DE69108430D1 - Verfahren zur Herstellung einer dünnen Schicht aus supraleitendem Oxyd. - Google Patents

Verfahren zur Herstellung einer dünnen Schicht aus supraleitendem Oxyd.

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5250319A (en) * 1990-01-24 1993-10-05 Fujitsu Limited Process for preparation of electroconductive polymeric material provided within grooves
JP4771632B2 (ja) * 2001-10-12 2011-09-14 富士通株式会社 高温超伝導体膜の形成方法
JP6062248B2 (ja) * 2011-08-02 2017-01-18 古河電気工業株式会社 超電導導体の製造方法、および超電導導体
DE102014221335A1 (de) * 2014-10-21 2016-04-21 Siemens Aktiengesellschaft Supraleitendes Leiterelement und Verfahren zu dessen Herstellung
EP4033553A1 (de) * 2021-01-26 2022-07-27 IQM Finland Oy Supraleiterübergangsbauelement und dessen herstellung

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5880829A (ja) * 1981-11-10 1983-05-16 Nec Corp シリコン単結晶膜の形成法
EP0291050A3 (de) * 1987-05-15 1989-09-27 Hitachi, Ltd. Supraleitende Anordnung
DE68904588T2 (de) * 1988-03-31 1993-08-19 Mitsui Mining & Smelting Co Duenne supraleitende keramische schichten und verfahren zu ihrer herstellung.
JPH02260473A (ja) * 1989-03-31 1990-10-23 Canon Inc ジョセフソン接合素子

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