DE69818972D1 - Akustische oberflächenwellenanordnung und verfahren zur herstellung - Google Patents

Akustische oberflächenwellenanordnung und verfahren zur herstellung

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Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3266109B2 (ja) * 1998-08-05 2002-03-18 株式会社村田製作所 電子デバイスの作製方法
WO2000074235A1 (fr) * 1999-05-31 2000-12-07 Tdk Corporation Dispositif a ondes acoustiques de surface
CN1159843C (zh) 1999-11-30 2004-07-28 Tdk株式会社 表面声波器件及其制造工艺
DE19960299A1 (de) * 1999-12-14 2001-06-21 Epcos Ag Duplexer mit verbesserter Sende-/Empfangsbandtrennung
JP3846221B2 (ja) 2000-07-14 2006-11-15 株式会社村田製作所 弾性表面波素子
CN1551496A (zh) * 2000-10-23 2004-12-01 松下电器产业株式会社 弹性表面波滤波器
JP3521864B2 (ja) 2000-10-26 2004-04-26 株式会社村田製作所 弾性表面波素子
JP3445971B2 (ja) 2000-12-14 2003-09-16 富士通株式会社 弾性表面波素子
JP3926633B2 (ja) * 2001-06-22 2007-06-06 沖電気工業株式会社 Sawデバイス及びその製造方法
JP2003069357A (ja) * 2001-08-28 2003-03-07 Murata Mfg Co Ltd 弾性表面波素子の製造方法および弾性表面波素子
JP3735550B2 (ja) * 2001-09-21 2006-01-18 Tdk株式会社 弾性表面波装置およびその製造方法
TWI282660B (en) 2001-12-27 2007-06-11 Murata Manufacturing Co Surface acoustic wave device and manufacturing method therefor
JP3646116B2 (ja) 2003-07-17 2005-05-11 Tdk株式会社 表面弾性波素子、表面弾性波装置、表面弾性波デュプレクサ、及び表面弾性波素子の製造方法
JP2005347892A (ja) 2004-05-31 2005-12-15 Fujitsu Media Device Kk 弾性表面波素子
JP4809042B2 (ja) 2005-11-10 2011-11-02 日本電波工業株式会社 弾性表面波素子及びその製造方法
JP3961012B1 (ja) * 2006-03-22 2007-08-15 Tdk株式会社 弾性表面波装置
US20090135541A1 (en) * 2007-11-06 2009-05-28 Kabushiki Kaisha Toshiba Actuator and electronic circuit based thereon
US8664836B1 (en) * 2009-09-18 2014-03-04 Sand 9, Inc. Passivated micromechanical resonators and related methods
DE102009056663B4 (de) 2009-12-02 2022-08-11 Tdk Electronics Ag Metallisierung mit hoher Leistungsverträglichkeit und hoher elektrischer Leitfähigkeit und Verfahren zur Herstellung
JP5880520B2 (ja) * 2013-10-30 2016-03-09 株式会社村田製作所 弾性波装置及びその製造方法
EP3308178B1 (de) 2015-07-17 2019-11-06 Hewlett-Packard Enterprise Development LP Betriebsfrequenzbestimmung
CN106338347A (zh) * 2016-11-02 2017-01-18 清华大学 一种高温声表面波传感器的叉指电极材料及其制备方法
JP6986376B2 (ja) * 2017-06-27 2021-12-22 NDK SAW devices株式会社 弾性表面波素子およびその製造方法
CN109297840B (zh) * 2018-11-23 2021-09-17 辽宁工程技术大学 脉冲电压诱发薄膜材料机械疲劳测试方法及装置
JP2020092321A (ja) 2018-12-05 2020-06-11 太陽誘電株式会社 弾性波デバイスおよびその製造方法、フィルタ並びにマルチプレクサ
CN112737541B (zh) * 2020-12-24 2023-09-29 北京航天微电科技有限公司 一种tc-saw谐振器、制作方法和滤波器

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5549014A (en) 1978-10-04 1980-04-08 Seiko Instr & Electronics Ltd Electrode for vibrating element
JPS5955615A (ja) * 1982-09-24 1984-03-30 Hitachi Ltd 弾性表面波装置およびその製造方法
JPS6480113A (en) 1987-09-22 1989-03-27 Hitachi Ltd Surface acoustic wave device
JPH01128607A (ja) 1987-11-13 1989-05-22 Hitachi Ltd 弾性表面波装置
US5162690A (en) * 1989-04-14 1992-11-10 Murata Manufacturing Co., Ltd. Surface acoustic wave device
JPH0314305A (ja) 1989-06-13 1991-01-23 Murata Mfg Co Ltd 弾性表面波装置の製造方法
JPH0410625A (ja) 1990-04-27 1992-01-14 Seiko Epson Corp 電気配線の構造
JP2937613B2 (ja) * 1991-07-16 1999-08-23 日本電気株式会社 薄膜配線およびその製造方法
JPH05199062A (ja) 1991-09-24 1993-08-06 Seiko Epson Corp 弾性表面波素子とその製造方法および弾性表面波素子用基板
JPH05183373A (ja) * 1991-12-30 1993-07-23 Murata Mfg Co Ltd 弾性表面波素子の電極材料
JP3033331B2 (ja) 1992-02-10 2000-04-17 日本電気株式会社 薄膜配線の製造方法
JPH06132777A (ja) 1992-10-20 1994-05-13 Seiko Epson Corp 弾性表面波素子とその製造方法
JPH07107967A (ja) 1993-10-15 1995-04-25 Nippon Shokubai Co Ltd 新規微生物
JP2818535B2 (ja) * 1993-11-11 1998-10-30 日本電気株式会社 弾性表面波装置
JP3208977B2 (ja) 1993-12-02 2001-09-17 株式会社村田製作所 弾性表面波素子の電極形成方法
JPH07326943A (ja) * 1994-06-02 1995-12-12 Hitachi Ltd 弾性表面波装置
JPH08154030A (ja) * 1994-11-25 1996-06-11 Murata Mfg Co Ltd 弾性表面波素子
JP2888158B2 (ja) * 1995-01-18 1999-05-10 日本電気株式会社 弾性表面波装置の製造方法
JP3308749B2 (ja) * 1995-01-27 2002-07-29 日本電気株式会社 弾性表面波装置の製造方法、および、これを用いて製造された弾性表面波装置
JPH08288782A (ja) 1995-02-15 1996-11-01 Seiko Epson Corp 弾性表面波素子、その製造方法及び電子機器
EP0785299A1 (de) 1996-01-19 1997-07-23 Murata Manufacturing Co., Ltd. Dünnmetallschicht und Verfahren zu ihrer Herstellung, akustische Oberflächenwellen anordnung enthaltend diese Schicht und Verfahren zu ihrer Herstellung
JPH09199969A (ja) * 1996-01-19 1997-07-31 Murata Mfg Co Ltd 薄膜体

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CN1205744C (zh) 2005-06-08
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EP0940914B1 (de) 2003-10-15
DE69818972T2 (de) 2004-07-22
EP0940914A4 (de) 2002-03-20

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