DE2041395C2 - Verfahren zur Herstellung von Siebdruckformen - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von SiebdruckformenInfo
- Publication number
- DE2041395C2 DE2041395C2 DE2041395A DE2041395A DE2041395C2 DE 2041395 C2 DE2041395 C2 DE 2041395C2 DE 2041395 A DE2041395 A DE 2041395A DE 2041395 A DE2041395 A DE 2041395A DE 2041395 C2 DE2041395 C2 DE 2041395C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- screen printing
- acid
- condensation
- water
- compounds
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/016—Diazonium salts or compounds
- G03F7/021—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/12—Production of screen printing forms or similar printing forms, e.g. stencils
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Description
30
q eine Zahl von 0 bis 5.
r eine Zahl von 2 bis 5,
R4 Wasserstoff, eine Alkylgruppe mit 1-5 C-Atomen, eine Aralkylgruppe mit 7-12
C-Atomen oder eine Arylgruppe mit 6-12 C-Atomen, und
R5 eineArylengruppemito-nC-Atomen ist,und
B den Rest eines aromatischen Amins, Phenols, Thiophenols, Phenoläthers, aromatischen
Thioüthcrs, aromatischen Kohlenwasserstoffs, einer aromatischen heterocyclischen Verbindung
oder eines organischen Säureamids bedeuten, wobei jede dieser Verbindungen von Diuzoniumgruppen
frei ist und mindestens eine zur Kondensation mit aktiver Carbonylverbindung befähigte
Position aufweist,
50
als lichtempfindliche Schicht auf einen Siebdruckschablonenträger aufbringt, die Schicht bildmäßig
belichtet und die unbelichteten Schichtbereiche mit Wasser oder einer wäßrigen Lösung auswäscht, dadurch
gekennzeichnet, daß man ein Kondensationsprodukt verwendet,worin X das Anion einer
aliphatischen Monosulfonsäure mit 1-6 C-Atomen bedeutet.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man ein Kondensalionsprodukt verwendet,
worin X das Methansulfonatanion bedeutet.
3. Verfahren nach Anspruch 1. dadurch gekennzeichnet,
daß man ein lichtempfindliches Gemisch verwendet, das das Kondensationsprodukt in einem
Mengenanteil von 2 bis 20% seines Feststoffgehaltes bi
enthält.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß man das lichtempfindliche Gemisch in Form einer wäßrigen Losung auf den Schablonenträger
aufbringt.
5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man ein lichtempfindliches Gemisch
verwendet, das zusätzlich einen wasserunlöslichen Füllstoff enthält.
6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß der wasserunlösliche Füllstoff ein organisches
Polymerisat ist.
7. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das hydrophile härtbare Bindemittel
Polyvinylalkohol ist.
8. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß das wasserunlösliche organische Polymerisat
ein Vinylacetatpolymerisat ist.
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Siebdruckformen mittels eines lichtempfindlichen
Gemischs, das ein Kondensationsprodukt einer aromatischen Diazoniumverbindung und ein hydrophiles härtbares
Bindemittel enthält.
Die Verwendung von Kondensationsprodukten aus aromatischen Diazoniumverbindungen, z. B. Diazodiphenylaminen,
und Aldehyden für den Siebdruck ist z. B. aus der DE-AS 1 289 741 bekannt. Ebenso ist bekannt,
daß monomere Diazoverbindungen, 2. B. Diazodiphenylamine, in Kombination mit Aldehyden bevorzugt für
den Siebdruck brauchbare Schichten ergeben, die beim Belichten vernetzen (DE-PS 1 206 308).
In den älteren deutschen Patenten 2 065 733 und 2 065 732 ist unter anderem vorgeschlagen worden. Siebdruckschichlen
aus härtbaren Bindemitteln und Mischkondensationsprodukten aromatischer Diazoniumverbindungen
mit kondensationsfähigen Verbindungen und aktiven Carbonylverbindungen herzustellen. Die Kondensationsprodukte
werden dabei in Form ihrer wasserlöslichen Salze. z.B. der Chloride, eingesetzt. In den
genannten älteren Patenten werden auch die Salze der Kondensationsprodukte mit aliphatischen Sulfonsäuren
allgemein als lichtempfindliche Substanzen beschrieben, ohne daß bei ihnen besondere Eigenschaften oder eine
Eignung für einen besonderen Zweck angegeben ist.
Aufgabe der Erfindung war es, ein Verfahren zur Herstellung von Siebdruckformen vorzuschlagen, das eine
lange Lagerung des Beschichtungsgemischs in wäßriger Lösung, eine kürzere Belichtung als bei bekannten Gemischen
und eine Entwicklung der belichteten Siebdruckform mit wäßrigen Lösungen, vorzugsweise mit reinem
Wasser, ermöglicht.
Die Erfindung geht aus von einem Verfahren zur Herstellung von Siebdruckformen, bei dem man ein lichtempfindliches
Gemisch, das ein hydrophiles härtbares Bindemittel und ein Kondensationsprodukt aus"wiederkehrenden
Einheiten der allgemeinen Typen A-N2X und B im mittleren Molverhältnis von 1:0.1 bis 1:20
enthält, welche untereinander durch zweibindige Brükkenglieder, die sich von einer kondensationsfahigen
Carbonylverbindung ableiten, verbunden sind, wobei die Einheiten A-N2X von Verbindungen der Formel
(R'-R1-)PR2-N,X abgeleitet sind und wobei
ρ eine ganze Zahl von 1 bis 3,
R' einen carbocyclischen oder heterocyclischen aromatischen Rest mit mindestens einer kondensationsfähigen
Position,
R2 eine ggfs. substituierte Phenylengruppe,
R-' eine Einfachbindung oder eine der Gruppen:
-(CH2^1-NR4-.
10
15
20
25
30
-S-(CH2)^-NR4-,
-S-CH2-CO-NR4-,
-O-R5-O-,
-O-,
-S- oder
-CO-NR4-bedeuten, worin
-S-CH2-CO-NR4-,
-O-R5-O-,
-O-,
-S- oder
-CO-NR4-bedeuten, worin
q eine Zahl von O bis 5,
r eine Zahl von 2 bis 5,
r eine Zahl von 2 bis 5,
R4 Wasserstoff, eine Alkylgruppe mit 1 bis 5 C-Atomen, eine Aralkylgruppe mit 7 bis
12 C-Atomen oder eine Arylgruppe mit 6 bis 12 C-Atomen, und
R5 eine Arylengruppe mit 6 bis 12 C-Atomen ist, und
B den Rest eines aromatischen Amins, Phenols, Thiophenols, Phenoläthers, aromatischen Thioäthers,
aromatischen Kohlenwasserstoffs, einer aromatischen heterocyclischen Verbindung oder eines organischen
Säureamids bedeutet, wobei jede dieser Verbindungen von Diazoniumgruppen frei ist und
mindestens eine zur Kondensation mit aktiver Carbonylverbindung befähigte Position aufweist, als
lichtempfindliche Schicht auf einen Siebdruckschablonenträger aufbringt, die Schicht bildmäßig belichtet
und die unbelichteten Schichtbereiche mit Wasser oder einer wäßrigen Lösung auswäscht.
Das erfindungsgemäße Verfahren ist dadurch gekennzeichnet,
daß man ein Kondensationsprodukt verwendet, worin X das Anion einer aliphatischen Monosulfonsäure
mit 1 bis 6 C-Atomen bedeutet.
Das bei dem erfindungsgemäßen Verfahren verwendete lichtempfindliche Gemisch zeichnet sich gegenüber
den für den gleichen Zweck bekannten Gemischen ähnlicher Art durch eine wesentlich höhere Lichtempfindlichkeit
und Lagerfähigkeit aus. Die höhere Lichtempfindlichkeit ist im wesentlichen eine Eigenschaft, die allen
Diazomischkondensaten, wie sie in den oben erwähnten älteren Patenten beschrieben sind, unabhängig von ihrem
Anion zukommt, während die Lagerfähigkeit und Wasserlöslichkeit wesentlich durch das Anion bestimmt werden.
In den bekannten Siebdruckschichten wurden, um eine wäßrige Entwickelbarkeit zu gewährleisten, hauptsächlich
wasserlösliche Diazoniumsalze, wie Halogenide, und Sulfate, insbesondere Chloride, verwendet. Es zeigte sich
jedoch, daß die mit diesen Diazoniumsalzen hergestellten Gemischen und Siebdruckschichten nur eine verhältnismäßig
geringe Lagerfähigkeit haben. In der Praxis wurden daher die lichtempfindlichen Substanzen als sogenannte
Sensibilisatoren und der Rest der flüssigen Kopierlösung als sogenannte Siebdruckemulsion getrennt
gelagert und erst unmittelbar vor ihrer Verwendung, d.h. vor dem Beschichten des Siebdruckträgers, zu dem sogenannten
Siebdrucklack vereinigt. Man kannte zwar Diazoniumsalze mit besserer Lagerfähigkeit in lichtempfindlichen
Schichten, doch waren diese Salze stets für eine wäßrige Entwicklung zu wenig wasserlöslich. Aus dieser
Erfahrungstatsache nahm man sogar an, daß Wasserlöslichkeit und Lagerfähigkeit bei Diazoniumsalzen einander
entgegengerichtete Eigenschaften sind.
Es war daher besonders überraschend, daß die bei dem erfindungsgemäßen Verfahren verwendeten Diazoniumsalze
von niederen aliphatischen Sulfonsäuren eine wesentlich höhere Lagerfähigkeit als die bisher verwendeten
wasserlöslichen Salze sowohl in fester Form als auch in wäßriger Lösung und in der fertiger, lichtempfindlichen
Schicht aufweisen, obwohl die Wasserlöslichkeit ihrer bevorzugten Vertreter sogar noch die der entsprechenden
Chloride übertrifft.
Diese Diazoniumsalze haben gegenüber den bisher verwendeten Homokondensationsprodukten den weiteren
Vorteil, daß sie sich leicht in fester Form aus den bei der Herstellung anfallenden Kondensationsgemischen
ausscheiden lassen.
Bei den erfindungsgemäß eingesetzten lichtempfindlichen Gemischen ist es möglich, sie als fertige Siebdrucklacke
in flüssiger Form oder auch als vorsensibilisierte Siebdruckmaterialien monatelang zu lagern.
Die aliphatischen Monosulfonsäuren, die die Anionen der Diazoniumkondensate bilden, haben im allgemeinen
1 bis 6 Kohlenstoffatorne und können gegebenenfalls nicht zu schwere Substiluenten, z. B. Halogenatome, wie
Fluor, Chlor, Brom oder Jod, Hydroxygruppen, Äthergruppen und dgl. enthalten. Im allgemeinen ist nicht
mehr als ein Substituent vorhanden. Die aliphatische Kette kann gerade oder verzweigt oder ringförmig sein.
Sie kann auch Doppelbindungen enthalten.
Beispiele für geeignete Sulfonsäuren sind Methansulfonsäure,
Äth\nsulfonsäure, Propan-2-sulfonsäure, Propan-1-sulfonsäure, Butan-1-sulfonsäure, 3-Methylbutan-1-sulfonsäure,
Cyclohexansulfonsäure, Hexan-1-sulfonsäure, Vinylsulfonsäure, Propen-1-sulfonsäure, 2-Hydroxy-äthan-1-sulfonsäure,
3-Hydroxy-propan-lsulfonsäure, 3-Methoxypropan-l-sulfonsäure, 2-Chloräthansulfonsäure,
2-Brom-äthansulfonsäure und ChlormeThansulfonsäure.
Es können auch Gemische von Salzen von zwei oder mehreren dieser Säuren verwendet werden.
In der Regel werden die Salze von Sulfonsäuren mit mehr als vier Kohlenstoffatomen weniger bevorzugt, da
ihre Wasserlöslichkeit bereits begrenzt ist. Selbstverständlich sind hier auch die chemische Natur und das
Molekulargewicht des Kondensationsproduktes zu berücksichtigen, die die Wasserlöslichkeit ebenfalls beeinflussen.
So können verhältnismäßig niedermolekulare Kondensate, die hydrophile Gruppen enthalten, auch
noch in der Form der Hexansulfonatc eine befriedigende Wasserlöslichkeit haben. Generell werden jedoch die niederen
Sulfonate und von diesen vor allem die Methansulfonate bevorzugt. Die letzteren zeigen die beste Wasserlöslichkeit
und zugleich eine gute Lagerfähigkeil.
Ein weiterer Vorteil der Methansulfonate gegenüber den höheren Sulfonaten ist ihr geringerer Preis. Sie lassen
sich besonders einfach herstellen, da Methansulfonsäure ein für die Herstellung der Diazomischkondensate geeignetes
Kondensationsmedium ist. Bei ihrer Verwendung fällt das Kondensat unmittelbar als Mcthansulfonut
an.
Die Mischkondensate können jedoch auch durch Kondensation in anderen Säuren als Kondensationsmedium,
z.B. in Phosphorsäure, hergestellt werden und können ohne Nachteil noch kleinere Mengen des Kondensationsmediums enthalten. In günstigen Fällen wird dadurch die
Lagerfähigkeit sogar noch erhöhl. Auch ein Überschuß
an Fällungsmiltel,z. B. Natriummclhansulfonat, kann in dem verwendeten Diazoniunisalz enthalten sein, ohne
daß seine Wirkung - von der Verdünnung abgesehen
beeinträchtigt wird.
beeinträchtigt wird.
Die Herstellung der Diazopolvkondensale ist im einzelnen in den DE-PSen 2065 732~und 2 065 733 beschrieben.
Die Kondensationsprodukte können hergestellt werden, indem man mindestens eine aromatische Diazoniumverbindung
der allgemeinen Formel A-N2X und mindestens eine Verbindung B. wobei die Symbole die
oben angegebene Bedeutung haben, mit mindestens einer aktiven Carbonylverbindung. vorzugsweise Formaldehyd,
in freier Form oder mit solche Carbonyh erbmdung
abgebenden Mitteln in stark saurem Medium kondensiert.
Ein weiteres Verfahren zur Herstellung von Diazoniummischkondensaten
des oben angeführten allgemeinen Typs besteh·, darin, daß man anstelle der Komponente
B eine modifizierte Zweitkomponente B1 der allgemeinen Formel
20
25
E(-CHR11-O-R„)m
verwendet, worin
verwendet, worin
E ein durch Abspaltung von in H-Alomen aus einer
Verbindung B der oben angegebenen Bedeutung entstandener Rest,
Ru H, ein Aryl-. Alkyl- oder heterocyclischer Rest, vorzugsweise
WasserstolT,
Rh H, ein Alkyl- oder Alylrest mit 1 -4 C-Atomen oder
ein Phenylrest und vorzugsweise Wasserstoff, Meihyl,
Äthyl oder Acetyl und
/)/ eine positive ganze Zahl von 1 bis etwa IO ist.
Die Kondensation wird in Gegenwart eines stark sauren Kondensationsmittels durchgeführt. Vorzugsweise
verwendet man konzentrierte, mäßig s'arke bis starke Säuren.
Besonders geeignete Kondensationsmiüel sind Phosphorsäure,
Methansulfonsäure und Schwefelsäure, die in Konzentrationen von mindestens 40, vorzugsweise 70 bis
100, Gewichtsprozent verwendet werden. Der Rest ist im allgemeinen W-isser, kann aber auch ganz oder teilweise
aus Lösungsmitteln. z.B. Methanol, Essigsäure, N-Methylpyrrolidon und dergleichen, bestehen. Gute Ergebnisse
erhält man beispielsweise, wenn man 80-100 %ige Phosphorsäure, 80%ige Schwefelsäure und 90%ige Methansulfonsäure
verwendet.
85 %ige Phosphorsäure ist ein ziemlich mildes Kondensationsmittel,
in dem die Kondensation auf sehr schonende Weise durchgeführt werden kann. Es ist deshalb
das bevorzugteste Kondensationsmittel, insbesondere bei Anwendung des zweiten Verfahrens, für alle Kombinationen
von Verbindungen, die unter diesen ziemlieh schonenden Bedingungen schnell genug reagieren.
90%ige Methansulfonsäure ist ein stärkeres Mittel. Diese
Säure hat den weiteren großen Vorteil, daß sie eine Vielzahl von Komponenten B und B, lösen kann.
Die mittleren Molekulargewichte der Kondensalionsprodukte
können je nach Wahl der Kondensationsteilnehmer und -bedingungen stark variiert werden. Es hat
sich jedoch gezeigt, daß zur Herstellung guter Kopiermaterialien vorzugsweise Mischkondensate mit Molekulargewichten
zwischen etwa 500 und 10000 geeignet sind. Es ist hierbei selbstverständlich zu beachten, daß es sich hier
um Mittelwerte handelt.
Als Gruppen, welche die Kondensierbarkeit der Komponenten A-N2X und B bewirken, seien genannt:
1. Arylreste und heterocyclische Reste, welche kondensationsfähige
Kernpositionen besitzen. Bevorzugt sind solche Reste, in welchen diese Kernpositionen noch
iktiviert sind. Diese Aktivierung kann z. B. erfolgen durch Anellierung mit weiferen uromatischen Ringen
oder durch Substitution durch Gruppen wie -OH. -O-Alkyl.
-O-Arvl. -SH. -S-Alkyl. -S-Aryl. -Alk\l.
-Aryl. -Amino. -Alk\lamino. -Dialkxlamino, -Aryiamino,
-Diarylamino etc. Neben diesen aktivierenden Substituenten
können in den kcndensationslahigen aromatischen
bzw. heterocyclischen Resten auch an sich die Kondensation hindernde Reste, z.B. Nitro- und Sulfonsäuregruppen,
vorkommen, wenn die durch andere Reste bewirkte Aktivierung nur herabgesetzt, aber nicht aufgehoben
wird.
2. Reste, die selbst der Kondensation zugänglich sind und direkt an iso- oder heterocyclische Reste oder an
aliphalische Reste gebunden sein können oder die ggf. direkt miteinander verknüpft sind. Hierher gehören
Gruppierungen wie Carbonsäureamide Sulfonsäureamide N-Alkylsulfonsäureamid, N-Arylsulfonsäureamid-,
Nitril-, Harnstoff-, Thioharnstoff-, Urethan-, Ureido-, Thioureido-, Glyoxaldiurein-, Imidazolon-, Guanidin-,
Dicyandiamid- und direkt an aromatischen Ringen stehende Aminogruppen.
Von den Diazoniumverbindungen der allgemeinen Formel
(R1-R3-)^2-N2X
werden diejenigen bevorzugt, in denen />=1 ist. R1 ist
vorzugsweise ein ggf. substituierter Phenylrest. Als Substituenten
werden solche bevorzugt, welche die Reaktivität des Kerns für die Kondensation erhöhen, insbesondere
Alkyl- und Alkoxygruppen. R2 bedeutet eine Phenylengruppe,
welche außer der Diazogruppe noch weitere Substituenten tragen kann. R3 ist ein Bindeglied der oben
angegebenen Typen zwischen den Resten R1 und R:,
wobei stets links der Rest R1 und rechts die Gruppe R2 zu denken ist, wenn R3 nicht symmetrisch ist.
Vorzugsweise ist R3 eine homöopolare Bindung oder
eines der Glieder — O —, — S— und -NH-.
Eine besonders wichtige Gruppe von Diazoverbindungen, welche bevorzugt zur Herstellung der Diazokondensationsprodukte
Verwendung finden, sind die Salze des Diphenylamin-4-diazoniumions und seiner Substitutionsprodukte.
Bevorzugt werden vor allem Diphenylamin-4-diazoniumsalze,
die sich von den 3-AIkoxy-4-aminodiphenylaminen mit 1-3 C-Atomen in der Alkoxygruppe
ableiten, insbesondere vom 3-Methoxy-4-aminodiphenylamin.
Die als Komponenten B oder als von diesen sich ableitenden Komponenten B1 einzusetzenden Verbindungen
können z.B. folgenden Stoffgruppen angehören:
Aromatische Kohlenwasserstoffe
Aromatische Amine
Phenole und Thiophenole
Phenoläther und Thiophenoläther
Heterocyclische Verbindungen
Harnstoff, Thioharnstoff, Carbonsäureamide
(aliphatisch und aromatisch)
Sulfonsäureamide
Sulfonsäureamide
(aliphatisch und aromatisch)
Bevorzugt werden Komponenten B und/oder B,, deren Molekulargewicht kleiner als 500, vorzugsweise kleine/
als 250, ist.
Bevorzugte Verbindungen sind Phenoläther, Thiophenoläther, aromatische Kohlenwasserstoffe und nichtbasische
Heterocyclen. Von diesen Stoffklassen sind diejenigen Vertreter besonders vorteilhaft, welche sich vom
Diphenvläiher. Diphenylsulfid. Diphenylinethan und
Diphenyl ableiten und einen oder zwei Substituenten. 7. B. Halogenamine. Alkyl- und Alkoxyreste, enthalten
können, jedoch vorzugsweise unsubstituiert sind.
Eine für die Anwendung im Rahmen dieser Erfindung besonders bevorzugte Gruppe von Diazopolykondensaten
sind Kondensationsprodukte aus 3-Alkoxy-diphen >laniin-4-diazoniumsalzcn. besonders 3-Melhoxy-diphenylaniin-4-diazoniumsalzen.
und den vorstehend genannten Zweilkomponenten. insbesondere solche, welche
aus A — N\X und B1 unter milden Bedingungen, d. h.
in XO 100%iger Orthophosphorsäure bei Temperaturen
\on f 10 bis etwa 400C hergestellt wurden. Kennzeichen
solcher Kondensate sind gute Lichtempfindlichkeit bei guter Lagerstabilitüt. Als besonders bevorzugte KondensaiuMisprodukle
aus dieser Gruppe seien genannt Kondensate aus 3-Methoxy-diphenylamin-4-diazoniumsalz
und Komponenten B1 aus der Reihe
4.4'Bis-methoxymethyl-dipheny lather 4,4'-Bis-niethoxymethyl-diphenylsulfid
4.4'-Bis-methoxymethyl-diphenylmethan und 4.4'-Bis-methoxymethyl-diphenyl.
Es gelangen insbesondere Mischkondensate im Rahmen
dieser Erfindung zur Anwendung, welche 0.1 -5. vorzugsweise 0.5 2. noch weiter bevorzugt ungefähr
1 Mol B bzw. B, je Mol A-N2X in mischkondensierter
Form enthalten.
Zur Herstellung der erfindungsgemäß anzuwendenden Salze organischer Sulfonsäuren fügt man im allgemeinen
zu konzentrierten Lösungen eines löslichen Salzes eines der Diazomischkondensaie die Säure, die das Anion stellen
soll, in freier Form oder in Form eines löslichen Salzes, wobei der Zusatz in fester Substanz oder als Lösung
erfolgt. Das Medium, in welchem die Herstellung erfolgt, soll so beschaffen sein, daß es entweder das gewünschte
Salz der aliphatischen Monosulfonsäure möglichst wenig löst oder ein Aussalzen durch Zugabe eines
Überschusses der Sulfonsäure oder ihres Salzes erlaubt.
Mit Vorteil arbeitet man in wäßriger Lösung, d.h. man löst z.B. rohe Kondensationsgemische, wie sie bei der
Herstellung der Kondensationsprodukte anfallen, in Wasser und fügt die entsprechende Sulfonsäure oder deren
Alkalisalz in Substanz oder als konzentrierte wäßrige Lösung zu. Das gewünschte Salz scheidet sich je nach den
angewendeten Partnern in Form einer festen Fällung, die abgesaugt werden kann, oder als zähe Masse ab, die von
der Mutterlauge durch Dekantieren abgetrennt wird.
Es ist aber auch möglich, für die Herstellung derartiger Kundc-iisaie aiiphaiische Sulfonsäuren bereits als Kondensationsmittel
anzuwenden und zur Abscheidung des gewünschten Produktes mit einem Nichtlöser für das
Kondensationsprodukt zu vermischen, welcher aber das Kondensationsmedium löst.
Es ist günstig, wenn das im Rahmen dieser Erfindung verwendete Diazoniumsalz einer aliphatischen Monosulfonsäure
noch geringe Mengen Säure, bevorzugt H3PO,,, H2SOj. oder Methansulfonsäure enthält, da hierdurch
die Lagerfähigkeit des Produktes günstig beeinflußt wird. Es ist besonders einfach, wenn diese Säuremenge dem
Kondensationsmittel entstammt, indem dieses nicht vollständig abgetrennt wird. Sie kann aber auch der Reinsubstanz
nachträglich zugesetzt werden. Die Säuremenge sollte im allgemeinen nicht mehr als 2 MoI, vorzugweise
nicht mehr als 0,5 MoI Säure je Äquivalent Diazoniumgruppen betragen.
Für die Herstellung der erfindungsgemäß eingesetzten
lichtempfindlichen Gemische können verschiedene hydrophile Bindemittel in Kombination mit den beschriebenen
Diazoverbindungen verwendet werden. Sehr gut geeignet sind Polyvinylalkohol, teilweise acylierter Polyvinylalkohol,
teilweise hydrolysiertes Polyvinylacetat, Polyacrylsäure, Methylcellulose, Hydroxymethylcellulose
und Gelatine. Die synthetischen Kolloide, z. B. Polyvinylalkohol, teilweise verseifte Polyvinylester und durch
to Copolymerisation z.B. mit Maleinaten innerlich weichgemachte Polyvinylacetat-Dispersionen sind besonders
günstig.
Man kann ferner den Gemischen noch Füllstoffe in feinteiliger dispergierter Form zusetzen, z. B. in Korngrößen
von 5-30 μηι, vorzugsweise 10-20μιη. Als Füllstoffe
kommen in Frage Kunststoffe, wie Polyamide, Polyester, Polyurethane und Vinylpolymerisate, z. B.
Polyvinylacetate, Polystyrol, Polyvinylchloride und Polyvinylidenchloride. Ihre Verwendung in Form von
Dispersionen ist bevorzugt. Als Füllstoffe brauchbar sind außerdem feinteiliges Siliciumdioxid, Aluminiumoxid,
Titandioxid, Kieselerde, Ton, Glaspulver, Metallkomplex-Farbstoffe, Farbpigmente. Ferner ist die Zugabe
von Weichmachern, Netzmitteln. Stärke, Salzen und Konservierungsmitteln möglich.
Als Lösungsmittel für die Beschichtungslösung wird bevorzugt Wasser verwendet. Ein kleinerer Anteil des
Lösungsmittels kann aber auch aus mit Wasser mischbaren
organischen Lösungsmitteln, z. B. niederen Alkoholen. bestehen, von denen Methanol bevorzugt wird.
Das Gemisch kann außer durch Pigment-Farbstoffe auch durch gelöste Farbstoffe angefärbt werden. In manchen
Fällen ist es auch sinnvoll, das nicht gefärbte Gemisch erst nach der Belichtung und Entwicklung auf dem
Schichtträger, meist einem Siebdruckgewebe einzufärben. Dies kann geschehen durch Tauchen oder Übergießen
mit einer Farbstoff-Lösung und Abspülen des nicht adsorbierten Farbstoff-Überschusses. Es ist auch möglich,
durch Tauchen oder Übergießen mit der alkalischen Lösung einer Kupplungskomponente nach der Entwicklung
in der vernetzten Schicht einen Farbstoff zu bilden, da trotz genügender Lichtvernetzung immer noch unzersetzte,
kupplungsfähige Diazogruppen in der Schicht vorhanden sind.
is Die lichtempfindlichen Gemische liegen als feste Kopierschichten
auf einem Siebdruckträger vor, wobei als Träger die für Siebdruck bekannten Materialien dienen
können. In erster Linie kommen die Flach- und Rundschablonen für Siebdruck und Textildruck in Frage. Diese
können bestehen aus Geweben oder Faservliesen oder perforierten Folien aus Kunststoffen, wie Polyamid oder
Polyester, oder aus Seidengewebe oder Japanpapier, aus Metallgeweben aus Stahl, Messing oder Bronze oder aus
galvanisch erzeugten Rotationsschablonen, bevorzugt aus Nickel.
Die in den Gemischen verwendeten lichtempfindlichen Verbindungen gestatten auch den Zusatz von relativ großen
Mengen nicht wasserlöslicher Harze und anderer Substanzen bei unvermindert leichter und schneller Entwickelbarkeit
mit wäßrigem Entwickler.
Das erfindungsgemäß erhaltene vorsensibilisierte Siebdruckmaterial erreicht die guten Eigenschaften der
schon lange bekannten Bichromat-Kolloid-Schichten, ohne deren Nachteile zu besitzen. Die darin verwendeten
Diazoverbindungen besitzen nicht nur gute Wasserlöslichkeit und Lagerfähigkeit, sondern sind im Gegensatz
zu den bisher üblichen flüssigen oder öligen Diazokondensationsprodukten
feste Pulver. Zur besseren Konfek-
ίο
lionierung können sie mil anderen pulverförmigen wasserlöslichen
Substanzen, z.B. Polyvinylalkohol, gemischt werden.
Vor allem sind die lichtempfindlichen Gemische und die damit hergeslellten Kopiermaterialien dadurch ausgezeichnet,
daß sie gegenüber den bisher für den gleichen Zweck verwendeten Materialien auf Diazo-Basis deutlich
lichtempfindlicher sind und die Lichtempfindlichkeit vergleichbarer Bichromat-Schichlen erreichen. Sie besitzen
dagegen nicht die Nachteile der Bichromat-Malerialien, von denen die wegen der thermischen Dunkelhärtung
sehr geringe Lagerfähigkeit beschichteten Materials,
die knappe Lagerfähigkeit sensibilisierter Lösung, die Nichtkonstanz der Kopiereigenschaften und die Giftigkeit
von Bichromaten am bekanntesten sind.
Ein weiterer Nachteil der Bichromat-Schichten ist die sehr schwierige oder meist unmögliche Entschichtung
gehärteter Schichten. Die Entschichtbarkeit wird oft aus wirtschaftlichen Gründen gefordert. Die erfindungsgemäß
hergestellten Schichten sind dagegen dadurch ausgezeichnet, daß sie trotz hervorragender z. B. den Druckbeanspruchungen
völlig genügender Lichtvernetzung und sogar noch nach zusätzlicher z. B. thermischer Nachhärtung
wesentlich leichter als Bichromat-Schichten entschichtbar sind. Sogar auf Nickel-Rotationsschablonen,
für die nach der DE-OS 1 522 526 Bichromat-Schichten noch zusätzlich nachgehärtet werden müssen, halten die
erfindungsgemäß erhaltenen Siebdruckformen ohne eine zusätzliche Nachpolymerisation nicht nur hohen Druckbelastungen
stand, sondern lassen sich auch noch nach dem im Sonderheft 10 »Filmdruckschablonen« der
BAYER Farben Revue, Seite 75, beschriebenen Verfahren mit Ameisensäure entschichten.
Die Zusammensetzung der erfindungsgemäß erhaltenen Kopierschichten kann in weiten Grenzen schwanken.
Durch Zugabe von härtbaren Harzen und Bindemitteln kann der Anteil der Schicht an lichtempfindlicher
Substanz reduziert und damit die Lichtempfindlichkeit gesteigert werden. Für Siebdruckschichten sollte der Anteil
an Diazokondensat im allgemeinen nicht unter 2% liegen; mit 5% wird schon erreicht, daß die belichtete
Schicht völlig wasser-unlöslich wird, so daß es in den meisten Fällen nicht erforderlich ist, wesentlich höhere
Konzentration als 5 % zu verwenden. Selbstverständlich können in bestimmten Fällen, z.B. bei Diazokondensaten
mit hohem Anteil an Zweitkomponente B bzw. B1 oder bei weniger leicht vernetzbaren Bindemitteln, auch
wesentlich größere Mengenanteile an Diazokondensat verwendet werden. Im allgemeinen liegt dieser Anteil
aber nicht höher als 50%, vorzugsweise unterhalb 20%.
Bei Schichten für den Siebdruck mit Lösungsmittel-Farben, z. B. handelsüblichen Siebdruckfarben für das
Bedrucken von Polyvinylchlorid-Oberflächen, braucht die Schicht nur aus Diazokondensatz und. Kolloid zu
bestehen. Der Zusatz von nicht wasserlöslichen Füllstoffen ist jedoch für die mechanischen Eigenschaften von
Vorteil.
Soll die Siebdruckschicht für überwiegend wäßrige Farben z. B. im Textildruck, verwendet werden, so empfiehlt
sich zur Vermeidung oder Unterdrückung einer allmählichen Quellung ein Zusatz von nicht wasserquellbaren
Substanzen. Bevorzugt werden für solche Zwecke Polyvinylacetate, insbesondere in Form der wäßrigen
Dispersionen eingesetzt. Der Anteil an Polyvinylacetat darf im allgemeinen 60-70 % des Gesamtfeststoffgehaltes
nicht überschreiten, damit die wäßrige Entwickelbarkeit bewahrt bleibt.
Als Entwickler werden praktisch immer wäßrige Flüssigkeiten verwendet. Vorzugsweise wird sogar mit reinem
Wasser ohne jeden Zusatz entwickelt.
Die folgenden Beispiele erläutern die Erfindung, sollen
jedoch nicht ihren Umfang begrenzen. Prozenlangaben sind, wenn nichts anderes bemerkt ist, Gewichtsprozente.
Zu einer Auflösung von 32.3g 3-Melhoxy-diphenyliimin-4-diazoniumsulfiil
in 70,7 ml 86%igcr Phosphorsäure wurden 12.9 g 4,4'-Bis-methoxymcthyl-diphenylälher
unter Rühren /ugelropft. Nach 20stündiger Kondensation bei 40° C wurde das Gemisch in 330 ml Wasser
gelöst, und 240 ml einer chloridfreien wäßrigen Lösung von Natriummethansulfonal, die 144g dieses Salzes enthielt,
wurden zugegeben. Die Fällung wurde nach Dekantieren der Mutterlauge erneut in Wasser gelöst
und in gleicher Weise wieder ausgefüllt, abgetrennt, im Vakuum über Phosphorpentoxid getrocknet und zu einem
Pulver zerrieben.
Ausbeute: 37 g (C 48,0 %, N 6,8 %, S 10,7 %, P 0,29 %).
Ausbeute: 37 g (C 48,0 %, N 6,8 %, S 10,7 %, P 0,29 %).
3 g dieser Substanz wurden in 10 ml Wasser angelöst und dann mit 100 g einer ca. 30%igcn wäßrigen Lösung
von Polyvinylalkohol mit dem K-Werl 70 und einem Restacetylgruppengehalt von etwa 12% verrührt, dann
noch mit 5 ml Dibutylphthalat und 10 g feinteiliger Kieselsäure intensiv gemischt und mit 0,2 g Kristallviolett
gefärbt. Mit diesem Siebdrucklack wurde ein Perlongewebe beidseitig doppelt beschichtet, getrocknet, 5 Minuten
bei 1000C nachgetrocknet und unter einer positiven
Vorlage mit einer 5000 Watt Xenonlampe im Abstand von 65 cm 2 Minuten belichtet. Anschließend wurde mit
einem kalten Wasserstrahl entwickelt, wobei die Schicht an den unbelichteten Stellen randscharf aus den Maschen
herausgelöst wurde. Nach dem Trocknen konnte die Schablone mit den handelsüblichen, Lösungsmittel enthaltenden
Siebdruckfarben zum Bedrucken von Papieren und Kunststoffen verwendet werden.
Der Siebdrucklack und damit vorbeschichtete Gewebe sind mit unveränderter Lichtempfindlichkeit mindestens
10 Wochen bei Raumtemperatur lagerfähig.
Beispie! 2
Zu einer Auflösung von 32.3 g 3-Methoxy-diphenylamin-4-diazoniumsulfat
in 210 ml 86%iger Phosphorsäure wurden unter Rühren in Portionen 33,3 g fein gepulvertes
1 ^-Bis-hydroxymethylAo-diisopropyl-benzol
gegeben. Nach 12 '/2 Stunden Kondensation bei 40° C
und 4' /2-tägigem Stehen bei Raumtemperatur wurde das
Gemisch in 550 ml Wasser bei 60° C gelöst und das Methansulfonat des Kondensationsproduktes durch Zugabe
von 800 ml wäßriger Lösung, die 240 g Natriummethansuifonat enthielt, und Abkühlen auf Raumtemperatur
abgeschieden. Zur Reinigung wurde das Produkt nochmals in Wasser gelöst und in gleicher Weise wieder
ausgefällt, schließlich abgetrennt und getrocknet.
Ausbeute: 50g.
Ausbeute: 50g.
Mit 100 g einer Siebdruckemulsion, die aus gleichen Gewichtsteilen einer 25 %igen Lösung von Polyvinylalkohol
mit dem K-Wert 75 und einem Restacetylgruppengehalt von etwa 12% und einer Dispersion eines Vinylacetat-Mischpolymerisats
mit 55% Feststoffgehalt bestand, wurde die wäßrige Lösung von 2 g der wie eben beschrieben hergestellten Diazo-Verbindung verrührt.
Damit wurde ein Polyestersiebdruckgewebe wie üblich beschichtet, getrocknet, belichtet, mit Wasser entwickelt
und getrocknet. Um das Bild besser sichtbar zu machen, wurde vor dem Trocknen die entwickelte Schablone
durch Übergießen mit einer wäßrigen Lösung von Kristallviolett angefärbt. Der an den Schichtparlien nicht
adsorbierte Farbstoff-Überschuß wurde vor dem Trocknen durch Abspülen entfernt. Die Siebdruckschablone ist
hervorragend zum Bedrucken von Textilien mil den üblichen wäßrigen Textildruekfarben geeignet.
Zu einer Auflösung von 42.5g 2,5.4'-Triälhoxydiphenyl-4-dia/oniumsulfal
(N 6,2 %) in 300 ml 93 %iger Phosphorsäure wurden unter Rühren 25.9g 4.4'-Bis-methoxymethyl-diphenylälher
getropft. Nach 3 V4-stündiger Kondensation bei 4()°C wurde das Gemisch
mit 30OmI Wasser verdünnt und das Methansulfonal durch Zugabe von 860 ml 26%iger Meihansulfonsäurelösung
abgeschieden, nach nochmaliger Umfällung abge-I rennt und net rock net.
Ausbeute": 67.3 g (C 48.1 %. N 3.0"/«. S 8.1 "/«, P 3.8 %).
Hine ca. 30%ige Polyvinylalkohol-Lösimg, die durch
8-stündiges Verrühren von Polyvinylalkohol mit dem K-Wert 50 und einem Restacetylgruppengehall von etwa
I2%p in Wasser bei ca. 85°C in einem offenen Kessel hergestellt worden war. wobei 1 % Polyäthylenglykol als
Antischaummittel zugesel/t wurde, wurde im Gewichlsverhältnis
3 : I mit der 55 %igen Dispersion eines Vinylacetat-Maleina
!-Mischpolymerisats gemischt. In 25Og des
Gemisches wurden 4g der vorstehend beschriebenen wasserlöslichen Diazoverbindung eingerührt.
Mit diesem Sicbdrucklack wurde ein Sieb beschichtet,
getrocknet, belichtet, entwickelt und die so hergestellte
Siebdruckschablone für das Bedrucken von PVC-Kunststoffen verwendet. Sie ist frei von Schichtlehlern. den
sogenannten Fettaugen, und daher ohne Abdeckarbeiten für hohe Aullagen brauchbar. Wenn die Schablone nicht
mehrgebraucht wird, kann das Gewebe durch Entschlichten, z. B. mit Chlorkalk oder Natriumhypochlorit, bevorzugt
mit Lithiumhypochloril-Lösung, gereinigt und wiederverwendbar iiemachl werden.
20
35
40
Zu einer Lösung von 32,3 g 3-Methoxy-diphenylamin-4-diazoniumsulfat
in 100 ml 86%iger Phosphorsäure wurden unter Rühren 25.8 g 4,4'-Bis-methoxymethyl-diphenyläther
getropft. Nach 17-stündiger Kondensation bei 40°C wurde das Methansulfonat wie in den vorherigen
Beispielen beschrieben abgeschieden, gereinigt und getrocknet.
Ausbeute: 53 g (C 55.3 %. N 6.5 %, S 6.2 %. P 1.9 %. Cl
<0,l%, H,O 4?3%). so
Zu 1000g einer Siebdruckemulsion. die aus 3 Teilen einer 53 %igen Viny'icetat-Mischpolymerisat-Dispersion
und 2 Teilen einer durch Auflösen und Einengen hergestellten 24 %igen Lösung des in Beispiel 2 verwendeten
Polyvinylalkohol bestand, wurden eine wäßrige Lösung von 15g des vorstehend beschriebenen Diazokondensats
und 4g eines blauen Farbstoffs gegeben und damit verrührt. Mit diesem Kopierlack wurde ein perforierter
Nickel-Rolationszylinder mit 576 Maschen/cm2 3 mal mit Zwischcntrocknung beschichtet, indem eine damit
gefüllte runde Gummirakel außen am stehenden Lochzylinder nach oben geführt wurde. Dabei wurden
die Löcher des Rotationszylinder mil lichtempfindlichem Lack gefüllt. Nach Rundbelichtung mit einer
Quecksilberdampf-Röhrenlampc. wobei der Zylinder mit aufgeklebter Vorlage langsam rotierte, wurde mit
einer Wasserbrausedie Schicht an den unbelichteten Stellen
aus den Löchern herausgelöst. Anschließend wurde die fast haarrißfreie Rundschablone etwas retuschiert
und durch Tempern bei 150 180°C nachgehärlct und druckfertig gemacht. Mit dieser Druckform konnten hohe
Metragen von Textilien bedruckt werden. Die ausgedruckte Nickel-Rotationsschablone kann mit Ameisensäure
entschichtet und so der perforierte Rotationszylinder wieder verwendet werden.
Das Kondensationsgemisch von Beispiel 4 wurde 5 Stunden bei 40°C kondensiert und das Kondensationsprodukt wie dort beschrieben in Form des Salzes der
Chlormethansullbnsäure abgeschieden.
Mit einer wäßrigen Lösung von 4g dieser Substanz wurden 250 g einer 30%igen Lösung des in Beispiel 1
verwendeten Polyvinylalkohole, die 5 % !"einteiliges PoIyvinylacelat-Pulver
enthielt, sensibilisiert. Damit wurde wie üblich durch Beschichten. Trocknen, Belichten. Entwickeln.
Trocknen eine Siebdruckschablone hergestellt.
Zur Herstellung des Diazokondensats wurde analog Beispiel 5 verfahren. Die Abscheidung erfolgte jedoch in
Form des Salzes der Propan-2-sulfonsäure.
Eine 10 %ige wäßrige Lösung von Hydroxyäthylcellulose
wurde mit 1 % der vorstehend beschriebenen lichtempfindlichen Verbindung verrührt. Durch 3maliges
beidseitiges Beschichten eines feinmaschigen Siebdiuckgewebes
sowie Belichten. Entwickeln mit Wasser und Trocknen wurde eine gute Schablone für Lösungsmittelfarben-Siebdruck
hergestellt.
Ähnliche Ergebnisse wurden erhalten, wenn das Dia-7okondensat
als Salz der Butan-!-sulfonsäure abgeschieden
und sonst in gleicher Weise verarbeitet wurde.
Claims (1)
1. Verfahren zur Herstellung von Siebdruckformen, bei dem man ein lichtempfindliches Gemisch,
das ein hydrophiles härtbares Bindemittel und ein Kondensationsprodukt aus wiederkehrenden Einheiten
der allgemeinen Typen A-N2X und B im mittleren .Molverhältnis von 1:0.1 bis 1 :20 enthält,
welche untereinander durch zweibindige Brückenglieder, die sich von einer kondensationsfähigen Carbonylverbindung
ableiten, verbunden sind, wobei die Einheiten Α—Ν-,Χ von Verbindungen der Formel
(R1 -R3-)PR2-N,X abgeleitet sind und wobei
ρ eine ganze Zahl von 1 bis 3, R1 einen aromatischen Rest mit mindestens einer zur Kondensation mit aktiver Carbonylverbin-
ρ eine ganze Zahl von 1 bis 3, R1 einen aromatischen Rest mit mindestens einer zur Kondensation mit aktiver Carbonylverbin-
dung befähigten Position,
R2 eine ggfs. substituierte Phenylengruppe,
R3 eine Einfachbindung oder eine der Gruppen:
R2 eine ggfs. substituierte Phenylengruppe,
R3 eine Einfachbindung oder eine der Gruppen:
-(CH2), -NR4 -
-0-(CH,)r-NR4-
-S-(CH,)r-NR4-
-S-CH2CO-NR4-
-O-R5-O-
-O-
- S - oder
-CO-NR4-
25
Priority Applications (20)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2041395A DE2041395C2 (de) | 1970-08-20 | 1970-08-20 | Verfahren zur Herstellung von Siebdruckformen |
AU31977/71A AU464160B2 (en) | 1970-08-20 | 1971-08-04 | Light sensitive copying compositions |
NLAANVRAGE7111004,A NL169524C (nl) | 1970-08-20 | 1971-08-10 | Werkwijze voor het vervaardigen van een zeefdrukvorm. |
CS5885A CS152403B2 (de) | 1970-08-20 | 1971-08-13 | |
BE771429A BE771429A (fr) | 1970-08-20 | 1971-08-17 | Matiere a copier photosensible pour la production de formes de serigraphie |
AT717771A AT308778B (de) | 1970-08-20 | 1971-08-17 | Lichtempfindliche Kopiermasse zur Herstellung von Siebdruckformen |
CH1206371A CH580288A5 (de) | 1970-08-20 | 1971-08-17 | |
CA120,710A CA964515A (en) | 1970-08-20 | 1971-08-17 | Light-sensitive copying composition for use in the manufacture of screen printing stencils |
TR18288A TR18288A (tr) | 1970-08-20 | 1971-08-17 | Serigrafi sablonlarmin imaline mahsus isiga karsi hassas kopya kitlesi |
IL37517A IL37517A0 (en) | 1970-08-20 | 1971-08-18 | Light-sensitive copying compositions for use in the manufacture of screen printing stencils |
HUKA1309A HU166246B (de) | 1970-08-20 | 1971-08-18 | |
PL1971150100A PL81660B1 (de) | 1970-08-20 | 1971-08-19 | |
YU2135/71A YU36313B (en) | 1970-08-20 | 1971-08-19 | Process for preparing a light-sensitive copying material |
BR5399/71A BR7105399D0 (pt) | 1970-08-20 | 1971-08-19 | Massa copiadora fotossensivel para a producao de moldes de siringrafia |
FR7130208A FR2107058A5 (en) | 1970-08-20 | 1971-08-19 | Photosensitive copying material - contg condensate of aromatic diazonium cpd and cpd which can be condensed in acidic medium with |
SE7110568A SE370583B (de) | 1970-08-20 | 1971-08-19 | |
ES394368A ES394368A1 (es) | 1970-08-20 | 1971-08-19 | Mejoras introducidas en un procedimiento para la obtencion de moldes de serigrafia. |
ZA715564A ZA715564B (en) | 1970-08-20 | 1971-08-20 | Light-sensitive copying compositions |
JP6353971A JPS549521B1 (de) | 1970-08-20 | 1971-08-20 | |
US05/651,317 US4021243A (en) | 1970-08-20 | 1976-01-22 | Diazo light-sensitive copying composition and process of using in the manufacture of screen printing stencils |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2041395A DE2041395C2 (de) | 1970-08-20 | 1970-08-20 | Verfahren zur Herstellung von Siebdruckformen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2041395A1 DE2041395A1 (de) | 1972-02-24 |
DE2041395C2 true DE2041395C2 (de) | 1983-10-13 |
Family
ID=5780284
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2041395A Expired DE2041395C2 (de) | 1970-08-20 | 1970-08-20 | Verfahren zur Herstellung von Siebdruckformen |
Country Status (19)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS549521B1 (de) |
AT (1) | AT308778B (de) |
AU (1) | AU464160B2 (de) |
BE (1) | BE771429A (de) |
BR (1) | BR7105399D0 (de) |
CA (1) | CA964515A (de) |
CH (1) | CH580288A5 (de) |
CS (1) | CS152403B2 (de) |
DE (1) | DE2041395C2 (de) |
ES (1) | ES394368A1 (de) |
FR (1) | FR2107058A5 (de) |
HU (1) | HU166246B (de) |
IL (1) | IL37517A0 (de) |
NL (1) | NL169524C (de) |
PL (1) | PL81660B1 (de) |
SE (1) | SE370583B (de) |
TR (1) | TR18288A (de) |
YU (1) | YU36313B (de) |
ZA (1) | ZA715564B (de) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1450196A (en) * | 1972-11-25 | 1976-09-22 | Hoechst Ag | Light-sensitive preparations |
DE2655553A1 (de) * | 1976-12-08 | 1978-06-15 | Licentia Gmbh | Mittels einer diazoniumverbindung sensibilisierte waesserige loesung eines polymerisates sowie verwendung einer solchen loesung zur herstellung von leuchtschirmen fuer farbbildkathodenstrahlroehren |
US5112743A (en) * | 1989-05-24 | 1992-05-12 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Light-sensitive composition and presensitized plate for use in making lithographic printing plates |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3794384A (en) * | 1972-05-17 | 1974-02-26 | Goodyear Tire & Rubber | Disk wheel |
-
1970
- 1970-08-20 DE DE2041395A patent/DE2041395C2/de not_active Expired
-
1971
- 1971-08-04 AU AU31977/71A patent/AU464160B2/en not_active Expired
- 1971-08-10 NL NLAANVRAGE7111004,A patent/NL169524C/xx not_active IP Right Cessation
- 1971-08-13 CS CS5885A patent/CS152403B2/cs unknown
- 1971-08-17 CA CA120,710A patent/CA964515A/en not_active Expired
- 1971-08-17 AT AT717771A patent/AT308778B/de active
- 1971-08-17 CH CH1206371A patent/CH580288A5/xx not_active IP Right Cessation
- 1971-08-17 TR TR18288A patent/TR18288A/xx unknown
- 1971-08-17 BE BE771429A patent/BE771429A/xx unknown
- 1971-08-18 HU HUKA1309A patent/HU166246B/hu unknown
- 1971-08-18 IL IL37517A patent/IL37517A0/xx unknown
- 1971-08-19 YU YU2135/71A patent/YU36313B/xx unknown
- 1971-08-19 ES ES394368A patent/ES394368A1/es not_active Expired
- 1971-08-19 SE SE7110568A patent/SE370583B/xx unknown
- 1971-08-19 PL PL1971150100A patent/PL81660B1/pl unknown
- 1971-08-19 FR FR7130208A patent/FR2107058A5/fr not_active Expired
- 1971-08-19 BR BR5399/71A patent/BR7105399D0/pt unknown
- 1971-08-20 JP JP6353971A patent/JPS549521B1/ja active Pending
- 1971-08-20 ZA ZA715564A patent/ZA715564B/xx unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CS152403B2 (de) | 1973-12-19 |
AU464160B2 (en) | 1975-08-21 |
AT308778B (de) | 1973-07-25 |
DE2041395A1 (de) | 1972-02-24 |
BE771429A (fr) | 1972-02-17 |
CH580288A5 (de) | 1976-09-30 |
NL169524B (nl) | 1982-02-16 |
PL81660B1 (de) | 1975-08-30 |
NL7111004A (de) | 1972-02-22 |
HU166246B (de) | 1975-02-28 |
YU36313B (en) | 1982-06-18 |
TR18288A (tr) | 1976-12-09 |
SE370583B (de) | 1974-10-21 |
YU213571A (en) | 1980-09-25 |
ES394368A1 (es) | 1975-04-01 |
CA964515A (en) | 1975-03-18 |
BR7105399D0 (pt) | 1973-04-12 |
ZA715564B (en) | 1972-04-26 |
JPS549521B1 (de) | 1979-04-25 |
NL169524C (nl) | 1982-07-16 |
IL37517A0 (en) | 1971-11-29 |
AU3197771A (en) | 1973-02-08 |
FR2107058A5 (en) | 1972-05-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2024243C3 (de) | Verfahren zur Herstellung Diazoniumgruppen enthaltender, lichtempfindlicher Kondensationsprodukte und diese Kondensationsprodukte enthaltendes lichtempfindliches Kopiermaterial | |
DE2739774C2 (de) | ||
DE1925938C3 (de) | Vorsensibilisierte, negativ arbeitende lithographische Druckplatte | |
DE2508618C2 (de) | Lichtempfindliches Gemisch | |
DE3639757C2 (de) | ||
EP0135026B1 (de) | Lichthärtbares Gemisch und daraus hergestelltes lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial | |
DE1289741B (de) | Verwendung von Kondensationsprodukten des Diazodiphenylamins zum Vorsensibilisieren von Siebdruckmaterial | |
DE1254466B (de) | Kopiermaterial fuer die photomechanische Herstellung von Druckformen und Verfahren zur Herstellung von Druckformen | |
EP0126875B1 (de) | Lichtempfindliches, Diazoniumgruppen enthaltendes Polykondensationsprodukt, Verfahren zu seiner Herstellung und lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial, das dieses Polykondensationsprodukt enthält | |
DE1622675B1 (de) | Lichtvernetzbare Schichten aus Polymeren | |
EP0030001B1 (de) | Lichtempfindliches Gemisch und damit hergestelltes lichtempfindliches Kopiermaterial | |
DE1086123B (de) | Einkomponenten-Diazotypiematerial | |
DE2065733C2 (de) | Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial | |
DE2041395C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Siebdruckformen | |
DE1643765A1 (de) | Strahlungsempfindliches Material | |
DE2658299A1 (de) | Loesliche lichtempfindliche harzzusammensetzung und ihre verwendung | |
DE2057473C2 (de) | Lichtempfindliches Gemisch | |
DE4023586A1 (de) | Lichtempfindliche siebdruckmasse und deren verwendung | |
DE2932377A1 (de) | Lagerstabile lithographische druckplatten | |
DE1572005C3 (de) | Photographisches Verfahren zur Herstellung von Diffusionsübertragungsbildern | |
DE1769611A1 (de) | Methinfarbstoffe | |
DE1572067C3 (de) | Lichtempfindliches Kopiermaterial | |
DE1622764B1 (de) | Lichtempfindliche Schichten fuer den Siebdruck | |
DE2064481A1 (de) | Lichtelektrisch leitfähige Materialien fur die Elektrophotographie | |
AT221119B (de) | Lichtempfindliches Material für den Siebdruck |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8178 | Suspension cancelled | ||
8125 | Change of the main classification |
Ipc: G03F 7/12 |
|
8126 | Change of the secondary classification |
Ipc: G03F 7/08 |
|
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition |