DE69007675T2 - Lichtempfindliche Zusammensetzung und vorsensibilisierte Platten, verwendbar bei der Herstellung von lithographischen Druckplatten. - Google Patents
Lichtempfindliche Zusammensetzung und vorsensibilisierte Platten, verwendbar bei der Herstellung von lithographischen Druckplatten.Info
- Publication number
- DE69007675T2 DE69007675T2 DE69007675T DE69007675T DE69007675T2 DE 69007675 T2 DE69007675 T2 DE 69007675T2 DE 69007675 T DE69007675 T DE 69007675T DE 69007675 T DE69007675 T DE 69007675T DE 69007675 T2 DE69007675 T2 DE 69007675T2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- plates
- manufacture
- useful
- lithographic printing
- photosensitive composition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/016—Diazonium salts or compounds
- G03F7/021—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13049389 | 1989-05-24 | ||
JP1137890A JP2598997B2 (ja) | 1989-05-31 | 1989-05-31 | 感光性平版印刷版 |
JP13789189A JPH032868A (ja) | 1989-05-31 | 1989-05-31 | 感光性平版印刷版 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE69007675D1 DE69007675D1 (de) | 1994-05-05 |
DE69007675T2 true DE69007675T2 (de) | 1994-07-14 |
Family
ID=27316126
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE69007675T Expired - Fee Related DE69007675T2 (de) | 1989-05-24 | 1990-05-21 | Lichtempfindliche Zusammensetzung und vorsensibilisierte Platten, verwendbar bei der Herstellung von lithographischen Druckplatten. |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5112743A (de) |
EP (1) | EP0399755B1 (de) |
DE (1) | DE69007675T2 (de) |
Families Citing this family (38)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2584671B2 (ja) * | 1989-04-26 | 1997-02-26 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
JP2582498B2 (ja) * | 1990-07-30 | 1997-02-19 | イー・アイ・デュポン・ドゥ・ヌムール・アンド・カンパニー | 水現像可能な前着色されたジアゾ画像形成用エレメント |
US5250393A (en) * | 1990-12-20 | 1993-10-05 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for developing presensitized plate for use in making lithographic printing plate |
JP2779982B2 (ja) * | 1991-06-19 | 1998-07-23 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
DE69312182T2 (de) * | 1992-08-17 | 1997-12-11 | Konishiroku Photo Ind | Lichtempfindliche Zusammensetzung |
US5376235A (en) * | 1993-07-15 | 1994-12-27 | Micron Semiconductor, Inc. | Method to eliminate corrosion in conductive elements |
JP3115462B2 (ja) * | 1993-12-14 | 2000-12-04 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物及び感光性平版印刷版 |
JP3278286B2 (ja) * | 1994-04-25 | 2002-04-30 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版 |
DE19525050C2 (de) * | 1995-07-10 | 1999-11-11 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Sulfonamidsubstituierte Acetalpolymere und Verwendung derselben in lichtempfindlichen Zusammensetzungen und lithographischen Druckplatten |
DE69616205T2 (de) * | 1995-07-29 | 2002-06-27 | Sanyo Chemical Ind Ltd | UV-härtbare Harzmasse für Fresnel-Linse, Fresnel-Linse und Retroprojektionswand |
US5620949A (en) * | 1995-12-13 | 1997-04-15 | The Lubrizol Corporation | Condensation products of alkylphenols and aldehydes, and derivatives thereof |
GB9700883D0 (en) | 1997-01-17 | 1997-03-05 | Horsell Graphic Ind Ltd | Lithographic plate precursor |
EP1449654A1 (de) | 1997-10-17 | 2004-08-25 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Positiv arbeitendes photoempfindliches Aufzeichnungsmaterial für Infrarotlaser und positiv arbeitende Zusammensetzung für Infrarotlaser |
DE19824546A1 (de) * | 1998-06-03 | 1999-12-09 | Basf Drucksysteme Gmbh | Herstellung vernetzbarer wasserlöslicher oder wasserdispergierbarer Zusammensetzungen und daraus erhältlicher strahlungsempfindlicher Gemische |
US6358669B1 (en) | 1998-06-23 | 2002-03-19 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermal digital lithographic printing plate |
EP1506856A3 (de) | 1998-06-23 | 2005-03-30 | Kodak Polychrome Graphics LLC | Positiv arbeitendes thermisches bilderzeugendes Element und positiv arbeitender lithographischer Druckplattenvorläufer |
US6534238B1 (en) | 1998-06-23 | 2003-03-18 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Thermal digital lithographic printing plate |
US6352811B1 (en) | 1998-06-23 | 2002-03-05 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermal digital lithographic printing plate |
US6352812B1 (en) | 1998-06-23 | 2002-03-05 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermal digital lithographic printing plate |
DE19847616C2 (de) * | 1998-10-15 | 2001-05-10 | Kodak Polychrome Graphics Gmbh | Polyvinylacetale mit Imidogruppen sowie die Verwendung derselben in lichtempfindlichen Zusammensetzungen |
EP1142707B2 (de) * | 2000-04-07 | 2011-11-30 | FUJIFILM Corporation | Wärmeempfindlicher lithographischer Druckplattevorläufer |
US6555283B1 (en) | 2000-06-07 | 2003-04-29 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Imageable element and waterless printing plate |
US6458511B1 (en) | 2000-06-07 | 2002-10-01 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermally imageable positive-working lithographic printing plate precursor and method for imaging |
US6270938B1 (en) | 2000-06-09 | 2001-08-07 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Acetal copolymers and use thereof in photosensitive compositions |
US6451505B1 (en) | 2000-08-04 | 2002-09-17 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Imageable element and method of preparation thereof |
US6555291B1 (en) | 2000-08-14 | 2003-04-29 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Thermal digital lithographic printing plate |
EP1267211A1 (de) * | 2001-06-13 | 2002-12-18 | Agfa-Gevaert | UV-empfindliches Bildaufzeichnungselement zur Herstellung lithographischer Druckplatten |
US6641970B2 (en) | 2001-06-13 | 2003-11-04 | Agfa-Gevaert | UV-sensitive imaging element for making lithographic printing plates comprising an aryldiazosulfonate polymer and a compound sensitive to UV light |
US6517988B1 (en) | 2001-07-12 | 2003-02-11 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Radiation-sensitive, positive working coating composition based on carboxylic copolymers |
US7090957B2 (en) * | 2002-09-11 | 2006-08-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Polymerizable composition and planographic printing plate precursor using the same |
JP2005250094A (ja) * | 2004-03-04 | 2005-09-15 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | 平版印刷版の作製方法 |
JP4360242B2 (ja) * | 2004-03-24 | 2009-11-11 | Jsr株式会社 | ネガ型感放射線性樹脂組成物 |
NZ552372A (en) * | 2004-06-04 | 2009-11-27 | Astellas Pharma Inc | Propane-1,3-dione derivative or its salt |
TW200722420A (en) * | 2005-03-31 | 2007-06-16 | Astellas Pharma Inc | Propane-1,3-dion derivative or salt thereof |
US8632961B2 (en) * | 2010-01-28 | 2014-01-21 | Eastman Kodak Company | Flexographic processing solution and use |
JP5743783B2 (ja) * | 2011-07-27 | 2015-07-01 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、平版印刷版原版、及びポリウレタン |
US11592747B2 (en) * | 2012-12-14 | 2023-02-28 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Resist underlayer film-forming composition comprising carbonyl-containing polyhydroxy aromatic ring novolac resin |
JP7268600B2 (ja) * | 2017-09-28 | 2023-05-08 | 日本ゼオン株式会社 | 電気化学素子用バインダー組成物、電気化学素子用スラリー組成物、電気化学素子用機能層および電気化学素子 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4021243A (en) * | 1970-08-20 | 1977-05-03 | Hoechst Aktiengesellschaft | Diazo light-sensitive copying composition and process of using in the manufacture of screen printing stencils |
DE2041395C2 (de) * | 1970-08-20 | 1983-10-13 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur Herstellung von Siebdruckformen |
JPS6049301B2 (ja) * | 1977-12-06 | 1985-11-01 | 富士写真フイルム株式会社 | 画像形成方法 |
DE3135804A1 (de) * | 1981-09-10 | 1983-03-24 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lichtempfindliches, diazoniumgruppen enthaltendes polykondensationsprodukt und damit hergestelltes lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial |
JPH0782236B2 (ja) * | 1984-10-12 | 1995-09-06 | 三菱化学株式会社 | 感光性組成物 |
JPS6278544A (ja) * | 1985-10-01 | 1987-04-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
JPH0727208B2 (ja) * | 1987-04-20 | 1995-03-29 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
JPH07117748B2 (ja) * | 1987-04-21 | 1995-12-18 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
JPH087438B2 (ja) * | 1988-03-11 | 1996-01-29 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
-
1990
- 1990-05-16 US US07/523,997 patent/US5112743A/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-05-21 EP EP90305481A patent/EP0399755B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1990-05-21 DE DE69007675T patent/DE69007675T2/de not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0399755B1 (de) | 1994-03-30 |
US5112743A (en) | 1992-05-12 |
DE69007675D1 (de) | 1994-05-05 |
EP0399755A1 (de) | 1990-11-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE69007675D1 (de) | Lichtempfindliche Zusammensetzung und vorsensibilisierte Platten, verwendbar bei der Herstellung von lithographischen Druckplatten. | |
DE69410212D1 (de) | Lithographische Druckplatten | |
DE3884825D1 (de) | Entwickler für lichtempfindliche lithographische Druckplatte, gemeinschaftlich verarbeitungsfähig für den Negativ-Typ und den Positiv-Typ und Entwicklerzusammensetzung für lichtempfindliches Material. | |
KR950702156A (ko) | 평판인쇄원판 및 그의 제판방법(Lithographic printing original plates and platemaking process using the same) | |
DK509188D0 (da) | Fremgangsmaade til mindskning af klaebrighed af fotopolymere flexografiske trykplader | |
DE3577483D1 (de) | Photopolymerisierbare zusammensetzung und daraus hergestellte druckplatten. | |
BE896523A (fr) | Plaque d'impression lithographique, | |
DE69107401D1 (de) | Feuchtwasserlösung-Zusammensetzung für Flachdruck und Flachdruck-Verfahren. | |
NL191122C (nl) | Polyurethaan, lichtgevoelige harssamenstelling en flexografische drukplaat. | |
DE69223044T2 (de) | Lithographische druckplatten | |
DE3869329D1 (de) | Lithographische tinten-zusammensetzung. | |
DE3767690D1 (de) | Lichtempfindliche photopolymerzusammensetzung und druckplatte. | |
DE69130919D1 (de) | Verfahren zum Entwickeln von vorsensibilisierten Platten in der Herstellung von lithographischen Druckplatten | |
DE3780069T2 (de) | Vorsensibilisierte druckplatte. | |
DE69018622T2 (de) | Filmandruckplatte. | |
DE69203642D1 (de) | Vorsensibilisierte Platten zum Herstellen von wasserlosen Offsetdruckplatten. | |
DE69712273D1 (de) | Lichtempfindliche Zusammensetzung und lithographische Druckplatte unter Verwendung derselben | |
DE3581115D1 (de) | Verfahren zur herstellung von lithographischen druckplatten und so hergestellte druckplatten. | |
DE69217281T2 (de) | Photopolymerisierbare Zusammensetzung und photoempfindliche, lithographische Druckplatte | |
DE69009269D1 (de) | Entwickler für lichtempfindliche Platten bei der Herstellung von lithographischen Druckplatten und Verfahren zur Herstellung der Platten. | |
DE3777755D1 (de) | Praesensibilisierte lithographische druckplatte. | |
DE69123886D1 (de) | Vorsensibilisierte Platten für die Herstellung von Druckplatten für wasserlosen Offsetdruck | |
DE69007847T2 (de) | Lichtempfindliche Zusammensetzung und lichtempfindliche lithographische Druckplatte. | |
DE69205439D1 (de) | Trockenherstellung von lithographischen druckplatten. | |
DE68917529D1 (de) | Lichtempfindliche Zusammensetzung und lichtempfindliche lithographische Druckplatte. |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: FUJIFILM CORP., TOKIO/TOKYO, JP |
|
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |