmittel augenblicklich oder innerhalb einer längeren Zeit von bis zu einigen Minuten oder
mehr. Das Reaktionsprodukt auf der Platte ist dann die lichthärtbare Verbindung und ist mit der Unterlageplatte
fest verbunden.
Bei einer anderen Ausführungsform nach der Erfindung wird das Kondensationsprodukt von Diazodiphenylamin
und Formaldehyd in einem Lösungsmittel mit der weiteren Verbindung umgesetzt, wonach diese
Lösung auf die Unterlageplatte aufgebracht und das Lösungsmittel verdampft wird. Bei dieser Ausführungsform ist normalerweise eine längere Reaktionszeit
erforderlich.
Als Lösungsmittel in diesen Reaktionen können mit Vorteil beispielsweise Wasser, Alkohole, wie niedermolekulare
Alkanole, Alkylacetat, wie Äthylacetat und niedermolekulare Alkylketone, verwendet werden.
Dabei können handelsübliche Lösungsmittel benützt werden, wobei das darin enthaltene Wasser die gewünschte
Reaktion fördern kann. Wenn Lösungsmittel, wie Acetate und Ketone, verwendet werden,
sollen sie vorzugsweise Wasser in einer Menge von 20 bis 80% des Lösungsmittels enthalten. Methanol und
Wasser sind zwei bevorzugte Lösungsmittel. Auch können Gemische der oben aufgeführten Lösungsmittel
benützt werden.
Als Unterlageplatten können Metallplatten, wie Zinn-, Aluminium- und Kupferplatten, aber auch
Kunststoff- und Papierbögen Verwendung finden.
Als Zwischenschichten zwischen der lichtempfindlichen Schicht und einer Metallunterlageplatte können
verschiedene Metallschutzüberzüge aufgebracht werden, wie beispielsweise Aluminiumoxydüberzüge, wie
sie sich etwa auf anodisch behandelten Aluminiumplatten finden, Reaktionsprodukte einer wäßrigen
Lösung von löslichem Silikat mit der Metallunterlage oder Reaktionsprodukte wäßriger Lösungen von Zirkonhexahalogeniden,
wie Kaliumzirkonhexachlorid, mit der Metallunterlage.
Beispiel
Eine Aluminiumoffsetplatte von 25
Eine Aluminiumoffsetplatte von 25
38 cm und
0,13 mm Dicke wurde nacheinander mit einem K2ZrF6-Überzug
gemäß USA.-Patentschrift 29 46 683 und so dann mit einem Überzug einer lichtempfindlichen
Diazoverbindung beschichtet, die ein Kondensationsprodukt von p-Diazodiphenylamin und Paraformaldehyd
war. Danach wurde eine wäßrige Lösung von 0,1 % Saponin und 0,5 % 2,2',4,4'-Tetrahydroxy-benzophenon
über die Flachdruckplatte gegossen. Nach einer Berührungszeit zwischen Lösung und Platte von 1 bis
2 see wurde die überschüssige Lösung von der Platte abgeschleudert und die Platte getrocknet.
Die bei 20 bis 50° C in vorstehender Weise hergestellte Platte wurde in einer Kammer zusammen mit
einer Anzahl anderer vorsensibilisierter lithographischer Platten einer relativen Luftfeuchtigkeit von 90%
bei etwa 32,5° C ausgesetzt.
Platte A ist eine im Handel erhältliche Platte mit einer Diazobeschichtung.
Platte B ist eine Platte, bei der eine Silicatschicht zwischen die Aluminiumgrundplatte und eine Diazoschicht
eingeschaltet ist. Ihre Herstellung ist in der USA.-Patentschrift 29 22 715 beschrieben.
Platte C ist eine Platte mit einer K2ZrF6-Zwischen-
schicht zwischen der Diazobeschichtung und einer
Aluminiumunterlage und unterscheidet sich von der gemäß diesem Beispiel zubereiteten Platte nur in der
verwendeten lichtempfindlichen Schicht.
Die Prüfergebnisse finden sich in der folgenden Tabelle:
Nach der Behandlung der Platten A, B und C mit 2,2',4,4'-Tetrahydroxy-benzophenon in der vorstehend
beschriebenen Weise blieben sie 45 Tage lang in befriedigendem Zustand, wenn sie in gleicher Weise wie
vorstehend klimatisiert wurden.
Anodisierte Platten, mechanisch gekörnte Platten und sogar Papierplatten wurden ebenfalls in ihrer
Feuchtigkeitsfestigkeit und gesamten Leistungsfähigkeit verbessert, wenn sie mit dem Reaktionsprodukt
nach der Erfindung überzogen wurden.
35
40
45
Eine Aluminiumoffsetplatte von 25 ■ 38 cm und 0,13 mm Dicke wurde nacheinander mit einer K2ZrF6-
Platte von Beispiel 1
3 Tage befriedigend
7 Tage befriedigend
14 Tage befriedigend
28 Tage befriedigend
45 Tage befriedigend
befriedigend befriedigend
fleckig, unbefriedigend
fleckig, unbefriedigend
Korrosion auf der Platte, unbefriedigend
Korrosion auf der Platte, unbefriedigend fleckig, unbefriedigend
fleckig, tonend
unbefriedigend
unbefriedigend
Korrosion, Tonung auf der
Platte, unbefriedigend
Korrosion, Tonnung auf der
Platte, unbefriedigend
Platte, unbefriedigend
Korrosion, Tonnung auf der
Platte, unbefriedigend
unbefriedigend
übermäßige Ablösung der Schicht
unbefriedigend
übermäßige Ablösung der Schicht
unbefriedigend
übermäßige Ablösung der Schicht
unbefriedigend
übermäßige Ablösung der Schicht
übermäßige Ablösung der Schicht
unbefriedigend
übermäßige Ablösung der Schicht
unbefriedigend
übermäßige Ablösung der Schicht
unbefriedigend
übermäßige Ablösung der Schicht
unbefriedigend
übermäßige Ablösung der Schicht
übermäßige Ablösung der Schicht
Beschichtung gemäß der USA.-Patentschrift 29 46 683 und so dann mit einem Überzug einer lichtempfindlichen
Diazoverbindung überzogen, die ein Kondensationsprodukt von p-Diazodiphenylamin und Paraformaldehyd
war. Dann wurde eine wäßrige Lösung von 0,1% Saponin und 0,25% Diresorcin über die
Flachdruckplatte gegossen. Nach einer Berührungszeit von 1 bis 2 see wurde die überschüssige Lösung von
der Platte abgeschleudert und diese getrocknet. Dann hatte man einen Überzug, der durch Licht härtbar und
undurchlässig gegen Feuchtigkeit war, was sich darin zeigte, daß er selbst nach 45 Tage langer Behandlung
bei 90% relativer Feuchtigkeit und 32,5° C in befriedigendem Zustand blieb. Die Prüfung wurde, wie folgt,
durchgeführt:
Die Platte wurde aus der Umgebung hoher Feuchtigkeit entfernt, durch ein transparentes Negativ belichtet,
mit einem üblichen Entwicklungsmittel behandelt, mit einem Schutzlack überzogen und auf eine
Presse montiert. Die Druckarbeit wurde nach 8000 Drucken abgebrochen. Die letzten Abzüge waren noch
ausgezeichnet, was die gute Leistungsfähigkeit der Platte beweist.
Eine Aluminiumoffsetplatte von 25 · 38 cm und 0,13 mm Dicke wurde nacheinander mit den gleichen
Überzügen von K2ZrF6 und der Diazoverbindung wie
in den Beispielen 1 und 2 beschichtet. Dann wurde eine Isopropanollösung von 0,1 % Saponin und 0,05%
Natrium-2,2'- dihydroxy - 4,4'- dimethoxy-5-sulf obenzophenon
über die Flachdruckplatte gegossen. Nach einer Berührungsdauer von 1 bis 2 see wurde der
Lösungsüberschuß von der Platte abgeschleudert und diese getrocknet. Der so erhaltene Überzug war durch
Licht härtbar und undurchlässig gegen Feuchtigkeit, was sich daraus ergab, daß er selbst bei 45 Tage langer
Behandlung bei 900C relativer Feuchtigkeit und 32,5° C
in befriedigendem Zustand blieb und seine Leistung bei dem in Beispiel 2 beschriebenen Versuch gut war.
Eine Aluminiumoffsetplatte von 25 · 38 cm und 0,13 mm wurde nacheinander mit den gleichen Überzügen
von K2ZrF6 und der Diazoverbindung wie in
den Beispielen 1 und 2 beschichtet. Dann wurde eine Lösung von 50% Butylacetat und 50% Wasser mit
0,1 % Saponin und 0,25 % 2,2',4,4'-Tetrahydroxybenzophenon über die Flachdruckplatte gegossen. Nach
einer Berührungsdauer von 1 bis 2 see wurde die überschüssige Lösung von der Platte abgeschleudert und
diese getrocknet.
Der so erhaltene Überzug war durch Licht härtbar und gegen Feuchtigkeit undurchlässig, wie sich dadruch
erwies, daß er selbst bei 45tägiger Behandlung bei 90% relativer Feuchtigkeit und etwa 32,50C in
befriedigendem Zustand blieb und seine Leistung bei der in Beispiel 2 beschriebenen Prüfung gut war.
Eine Aluminiumoffsetplatte von 25 · 38 cm und 0,13 mm Dicke wurde nacheinander mit den gleichen
Überzügen von K2ZrF6 und der Diazoverbindung wie
in den Beispielen 1 und 2 überzogen. Dann wurde eine Lösung von 0,1% Saponin und 0,40% N-Äthyl-5-sulfoanthranilsäure
in 50% Aceton und 50% Wasser über die Flachdruckplatte gegossen. Nach einer Berührungsdauer
von 1 bis 2 see wurde die überschüssige Lösung von der Platte abgeschleudert und diese getrocknet.
Der so erhaltene Überzug war durch Licht härtbar und feuchtigkeitsundurchlässig, wie sich daraus ergab,
daß er selbst nach 45 Tagen bei 90% relativer Feuchtigkeit und 32,5°C in befriedigendem Zustand blieb
und seine Leistung bei der in Beispiel 2 beschriebenen Prüfung gut war.
Eine Aluminiumoffsetplatte von 25 ■ 38 cm und 0,13 mm Dicke wurde nacheinander mit den gleichen
Überzügen von K2ZrF6 und der lichtempfindlichen
Diazoverbindung, wie in den Beispielen 1 und 2 gezeigt, beschichtet. So dann wurde eine Lösung von
0,1% Saponin und 0,15% 4,4-Bis-(4-hydroxyphenyl)-pentancarbonsäure
in 90% Wasser und 10% Äthanol zubereitet und über die Flachdruckplatte gegossen.
Nach einer Berührungsdauer von 1 bis 2 see wurde die überschüssige Lösung von der Platte abgeschleudert
und diese getrocknet.
Der so erhaltene Überzug war durch Licht härtbar und gegen Feuchtigkeit undurchlässig, wie sich daraus
ergibt, daß er selbst nach 45 Tagen bei 90% relativer Feuchtigkeit und 32,5° C in befriedigendem Zustand
blieb und seine Leistung bei der in Beispiel 2 beschriebenen Prüfung gut war.
Eine Aluminiumoffsetplatte von 25 · 38 cm und 0,13 mm Dicke wurde nacheinander mit den gleichen
Überzügen von K2ZrF6 und der lichtempfindlichen
Diazoverbindung wie in den Beispielen 1 und 2 beschichtet. Dann wurde eine Methanollösung von 0,1 %
Saponin und 0,30% l-Naphthol-3-sulfonamid über die
Flachdruckplatte gegossen. Nach einer Berührungsdauer von 1 bis 2 see wurde die überschüssige Lösung
von der Platte abgeschleudert und diese getrocknet.
Man erhielt so einen Überzug, der durch Licht härtbar und gegen Feuchtigkeit undurchlässig war, wie
sich daraus ergibt, daß er selbst nach 45 Tagen bei 90% relativer Feuchtigkeit und bei 32,5° C in befriedigendem
Zustand blieb und seine Leistung bei der in Beispiel 2 beschriebenen Prüfung gut war.
Eine Aluminiumoffsetplatte von 25 · 38 cm und 0,13 mm Dicke wurde wie in den Beispielen 1 und 2
mit K2ZrF6 beschichtet. Getrennt hiervon wurden
5 Volumenteile einer 2%igen wäßrigen Lösung des Kondensationsproduktes von p-Diazodiphenylamin
und Paraformaldehyd und 4 Volumenteile Isopropylalkohol, die 5 g 2,2',4,4'-Tetrahydroxybenzophenon
enthielten, vermischt. Zu der Mischung wurde 1 Teil Wasser gegeben, und die Platte wurde damit überzogen.
Nach Abschleudern des überschüssigen Lösungsmittels und Trocknen der Platte überzog eine Diazoadditionsverbindung
die Oberfläche, die durch Licht härtbar und gegen Feuchtigkeit undurchlässig war,
wie sich daraus ergibt, daß sie selbst nach 45 Tagen bei 90% relativer Feuchtigkeit und bei 32,50C in befriedigendem
Zustand blieb und ihre Leistung bei der in Beispiel 2 beschriebenen Prüfung gut war.
Claims (2)
1. Verfahren zur Herstellung einer feuchtigkeitsfesten, lichtempfindlichen Flachdruckplatte durch
Beschichten der Platte mit einem lichtempfindlichen Kondensationsprodukt von Diazodiphenylamin
und Formaldehyd, dadurch gekennzeichnet,
daß man das Kondensationsprodukt bei einem pH-Wert unterhalb 7,5 mit einer Lösung
behandelt, die ein Hydroxybenzophenon, eine Bis-(hydroxyphenyl)-alkylcarbonsäure,
Resorcin, Diresorcin, l-Naphthol-3-sulfonamid, Dinatrium-2-naphthol-3,6-disulfonat
oder N-Alkyl-5-sulfoanthranilsäure enthält.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man als Hydroxybenzophenon
2,2',4,4'-Tetrahydroxybenzophenon verwendet.
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SE313997B (de) | 1969-08-25 |
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