DE617056C - Verfahren zur Umkehrentwicklung lichtempfindlicher Halogensilberschichten ohne Zwischenbelichtung - Google Patents
Verfahren zur Umkehrentwicklung lichtempfindlicher Halogensilberschichten ohne ZwischenbelichtungInfo
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- DE617056C DE617056C DEI49386D DEI0049386D DE617056C DE 617056 C DE617056 C DE 617056C DE I49386 D DEI49386 D DE I49386D DE I0049386 D DEI0049386 D DE I0049386D DE 617056 C DE617056 C DE 617056C
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C5/00—Photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents
- G03C5/26—Processes using silver-salt-containing photosensitive materials or agents therefor
- G03C5/50—Reversal development; Contact processes
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Description
- Verfahren zur Umkehrentwicklung lichtempfindlicher Halogensilberschichten ohne Zwischenbelichtung Das Prinzip des im Hauptpatent 571026 beschriebenen Verfahrens besteht darin, beim Umkehrverfahren in der nach dem Herauslösen des Negativsilbers stehengebliebenen, aus Halogensilber bestehenden positiven Bildsubstanz durch Einwirkung geruchloser Schwefelverbindungen .während der zweiten Entwicklung Schwefelsilberkeime zu erzeugen, die eine Entwicklung des Positivbildes ohne Zwischenbelichtung ermöglichen.
- Eine gewisse Schwierigkeit bei der Ausübung dieses Verfahrens tritt dadurch ein, daß die mit der geruchlosen Schwefelverbindung versetzte zweite Entwicklerlösung eine relativ geringe Haltbarkeit zeigt, so daß dieser Entwickler bisher praktisch nicht in der gewünschten Weise ausgenutzt werden konnte.
- Nach dem vorliegenden Verfahren wird diese Schwierigkeit dadurch behoben, daß man die geruchlose Schwefelverbindung nicht dem zweiten Entwickler selbst zusetzt. Vielmehr bringt man die geruchlose Schwefelverbindung, von dem zweiten Entwickler getrennt, zwischen diesem und dem zum Herauslösen des Negativsilbers dienenden Bade zur Anwendung. Man kann auch den Schwefelkörper dem üblicherweise benutzten, aus Natriumsulfit bestehenden Klärbade einverleiben, wodurch ein besonderes Bad erspart wird. Auf diesem Wege bleibt .der zweite Entwickler frei von Schwefelverbindungen und erhält dadurch die erforderliche längere Haltbarkeit. Beispiele i. Das umzukehrende Bild durchläuft zunächst, wie üblich, die Negativentwicklung, das Umkehrbad (Bichromatschwefelsäure) und das Klärbad (Natriumsulfit) und gelangt sodann in folgendes Spezialbad: Wasser iooo ccm, Thioharnstoff 0,4 g. Darauf wird gewaschen, das Positiv entwickelt und wiederum gewaschen.
- 2. Das Spezialbad in Beispiel i wird mit dem Klärbad vereinigt. Das umzukehrende Bild gelangt nach der Negativentwicklung und Umkehrung in folgendes Klärbaad: Wasser ioooccm, Natriumsulfit krist. Zoo g, Thiosinamin o,: g, Thioharnstoff 0,3 g. Darauf wird gewaschen, das Positiv entwickelt und wiederum gewaschen. In beiden Fällen kann nach der zweiten Entwicklung in Thiosulfat -fixiert werden; auch kann für die Negativ- und Positiventwicklung der gleiche Entwickler verwendet werden.
Claims (1)
- PATENTANSPRÜCHE: i. Verfahren zur Umkehrentwicklung lichtempfindlicher Halogensilberschichten ohne Zwischenbelichtung nach Patent 571 o26, .dadurch gekennzeichnet, daß die die Silberkeime erzeugenden geruchlosen Schwefelverbindungen nicht im zweiten Entwicklerbade, sondern in einem Zwischenbade zurAnwendunggebracht werden. a. Verfahren nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß die geruchlose Schwefelverbindung gleichzeitig mit einem an sich bekannten sulfithaltigen Klärbad zur Anwendung gebracht wind.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DEI49386D DE617056C (de) | 1934-03-29 | 1934-03-30 | Verfahren zur Umkehrentwicklung lichtempfindlicher Halogensilberschichten ohne Zwischenbelichtung |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DEI0049386 | 1934-03-29 | ||
| DEI49386D DE617056C (de) | 1934-03-29 | 1934-03-30 | Verfahren zur Umkehrentwicklung lichtempfindlicher Halogensilberschichten ohne Zwischenbelichtung |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE617056C true DE617056C (de) | 1935-08-10 |
Family
ID=25981789
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DEI49386D Expired DE617056C (de) | 1934-03-29 | 1934-03-30 | Verfahren zur Umkehrentwicklung lichtempfindlicher Halogensilberschichten ohne Zwischenbelichtung |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE617056C (de) |
-
1934
- 1934-03-30 DE DEI49386D patent/DE617056C/de not_active Expired
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