DE69519765T2

DE69519765T2 - Druckplatte und Verfahren zu deren Herstellung

Info

Publication number: DE69519765T2
Application number: DE69519765T
Authority: DE
Inventors: Satoshi Takeuchi
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1994-05-26
Filing date: 1995-05-26
Publication date: 2001-05-23
Anticipated expiration: 2015-05-27
Also published as: EP0687961A1; EP0687961B1; DE69519765D1; US5589307A

Description

HINTERGRUND DER ERFINDUNG

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte und eine Druckplatte, die durch das Verfahren hergestellt wird. Insbesondere betrifft die vorliegende Erfindung ein Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte unter Verwendung einer Photoleiterschicht vom N-Typ mit einer optischen Speichereigenschaft und eine Druckplatte, die unter Verwendung des Druckplattenherstellungsverfahrens hergestellt wird.
Bisher wurden viele Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte im Fachgebiet vorgeschlagen. Von diesen umfaßt ein üblicherweise im Fachgebiet verwendetes Verfahren das Beschichten einer Aluminiumplatte oder einer Zinkplatte mit einem photoempfindlichen Harz, das dichte Inkontaktbringen der beschichteten Platte mit einer photographischen Originalplatte, die ein gewünschtes Muster aufweist, und das Durchführen der Exposition und Entwicklung. In den letzten Jahren ist ein Plattenprodukt aus einer Alumiumplatte, die darauf ein zuvor aufgetragenes photoempfindliches Harz aufweist, im Handel als PS-Platte (vorbeschichtete Platte) erhältlich, und es hat sich die Exposition der PS-Platte einem gewünschten Muster, gefolgt von der Entwicklung, um eine Druckplatte herzustellen, im Fachgebiet verbreitet.
Um andererseits eine Druckplatte in einfacherer Weise herzustellen, wurde ein Herstellungsverfahren für eine elektrophotographische Platte, welches einfach ein Tinten-aufnahmefähiges Tonerbild auf der Druckplatte erzeugt, entwickelt, wobei die Oberfläche eines Photoleiters oder eines organischen Photoleitersubstrats einer Glimmentladungsbehandlung im Dunkeln und dann der Exposition und Tonerentwicklung (Trockenpulverentwicklung, Feuchtflüssigkeitsentwicklung oder ähnlichem) unterworfen wird, um ein Tonerbild auf der Oberfläche des Photoleitersubstrats zu erzeugen.
In einem Herstellungsverfahren für eine elektrophotographische Platte, das die Eigenschaften eines Oxidphotoleiters, insbesondere Zinkoxid (ZnO), ausnutzt, wird ein Photoleitersubstrat, hergestellt durch Beschichten der Oberfläche eines leitenden Substrats mit einer Beschichtung, die durch Dispergieren eines feinen ZnO-Pulvers in einem Polymerbindemittel und danach Trocknen der resultierenden Beschichtung hergestellt wird, einer Reihe der vorstehend genannten Schritten der Glimmentladung, Exposition und Tonerentwicklung unterworfen, um eine Druckplatte herzustellen. Dieses Verfahren ist dadurch vorteilhaft, daß alle Arbeitsvorgänge der Plattenherstellung im trockenen Zustand durchgeführt werden können. Da ZnO inherent hydrophil ist, weist es eine gute Benetzbarkeit durch beim Offsetdruck verwendetes Anfeuchtwasser bzw. Benetzungswasser auf, wodurch die durch das vorstehende Verfahren hergestellte Druckplatte zum Offsetdruck geeignet ist.
Andererseits wird in einem Herstellungsverfahren für eine elektrophotographische Platte unter Verwendung eines organischen Photoleiters (OPC) die Exposition und Entwicklung in der gleichen Weise wie im Fall, wo ZnO verwendet wird, durchgeführt. Da jedoch ein OPC grundsätzlich hydrophob ist, kann ein OPC kein beim Offsetdruck verwendetes Anfeuchtwasser aufnehmen, wenn eine OPC-Schicht auf der Druckplatte vorhanden ist. In diesem Fall nimmt nicht nur die Tonerbildfläche sondern auch die OPC-Schicht als Nicht-Bildfläche unvorteilhafterweise Tinte auf, was es nicht ermöglicht, selektiv eine Tintenbildfläche auszubilden. Aus diesem Grund sollte nach der Erzeugung eines Tonerbilds auf der Oberfläche eines Substrats die OPC-Schicht der Nicht-Bildfläche bzw. des Nicht-Bildbereichs weggelöst werden, um die hydrophile Oberfläche des Substrats preis zu geben.
Die derzeit am meisten verwendete PS-Platte wird von der Öffentlichkeit bevorzugt, da die Auflösung und die Haltbarkeit hervorragend sind und eine gute Druckqualität erreicht werden kann. Die PS-Platte ist jedoch dahingehend nachteilig, daß sie teuer ist und eine nicht zufriedenstellende Photoempfindlichkeit (geringe Empfindlichkeit) bei einem neuen Expositionsverfahren, wobei ein optisches Zeichnen bei hoher Geschwindigkeit durch geführt wird, aufweist und nicht immer mit dem Herstellungsverfahren für eine digitale Druckplatte kompatibel ist, welches in den letzten Jahren entwickelt wurde. Es wurden selbstverständlich Anstregungen unternommen, die Empfindlichkeit des photoempfindlichen Harzes, das in der PS-Platte verwendet wird, soweit zu erhöhen, daß sich die PS-Platte zur Laserdigitalplattenherstellung eignet. Die Empfindlichkeit konnte jedoch nicht auf diejenige des elektrophotographischen Druckplattenherstellungsverfahrens erhöht werden.
Eine photolitugraphische Direktbilddruckschablone aus gegenüber einem Farbstoff empfindlich gemachten photoleitenden Blattmaterialien und ein Verfahren zu deren Herstellung ist in US-A-3,245,784 offenbart, wobei die litugraphische Direktbildschablone durch elektrolytische Abscheidung eines oleophilen Materials in Bild-für-Bild- Weise auf eine hydrophile Oberfläche, hergestellt durch gleichmäßiges Beschichten eines photoleitenden Blattmaterials mit einer hydrophilen Schicht, hergestellt wird.
Eine Druckplatte, hergestellt durch ein elektrophotographisches Plattenherstellungsverfahren, das einen Oxidphotoleiter verwendet, kann mit niedrigen Kosten durch Verwendung eines leitenden Papiersubstrats oder ähnlichem hergestellt werden, und wurde weit verbreitet im Gebiet des einfachen Druckens unter Ausnutzung des Vorteils des Trockenentwicklers verwendet. Im allgemeinen weist diese Druckplatte jedoch eine geringe Auflösung auf und kann nicht beim Drucken mit hoher Qualität und beim Drucken großer Mengen angewandt werden. Die Verwendung eines flüssigen Entwicklers kann die Auflösung im Vergleich zur Verwendung eines trockenen Entwicklers verbessern. Da jedoch die Verschleißbeständigkeit der Platte bzw. die Plattenverschleißbeständigkeit im wesentlichen gleich ist, ist die Verwendung beim Drucken großer Mengen nicht möglich.
Die Druckplatte, welche durch das vorstehende elektrophotographische Druckplattenherstellungsverfahren, das den organischen Photoleiter (OPC) verwendet, hergestellt wird, weist eine Plattenverschleißbeständigkeit von 100.000 bis 200.000 Blättern auf. Bei dieser Druckplatte sollte jedoch, wie vorstehend beschrieben, die OPC- Schicht auf dem Nicht-Bildbereich weggelöst werden, wobei das Tonerbild als Ätzwiderstand verwendet wird, um die hydrophile Oberfläche des Substrats zu exponieren. Dieser Arbeitsvorgang verschlechtert die durch die Feuchtentwicklung erreichte hohe Auflösung, und die resultierende Druckplatte weist eine Auflösung auf, die zum Druck von Zeitungen (100 bis 133 Linien/Zoll) geeignet ist, jedoch in der Praxis nicht beim Hochqualitätsdruck (nicht weniger als 175 bis 300 Linien/Zoll) verwendet werden konnte.

OFFENBARUNG DER ERFINDUNG

Wenn eine Photoleiterschicht vom N-Typ, die auf einem Photoleitersubstrat vom N- Typ unter Verwendung eines Substrats mit einer leitenden Oberfläche ausgebildet ist, in einem gewünschten Muster durch Batchexposition und/oder Photozeichnungsexposition exponiert wird, wird eine elektrische Leitfähigkeit erzeugt, und es tritt eine dauerhafte Speicherung (optische Speicherung) auf. Es wird eine Tintenaufnahmefähige Komponente elektrochemisch auf der exponierten Fläche abgeschieden (elektrolytisch abgeschieden), um ein elektrolytisch abgeschiedenes Substrat herzustellen. Das elektrolytisch abgeschiedene Substrat wird als solches als Druckplatte verwendet. In einer anderen Ausführungsform wird die Tintenaufnahmefähige Komponente des elektrolytisch abgeschiedenen Substrats auf ein Substrat für eine Druckplatte übertragen, um eine Druckplatte, die eine Tintenaufnahmefähige Fläche aufweist, herzustellen. Das vorstehende Verfahren kann in einfacher Weise eine Druckplatte herstellen, die Drucke hoher Qualität mit hoher Plattenverschleißbeständigkeit bereitstellt. Des weiteren kann, da im Verfahren das Photozeichnen verwendet werden kann, das Verfahren vereinfacht werden, was in geringeren Produktionskosten resultiert.
Es können die folgenden drei Typen von Druckplattenherstellungsverfahren durch Ausnutzen des Vorteils der optischen Speichereigenschaft bereitgestellt werden.

Erster Gesichtspunkt

Unter den vorstehenden Umständen wurde die vorliegende Erfindung bereitgestellt und es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Druckplattenherstellungsverfahren bereitzustellen, mit dem eine Druckplatte hergestellt werden kann, die in einfacher Weise Drucke hoher Qualität und eine hohe Plattenverschleißbeständigkeit bereitstellen kann, was eine Verringerung und Vereinfachung der mit der Druckplattenherstellung verbundenen Schritte, eine Verbesserung der Zuverlässigkeit des Arbeitsvorgangs, eine Verringerung der Kosten und die Verwendung der Photozeichnung ermöglicht.
Um das vorstehende Ziel zu erreichen, umfaßt das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte die Schritte: Bereitstellen einer Photoleiterschicht vom N-Typ mit einer optischen Speichereigenschaft auf der Oberfläche eines Substrats, das eine elektrische Leitfähigkeit mindestens in seiner Oberfläche aufweist, um ein Photoleitersubstrat vom N-Typ auszubilden, Unterwerfen der Photoleiterschicht vom N-Typ einer gewünschten musterartigen Exposition durch Batchexposition und/oder Photozeichnungsexposition, um exponierte Bereiche elektrisch leitfähig zu machen, Eintauchen des Photoleitersubstrats vom N-Typ in ein elektrolytisches Abscheidungsbad, um ein ionisches organisches Polymer, das im elektrischen Abscheidungsbad enthalten ist, zur Ausbildung einer elektrolytischen Abscheidungsschicht elektrolytisch abzuscheiden, und Waschen und Trocknen des elektrolytisch abgeschiedenen Substrats, um eine Druckplatte herzustellen, wobei die elektrolytische Abscheidungsschicht gegenüber einer Drucktinte aufnahmefähig oder nicht- aufnahmefähig gemacht wird, die elektrolytische Abscheidung als Lichtscreeningschicht und/oder elektrische Isolierungsmaske verwendet wird, nicht-exponierte Bereiche exponiert werden, um sie elektrisch leitfähig zu machen, ein gegenüber einer Drucktinte aufnahmefähiges oder nicht-aufnahmefähiges Material auf die nicht- exponierten Bereiche elektrolytisch abgeschieden wird und die resultierende Druckplatte bei der Trockenlithographie verwendet wird.
Die Druckplatte der vorliegenden Erfindung umfaßt ein Photoleitersubstrat vom N- Typ, das durch Bereitstellen einer Photoleiterschicht vom N-Typ, die eine optische Speichereigenschaft auf der Oberfläche eines Substrats mit einer elektrischen Leitfähigkeit mindestens in seiner Oberfläche aufweist, ausgebildet ist, und entweder eines oder beide von einem lipophilen Bereich und einem ölabweisenden Bereich, welcher musterartig auf der Oberfläche der Photoleiterschicht vom N-Typ abgeschieden wurde.
Die Photoleiterschicht vom N-Typ, die auf einem Photoleitersubstrat vom N-Typ ausgebildet ist, wird einer gewünschten musterartigen Exposition durch Batchexposition und/oder Photozeichnungsexposition unterworfen, um exponierte Bereiche elektrisch leitfähig zu machen, und es wird ein ionisches organisches Polymer, das in einem elektrolytischen Abscheidungsbad enthalten ist, auf den exponierten Bereichen elektrolytisch abgeschieden, um eine elektrolytische Abscheidungsschicht auszubilden, wodurch eine Druckplatte hergestellt wird. Daher kann eine Druckplatte, die Drucke hoher Qualität mit hoher Plattenverschleißbeständigkeit bereitstellen kann in einfacher Weise hergestellt werden. Des weiteren kann, da in dem Verfahren des Photozeichnen verwendet werden kann, das Verfahren vereinfacht werden, was in geringeren Produktionskosten resultiert.

Zweiter Gesichtspunkt

Das zweite Ziel der vorliegenden Erfindung wird durch Verwendung des ersten Gegenstands der vorliegenden Erfindung erreicht. Das Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte gemäß dem zweiten Gesichtspunkt umfaßt die Schritte: Bereitstellen einer Photoleiterschicht vom N-Typ mit einer optischen Speichereigenschaft auf der Oberfläche eines Substrats, das eine elektrische Leitfähigkeit mindestens in seiner Oberfläche aufweist, um ein Photoleitersubstrat vom N-Typ auszubilden, Unterwerfen der Photoleiterschicht vom N-Typ einer gewünschten musterartigen Exposition und/oder Photozeichnungsexposition, um exponierte Bereiche elektrisch leitfähig zu machen, Eintauchen des Photoleitersubstrats vom N-Typ in ein elektrolytisches Abscheidungsbad, um eine Tinten-aufnahmefähige Komponente auf die exponierten Bereiche elektrolytisch abzuscheiden, Waschen und Trocknen des elektrolytisch abgeschiedenen Substrats und Übertragen der Tinten-aufnahmefähigen Komponente, die auf der Photoleiterschicht vom N-Typ vorhanden ist, auf ein Substrat für eine Druckplatte.
Des weiteren wird gemäß dem Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte der vorliegenden Erfindung auch eine Druckplatte bereitgestellt, die ein Substrat für eine Druckplatte und einen darauf durch das vorstehende Verfahren ausgebildeten, Tinten-aufnahmefähigen Bereich, umfassend eine Tinten-aufnahmefähige Komponente, umfaßt.

Dritter Gesichtspunkt

Der dritte Gesichtspunkt der vorliegenden Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte durch Ausnutzen von Licht und Wärme. Insbesondere wird die Erzeugung von elektrischer Leitfähigkeit durch Exposition und das Löschen der elektrischen Leitfähigkeit durch Erwärmen in Bezug auf die Photoleiterschicht vom N- Typ durchgeführt, und es wird ein elektrolytisches Abscheidungsmaterial auf den verbleibenden leitenden Bereichen elektrolytisch abgeschieden, um eine Druckplatte zum Naßdrucken oder Trockendrucken bereitzustellen.
Fig. 1 zeigt einen Querschnitt einer Ausführungsform eines in der vorliegenden Erfindung verwendeten Photoleitersubstrats vom N-Typ.
Fig. 2A und 2B, Fig. 4A bis 4D, Fig. 5, Fig. 6A bis 6C, Fig. 7A bis 7C und Fig. 8A bis 8E sind Querschnitte, welche die erfindungsgemäßen Druckplattenherstellungsverfahren veranschaulichen, und
Fig. 3 ist ein Querschnitt, der eine Ausführungsform eines in der vorliegenden Erfindung verwendeten Abscheidungsbehälter zeigt.
Die drei Gesichtspunkte der vorliegenden Erfindung werden nachstehend beschrieben.

Erster Gesichtspunkt der Erfindung

Das Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte gemäß der vorliegenden Erfindung umfaßt grundsätzlich die Ausnutzung der optischen Speicherfähigkeit eines Photoleiters, und es wird ein ionisches organisches Polymer, das in einem elektrolytischen Abscheidungsbad enthalten ist, auf dem optischen Speicherbereich elektrolytisch abgeschieden, um eine Druckplatte herzustellen. Die durch die elektrolytische Abscheidung ausgebildete elektrolytische Abscheidungsschicht ist in Abhängigkeit vom verwendeten elektrolytischen Abscheidungsmaterial gegenüber Tinte aufnahmefähig oder nicht-aufnahmefähig.
Der als das photoempfindliche Material in der vorliegenden Erfindung verwendete Photoleiter ist ein Photoleiter vom N-Typ mit optischer Speicherfähigkeit, der eine derartige Befähigung aufweist, daß nach der Exposition der Expositionseffekt für eine lange Zeitspanne gespeichert werden kann.
Im vorstehenden Photoleiter vom N-Typ ruft die Bestrahlung mit Licht hervor, daß die elektrische Leitung im exponierten Bereich derart erhöht wird, daß die elektrische Leitfähigkeit bezüglich der negativen Ladung im exponierten Bereich sehr viel größer als im nicht-exponierten Bereich wird. Als Konsequenz weist in Abhängigkeit vom Aufbau des Halbleitermaterials der nicht-exponierte Bereich eine elektrisch isolierende Eigenschaft auf, wobei der exponierte Bereich elektrisch leitfähig wird. D. h., die Bestrahlung mit Licht ermöglicht es, daß eine Halbleiteroberfläche in einen leitenden Bereich und in einen isolierenden Bereich aufgeteilt wird. Ein derartiges Prinzip wurde bereits bei der Elektrophotografie verwendet.
Andererseits ist es auch bekannt, daß ein bestimmter Photoleiter vom N-Typ eine optische Speichereigenschaft aufweist, so daß der Effekt der Bestrahlung mit Licht (Expositionseffekt) für eine bestimmte Zeitspanne gespeichert werden kann. Diese optische Speichereigenschaft ist nicht permanent, wird jedoch für eine gewisse Zeitspanne aufrecht erhalten, die in Abhängigkeit vom verwendeten Material veränderlich ist. Sie verschwindet nach einer gegebenen Zeitspanne und die isolierende Eigenschaft wird wieder hergestellt. Die zur Wiederherstellung benötigte Zeit kann durch geeignetes Erhitzen bzw. Erwärmen deutlich verkürzt werden.
Wie es auch anhand der Tatsache ersichtlich ist, daß diese Art von Photoleiter vom N-Typ bei der Elektrophotographie verwendet wird, ist die Photoempfindlichkeit fast so wie die diejenige bei der Photographie mit Silbersalz oder dieser gleich und weist daher den Vorteil auf, daß der Photoleiter vom N-Typ leicht nicht nur bei der Kontaktexposition mit einer photographischen Originalplatte sondern auch beim Photozeichnungsscanning mit hoher Geschwindigkeit mit einem Argon- oder Halbleiterlaser angewandt werden kann. Des weiteren wird, wenn der Photoleiter vom N-Typ verwendet wird, die Tonerentwicklung unnötig, was eine Auflösung bietet, die für die Mikrophotographie ausreichend ist.
Die Ausnutzung des Expositionseffekts und der optischen Speichereigenschaft ermöglicht es, den Photoleiter vom N-Typ auf ein Substrat zur elektrolytischen Abscheidung aufzutragen. Die Auftragung des Photoleiters vom N-Typ auf ein Substrat zur elektrolytischen Abscheidung wurde zuerst 1961 bei einem Kopiersystem von E. Johnson & B. Neher (U.S.-Patent Nr. 3010833) durchgeführt. Danach wurde das Kopiersystem verbessert und als Elektrophotographie vom elektrolytischen Entwicklungstyp (siehe Insatsu Kogaku IV P. 315, veröffentlicht im Dezember 1971, Kyoritsu Shuppan Co., Ltd., Shashin Kogyo (getrennter Band), Band 222, Gazo No Kagaku, japanische Patentveröffentlichung Nr. 10706/1974 und ähnliche) vollendet. Bei der Elektrophotographie vom elektrolytischen Entwicklungstyp sind alle Anwendungen das Kopieren von Dokumenten, Photografien und ähnlichem. Daher wird das Halbleitersubstrat an sich ein Produkt als Kopiepapier.
Im Entwicklungsverfahren, das die elektrolytische Entwicklung ausnutzt, wird ein Metall aus einer Metallsalzlösung elektrolytisch abgeschieden, oder es wird in einer anderen Ausführungsform ein Reduktionsfarbstoff durch Ausnutzung der Reduzierbarkeit der Oberfläche der Halbleiterelektrode verwendet, und es ist einfarbiges oder Farbkopieren möglich. Im Fall des einfarbigen Kopierens wird, da die Entwicklung einmal durchgeführt, das Kopieren durch Exposition unter Ausnutzung der optischen Speichereigenschaft, gefolgt von der Entwicklung, vervollständigt. Andererseits wird im Fall des mehrfarbigen Kopierens die Entwicklung mehrmals (gewöhnlich viermal) in einer derartigen Weise durchgeführt, daß, nachdem die vorherige Expositionswirkung durch Erhitzen auf einen Ursprungszustand gelöscht wird, die nächste Exposition für eine verschiedene Farbe durchgeführt wird (3M Corporation: Electrocolor, "Denshi Shashin-ho No Denkai Genzo-ho (Electrolytic Development by Electrophotography)"). Es wird jedoch kein Beispiel gefunden, bei dem die Elektrophotografie vom elektrolytischen Entwicklungstyp bei der Herstellung einer Druckplatte angewandt wurde, die ein Bild mit einer viel höheren Präzision als beim Kopieren bereitstellen und eine Plattenverschleißbeständigkeit und eine Photoempfindlichkeit bereitstellen soll, die groß genug ist, um zum Drucken großer Mengen verwendet zu werden.
Das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte wird nachstehend mit Bezug auf die beigefügten Zeichnungen beschrieben.
Fig. 1 ist ein schematischer Querschnitt eines in der vorliegenden Erfindung verwendeten Photoleitersubstrats vom N-Typ.
In der Fig. 1 umfaßt ein Photoleitersubstrat vom N-Typ 101 ein leitendes Substrat 102 und eine Photoleiterschicht vom N-Typ 103, die auf dem leitenden Substrat 102 ausgebildet ist.
Das leitende Substrat 102 kann eine Metallplatte, die als solche elektrisch leitfähig ist, wie eine Platte aus Al, Zn, Cu, Fe, Ni, Cr, nichtrostendem Stahl, einer Legierung oder ähnlichem, umfassen. In einer anderen Ausführungsform kann es ein elektrisch isolierendes Substrat, wie Glas, eine Kunststoffplatte, eine Folie oder Papier, und eine leitende Abscheidungsbeschichtung aus Indiumzinnoxid (ITO), Zinndioxid (SnO&sub2;), Metall oder ähnlichem, die darauf angeordnet ist, oder einen darauf lamenierten metallischen Film, umfassen. Von den vorstehenden Materialien sind Al, Zn, nichtrostender Stahl, Folien- bzw. Filmmaterialien und ähnliche besonders bevorzugt. Es reicht hinsichtlich des leitenden Substrats 102 aus, daß die Grenz- bzw. Übergangsfläche bzw. Grenzschicht von leitendem Substrat 102 und der Photoleiterschicht vom N-Typ 103 elektrisch leitfähig ist. Daher kann das leitende Substrat 102 auch aus Kohlenstoff oder einem Kohlenstoff enthaltenden leitenden Material ausgebildet sein. Die Photoleiterschicht vom N-Typ 103 ist aus einem optischen Speicherhalbleiter vom N-Typ ausgebildet. Beispiele des optischen Speicherphotoleiters vom N-Typ schließen Zinkcadmiumsulfat, Zinkcadmiumselenid, Zinkoxid, Titandioxid und organische Halbleiter ein. Von diesen sind Zinkoxid, Titandioxid und ähnliche hinsichtlich der elektrischen Eigenschaften, optischen Speichereigenschaften, Einfachheit der Herstellung, Rentabilität und ähnlichem verwendbar.
In der vorliegenden Erfindung kann der Photoleiter vom N-Typ in geeigneter Weise aus den vorstehenden Materialien ausgewählt werden. In diesem Zusammenhang ist es selbstverständlich, daß der Halbleiter insbesondere einem solchen Eigenschaftserfordernis genügen sollte, daß der elektrische Widerstand des optischen Speicherbereichs klein genug ist, um die Abscheidung eines elektrolytischen Abscheidungsmaterials zu ermöglichen, wobei der elektrische Widerstand des Bereichs ohne optische Speicherfähigkeit groß genug ist, um die Abscheidung eines elektrolytischen Abscheidungsmaterials zu inhibieren.
Genauer kann vorzugsweise ein Photoleiter vom N-Typ verwendet werden, der einen Helligkeitswiderstand bzw. Widerstand im Hellen von nicht mehr als 108 Qcm aufweist, wobei die Differenz zwischen einem Dunkelwiderstand bzw. Widerstand im Dunkeln und einem Helligkeitswiderstand nicht kleiner als 102 Qcm beträgt.
Wenn Zinkoxid zur Elektrophotographie als optischer Speicherphotoleiter vom N-Typ verwendet wird, wird das Zinkoxid für die Elektrophotografie unter Verwendung eines elektrisch isolierenden Harzes als Bindemittel zu einer Paste verarbeitet, und die Paste wird homogen auf das leitende Substrat 102 aufgetragen und darauf getrocknet, um eine Beschichtung mit einer Dicke von einigen um bis 30 um auszubilden, wodurch ein Photoleitersubstrat vom N-Typ 101 bereitgestellt wird. Elektrisch isolierende Harze schließen Alkydharz, Styrol/Butadien-Copolymerharze und Acrylharz ein. Im allgemeinen sind Styrol/Butadien-Copolymerharz und Acrylharz leicht zu verarbeiten. Es kann ein Sensibilisator zugegeben werden, um die spektrale Empfindlichtkeit der Photoleiterschicht vom N-Typ 103 aus Zinkoxid zu verbessern und die Sensibiltätswellenlänge zu regulieren. Erfindungsgemäß verwendbare Sensibilisatoren schließen Bengalrot, Bromphenolblau und Permanentblau ein. Die Zugabe des Sensibilisators ermöglicht es, die Wellenlänge des bei der Exposition verwendeten Lichts in geeigneter Weise aus einem breiten Bereich vom ultravioletten Lichtbereich bis zum sichtbaren Licht-/nahem Infrarotbereich auszuwählen. Daher weist das in der vorliegenden Erfindung verwendete Photoleitersubstrat 101 vom N-Typ das Merkmal auf, daß es sich auch für Ausgabewellenlängen von Lasern für allgemeine Zwecke, wie Argonlaser und Halbleiterlaser, eignet.
Das Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte gemäß der vorliegenden Erfindung wird nachstehend in Bezug auf Fig. 2 beschrieben. Zu Beginn wird die Exposition der Photoleiterschicht vom N-Typ 103 des Photoleitersubstrats vom N-Typ 101 unter Verwendung einer zuvor hergestellten optischen Zeichnungsvorrichtung oder einer photografischen Originalplatte durchgeführt (Fig. 2A). Diese Exposition führt dazu, daß ein exponierter Bereich 104 allein eine Leitfähigkeit vom Speichertyp für eine lange Zeitspanne entwickelt und als elektrolytischer Abscheidungsbereich dient, wobei der nicht-exponierte Bereich der Photoleiterschicht vom N-Typ 103 im isolierenden Zustand gehalten wird. Daher kann ein in einem nachstehend beschriebenen elektrolytischen Abscheidungsbad enthaltenes ionisches organisches Polymer im elektrolytischen Abscheidungsbad auf dem exponierten Bereich (elektrolytischer Abscheidungsbereich) allein elektrolytisch abgeschieden werden, was es ermöglicht, eine elektrolytische Abscheidungsschicht 105 partiell auf dem Photoleitersubstrat vom N-Typ 101 auszubilden (Fig. 2B). Im vorstehenden Schritt der elektrolytischen Abscheidung befindet sich der nicht-exponierte Bereich der Photoleiterschicht vom N-Typ 103 lediglich in einem verunreinigten Zustand ohne elektrolytische Abscheidung und kann daher durch Waschen mit Wasser nach der elektrolytischen Abscheidung gereinigt werden. Nach dem Waschen mit Wasser wird die Platte mit der elektrolytischen Abscheidung darauf getrocknet, um die Druckplatte der vorliegenden Erfindung bereitzustellen.
Die so hergestellte erfindungsgemäße Druckplatte 111 kann erhitzt oder photogehärtet werden, um die Abriebbeständigkeit der elektrolytischen Abscheidungsschicht 105 zu verstärken oder die Haftung des Substrats für eine Druckplatte zu erhöhen.
Erfindungsgemäß kann die elektrolytische Abscheidung unter Verwendung irgendeiner üblichen elektrolytischen Abscheidungsvorrichtung durchgeführt werden, und deren Prinzip ist im Fachgebiet bekannt. Fig. 3 zeigt ein prinzipielles schematisches Diagramm eines elektrolytischen Abscheidungsbehälters. In der Fig. 3 enthält der elektrolytische Abscheidungsbehälter 131 eine elektrolytische Abscheidungslösung 132. Das Photoleitersubstrat vom N-Typ 101, das einer gewünschten musterartigen Exposition unterworfen wurde, wird als Kathode verwendet, und es wird ein unlösliches leitendes Material, das keine elektrolytische Elution hervorruft, beispielsweise Ti-, Pt-, oder eine Kohlenstoffelektrode, als Gegenelektrode 133, d. h. als positive Elektrode, verwendet. Jede Elektrode ist mit einer äußeren Gleichspannungsquelle 140 verbunden. Wenn ein Gleichstrom mit erforderlicher Spannung fließen gelassen wird, wird eine in der elektrolytischen Abscheidungslösung 132 enthaltene ionische organische Polymerkomponente auf dem exponierten Bereich 104 des Photoleitersubstrats vom N-Typ 101 elektrolytisch abgeschieden, um eine elektrolytische Abscheidungsschicht 105 auszubilden. Danach wird das Substrat mit der elektrolytischen Abscheidung hoch gezogen, mit Wasser gewaschen und getrocknet, um eine Druckplatte 111, wie in Fig. 2B gezeigt, bereitzustellen. Da die Photoleiterschicht vom N-Typ 103 ein Photorezeptor ist, sollten die vorstehenden Arbeitsabläufe im Dunkeln oder unter Dunkelkammerbeleuchtung durchgeführt werden.
Das bei der Ausbildung der elektrolytischen Abscheidungsschicht 105 gemäß der vorliegenden Erfindung verwendete elektrolytische Abscheidungsmaterial wird nachstehend beschrieben. Die elektrolytische Abscheidungsschicht 105 wird im allgemeinen aus einem organischen Material (Polymermaterial) ausgebildet. Sie wird durch ein als "elektrolytische Abscheidung (elektrolytische Beschichtung)" bekanntes Verfahren ausgebildet. Die elektrolytische Abscheidung wird in die kationische elektrolytische Abscheidung und die anionische elektrolytische Abscheidung, entsprechend dem Verfahren der elektrolytischen Abscheidung auf der Oberfläche der Hauptelektrode, eingeteilt. Diese Einteilung basiert darauf, ob sich das elektrolytische Abscheidungsmaterial sich als Kation oder Anion verhält. In der elektrolytischen Abscheidung verwendbare ionische organische Polymermaterialien schließen verschiedene organische Polymermaterialien, wie natürliche Fette und Öle, synthetische Fette und Öle, Alkydharze, Polyesterharze, Acrylharze und Epoxyharze, ein.
Bei der anionischen elektrolytischen Abscheidung sind maleinisierte Öle und Polybutadienharz als ältere ionische organische Polymermaterialien bekannt, und die resultierende elektrolytische Abscheidungsschicht 105 (elektrolytisch abgeschiedenes Material) wird durch oxidative Polymerisation gehärtet. Andererseits werden bei der kationischen elektrolytischen Abscheidung organische Epoxyharzpolymermaterialien hauptsächlich allein oder nach Modifizierung verwendet. Zusätzlich werden die sogenannten organischen "Polyamidharz"-Polymermaterialien, wie Polybutadienharz, Melaminharz und Acrylharz, verwendet, und es wird eine starke elektrolytische Abscheidungsschicht 5 durch Wärmehärtung, Photohärtung oder ähnliches ausgebildet. Um der elektrolytischen Abscheidung (elektrolytische Abscheidungsschicht 105) eine Härtbarkeit zu verleihen, kann die Photohärtung oder Wärmehärtung durch Zugeben eines Härtungsmittels, wie einer Aminosäure oder eines blockierten Isocyanats, oder durch Einführen einer Polymergruppe oder einer polymerisierbaren ungesättigten Gruppe in das Harz als solches erleichtert werden.
Das Substrat mit der elektrolytischen Abscheidung, das in seiner Oberfläche einen Oxidphotoleiter umfaßt, ist inherent hydrophil. Jedoch können die vorstehenden Harze mit einer Befähigung zum elektrolytischen Abscheiden fest auf dem Photoleiter angehaftet oder damit fixiert bzw. verbunden werden. Des weiteren sind sie im trockenen Zustand gegenüber einer Tinte aufnahmefähig, was die Anwendung von Anfeuchtwasser im Druckzeitpunkt vereinfacht. Des weiteren ist, da sie eine starke Haftung mit der Oberfläche eines Photoleiters aufweisen, die Häufigkeit von Fehldrucken, die durch die Verformung oder das Abblättern einer elektrolytischen Abscheidung (d. h. des Bildbereichs) deutlich vermindert, selbst wenn eine Anzahl von zyklischen Druckarbeitsvorgängen durchgeführt wird, was eine Druckplatte mit hoher Plattenverschleißbeständigkeit bereitstellt.
Andererseits werden bei der Herstellung einer Platte zum Trockendrucken wasserabweisende, ölabweisende, ionische organische Polymermaterialien als elektrolytische Abscheidungsmaterialien verwendet. Die derartige Eigenschaften aufweisenden Materialien schließen Silikonharz und Fluorharze ein, und ein Beispiel der praktischen Verwendung derartiger Materialien ist, daß diese Materialien elektrolytisch auf der Oberfläche der Struktur abgeschieden werden, um der Oberfläche der Struktur eine wasserabweisende, ölabweisende Eigenschaft zu verleihen. Des weiteren gibt es die Verbundabscheidung, bei der diese Harze in einem Metallabscheidungselektrolyt dispergiert sind und gleichzeitig durch metallelektrolytische Abscheidung zusammen elektrolytisch abgeschieden werden. Es kann beispielsweise die Verbundabscheidung mit einem Fluorharz erwähnt werden. Daher ist die erfindungsgemäße Druckplatte bei der Trockenlithographie verwendbar.
In diesem Fall kann die Druckplatte in etwa der gleichen Weise, wie in Fig. 2 gezeigt, hergestellt werden.
Es wird nachstehend kurz das Drucksystem bei der Trockenlithographie beschrieben. Grundsätzlich ist das Druckplattenherstellungsverfahren das gleiche wie das Verfahren zur Herstellung einer Platte für die Naßlithographie, und diese Verfahren unterscheiden sich voneinander einzig durch das elektrolytische Abscheidungsmaterial. Genauer wird das Photoleitersubstrat vom N-Typ der musterartigen Exposition unterworfen, das Halbleitersubstrat 101 wird nach der Exposition in eine elektrolytische Abscheidungslösung 132 eingetaucht, enthaltend ein ölabweisendes elektrolytisches Abscheidungsmaterial, welche sich in einem elektrolytischen Abscheidungsbehälter 132, in Fig. 3 gezeigt, befindet, eine Gegenelektrode 133 wird angeordnet, und es wird eine Gleichspannung zur elektrolytischen Abscheidung angelegt. In diesem Fall beträgt die Dicke der resultierenden elektrolytischen Abscheidung beispielsweise etwa 2 bis 20 um, und die Spannung beträgt beispielsweise etwa 40 bis 100 V. Nach der Vervollständigung der elektrolytischen Abscheidung wird das Halbleitersubstrat 101 hochgezogen, mit Wasser gewaschen und getrocknet, um eine Druckplatte 111 herzustellen.
Da die elektrolytische Abscheidungsschicht 105 ölabweisend (Tinten-abweisend) ist, scheidet beim Trockendruckvorgang keine Tinte darauf ab. Andererseits ist eine bloße Halbleiterschicht 103, die sich im trockenen Zustand befindet, lipophil, und die Tinte scheidet sich darauf ab. Die abgeschiedene Tinte wird auf ein Druckmedium übertragen, um das Drucken durchzuführen. Das Trockendrucken steht dem Naßoffsetdrucken, bei dem Anfeuchtwasser verwendet wird, gegenüber und wird als "wasserfreie Lithographie" bezeichnet, da kein Anfeuchtwasser verwendet wird. Die verwendete Tinte ist vorzugsweise eine Spezialtinte mit niedriger Affinität zum ölabweisenden Bereich (elektrolytische Abscheidungsschicht 105). Da kein Wasser verwendet wird, weist die Trockenlithographie im Vergleich zur Naßlithographie mehrere Vorteile, wie die Vereinfachung der Druckmaschine, Drucken mit hoher Dichte und Präzision und eine einfache Steuerung bzw. Kontrolle, auf. Bei der Platte für die Trockenlithographie, dient der elektrolytisch abgeschiedene ölabweisende Bereich (ölabweisende Teilschicht) als Reliefplatte, und die Tinte wird auf dem konkaven Bereich abgeschieden. Daher ist die Platte für die Trockenlithographie exakterweise eine tiefgeätzte Platte. In diesem Fall ist die abgeschiedene Menge der Tinte groß. Daher ist im Vergleich zur üblichen Platte für das Naßdrucken (plan-konvexer Plattentyp) die verwendete Menge der Tinte größer, obwohl die Dichte höher ist. Es kann jedoch eine Platte für die Trockenlithographie, die vom gleichen plan-konvexen Plattentyp ist, wie er beim Naßverfahren verwendet wird, durch erneutes Unterwerfen des Bereichs zwischen den ölabweisenden Bereichen als Maske der Exposition und der elektrolytischen Abscheidung hergestellt werden, um einen lipophilen Bereich (eine lipophile Teilschicht) mit größerer Dicke als der ölabweisende Bereich bereitzustellen. Da der ölabweisende Bereich eine elektrisch isolierende Eigenschaft aufweist (dieser Bereich ist nicht elektrolytisch abgeschieden), kann die nochmalige elektrolytische Abscheidung auf dem lipophilen Bereich leicht durch Unterwerfen des nackten Photoleiters durch Exposition auf dem gesamten Bereich oder der Exposition unter Verwendung einer Maske, um eine selektive lokale Leitfähigkeit (eine Befähigung zur Aufnahme einer elektrolytischen Abscheidung) zu verleihen, durchgeführt werden. Weiterhin ermöglicht die Verwendung dieses Verfahrens zur schwachen nochmaligen elektrolytischen Abscheidung eines lypophilen Materials mit höherer Lipophilie als die Oberfläche des Photoleiters die Erzeugung einer Platte zum Trockendrucken wie eine Tiefätzplatte, plan-konvexe Platte oder vollständig lithographische Platte, wobei der Farbauftrag einfacher ist.
Bei der üblichen elektrolytischen Abscheidung wird ein fein zerkleinertes Pigment oder ein Farbstoff, in einem anionischen oder kationischen elektrolytischen Abscheidungsbad dispergiert, zusammen mit einem ionischen Polymermaterial elektrolytisch abgeschieden, wodurch die Farbbeschichtung durchgeführt wird. Daher kann auch in der vorliegenden Erfindung der elektrolytischen Abscheidungskomponente eine geeignete Farbe verliehen werden, um die Mustererkennung der resultierenden Druckplatte zu verstärken.
Im Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte gemäß der vorliegenden Erfindung wird ein Photoleiter vom N-Typ verwendet, und wenn der Photoleiter vom N-Typ als Hauptelektrode zur elektrolytischen Abscheidung verwendet wird, werden die Elektronen nur durch die Photoleiterschicht vom N-Typ durchgeleitet, und der Photoleiter vom N-Typ dient als Kathode. Daher sollte das verwendete elektrolytische Abscheidungsbad kationisch sein, und es wird ein kationisches Material reduziert und auf dem exponierten Bereich (leitender Bereich) der Photoleiterschicht vom N-Typ abgeschieden. Daher ist es möglich die elektrolytische Abscheidung unter Verwendung eines elektrolytischen Abscheidungsbads mit einer Dispersion, umfassend das vorstehende Epoxyharz, Polybutadienharz, Polyamid oder andere kationischer Harze und ein Färbemittel, und eine elektrolytische Abscheidung eines Metalls (beispielsweise ein lipophiles Metall wie Cu) unter Verwendung eines üblichen elektrolytischen Abscheidungsbads durchzuführen. Spezifische Beispiele des kationischen elektrolytischen Abscheidungsmaterials sind in vielen Druckschriften, beispielsweise in der japanischen Patentveröffentlichung Nr. 184577/1985 und in dem japanischen offengelegten Patent Nr. 210901/1988 und 22379/1989, beschrieben, und daher wird auf die genaue Beschreibung des kationischen elektrolytischen Abscheidungsmaterials verzichtet.

Zweiter Gesichtspunkt der Erfindung

Das Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte gemäß der vorliegenden Erfindung nutzt grundsätzlich eine optische Speichereigenschaft eines Photoleiters aus. Es wird eine Tinten-aufnahmefähige Komponente auf dem optischen Speicherbereich elektrolytisch abgeschieden, und die Tinten-aufnahmefähige Komponente wird auf ein hydrophiles Substrat für eine Druckplatte übertragen, wodurch eine Druckplatte hergestellt wird.
Der Photoleiter als photoempfindliches Material, das in der vorliegenden Erfindung verwendet wird, verwendet das Photoleitersubstrat gemäß dem ersten Gesichtspunkt der Erfindung und ist ein Photoleiter vom optischen Speichertyp, der nach einer musterartigen Exposition zur Speicherung des Expositionseffekt für eine lange Zeitspanne dient. Die vorliegenden Erfindung weist Vorteile, wie eine hohe Plattenverschleißbeständigkeit und die wiederholte Verwendung des Photoleiters vom N-Typ, auf.
Das Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte gemäß der vorliegenden Erfindung wird nachstehend mit Bezug auf die beigefügten Zeichnungen beschrieben.
Im Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte gemäß der vorliegenden Erfindung wird zu Beginn eine Photoleiterschicht vom N-Typ 3 in einem Photoleitersubstrat vom N-Typ 1 unter Verwendung einer zuvor hergestellten Photozeichnungsvorrichtung oder einer photographischen Originalplatte (Fig. 4A) exponiert. Diese Exposition ruft eine Leitfähigkeit mit einer Speichereigenschaft, die nur in einem exponierten Bereich 4 zu erzeugen ist, hervor, und der exponierte Bereich 4 dient als elektrolytischer Abscheidungsbereich, während ein nicht-exponierter Bereich in der Photoleiterschicht vom N-Typ 3 in einem elektrisch isolierenden Zustand gehalten wird. Daher kann eine Tinten-aufnahmefähige Komponente, die in einem nachstehend beschriebenen elektrolytischen Abscheidungsbad enthalten ist, im elektrolytischen Abscheidungsbad allein auf dem exponierten Bereich (elektrolytischer Abscheidungsbereich) elektrolytisch abgeschieden werden, was es ermöglicht, teilweise eine elektrolytische Abscheidungsschicht auf dem Photoleitersubstrat vom N-Typ 1 auszubilden (Fig. 4B). Im vorstehenden Schritt der elektrolytischen Abscheidung befindet sich der nicht-exponierte Bereich der Photoleiterschicht vom N-Typ 3 lediglich in einem verunreinigten Zustand ohne elektrolytische Abscheidung und kann daher durch Waschen mit Wasser nach der elektrolytischen Abscheidung gereinigt werden.
Danach wird ein Substrat 12 für eine Druckplatte, wobei mindestens dessen Oberfläche hydrophil ist, mit der Tinten-aufnahemfähigen Komponentenschicht 5 auf der Photoleiterschicht vom N-Typ 1 in Preßkontakt gebracht und dann abgezogen, um die Tinten-aufnahmefähige Komponentenschicht 5 vom Photoleitersubstrat vom N- Typ auf das Substrat 12 für eine Druckplatte zu übertragen (Fig. 4C und Fig. 4D). Durch diesen Schritt wird ein Tinten-aufnahmefähiger Bereich 13 aus einer lipophilen, Tinten-aufnahmefähigen Komponente auf dem hydrophilen Substrat 12 für eine Druckplatte ausgebildet, wodurch die Druckplatte 11 der vorliegenden Erfindung hergestellt wird. Selbstverständlich weist die ausgewählte Tinten-aufnahmefähige Komponente zur elektrolytischen Abscheidung in der vorliegenden Erfindung eine Hafteigenschaft bei Raumtemperatur oder eine Hafteigenschaft, wenn sie sich in einem heißen Zustand befindet, auf.
Das Substrat 12 für eine Druckplatte kann beispielsweise ein Aluminiumsubstrat sein, dessen Oberfläche anodisch behandelt wurde, um ihr einen ausreichend hohen Widerstand zu verleihen, um das Drucken großer Mengen zu überstehen.
Die so hergestellte erfindungsgemäße Druckplatte 11 kann erhitzt oder photogehärtet werden, um die Abriebbeständigkeit des Tinten-aufnahmefähigen Bereichs 13 zu verstärken oder die Haftung auf dem Substrat 12 für eine Druckplatte zu erhöhen, wodurch die Plattenverschleißbeständigkeit verbessert wird.
Im Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte gemäß der vorliegenden Erfindung kann, falls der exponierte Bereich (elektrolytischer Abscheidungsbereich) 4 der Photoleiterschicht vom N-Typ 3 eine hohe Haftung gegenüber der Tintenaufnahmefähigen Komponentenschicht 5 aufweist, was es erschwert, die Tintenaufnahmefähige Komponentschicht 5 auf das Substrat 12 für eine Druckplatte zu übertragen, eine Trennschicht 6, wie in Fig. 5 gezeigt, welche nicht die elektrolytische Abscheidung inhibiert, zuvor auf der Photoleiterschicht 3 des Photoleitersubstrats vom N-Typ 1 ausgebildet werden. Die Ausbildung der Trennschicht 6 erleichtert das Abtrennen der Tinten-aufnahmefähigen Komponentenschicht 5 von der Grenzfläche der Trennschicht 6, was es ermöglicht, die Tinten-aufnahmefähige Komponentenschicht 5 stabil auf das Substrat 12 für eine Druckplatte zu übertragen. Die Trennschicht 6 kann aus einem Trennmittel mit einem grenzflächenaktiven Mittel oder einem Silikon aufgebaut sein. Obwohl insbesondere Silikon allgemein eine elektrisch isolierende Eigenschaft aufweist, weist es selbst in Form einer sehr dünnen Beschichtung eine Trennwirkung auf und inhibiert nicht die Leitfähigkeit zur elektrolytischen Abscheidung bei der praktischen Verwendung.
Weiterhin ist es im Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte gemäß der vorliegenden Erfindung ohne die vorstehende spezielle Trennbehandlung durch Ausbildung der Trennschicht 6 auf der Photoleiterschicht vom N-Typ 3 möglich, eine Technik zu verwenden, bei der nach der Vervollständigung der in Fig. 4A gezeigten Exposition der exponierte Bereich (elektrolytischer Abscheidungsbereich) 4 einer ersten elektrolytischen Abscheidung eines trennbaren Materials unterworfen, um vorausgehend eine dünne elektrolytische Abscheidungsschicht 7 (Fig. 6A) auszubilden, und die dünne elektrolytische Abscheidungsschicht 7 wird dann einer zweiten elektrolytischen Abscheidung einer Tinten-aufnahmefähigen Komponente unterworfen, um eine Tinten-aufnahmefähige Komponentenschicht 5 auszubilden (Fig. 6B). Wenn die Tinten-aufnahmefähige Komponentenschicht 5 auf der Photoleiterschicht vom N-Typ 3 mittels der dünnen elektrolytischen Abscheidungsschicht 7 ausgebildet wird, wird auch die dünne elektrolytische Abscheidungsschicht 7 im Zeitpunkt der Übertragung der Tinten-aufnahmefähigen Komponentenschicht 5 auf das Substrat 12 für eine Druckplatte übertragen, wodurch ein Tinten-aufnahmefähiger Bereich 23 ausgebildet wird. Somit wird eine Druckplatte 21 bereitgestellt. Beispiele des trennbaren Materials zur Ausbildung der dünnen elektrolytischen Abscheidungsschicht 7 schließen elektrolytische Abscheidungsmaterialien, beispielsweise Metalle, wie Ni, Cu, Ag und Sn und Legierungen, ein. Die Druckplatte 21 als solche kann zum Drucken verwendet werden. Insbesondere kann, da die vorstehenden trennbaren Materialien inherent lipophil und hochaufnahmefähig gegenüber Tinte sind, in gewissem Ausmaß ein Druckwiderstand bereitgestellt werden. Im Falle des Druckens großer Mengen ruft das Abblättern von etwas von der dünnen elektrolytischen Abscheidungsschicht 7, die im Tinten-aufnahmefähigen Bereich 23 vorhanden ist, eine ungleichmäßige Abscheidung der Tinte hervor, was oft in einer verschlechterten Qualität der Drucke resultiert. Aus diesem Grund ist es bevorzugt, zuvor die dünne elektrolytische Abscheidungsschicht 7, die im Tinten-aufnahmefähigen Bereich 23 vorhanden ist, auch im Hinblick auf die Erhöhung der Zuverlässigkeit des Druckens zu entfernen.
Ein Oxid-Photoleiter wie ZnO ist inherent chemisch oxidativ. Eine Bestrahlung mit Licht ruft hervor, daß der Oxid-Halbleiter reduktiv wird. Aus diesem Grund ist es bekannt, daß eine reduktive Abscheidung (stromlose Galvanisierung) eines Metalls von einem Metallsalz, das in einer Lösung mit einem niedrigen Reduktionspotential, wie einer Schwermetallsalzlösung, enthalten ist, mit erfolgreichen Ergebnissen durchgeführt werden kann. Daher ist es möglich, eine selektive stromlose Galvanisierung eines Metalls wie Ni, Cu, Ag oder Sn auf dem Licht exponierten Bereich des Oxid- Halbleiters durchzuführen, und es ist auch möglich, anstatt der dünnen Abscheidungsschicht 7 durch die erste elektrolytische Abscheidung eine dünne Abscheidungsschicht 7 auf dem exponierten Bereich 4 der Photoleiterschicht vom N-Typ 3 durch stromlose Galvanisierung auszubilden. Die anderen konstituierenden Merkmale sind die gleichen wie diejenigen der ersten Erfindung.
Wie es aus der vorstehenden Beschreibung ersichtlich ist, bleibt im Photoleitersubstrat vom N-Typ nach der Übertragung der elektrolytisch abgeschiedenen Tintenaufnahmefähigen Komponentenschicht 5 auf das Substrat 12 für eine Druckplatte der exponierte Bereich 4 leitend, was es ermöglicht, das Photoleitersubstrat vom N- Typ 1 wiederholt zu verwenden. Daher kann eine Mehrzahl identischer Druckplatten durch Wiederholung der elektrolytischen Abscheidung und der Übertragung unter Verwendung eines identischen Photoleitersubstrats vom N-Typ hergestellt werden, was zu einer Steigerung der Effizienz und einer Verminderung der Produktionskosten beiträgt. Des weiteren ist es möglich, falls die Herstellung einer Mehrzahl identischer Druckplatten unnötig ist, ein Verfahren zu verwenden, wobei das Photoleitersubstrat vom N-Typ 1 nach der Übertragung der Tinten-aufnahmefähigen Komponentenschicht 5 auf das Substrat 12 für eine Druckplatte stehen gelassen oder wärmebehandelt wird, um die Leitfähigkeit des exponierten Bereichs 4 zu löschen und danach eine andere musterartige Exposition durchgeführt wird, um einen neuen exponierten Bereich 4 auszubilden, der dann zur Herstellung einer unterschiedlichen Druckplatte verwendet wird. D. h., es kann ein einziges Photoleitersubstrat vom N- Typ zur Herstellung verschiedener Druckplatten verwendet werden, was eine deutliche Verminderung der Produktionskosten ermöglicht.
Die in der vorliegenden Erfindung verwendete elektrolytische Abscheidungsvorrichtung kann eine wie in der Fig. 3 gezeigte sein. Es wird ein elektrolytisches Abscheidungsmittel gemäß dem ersten Gesichtspunkt der Erfindung elektrolytisch abgeschieden, um eine Tinten-aufnahmefähige Komponentenschicht 105 auszubilden. Danach kann das Photoleitersubstrat vom N-Typ 101 aus der elektrolytischen Abscheidung 132 hochgezogen und getrocknet werden und, wie vorstehend beschrieben, die Tinten-aufnahmefähige Komponentenschicht 105 kann durch Pressen auf das Substrat 12 für eine Druckplatte bei Raumtemperatur oder während des Erhitzens übertragen werden. In diesem Zusammenhang ist darauf hinzuweisen, daß im Fall der Wärmeübertragung die optische Speicherung gelöscht wird. Da die Photoleiterschicht vom N-Typ ein Photorezeptor ist, sollten die vorstehenden Schritte in einer Dunkelkammer oder unter Dunkelkammerbeleuchtung durchgeführt werden.

Dritter Gesichtspunkt der Erfindung

Im Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte gemäß der vorliegenden Erfindung wird grundsätzlich die optische Speichereigenschaft (Umwandlung in einen leitenden Zustand) eines Photoleiters und die schnelle Löschbarkeit (Umwandlung in einen elektrisch isolierenden Zustand) der optischen Speicherung durch Wärme ausgenutzt. Genauer wird die optisch gespeicherte Leitfähigkeit durch Exposition erzeugt, eine Heißmusterzeichnung wird durchgeführt, um die optische Speicherung teilweise zu löschen und ein elektrolytisches Abscheidungsmaterial wird auf dem Bereich elektrolytisch abgeschieden, der nach der Heißmusterzeichnung leitend verblieben ist, um eine elektrolytische Abscheidungsschicht auszubilden, wodurch eine Druckplatte hergestellt wird. Die elektrolytische Abscheidungsschicht ist in Abhängigkeit vom die elektrolytische Abscheidungsschicht aufbauenden, elektrolytischen Abscheidungsmaterial Tinten-aufnahmefähig, Tinten-abweisend oder gegenüber Anfeuchtwasser aufnahmefähig.
Der als photoempfindliches Material in der vorliegenden Erfindung verwendete Photoleiter ist ein Photoleiter vom N-Typ mit einer optischen Speichereigenschaft, so daß die Leitfähigkeit durch Exposition erzeugt wird und der Expositionseffekt für eine lange Zeitspanne gespeichert wird. Die vorliegende Erfindung verwendet das Photoleitersubstrat gemäß dem ersten Gesichtspunkt der Erfindung, d. h., es ist ein modifiziertes Verfahren der vorliegenden Erfindung.
Wie vorstehend beschrieben, ist es bekannt, daß ein bestimmter Photoleiter vom N- Typ eine optische Speichereigenschaft aufweist, so daß der Effekt der Bestrahlung mit Licht (Expositionseffekt) für eine bestimmte Zeitspanne gespeichert werden kann. Diese optische Speichereigenschaft ist nicht permanent, hält jedoch für eine Zeitspanne, die in Abhängigkeit vom verwendeten Material veränderlich ist, an. Sie verschwindet nach einer gegebenen Zeitspanne und die isolierende Eigenschaft wird wieder hergestellt. Die zur Wiedergewinnung benötigte Zeit kann durch geeignetes Erhitzen deutlich verkürzt werden. Die vorliegende Erfindung basiert auf der erfolgreichen Verwendung der Löschbarkeit der optischen Speicherung durch Wärme.
Somit ist es unter dem dritten Gesichtspunkt ein Ziel der Erfindung, ein Verfahren zur einfachen Herstellung einer Druckplatte bereitzustellen, die einen Druck hoher Qualität und mit hoher Plattenverschleißbeständigkeit bereitstellt.
Das Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte gemäß dem dritten Gesichtspunkt umfaßt die Schritte: Bereitstellen einer Photoleiterschicht vom N-Typ mit einer optischen Speichereigenschaft auf der Oberfläche eines Substrats, das eine elektrische Leitfähigkeit mindestens in seiner Oberfläche aufweist, um ein Photoleitersubstrat vom N-Typ auszubilden, Exponieren der gesamten Oberflächen oder eines notwendigen Bereichs der Photoleiterschicht vom N-Typ, um exponierte Bereiche elektrisch leitfähig zu machen, Erhitzen der exponierten Bereiche durch Heißmusterzeichnung, um die Leitfähigkeit der erhitzten Bereiche zu löschen, Eintauchen des Photoleitersubstrats vom N-Typ in ein elektrolytisches Abscheidungsbad, um ein elektrolytisches Abscheidungsmaterial auf den verbliebenen leitfähigen Bereichen allein zur Ausbildung einer elektrolytischen Abscheidungsschicht elektrolytisch abzuscheiden, und Waschen und Trocknen des elektrolytisch abgeschiedenen Substrats bzw. des Substrats mit der elektrolytischen Abscheidung, um eine Druckplatte herzustellen.
Ein weiteres Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte gemäß der vorliegenden Erfindung umfaßt die Schritte: Bereitstellen einer Photoleiterschicht vom N-Typ mit einer optischen Speichereigenschaft auf der Oberfläche eines Substrats, das eine elektrische Leitfähigkeit mindestens in seiner Oberfläche aufweist, um ein Photoleitersubstrat vom N-Typ auszubilden, Exponieren der gesamten Oberfläche oder eines notwendigen Bereichs der Photoleiterschicht vom N-Typ, um exponierte Bereiche elektrisch leitfähig zu machen, Erhitzen der exponierten Bereiche durch Heißmusterzeichnung, um die Leitfähigkeit der erhitzten Bereiche zu löschen, Eintauchen des Photoleitersubstrats vom N-Typ in ein elektrolytisches Abscheidungsbad, um eine lichtscreenende und/oder elektrisch isolierende erste elektrolytische Abscheidungsschicht auf den verbliebenen leitfähigen Bereichen allein zur Ausbildung einer ersten elektrolytischen Abscheidungsschicht elektrolytisch abzuscheiden, Waschen des elektrolytisch abgeschiedenen Substrats, Exponieren des Photoleitersubstrats vom N-Typ, um exponierte Bereich wieder elektrisch leitfähig zu machen, Eintauchen des Photoleitersubstrats vom N-Typ in ein elektrolytisches Abscheidungsbad, um ein zweites elektrolytisches Abscheidungsmaterial nur auf den Bereichen elektrolytisch abzuscheiden, auf denen die erste Abscheidungsschicht nicht ausgebildet wurde, wodurch eine zweite elektrolytische Abscheidungsschicht ausgebildet wird, und Waschen und Trocknen des elektrolytisch abgeschiedenen Materials, um eine Druckplatte herzustellen.
Es wird die Photoleiterschicht vom N-Typ in ihrer Gesamtheit oder ein notwendiger Bereich des Photoleitersubstrats vom N-Typ durch Exposition leitfähig gemacht, die exponierten Bereiche werden durch Heißmusterzeichnung erhitzt, um die Leitfähigkeit der erhitzten Bereiche zu löschen, und es wird ein elektrolytisches Abscheidungsmaterial auf den verbliebenen leitenden Bereichen elektrolytisch abgeschieden, um eine Druckplatte herzustellen.
Es können jedwede Druckplatten für das Naßdrucken und das Trockendrucken durch das gleiche Verfahren durch Auswahl der Eigenschaften (Abstoßung oder Aufnahmefähigkeit gegenüber Tinte und Aufnahmefähigkeit gegenüber Anfeuchtwasser) der Photoleiterschicht vom N-Typ und des elektrolytischen Abscheidungsmaterials hergestellt werden.
Des weiteren wird eine lichtscreenende und/oder elektrisch isolierende erste elektrolytische Abscheidungsschicht auf den verbliebenen leitfähigen Bereichen elektrolytisch abgeschieden, um ein erste elektrolytische Abscheidungsschicht auszubilden, das Photoleitersubstrat vom N-Typ wird wieder exponiert, um exponierte Bereiche wieder elektrisch leitfähig zu machen, und es wird ein zweites elektrolytisches Abscheidungsmaterial nur auf den Bereichen elektrolytisch abgeschieden, auf denen die erste Abscheidungsschicht nicht ausgebildet wurde (wenn das erste elektrolytische Abscheidungsmaterial eine elektrisch isolierende Eigenschaft aufweist, entsprechen derartige Bereiche den exponierten Bereichen, während, wenn das erste elektrolytische Abscheidungsmaterial eine elektrisch isolierende Eigenschaft allein aufweist, dient die erste elektrolytische Abscheidungsschicht als Isolierungsmaske dient), wodurch eine zweite elektrolytische Abscheidungsschicht ausgebildet wird.
Somit wird eine Druckplatte hergestellt. Es kann eine Platte zum Trockendrucken durch Hervorrufen der Aufnahmefähigkeit einer von der ersten elektrolytischen Abscheidungsschicht und der zweiten elektrolytischen Abscheidungsschicht gegenüber einer Tinte, wobei die andere Tinten-abweisend gemacht wird, bereitgestellt werden. Andererseits kann eine Platte zum Naßdrucken durch Hervorrufen der Aufnahmefähigkeit von einer der ersten elektrolytischen Abscheidungsschicht und der zweiten elektrolytischen Abscheidungsschicht gegenüber einer Tinte, wobei die andere hydrophil gemacht wird, bereitgestellt werden.
Daher kann irgendeine von einer Druckplatte zum Naßdrucken und einer Druckplatte zum Trockendrucken, die einen Druck hoher Qualität mit hoher Plattenverschleißbeständigkeit bereitstellen kann im gleichen Verfahren hergestellt werden. Des weiteren ist es auch möglich, ein thermisches Verfahren unter Verwendung eines Laserstrahls zu verwenden, wobei das Verfahren mit digitalen Daten umgehen kann.
Das Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte gemäß der vorliegenden Erfindung wird nachstehend in Bezug auf Fig. 7 beschrieben. Zu Beginn wird die gesamte Oberfläche oder ein notwendiger Bereich des Photoleiters vom N-Typ 203 des Photoleitersubstrats vom N-Typ 201 mit Licht bei der Empfindlichkeitswellenlänge homogen bestrahlt. Diese Exposition resultiert in der Erzeugung einer Leitfähigkeit vom Speichertyp in der Photoleiterschicht vom N-Typ 203. Wenn das Licht der Empfindlichkeitswellenlänge sichtbares Licht ist, kann das Photoleitersubstrat vom N-Typ 201 allgemeinem Raumlicht oder ähnlichem exponiert werden.
Danach wird im Dunkeln ein Bildmuster unter Verwendung einer geeigneten Wärmequelle 207 auf der Oberfläche der leitenden Photoleiterschicht vom N-Typ 203 ausgebildet (Fig. 7B). Dies löscht die Leitfähigkeit der erhitzten Bereiche, was hervorruft, daß die isolierende Eigenschaft wieder lokal auftritt, wobei die anderen Bereiche (nicht-erhitzten Bereiche) als leitfähig gebliebene Bereiche 204 verbleiben.
Dann wird das Photoleitersubstrat vom N-Typ 201 der elektrolytischen Abscheidung in einem elektrolytischen Abscheidungsbad unterworfen, wobei das elektrolytische Abscheidungsmaterial 205 auf den verbliebenen leitfähigen Bereichen allein elektrolytisch abgeschieden werden kann. Dadurch wird teilweise eine elektrolytische Abscheidungsschicht 205 auf dem Photoleitersubstrat vom N-Typ 201 ausgebildet (Fig. 7C). Andererseits tritt keine elektrolytische Abscheidung auf den Bereichen auf, die lokal zu einem elektrisch isolierenden Zustand zurückgekehrt sind.
Die so hergestellte Druckplatte 211 der vorliegenden Erfindung kann erhitzt oder photogehärtet werden, um die Abriebbeständigkeit der elektrolytischen Abscheidungsschicht 205 zur Erhöhung der Haftung auf der Photoleiterschicht vom N-Typ 203 zu verstärken, wodurch die Plattenverschleißbeständigkeit verbessert wird.
Da das elektrolytische Abscheidungsmaterial im allgemeinen gegenüber einer Tinte aufnahmefähig ist, kann auf der elektrolytischen Abscheidungsschicht 205 zum Zeitpunkt des Druckens leicht Tinte aufgetragen werden. Andererseits ist die Oberfläche der Photoleiterschicht vom N-Typ hydrophil und weist daher eine gute Aufnahmefähigkeit gegenüber Anfeuchtwasser auf. Daher kann die Druckplatte 211 wirksam in der Naßlithographie verwendet werden.
Im Gegensatz dazu wird, wenn ein wasserabweisendes, ölabweisendes Silikonharz oder Fluorharz verwendet wird, die elektrolytische Abscheidungsschicht 205 Tintenabweisend, so daß keine Tinte auf der Schicht 205 abgeschieden wird, wobei die Tinte auf der getrockneten Oberfläche der Photoleiterschicht vom N-Typ abgeschieden wird. Daher kann in diesem Fall die resultierende Druckplatte bei der Trockenlithographie verwendet werden, bei der kein Anfeuchtwasser verwendet wird.
Ein Beispiel der elektrolytischen Abscheidung eines wasserabweisenden, ölabweisenden Harzes dient dazu, der Oberfläche der Struktur eine wasserabweisende, ölabweisende Eigenschaft zu verleihen.
Bei der gewöhnlichen elektrolytischen Abscheidung kann ein fein zerkleinertes Pigment oder ein Farbstoff unabhängig davon, ob das Pigment oder der Farbstoff anorganisch oder organisch ist, im ionischen elektrolytischen Abscheidungsbad dispergiert werden und zusammen mit dem ionischen Polymermaterial zum Zeitpunkt der elektrolytischen Abscheidung abgeschieden werden, wodurch eine gefärbte Abscheidung bereitgestellt wird. Dies gilt auch für andere Füllstoffe. Daher kann gemäß dem ersten bis dritten Gesichtspunkt der Erfindung die Mustererkennung der Druckplatte durch Färbung der elektrolytischen Abscheidungsschicht 205 verbessert werden, oder es können Füllstoffe verwendet werden, um die Eigenschaften der elektrolytischen Abscheidungsschicht 205 zu verbessern. Beispielsweise kann eine elektrolytische Abscheidungslösung mit Polytetrafluorethylen (PTFE: Teflon), das darin dispergiert ist, verwendet werden, um eine elektrolytische Abscheidungsschicht 205 mit erhöhter Tinten-abweisender Eigenschaft auszubilden, wodurch die Eignung der Druckplatte 201 zum Trockendrucken verbessert wird. Spezifische Beispiele derartiger elektrolytischer Abscheidungslösungen schließen eine kombinierte elektrolytische Abscheidungslösung in Form einer Dispersion von PTFE in einer Nickelionenlösung ein.
In der vorliegenden Erfindung kann das Heißmusterzeichnen zur thermischen Löschung der in der Halbleiterschicht vom N-Typ 203 erzeugten Leitfähigkeit vom Speichertyp durch verschiedene Verfahren, wie dem einfachsten Verfahren, bei dem das Heißzeichnen mit einem geeigneten heißen Stift durchgeführt wird, einem Verfahren, bei dem die Aufzeichnung mittels eines thermischen Aufzeichnungskopfs, der mit einem Heizelement ausgerüstet ist, durchgeführt wird, einem Verfahren, bei dem ein Gaslaserstrahl oder ein Halbleiterlaserstrahl gebündelt wird, um eine Scanning- bzw. Abtastaufzeichnung heiß durchzuführen, und ein Verfahren, bei dem ein Muster, das für heiße Strahlung durchlässig ist, zuvor hergestellt wird, in dichten Kontakt mit der Halbleiterschicht gebracht wird und der Batchexposition mit Infrarotlicht unterworfen wird, durchgeführt werden. Alle diese thermischen Aufzeichnungsmittel sind im Fachgebiet bekannt, und es kann daher auf deren genaue Beschreibung verzichtet werden.
Im vorstehenden Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte gemäß der vorliegenden Erfindung wird ein Photoleitersubstrat vom N-Typ 201 der homogenen Exposition und der Heißmusterzeichnung unterworfen, um eine Tinten-aufnahmefähige oder Tinten-abweisende elektrolytische Abscheidungsschicht auszubilden, und die Hydrophilie der Photoleiterschicht vom N-Typ 203 und die Tintenabscheidung darauf im trockenen Zustand werden verwendet, um eine Platte zum Naß- oder Trockendrucken herzustellen.
Die durch das vorstehende Druckplattenherstellungsverfahren hergestellte Druckplatte ist eine Druckplatte, welche den Unterschied der Eigenschaften zwischen der elektrolytischen Abscheidungsschicht und der Photoleiterschicht vom N-Typ ausnutzt. Gemäß dem Druckplattenherstellungsverfahren der vorliegenden Erfindung kann der Eigenschaftsunterschied des weiteren groß gemacht werden, um eine Druckplatte mit weiter verbesserter Eignung zum Drucken herzustellen. Beispielsweise ist es bei der Herstellung einer Druckplatte zur Trockenlithographie, um die Tinten-abweisende Eigenschaft der Tinten-abweisenden elektrolytischen Abscheidungsschicht weiter zu verstärken, schwierig, ein geeignetes Material auszuwählen. Die Ausbildung einer elektrolytischen Abscheidungsschicht mit höherer Aufnahmefähigkeit gegenüber einer Tinte als der Photoleiterschicht vom N-Typ ist jedoch vergleichsweise einfach. Dies liegt daran, daß die Anzahl von Arten von ölabweisenden Materialien klein ist, während es viele Kandidaten für lipophile Materialien (die meisten Harze sind lipophil) gibt. Daher weisen unter den lipophilen Materialien viele Materialien eine derartige Eigenschaft auf, daß eine elektrolytische Abscheidungseigenschaft verliehen werden kann, was den Auswahlbereich vergrößert. Nachstehend wird eine Ausführungsform des vorstehenden Druckplattenherstellungsverfahren mit Bezug auf Fig. 8 beschrieben.
Zu Beginn wird eine Photoleiterschicht vom N-Typ 203 eines Photoleitersubstrats vom N-Typ 201 in der gleichen Weise wie im vorstehenden Druckplattenherstellungsverfahren homogen exponiert (Fig. 8A). Im Dunkeln wird ein Bildmuster auf dem leitenden Bereich der Photoleiterschicht vom N-Typ 203 mittels einer geeigneten Wärmequelle 207 gezeichnet (Fig. 8B). Danach wird das Photoleitersubstrat vom N-Typ 201 der elektrolytischen Abscheidung in einem elektrolytischen Abscheidungsbehälter unterworfen, um ein lichtscreenendes und/oder elektrisch isolierendes erstes elektrolytisches Abscheidungsmaterial elektrolytisch abzuscheiden, wodurch eine erste elektrolytische Abscheidungsschicht 225 ausgebildet wird (Fig. 8C). Daher weist die so ausgebildete erste elektrolytische Abscheidungsschicht 225 eine lichtscreenende und/oder elektrisch isolierende Eigenschaft auf. Das Photoleitersubstrat vom N-Typ 201 wird erhitzt oder für eine lange Zeitspanne stehen gelassen, um die verbliebenen leitenden Bereiche 204 der Photoleiterschicht vom N-Typ 203 zu löschen.
Darauffolgend wird die gesamte Oberfläche des Photoleitersubstrats vom N-Typ 201 der homogenen Exposition unter Verwendung der ersten elektrolytischen Abscheidungschicht 225 als lichtscreenende Maske unterworfen (Fig. 8D). Wenn die erste elektrolytische Abscheidungsschicht 225 eine lichtscreenende Eigenschaft aufweist, werden allein die Bereiche der Photoleiterschicht vom N-Typ 203, auf denen keine erste elektrolytische Abscheidungsschicht 225 ausgebildet wurde, exponiert, um wieder die Leitfähigkeit zu erzeugen (Fig. 8D zeigt diese Ausführungsform). Wenn andererseits allein die erste elektrolytische Abscheidungsschicht 225 eine elektrisch isolierende Eigenschaft aufweist, wird die Leitfähigkeit wieder auf der gesamten Oberfläche der Photoleiterschicht vom N-Typ 203 erzeugt (nicht gezeigt). Danach wird das Photoleitersubstrat vom N-Typ 201 der elektrolytischen Abscheidung in einem elektrolytischen Abscheidungsbad unterworfen, um ein zweites elektrolytisches Abscheidungsmaterial, das Eigenschaften aufweist, die sich vom ersten elektrolytischen Abscheidungsmaterial unterscheiden, nur auf dem exponierten Bereich 204' (leitender Bereich) elektrolytisch abzuscheiden (wenn die erste elektrolytische Abscheidungsschicht 225 eine lichtscreenende Eigenschaft aufweist), um eine zweite elektrolytische Abscheidungsschicht 226 auszubilden, wodurch eine Druckplatte 221 hergestellt wird (Fig. 8E). Wenn allein die erste elektrolytische Abscheidungsschicht eine elektrisch isolierende Eigenschaft ohne eine lichtscreenende Eigenschaft aufweist, wird die Leitfähigkeit auch in der Photoleiterschicht vom N-Typ 203 unter der ersten elektrolytischen Abscheidungsschicht 225 erzeugt. In diesem Fall dient jedoch die erste elektrolytische Abscheidungsschicht 225 als Isolierungsmaske zum Zeitpunkt der elektrolytischen Abscheidung des zweiten elektrolytischen Abscheidungsmaterials, so daß die zweite elektrolytische Abscheidungsschicht 226 nur auf den Bereichen ausgebildet wird, wo keine erste elektrolytische Abscheidungsschicht ausgebildet wurde. Daher ist die resultierende Druckplatte 221 die gleiche wie im vorstehenden Fall (wenn die erste elektrolytische Abscheidungsschicht 225 eine lichtscreenende Eigenschaft aufweist).
Im Vergleich zur Druckplatte 221, welche den Unterschied der Eigenschaften zwischen der elektrolytischen Abscheidungsschicht 205 und der Photoleiterschicht vom N-Typ 203 ausnutzt, weist die Druckplatte 221, die durch Kombinieren des ersten elektrolytischen Abscheidungsmaterials mit dem zweiten elektrolytischen Abscheidungsmaterial in einer derartigen Weise hergestellt wird, daß die zweite elektrolytische Abscheidungsschicht 226 Tinten-abweisend gemacht wird, wenn die erste elektrolytische Abscheidungsschicht 225 Tinten-aufnahmefähig ist, während die zweite elektrolytische Abscheidungsschicht 226 Tinten-aufnahmefähig gemacht wird, wenn die erste elektrolytische Abscheidungsschicht 225 Tinten-abweisend ist, einen größeren Unterschied zwischen der Tinten-abweisenden Eigenschaft und der Tintenaufnahmefähigkeit auf, so daß die Eignung der Druckplatte 221 zum Trockendrucken besser ist. Genauer kann, da die Lipophilie des Photoleiters vom N-Typ 203 im allgemeinen kleiner ist als diejenige der elektrolytischen Abscheidungsschicht, die Zugabe eines Acrylharzes oder eines Epoxyharzes zur elektrolytischen Abscheidungsschicht beispielsweise die Lipophilie der elektrolytischen Abscheidungsschicht verbessern, was es ermöglicht, einfach eine Platte zum Trockendrucken mit großem Unterschied zwischen der Tintenaufnahmefähigkeit und der Tinten-abweisenden Eigenschaft und einer besseren Eignung zum Trockendrucken herzustellen. Die anderen konstituierenden Merkmale sind die gleichen wie diejenigen der ersten Erfindung.
Die vorliegende Erfindung wird nachstehend genauer mit Bezug auf die folgenden Beispiele des ersten Gesichtspunktes der Erfindung beschrieben.

Beispiel A1 (Referenzbeispiel)

Es wurde eine Paste aus einem Photoleiter vom N-Typ mit der folgenden Zusammensetzung auf ein 0,15 mm dickes Alumiumsubstrat mit einer spiegelnden Oberfläche aufgetragen, und die resultierende Beschichtung wurde getrocknet, um eine 10 um dicke Beschichtung auszubilden, wodurch ein Photoleitersubstrat vom N-Typ hergestellt wird.

(Zusammensetzung der Photoleiterpaste vom N-Typ)

Feinkörniges Zinkoxidpulver 50 g
Styrol-Butadien-Copolymer 10 g
Bengalrot geringe Menge
Toluol 50 ml
Das Photoleitersubstrat vom N-Typ wurde in einer Dunkelkammer über Nacht stehen gelassen, um den optische Speichereffekt zu löschen, und es wurden eine zuvor hergestellte Halbtonplatte mit 175 Linien/Zoll und ein photografischer Negativfilm, der einen Buchstaben enthielt, mit der Oberfläche des Photoleitersubstrats vom N- Typ in dichten Kontakt gebracht, und das resultierende Laminat wurde Wolframlicht exponiert. Danach wurde das Substrat in das folgende elektrolytische Abscheidungsbad eingetaucht, um eine Tinten-aufnahmefähige Komponente elektrolytisch abzuscheiden. Die elektrolytischen Abscheidungsbedingungen waren wie folgt.

(Zusammensetzung des elektrolytischen Abscheidungsbads)

Acrylharz 50 Teile
Ethylcellosolve 25 Teile
Isopropylalkohol 3 Teile
Essigsäure 1,5 Teile
Pigment Phthalocyaninblau 3 Teile
Wasser 800 Teile
Zu Beginn wurden das Acrylharz, das Ethylcellosolve und das Pigment zusammengemischt. Das resultierende Gemisch wurde in einer Kugelmühle gemahlen, bis die Pigmentteilchen fein wurden. Die übrigen Komponenten wurden dazugegeben, und das Gemisch wurde gerührt, um die vorstehende Zusammensetzung herzustellen.

(Elektrolytische Abscheidungsbedingungen)

Hauptelektrode: Kathode
Gegenelektrode: Titan
Abstand zwischen den Elektroden: 5 bis 10 cm
Badtemp.: 25ºC
Angelegte Spannung: 60 bis 80 V

Dicke der elektrolytischen

Abscheidungsbeschichtung: etwa 3 um
Trocknen nach der elektrolytischen
Abscheidung: Waschen mit Wasser, gefolgt vom Blasen mit Luft, um freies Wasser wegzublasen
Wärmebehandlung: 100 bis 130ºC für 10 bis 20 min
Die Photoleiterdruckplatte wurde beim folgenden Naßoffsetdrucken verwendet.
Beim Offsetdruck wurde eine einfache Offset-Einzelblattzuführungspresse (eine Druckmaschine die im vorliegenden Beispiel von AB Dick Co., Ltd. hergestellt wurde) als solche ohne irgendeine Modifikation verwendet. Gemäß eines üblichen Druckverfahrens wurden eine übliche Offset-Tinte und Anfeuchtwasser verwendet, die vorstehende Photoleiterdruckplatte wurde in eine Druckwalze eingesetzt und leicht mit einem Ätzmittel abgewischt, um die Aufnahmefähigkeit gegenüber Anfeuchtwasser zu regulieren, eine erforderliche Menge Anfeuchtwasser wurde angewandt, der Tintenauftrag wurde durchgeführt und das Papier wurde zugeführt, um das Drucken zu starten.
Die so erhaltenen Drucke waren gut und ihre Qualität war mit derjenigen von Drucken vergleichbar, die mit einer PS-Platte erhalten wurden. Die Plattenverschleißbeständigkeit war nicht kleiner als einige 10.000 Blätter. Somit wurde bestätigt, daß die erfindungsgemäße Druckplatte die gleiche Qualität wie die PS-Platte aufwies.

Beispiel A2 (Referenzbeispiel)

Im Beispiel A2 wurde eine 0,2 mm dicke Polyesterfolie mit einer Abscheidungsbeschichtung aus Aluminium, die auf einer Seite davon ausgebildet wurde, als Foliensubstrat an Stelle des Aluminiumsubstrats von Beispiel A1 verwendet. Das Verfahren zur Ausbildung einer Photoleiterschicht, die Zusammensetzung des elektrolytischen Abscheidungsbads, die Bedingungen zur Herstellung einer Druckplatte durch elektrolytische Abscheidung waren die gleichen wie diejenigen von Beispiel A1, außer daß eine Argonlaserzeichnungsvorrichtung vom Flachbettyp zur musterartigen Exposition verwendet wurde, um eine digitale Direktplattenherstellung einer Halbtonplatte mit 125 Linien zu erzielen. Die Wärmebehandlung, nach einer Reihe von elektrolytischen Abscheidungsschritten, dem Waschen mit Wasser und dem Trocknen, wurde nicht durchgeführt und, nach dem Waschen mit Wasser und dem Blasen mit Luft, wurde die Platte in einem Raum stehen gelassen oder in einer anderen Ausführungsform mit Luft bei einigen 10ºC getrocknet, um die Herstellung einer Druckplatte zu vervollständigen. Beim Druckarbeitsvorgang war die Qualität der Drucke ähnlich wie diejenige von Beispiel A1. Die Plattenverschleißbeständigkeit war jedoch geringer als im Fall der Aluminiumplatte im Beispiel A1 und betrug 10.000 bis 20.000 Blätter. Dies lag an einer Beschädigung des Foliensubstrats durch den Pressendruck während des Druckens und anderen Faktoren, und es wurde festgestellt, daß die Druckplatte ohne Probleme beim Drucken zur Herstellung einer vergleichsweise kleinen Anzahl von Drucken verwendet werden konnte.

Beispiel A3 (Referenzbeispiel)

Im Beispiel A1 und Beispiel A2 wurde ein im Handel erhältliches, durch ultraviolettes Licht härtendes kationisches elektrolytisches Abscheidungsmaterial als ionisches Tinten-aufnahmefähiges organisches Polymermaterial verwendet. Das verwendete, durch ultraviolettes Licht härtende elektrolytische Abscheidungsmaterial war kationisches Elecoat UC 500 (Handelsnahme), hergestellt von Shimidzu Co., Ltd., das hauptsächlich aus einem Polymer mit einer photohärtbaren Acryloylgruppe aufgebaut ist. Die elektrolytische Abscheidung wurde gemäß dem folgenden Verfahren durchgeführt.

(Elektrolytische Abscheidungsbedingungen)

Abstand zwischen den Elektroden: 5 bis 10 cm
Gegenelektrode: Kohlenstoff
Badtemp.: 25ºC
Spannung zur elektrolytischen Abscheidung: 60 bis 80 V
Elektrolytische Abscheidungszeit: etwa 20 s
Trocknungs- und Härtungsbedingungen Erneutes Trocknen: etwa 75ºC
Härten (Hg-Lampe verwendet): nicht weniger als 800 mJ/cm²
Im vorliegenden Beispiel stellte das Photohärten nach der elektrolytischen Abscheidung Druckplatten mit einer Qualität und Druckleistungsfähigkeit bereit, die gleich denjenigen im Beispiel A1 und Beispiel A2 waren. Es wurde bestätigt, daß diese Druckplatten beim Naßoffsetdrucken wirksam verwendet werden konnten.

Beispiel A4

Im Beispiel A4 wurde eine Trockenoffset(eine wasserfreie)-Druckplatte hergestellt und das Drucken wurde konkret gemäß dem folgenden Verfahren durchgeführt.
Die verwendeten Photoleitersubstrate waren die gleichen wie diejenigen im Beispiel A1 und Beispiel A2. Die musterartige Exposition wurde in der gleichen Weise wie im Beispiel A1 und Beispiel A2 durchgeführt. Es wurde eine Dispersion, die durch Mischen und ineinander Dispergieren eines ionische Fluorpolymers und eines atomisierten (mittlerer Teilchendurchmesser: 0,2 um) Teflons (Tetrafluorethan (PTFE)) hergestellt wurde, als elektrolytisches Abscheidungsmaterial verwendet.
Das elektrolytische Abscheidungsmaterial, welches ein ionisches Fluorpolymer enthält, steht als ein im Handel erhältliches Produkt unter der Bezeichnung "Elecoat Nicelon ((Handelsname), hergestellt von Shimidzu Co., Ltd.) zur Verfügung. Die Struktur dieses Materials ist hauptsächlich derart, daß eine Seitenkette, die eine Perfluorgruppe aufweist, als Seitengruppe mit einem Acrylskelett verbunden ist. Dieses Material ist als solches wasserabweisend und ölabweisend. Außerdem weist es das Merkmal auf, daß es in zufriedenstellender Weise PTFE mit besserer wasserabweisender Eigenschaft und ölabweisender Eigenschaft dispergieren und PTFE homogen in einer elektrolytischen Abscheidungsbeschichtung copräzipitieren kann, was in einer weiter verbesserten wasserabweisenden Eigenschaft und ölabweisenden Eigenschaft resultiert. Im vorliegenden Beispiel wurde eine elektrolytische Beschichtung, hergestellt durch Hinzufügen von PTFE in einer Menge von 25% (Gewichtsverhältnis auf Feststoffbasis) in Elecoat Nicelon, als wasserabweisendes, ölabweisendes elektrolytisches Abscheidungsmaterial verwendet.
Die elektrolytische Abscheidung wurde unter den gleichen Bedingungen wie denjenigen im Beispiel A3 durchgeführt, um eine etwa 4 um dicke elektrolytische Abscheidungsbeschichtung auszubilden. Die Wärmebehandlung nach einer Reihe von Schritten der elektrolytischen Abscheidung-Waschen unter Wasser-Trocknen erhöht die Konzentration von PTFE-Teilchen um die Oberfläche der elektrolytischen Abscheidungsbeschichtung, was den ölabweisenden Effekt verstärkt. Aus diesem Grund wurde die Wärmebehandlung bei 180 bis 200ºC für etwa 10 min im Fall des Aluminiumsubstrats und bei 120ºC für 10 min im Fall des Polyesterfoliensubstrats durchgeführt, um Druckplatten herzustellen.
Das Trockenoffsetdrucken wurde gemäß dem folgenden Verfahren durchgeführt.
Die in den vorherigen Beispielen verwendete Druckmaschine wurde auch in diesem Beispiel verwendet. Es wurde eine Druckplatte auf einem Plattenzylinder befestigt und ein Gummizylinder und ein Druckzylinder wurden justiert. Danach wurde eine übliche Spezialdrucktinte für eine Silikonplatte (eine Sllikonplatte, die üblicherweise beim Trockendrucken verwendet wird) in einen Farbbehälter gegeben und der Druckplatte durch eine Farbwalze unter Verwendung von Anfeuchtwasser zugeführt. Ein Hauptunterschied zwischen der erfindungsgemäß verwendeten Spezialtinte zum Trockendrucken und einer Tinte zum Naßdrucken liegt darin, daß die Spezialtinte zum Trockendrucken ein sehr hohes Haftvermögen aufweist (d. h. sich hart anfühlt) und im Gegensatz zur Tinte zum Naßdrucken keine Klebrigkeit aufweist, die groß genug ist, um eine Windungsbildung hervorzurufen.
Beim Farbauftrag der Spezialtinte zum Trockendrucken wurde die Tinte nicht auf der ölabweisenden elektrolytischen Abscheidung sondern nur auf der Oberfläche der exponierten Photoleiterschicht abgeschieden. Die abgeschiedene Tinte wurde auf den Gummizylinder gemäß dem Druckmechanismus übertragen und wiederum auf Papier, das durch den Gummizylinder durchgeführt wurde, übertragen, um das Drucken durchzuführen. Die Druckmaschine konnte mit guten Ergebnissen betrieben werden. Dieses System ist genauer ein Trockentiefätzplatten-Offsetdruckverfahren, wobei eine Tinte in eine Austiefung oder Auszahnung zwischen den vorstehenden ölabweisenden Materialschichten eingebracht wird. Aus diesem Grund war die verwendete Menge der Tinte groß, und es konnten Drucke hoher Dichte wie im Fall des Trockendruckens unter Verwendung der üblichen Silikonplatte erhalten werden. Die Plattenverschleißbeständigkeit betrug nicht weniger als 100.000 Blätter bei der Aluminiumplatte und etwa 20.000 Blätter bei der Polyesterplatte.

Beispiel A5

Das folgende Experiment wurde unter Verwendung der im Beispiel A4 hergestellten Trockendruckplatte durchgeführt.
Genauer wurde die Oberfläche der Druckplatte ultraviolettem Licht (intensives Wolframlicht kann auch verwendet werden) ausreichend exponiert, und es wurde eine elektrolytische Abscheidung unter Verwendung der elektrolytischen Beschichtung von Beispiel A5 durchgeführt, um eine Tinten-aufnahmefähige Schicht zwischen den ölabweisenden Schichten auszubilden. In diesem Zusammenhang sollte erwähnt werden, daß die bereits ausgebildete ölabweisende Schicht eine elektrisch isolierende Eigenschaft aufweist und daher als elektrolytische Abscheidungsmaske dient, um zu verhindern, daß darauf eine elektrolytische Abscheidung abgeschieden wird. Die Tinten-aufnahmefähige Schicht wurde zwischen den ölabweisenden Schichten mit einer Dicke elektrolytisch abgeschieden, die um 2 bis 3 um größer war als die Dicke der ölabweisenden Schicht. So wurde die sogenannte "plan-konvexe Platte" erhalten, wobei die Tinten-aufnahmefähige Schicht in einem hervorstehenden Zustand vorlag. Es wurde bestätigt, daß das Drucken unter Verwendung der Trockendruckplatte vom plan-konvexen Plattentyp Vorteile einschließlich denjenigen aufwies, daß die Bereitstellung der Tinten-aufnahmefähigen Schicht die Abscheidung der Tinte erleichterte, was einen einfachen Farbauftrag ermöglicht, die Menge der verwendeten Tinte kleiner ist als diejenige im Fall der Tiefätzplatte und die Übertragung auf die Gummiwalze und das Papier leichter ist.

Beispiel A6 (Referenzbeispiel)

Es wurde eine 0,2 mm dicke Polyesterfolie mit einer auf einer Seite davon ausgebildeten Abscheidungsbeschichtung aus Aluminium als Foliensubstrat verwendet. Es wurde eine Paste aus einem Photoleiter vom N-Typ mit der folgenden Zusammensetzung darauf aufgetragen, und die resultierende Beschichtung wurde getrocknet, um eine 10 um dicke Photoleiterschicht auszubilden.
Zinkoxid (SAZEX 2000, hergestellt von Sakai Chemical Co., Ltd.) 4 g
Titanoxid (Rutil-Typ) 16 g
Polyvinylbutyral (BM-S, hergestellt von Sekisui Chemical Co., Ltd.) 5 g
Toluol 50 ml
Das Photoleitersubstrat vom N-Typ wurde in einer Dunkelkammer über Nacht stehen gelassen, um den optischen Speichereffekt zu löschen, und eine zuvor hergestellte Halbtonplatte mit 175 Linien/Zoll und ein photographischer Negativfilm, der einen Buchstaben bzw. ein Schreiben enthielt, wurden in dichten Kontakt mit der Oberfläche des Photoleitersubstrats vom N-Typ gebracht, und das resultierende Laminat wurde dem Licht aus einer Hochdruckquecksilberlampe exponiert. Danach wurde dann das Substrat in das elektrolytische Abscheidungsbad von Beispiel A3 eingetaucht, um eine Tinten-aufnahmefähige Komponente elektrolytisch abzuscheiden. Die elektrolytische Abscheidung wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel A3 durchgeführt.
Im vorliegenden Beispiel stellte die Photohärtung nach der elektrolytischen Abscheidung eine Druckplatte mit einer Qualität und Plattenverschleißbeständigkeit bereit, die denjenigen von Beispiel A3 äquivalent waren. Es wurde bestätigt, daß die Druckplatte beim Naßoffsetdrucken wirksam verwendet werden konnte.
Wie vorstehend im einzelnen beschrieben, ergibt ein Vergleich der Druckplatten unter Verwendung eines Photoleiters mit einer optischen Speichereigenschaft gemäß der vorliegenden Erfindung mit einem Verfahren zu dessen Erzeugung mit den üblichen PS-Platten, Druckplatten durch Elektrophotografie und Silbersalzdruckplatten und ähnlichen, daß im allgemeinen die niedrigen Kosten und einfache Verarbeitung vergleichbar mit denjenigen der Druckplatten sind, die durch Elektrophotographie hergestellt werden, die Qualität (die Qualität des gedruckten Bildes, Plattenverschleißbeständigkeit und ähnliches) mit derjenigen der PS-Platten vergleichbar ist und die Empfindlichkeit mit derjenigen vergleichbar ist, die bei der Elektrophotographie und dem Silbersalzverfahren erreicht wird (wobei das optische Zeichnungsverfahren oder ähnliches verwendbar ist), d. h., daß die Druckplatte der vorliegenden Erfindung eine vielseitige Druckplatte ist.
Hinsichtlich des Druckverfahrens weisen der Prozeß zur Herstellung eines Druckverfahrens und die Druckplatte gemäß der vorliegenden Erfindung im Gegensatz zu den üblichen Plattenherstellungsverfahren und Druckplatten eine Vielseitigkeit auf, was die Verwendung in verschiedenen Druckverfahren ermöglicht, so daß das Drucken beim üblichen Naßdrucken unter Verwendung von Anfeuchtwasser durch das übliche Verfahren durchgeführt werden kann, eine Druckplatte zum Trockendrucken ohne Verwendung von Anfeuchtwasser einfach in der gleichen Weise durch Verwendung eines ölabweisenden elektrolytischen Abscheidungsmaterials hergestellt werden kann und das Offsetdrucken und Direktdrucken (insbesondere im Trockenverfahren) möglich sind.
Daher ermöglicht die Verwendung der Druckplatte und das Plattenherstellungsverfahren gemäß der vorliegenden Erfindung das Drucken, welches mit einem größeren Bereich von Drucken zurecht kommt und verschiedene Auswirkungen, einschließlich derjenigen, daß die Menge der verbrauchten Tinte vermindert werden kann, Drucken mit hoher Dichte möglich ist und hohe Zusatzwerte wie die Bereitstellung kosteneffizienter und Drucke hoher Qualität in verschiedenen Gebieten bereitgestellt werden können.
Der zweite Gesichtspunkt der Erfindung wird nachstehend genauer mit Bezug auf die folgenden Beispiele beschrieben.

Beispiel B1

Es wurde eine Paste aus einem Photoleiter vom N-Typ mit der folgenden Zusammensetzung auf ein 0,15 mm dickes Aluminiumsubstrat mit einer spiegelnden Oberfläche aufgetragen, und die resultierende Beschichtung wurde getrocknet, um eine 10 um dicke Beschichtung auszubilden. Des weiteren wurde eine verdünnte Lösung eines Silikontrennmittels schwach bei einer derartigen Bedeckung aufgetragen, daß es nicht die Leitfähigkeit inhibiert, um ein Photoleitersubstrat vom N-Typ herzustellen.

(Zusammensetzung der Photoleiterpaste vom N-Typ)

Zinkoxid 50 g
Styrol-Butadien-Copolymer 10 g
Bengalrot geringe Menge
Toluol 50 ml
Danach wurden in einer Dunkelkammer eine zuvor hergestellte Halbtonplatte mit 175 Linien/Zoll und ein photografischer Negativfilm, der einen Buchstaben enthielt, in dichten Kontakt mit der Oberfläche des Photoleitersubstrats vom N-Typ gebracht, und das resultierende Laminat wurde Wolframlicht exponiert. Danach wurde das Substrat in das folgende elektrolytische Abscheidungsbad eingetaucht, um eine Tinten-aufnahmefähige Komponente elektrolytisch abzuscheiden. Die elektrolytischen Abscheidungsbedingungen waren wie folgt.

(Zusammensetzung des elektrolytischen Abscheidungsbads)

Acrylharz 50 Teile
Ethylcellosolve 25 Teile
Isopropylalkohol 3 Teile
Essigsäure 1,5 Teile
Pigment Phthalozyaninblau 3 Teile
Wasser 800 Teile
Zu Beginn wurden das Acrylharz, das Ethylcellosolve und das Pigment zusammengemischt. Das resultierende Gemisch wurde in einer Kugelmühle gemahlen, bis die Pigmentteilchen fein waren (nicht mehr als 0,2 um). Die verbliebenen Komponenten wurden dazugegeben, und das Gemisch wurde gerührt, um die vorstehende Zusammensetzung herzustellen.

(elektrolytische Abscheidungsbedingungen)

Hauptelektrode: Kathode
Gegenelektrode: Platinplatte
Angelegte Spannung: schrittweise von einer Anfangsspannung von 20 V auf 80 V entsprechend einer Erhöhung der elektrolytischen Abscheidungsbeschichtung erhöht.
Dicke der elektrolytischen Abscheidungsbeschichtung: etwa 3 um
Trocknen nach der elektrolytischen Abscheidung: Waschen mit Wasser, gefolgt von Blasen mit Luft, um freies Wasser wegzublasen.
Dann wurde ein 0,2 mm dickes Aluminiumsubstrat, dessen Oberfläche durch anodische Behandlung hydrophil gemacht wurde, als Substrat für eine Druckplatte hergestellt. Das Aluminiumsubstrat wurde derart auf das Photoleitersubstrat vom N-Typ gelegt, daß die anodisch behandelte Oberfläche des Aluminiumsubstrats der elektrolytisch abgeschiedenen Oberfläche des Photoleitersubstrats vom N-Typ gegenüber lag. Das Laminat wurde gepreßt und beide Substrate wurden voneinander getrennt, um die elektrolytisch abgeschiedene, Tinten-aufnahmefähige Komponente des Photoleitersubstrats vom N-Typ auf das Aluminiumsubstrat zu übertragen. Alle vorstehenden Schritte der Exposition, elektrolytischen Abscheidung und der Übertragung wurden in einer Dunkelkammer durchgeführt.
Danach wurde das Aluminiumsubstrat bei 150ºC für 10 bis 20 min wärmebehandelt, um die Haftung des übertragenen Tinten-aufnahmefähigen Teils zu verbessern und der Platte Verschleißbeständigkeit zu verleihen, wodurch die Druckplatte der vorliegenden Erfindung hergestellt wurde. Das Drucken wurde unter Verwendung der Druckplatte mit einer Einzelblattzuführungs-Offsetpresse durchgeführt. Die Vorbehandlung der Druckplatte zum Zeitpunkt des Druckens wurde in der gleichen Weise, wie sie bei der üblichen PS-Platte verwendet wird, durchgeführt. Als Ergebnis betrug die Plattenverschleißbeständigkeit der erfindungsgemäßen Druckplatte etwa 100.000 Blätter und die Qualität der Drucke war gut.
Das vorstehende Photoleitersubstrat vom N-Typ konnte wiederholt für die Arbeitsvorgänge der elektrolytischen Abscheidung und der Übertragung verwendet werden, um 10 oder mehr identische Druckplatten herzustellen.

Beispiel B2

Es wurde ein Photoleitersubstrat vom N-Typ in der gleichen Weise wie in Beispiel B1 hergestellt, außer daß kein Silikontrennmittel aufgetragen wurde. Das Substrat wurde dann in der gleichen Weise wie in Beispiel B1 exponiert.
Danach wurde das Photoleitersubstrat vom N-Typ in das folgende elektrolytische Abscheidungsbad eingetaucht, um eine primäre elektrolytische Abscheidung von Cu auf dem exponierten Bereich durchzuführen. Die primäre elektrolytische Abscheidung wurde unter den folgenden Bedingungen durchgeführt.

(Zusammensetzung des Bades für die primäre elektrolytische Abscheidung von Cu)

Kupferpyrophosphat 94 g/Liter
Kaliumpyrophosphat 340 g/Liter
28% wässeriges Amoniak 3 ml/Liter

(elektrolytische Abscheidungsbedingungen)

pH des Bades zur primären elektrolytischen Abscheidung von Cu: 8,8
Temp. des Bades zur primären elektrolytischen Abscheidung von Cu: 55ºC
Elektrolytische Abscheidungsgeschwindigkeit (5 A/dm²): 1,0 um/min
Die sekundäre elektrolytische Abscheidung der Tinten-aufnahmefähigen Komponente auf dem Cu wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel B1 durchgeführt, und die Tinten-aufnahmefähige Komponente wurde auf das Aluminiumsubstrat in der gleichen Weise wie in Beispiel B1 übertragen, um die Druckplatte der vorliegenden Erfindung herzustellen. Der Tinten-aufnahmefähige Teil der Druckplatte war kupferfarben, da das Cu zusammen mit der Tinten-aufnahmefähigen Komponente übertragen wurde. Die Druckplatte wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel B1 wärmebehandelt, und die Oberfläche der Druckplatte wurde mit verdünnter Eisenchlorid (FeCl&sub3;)-Lösung gewaschen, um auf der Oberfläche des Tinten-aufnahmefähigen Teils vorhandenes Cu zu entfernen. Das Drucken wurde unter Verwendung dieser Druckplatte in der gleichen Weise wie in Beispiel B1 durchgeführt. Als Ergebnis betrug die Plattenverschleißbeständigkeit etwa 100.000 und die Qualität der Drucke war gut. Bei der Druckplatte, bei der verbliebenes Cu nicht entfernt wurde, betrug die Plattenverschleißbeständigkeit etwa einige 1.000 bis 10.000 Blätter und das Cu wurde teilweise abgeschält bzw. war teilweise abgeblättert, was ein ungleichmäßiges Drucken hervorrief.

Beispiel B3

Es wurde ein Photoleitersubstrat vom N-Typ in der gleichen Weise wie in Beispiel B1 hergestellt, außer daß ein flexibles Substrat aus einer 0,2 mm dicken Polyesterfolie mit einer damit verbundenen Aluminiumfolie an Stelle des Aluminiumsubstrats von Beispiel B1 verwendet wurde.
Dann wurde das Photoleitersubstrat vom N-Typ um eine Argonlaserzeichnungsvorrichtung vom Trommeltyp (eine Expositionsvorrichtung) gewunden und unter Verwendung einer Halbtonplatte mit 200 Linien/Zoll exponiert, und die elektrolytische Abscheidung und die Übertragung wurden in der gleichen Weise wie in Beispiel B1 durchgeführt, um eine Druckplatte herzustellen. Die Druckplatte wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel B1 wärmebehandelt.
Das Drucken wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel B1 durchgeführt, außer daß die vorstehende wärmebehandelte Druckplatte verwendet wurde. Als Ergebnis betrug die Plattenverschleißbeständigkeit der Druckplatte etwa 100.000 und die Qualität der Drucke war gut.
Das Photoleitersubstrat vom N-Typ wurde nach der Übertragung bei 80 bis 110ºC für 10 bis 20 min wärmebehandelt, um die optische Speicherung (elektrische Leitfähigkeit im exponierten Bereich) zu löschen, bei Raumtemperatur gekühlt und wiederum der optischen Zeichnungsexposition unter Verwendung anderer Bilddaten, der elektrolytischen Abscheidung und der Übertragung unterworfen, wodurch eine Druckplatte hergestellt wurde. Das vorstehende Photoleitersubstrat vom N-Typ konnte wiederholt für die Arbeitsvorgänge der elektrolytischen Abscheidung und der Übertragung verwendet werden, um 10 oder mehr identische Druckplatten herzustellen.

Beispiel B4

Es wurde ein Photoleitersubstrat in der gleichen Weise wie in Beispiel B3 hergestellt, und es wurde eine optische Zeichnungsexposition durchgeführt. Dann wurde der Photoleiter vom N-Typ in ein elektrolytisches Abscheidungsbad eingetaucht, um die Tinten-aufnahmefähige Komponente elektrolytisch abzuscheiden.
Das verwendete elektrolytische Abscheidungsbad war wie folgt. Zu Beginn wurden 115 Teile N,N-Dimethylaminoethylacrylat, 150 Teile 2-Hydroxyethylmethacrylat, 400 Teile n-Butylacrylat, 150 Teile Methylmethacrylat, 185 Teile n-Butylmethacrylat und 50 Teile Azobisisobutyronitril zusammengemischt, und es wurde eine Reaktion ablaufen gelassen, um als Stammlösung (Feststoffgehalt: etwa 60%) eine Lösung eines haftenden elektrolytischen Abscheidungsmaterials, gelöst in Ethylcellosolve, herzustellen. Dann wurden 12.000 Teile entionisiertes Wasser zu einer gemischten Lösung aus 1.000 Teilen Stammlösung, 120 Teilen blockiertes Isozyanat und 19 Teilen Dibutylzinndilaurat zugegeben, um ein kationisches elektrolytisches Haftabscheidungsbad mit einem Feststoffgehalt von 5% herzustellen. Die elektrolytische Abscheidung wurde unter den folgenden Bedingungen durchgeführt.

(Elektrolytische Abscheidungsbedingungen)

Hauptelektrode: Kathode
Gegenelektrode: Platinplatte
Angelegte Spannung: 80 V (für 60 s)
Trocknen nach der elektrolytischen Abscheidung: Waschen mit Wasser, gefolgt von Blasen mit Luft, um freies Wasser wegzublasen.
Die Oberfläche der auf dem Photoleitersubstrat vom N-Typ elektrolytisch abgeschiedenen Tinten-aufnahmefähigen Komponente war stark haftend, und wenn das Photoleitersubstrat vom N-Typ gegen das anodisch behandelte Aluminiumsubstrat als das Substrat für eine Druckplatte gepreßt wurde, wurde die Tinten-aufnahmefähige Komponente leicht abgezogen und auf die Seite des anodisch behandelten Aluminiumsubstrats übertragen. Die so hergestellte Druckplatte wurde bei 130ºC für 10 min wärmebehandelt, und das Drucken wurde unter Verwendung dieser Druckplatte in der gleichen Weise wie in Beispiel B1 durchgeführt. Als Ergebnis betrug die Plattenverschleißbeständigkeit etwa 100.000 und die Qualität der Drucke war gut.

Beispiel B5

Es wurde eine Paste eines Photoleiters vom N-Typ mit der folgenden Zusammensetzung auf ein flexibles Substrat aus einer 0,2 mm dicken Polyesterfolie mit einer darauf haftenden Aluminiumfolie aufgetragen, und die resultierende Beschichtung wurde getrocknet, um eine 10 um dicke Beschichtung auszubilden. Des weiteren wurde eine verdünnte Lösung eines Silikontrennmittels schwach in einer derartigen Menge aufgetragen, so daß die elektrische Leitfähigkeit nicht geopfert wurde, wodurch ein Photoleitersubstrat vom N-Typ hergestellt wurde.

(Zusammensetzung der Photoleiterpaste vom N-Typ)

Titandioxid (Rutil-Typ) 20 g
Polyvinylbutyral (BM-S. hergestellt von Sekisui Chemical Co., Ltd.) 5 g
Toluol 40 ml
Danach wurde in einer Dunkelkammer eine zuvor hergestellte Halbtonplatte mit 175 Linien/Zoll und ein photografischer Negativfilm, der einen Buchstaben enthielt, in dichten Kontakt mit der Oberfläche des Photoleitersubstrats vom N-Typ gebracht, und das resultierende Laminat wurde einer Hochdruckquecksilberlampe exponiert. Danach wurde das Substrat in das elektrolytische Abscheidungsbad von Beispiel B4 eingetaucht, um eine Tinten-aufnahmefähige Komponente elektrolytisch abzuscheiden. Die elektrolytische Abscheidung und die Herstellung der Druckplatte wurden in der gleichen Weise wie in Beispiel B4 durchgeführt. Das Drucken wurde unter Verwendung dieser Druckplatte in der gleichen Weise wie in Beispiel B1 durchgeführt. Als Ergebnis betrug die Plattenverschleißbeständigkeit etwa 100.000 und die Qualität der Drucke war gut.
Davon getrennt wurde eine Druckplatte in der gleichen Weise, wie gerade vorstehend beschrieben, hergestellt, außer daß ein Papiersubstrat als Substrat für eine Druckplatte an Stelle des anodisch behandelten Aluminiumsubstrats verwendet und auf die Wärmebehandlung bei 130ºC für 10 min verzichtet wurde. Das verwendete Papiersubstrat war derart, daß ein Mittel zum Verleihen einer hydrophilen Eigenschaft, das ein Titanweißpigment als Hauptkomponente und ein hydrophiles Polymermaterial (wie PVA) als Bindemittel umfaßt, auf die Oberfläche eines wasserbeständigen Papiers (Dicke 0,3 mm) aufgetragen wurde, um die Aufnahmefähigkeit der gesamten Oberfläche des Papiers gegenüber Anfeuchtwasser hervorzurufen. Das Drucken wurde unter Verwendung dieser Druckplatte in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt und die Qualität der Drucke war gut. Aufgrund des Verzichts der Wärmebehandlung, der Verwendung des Papiersubstrats und anderer Faktoren betrug die Plattenverschleißbeständigkeit etwa einige 1.000 bis 10.000 Blätter.
Des weiteren konnte das Photoleitersubstrat vom N-Typ als solches wiederholt für die Arbeitsvorgänge der elektrolytischen Abscheidung und der Übertragung verwendet werden, um 10 oder mehr identische Druckplatten herzustellen.
Wie aus der vorstehenden genauen Beschreibung ersichtlich ist, ermöglicht es im Vergleich zum üblichen Verfahren zur Herstellung einer PS-Platte und zum Verfahren zur Herstellung einer Platte durch Elektrophotografie über eine Tonerentwicklung die vorliegende Erfindung, eine Druckplatte durch ein sehr einfaches Verfahren durch Ausnutzung eines Photoleitersubstrats vom N-Typ und der Dauerhaftigkeit von dessen Expositionseffekt oder dessen Speichereigenschaft herzustellen. Des weiteren ermöglicht es die Übertragung einer Tinten-aufnahmefähigen Komponente auf die Oberfläche eines hydrophilen Substrats als Substrat für eine Druckplatte, daß die Tinten-aufnahmefähige Komponente als Tinten-aufnahmefähige Komponente der Druckplatte zu verwenden ist. Da der Tinten-aufnahmefähige Teil homogen mit hoher Auflösung und hoher Feinheit ausgebildet werden kann, weist die resultierende Druckplatte eine hervorragende Plattenverschleißbeständigkeit auf und kann Drucke hoher Qualität bereitstellen. Des weiteren kann aufgrund der optischen Speichereigenschaft der Photoleiterschicht vom N-Typ im Photoleitersubstrat vom N-Typ ein identisches Photoleitersubstrat vom N-Typ wiederholt zur Herstellung einer Mehrzahl identischer Druckplatten verwendet werden. Außerdem kann, da die optische Speichereigenschaft der Photoleiterschicht vom N-Typ leicht gelöscht werden kann, das identische Photoleitersubstrat vom N-Typ wiederholt zur Exposition und elektrolytischen Abscheidung und zur Übertragung verwendet werden, was es ermöglicht, daß eine Mehrzahl unterschiedlicher Typen von Druckplatten aus einem identischen Photoleitersubstrat hergestellt werden kann. Weiter können digitale Bilder und der Bildverarbeitung unterworfene Daten in numerischer Form in einer optischen Zeichnungsvorrichtung verwendet werden, was es ermöglicht, daß ein optisches Zeichnen ohne Verwendung irgendeiner photographischen Originalplatte möglich wird. Dies vereinfacht das Verfahren weiter, was in einer deutlichen Verminderung der Produktionskosten resultiert.

Beispiel C1

Es wurde eine Abscheidungsbeschichtung aus Aluminium auf einer Seite einer 0,2 mm dicken Polyesterfolie ausgebildet, und die Folie mit der Aluminiumabscheidung wurde als Substrat verwendet. Es wurde eine Paste aus einem Photoleiter vom N- Typ mit der folgenden Zusammensetzung darauf aufgetragen, und die resultierende Beschichtung wurde getrocknet, um eine 20 um dicke, getrocknete Beschichtung auszubilden, wodurch ein Photoleitersubstrat vom N-Typ hergestellt wurde. Da die Herstellung des Photoleitersubstrats vom N-Typ in einem hellen Raum durchgeführt wurde, wurde die gesamte Oberfläche der Photoleiterschicht vom N-Typ elektrisch leitend.

(Zusammensetzung der Photoleiterpaste vom N-Typ)

Zinkoxid 50 g
Stryrol-Butadien-Copolymer 10 g
Bengalrot geringe Menge
Toluol 50 ml
In einer Dunkelkammer wurden eine zuvor hergestellte Halbtonplatte mit 175 Linien/Zoll und eine als Positiv dienende Originalplatte, die einen Buchstaben enthielt (hergestellt durch Ätzen einer Aluminiumabscheidungsbeschichtung) in dichten Kontakt mit der Oberfläche des Photoleitersubstrats vom N-Typ gebracht, und das resultierende Laminat wurde dem Licht aus einer 1 kW-Infrarotlampe exponiert, und die Photoleiterschicht vom N-Typ wurde in ihren exponierten Bereichen thermisch wieder in einen elektrisch isolierenden Zustand überführt. Danach wurde das Photoleitersubstrat vom N-Typ in das folgende elektrolytische Abscheidungsbad eingetaucht, um eine Tinten-aufnahmefähige Komponente auf dem verbliebenen leitenden Teil elektrolytisch abzuscheiden, wodurch eine Druckplatte zur Naßlithographie hergestellt wurde. Die elektrolytische Abscheidung wurde unter den folgenden Bedingungen durchgeführt.

(Zusammensetzung des elektrolytischen Abscheidungsbads)

Acrylharz 50 Teile
Ethylcellosolve 25 Teile
Isopropylalkohol 3 Teile
Essigsäure 1,5 Teile
Wasser 800 Teile
Phthalocyaninblau (Pigment) 3 Teile
Zu Beginn wurden das Acrylharz, das Ethylcellosolve und das Pigment zusammengemischt. Das resultierende Gemisch wurde in einer Kugelmühle gemahlen, bis die Pigmenteilchen fein waren (nicht mehr als 0,2 um). Die verbliebenen Komponenten wurden dazugegeben, und das Gemisch wurde gerührt, um die vorstehende Zusammensetzung herzustellen.

(Elektrolytische Abscheidungsbedingungen)

Hauptelektrode (optisches Halbleitersubstrat vom N-Typ): Kathode
Gegenelektrode: Titanplatte
Abstand zwischen den Elektroden: 5 bis 10 cm
Angelegte Spannung: 60 V
Badtemp.: 25ºC
Dicke der elektrolytischen Abscheidungsbeschichtung: etwa 3 um
Trocknen nach der elektrolytischen Abscheidung: Waschen mit Wasser, gefolgt von Blasen mit Luft, um freies Wasser wegzublasen
Die resultierende Druckplatte wurde verwendet, um das Drucken mit Hilfe einer einfachen Offset-Einzelblattzuführungspresse (hergestellt von AB Dick Co., Ltd.) durchzuführen. Die Tinte, das Anfeuchtwasser und das Ätzmittel, welche verwendet wurden, waren im Handel erhältliche Produkte. Die Druckplatte wurde auf einem Plattenzylinder befestigt und deren Oberfläche wurde schwach mit dem Ätzmittel behandelt. Die Menge des notwendigen Anfeuchtwassers wurde reguliert, und es wurden der Farbauftrag und die Zuführung des Papiers zum Drucken ausgeführt. Als Ergebnis wiesen die unter Verwendung der erfindungsgemäßen Druckplatte erhaltenen Drucke eine gute Qualität auf, die mit der Qualität der unter Verwendung einer PS- Platte erhaltenen Drucke vergleichbar war.

Beispiel C2

Es wurde ein Photoleitersubstrat vom N-Typ an einem hellen Ort in der gleichen Weise wie im Beispiel C1 hergestellt.
Danach wurden zwei Arten der digitalen thermischen Aufzeichnung auf dem Halbleitersubstrat vom N-Typ durchgeführt. Eine von diesen war eine thermische Aufzeichnung unter Verwendung eines Thermokopfes für die übliche thermische Aufzeichnung, und die andere war eine thermische Abtastaufzeichnung unter Verwendung eines Halbleiterlasers (870 nm) mit einer 500 mW starken Ausgangsleistung. Im Fall des Halbleiterlaserscannings wurde, um die thermische Umwandlungseffizienz zu erhöhen, eine 1 um dicke schwarze Beschichtungsschicht (enthaltend Kohlenstoff) auf einer Seite einer 175 um dicken, transparenten Polyesterfolie angeordnet, die transparente Polyesterfolie und das Photoleitersubstrat vom N-Typ wurden miteinander in dichten Kontakt gebracht, so daß die schwarze Beschichtungsschicht der Photoleiterschicht vom N-Typ gegenüber lag. In diesem Zusammenhang sollte erwähnt werden, daß, obwohl das direkte Scanning mit einem Halbleiterlaser auf der Photoleiterschicht vom N-Typ eine Reflektion hervorruft, das Scanning mit dem Halbleiterlaser durch die schwarze Beschichtungsschicht die thermische Umwandlungseffizienz verbessern kann. Die Aufzeichnung wurde in negativer Weise mit einer Aufzeichnungsdichte von 400 dpi durchgeführt. Die Ausgabebilder waren Buchstaben, einschließlich Kanji (chinesische Zeichen), und Symbole von 8 Punkten, 10 Punkten und 12 Punkten.
Durch die digitale thermische Aufzeichnung wurde die Begrenzungsfläche der Buchstaben und Symbole thermisch in digitaler Weise abgetastet, um die Löschung der Leitfähigkeit und das Zurückkehren der isolierenden Eigenschaft hervorzurufen, und die Druckbereiche allein verblieben leitend.
Danach wurde eine elektrolytische Abscheidung unter den gleichen Bedingungen wie im Beispiel C1 durchgeführt, um eine Druckplatte zur Naßlithographie herzustellen.
Das Offsetdrucken wurde unter Verwendung der resultierenden Druckplatte in der gleichen Weise wie im Beispiel C1 durchgeführt. Als Ergebnis wurde bestätigt, daß die Qualität der unter Verwendung der erfindungsgemäßen Druckplatte erhaltenen Drucke gut war und 400 dpi entsprach.

Beispiel C3

Es wurde ein Photoleitersubstrat vom N-Typ an einem hellen Ort in der gleichen Weise wie in Beispiel C1 hergestellt.
Dann wurden zwei Arten der digitalen thermischen Aufzeichnung auf dem Photoleitersubstrat vom N-Typ in der gleichen Weise wie in Beispiel C2 durchgeführt, außer daß die Aufzeichnungsweise positiv war.
Danach wurde das Photoleitersubstrat vom N-Typ in ein elektrolytisches Abscheidungsbad eingetaucht, um eine Tinten-abweisende Komponente auf dem verbliebenen leitenden Teil elektrolytisch abzuscheiden, wodurch eine elektrolytische Abscheidungsschicht ausgebildet wurde. Die Zusammensetzung des verwendeten elektrolytischen Abscheidungsbads war die gleiche wie im Beispiel C1, außer daß die folgende ölabweisende Harzkomponente an Stelle der elektrolytischen Abscheidungsharzkomponente von Beispiel C1 verwendet wurde. Des weiteren waren die elektrolytischen Abscheidungsbedingungen die gleichen wie diejenigen, die im Beispiel C1 verwendet wurden. Es wurde eine Dispersion, die durch Mischen und ineinander Dispergieren eines kationischen Fluorpolymers und eines atomisierten (mittlerer Teilchendurchmesser 0,2 um) Teflons (Polytetrafluorethan (PTFE)) hergestellt wurde, als ölabweisendes Harz (PTFE-Gehalt der Dispersion: 25%, ausgedrückt als Gewichtsverhältnis auf Feststoffbasis) verwendet. Das ionische Fluorpolymer weist eine derartige Struktur auf, daß eine Perfluorgruppe mit einem Acrylskelett verbunden ist. Dieses Material ist als solches wasserabweisend und ölabweisend. Außerdem weist es das Merkmal auf, daß es PTFE mit einer besseren wasserabweisenden und ölabweisenden Eigenschaft dispergieren kann und PTFE homogen in einer elektrolytischen Abscheidungsbeschichtung copräzipitiert.
Nach der Ausbildung der elektrolytischen Abscheidungsschicht wurden das Waschen mit Wasser und das Trocknen durchgeführt. Die Wärmebehandlung nach diesen Schritten kann die Konzentration der PTFE-Teilchen um die Oberfläche der elektrolytischen Abscheidungsbeschichtung erhöhen, was den ölabweisenden Effekt der elektrolytischen Abscheidungsschicht weiter verbessert. Je höher die Wärmebehandlungstemperatur (180 bis 280ºC) ist, desto besser ist der Wärmebehandlungseffekt. Im vorliegenden Beispiel wurde, da das Substrat eine Polyesterfolie war, die Wärmebehandlung bei 120ºC für 10 min durchgeführt, um eine Druckplatte zur Trockenlithographie herzustellen. Die resultierende Druckplatte wurde auf einem Plattenzylinder einer einfachen Offset-Einzelblattzuführungspresse (hergestellt von AB Dick Co., Ltd.) befestigt, und es wurde ein Gummizylinder und ein Druckzylinder justiert. Danach wurde eine übliche Spezialdrucktinte für eine Silikonplatte in einen Farbbehälter gegeben und der Druckplatte durch eine Farbwalze ohne Verwendung von Anfeuchtwasser zugeführt, und es wurde dann das Drucken auf Blättern durchgeführt.
Beim Farbauftrag durch die Spezialtinte zum Trockendrucken wurde keine Tinte auf der ölabweisenden elektrolytischen Abscheidung sondern nur auf der Oberfläche der exponierten Oberfläche der Photoleiterschicht vom N-Typ abgeschieden. Die abgeschiedene Tinte wurde auf den Gummizylinder entsprechend dem Druckmechanismus übertragen und wieder auf Papier, das über den Gummizylinder geleitet wurde, übertragen, um das Drucken durchzuführen. Die resultierenden Drucke wurden unter Verwendung der erfindungsgemäßen Druckplatte erhalten. Die Plattenverschleißbeständigkeit betrug etwa 20.000 Blätter.

Beispiel C4

Es wurde ein Photoleitersubstrat vom N-Typ an einem hellen Ort in der gleichen Weise wie in Beispiel C1 hergestellt.
Dann wurde eine digitale thermische Aufzeichnung auf dem Photoleitersubstrat vom N-Typ in der gleichen Weise wie im Beispiel C2 durchgeführt, außer das die Aufzeichnungsweise positiv war.
Danach wurde eine erste elektrolytischen Abscheidungsschicht (Dicke 2 um) durch elektrolytische Abscheidung einer Tinten-abweisenden Komponente auf den verbliebenen leitenden Teilen in einem elektrolytischen Abscheidungsbad in der gleichen Weise wie in Beispiel C3 ausgebildet. Die Zusammensetzung des verwendeten elektrolytischen Abscheidungsbads war die gleiche wie in Beispiel C3.
Das Photoleitersubstrat vom N-Typ wurde dann an einem hellen Ort einige Stunden stehen gelassen (oder kann in einer anderen Ausführungsform dem Licht aus einer 1 kW-Quecksilberlampe für 10 s exponiert werden), um wieder das Photoleitersubstrat vom N-Typ zu exponieren, wodurch die gesamte Oberfläche der Photoleiterschicht vom N-Typ (einschließlich eines Bereichs, wo die erste elektrolytische Abscheidungsschicht ausgebildet ist) elektrisch leitend gemacht wird. Danach wurde eine Tinten-aufnahmefähige Komponente auf dem leitenden Teü unter Verwendung des gleichen elektrolytischen Abscheidungsbads und bei den gleichen elektrolytischen Abscheidungsbedingungen wie in Beispiel C1 elektrolytisch abgeschieden, wodurch eine zweite elektrolytische Abscheidungsschicht (Dicke 3 um) ausgebildet wurde. In diesem Fall sollte erwähnt werden, daß, da die erste elektrolytische Abscheidungsschicht eine elektrisch isolierende Eigenschaft aufweist und als Isolierungsmaske dient, keine zweite elektrolytische Abscheidungsschicht auf der ersten elektrolytischen Abscheidungsschicht ausgebildet wird. Danach wurden das Waschen mit Wasser und das Trocknen, gefolgt von einer Wärmebehandlung bei 120ºC für 10 min. durchgeführt, um eine Platte A zum Trockendrucken herzustellen.
Davon getrennt wurde ein Photoleitersubstrat vom N-Typ an einem hellen Ort in der gleichen Weise wie in Beispiel C1 hergestellt, und es wurde eine digitale thermische Aufzeichnung (in negativer Weise) mit Hilfe eines Thermokopfes auf einem Photoleitersubstrat in der gleichen Weise wie in Beispiel C2 durchgeführt.
Danach wurde eine Tinten-aufnahmefähige Komponente auf den verbliebenen leitenden Teilen unter Verwendung des gleichen elektrolytischen Abscheidungsbads (außer daß 15 Teile Ruß an Stelle von 3 Teilen Phthalocyanin als Farbkomponente verwendet wurden) und den gleichen elektrolytischen Abscheidungsbedingungen wie in Beispiel C1 elektrolytisch abgeschieden, um eine erste elektrolytische Abscheidungsschicht (Dicke 3 um) auszubilden. Die erste elektrolytische Abscheidungsschicht enthält Ruß. Daher weist sie, obwohl deren elektrisch isolierende Eigenschaft im Vergleich mit derjenigen der ersten elektrolytischen Abscheidungsschicht der Druckplatte A nicht zufriedenstellend ist, eine lichtscreenende Eigenschaft auf.
Danach wurde das Photoleitersubstrat vom N-Typ für eine kurze Zeitspanne exponiert (dem Licht aus einer 1 kW-Quecksilberlampe 10 s exponiert). Bei dieser Exposition diente die erste elektrolytische Abscheidungsschicht als Lichtscreeningmaske, und die Photoleiterschicht vom N-Typ wurde in ihrem Bereich, auf dem keine erste elektrolytische Abscheidungschicht ausgebildet wurde, wieder elektrisch leitend gemacht. Danach wurde eine Tinten-abweisende Komponente auf den leitenden Bereichen in einem elektrolytischen Abscheidungsbad in der gleichen Weise wie in Beispiel C3 elektrolytisch abgeschieden, wodurch eine zweite elektrolytische Abscheidungsschicht (Dicke 2 um) ausgebildet wurde. Die Zusammensetzung des verwendeten elektrolytischen Abscheidungsbads war diejenige des elektrolytischen Abscheidungsbads von Beispiel C3. Danach wurden das Waschen mit Wasser und das Trocknen, gefolgt von einer Wärmebehandlung von 120ºC für 10 min. durchgeführt, wodurch eine Platte B zum Trockendrucken hergestellt wurde.
Das Drucken auf Papier wurde unter Verwendung der Druckplatten A und B durch Trockendrucken in der gleichen Weise wie in Beispiel C3 durchgeführt. Die unter Verwendung der Druckplatten A und B erhaltenen Drucke wiesen eine hohe Dichte und eine gute Qualität, vergleichbar mit Drucken, die durch das übliche Trockendruckverfahren erhalten wurden, auf, und die verwendete Menge der Tinte konnte im Vergleich mit denjenigen bei der Druckplatte von Beispiel C3 vermindert werden. Der Grund dafür ist wie folgt. Die Druckplatte von Beispiel C3 ist eine Tiefätzplatte, bestehend aus einer Halbleiterschicht vom N-Typ und einer ölabweisenden elektrolytischen Abscheidungsschicht, und der Farbauftrag wird in den konkaven Bereichen (Halbleiterschicht vom N-Typ) durchgeführt, so daß die verwendete Menge der Tinte groß ist, obwohl das Drucken hoher Dichte möglich ist. Im Gegensatz dazu sind die Platten A und B von Beispiel C4 vom plan-konvexen Typ (der gleiche Typ wie bei der üblichen Naßlithographie), wobei der Tinten-aufnahmefähige Bereich 1 um höher ist als der ölaufnahmefähige Bereich, so daß die verwendete Menge der Tinte im wesentlichen die gleiche ist wie im Fall der Naßlithographie, was es ermöglicht, die verwendete Menge der Tinte im Vergleich zur üblichen Trockenlithographie zu vermindern.
Des weiteren wurden die folgenden Tatsachen bestätigt. Da die Druckplatten A und B von Beispiel C4 vom plan-konvexen Typ sind, ist die Abscheidung der Tinte gut genug, um den Farbauftrag zu erleichtern. Des weiteren tritt im Gegensatz zum Naßdrucken keine Emulgation von Tinte durch Anfeuchtwasser auf. Daher ist ein Drucken hoher Dichte möglich, selbst wenn die verwendete Menge der Tinte kleiner als diejenige ist, die beim Naßdrucken verwendet wird. Außerdem können schärfer gedruckte Bilder bereitgestellt werden.
Des weiteren weisen die zweite elektrolytische Abscheidungsschicht als Tintenaufnahmefähiger Bereich der Druckplatte A im Beispiel C4 und die erste elektrolytische Abscheidungsschicht als Tinten-aufnahmefähiger Bereich der Druckplatte B in Beispiel C4 eine höhere lipophile Eigenschaft als die Halbleiterschicht vom N-Typ als Tinten-aufnahmefähiger Bereich von Beispiel C3 auf, so daß ein Farbauftrag möglich ist, selbst wenn eine Tinte, die ein höheres Haftvermögen als eine Spezialtinte zum Trockendrucken aufweist, verwendet wird. Aus diesem Grund wird erwartet, daß bei der Herstellung einer Tinte, die gegenüber dem Tonen oder Abtönen des Drucks und dem Versagen des Farbauftrags weniger empfindlich ist, eine Ausgestaltung mit einem höheren Grad an Freiheit möglich ist, was es wiederum ermöglicht, eine Tinte herzustellen, die einfach zu verwenden ist.

Beispiel C5

Es wurde eine Paste aus einem Photoleiter vom N-Typ mit der folgenden Zusammensetzung auf ein 0,15 mm dickes Aluminiumsubstrat mit einer spiegelnden Oberfläche aufgetragen, und die resultierende Beschichtung wurde getrocknet, um eine 20 um dicke Beschichtung auszubilden, wodurch ein Photoleitersubstrat vom N-Typ hergestellt wurde.

(Zusammensetzung der Photoleiterpaste vom N-Typ)

Zinkoxid (SAZEX 2000, hergestellt von Sakai Chemical Co., Ltd.) 4 g
Titandioxid (Rutil-Typ) 16 g
Farbstoff mit einer Absorbtion im nahen
Infrarotbereich (Kayasorb CY-10, hergestellt von Nippon Kayaku Co., Ltd.) 0,1 g
Polyvinylbutyral (BM-S, hergestellt von Sikisui Chemical Co., Ltd.) 5 g
Toluol 50 ml
Nach der Exposition mit einer Hochdruckquecksilberlampe, wurde eine thermische Scanningaufzeichnung unter Verwendung eines Halbleiterlasers (780 nm) mit einer großen Ausgangsleistung von 500 mW durchgeführt. Die Aufzeichnungsweise war negativ, die Aufzeichnungsdichte betrug 2.500 dpi und die Ausgabebilder waren Buchstaben, einschließlich Kanji (chinesische Zeichen), und Symbole mit 2 Punkten, 4 Punkten und 6 Punkten. Danach wurde eine elektrolytische Abscheidung unter den gleichen Bedingungen wie denjenigen von Beispiel C1 durchgeführt, um eine Druckplatte zur Naßlithographie herzustellen. Das Offsetdrucken wurde unter Verwendung der resultierenden Druckplatte in der gleichen Weise wie in Beispiel C1 durchgeführt. Als Ergebnis wurde bestätigt, daß die Qualität der unter Verwendung der erfindungsgemäßen Druckplatte erhaltenen Drucke gut war und 2.500 dpi entsprach.
Wie aus der vorstehenden genauen Beschreibung ersichtlich ist, kann erfindungsgemäß, vergleichen mit dem üblichen PS-Plattenherstellungsverfahren, dem elektrophotografischen Plattenherstellungsverfahren durch Tonerentwicklung und dem Plattenherstellungsverfahren durch das photografische Silbersalzverfahren, die Ausnutzung eines Halbleitersubstrats vom N-Typ mit einer optischen Speichereigenschaft, der Dauerhaftigkeit des Expositionseffekts und der Erzeugung eines musterartigen Bildes durch Löschen nach dem Erhitzen, das Verfahren stark vereinfachen, was eine Verkürzung und Vereinfachung des Plattenherstellungsverfahren und eine Verbesserung der Zuverlässigkeit der Bedienung ermöglicht. Des weiteren können Platten zum Naß- oder Trockendrucken, die Drucke hoher Qualität mit hoher Plattenverschleißbeständigkeit bereitstellen, frei durch ein identisches Verfahren durch Auswahl eines elektrolytischen Abscheidungsmaterials hergestellt werden, was die Herstellung von Druckplatten mit einer genügend großen Vielseitigkeit ermöglicht, um bei verschiedenen Druckverfahren verwendbar zu sein. Weiter ist, da, wie vorstehend beschrieben, eine thermische Plattenherstellung möglich ist, die Plattenherstellung unter Verwendung eines Lasers oder eines Präzisionsthermokopfes auf das Gebiet des Druckens mit hoher Qualität anwendbar, so daß die Erzeugung eines Musters durch Verwendung des üblichen Thermokopfes zur Ausgabe bei Textverarbeitungen und Personalcomputern, eines heißen Stiftes oder anderer Mittel in vorteilhafter Weise im Gebiet des einfachen Druckens und des Druckens für Geschäftszwecke verwendet werden kann. Daher bietet die Verwendung des Druckplattenherstellungsverfahrens gemäß der vorliegenden Erfindung viele Auswirkungen, wie einen breiteren Bereich des Druckens, die verminderte Menge an verbrauchter Tinte, verbesserte Qualität des Drucks und deutlich verminderte Produktionskosten.

Claims

1. Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte, umfassend die Schritte: Bereitstellen einer Photoleiterschicht vom N-Typ mit einer optischen Speichereigenschaft auf der Oberfläche eines Substrats, das eine elektrische Leitfähigkeit mindestens in seiner Oberfläche aufweist, um ein Photoleitersubstrat vom N-Typ auszubilden, Unterwerfen der Photoleiterschicht vom N-Typ einer gewünschten musterartigen Exposition durch Batchexposition und/oder Photozeichnungsexposition, um exponierte Bereiche elektrisch leitfähig zu machen, Eintauchen des Photoleitersubstrats vom N-Typ in ein elektrolytisches Abscheidungsbad, um ein ionisches organisches Polymer, das im elektrolytischen Abscheidungsbad enthalten ist, zur Ausbildung einer elektrolytischen Abscheidungsschicht elektrolytisch abzuscheiden, und Waschen und Trocknen des elektrolytisch abgeschiedenen Substrats, um eine Druckplatte herzustellen, wobei die elektrolytische Abscheidungsschicht gegenüber einer Drucktinte aufnahmefähig oder nicht-aufnahmefähig gemacht wird, die elektrolytische Abscheidung als Lichtscreeningschicht und/oder elektrische Isolierungsmaske verwendet wird, nicht-exponierte Bereiche exponiert werden, um sie elektrisch leitfähig zu machen, ein gegenüber einer Drucktinte aufnahmefähiges oder nicht-aufnahmefähiges Material auf die nicht-exponierten Bereiche elektrolytisch abgeschieden wird und die resultierende Druckplatte bei der Trockenlithograhie verwendet wird.

2. Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte nach Anspruch 1, wobei die elektrolytische Abscheidungsschicht weiter durch Exposition von Wärme oder Licht gehärtet wird, um das Anhaften der elektrolytischen Abscheidungsschicht auf dem Substrat zu verbessern, wodurch die Verschleißbeständigkeit der Platte erhöht wird.

3. Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte, umfassend die Schritte: Bereitstellen einer Photoleiterschicht vom N-Typ mit einer optischen Speichereigenschaft auf der Oberfläche eines Substrats, das eine elektrische Leitfähigkeit mindestens in seiner Oberfläche aufweist, um ein Photoleitersubstrat vom N-Typ auszubilden, Unterwerfen der Photoleiterschicht vom N-Typ einer gewünschten musterartigen Exposition durch Batchexposition und/oder Photozeichnungsexposition, um exponierte Bereiche elektrisch leitfähig zu machen, Eintauchen des Photoleitersubstrats vom N-Typ in ein elektrolytisches Abscheidungsbad, um eine Tinten-aufnahmefähige Komponente auf die exponierten Bereiche elektrolytisch abzuscheiden, Waschen und Trocknen des elektrolytisch abgeschiedenen Substrats und Übertragen der Tintenaufnahmefähigen Komponente, die auf der Photoleiterschicht von N-Typ vorhanden ist, auf ein Substrat für eine Druckplatte.

4. Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte nach Anspruch 3, wobei, nachdem die Tinten-aufnahmefähige Komponente auf das Substrat für eine Druckplatte übertragen worden ist, das Photoleitersubstrat vom N-Typ wiederholt verwendet wird, ohne die in der Photoleiterschicht vom N-Typ erzeugte Leitfähigkeit zu löschen.

5. Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte nach Anspruch 3, wobei, nachdem die Tinten-aufnahmefähige Komponente auf das Substrat für eine Druckplatte übertragen worden ist, die in der Photoleiterschicht von N-Typ erzeugte Leitfähigkeit gelöscht und eine gewünschte musterartige Exposition auf der Photoleiterschicht vom N-Typ erneut durchgeführt wird.

6. Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte nach Anspruch 3, wobei eine Trennschicht, welche die elektrolytische Abscheidung der Tintenaufnahmefähigen Komponente nicht hemmt, auf der Photoleiterschicht vom N-Typ ausgebildet wird, die Exposition und die elektrolytische Abscheidung der Tinten-aufnahmefähigen Komponente durchgeführt und danach die Tinten-aufnahmefähige Komponente allein auf das Substrat für eine Druckplatte übertragen wird.

7. Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte nach Anspruch 3, wobei nach der Exposition der Photoleiterschicht vom N-Typ ein trennbares Material, das von der Photoleiterschicht von N-Typ trennbar ist, auf den exponierten Bereichen elektrisch abgeschieden wird, die Tinten-aufnahmefähige Komponente elektrolytisch abgeschieden wird und danach die Tintenaufnahmefähige Komponente zusammen mit dem trennbaren Material auf das Substrat für eine Druckplatte übertragen wird.

8. Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte nach Anspruch 7, wobei nach der Übertragung der Tinten-aufnahmefähigen Komponente auf das Substrat für eine Druckplatte das trennbare Material allein vom Substrat für eine Druckplatte entfernt wird.

9. Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte nach Anspruch 3, wobei nach der Übertragung der Tinten-aufnahmefähigen Komponente auf das Substrat für eine Druckplatte das Substrat für eine Druckplatte einer Behandlung zum Härten der Tinten-aufnahmefähigen Komponente, die auf das Substrat für eine Druckplatte übertragen wurde, oder einer Behandlung zur Verbesserung der Haftung zwischen der Tinten-aufnahmefähigen Komponente und dem Substrat für eine Druckplatte unterworfen wird.

10. Druckplatte, die ein Substrat für eine Druckplatte und eine Tintenaufnahmefähige Komponente, welche auf dem Substrat für eine Druckplatte durch das Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte nach Anspruch 3 ausgebildet wurde, umfaßt.

11. Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte, umfassend die Schritte: Bereitstellen einer Photoleiterschicht vom N-Typ mit einer optischen Speichereigenschaft auf der Oberfläche eines Substrats, das eine elektrische Leitfähigkeit mindestens in seiner Oberfläche aufweist, um ein Photoleitersubstrat vom N-Typ auszubilden, Exponieren der gesamten Oberfläche oder eines notwendigen Bereichs der Photoleiterschicht vom N-Typ, um die exponierten Bereiche elektrisch leitfähig zu machen, Erhitzen der exponierten Bereiche durch Heißmusterzeichnung, um die Leitfähigkeit der erhitzten Bereiche zu löschen, Eintauchen des Photoleitersubstrats in ein elektrolytisches Abscheidungsbad, um ein elektrolytisches Abscheidungsmaterial auf den verbliebenen leitfähigen Bereichen allein zur Ausbildung einer elektrolytischen Abscheidungsschicht elektrolytisch abzuscheiden, und Waschen und Trocknen des elektrolytisch abgeschiedenen Substrats, um eine Druckplatte herzustellen.

12. Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte nach Anspruch 11, die als eine Druckplatte zum Naßdrucken durch Hervorrufen der Aufnahmefähigkeit der elektrolytischen Abscheidungsschicht gegenüber einer Tinte und Hervorrufen der Aufnahmefähigkeit der Photoleiterschicht vom N-Typ gegenüber Anfeuchtwasser verwendbar gemacht wurde.

13. Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte nach Anspruch 11, die als eine Druckplatte zum Trockendrucken durch Hervorrufen der Tintenabweisung der elektrolytischen Abscheidungsschicht und Hervorrufen der Aufnahmefähigkeit der Photoleiterschicht vom N-Typ gegenüber einer Tinte verwendbar gemacht wurde.

14. Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte, umfassend die Schritte: Bereitstellen einer Photoleiterschicht vom N-Typ mit einer optischen Speichereigenschaft auf der Oberfläche eines Substrats, das eine elektrische Leitfähigkeit mindestens in seiner Oberfläche aufweist, um ein Photoleitersubstrat zum N-Typ auszubilden, Exponieren der gesamten Oberfläche oder eines notwendigen Bereichs der Photoleiterschicht vom N-Typ, um exponierte Bereiche elektrisch leitfähig zu machen, Erhitzen der exponierten Bereiche durch Heißmusterzeichnung, um die Leitfähigkeit der erhitzten Bereiche zu löschen, Eintauchen des Photoleitersubstrats vom N-Typ in ein elektrolytisches Abscheidungsbad, um eine lichtscreenende und/oder elektrisch isolierende erste elektrolytische Abscheidungsschicht auf den verbliebenen leitfähigen Bereichen allein zur Ausbildung einer ersten elektrolytischen Abscheidungsschicht elektrolytisch abzuscheiden, Waschen des elektrolytisch abgeschiedenen Substrats, Exponieren des Photoleitersubstrats von N-Typ, um exponierte Bereiche wieder elektrisch leitfähig zu machen, Eintauchen des Photoleitersubstrats vom N-Typ in ein elektrolytisches Abscheidungsbad, um ein zweites elektrolytisches Abscheidungsmaterial nur auf den Bereichen elektrolytisch abzuscheiden, auf denen die erste Abscheidungsschicht nicht ausgebildet wurde, wodurch eine zweite elektrolytische Abscheidungsschicht ausgebildet wird, und Waschen und Trocknen des elektrolytisch abgeschiedenen Substrats, um eine Druckplatte herzustellen.

15. Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte nach Anspruch 14, die als eine Druckplatte zum Trockendrucken durch Hervorrufen der Aufnahmefähigkeit einer von der ersten elektrolytischen Abscheidungsschicht und der zweiten elektrolytischen Abscheidungsschicht gegenüber einer Tinte, wobei die andere Tinten-abweisend gemacht wird, verwendbar gemacht wurde.

16. Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte nach Anspruch 14, die als eine Druckplatte zum Naßdrucken durch Hervorrufen der Aufnahmefähigkeit von einer der ersten elektrolytischen Abscheidungsschicht und der zweiten elektrolytischen Abscheidungsschicht gegenüber Anfeuchtwasser, wobei die andere für eine Tinte aufnahmefähig gemacht wird, verwendbar gemacht wurde.