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Technisches
Gebiet der Erfindung
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Die vorliegende Erfindung betrifft
allgemein Verfahren für
die Oberflächen-Modifikation
von Silika.
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Hintergrund
der Erfindung
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Silika, das in herkömmlichem
Sand gefunden wird, ist ein reichlich vorkommendes anorganisches
Material, das Siliziumdioxid (SiO2) als
strukturelle Grundeinheit aufweist. Teilweise aufgrund seines reichen
natürlichen
Vorkommens und der leichten Zugänglichkeit
ist viel Forschung und Entwicklung hinsichtlich Verfahren zum Refinen
bzw. Veredeln von Silika und für
seine Verwendung betrieben worden. Diese Forschung hat teilweise
dazu geführt,
dass verschiedene Arten von Silikapartikeln gefunden worden sind,
die wiederum in einer Reihe von gewerblichen Anwendungen eingesetzt
werden können.
Beispiele für
diese Partikel sind hochdisperses Silika und gefälltes Silika.
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Hochdisperses Silika ist ein Material,
das eine relativ geringe Partikelgröße, etwa 2 – 20 nm, aufweist. Obwohl es
mittels einer Vielzahl von Prozessen gebildet werden kann, wird
es am häufigsten
in der Dampfphase hergestellt. Beispielsweise wird rohes Silika
(normalerweise Sand) bei etwa 2000°C verdampft und unter Bildung
von hochdispersem Silika abgekühlt.
Alternativ kann rohes Silika bei etwa 1500°C in Gegenwart eines Reduktionsmittels
(z. B. Kohle) unter Bildung von SiO sublimiert werden, das dann
unter Bildung von hochdispersem Silika oxidiert wird.
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Gefälltes Silika ist eine Teilchenform,
die einen durchschnittlichen Durchmesser von etwa 2 nm bis zu größer als
etwa 1 μm
aufweisen kann. Dieses Silika wird normalerweise durch Koagulation
von Silikapartikeln aus einer wässrigen
Lösung
hergestellt.
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Eine andere übliche Form von Silika ist
kolloidales Silika. Dieses Silika ist durch eine stabile Dispersion von
amorphen Silikapartikeln in Wasser charakterisiert. Kolloidales
Silika kann jedoch auch in nicht-wässrigen Flüssigkeiten bereitgestellt werden.
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Wenn es in Lösung gegeben wird, kann Silika
ein Polymerisationsverhalten aufweisen. Silika löst sich (und/oder depolymerisiert)
in einem wässrigen
Medium unter Bildung von Si(OH)4, das wiederum
polymerisiert unter Bildung diskreter Partikel mit internen Si-O-Si-Bindungen
und externen (auf der Partikeloberfläche) Si-OH-Bindungen. Unter
neutralen oder alkalischen Bedingungen (pH 7 oder größer) tendieren
die Silikapartikel im Allgemeinen zum Agglomerieren, wobei zunächst Ketten
und schließlich
dreidimensionale Strukturen gebildet werden. Diese Agglomeration
kann in Gegenwart von Salzen verstärkt sein, wobei die Salze zu
einer Neutralisation der auf der Partikeloberfläche erzeugten Ladung beitragen.
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Die Bildung einer stabilen Dispersion
diskreter Silikapartikel in Kolloidgröße in einer Lösung wird
als ein Sol bezeichnet. Unter geeigneten Lagerungsbedingungen gelieren
Sole nicht und setzen sich selbst nach mehreren Jahren der Lagerung
nicht ab und können
bis zu etwa 50 Gew.-% Silika enthalten und weisen Partikelgrößen bis
zu etwa 300 nm auf. Wie bereits zuvor angedeutet wurde, kann ein
Sol gebildet werden, indem beispielsweise Silikapartikel in einer
schwach alkalischen Lösung
zu einer gewünschten
Größe agglomeriert werden,
oder durch Zugabe einer verdünnten
Säure zu
einer Lösung
aus Natriumsilikat (z. B. NaSiO3), wobei rasch
gemischt wird bis der pH etwa 8-10
beträgt
und anschließend
Na+ entfernt wird.
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Silikasole können zur Bildung von Gelen
verwendet werden. Ein Gel ist eine kohärente, starre, kontinuierliche
dreidimensionale Struktur aus Silikapartikeln. Die Herstellung eines
Gels geschieht normalerweise durch Kontaktieren des Silikas mit
einer Säure
in Abwesenheit neutralisierender Salze. Die Erzeugung eines Gels
kann jedoch auch von anderen Faktoren abhängen, einschließlich der
Größe der Silikapartikel
und der Natur der Oberfläche
der Silikapartikel.
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Es können verschiedene Arten von
Gelen gebildet werden, einschließlich Hydrogele, Alkogele und
Organogele. Wie der Name impliziert, ist ein Hydrogel ein Gel, in
dem die Poren (die Räume
innerhalb der Gelmikrostruktur) mit Wasser gefüllt sind. In gleicher Weise
ist ein Alkogel ein Gel, in dem die Poren mit einem Alkohol gefüllt sind,
während
ein Organogel ein Gel ist, in dem die Poren mit einer organischen
Flüssigkeit
gefüllt
sind. Wenn ein Gel mit einem Mittel getrocknet wird, bei dem die
kohärente
Gelmikrostruktur zusammenbricht (z. B. durch Verdampfen), wird ein
Pulver mit einer relativ hohen Dichte, das üblicherweise als ein Xerogel
bezeichnet wird, gebildet. Wenn ein Gel so getrocknet wird, dass
die Gelstruktur erhalten bleibt (z. B. durch superkritisches Trocknen,
wie es beispielsweise im US-Patent 3,652,214 beschrieben wird) wird dagegen
ein Pulver niedriger Dichte, das üblicherweise als ein Aerogel
bezeichnet wird, gebildet.
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Aerogele weisen sehr ungewöhnliche,
jedoch im höchsten
Maße erwünschte Eigenschaften
auf. Sie können
hydrophil sein oder durch Einführung
hydrophober funktioneller Gruppen auf ihre Oberfläche in hydrophobe
Arten umgewandelt werden. Auch sind sie im Wesentlichen optisch
transparent und weisen eine extrem geringe Dichte und eine geringe
Wärmeleitfähigkeit
auf. Sie weisen einen breit gefächerten
Anwendungsbereich auf, einschließlich der Anwendung in Wärmeisolatoren
und als Verstärkungsfüllstoffe
in Elastomeren.
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Obwohl die Rohmaterialkosten sehr
gering sind, waren die Kosten der Verarbeitung der verschiedenen
Silikapartikel, um den Partikeln Hydrophobizität zu verleihen eingeschlossen,
hoch. Darüber
hinaus war es erwünscht
die hydrophoben Gruppen auf den Partikeln auf dichte und gleichförmige Weise
einzuführen. Dazu
musste herkömmlicherweise
auf relativ kostspielige difunktionelle hydrophobe Reagentien, wie
Hexamethyldisiloxan (HMDS) und Hexamethyldisilazan (HMDZ) zurückgegriffen
werden. Obwohl auf der wirtschaftlichen Seite Fortschritte gemacht
worden sind, ist die Entwicklung von Verfahren, die Aerogele hoher
Qualität unter
Kostenersparung gegenüber
den herkömmlichen
Prozessen bereitstellen, zurückgeblieben.
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Die US-Patente 2,739,075 und 2,786,042
sind relativ frühe
Beschreibungen Oberflächenmodifizierter Silikas
und allgemeiner Verfahren zu ihrer Herstellung. In den US-Patenten 3,015,645
und 3,122,520 werden Verfahren für
eine Bereitstellung verbesserter verstärkender Silikafüllstoffe,
z. B. Aerogele, für
Silikonkautschuk beschrieben. Das in dem '520-Patent dargelegte
Verfahren umfasst das Erhitzen eines Silikahydrosols unter stark
sauren Bedingungen (z. B. HCl bei einem pH von 1 oder weniger),
bevor das Silikahydrosol mit einem hydrophobierenden Mittel umgesetzt
wird. Das erhaltene Silika ist ein hydrophobes Aerogel, das eine Oberfläche von
100–650
m2/g aufweist, wie mittels Brunauer-Theorie
(BET-Messung) festgestellt wurde.
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Trotz des Wissens, das durch die
obigen Erläuterungen
bereitgestellt wird, besteht ein Bedürfnis nach einem Verfahren,
durch das Säure-behandelte
Silikapartikel auf eine Weise bereitgestellt werden können, die wirtschaftlicher
ist als die derzeit eingesetzten, die jedoch keine unnötig nachteilige
Wirkung auf den Grad aufweist, bis zu dem das Silika hydrophobisiert
werden kann, auf seine Gleichförmigkeit
oder die physikalischen Eigenschaften eines jeden Gels, das bei
der Herstellung dieser hydrophoben Oberflächenbehandelten Partikel verwendet
wurde oder aus diesen erzeugt wurde, wie beispielsweise Dichte,
Oberfläche
und dergleichen. Die vorliegende Erfindung stellt ein solches Verfahren
bereit.
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Kurze Zusammenfassung
der Erfindung
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Die vorliegende Erfindung stellt
ein Verfahren zur Behandlung von Silika gemäß Anspruch 1 bereit, wobei
trockenes Silika mit einem Reaktionsmedium in Kontakt gebracht wird,
das im Wesentlichen besteht aus konzentrierter wässriger Mineralsäure und
einem hydrophobierenden Mittel, das ausgewählt ist aus der Gruppe bestehend
aus Organosiloxanen und Organochlorosilanen. Das Silika wird dann
mit dem hydrophobierenden Mittel in einem Reaktionsmedium 90 Minuten
lang oder weniger bei einer Temperatur von 10°C–40°C umgesetzt, um ein hydrophobes
behandeltes Silika bereitzustellen. Das hydrophobe behandelte Silika
wird dann gewonnen.
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Ausführliche
Beschreibung der bevorzugten Ausführungsformen
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Die vorliegende Erfindung stellt
ein verbessertes Verfahren für
die Behandlung von Silika, insbesondere der Herstellung von hydrophobem
Silika, bereit. Das vorliegende erfindungsgemäße Verfahren betrifft im Allgemeinen
das Kontaktieren eines trockenen Silikas mit einem Reaktionsmedium,
das im Wesentlichen aus konzentrierter wässriger Säure und einem hydrophobierenden
Mittel besteht, das ausgewählt
ist aus der Gruppe bestehend aus Organosiloxanen und Organochlorosilanen.
Das Silika wird dann mit dem hydrophobierenden Mittel in dem Reaktionsmedium
etwa 90 Minuten oder weniger bei einer Temperatur von etwa 10°C bis etwa
40°C umgesetzt
um ein hydrophobes behandeltes Silika bereitzustellen. Das hydrophobe
behandelte Silika wird dann gewonnen.
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Ohne sich auf eine besondere Theorie
festzulegen wird angenommen, dass die Abwesenheit von überschüssigem Wasser
in der Zusammensetzung es der konzentrierten Säure erlaubt während des
Reaktionsprozesses in einer relativ hohen Konzentration zu verbleiben
und nicht durch die Einführung
sekundärer Wasserquellen
verdünnt
zu werden, einschließlich
beispielsweise durch Zugabe von Wasser selbst zu dem System oder
mittels beträchtlich
nassem Silika. Es wird angenommen, dass diese Verdünnung zu
einer unerwünscht
langen Prozesszeit für
die Hydrophobiebehandlung führt,
die die Effizienz des gesamten Prozesses der Oberflächenbehandlung
des Silika herabsetzt.
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Die trockenen Silika, die in dem
erfindungsgemäßen Verfahren
eingesetzt werden können,
sind vorzugsweise Silikapulver, die im Wesentlichen wasserfrei sind. „Im Wesentlichen
wasserfrei" bedeutet, dass das Silika kein Wasser enthält oder
einen Gehalt an adsorbiertem Wasser aufweist, der so gering ist,
dass die Säurekonzentration
in dem Reaktionsmedium als ein Ergebnis der Verdünnung durch das adsorbierte
Wasser nicht um mehr als etwa 15% reduziert wird. Vorteilhafterweise
ist das Silika im Wesentlichen vollständig wasserfrei, d.h. es enthält weniger
als etwa 5 Gew.-% Wasser und vorzugsweise ist das Silika wasserfrei,
d.h. es enthält
weniger als etwa 1 Gew.-% Wasser.
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Das trockene Silika, das dem erfindungsgemäßen Verfahren
unterzogen wird, kann jedes geeignete Silika umfassen (normalerweise
in Form von Partikeln) und vorteilhafterweise diejenigen, die anschließend hydrophob
gemacht werden sollen. Beispiele für solche trockenen Silikas
umfassen hochdisperses Silika und gefälltes Silika. Silikaaerogele
und -xerogele können
ebenfalls gemäß dem erfindungsgemäßen Verfahren
verarbeitet werden. Beispielsweise kann ein geeignetes trockenes
Silika als ein Gel vorliegen und gemäß dem erfindungsgemäßen Verfahren
behandelt werden um ein hydrophobes Silikagel bereitzustellen, das
dann weiterverarbeitet werden kann, um ein hydrophobes Aerogel bereitzustellen,
wobei jedes dem Fachmann bekannte geeignete Verfahren eingesetzt
werden kann.
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Hochdispenses Silika ist ein bevorzugtes
Silika in dem erfindungsgemäßen Verfahren.
Vorzugsweise wird das hochdisperse Silika vor der Behandlung mit
dem hydrophobierenden Mittel nicht geliert.
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Die in der Zusammensetzung verwendete
konzentrierte wässrige
Säure kann
jede geeignete konzentrierte wässrige
Säure sein,
normalerweise eine oder eine Kombination aus einer beliebigen Anzahl
konzentrierter Mineralsäuren.
Vorzugsweise werden Salzsäure,
Schwefelsäure
oder Kombinationen davon verwendet, wobei Salzsäure die am meisten bevorzugte
ist. Der Durchschnittsfachmann weiß, dass die Konzentration vollständig gesättigter
wässriger
Säuren
von der verwendeten Säureart
abhängt.
Beispielsweise entspricht völlig gesättigte Salzsäure (auch
als konzentrierte Salzsäure
bekannt) etwa 12 M HCI, wogegen völlig gesättigte Schwefelsäure etwa
18 M H2SO4 entspricht.
Der Durchschnittsfachmann weiß auch,
dass die Säurekonzentration
der „konzentrierten
Säure"
in dem Reaktionsmedium je nach der Restwassermenge, die in dem trockenen
Silika vorliegt und der verwendeten Silikamenge variieren kann.
Darüber
hinaus kann das hydrophobierende Mittel in der sauren Phase teilweise
löslich
sein und dadurch die Säurekonzentration
herabsetzen. Normalerweise ist jedoch das hydrophobierende Mittel,
das hydrophob ist, in der konzentrierten wässrigen Säure relativ unlöslich und
bildet daher in dem Reaktionsmedium eine separate Phase. Der bezüglich der
wässrigen Säure des
Reaktionsmediums hier verwendete Begriff „konzentriert" bezeichnet
eine im Wesentlichen gesättigte
Lösung
einer wässrigen
Säure.
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„Im Wesentlichen gesättigt" bedeutet,
dass die konzentrierte Säure
in dem Reaktionsmedium eine Säurekonzentration
von mindestens etwa 85% der völlig
gesättigten
konzentrierten Säure
aufweist. Demgemäß beträgt, wenn
Salzsäure
als die konzentrierte Säure
des Reaktionsmediums der vorliegenden Erfindung verwendet wird,
die Konzentration von HCI mindestens etwa 10 M, vorzugsweise mindestens
etwa 11 M, bevorzugter größer als
11 M, am meisten bevorzugt etwa 12 M. In gleicher Weise beträgt, wenn
Schwefelsäure verwendet
wird, die Konzentration von H2SO4 mindestens etwa 15 M, vorzugsweise mindestens
etwa 16 M, bevorzugter mindestens etwa 17 M und am meisten bevorzugt
etwa 18 M. Vorteilhafte Ergebnisse werden mit zunehmender Säuremolarität erhalten,
obwohl der genaue Grund für
diesen Effekt derzeit nicht genau bekannt ist. Wenn solche Säuren verwendet
werden, sollte der pH der Zusammensetzung nicht größer sein
als etwa 1, z. B. zwischen 0 und 0,5 und vorzugsweise unter etwa
0.
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Die Reaktionsbedingungen der vorliegenden
Erfindung sind dadurch äußerst vorteilhaft,
dass die hydrophobe Oberflächenmodifikation
von Silika mit relativ kurzen Reaktionszeiten und geringen Reaktionstemperaturen
erreicht werden kann.
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Es kann jede geeignete Reaktionszeit
bei der Reaktion von Silika mit dem hydrophobierenden Mittel verwendet
werden. Vorteilhafterweise sind bei dem erfindungsgemäßen Verfahren
keine langen Reaktionszeiten erforderlich. Natürlich hängt die Reaktionszeit, die
für das
Umsetzen einer speziellen Probe trockenen Silikas mit einem hydrophobierenden
Mittel erforderlich ist, von mehreren Faktoren ab, wie beispielsweise
der Art des verwendeten Silikas (z. B. Partikelgröße, Aggregationszustand
und Konzentration der Silanolgruppen auf der Silikaoberfläche), der
Art der in dem Reaktionsmedium verwendeten Säure und der Reaktivität des hydrophobierenden
Mittels. Vorzugsweise beträgt
die Reaktionszeit etwa 3 Stunden oder weniger, bevorzugter etwa
2 Stunden oder weniger und am meisten bevorzugt 1,5 Stunden (d.h.
90 Minuten) oder weniger. In einer bevorzugten Ausführungsform
beträgt
die Reaktionszeit etwa 45 Minuten oder weniger.
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Vorzugsweise findet die Reaktion
bei einer Temperatur zwischen etwa 10°C und etwa 100°C, bevorzugter
zwischen etwa 10°C
und etwa 60°C
und am meisten bevorzugt zwischen etwa 10°C und etwa 40°C statt.
In einer bevorzugten Ausführungsform
wird die Temperatur bei Raumtemperatur (d.h. etwa 20–25°C) durchgeführt.
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Natürlich kann die Behandlung von
Silika gemäß dem erfindungsgemäßen Verfahren
auch in noch kürzerer
Zeit erreicht werden, indem höhere
Temperaturen eingesetzt werden, wie beispielsweise durch Erhitzen
des Gemisches bei Atmosphärendruck
zum Rückfluss
(z. B. etwa 80–110
kPa (etwa 600–800b
Torr)) oder durch Erhitzen des Gemisches zum Rückfluss bei erhöhten Drücken, vorteilhafterweise
mindestens etwa 120 kPa (etwa 900 Torr), vorzugsweise mindestens
210 kPa (etwa 1600 Torr), bevorzugter mindestens etwa 330 kPa (etwa
2500 Torr) und am meisten bevorzugt mindestens etwa 490 kPa (etwa
3700 Torr).
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Jedes geeignete hydrophobierende
Mittel kann in dem erfindungsgemäßen Verfahren
verwendet werden. Beispielsweise ist in bekannten Verfahren relativ
teures und reaktives Hexamethyldisilazan (HMDZ) eingesetzt worden
um hydrophobes Oberflächenbehandeltes
Silika bereitzustellen. Kostengünstigere
hydrophobierende Mittel, wie beispielsweise Organosiloxane (die
wesentlich weniger reaktiv sind als HMDZ) und Organochlorosilane
(die in wässrigen
sauren Medien schlecht löslich
sind) sind üblicherweise
in Kombination mit Kosolvenzien, wie beispielsweise Isopiopanol,
verwendet worden. Darüber
hinaus werden die derzeitigen Verfahren für die säurevermittelte hydrophobe Oberflächenmodifikation
von Silika unter Verwendung von Organosiloxanen, wie beispielsweise
Hexamethyldisiloxan (HMDS) und Organochlorosilanen, wie beispielsweise
Trimethylchlorosilan (TMCS), üblicherweise
in wässrigen
sauren Medien durchgeführt,
die nicht im Wesentlichen mit Säure
gesättigt
sind. Überraschenderweise
ist gefunden worden, dass die säurevermittelte,
hydrophobe Oberflächenmodifikation
von Silika durch das Eliminieren von überschüssigem Wasser aus dem Reaktionsmedium
verbessert wird. Wenn beispielsweise trockenes hochdisperses Silika
gemäß dem erfindungsgemäßen Verfahren
behandelt wird, können
relativ preiswerte hydrophobe Reaktanten, wie Trimethylchlorosilan
(TMCS) und Hexamethyldisiloxan (HMDS) unter milden Bedingungen eingesetzt
werden, wobei ein relativ hoher Grad an hydrophober Oberflächenbehandlung
pro Oberflächeneinheit
und eine gleichförmige
Flächendeckung
bereitgestellt werden. Überraschenderweise
ist kein Kosolvens erforderlich, wenn solche hydrophobierenden Mittel
gemäß dem endungsgemäßen Verfahren
eingesetzt werden. Die Abwesenheit eines Kosolvens ist in höchstem Maße vorteilhaft,
beispielsweise durch Herabsetzen der Produktionskosten. Darüber hinaus
vereinfacht die Abwesenheit eines Kosolvens, wie beispielsweise
Isopropanol, die Wiedergewinnung der Materialien für die Entsorgung
und das Recycling. Die Wiedergewinnung von in dem Reaktionsprozess
freigesetzten HCI-Dämpfen
wird beispielsweise durch die Abwesenheit von Kosolvensdämpfen, die
normalerweise abgetrennt werden müssen, vereinfacht. Da die hydrophobierenden
Mittel normalerweise hydrophob sind, ist die Wiedergewinnung der
hydrophobierenden Mittel in Abwesenheit eines organischen Kosolvens,
das ebenfalls normalerweise abgetrennt werden muss, vereinfacht.
Die Wiedergewinnung der konzentrierten wässrigen Säure des Reaktionsmediums ist
in Abwesenheit eines Kosolvens gleichfalls erleichtert. Verfahrensbedingungen
bezüglich
des Hydrophobierens von Silika sind bekannt und können vom
Fachmann ohne Weiteres dem vorliegenden Verfahren angepasst werden.
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Das hydrophobierende Mittel ist vorzugsweise
mindestens ein Organosiloxan der Formel
(R1R2R3Si)2O
in
der R1, R2 und R3 gleich oder verschieden sein können und
jeweils eine C1-C6-Alkyl-,
Fluoralkyl-, Aryl- oder Anlalkylgruppe sind. Beispielsweise können R1, R2 und R3 jeweils C1-C3-Alkyl sein und vorteilhafterweise kann jedes
Methyl sein. Vorzugsweise sind R1, R2 und R3 Methyl,
wobei in diesem Fall das Hydrophobierungsmittel Hexamethyldisiloxan
(HMDS) ist.
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Ebenfalls bevorzugt sind Organosiloxane
der Formel:
wobei R
1 und
R
2 gleich oder verschieden sein können und
jeweils eine C
1-C
6-Alkyl-,
Fluoroalkyl-, Aryl- oder Anlalkylgruppe sind. Vorzugsweise sind
R
1 und R
2 Methyl.
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Eine andere Organosiliziumverbindung,
die vorteilhafterweise als ein hydrophobierendes Mittel in Verbindung
mit diesem Aspekt der vorliegenden Erfindung verwendet werden kann,
sind Organosiloxane der Formel
wobei R
1 und
R
2 gleich oder verschieden sein können und
jeweils ein C
1-C
6-Alkyl,
Fluoroalkyl, Aryl oder Arylalkyl sind. Bezüglich einer jeden der zuvor
genannten Formeln für
das hydrophobierende Mittel ist es bevorzugt, dass R
1 und
R
2 gleich sind und bevorzugter, dass jedes
eine C
1-C
6-Alkylgruppe
ist, wobei es am meisten bevorzugt ist, dass jedes Methyl ist.
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In dem erfindungsgemäßen Verfahren
kann jedes geeignete Organochlorosilan verwendet werden. Vorzugsweise
ist das Organochlorosilan eine Verbindung der Formel:
R1R2R3SiCl,
R1R2SiCl2 oder R1SiCl3,
wobei R1,
R2 und R3 gleich
oder verschieden sein können
und jeweils ein C1-C6-Alkyl,
Fluoroalkyl, Aryl oder Arylalkyl sind. R1,
R2 und R3 sind jeweils
vorzugsweise eine C1-C3-Alkylgruppe,
bevorzugterweise jedoch jeweils eine Methylgruppe. Am meisten bevorzugt
ist das hydrophobierende Mittel Chlorotrimethylsilan oder Dimethyldichlorosilan.
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Ein anderes vorteilhaftes hydrophobierendes
Mittel ist ein lineares Organosiloxan der Formel:
worin n eine ganze
Zahl von 0–10
ist; R
1 und R
2 gleich
oder verschieden sein können
und jeweils eine C
1-C
6-Alkyl-,
Fluoroalkyl-, Aryl- oder Arylalkylgruppe sind; und R
3 und
R
4gleich oder verschieden sein können und
jeweils Hydroxyl, C
1-C
6-Alkyl,
Fluoroalkyl, Aryl oder Arylalkyl sind. Beispielsweise können R
1 und R
2 C
1-C
3-Alkyl sein und
vorteilhafterweise ist jedes Methyl. In einer bevorzugten Ausführungsform
ist das lineare Organosiloxan Oktamethyltrisiloxan (n ist 1 und
R
1-R
4 sind Methyl).
Ebenfalls bevorzugt sind lineare Organosiloxane mit einem Hydroxyende,
wobei R
3 Hydroxyl ist und R
4 C
1-C
6-Alkyl, vorzugsweise Methyl ist oder sowohl
R
3 als auch R
4 Hydroxyl
sind.
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Der Durchschnittsfachmann erkennt
ohne Weiteres die Bedingungen, unter denen die zuvor genannten hydrophobierende
Reaktion durchgeführt
werden kann und die Mittel, mit denen das erhaltene hydrophobierte
Silika (d.h. bezogen auf hochdisperses, gefälltes Aerogel oder Xerogelsilika)
wiedergewonnen werden kann. In einer bevorzugten Ausführungsform
ist das verwendete trockene Silika hochdisperses Silika, die konzentrierte
Säure in
dem Reaktionsmedium ist Salzsäure
mit einer Konzentration von mindestens etwa 10,5 M, das hydrophobierende
Mittel ist Hexamethyldisiloxan (HMDS) und man läßt die Reaktion etwa 30 Minuten
lang bei Umgebungstemperatur (etwa 22°C) fortschreiten. In einer anderen
bevorzugten Ausführungsform
ist das verwendete trokkene Silika hochdisperses Silika, die konzentrierte
Säure in
dem Reaktionsmedium ist Salzsäure,
die eine Konzentration von mindestens etwa 10,5 M aufweist, das
hydrophobierende Mittel ist Trimethylchlorosilan (TMCS) und man
läßt die Reaktion
etwa 30 Minuten lang bei Umgebungstemperatur (etwa 22°C) fortschreiten.
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Ein Vorteil des vorliegenden Verfahrens
ist, dass der Säuredampf,
der während
der Reaktion der Oberflächenmodifikation
gebildet wird (d.h. der Reaktion des hydrophobierenden Mittels und
des Säure-behandelten
Silikas) ohne Weiteres gewonnen und recyclet werden kann, wodurch
die Wirtschaftlichkeit verbessert wird.
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Oft ist es erwünscht, das behandelte Silika
nach dem Gewinnen zu trocknen. Ohne an eine spezielle Theorie gebunden
sein zu wollen wird angenommen, dass einige hydrophobierende Mittel,
insbesondere reaktive Organochlorosilane, Verunreinigungen mit niedrigem
Molekulargewicht bilden können
oder in einem nicht-umgesetzten Zustand in dem gewonnenen Silika
zurückbleiben.
Das Vorliegen dieser Nebenprodukte und Reaktanten mit niedrigem
Molekulargewicht kann eine schädliche
Wirkung auf die Eigenschaften des getrockneten Produkts aufweisen
und es wird angenommen, dass sie unter den üblicherweise verwendeten Trocknungsbedingungen
akkumulieren. Die vorliegende Erfindung umfasst demgemäß ggf. ein
Reinigen des behandelten Silikas, um ein Produkt bereitzustellen,
das im Wesentlichen aus hydrophobem Silika besteht. Eine solche
Reinigung wird vorzugsweise durch Extrahieren des behandelten Silikas
mit einer organischen Flüssigkeit,
z. B. Hexamethyldisiloxan, vor einem Trocknungsschritt erreicht.
Eine in akzeptablem Maße
vollständige
Extraktion kann durch eine thermische gravimetrische Analyse angegeben
werden, in der das getrocknete gereinigte Produkt weniger als etwa
6 Gew.-% verliert, wenn es von 200°C auf 400°C erhitzt wird. Diese Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung ist in der US-Patentanmeldung 60/071359,
die am 15. Januar 1998 eingereicht wurde (Menon et al.), ausführlicher
beschrieben.
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Das vorliegende erfindungsgemäße Verfahren
kann ohne Weiteres zur Verwendung in Batch-, Semibatch- und kontinuierlichen
Verfahren angepasst werden und die Säurebehandlung kann in einer
flüssigen oder
Dampfphase durchgeführt
werden, wie der Fachmann weiß,
ohne die durch das Verfahren bereitgestellten Vorteile zu verlieren.
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Das folgende Beispiel dient der weiteren
Veranschaulichung der vorliegenden Erfindung, soll jedoch deren
Umfang in keinster Weise einschränken.
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Beispiel
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Dieses Beispiel zeigt die Wirkung
einer säurevermittelten
hydrophoben Behandlung von Silika, wobei überschüssiges Wasser aus dem Reaktionsmedium
eliminiert wird, im Vergleich zu einem Reaktionsmedium, in dem überschüssiges Wasser
vorliegt.
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Proben von hochdispersem Silika (im
Handel erhältlich
von Cabot Corporation unter der Marke Cab-O-Sil® H5)
wurden mit konzentrierter Salzsäure
(12 M) und hydrophobierendem Mittel (entweder TMCS oder HMDS) mit
variierenden Mengen an überschüssigem Wasser
in dem Reaktionsmedium bei Umgebungstemperatur (etwa 22°C) etwa 30
Minuten lang gemischt. Die Reaktionsbedingungen für jede der
Proben sind in der folgenden Tabelle 1 angegeben. Die erhaltenen
behandelten Silikaproben wurden gewonnen und eine Stunde lang bei
150°C getrocknet.
Die Oberfläche
und der C-Wert der behandelten Silikaproben wurden unter Verwendung
des BET-Models bezogen auf N2-Adsorptionmessungen
bei 77 K berechnet. Ein niedrigerer C-Wert weist auf eine größere Anzahl
von hydrophoben Gruppen auf dem Silika hin.
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Die Stickstoftadsorptionsdaten wurden
unter Verwendung eines ASAP2000 erhalten, einem automatisierten
volumetrischen Gassorptionssystems, hergestellt von Micromeritics
Corp. (Atlanta, GA). Vor der Durchführung des Adsorptionsexperiments
wurden die Proben bei 180°C
bei weniger als 0,003 mm Hg entgast, was normalerweise weniger als
4 Stunden dauerte. Für
das Adsorptionsexperiment wurde die bei 5 verschiedenen relativen
Drücken über einen
Bereich von 0,05–0,25
adsorbierte Stickstoffmenge erhalten und mittels des Brunauer-Emmett-Teller
(BET)-Models analysiert. Siehe Gregg et al., „Adsorption, Surface Area
and Porosity" (Academic Press, New York, 1991), S. 285. Die Ergebnisse
dieser Messungen an jeder der Proben sind in der Tabelle 1 angegeben.
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Wie hier aus einem Vergleich der
experimentellen Ergebnisse für
die Proben A-D hervorgeht, führte die
Abwesenheit eines nennenswerten Wasserüberschusses zu hydrophobem
Oberflächen-behandeltem
Silika, das eine wesentlich erhöhte
Anzahl an hydrophoben Gruppen auf seiner Oberfläche aufweist (nachgewiesen
durch den abnehmenden C-Wert, insbesondere einen C-Wert von etwa
30 oder weniger und insbesondere einen C-Wert von etwa 25 oder weniger)
und mit einer Oberfläche,
die mit derartig erhöhten
hydrophoben Gruppen konsistent ist.
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Sämtliche
der hier zitierten Literaturstellen, einschließlich Patenten, Patentanmeldungen
und Veröffentlichungen,
werden hiermit in ihrer Gesamtheit durch Bezugnahme aufgenommen.
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Obwohl diese Erfindung mit Betonung
auf bevorzugte Ausführungsformen
beschrieben worden ist, ist es für
den Fachmann offensichtlich, dass Variationen der bevorzugten Ausführungsformen
verwendet werden können
und dass des beabsichtigt ist, dass die Erfindung auf andere Weise
als spezifisch hier beschrieben durchgeführt werden kann.