DE69728126D1 - Projektionsbelichtungsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung - Google Patents

Projektionsbelichtungsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung

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Families Citing this family (52)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6333776B1 (en) * 1994-03-29 2001-12-25 Nikon Corporation Projection exposure apparatus
US6522386B1 (en) * 1997-07-24 2003-02-18 Nikon Corporation Exposure apparatus having projection optical system with aberration correction element
JP3459773B2 (ja) * 1998-06-24 2003-10-27 キヤノン株式会社 投影露光装置及びデバイスの製造方法
US6451507B1 (en) * 1998-08-18 2002-09-17 Nikon Corporation Exposure apparatus and method
JP3264368B2 (ja) * 1998-10-16 2002-03-11 日本電気株式会社 縮小投影型露光装置の調整方法
JP3315658B2 (ja) 1998-12-28 2002-08-19 キヤノン株式会社 投影装置および露光装置
JP3774590B2 (ja) 1999-05-28 2006-05-17 キヤノン株式会社 投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法
US6867922B1 (en) * 1999-06-14 2005-03-15 Canon Kabushiki Kaisha Projection optical system and projection exposure apparatus using the same
JP2003535356A (ja) 1999-12-29 2003-11-25 カール・ツアイス・スティフツング・トレーディング・アズ・カール・ツアイス 非球面レンズ表面が隣接して配置されている投影対物レンズ
US6621557B2 (en) 2000-01-13 2003-09-16 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and exposure methods
DE10328938A1 (de) * 2003-06-27 2005-01-20 Carl Zeiss Smt Ag Korrektureinrichtung zur Kompensation von Störungen der Polarisationsverteilung sowie Projektionsobjektiv für die Mikrolithografie
WO2005033800A1 (de) 2003-09-09 2005-04-14 Carl Zeiss Smt Ag Lithographie-objektiv und projektionsbelichtungsanlage mit mindestens einem solchen lithographie-objektiv
US7782440B2 (en) * 2004-11-18 2010-08-24 Carl Zeiss Smt Ag Projection lens system of a microlithographic projection exposure installation
WO2007017089A1 (en) 2005-07-25 2007-02-15 Carl Zeiss Smt Ag Projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus
KR100771616B1 (ko) * 2005-09-09 2007-10-31 엘지전자 주식회사 투사형 디스플레이 장치 및 그 제어방법
EP2035897B1 (de) 2006-07-03 2015-10-28 Carl Zeiss SMT GmbH Verfahren zur Revidierung bzw. Reparatur eines lithographischen Projektionsobjektivs
DE102006045075A1 (de) 2006-09-21 2008-04-03 Carl Zeiss Smt Ag Steuerbares optisches Element
WO2008040494A1 (en) * 2006-10-02 2008-04-10 Carl Zeiss Smt Ag Method for improving the imaging properties of an optical system, and such an optical system
EP2097789B1 (de) 2006-12-01 2012-08-01 Carl Zeiss SMT GmbH Optisches system mit austauschbarer manipulierbarer korrekturanordnung zur verminderung von bildfehlern
DE102007062265A1 (de) * 2006-12-29 2008-07-03 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsobjektiv für die Lithographie
DE102007009867A1 (de) * 2007-02-28 2008-09-11 Carl Zeiss Smt Ag Abbildungsvorrichtung mit auswechselbaren Blenden sowie Verfahren hierzu
DE102007027200A1 (de) * 2007-06-13 2008-12-18 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie
EP2188673A1 (de) 2007-08-03 2010-05-26 Carl Zeiss SMT AG Projektionsobjektiv für die mikrolithografie, projektionsbelichtungsvorrichtung, projektionsbelichtungsverfahren und optische korrekturplatte
CN101784954B (zh) 2007-08-24 2015-03-25 卡尔蔡司Smt有限责任公司 可控光学元件以及用热致动器操作光学元件的方法和半导体光刻的投射曝光设备
WO2009053001A1 (de) 2007-10-19 2009-04-30 Carl Zeiss Smt Ag Optische vorrichtung mit verbessertem abbildungsverhalten sowie verfahren dazu
DE102007055567A1 (de) * 2007-11-20 2009-05-28 Carl Zeiss Smt Ag Optisches System
DE102008001892A1 (de) 2008-05-21 2009-11-26 Carl Zeiss Smt Ag Optisches System für die Mikrolithographie
DE102008042356A1 (de) 2008-09-25 2010-04-08 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsbelichtungsanlage mit optimierter Justagemöglichkeit
DE102008043243A1 (de) 2008-10-28 2009-10-29 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie sowie Verfahren zum Verbessern der Abbildungseigenschaften eines Projektionsobjektivs
JP5312058B2 (ja) * 2009-01-19 2013-10-09 キヤノン株式会社 投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法
EP2219077A1 (de) 2009-02-12 2010-08-18 Carl Zeiss SMT AG Projektionsbelichtungsverfahren, Projektionsbelichtungssystem und Projektionsobjektiv
JP2010210760A (ja) * 2009-03-09 2010-09-24 Canon Inc 投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法
DE102009029673A1 (de) 2009-09-22 2010-11-25 Carl Zeiss Smt Ag Manipulator zur Positionierung eines optischen Elementes in mehreren räumlichen Freiheitsgraden
DE102009048553A1 (de) 2009-09-29 2011-03-31 Carl Zeiss Smt Gmbh Katadioptrisches Projektionsobjektiv mit Umlenkspiegeln und Projektionsbelichtungsverfahren
DE102010029651A1 (de) 2010-06-02 2011-12-08 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum Betrieb einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit Korrektur von durch rigorose Effekte der Maske induzierten Abbildungsfehlern
JP5661172B2 (ja) 2010-04-23 2015-01-28 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー リソグラフィ系の光学要素の操作を含むリソグラフィ系を作動させる方法
DE102011080437A1 (de) 2010-09-30 2012-04-05 Carl Zeiss Smt Gmbh Abbildendes optisches System für die Mikrolithographie
KR20130100152A (ko) * 2010-09-30 2013-09-09 가부시키가이샤 니콘 투영 광학계, 투영 광학계의 조정 방법, 노광 장치, 노광 방법, 및 디바이스 제조 방법
JP5818424B2 (ja) * 2010-12-01 2015-11-18 キヤノン株式会社 投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法
JP6186352B2 (ja) 2011-05-30 2017-08-23 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー マイクロリソグラフィ用の投影露光装置の光学素子を動かす方法
NL2009844A (en) * 2011-12-22 2013-06-26 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method.
DE102013204391B3 (de) * 2013-03-13 2014-05-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsobjektiv mit Wellenfrontmanipulator
US9298102B2 (en) 2013-03-13 2016-03-29 Carl Zeiss Smt Gmbh Projection lens with wavefront manipulator
US9651872B2 (en) 2013-03-13 2017-05-16 Carl Zeiss Smt Gmbh Projection lens with wavefront manipulator
DE102013213545A1 (de) 2013-07-10 2015-01-15 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungsoptik für die Projektionslithografie
DE102015211699A1 (de) 2014-08-13 2016-02-18 Carl Zeiss Smt Gmbh Abbildendes optisches System sowie Verfahren zum optischen Design
DE102014221504A1 (de) * 2014-10-23 2016-04-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie
DE102015209051B4 (de) * 2015-05-18 2018-08-30 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsobjektiv mit Wellenfrontmanipulator sowie Projektionsbelichtungsverfahren und Projektionsbelichtungsanlage
DE102015218329A1 (de) 2015-09-24 2017-03-30 Carl Zeiss Smt Gmbh Optische Korrekturanordnung, Projektionsobjektiv mit einer solchen optischen Korrekturanordnung sowie mikrolithografische Apparatur mit einem solchen Projektionsobjektiv
KR102199133B1 (ko) 2016-08-11 2021-01-07 에이에스엠엘 홀딩 엔.브이. 파면의 가변 정정기
DE102018201495A1 (de) 2018-01-31 2019-01-10 Carl Zeiss Smt Gmbh Abbildendes optisches System für die Mikrolithographie
GB2601498A (en) * 2020-11-27 2022-06-08 Carl Zeiss GmbH Projection lens with Alvarez lens system

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6093410A (ja) * 1983-10-27 1985-05-25 Canon Inc 反射光学系
JPS612124A (ja) * 1984-06-14 1986-01-08 Canon Inc 結像光学系
US4688932A (en) * 1985-02-12 1987-08-25 Canon Kabushiki Kaisha Exposure apparatus
JPH04310034A (ja) * 1991-04-09 1992-11-02 Nec Corp プロトコル・データ単位寿命制御方式
JPH04367213A (ja) * 1991-06-13 1992-12-18 Orc Mfg Co Ltd 投影型露光装置
US5291240A (en) * 1992-10-27 1994-03-01 Anvik Corporation Nonlinearity-compensated large-area patterning system
JPH06177012A (ja) * 1992-12-03 1994-06-24 Nikon Corp アライメント装置
JP3303436B2 (ja) * 1993-05-14 2002-07-22 キヤノン株式会社 投影露光装置及び半導体素子の製造方法
US5392119A (en) * 1993-07-13 1995-02-21 Litel Instruments Plate correction of imaging systems
US5677757A (en) * 1994-03-29 1997-10-14 Nikon Corporation Projection exposure apparatus
JP3463335B2 (ja) * 1994-02-17 2003-11-05 株式会社ニコン 投影露光装置
JP3395280B2 (ja) * 1993-09-21 2003-04-07 株式会社ニコン 投影露光装置及び方法
JP3101473B2 (ja) * 1993-11-05 2000-10-23 キヤノン株式会社 露光方法及び該露光方法を用いるデバイス製造方法
JPH07226357A (ja) * 1993-12-16 1995-08-22 Nikon Corp 位置検出装置
JP3341269B2 (ja) * 1993-12-22 2002-11-05 株式会社ニコン 投影露光装置、露光方法、半導体の製造方法及び投影光学系の調整方法
JP3359193B2 (ja) * 1995-07-21 2002-12-24 キヤノン株式会社 露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法
JP3639648B2 (ja) * 1995-09-12 2005-04-20 キヤノン株式会社 露光方法及び該方法を用いた露光装置

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Publication number Publication date
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DE69728126T2 (de) 2005-01-20
US6104472A (en) 2000-08-15
KR100285030B1 (ko) 2001-04-02
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TW409304B (en) 2000-10-21
KR19980064731A (ko) 1998-10-07

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