DE102008001892A1

DE102008001892A1 - Optisches System für die Mikrolithographie

Info

Publication number: DE102008001892A1
Application number: DE102008001892A
Authority: DE
Inventors: Daniel KRÄHMER; Wilhelm Ulrich; Matthias Manger; Bernhard Gellrich
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2008-05-21
Filing date: 2008-05-21
Publication date: 2009-11-26
Also published as: US20110069295A1; WO2009141033A1; US8456616B2

Abstract

Ein optisches System (10), insbesondere Projektionsobjektiv (12), für die Mikrolithographie weist eine optische Achse und zumindest eine optische Korrekturanordnung (44) auf, die ein erstes optisches Korrekturelement und zumindest ein zweites optisches Korrekturelement aufweist, wobei das erste Korrekturelement mit einer ersten asphärischen Oberflächenkontur versehen ist und wobei das zweite Korrekturelement mit einer zweiten asphärischen Oberflächenkontur versehen ist, wobei sich die erste Oberflächenkontur und die zweite Oberflächenkontur zumindest näherungsweise zu null addieren, wobei die Korrekturanordnung (44) zumindest einen Antrieb zum Bewegen zumindest eines der beiden Korrekturelemente aufweist. Dabei ist zumindest eines der beiden Korrekturelemente um eine Drehachse drehbar, die zumindest näherungsweise parallel zur optischen Achse ist, und der zumindest eine Antrieb ist ein Drehantrieb zum Drehen des einen oder beider Kontaktelemente um die Drehachse (Fig. 1).

Description

Die Erfindung betrifft ein optisches System, insbesondere ein Projektionsobjektiv, für die Mikrolithographie, mit einer optischen Achse und mit zumindest einer optischen Korrekturanordnung, die cm erstes optisches Korrekturelement und zumindest ein zweites optisches Korrekturelement aufweist, wobei das erste Korrekturelement mit einer ersten asphärischen Oberflächenkontur versehen ist, und wobei das zweite Korrekturelement mit einer zweiten asphärischen Oberflächenkontur versehen ist, wobei sich die erste Oberflächenkontur und die zweite Oberflächenkontur zumindest näherungsweise zu null addieren, wobei die Korrekturanordnung zumindest einen Antrieb zum Bewegen zumindest eines der beiden Korrekturelemente aufweist.
Ein optisches System der vorstehend genannten Art ist aus EP 0 851 304 A bekannt.
Ohne Beschränkung der Allgemeinheit wird das vorstehende genannte optische System bei einem Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie beschrieben, ohne dass die vorliegende Erfindung jedoch hierauf beschränkt ist.
Ein Projektionsobjektiv ist ein Teil einer Projektionsbelichtungsanlage, die zur Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet wird. Dazu wird ein in einer Objektebene des Projektionsobjektivs angeordnetes Muster, das als Retikel bezeichnet wird, mittels des Projektionsobjektivs auf eine fotoempfindliche Schicht eines Substrats, das als Wafer bezeichnet wird, abgebildet.
Aufgrund der stets fortschreitenden Miniaturisierung der Strukturen der herzustellenden Halbleiterbauelemente werden an die Abbildungseigenschaften von Projektionsobjektiven zunehmend höhere Anforderungen gestellt.
Daher ist es stets ein Ziel, Abbildungsfehler von Projektionsobjektiven für die Mikrolithographie auf ein sehr geringes Niveau zu reduzieren. Während herstellungsbedingte Abbildungsfehler bei einem Projektionsobjektiv bereits nach der Herstellung des Projektionsobjektivs durch Nachbearbeitung, beispielsweise Asphärisierung einzelner Linsen oder Spiegel des Projektionsobjektivs, behoben werden können, ist die Korrektur von während des Betriebs auftretenden Abbildungsfehlern schwieriger.
Während des Betriebs wird das verwendete Abbildungslicht von den optischen Elementen des Projektionsobjektivs teilweise absorbiert, was zur Erwärmung der optischen Elemente des Projektionsobjektivs führt. Durch die Erwärmung werden Abbildungsfehler induziert, die komplizierte Feldverläufe annehmen können, insbesondere wenn, wie dies bei modernen Projektionsbelichtungsanlagen der Fall ist, der Strahlengang durch das Projektionsobjektiv nicht rotationssymmetrisch bezüglich der optischen Achse ist, und insbesondere einzelne optische Elemente vom Strahlengang nur in einem Teilbereich genutzt werden. Darüber hinaus werden in modernen Projektionsbelichtungsanlagen zunehmend spezielle Beleuchtungsarten (auch als Beleuchtungssettings bezeichnet) eingesetzt, insbesondere Dipol- oder Quadrupolbeleuchtungen. Diese Multipolbeleuchtungen fuhren besonders zu höherwelligen Abbildungsfehlern bzw. zu Abbildungsfehlern in höheren Zernike-Ordnungen.
In dem oben genannten Dokument EP 0 851 304 A ist ein optisches System in Form eines Projektionsobjektivs für die Mikrolithographie beschrieben, das zur Kompensation von während des Betriebs auftretenden wärmeinduzierten Abbildungsfehlern eine optische Korrekturanordnung aufweist. Die optische Korrekturanordnung weist in einem ersten Ausführungsbeispiel zwei optische Korrekturelemente auf, die beide auf ihren einander zugewandten Oberflächen jeweils eine asphärische Oberflächenkontur aufweisen, wobei sich die beiden asphärischen Oberflächenkonturen der beiden Korrekturelemente zumindest näherungsweise zu null addieren. Eine solche Korrekturanordnung wird auch als Alvarez-Manipulator bezeichnet.
In einer Ausgangsstellung (Nullstellung) der beiden Korrekturelemente heben sich die optischen Wirkungen der asphärischen Oberflächenkonturen beider Korrekturelemente gegenseitig auf. Bei dieser bekannten Korrekturanordnung sind die beiden Korrekturelemente quer zur optischen Achse relativ zueinander translatorisch verfahrbar. Durch das translatorische Verfahren der Korrekturelemente relativ zueinander werden die asphärischen Oberflächenkonturen beider Korrekturelemente gegeneinander verschoben, wodurch eine resultierende optische Wirkung auf die durch beide Korrekturelemente hindurchtretende Wellenfront erzielt wird. Diese optische Wirkung dient dann der Korrektur eines Abbildungsfehlers, wobei die asphärischen Oberflächenkonturen hierzu an den zu kompensierenden Abbildungsfehler angepasst sind.
In demselben Dokument wird auch ein Alvarez-Manipulator beschrieben, der aus insgesamt drei Korrekturelementen aufgebaut ist, wobei das erste Korrekturelement mit dem zweiten Korrekturelement ein erstes Korrekturelementpaar bildet, und das zweite Korrekturelement mit dem dritten Korrekturelement ein zweites Korrekturelementpaar.
Aus dem Dokument JP 10-142555 A ist ein Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie bekannt, das eine optische Korrekturanordnung zur Korrektur von Verzeichnung aufweist. Die Korrekturanordnung weist zumindest zwei optische Korrekturelemente auf, deren einander gegenüberliegende Oberflächen komplementär zueinander konturiert sind. Die beiden Korrekturelemente werden zur Korrektur von Verzeichnung in Richtung der optischen Achse relativ zueinander verschoben.
Während der Durchführung eines lithographischen Herstellungsverfahrens zum Herstellen von Halbleiterbauelementen ist es zuweilen erforderlich, das Beleuchtungssetting um die optische Achse zu drehen, um sowohl horizontal als auch vertikal ausgerichtete Strukturen mit optimaler Beleuchtungseinstellung fertigen zu können. Darüber hinaus müssen unter Umständen auch Strukturen mittels des Projektionsobjektivs abgebildet werden, die in beliebigen Winkelorientierungen angeordnet sind. Durch das Ändern des Beleuchtungssettings entstehen wieder neue Abbildungsfehler, die bei den bekannten optischen Systemen nicht ausreichend schnell genug kompensiert werden können. Mit anderen Worten sind die bekannten optischen Systeme nicht dazu geeignet, auf unterschiedliche Beleuchtungssettings schnell genug zu reagieren, vielmehr erfordern diese optischen Systeme den Ausbau der optischen Korrekturanordnung und den Einbau einer entsprechend an das neue Beleuchtungssetting angepassten Korrekturanordnung.
In dem Dokument EP 0 660 169 A ist eine Projektionsbelichtungsanlage beschrieben, bei dem eine optische Korrekturanordnung zum Korrigieren von nicht-rotationssymmetrischen Abbildungsfehlern vorgesehen ist. Die optische Korrekturanordnung dieses bekannten optischen Systems weist zwei Zylinderlinsen auf, von denen die eine negative und die andere positive Brechkraft aufweist. Wenn die beiden Zylinderlinsen so angeordnet sind, dass ihre Zylinderachsen parallel zueinander verlaufen, erzeugen die beiden Zylinderlinsen zusammen keine optische Wirkung, vorausgesetzt, dass die Beträge der Brechkräfte gleich groß sind. Wenn die beiden Zylinderlinsen relativ zueinander so verdreht werden, dass ihre Zylinderachsen senkrecht zueinander stehen, wird die ihre optische, in diesem Fall astigmatische, Wirkung maximal. Die Verwendung von Zylinderlinsen als Korrekturelemente beschränkt jedoch die Flexibilität und die Anzahl an korrigierbaren Abbildungsfehlern und lässt insbesondere nur die Korrektur von niederwelligen Abbildungsfehlern zu.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein optisches System der eingangs genannten Art dahingehend weiterzubilden, dass mit einer konstruktiv wenig aufwändigen optischen Korrekturanordnung die Anzahl an Korrekturfreiheitsgraden erhöht wird.
Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe hinsichtlich des eingangs genannten optischen Systems dadurch gelöst, dass zumindest eines der beiden Korrekturelemente um eine Drehachse drehbar ist, die zumindest näherungsweise parallel zur optischen Achse ist, und dass der zumindest eine Antrieb ein Drehantrieb zum Drehen des einen oder beider Korrekturelemente um die Drehachse ist.
Die optische Korrekturanordnung des erfindungsgemäßen optischen Systems geht weiterhin von dem Grundkonzept des Alvarez-Manipulators aus. Im Unterschied zu den bekannten Alvarez-Manipulatoren ist jedoch erfindungsgemäß vorgesehen, dass zumindest eines der zumindest zwei Korrekturelemente um eine Drehachse drehbar ist, die parallel zur optischen Achse verläuft, worunter zu verstehen ist, dass die Drehachse mit der optischen Achse zusammenfallen kann, aber auch, dass die Drehachse von der optischen Achse verschieden sein kann.
Durch das Vorsehen einer Drehbeweglichkeit für zumindest eines, vorzugsweise beide Korrekturelemente der optischen Korrekturanordnung werden gleich mehrere Vorteile erreicht. Die Drehbarkeit zumindest eines der optischen Korrekturelemente kann zum einen die bei den bekannten Alvarez-Manipulatoren vorgesehene translatorische Bewegung zum Verschieben der asphärischen Oberflächenkonturen der Korrekturelemente gegeneinander ersetzen, um eine bestimmte Korrekturwirkung einzustellen. Alternativ oder kumulativ hierzu kann jedoch die Drehbarkeit der Korrekturelemente dazu genutzt werden, die gesamte optische Korrekturanordnung um die Drehachse zu verdrehen, und dies nicht um die optische Korrekturwirkung der optischen Korrekturanordnung zu verändern, sondern um die gesamte optische Korrekturanordnung in Bezug auf das Beleuchtungssetting neu auszurichten, beispielsweise wenn das Beleuchtungssetting gedreht wird.
Auf diese Weise ist das erfindungsgemäße optische System im Unterschied zu den im Stand der Technik bekannten optischen Systemen im Hinblick auf die Korrektur von Abbildungsfehlern ohne Erhöhung des konstruktiven Aufwandes deutlich flexibler.
Hinsichtlich des zuletzt genannten Aspekts des erfindungsgemäßen optischen Systems ist in einer bevorzugten Ausgestaltung vorgesehen, dass beide Korrekturelemente gemeinsam ohne Relativdrehung zueinander um die Drehachse drehbar sind.
In dieser Ausgestaltung bilden das erste und zweite Korrekturelement ein Korrekturelementpaar in Form eines Alvarez-Manipulators, der als Ganzes somit um die Drehachse drehbar ist, um auf eine Drehung des Beleuchtungssettings reagieren zu können. Wird beispielsweise das Beleuchtungssetting um 90° gedreht, wird auch die optische Korrekturanordnung um 90° gedreht, und durch Lageverstellen der beiden Korrekturelemente relativ zueinander kann dann in dieser neuen um 90° veränderten Grundstellung die gewünschte optische Korrekturwirkung durch eine Relativbewegung der beiden Korrekturelemente zueinander eingestellt werden.
In einer diesbezüglich konstruktiv einfachen Ausgestaltung sind das erste und das zweite Korrekturelement vorzugsweise drehfest miteinander gekoppelt oder koppelbar, und der eine Drehantrieb dreht beide Korrekturelemente gemeinsam.
Bei dieser Ausgestaltung ist nur ein Drehantrieb für beide Korrekturelemente erforderlich, was den konstruktiven Aufwand vorteilhafterweise sehr gering hält, weil nur ein Drehlager für beide Korrekturelemente und nur ein Drehantrieb erforderlich sind.
Bei der vorstehend genannten Ausgestaltung ist es weiterhin bevorzugt, wenn das erste Korrekturelement translatorisch quer oder parallel zur optischen Achse relativ zu dem zweiten Korrekturelement verfahrbar ist, und dem ersten Korrekturelement ein translatorischer Antrieb zugeordnet ist, wobei die Anordnung aus den beiden Korrekturelementen und dem translatorischen Antrieb um die Drehachse drehbar ist.
Bei dieser besonders einfachen Ausgestaltung ist die optische Korrekturanordnung teilweise wie ein klassischer Alvarez-Manipulator aufgebaut, im Unterschied zu dem bekannten Alvarez-Manipulator ist jedoch die Korrekturanordnung vorliegend als Ganzes um die Drehachse bzw. optische Achse drehbar gelagert.
In einer hierzu alternativen weiteren Ausgestaltung der Erfindung wird die optische Korrekturwirkung der zumindest zwei optischen Korrekturelemente nicht durch eine translatorische Relativbewegung quer oder parallel zur optischen Achse erzielt, sondern dadurch, dass der zumindest eine Drehantrieb das erste Korrekturelement relativ zu dem zweiten Korrekturelement dreht, wobei dem ersten und dem zweiten Korrekturelement ein weiterer Drehantrieb zum gemeinsamen Drehen des ersten und des zweiten Korrekturelements ohne Relativdrehung zueinander zugeordnet ist.
Bei dieser Ausgestaltungsvariante wird somit sowohl die optische Korrekturwirkung durch Drehung der beiden Korrekturelemente relativ zueinander eingestellt, und die gesamte Korrekturanordnung ist als Ganzes drehbar, um die Korrekturanordnung auf ein gedrehtes Beleuchtungssetting auszurichten. Während es prinzipiell ausreicht, dass zum Erzielen der relativen Drehung des ersten Korrekturelements zu dem zweiten Korrekturelement nur eines der beiden Korrekturelemente mit einem Drehantrieb versehen ist, ist es im Rahmen der Erhöhung der Freiheitsgrade der Korrekturmöglichkeiten in dem optischen System bevorzugt, wenn das zweite Korrekturelement relativ zu dem ersten Korrekturelement ebenfalls um die Drehachse drehbar ist, und dem zweiten Korrekturelement ein zweiter Drehantrieb zum Drehen des zweiten Korrekturelements unabhängig von dem ersten Korrekturelement zugeordnet ist.
Die Korrekturwirkung der beiden Korrekturelemente ist besser, wenn sie beide gegenläufig verdreht werden. Wird nur eines der beiden Korrekturelemente verdreht, werden in der optischen Wirkung der beiden Korrekturelemente zumindest bei größeren Drehwinkeln unerwünschte Aberrationskomponenten induziert, wodurch die Korrekturwirkung nicht optimal ist.
Die optische Korrekturanordnung des erfindungsgemäßen optischen Systems kann im einfachsten Fall nur zwei Korrekturelemente aufweisen.
Zur Erhöhung der Korrekturfreiheitsgrade ist es jedoch bevorzugter, wenn die optische Korrekturanordnung zumindest drei Korrekturelemente aufweist, wobei das zweite Korrekturelement zwischen dem ersten und einem dritten Korrekturelement angeordnet ist, wobei das erste und das zweite Korrekturelement ein erstes Korrekturelementpaar und das zweite und das dritte Korrekturelement ein zweites Korrekturelementpaar bilden.
Auf diese Weise werden mittels drei Korrekturelementen zwei Korrekturelementpaare gebildet, die im Folgenden auch als Alvarez-Paare bezeichnet werden.
In einem solchen Fall ist es weiterhin bevorzugt, wenn das dritte Korrekturelement zumindest gemeinsam mit dem zweiten Korrekturelement ohne Relativdrehung zueinander um die Drehachse drehbar ist.
Wie oben in Bezug auf das erste und zweite Korrekturelement beschrieben, kann das dritte Korrekturelement relativ zu dem zweiten Korrekturelement translatorisch quer oder parallel zur optischen Achse verfahrbar sein, wobei dann dem dritten Korrekturelement ein translatorischer Antrieb zugeordnet ist, wobei die Anordnung aus dem dritten und zweiten Korrekturelement und dem translatorischen Antrieb um die Drehachse drehbar ist. Besonders bevorzugt ist es, wenn alle drei Korrekturelemente ohne Relativdrehung zueinander um die Drehachse drehbar sind.
Diese Ausgestaltung ist insbesondere in Verbindung mit der oben genannten Ausgestaltung von Vorteil, wonach auch das erste Korrekturelement translatorisch quer oder parallel zur optischen Achse relativ zu dem zweiten Korrekturelement verfahrbar ist.
In dieser Ausgestaltung werden somit zwei Alvarez-Paare gebildet, bei denen die optische Korrekturwirkung durch eine translatorische Bewegung der betreffenden Korrekturelemente quer oder parallel zur optischen Achse eingestellt wird, wobei jedoch beide Paare gemeinsam um die Drehachse drehbar sind, damit die gesamte Anordnung auf ein gedrehtes Beleuchtungssetting einstellbar ist.
Alternativ zu der Ausgestaltung der Korrekturanordnung mit translatorisch quer oder parallel zur optischen Achse verfahrbaren Korrekturelementen kann das dritte Korrekturelement relativ zu dem ersten und/oder zweiten Korrekturelement um die Drehachse drehbar sein, wobei dem dritten Korrekturelement ein Drehantrieb zum Drehen des dritten Korrekturelements unabhängig von dem ersten und/oder zweiten Korrekturelement zugeordnet ist.
Im Fall der Ausgestaltung der Korrekturanordnung mit zumindest drei optischen Korrekturelementen ist es ausreichend, wenn nur die beiden äußeren Korrekturelemente (erstes und drittes Korrekturelement) jeweils einen Drehantrieb aufweisen, damit das erste und das dritte Korrekturelement vorzugsweise unabhängig voneinander relativ zu dem mittleren (zweiten) Korrekturelement verdreht werden können, um die gewünschte optische Korrekturwirkung einzustellen. Im Sinne der Erhöhung der Korrekturfreiheitsgrade können jedoch alle Korrekturelemente mit einem eigenen Drehantrieb versehen sein, so dass alle Korrekturelemente unabhängig von den anderen individuell gedreht werden können.
Im Fall der Ausgestaltung der optischen Korrekturanordnung mit zumindest drei optischen Korrekturelementen ist es weiterhin bevorzugt, wenn sich die asphärischen Oberflächenkonturen des ersten Korrekturelementpaares zu null addieren, und sich die asphärischen Oberflächenkonturen des zweiten Korrekturelementpaares zu null addieren und sich von den asphärischen Oberflächenkonturen des ersten Korrekturelementpaares unterscheiden.
Hierbei ist von Vorteil, dass mit den beiden Korrekturelementpaaren unterschiedliche Abbildungsfehler korrigiert werden können.
In diesem Zusammenhang ist es weiterhin bevorzugt, wenn die asphärischen Oberflächenkonturen des ersten Korrekturelementpaares an eine Ordnung einer Aberration angepasst und die asphärischen Oberflächenkonturen des zweiten Korrekturelementpaares an die nächste höhere Ordnung derselben Aberration angepasst sind.
In dieser Ausgestaltung kann mit den beiden Korrekturelementpaaren der gleiche Abbildungsfehlertyp als solcher korrigiert werden, jedoch in unterschiedlichen Zernike-Ordnungen. Insbesondere werden hier unter unterschiedlichen Zernike-Ordnungen unterschiedliche Ordnungen in der Koordinate r (Radius) verstanden. Es versteht sich, dass im Fall, dass ein Abbildungsfehler in der Grundordnung bspw. proportional zu r² ist, die nächste höhere Ordnung proportional zu r⁴ sein kann. So kann beispielsweise das erste Korrekturelementpaar einen Astigmatismus in niedrigster Ordnung (Z5) korrigieren, während das zweite Korrekturelementpaar die nächst höhere Ordnung (Z12) des Astigmatismus korrigieren kann. Weitere Beispiele sind die Ordnung Z7 und die nächste höhere Ordnung Z14 des Abbildungsfehlers Koma und die Ordnung Z10 und die nächste höhere Ordnung Z19 des Dreiblattfehlers.
In einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung ist der Abstand zwischen dem ersten und dem zweiten Korrekturelement und gegebenenfalls der Abstand zwischen dem zweiten und dem dritten Korrekturelement kleiner als 1 mm, vorzugsweise kleiner als 0,2 mm bezogen auf die Nullstellung.
Die oben genannten Antriebe zum Drehen oder zum translatorischen Bewegen der einzelnen Korrekturelemente umfassen vorzugsweise einen oder mehrere Sensoren zur Erfassung der Position des bewegten Korrekturelements und zur Kontrolle/Ansteuerung des jeweiligen Dreh- oder translatorischen Antriebes.
Für den Fall, dass einzelne Korrekturelemente der optischen Korrekturanordnung translatorisch bewegt werden, ist eine translatorische Lagerung vorgesehen, die vorzugsweise monolithisch ausgeführt ist, wobei die translatorische Lagerung vorzugsweise aus Wälzlagern, Gaslagern oder magnetischen Lagern aufgebaut sein kann.
Ein translatorischer Antrieb kann dabei vorzugsweise pneumatische Antriebselemente, vorzugsweise Balge, oder Piezostellelemente oder elektromotorische Stellelemente oder dergleichen aufweisen.
Für die Drehlagerung der einzelnen Korrekturelemente oder der gesamten optischen Korrekturanordnung kann diese vorzugsweise mit einer monolithisch ausgeführten Kinematik ausgestaltet sein. Besonders vorteilhaft ist es dabei, wenn die Drehlagerung als Magnetlagerung, die den diamagnetischen Effekt nutzt, mit einer Vielzahl unterschiedlich orientierter Permanentmagneten ausgebildet ist.
Der oder die Drehantriebe kann/können vorzugsweise Piezostellelemente oder elektromotorische Stellelemente aufweisen. Besonders vorteilhaft ist eine Ausführung eines Drehantriebs für das vorliegende optische System, die aus einem elektrostatisch arbeitenden Antriebselement gebildet ist.
Für die elektrischen Leitungen, die für die Antriebe erforderlich sind, sind vorzugsweise Schleppmechanismen bzw. Mechanismen zur Nachführung dieser Leitungen vorgesehen.
Weitere Vorteile und Merkmale ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung und der beigefügten Zeichnung.
Es versteht sich, dass die vorstehend genannten und die nachstehend noch zu erläuternden Merkmale nicht nur in der jeweils angegebenen Kombination, sondern auch in anderen Kombinationen oder in Alleinstellung verwendbar sind, ohne den Rahmen der vorliegenden Erfindung zu verlassen.
Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in der Zeichnung dargestellt und werden mit Bezug auf diese hiernach näher beschrieben. Es zeigen:
1 eine schematische Darstellung eines optischen Systems am Beispiel eines Projektionsobjektivs einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie;
2 ein erstes Ausführungsbeispiel einer optischen Korrekturanordnung des optischen Systems in 1;
3 ein weiteres Ausführungsbeispiel einer optischen Korrekturanordnung zur Verwendung in dem optischen System in 1;
4 ein noch weiteres Ausführungsbeispiel einer optischen Korrekturanordnung zur Verwendung in dem optischen System in 1;
5 drei Korrekturelemente der optischen Korrekturanordnungen in 2 bis 4 in Alleinstellung; und
6 den Strahlengang bei einer Dipolbeleuchtung.
In 1 ist ein mit dem allgemeinen Bezugszeichen 10 versehenes optisches System in Form eines Projektionsobjektivs 12 dargestellt, das in der Mikrolithographie zur Herstellung von mikrostrukturierten Bauelementen verwendet wird. Das Projektionsobjektiv 12 dient zur Abbildung eines in einer Objektebene 14 angeordneten Retikels 16, das ein Muster aufweist, auf ein in einer Bildebene 18 angeordnetes Substrat 20 (Wafer). Das Projektionsobjektiv 12 ist Teil einer Projektionsbelichtungsanlage 22, die außer dem Projektionsobjektiv 12 eine Lichtquelle 24, üblicherweise einen Laser, und ein Beleuchtungssystem 26 umfasst.
Bei der folgenden Beschreibung des optischen Systems 10 in Form des Projektionsobjektivs 12 wird zur Vereinfachung der Beschreibung und ohne Beschränkung der Allgemeinheit davon ausgegangen, dass das Projektionsobjektiv 12 nur eine optische Achse 28 aufweist.
Das Projektionsobjektiv 12 weist eine Mehrzahl optischer Elemente auf, von denen in 1 beispielhaft zwei optische Bauelemente 30 und 32 in Form von Linsen gezeigt sind. Es versteht sich jedoch, dass das Projektionsobjektiv 12 außer den beiden optischen Elementen 30 und 32 weitere optische Elemente in Form von Linsen und/oder Spiegeln aufweist bzw. aufweisen kann.
An das Projektionsobjektiv 12 wird die Anforderung gestellt, dass das Muster des Retikels 16 möglichst ohne Abbildungsfehler auf das Substrat 20 abgebildet wird. Selbst wenn das Projektionsobjektiv 12 fertigungstechnisch so hergestellt werden kann, dass es vor Inbetriebnahme keine immanenten Abbildungsfehler zeigt, können sich während des Betriebs des Projektionsobjektivs 12 Abbildungsfehler einstellen, die die Strukturgenauigkeit der Abbildung des Musters des Retikels 16 auf das Substrat 20 verschlechtern. Eine Ursache für solche im Betrieb auftretenden Abbildungsfehler ist insbesondere eine Erwärmung der einzelnen optischen Elemente 30, 32, die zu Änderungen in der Oberflächengeometrie dieser Elemente, einer Änderung der Materialeigenschaften, insbesondere der Brechungsindizes dieser Elemente, etc. führen kann. Insbesondere können derartige durch Erwärmung verursachte Abbildungsfehler nicht-rotationssymmetrisch zur optischen Achse 28 sein, insbesondere wenn die Beleuchtung des Projektionsobjektivs 12 mittels des Beleuchtungssystems 26 nicht-rotationssymmetrisch ist. Beispielsweise bei einer Dipol- oder Quadrupol-Beleuchtung, bei der das Abbildungslicht, das durch das Projektionsobjektiv 12 hindurchtritt, in mehrere einzelne voneinander getrennte Strahlbündel aufgeteilt ist, oder bei einem außeraxialen Lichtdurchtritt durch das Projektionsobjektiv 12, wie es insbesondere bei katadioptrischen Projektionsobjektiven der Fall ist, die aus Linsen und Spiegeln aufgebaut sind, können nicht-rotationssymmetrische erwärmungsbedingte Abbildungsfehler auftreten.
In 6a) ist schematisch ein Dipol-Beleuchtungssetting dargestellt. Vom Beleuchtungssystem der Projektionsbelichtungsanlage fallen zwei Beleuchtungsstrahlenbündel 34 und 36 in die Objektebene 14 auf das Retikel 16 (nicht dargestellt) ein. Weiterhin ist in 6a) ein optisches Bauelement 38 des Projektionsobjektivs 12 in 1 skizziert, wobei dargestellt ist, wie die beiden Beleuchtungsstrahlenbündel 34 und 36 an Stellen 40 und 42 auf das optische Bauelement 38 des Projektionsobjektivs 12 auftreffen. In 6b1) ist die Intensitätsbelastung in einer Pupillenebene des Projektionsobjektivs 12 in Draufsicht dargestellt. In 6b2) ist die Intensitätsbelastung für ein Dipol-Beleuchtungssetting dargestellt, bei dem die beiden Lichtstrahlenbündel 34' und 36' gegenüber dem Dipol-Beleuchtungssetting in 6b1) zu den Beleuchtungsstrahlenbündeln 34 und 36 um 90° um die optische Achse 28 gedreht sind. Das Drehen des Beleuchtungssettings um 90° dient beispielsweise dazu, horizontale und vertikale Strukturen des Retikels 16 abzubilden. Ausgehend von 6b1) und 6b2) können auch um andere Winkel gedrehte Dipol-Beleuchtungssettings zur Abbildung von Strukturen mit beliebigen Winkelorientierungen erforderlich sein.
Durch die unterschiedlichen Beleuchtungssettings stellen sich die oben genannten erwärmungsbedingten Abbildungsfehler entsprechend unterschiedlich ein. Um während des Betriebs auf solche Abbildungsfehler in kurzer Zeit dynamisch reagieren zu können, weist das Projektionsobjektiv 12 zumindest eine Korrekturanordnung 44 auf.
Die Korrekturanordnung 44 ist vorzugsweise in einer Pupillenebene 46 des Projektionsobjektivs 12 angeordnet.
Mit Bezug auf 2 bis 5 werden nachfolgend verschiedene Ausgestaltungen der Korrekturanordnung 44 näher beschrieben.
In 2 ist ein erstes Ausführungsbeispiel der Korrekturanordnung 44 dargestellt.
Die in 2 gezeigte Korrekturanordnung 44 weist insgesamt drei Korrekturelemente 48, 50 und 52 auf. Dabei bilden das Korrekturelement 48 und das Korrekturelement 50 ein erstes Korrekturelementpaar, und das Korrekturelement 50 bildet mit dem Korrekturelement 52 ein zweites Korrekturelementpaar.
Einander zugewandte Oberflächen 54 und 56 der Korrekturelemente 48 und 50 weisen jeweils asphärische Oberflächenkonturen auf, die sich zumindest näherungsweise zu null addieren, d. h. die asphärische Oberflächenkontur der Oberfläche 54 ist komplementär zu der asphärischen Oberflächenkontur der Oberfläche 56.
Ebenso weist das Korrekturelement 50 eine zweite Oberfläche 58 auf, die einer Oberfläche 60 des Korrekturelements 52 zugewandt ist, wobei die Oberflächen 58 und 60 ebenfalls zueinander komplementäre asphärische Oberflächenkonturen aufweisen, die sich also zumindest näherungsweise zu null addieren.
Die Oberfläche 54 des Korrekturelements 48 ist von der Oberfläche 56 des Korrekturelements 50 weniger als 1 mm, vorzugsweise weniger als 0,2 mm beabstandet.
Ebenso ist die Oberfläche 58 des Korrekturelements 50 von der Oberfläche 60 des Korrekturelements 52 weniger als 1 mm, vorzugsweise weniger als 0,2 mm beabstandet.
In 5 sind die drei Korrekturelemente 48, 50 und 52 in Alleinstellung gezeigt, wobei 5 beispielhaft und mit übertriebener Amplitude dargestellt asphärische Oberflächenkonturen für die Oberflächen 54, 56, 58 und 60 zeigt.
Das aus den Korrekturelementen 48 und 50 gebildete erste Korrekturelementpaar bildet ein erstes Alvarez-Paar, und das aus den Korrekturelementen 50 und 52 gebildete zweite Korrekturelementpaar bildet ein zweites Alvarez-Paar.
Die Korrekturelemente 48, 50 und 52 sind bis auf ihre asphärischen Oberflächenkonturen vorzugsweise als planparallele Platten ausgebildet. Sind die Korrekturelemente 48, 50 und 52 wie in 5 dargestellt angeordnet, wobei sich die einander zugewandten Oberflächen 54, 56 und 58, 60 berühren oder nahezu berühren, weist die Korrekturanordnung 44 insgesamt die Form einer planparallelen Platte auf und besitzt keine optische Korrekturwirkung, da sich in dieser Nullstellung die Wirkungen der asphärischen Oberflächenkonturen kompensieren.
Bei dem in 2 gezeigten Ausführungsbeispiel können nun das Korrekturelement 48 und/oder das Korrekturelement 52 relativ zu dem mittleren Korrekturelement 50 translatorisch gemäß Doppelpfeilen 62 und 64 quer zur optischen Achse 28 verfahren werden. Ein solches relatives Verfahren des Korrekturelements 48 und/oder des Korrekturelements 52 relativ zu dem mittleren Korrekturelement 50 bewirkt, dass die asphärischen Oberflächenkonturen auf den Oberflächen 54 und 56 und/oder die Oberflächenkonturen auf den Oberflächen 58 und 60 zueinander verschoben werden, wodurch beim Lichtdurchtritt durch die Korrekturanordnung 44 eine gewünschte resultierende optische Korrekturwirkung eingestellt werden kann.
Die gewünschte Korrekturwirkung hängt von der speziellen gewählten asphärischen Oberflächenkontur der Oberflächen 54, 56 bzw. 58, 60 ab.
Vorzugsweise sind die asphärischen Oberflächenkonturen auf den Oberflächen 54 und 56 zu den asphärischen Oberflächenkonturen auf den Oberflächen 58 und 60 unterschiedlich gewählt, so dass mit dem ersten Korrekturelementpaar eine andere optische Korrekturwirkung eingestellt werden kann als mit dem zweiten Korrekturelementpaar. Vorzugsweise sind die asphärischen Oberflächenkonturen auf den Oberflächen 54 und 56 an eine bestimmte Ordnung einer Aberration angepasst, und die asphärischen Oberflächenkonturen auf den Oberflächen 58 und 60 sind dann vorzugsweise auf die nächste höhere Ordnung der selben Aberration angepasst.
In einem praktischen Beispiel können die asphärischen Oberflächenkonturen auf den Oberflächen 54 und 56 für eine Korrektur einer Wellenfrontaberration in der Zernike-Ordnung Z5 als niedrigster Ordnung des Astigmatismus ausgelegt sein, während die asphärischen Oberflächenkonturen der Oberflächen 58 und 60 dann an die nächst höhere Ordnung Z12 des Astigmatismus angepasst sind. Weitere Beispiele sind die Ordnungen Z7 und Z14 des Abbildungsfehlers Koma und die Ordnungen Z10 und Z19 des Dreiblattfehlers. Dieses Grundprinzip lässt sich selbstverständlich auf weitere Abbildungsfehler anwenden. Dabei versteht es sich, dass nicht nur jeweils die Grundordnung und die nächste höhere Ordnung eines Abbildungsfehlers auf diese Weise korrigierbar sind, sondern auch weitere, noch höhere Ordnungen der Abbildungsfehler.
Die asphärischen Oberflächenkonturen auf den Oberflächen 54 und 56 bzw. auf den Oberflächen 58 und 60 stellen vorzugsweise die Stammfunktion bzw. das Integral der Funktion des zu korrigierenden Abbildungsfehlers dar, da die optische Wirkung der Oberflächenkonturen proportional zum Gradienten der Oberflächenkonturen ist.
Dem Korrekturelement 48 ist ein translatorischer Antrieb 66 zugeordnet, um das Korrekturelement 48 entsprechend dem Doppelpfeil 62 bewegen zu können. Der translatorische Antrieb 66 kann pneumatische Antriebselemente, vorzugsweise Balge, oder Piezostellelemente oder elektromotorische Stellelemente aufweisen, die insbesondere in der Lage sind, die zum Einstellen der optischen Korrekturwirkung erforderlichen sehr kleinen Verfahrwege präzise einstellen zu können.
Das Korrekturelement 48 ist auf einer Halterung 68 gehalten, die auf einer translatorischen Lagerung 70 translatorisch verfahrbar gelagert ist. Die Lagerung 70 kann beispielsweise als Wälzlager ausgebildet sein, jedoch können auch Gaslager oder magnetische Lager für die Lagerung 70 verwendet werden.
Dem Korrekturelement 52 sind in vergleichbarer Weise ein translatorischer Antrieb 72, eine Halterung 74 und eine translatorische Lagerung 76 zugeordnet.
Die optische Korrekturanordnung 44 weist außerdem eine Tragstruktur 78 auf, die die Korrekturelemente 48, 50 und 52 nebst den Antrieben 66, 72 trägt.
Die gesamte Anordnung aus den Korrekturelementen 48, 50, 52, den Halterungen 68, 74, den Lagerungen 70, 76 und den Antrieben 66, 72 ist um eine Drehachse 80, die parallel zur optischen Achse 28 verläuft und in dem gezeigten Ausführungsbeispiel mit der optischen Achse 28 zusammenfällt, gemäß einem Doppelpfeil 82 drehbar. Durch die Drehbarkeit der gesamten Korrekturanordnung 44 (mit Ausnahme der Tragstruktur 78) kann die optische Korrekturanordnung 44 an unterschiedliche Beleuchtungssettings angepasst werden, beispielsweise an die beiden um 90° gegeneinander gedrehten Dipol-Beleuchtungssettings gemäß 6b1) und 6b2). Es können aber auch beliebige andere Drehstellungen der Korrekturanordnung 44 um die Drehachse 80 eingestellt werden.
Die Korrekturanordnung 44 weist dazu eine Drehlagerung 84 auf, die beispielsweise und vorzugsweise als Magnetlagerung mit einer Vielzahl unterschiedlich orientierter Permanentmagneten ausgebildet ist, und die den diamagnetischen Effekt nutzt.
Um die Korrekturelemente 48, 50 und 52 gemeinsam und ohne Relativdrehung zueinander um die Drehachse 80 zu drehen, ist neben der Drehlagerung 84 auch ein Drehantrieb 86 vorhanden, der beispielsweise ein Antriebsrad 88 aufweist, das mit einer mit den Korrekturelementen 48, 50 und 52 drehfest verbundenen Platte 90 kämmt.
Der Drehantrieb 86 kann im einfachsten Fall ein Elektromotor sein, wobei auch andere Drehantriebe als Elektromotoren in Betracht gezogen werden können, beispielsweise Piezostellantriebe und dergleichen.
In dem Ausführungsbeispiel gemäß 2 werden die Korrekturelemente 48, 50 und 52 somit stets gemeinsam und ohne Relativdrehung zueinander um die Drehachse 80 verdreht, um die Korrekturanordnung 44 auf unterschiedliche Beleuchtungssettings anzupassen, während zur Einstellung einer bestimmten optischen Korrekturwirkung das Korrekturelement 48 relativ zu dem Korrekturelement 50 translatorisch verfahren wird, und/oder das Korrekturelement 52 relativ zu dem Korrekturelement 50 translatorisch verfahren wird.
In 3 ist ein weiteres Ausführungsbeispiel für die Korrekturanordnung 44 dargestellt, wobei Teile der Korrekturanordnung 44, die Teilen der Korrekturanordnung 44 in 2 entsprechen, mit den gleichen Bezugszeichen versehen sind.
Die Korrekturanordnung 44 gemäß 3 weist wiederum die drei Korrekturelemente 48, 50 und 52 auf, wobei die benachbarten Korrekturelemente 48 und 50 bzw. 50 und 52 jeweils ein Korrekturelementpaar bilden. Die auf den Oberflächen 54 und 56 vorhandenen asphärischen Oberflächenkonturen addieren sich dabei zumindest näherungsweise zu null, und ebenso addieren sich die asphärischen Oberflächenkonturen auf den Oberflächen 58 und 60 zumindest näherungsweise zu null.
Im Unterschied zu dem Ausführungsbeispiel in 2 sind die Korrekturelemente 48 und 52 nicht quer zur optischen Achse 28 translatorisch verfahrbar, sondern das Korrekturelement 48 ist um die Drehachse 80, die wiederum mit der optischen Achse 28 zusammenfällt, relativ zu dem Korrekturelement 50 drehbar, wie mit einem Pfeil 92 angedeutet ist, und zwar in beiden Drehrichtungen um die Drehachse 80. Das Korrekturelement 52 ist relativ zu dem Korrekturelement 50 gemäß einem Pfeil 94 um die Drehachse 80 drehbar. Das Korrekturelement 50 ist dagegen nur gemeinsam mit den Korrekturelementen 48 und 52 drehbar, wie hiernach noch beschrieben wird.
Bei diesem Ausführungsbeispiel wird die gewünschte optische Korrekturwirkung bei jedem Korrekturelementpaar 48, 50 bzw. 50, 52 nicht durch eine translatorische Relativbewegung, sondern durch eine drehende Relativbewegung eingestellt.
Für das Korrekturelementpaar aus den Korrekturelementen 48 und 50 soll dies nachfolgend an einem Beispiel erläutert werden, das sich auf die Korrektur der Grundordnung des Astigmatismus (Z5) bezieht.
Das Zernike-Polynom Z5 lautet in Polarkoordinaten: Z5(r, φ) = r2cos(2φ).
Um eine Korrekturwirkung in der Zernike-Ordnung Z5 zu erhalten, müssen, wie oben bereits erwähnt, die asphärischen Oberflächenkonturen auf den Oberflächen 54 und 56 proportional zum Integral bzw. zur einer Stammfunktion der Funktion Z5(r, φ) gewählt werden, also proportional zu Z6(r, φ). Die Funktion Z6(r, φ) lautet: Z6(r, φ) = r2sin(2φ).
Wird nun nur das Korrekturelement 48 um einen Winkel Δϕ um die optische Achse 28 relativ zu dem Korrekturelement 50 gedreht, erhält man eine optische Wirkung, die proportional ist zu: Z6(r, φ + Δφ) – Z6(r, φ) = sin(2Δφ)·Z5(r, φ) – 2sin2(Δφ)·Z6(r, φ).
An der vorstehenden Gleichung erkennt man, dass für kleine Drehwinkel Δφ die gewünschte Z5-Wirkung proportional zum Drehwinkel ist, während die Drehung auch eine parasitäre Z6-Wirkung entfaltet, die quadratisch mit dem Drehwinkel Δφ zunimmt. Der Betrag der relativen Amplitude von Z6 zu Z5 ist: 2sin2(Δφ)/sin(2Δφ) = tan(Δφ).
Sofern die Drehwinkel Δφ genügend klein gehalten werden, sind die parasitären unerwünschten Z6-Wirkungsanteile klein. Soll beispielsweise die parasitäre optische Wirkung in Z6 maximal 1% von der gewünschten Korrekturwirkung in Z5 betragen, dann muss der Drehwinkel kleiner als 0,57° sein.
Um die Drehbewegungen des Korrekturelements 48 relativ zu dem Korrekturelement 50 zu ermöglichen, ist dem Korrekturelement 48 ein Drehantrieb 96 und ein Drehlager 98 zugeordnet, wobei Letzteres die Halterung 68 drehbar lagert, mit der das Korrekturelement 48 fest verbunden ist.
In entsprechender Weise ist dem Korrekturelement 52 ein Drehantrieb 100 und eine Drehlagerung 102 zugeordnet, über die die Halterung 74 des Korrekturelements 52 drehbar um die Drehachse 80 gelagert ist. Die Drehantriebe 96 und 100 erlauben eine voneinander unabhängige Drehung der Korrekturelemente 48 und 52 relativ zu dem mittleren Korrekturelement 50.
Die Korrekturanordnung 44 weist weiterhin die Eigenschaft auf, dass die gesamte Anordnung aus den Korrekturelementen 48, 50 und 52 einschließlich der Drehantriebe 96 und 100 gemeinsam ohne Relativdrehung der Korrekturelemente 48, 50 und 52 zueinander um die Drehachse 80 gedreht werden kann, ähnlich wie dies bei der Korrekturanordnung 44 in 2 der Fall ist.
Dazu ist an der Tragstruktur 78 ein weiterer Drehantrieb 104 angeordnet, und das Korrekturelement 50 ist an einer Halterung 106 befestigt, wobei die Halterung 106 über eine Drehlagerung 108 drehbar an der Tragstruktur 78 gelagert ist. Bei Betätigen des Drehantriebes 104 wird die Halterung 106 um die Drehachse 80 gedreht und nimmt dabei die Anordnung aus den Korrekturelementen 48, 50 und 52 einschließlich der Drehantriebe 96 und 100 der Korrekturelemente 48 und 52 mit, wie mit einem Pfeil 110 angedeutet ist.
Während bei dem Ausführungsbeispiel in 3 nur jeweils eines der Korrekturelemente eines Korrekturelementpaares, und zwar von dem Korrekturelementpaar 48 und 50 nur das Korrekturelement 48 und von dem Korrekturelementpaar 50, 52 nur das Korrekturelement 52, um die Drehachse 80 drehbar ist, während das Korrekturelement 50 keinen eigenen Drehantrieb für eine Relativdrehung zu dem Korrekturelement 48 oder zu dem Korrekturelement 52 besitzt, ist in 4 ein noch weiteres Ausführungsbeispiel der Korrekturanordnung 44 dargestellt, bei der alle drei Korrekturelemente 48, 50 und 52 individuell und relativ zueinander drehbar sind.
In diesem Fall ist dem Korrekturelement 48 ein Drehantrieb 112 und eine Drehlagerung 114 zugeordnet, dem Korrekturelement 50 ist ein Drehantrieb 116 und eine Drehlagerung 118 und dem Korrekturelement 52 ist ein Drehantrieb 120 und eine Drehlagerung 122 zugeordnet.
Bei dieser Ausgestaltung können alle Korrekturelemente 48, 50 und 52 individuell und relativ zueinander, aber auch gemeinsam ohne Relativdrehung zueinander, um die Drehachse 80 bzw. die optische Achse 28 gedreht werden. Für die gemeinsame Drehung aller drei Korrekturelemente 48, 50 und 52 ohne Relativdrehung zueinander kann zusätzlich ein gemeinsamer Drehantrieb wie der Drehantrieb 104 in 3 vorgesehen werden, oder es werden gleichzeitig alle Drehantriebe 112, 116 und 120 gleichmäßig betätigt, um alle Korrekturelemente 48, 50 und 52 gemeinsam zu drehen.
Ergänzend zu den vorher beschriebenen Ausführungsbeispielen kann einem oder mehreren der Korrekturelemente 48, 50 und 52 ein Sensor zur Erfassung der Position des einzelnen Korrekturelements 48, 50, 52 relativ zum Gesamtsystem und relativ zueinander zugeordnet sein.
Des Weiteren können auch die Positionen der Korrekturelemente 48, 50 und 52 in Richtung der optischen Achse 28 durch nicht dargestellte Einstellelemente kontrolliert werden, wobei die Einstellelemente beispielsweise auf Maß geschliffene Abstandsscheiben bzw. Abstandshalter sein können.
Gemäß 1 können auch mehrere optische Korrekturanordnungen in dem optischen System 10 vorhanden sein, beispielsweise die Korrekturanordnung 44 und eine weitere Korrekturanordnung 124, die gemäß einem der vorstehend beschriebenen Ausführungsbeispiele ausgestaltet ist.
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur

- EP 0851304 A [0002, 0008]
- JP 10-142555 A [0011]
- EP 0660169 A [0013]

Claims

Optisches System, insbesondere Projektionsobjektiv (12), für die Mikrolithographie, mit einer optischen Achse (28) und mit zumindest einer optischen Korrekturanordnung (44), die ein erstes optisches Korrekturelement (48) und zumindest ein zweites optisches Korrekturelement (50) aufweist, wobei das erste Korrekturelement (48) mit einer ersten asphärischen Oberflächenkontur versehen ist, und wobei das zweite Korrekturelement (50) mit einer zweiten asphärischen Oberflächenkontur versehen ist, wobei sich die erste Oberflächenkontur und die zweite Oberflächenkontur zumindest näherungsweise zu null addieren, wobei die Korrekturanordnung (44) zumindest einen Antrieb zum Bewegen zumindest eines der beiden Korrekturelemente (48, 50) aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest eines der beiden Korrekturelemente (48, 50) um eine Drehachse (80) drehbar ist, die zumindest näherungsweise parallel zur optischen Achse ist (28), und dass der zumindest eine Antrieb ein Drehantrieb (86; 96, 104; 112, 116) zum Drehen des einen oder beider Korrekturelemente (48, 50) um die Drehachse (80) ist.
Optisches System nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass beide Korrekturelemente (48, 50) gemeinsam ohne Relativdrehung zueinander um die Drehachse (80) drehbar sind.
Optisches System nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass das erste und das zweite Korrekturelement (48, 50) drehfest miteinander gekoppelt oder koppelbar sind, und der eine Drehantrieb (86; 104) beide Korrekturelemente gemeinsam dreht.
Optisches System nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest das erste Korrekturelement (48) translatorisch quer oder parallel zur optischen Achse (28) relativ zu dem zweiten Korrekturelement (50) verfahrbar ist, und dass dem ersten Korrekturelement (48) ein translatorischer Antrieb (66) zugeordnet ist, wobei die Anordnung aus den beiden Korrekturelementen (48, 50) und dem translatorischen Antrieb (66) um die Drehachse (80) drehbar ist.
Optisches System nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass der zumindest eine Drehantrieb (96; 112) das erste Korrekturelement (48) relativ zu dem zweiten Korrekturelement (50) dreht, und dass dem ersten und zweiten Korrekturelement (48, 50) ein weiterer Drehantrieb (104) zum gemeinsamen Drehen des ersten und des zweiten Korrekturelements (48, 50) ohne Relativdrehung zueinander zugeordnet ist.
Optisches System nach einem der Ansprüche 1, 2 oder 5, dadurch gekennzeichnet, dass das zweite Korrekturelement (50) relativ zu dem ersten Korrekturelement (48) um die Drehachse (80) drehbar ist, und dass dem zweiten Korrekturelement (50) ein weiterer Drehantrieb (104; 116) zum Drehen des zweiten Korrekturelements (50) unabhängig von dem ersten Korrekturelement (48) zugeordnet ist.
Optisches System nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Drehachse (80) auf der optischen Achse (28) liegt.
Optisches System nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass die optische Korrekturanordnung nur zwei Korrekturelemente aufweist.
Optisches System nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass die optische Korrekturanordnung (44) zumindest drei Korrekturelemente (48, 50, 52) aufweist, wobei das zweite Korrekturelement (50) zwischen dem ersten (48) und einem dritten Korrekturelement (52) angeordnet ist, wobei das erste und das zweite Korrekturelement (48, 50) ein erstes Korrekturelementpaar und das zweite und das dritte Korrekturelement (50, 52) ein zweites Korrekturelementpaar bilden.
Optisches System nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass das dritte Korrekturelement (52) zumindest gemeinsam mit dem zweiten Korrekturelement (50) ohne Relativdrehung zueinander um die Drehachse (80) drehbar ist.
Optisches System nach Anspruch 9 oder 10, dadurch gekennzeichnet, dass das dritte Korrekturelement (52) relativ zu dem zweiten Korrekturelement (50) translatorisch quer oder parallel zur optischen Achse (28) verfahrbar ist, und dass dem dritten Korrekturelement (52) ein translatorischer Antrieb (72) zugeordnet ist, wobei die Anordnung aus dem dritten und zweiten Korrekturelement (52, 50) und dem translatorischen Antrieb (72) um die Drehachse (80) drehbar ist.
Optisches System nach Anspruch 9 oder 10, wobei das dritte Korrekturelement (52) relativ zu dem ersten (48) und/oder zweiten Korrekturelement (50) um die Drehachse (80) drehbar ist, und dass dem dritten Korrekturelement (52) ein Drehantrieb (100; 120) zum Drehen des dritten Korrekturelements (52) unabhängig von dem ersten (48) und/oder zweiten Korrekturelement (50) zugeordnet ist.
Optisches System nach einem der Ansprüche 9 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass sich die asphärischen Oberflächenkonturen des ersten Korrekturelementpaares zu null addieren, und dass sich die asphärischen Oberflächenkonturen des zweiten Korrekturelementpaares zu null addieren und sich von den asphärischen Oberflächenkonturen des ersten Korrekturelementpaares unterscheiden.
Optisches System nach einem der Ansprüche 9 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass die asphärischen Oberflächenkonturen des ersten Korrekturelementpaares an eine Ordnung einer Aberration angepasst und die asphärischen Oberflächenkonturen des zweiten Korrekturelementpaares an die nächste höhere Ordnung derselben Aberration angepasst sind.
Optisches System nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass die asphärischen Oberflächenkonturen des ersten Korrekturelementpaares an die Ordnung (Z5) des Astigmatismus angepasst und die asphärischen Oberflächenkonturen des zweiten Korrekturelementpaares an die nächste höhere Ordnung (Z12) des Astigmatismus angepasst sind.
Optisches System nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass die asphärischen Oberflächenkonturen des ersten Korrekturelementpaares an die Ordnung (Z7) des Abbildungsfehlers Koma angepasst und die asphärischen Oberflächenkonturen des zweiten Korrekturelementpaares an die nächste höhere Ordnung (Z14) des Abbildungsfehlers Koma angepasst sind.
Optisches System nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass die asphärischen Oberflächenkonturen des ersten Korrekturelementpaares an die Ordnung (Z10) des Dreiblattfehlers angepasst und die asphärischen Oberflächenkonturen des zweiten Korrekturelementpaares an die nächste höhere Ordnung (Z19) des Dreiblattfehlers angepasst sind.
Optisches System nach einem der Ansprüche 1 bis 17, dadurch gekennzeichnet, dass ein Abstand zwischen dem ersten (48) und dem zweiten Korrekturelement (50) und gegebenenfalls ein Abstand zwischen dem zweiten (50) und dem dritten Korrekturelement (52) kleiner als 1 mm, vorzugsweise kleiner als 0,2 mm ist.