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Hintergrund
der Erfindung
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Bereich der
Erfindung
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Die
vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines
Lithographie-Druckplattenträgers, einen
Lithographie-Druckplattenträger
und eine PS-Platte. Insbesondere betrifft die vorliegende Erfindung
einen Lithographie-Druckplattenträger, der der Träger einer
PS-Platte wird, die ausgezeichnete Druck-Eigenschaften und ein Vermögen aufweist,
wiederholtem Drucken standzuhalten, und betrifft ein Herstellungsverfahren,
das es ermöglicht,
dass der Lithographie-Druckplattenträger mit hoher Produktions-Stabilität hergestellt
werden kann, und betrifft eine PS-Platte, die die oben angegebenen
vorteilhaften Eigenschaften aufweist.
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Beschreibung
des verwandten Standes der Technik
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Allgemein
wird ein Lithographie-Druckplattenträger durch die folgenden Verfahrensschritte
hergestellt, die aufeinanderfolgend durchgeführt werden. Während eine
Abrasivstoff-Aufschlämmung,
in der ein Abrasiv-Stoff in Wasser suspendiert ist, der Oberfläche einer
Platte aus Aluminium oder aus einer Aluminium-Legierung (nachfolgend
bezeichnet als „Aluminium-Platte") oder einem Gewebe
oder dergleichen zugeführt
wird, wird die Oberfläche
einer mechanischen Oberflächen-Aufrauh-Behandlung
unterzogen, bei der ein mechanisches Anrauhen mittels einer Walzenbürste oder
dergleichen durchgeführt
wird. Als nächstes
wird der Lithographie-Druckplattenträger einer Ätz-Behandlung mit einem alkalischen Mittel,
einer elektrolytischen Oberflächen-Aufrauh-Behandlung, einer
Anodisierungs-Behandlung und dergleichen unterworfen.
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Bei
der mechanischen Oberflächen-Aufrauh-Behandlung
wird allgemein ein Anrauhen mittels einer walzenähnlichen Bürste oder dergleichen durchgeführt, wobei
eine Abra siv-Aufschlämmung
zugeführt
wird, in der ein Schleifmittel in Form von Teilchen in Wasser oder
dergleichen suspendiert wird.
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Jedoch
wird herkömmlicherweise
zum Zeitpunkt der mechanischen Oberflächen-Aufrauhung die Oberfläche der
Aluminium-Platte oder dergleichen mittels der Borsten der Walzen-ähnlichen
Bürste
abgerieben, und Kratzer einer Länge
von 1 mm werden gebildet, oder das Abrasiv-Material perforiert die
Oberfläche, so
dass eine große
Zahl von Vertiefungen gebildet werden.
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Weiter
werden diese Kratzer und Vertiefungen selbst durch die Ätz-Behandlung
und die elektrolytische Oberflächen-Aufrauhungs-Behandlung
und dergleichen, die danach durchgeführt werden, nicht entfernt
und bleiben auf der Oberfläche.
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Bei
dem vorgenannten mechanischen Aufrauhen werden in weitem Umfang
eine Rückgewinnung
und Wiederverwendung der Abrasiv-Aufschlämmung mit der Absicht durchgeführt, die
Abrasiv-Aufschlämmung
zu erhalten und die Menge an gebildetem Abwasser niedrig zu halten.
Jedoch wird zum Zeitpunkt des mechanischen Aufrauhens wenigstens
eine Teilmenge der Abrasiv-Teilchen in der Abrasiv-Aufschlämmung zermahlen und
werden feinere Teilchen. Dementsprechend sammeln sich dann, wenn
die Abrasiv-Aufschlämmung
nur zurückgewonnen
und wiederverwendet wird, die fein gemahlenen Abrasiv-Teilchen in
der Abrasiv-Aufschlämmung
an, und der mittlere Teilchen-Durchmesser des Abrasiv-Materials
in der Abrasiv-Aufschlämmung
sinkt schrittweise. Als Ergebnis wird der mittlere Teilchen-Durchmesser
der abtragenden Teilchen übermäßig klein, und
die Qualität
des Lithographie-Druckplattenträgers
ist nicht stabil.
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Ein
Verfahren gemäß dem Oberbegriff
von Patentanspruch 1 ist aus der Druckschrift EP-A 0 979 738 bekannt.
Um das aus diesem Stand der Technik bekannte Verfahren wirksam durchzuführen, ist
es wichtig, die Geschwindigkeit der Körnungsbürste zu steuern und diese ohne
Rücksicht
auf eine Änderung
der Höhe
des Drucks konstant zu halten. Weiter können wichtige Parameter die
Art der Körnung
und die Körnungsgröße sowie
die Korngrößen-Verteilung
des verwendeten abtragenden Materials sein.
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In
dem aus der Druckschrift JP-A 62-001,586 bekannten Verfahren sind
die verwendeten Abrasiv-Materialien sehr fein, und der Ra-Wert beträgt bis zu
20 μm.
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Die
Druckschrift JP-A 10-315,651 des Standes der Technik offenbart ein
Verfahren, in dem das Abrasiv-Material, das Teilchengrößen von
20 bis 80 μm
aufweist, zum mechanischen Aufrauhen verwendet wird. Dieser Stand
der Technik enthält
jedoch keine Information über
die Rauheit des durch das Verfahren erhaltenen Produkts.
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Eine
Lithographie-Druckplatte und ein Verfahren zu deren Herstellung
sind aus der Druckschrift EP-A 0 841 190 bekannt, in dem aus diesem
Dokument des Standes der Technik bekannten Verfahren werden Abrasiv-Materialien
mit einer Teilchengröße von 30
bis 60 μm
verwendet. Weiter lehrt das Verfahren dieses Standes der Technik,
das im Fall der Verwendung einer Bürste zum Aufbringen eines mechanischen
Körnens
die Bürsten-Borsten
vorzugsweise einen Biegeelastizitäts-Modul von 15.000 bis 35.000
kg/cm2 haben sollten.
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Eine
Druckplatte, die aus einer PS-Platte hergestellt wird, bei der eine
photoempfindliche Schicht auf einem derartigen Lithographie-Druckplattenträger gebildet
wird, weist ein schlechtes Vermögen
auf, wiederholtem Drucken standzuhalten. Wenn weiter ein Drucken
unter Verwendung dieser Druckplatte durchgeführt wird, haftet Druckfarbe
auf der Trommel der Kautschuk-Walze des Druckers, und Druckfarbe
tritt in die durch das Perforieren der Druckplatte durch das abtragende
Material hervorgerufenen Kratzer ein, so dass es ein Verschmutzen
der Nicht-Bild-Abschnitte der Oberfläche des gedruckten Blatts gibt.
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Zusammenfassung
der Erfindung
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Im
Hinblick auf die vorstehend genannten Probleme ist eine Aufgabe
der vorliegenden Erfindung, einen Lithographie-Druckplattenträger bereitzustellen,
der der Träger
einer PS-Platte wird, die ein ausgezeichnetes Vermögen aufweist,
wiederholtem Drucken standzuhalten, und bei dem Defekte im Aussehen
wie beispielsweise ein Verschmutzen der Gummi-Walze, bei dem die
Kautschuk-Walze einer Offset-Druckeinrichtung verschmutzt wird,
und ein Punkt-Verschmutzen der Oberfläche des gedruckten Blatts und
dergleichen nicht auftreten, und ein Verfahren zur Herstellung des
Lithographie-Druckplattenträgers und
einer PS-Platte, die die oben angegebenen vorteilhaften Eigenschaften
aufweist, bereitzustellen.
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Ein
Aspekt der vorliegenden Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung
eines Lithographie-Druckplattenträgers, wie es in Patentanspruch
1 definiert ist.
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Eine
PS-Platte, deren Träger
der Lithographie-Druckplattenträger
ist, der durch das oben beschriebene Herstellungsverfahren erhalten
wird, weist die vorteilhaften Eigenschaften auf, ein besonders gutes
Vermögen
aufzuweisen, wiederholtem Drucken standzuhalten, und geringes Verschmutzen
der Oberflächen
gedruckter Blätter
hervorzurufen.
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Die
vorliegende Erfindung betrifft auch eine PS-Platte, wie sie in Anspruch
6 definiert ist, bei der die Oberfläche des Lithographie-Druckplattenträgers, die
einer Oberflächen-Aufrauhungs-Behandlung
unterzogen wurde, einer Anodisierungs-Behandlung unterzogen wird
und eine photoempfindliche Schicht auf der Oberfläche gebildet
wird.
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Diese
PS-Platte weist ein ausgezeichnetes Vermögen auf, wiederholtem Drucken
standzuhalten, und Defekte im Aussehen auf Oberflächen gedruckter
Blätter
treten nicht auf, selbst wenn eine große Anzahl von Blättern gedruckt
wird. So ist die PS-Platte besonders geeignet zum Offset-Drucken
von Zeitungen und Magazinen, bei dem ein Vermögen, wiederholtem Drucken standzuhalten,
und Bildqualität
der Oberflächen
gedruckter Blätter
in starkem Maße
erforderlich sind.
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Ein
weiterer Aspekt der vorliegenden Erfindung betrifft einen Lithographie-Druckplattenträger, wie
er in Anspruch 5 definiert ist.
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Die
Oberfläche
des Lithographie-Druckplattenträgers
wird so ausgebildet, dass sie einheitlich rauh ist. Dementsprechend
weist eine PS-Platte, die diesen Lithographie-Druckplattenträger als ihren Träger aufweist, die
Vorteile auf, dass sie aufweist: ein exzellentes Vermögen, wiederholtem
Drucken standzuhalten; ein exzellentes Wasser-Halte-Vermögen, eine exzellente Farbton-Reproduzierbarkeit,
die Schwierigkeit, die Nicht-Bild-Abschnitte zu verschmutzen sowie
Wasser-Druckfarben-Ausgewogenheit sowie einen geringen Punkt-Zuwachs.
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Da
die PS-Platte gemäß der Erfindung
eine ausgezeichnete Haftung zwischen dem Lithographie-Druckplattenträger und
der photoempfindlichen Schicht aufweist, ist das Vermögen, wiederholtem
Drucken standzuhalten, hoch. Weiter sind das Wasser-Halte-Vermögen, die
Farbton-Reproduzierbarkeit, die Schwierigkeit des Verschmutzens
der Nicht-Bild-Bereiche und die Wasser-Druckfarben-Ausgewogenheit
ausgezeichnet, und der Punkt-Zuwachs ist gering. Darüber hinaus
treten Defekte im Aussehen wie beispielsweise ein Verschmutzen der
Gummi-Walze und ein Punkt-Verschmutzen und dergleichen nicht auf.
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Gemäß einer
bevorzugten Ausführungsform
umfaßt
das erfindungsgemäße Verfahren
einen Schritt des Zuführens
einer abtragenden oder Abrasiv-Aufschlämmung, in dem eine abtragende
Aufschlämmung
wenigstens einer Oberfläche
des Lithographie-Druckplattenträgers zugeführt wird;
einen Schritt des mechanischen Abtragens, in dem eine Oberfläche des
Lithographie-Druckplattenträgers
auf einer Seite, der die abtragende Aufschlämmung zugeführt wurde, mechanisch abgetragen
wird; und einen Schritt der Rückgewinnung der
gebrauchten abtragenden Aufschlämmung,
in dem die gebrauchte Flüssigkeit
der abtragenden Aufschlämmung,
die in dem mechanischen Abtrage-Schritt erzeugt wird, zurückgewonnen
wird und Teilchen, deren mittlerer Teilchendurchmesser im Bereich
von 1/3 bis 1/10 des mittleren Teilchen-Durchmessers der abtragenden Teilchen
liegt, die in der abtragenden Aufschlämmung enthalten sind, die in
dem Schritt des Zuführens
der abtragenden Aufschlämmung
zugeführt
wird, von der gebrauchten Flüssigkeit
der abtragenden Aufschlämmung entfernt
werden und die ver bleibende Aufschlämmung dem Schritt des Zuführens der
abtragenden Aufschlämmung
wieder zugeführt
wird.
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Gemäß dieser
bevorzugten Ausführungsform
des erfindungsgemäßen Verfahrens
werden in der Abfall-Flüssigkeit
bzw. gebrauchten Flüssigkeit
der abtragenden Aufschlämmung
Teilchen kleinen Durchmessers, die einen mittleren Teilchen-Durchmesser
in einem speziellen Bereich aufweisen, entfernt, und die verbleibende
Aufschlämmung
wird erneut verwendet. So kann nicht nur die Menge an abtragender
Aufschlämmung,
die verbraucht wird, verringert werden, sondern wird auch der mittlere
Teilchen-Durchmesser
der abtragenden Teilchen in der abtragenden Aufschlämmung nicht übermäßig groß oder übermäßig klein.
Dementsprechend weist eine PS-Platte, deren Träger der Lithographie-Druckplattenträger ist,
der durch dieses Herstellungsverfahren erhalten wird, ein exzellentes
Vermögen
auf, wiederholtem Drucken standzuhalten. Weiter gibt es dann, wenn
die PS-Platte beim Offset-Drucken verwendet wird, nur geringe Haftung
der Druckfarbe an der Gummi-Walze des Druckers, und damit ist es
schwierig, dass ein sogenanntes „Verschmutzen der Gummi-Walze" auftritt.
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Gemäß einer
weiteren bevorzugten Ausführungsform
des erfindungsgemäßen Verfahrens
liegt der mittlere Teilchen-Durchmesser des Abrasiv-Materials in
der abtragenden Aufschlämmung
bei 10 bis 70 μm.
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Eine
PS-Platte; deren Träger
der Lithographie-Druckplattenträger
ist, der durch diese bevorzugte Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens
erhalten wird, weist insbesondere ein ausgezeichnetes Vermögen auf,
wiederholtem Drucken standzuhalten, und es ist schwierig, dass ein
Verschmutzen der Gummi-Walze auftritt.
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Gemäß einer
weiteren bevorzugten Ausführungsform
des erfindungsgemäßen Verfahrens
werden in dem Schritt der Rückgewinnung
der Abfall-Flüssigkeit
bzw. verbrauchten Flüssigkeit
der abtragenden Aufschlämmung
die Teilchen, deren mittlerer Teilchen-Durchmesser im Bereich von 1/3 bis 1/10
des mittleren Teilchen-Durchmessers der abtragenden Teilchen liegt,
die in der abtragenden Aufschlämmung
enthalten sind, die in dem Schritt des Zuführens der abtragenden Aufschlämmung zugeführt wird,
durch Klassierung mittels eines Zyklons entfernt.
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Ein
Zyklon weist keine bewegbaren Bereiche auf, und sein Druckverlust
ist gering, verglichen mit demjenigen eines üblichen Filters oder dergleichen.
Dementsprechend ist in dieser bevorzugten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens
wenig Energie für
die Entfernung der Teilchen erforderlich, die einen mittleren Teilchen-Durchmesser
innerhalb des oben angegebenen Bereichs aufweisen, und die Zuverlässigkeit
ist hoch.
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Kurze Beschreibung
der Figuren
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1 ist
eine schematische Ansicht, die ein Beispiel einer abtragenden Vorrichtung
zeigt, wie sie beim Herstellen eines Lithographie-Druckplattenträgers gemäß der vorliegenden
Erfindung verwendet wird, worin A ein Aluminium-Substrat ist und 2A, 4A und 6A Bürsten-Borsten
sind.
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2 ist
eine schematisch Ansicht, die eine Grund-Struktur eines Beispiels
einer Lithographie-Druckplattenträger-Herstellungsvorrichtung
gemäß der vorliegenden
Erfindung veranschaulicht, worin zwei für eine Bürsten-Körnungs-Verarbeitungs-Vorrichtung steht, 6 für eine Vorrichtung
zur Rückgewinnung
von gebrauchter Flüssigkeit
der abtragenden Aufschlämmung
steht, 8 für
eine Walzen-Bürste
(mechanische Abtrage-Vorrichtung) steht, 10 für eine Walzen-Bürste (mechanische
Abtrage-Vorrichtung)
steht, 18 eine erste Sprüh-Vorrichtung für Abrasiv-Material
(Vorrichtung zum Zuführen
einer abtragenden Aufschlämmung)
steht, 20 für
eine zweite Sprühvorrichtung
für Abrasiv-Material
(Vorrichtung zum Zuführen
von abtragender Aufschlämmung) steht,
und 22 eine Leitung zum Zuführen einer abtragenden Aufschlämmung (Vorrichtung
zum Zuführen
einer abtragenden Aufschlämmung)
steht.
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3 ist
eine graphische Darstellung der Teilchengröße-Verteilung, die eine Beziehung
zwischen einer Teilchengröße-Verteilung
von abtragenden Teilchen, die in einem Schritt des Zuführens einer
abtragenden Aufschlämmung
in dem Verfahren zur Herstel lung eines Lithographie-Druckplattenträgers gemäß der vorliegenden
Erfindung zugeführt
werden, und einer Teilchengröße-Verteilung
von Teilchen zeigt, die in dem Schritt der Rückgewinnung der verbrauchten
Flüssigkeit
der abtragenden Aufschlämmung
entfernt werden.
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Detaillierte Beschreibung
der bevorzugten Ausführungsformen
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1. Lithographie-Druckplattenträger
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Die
Oberflächen-Rauheit
Ra der Oberfläche,
die einer Oberflächen-Aufrauhungs-Behandlung und einer
Anodisierungs-Behandlung unterzogen wurde, des Lithographie-Druckplattenträgers gemäß der vorliegenden
Erfindung liegt im Bereich von 0,3 bis 1,0 μm, und noch mehr bevorzugt im
Bereich von 0,45 bis 0,7 μm.
Die Oberflächen-Rauheit Ra ist ein
Wert, der durch die folgende Formel 1 wiedergegeben wird:
worin nur eine Referenz-Länge L in
Richtung einer mittleren Linie von einer Rauheits-Kurve der Oberfläche herausgezogen
wird, bei der die Oberflächen-Rauheit
gemessen wird, und die Richtung dieser mittleren Linie des herausgezogenen
Teils erstreckt sich entlang der X-Achse, und die Richtung der vertikalen
Vergrößerung erstreckt
sich entlang der Y-Achse, und die Rauheits-Kurve wird ausgedrückt als
y = f (x). Die Einheit der Oberflächen-Rauheit Ra ist üblicherweise μm. Die Referenz-Länge L ist üblicherweise
3 mm, ist jedoch nicht auf diese Länge beschränkt.
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Die
maximale Rauheit Rmax bei der vorgenannten Oberfläche des
Lithographie-Druckplattenträgers gemäß der vorliegenden
Erfindung beträgt
10 μm oder
weniger und vorzugsweise 7 μm
oder weniger und noch mehr bevorzugt von 7 bis 2 μm.
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Die
maximale Rauheit Rmax ist der maximale Wert der Entfernung zwischen
der Peak-Linie der
Vorsprünge
und der Grundlinie der Vertiefungen in einem Abschnitt einer Bewertungslänge d. Die
Bewertungslänge
liegt üblicherweise
bei 3 mm, ist jedoch in derselben Weise wie die Oberflächen-Rauheit
Ra nicht auf diese Länge
beschränkt.
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Die
Zahl Pc der Rauheits-Vorsprünge
ist 15 bis 35 Vorsprünge
pro mm und vorzugsweise 23 bis 30 Vorsprünge mm für Vorsprünge mit einer Vorsprungs-Höhe, die
größer ist
als ein festgesetzter Wert +0,3 μm und
eine Vertiefungs-Tiefe, die tiefer ist als ein festgesetzter Wert –0,3 μm. Die Zahl
Pc von Rauheitsvorsprüngen
beträgt
7 bis 25 Vorsprünge
pro mm und vorzugsweise 13 bis 20 Vorsprünge pro mm für Vorsprünge mit einer
Vorsprungs-Höhe,
die größer ist
als der festgesetzte Wert +0,6 μm
und eine Vertiefungs-Tiefe, die tiefer ist als ein festgesetzter
Wert –0,6 μm. Die Zahl
Pc von Rauheits-Vorsprüngen
beträgt
2 bis 18 Vorsprünge
pro mm und vorzugsweise 5 bis 10 Vorsprünge pro mm für Vorsprünge mit
einer Vorsprungs-Höhe,
die größer ist als
der festgesetzte Wert +1,0 μm
und eine Vertiefungs-Tiefe, die tiefer ist als der festgesetzte
Wert –1,0 μm.
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Der
festgesetzte Wert der Zahl Pc von Rauhheits-Vorsprüngen ist
eine Höhe,
die ein Referenz-Wert ist. Dementsprechend ist die Zahl von Pc von
Rauheits-Vorsprüngen
von Vorsprüngen
mit einer Vorspungs-Höhe,
die größer ist
als der festgesetzte Wert +0,3 μm
und einer Vertiefungs-Tiefe, die tiefer ist als der festgesetzte
Wert –0,3 μm, diejenige
Zahl pro Einheit gemessener Länge
der Vorsprünge,
deren Vorsprungshöhe
größer ist
als der Referenz-Wert +0,3 μm
und deren Vertiefungs-Tiefe tiefer ist als der Referenz-Wert –0,3 μm, und speziell
die Zahl derartiger Vorsprünge
pro gemessener Länge
von 1 mm.
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In ähnlicher
Weise ist die Zahl Pc von Rauheits-Vorsprüngen von Vorsprüngen mit
einer Vorspungs-Höhe,
die größer ist
als der festgesetzte Wert +0,6 μm,
und einer Vertiefungs-Tiefe, die tiefer ist als der festgesetzte
Wert –0,6 μm, diejenige
Zahl pro gemessener Länge
von 1 mm der Vorsprünge,
deren Vorsprungshöhe
größer ist
als der Referenz-Wert +0,6 μm
und deren Vertiefungs-Tiefe tiefer ist als der Referenz-Wert –0,6 μm.
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Weiter
ist die Zahl Pc von Rauheits-Vorsprüngen von Vorsprüngen mit
einer Vorsprungs-Höhe,
die größer ist
als der festgesetzte Wert +1,0 μm,
und einer Vertiefungs-Tiefe,
die tiefer ist als der festgesetzte Wert –1,0 μm, diejenige Zahl pro gemessener
Länge von
1 mm an Vorsprüngen,
deren Vorsprungs-Höhe
größer ist als
der Referenz-Wert
+1,0 μm
und deren Vertiefungs-Tiefe tiefer ist als der Referenz-Wert –1,0 μm.
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Die
Werte der Oberflächen-Rauheit
Ra, der maximalen Rauheit Rmax und der Zahl Pc an Rauhheits-Vorsprüngen können auf
der Grundlage von Ergebnissen der Messung der Rauheit der Oberfläche der lithographischen
Druckplatte mittels einer üblichen
Oberflächen-Rauhheits-Meßvorrichtung
ein Lithographie-Druckplattenträger,
dessen Oberflächen-Rauheit
Ra, maximale Rauheit Rmax und Zahl Pc von Rauheits-Vorsprüngen der
Oberfläche
der Lithographie-Druckplatte, deren Oberfläche einer Oberflächen-Rauhungs-Behandlung
und Anodisierungs-Behandlung unterzogen wurde, in die vorgenannten
Bereiche fallen, weist eine Struktur auf, bei der an der vorgenannten
Oberfläche
relativ grobkörnige
Vorspungs- und Vertiefungs-Abschnitte einheitlich gebildet werden,
und an der Innenseite dieser Vorsprungs- und Vertiefungs-Bereiche
werden feiner körnige,
einheitliche Vorsprungs- und Vertiefungs-Abschnitte gebildet. Dementsprechend weist
eine PS-Platte, bei der eine photoempfindliche Schicht an der vorgenannten
Oberfläche
der Lithographie-Druckplatte gebildet wird, gute Beständigkeit
gegenüber
wiederholtem Drucken aufgrund der exzellenten Haftung zwischen der
photoempfindlichen Schicht und dem Lithographie-Druckplattenträger auf.
Weiter hat die PS-Platte ein gutes Wasser-Halte-Vermögen von
deren Oberfläche,
ist schwierig durch Druckfarbe zu verschmutzen und weist eine exzellente
Farbton-Reproduzierbarkeit und ein exzellentes Wasser-Druckfarben-Gleichgewicht
auf. So kann eine klare und attraktive Oberfläche der gedruckten Seite erhalten
werden, d. h. eine Druckblatt-Oberfläche mit ausgezeichneter Bild-Qualität.
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Der
Lithographie-Druckplattenträger
gemäß der vorliegenden
Erfindung kann ein Trä ger
sein, der dadurch gebildet wird, dass man die Oberfläche eines
Aluminium-Substrats
oder dergleichen einer Oberflächen-Aufrauhungs-Behandlung
und einer Anodisierungs-Behandlung unterzieht.
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Das
Material für
das Aluminium-Substrat kann gewählt
werden aus bekannten Aluminium-Materialien und Aluminium-Legierungen.
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2. Verfahren des Herstellens
eines Lithographie-Druckplattenträgers
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Der
Lithographie-Druckplattenträger
gemäß der vorliegenden
Erfindung kann beispielsweise dadurch hergestellt werden, dass man
ein Metall-Substrat für
eine Lithographie-Druckplatte einer Oberflächen-Aufrauhungs-Behandlung
und anschließend
einer Anodisierungs-Behandlung unterzieht.
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2-1. Oberflächen-Aufrauhen
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In
dem Herstellungsverfahren gemäß der vorliegenden
Erfindung wird bei der Oberflächen-Aufrauhungs-Behandlung
unter Zuführen
abtragender Teilchen, deren Haupt-Komponente SiO2-Teilchen
sind und die einen mittleren Teilchen-Durchmesser und eine Teilchen-Durchmesser-Verteilung
innerhalb spezieller Bereiche aufweisen, eine mechanische Oberflächen-Aufrauhungs-Behandlung
unter Schleifen mittels einer Bürsten-Walze
an wenigstens einer Oberfläche
des Metall-Substrats für
eine Lithographie-Druckplatte
durchgeführt.
Anschließend
kann wenigstens einer der Behandlungsschritte Ätz-Bearbeitungs-Behandlung
und elektrolytische Oberflächen-Aufrauhungs-Behandlung durchgeführt werden.
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A. Mechanische Oberflächen-Aufrauhungs-Behandlung
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Bei
der mechanischen Oberflächen-Aufrauhungs-Behandlung
kann eine Bürsten-Körnungs-Behandlung durchgeführt werden,
bei der die Oberfläche
des Metall-Substrats
für eine
Lithographie-Druckplatte mittels einer Walzen-Bürste gerieben bzw. geschliffen
wird.
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Beispielsweise
kann eine Metallplatte oder ein Metall-Gewebe (nachfolgend „Metall-Gewebe für eine Lithographie-Druckplatte" bezeichnet), die/das üblicherweise
als Träger
für eine
PS-Platte oder dergleichen verwendet wird, als Metall-Substrat für eine Lithographie-Druckplatte
verwendet werden. Beispielsweise kann eine Platte oder ein Blech
oder dergleichen, die/das aus reinem Aluminium oder einer Aluminium-Legierung (nachfolgend
als „Aluminium
oder dergleichen" bezeichnet)
gebildet wird, als Metall-Gewebe für eine Lithographie-Druckplatte
verwendet werden. Das Metall-Substrat
(Aluminium-Substrat) für
eine Lithographie-Druckplatte kann in Form eines kontinuierlichen
Blechs vorliegen oder kann in Form getrennter Bleche bzw. Platten vorliegen,
die Größen aufweisen,
die der PS-Platte entsprechen und die als Produkte versandt werden.
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Die
Bürsten-Körnungs-Behandlung
kann durchgeführt
werden, während
man abtragende Teilchen zwischen eine Walzen-Bürste und dem Aluminium-Substrat
zuführt.
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Der
mittlere Teilchen-Durchmesser der abtragenden Teilchen, die in der
Bürsten-Körnungs-Behandlung verwendet
werden, liegt bei 5 bis 70 μm
und besonders bevorzugt bei 10 bis 40 μm und am meisten bevorzugt bei
15 bis 35 μm.
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Die
Menge an Teilchen, die einen Teilchen-Durchmesser von 100 μm oder mehr
aufweisen, die in die abtragenden Teilchen eingeschlossen sind,
beträgt
10 Gewichtsprozent oder weniger und überschreitet besonders bevorzugt
5 Gewichtsprozent nicht. Es ist am meisten bevorzugt, dass solche
Teilchen in einer Menge enthalten sind, die 2,5 Gewichtsprozent
nicht übersteigt,
oder sie sind im wesentlichen überhaupt
nicht enthalten.
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Die
Menge an Teilchen, die einen Teilchen-Durchmesser von 500 μm oder mehr
aufweisen und in die abtragenden Teilchen eingeschlossen sind, beträgt 1 Gewichtsprozent
oder weniger und übersteigt
besonders bevorzugt nicht 0,5 Gewichtsprozent. Es ist am meisten
bevorzugt, dass solche Teilchen in einer Menge enthalten sind, die
0,2 Ge wichtsprozent nicht übersteigt
oder dass sie im wesentlichen überhaupt
nicht enthalten sind.
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90
Gewichtsprozent oder mehr der abtragenden Teilchen sind SiO2-Teilchen. Die abtragenden Teilchen können nur
SiO2-Teilchen sein. Alternativ dazu können zusätzlich zu
SiO2-Teilchen Kratzer-abtragende Mittel
wie beispielsweise Aluminium, Eisen, Ton, Talkum, Eisenoxid, Chromoxid,
calciniertes Aluminiumoxid oder dergleichen sowie Schleifmittel
wie Diamant, Schleifkorund, Spinell, Korund, Carborund, Borcarbid
und dergleichen enthalten sein.
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Aufgrund
der mechanischen Oberflächen-Aufrauhungs-Behandlung
werden hauptsächlich
extrem große
Wellen, die die am rauhesten gekörnten
Vorsprungs- und Vertiefungs-Bereichs sind, und große Wellen, die
Vorsprungs- und Vertiefungs-Bereiche sind, die ein wenig feiner-körnig sind
als die extrem großen
Wellen, auf der Oberfläche
des Lithographie-Druckplattenträgers
gebildet. Die Einheitlichkeit der extrem großen Wellen und der großen Wellen
ist besonders stark bezogen auf die Größe der Punkt-Zunahme, die Farbton-Reproduzierbarkeit,
das Wasser-Halte-Vermögen
der Oberfläche
und die Schwierigkeit der PS-Platte, durch Druckfarbe verschmutzt
zu werden. Bei der mechanischen Oberflächen-Aufrauhungs-Behandlung
beißen
sich dann, wenn die oben beschriebenen abtragenden Teilchen verwendet
werden, die abtragenden Teilchen nicht in die Oberfläche des
Metall-Gewebes für
die Lithographie-Druckplatte ein, und die Oberfläche wird durch abtragende Teilchen
mit einem großen
Teilchen-Durchmesser nicht eingeschnitten. So werden keine großen Kratzer
in der Oberfläche
des Lithographie-Druckplattenträgers
gebildet, die zu einer sogenannten Verschmutzung der Gummi-Walze
führen,
bei der die Kautschuk-Walze einer Offset-Druckeinrichtung verschmutzt
wird, oder zu Punkt-Verschmutzung der Oberfläche des gedruckten Blattes
oder dergleichen führen.
Insbesondere weist eine PS-Platte, die einen Lithographie-Druckplattenträger aufweist,
der durch mechanische Oberflächen-Aufrauhungs-Behandlung unter
Verwendung der oben beschriebenen abtragenden Teilchen erhalten wird
und dessen maximale Rauheit Rmax der Oberfläche 10 μm oder weniger beträgt und dessen
Oberflächen-Rauheit
Ra 0,3 bis 1,0 μm
beträgt,
d. h. eine PS-Platte, die ei nen Lithographie-Druckplattenträger aufweist,
in dem extrem große
Wellen und großen
Wellen einheitlich gebildet werden, eine geringe Punkt-Zunahme,
eine exzellente Farbton-Reproduzierbarkeit, ein exzellentes Wasser-Halte-Vermögen der
Oberfläche
auf und ist schwierig zu verschmutzen.
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Die
abtragenden Teilchen können
beispielsweise als Aufschlämmung
oder dergleichen verwendet werden. Die Aufschlämmung kann eine Suspension
oder dergleichen sein, in der die abtragenden Teilchen in Wasser
in einer Konzentration von etwa 5 bis 70 Gewichtsprozent suspendiert
sind. Verdickungsmittel, Dispergiermittel wie beispielsweise oberflächenaktive
Mittel bzw. Tenside, Konservierungsmittel und dergleichen können auch
in die Suspension einkompoundiert werden.
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Die
mechanische Oberflächen-Aufrauhungs-Behandlung
kann beispielsweise unter Verwendung einer abtragenden Vorrichtung
wie derjenigen durchgeführt
werden, die in 1 gezeigt ist.
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Wie
in 1 gezeigt, ist diese abtragende Vorrichtung mit
drei Walzen-ähnlichen
Bürsten, 2, 4, 6 versehen,
die parallel und in derselben Höhe
angeordnet sind und die ein Aluminium-Substrat A abtragen, das in einer
konstanten Richtung A gefördert
wird, mit Träger-Walzen 8A, 8B, 10A, 10B, 12A, 12B,
die in parallelen Paaren für
die Walzen-ähnlichen
Bürsten 2, 4, 6 vorgesehen
werden und die das Aluminium-Substrat A von unten stützen, und
mit einem im wesentlichen Parallelepiped-artigen Gehäuse 14,
in dem die Walzen-ähnlichen
Bürsten 2, 4, 6 und
die Träger-Walzen 8A, 8B, 10A, 10B, 12A, 12B untergebracht
sind und durch dessen Inneres das Aluminium-Substrat A hindurchtritt.
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Wie
in 1 gezeigt, sind die Walzen-artigen Bürsten 2, 4, 6 mit
umlaufenden Wellen 2C, 4C, 6C versehen,
die parallel zueinander angeordnet sind, mit Trommeln 2B, 4B, 6B versehen,
die um die umlaufenden Wellen 2C, 4C, 6C umlaufen,
und mit Bürsten-Borsten 2A, 4A, 6A,
die in die seitlichen Oberflächen
der Trommeln 2B, 4B, 6B eingebettet sind
und sich zur Außenseite
hin entlang einer radialen Richtung erstrecken.
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Die
Bürsten-Borsten 2A, 4A, 6A haben
einen Durchmesser von 0,15 bis 1,35 mm und eine Länge von 10
bis 100 mm.
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Beispiele
von Bürsten-Borsten 2A, 4A, 6A sind
Bürsten-Materialien,
die gewählt
sind aus Borsten aus synthetischem Harz, die aus einem synthetischen
Harz wie beispielsweise Nylon, Propylen, Polyvinylchlorid-Harz oder
dergleichen gebildet sind, Borsten aus Tier-Haar wie beispielsweise
Rinderhaar, Schweineborsten, Pferdehaar oder dergleichen und Borsten
aus Naturfasern wie beispielsweise Wolle oder dergleichen.
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Die
Bürsten-Borsten 2A, 4A, 6A sind
in die Trommeln 2B, 4B, 6B in einer Einbettungs-Dichte
von 30 bis 5.000 Borsten pro cm2 eingebettet.
Die Borsten können
einzeln eingebettet sein oder zu mehreren Borsten, z. B. Bündeln von
10 bis 5.000 Borsten, eingebettet sein.
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Bei
der mechanischen Aufrauhungs-Behandlung ist es bevorzugt, eine Walzen-ähnliche
Bürste
zu verwenden, deren Bürsten-Borsten-Durchmesser
und eingebettete Dichte in die obigen Bereiche fallen, zusammen
mit dem oben beschriebenen abtragenden bzw. abrasiven Mittel, da
sogar noch mehr einheitliche extrem große Wellen und große Wellen
in der Oberfläche
des Aluminium-Substrats gebildet werden können.
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Die
Träger-Walzen 8A, 10A, 12A werden
so vorgesehen, dass sie an die Spitzen der Bürsten-Borsten 2A, 4A, 6A der
Walzen-artigen Bürsten 2, 4, 6 in
der Transport-Richtung
stromaufwärts
anstoßen
(nachfolgend als „stromaufwärts" bezeichnet). Die
Träger-Walzen 8B, 10B, 12B werden
so vorgesehen, dass sie an die Spitzen der Bürsten-Borsten 2A, 4A, 6A der
Walzen-artigen Bürsten 2, 4, 6 in
der Transport-Richtung stromabwärts
anstoßen
(nachfolgend „stromabwärts" bezeichnet).
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Wie
in 1 gezeigt, laufen an der abzutragenden Oberfläche des
Aluminium-Substrats
die Walzen-ähnlichen
Bürsten 2 und 4 in
der Richtung von der stromaufwärts
gelegenen Seite in Richtung auf die stromabwärts gelegene Seite um. Die
Walzen-ähnliche
Bürste
läuft an
der abzutragenden Oberfläche
in der Richtung von der strom abwärts
gelegenen Seite in Richtung auf die stromaufwärts gelegene Seite oder in
dazu gegenläufiger
Richtung um. Die Umlaufgeschwindigkeit der Walzen-ähnlichen
Bürsten 2, 4, 6 beträgt vorzugsweise
etwa 100 bis 1.000 Upm.
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Die
Träger-Walzen 8A, 8B, 10A, 10B, 12A, 12B werden
alle so vorgesehen, dass sie frei um ihre Achsen umlaufen.
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Wie
in 1 gezeigt, wird eine erste, auf der stromaufwärts gelegenen
Seite angeordnete Leit-Walze 16A, die das Aluminium-Substrat
A in das Innere des Gehäuses 14 leitet,
auf der Eintritt-Seite für
das Aluminium-Substrat A oberhalb des Gehäuses 14 vorgesehen.
Eine erste, auf der stromabwärts
gelegenen Seite angeordnete Leit-Walze 18A, die das Aluminium-Substrat
A zur Außenseite
des Gehäuses 14 leitet,
wird auf der Austritts-Seite für
das Aluminium-Substrat A vorgesehen. Innerhalb des Gehäuses 14 wird
eine zweite, auf der stromaufwärts
gelegenen Seite angeordnete Leitwalze 16B parallel zu den
Träger-Walzen 4A und 4C an der
stromaufwärts
gelegenen Seite in der Nachbarschaft der Träger-Walze 4A vorgesehen.
Die zweite, auf der stromaufwärts
gelegenen Seite angeordnete Leit-Walze 16B leitet zwischen
der Walzen-ähnlichen
Bürste 2 und
den Träger-Walzen 2A und 2B das
Aluminium-Substrat A, das durch die erste, auf der stromaufwärts gelegenen
Seite angeordnete Leit-Walze 16A in das Gehäuse 14 geleitet
wurde.
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Auf
der stromabwärts
gelegenen Seite in der Nähe
der Träger-Walze 6B wird
eine zweite, auf der stromabwärts
gelegenen Seite angeordnete Leit-Walze 18B parallel zu
den Träger-Walzen 12A, 12B vorgesehen.
Die zweite, auf der stromabwärtigen
Seite gelegene Leit-Walze 18B leitet das Aluminium-Substrat
A, das zwischen den Walzen-artigen
Bürsten 2, 4, 6 und
den Träger-Walzen 8A, 8B, 10A, 10B, 12A, 12B hindurchgetreten
ist, in Richtung auf die erste, auf der stromabwärtigen Seite gelegene Leit-Walze 18A.
Düsen 20A, 20B, 20C zum
Zuführen
von abtragender Aufschlämmung,
die die abtragende Aufschlämmung
zuführen,
sind an den stromabwärtig
gelegenen Seiten in der Nähe
der Walzen-artigen Bürsten 2, 4 bzw. 6 vorgesehen.
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Wie
in 1 gezeigt, wird ein Rückgewinnungs-Tank 22 für abtragende
Aufschlämmung,
der die abtragende Aufschlämmung
auffängt,
die durch die Zufuhrdüsen 20A, 20B, 20C für die abtragende
Aufschlämmung
zugeleitet wird, unter dem Gehäuse 14 vorgesehen.
Der Auffang-Tank 22 für
abtragende Aufschlämmung
steht in Verbindung mit dem Boden-Abschnitt des Gehäuses 14,
und zwar über
eine Rückführ-Leitung 24 für abtragende
Aufschlämmung.
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Der
Rückgewinnungs-Tank 22 für abtragende
Aufschlämmung
ist über
eine Aufschlämmungs-Übertragungs-Leitung 28 mit
einem Zyklon 26 verbunden, der das abtragende bzw. abrasive
Material in der abtragenden Aufschlämmung in ein abtragendes bzw.
abrasives Material mit großen
Teilchen-Durchmessern und ein abtragendes bzw. abrasives Material
mit kleinen Teilchen-Durchmessern trennt. Eine Pumpe 28A und
ein Überlauf-Tank 28B sind
an der Aufschlämmungs-Übertragungs-Leitung 28 angeordnet.
Die Pumpe 28A transferiert die abtragende Aufschlämmung in
dem Auffang-Tank 22 zu dem Zyklon 26. Der Überlauf-Tank 28B ist zwischen
der Pumpe 28A und dem Auffang-Tank 22 für die abrasive
Aufschlämmung
angeordnet.
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Der
Zyklon 26 ist in einer im Wesentlichen konischen Konfiguration
ausgebildet, deren Durchmesser in Richtung auf dessen Unterteil
sinkt.
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Eine
die Aufschlämmung
einleitende Rohrleitung 26A, durch die die abtragende Aufschlämmung eingeleitet
wird, ist an der Seitenfläche
des Zyklons 26 in der Nähe
von dessen oberer Fläche
vorgesehen. Eine die Aufschlämmung
ableitende Rohrleitung 26B ist an einem zentralen Abschnitt
der oberen Fläche
des Zyklons 26 vorgesehen. Die die Aufschlämmung ableitende
Rohrleitung 26B leitet die Aufschlämmung ab, die hauptsächlich abtragende
bzw. abrasive Teilchen kleinen Teilchen-Durchmessers enthält, zusammen
mit der Aufschlämmung,
die an dem Zyklon 26 abgetrennt wird. Eine die Aufschlämmung herausleitende
Rohrleitung 26C ist am unteren Endabschnitt des Zyklons 26 vorgesehen.
Die die Aufschlämmung
herausleitende Rohrleitung 26C leitet die Aufschlämmung ab,
die hauptsächlich
abtragende bzw. abrasive Teilchen eines großen Teilchen-Durchmessers zusammen
mit der Aufschlämmung
enthält.
Die die Auf schlämmung
einleitende Rohrleitung 26A ist mit der Aufschlämmungs-Transfer-Leitung 28 verbunden.
Die die Aufschlämmung
herausleitende Rohrleitung 26C steht in Verbindung mit
dem Rückgewinnungs-
bzw. Auffang-Tank 22 für
die abtragende Aufschlämmung,
und zwar über
eine Aufschlämmungs-Rückgewinnungs-Leitung 30.
Die die Aufschlämmung herausleitende
Rohrleitung 26B ist mit einer Rest- bzw. Abfall-Flüssigkeit-Leitung 38 verbunden,
die später
beschrieben wird.
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Der
Rückgewinnungs-
bzw. Auffang-Tank 22 für
abtragende Aufschlämmung
steht in Verbindung mit den Düsen 20A, 20B und 20C zur
Zufuhr von abtragender Aufschlämmung,
und zwar über
eine Zufuhr-Leitung 32 für abtragende Aufschlämmung, die
zu einem Punkt in der Nähe
des unteren Abschnitts des Rückgewinnungs-Tanks 22 für abtragende
Aufschlämmung
verbunden ist. Eine Pumpe 32A, die die abtragende Aufschlämmung zu
den Düsen 20A, 20B, 20C zur
Zufuhr von abtragender Aufschlämmung
zuführt,
ist an der Leitung 32 für
abtragende Aufschlämmung
vorgesehen.
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Eine
Leitung 34 zum Nachfüllen
von abtragendem Mittel bzw. Abrasiv-Mittel, die das abtragende Mittel nachfüllt, und
eine Leitung 36 zum Nachfüllen von Wasser, die Wasser
nachfüllt,
sind an dem Tank 22 zum Auffangen bzw. Rückgewinnen
der abtragenden Aufschlämmung
vorgesehen.
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Ein
Zentrifugen-Separator 40, der die von der Leitung 26B zum
Abführen
der Aufschlämmung
abgeführte
Aufschlämmung
in abtragende Teilchen bzw. Abrasiv-Teilchen und Wasser trennt,
ist an der Leitung 38 für
Rest- bzw. Abfall-Flüssigkeit
vorgesehen.
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In
der in 1 gezeigten abtragenden Vorrichtung wird das Aluminium-Substrat
A, das in Richtung auf das Gehäuse 14 entlang
der Transport-Richtung a transportiert wurde, mittels der ersten,
auf der stromaufwärts
gelegenen Seite angeordneten Leit-Walze 16A und der zweiten,
auf der stromaufwärts
gelegenen Seite angeordneten Leit-Walze 16B zwischen die
Walzen-artige Bürste 2 und
die Träger-Walze 8A geleitet.
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Das
Aluminium-Substrat A, das zwischen die Walzen-artige Bürste 2 und
die Träger-Walze 8A geleitet wurde,
tritt zwischen der Walzen-artigen Bürste 2 und der Träger-Walze 8B hindurch
und tritt anschließend
zwischen der Walzen-artigen Bürste 4 und
den Träger-Walzen 10A und 10B hindurch
und tritt dann zwischen der Walzen-artigen Bürste 6 und den Träger-Walzen 12A und 12B hindurch.
Danach wird die abtragende Aufschlämmung, die in dem Tank 22 zur
Rückgewinnung
bzw. zum Auffangen der abtragenden Aufschlämmung gespeichert ist, der
oberen Fläche
des Aluminium-Substrats
A von den Düsen 20A, 20B, 20C zum
Zuführen der
abtragenden Aufschlämmung
zugeführt.
Dementsprechend wird aufgrund der Reibung der Bürsten-Borsten 2A, 4A, 6A und
der abtragenden Wirkung der abtragenden Teilchen in der abtragenden
Aufschlämmung die
obere Fläche
des Aluminium-Substrats A mechanisch an der Oberfläche aufgerauht,
so dass extrem große Wellen
und große
Wellen gebildet werden, wie oben beschrieben wurde.
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Das
Aluminium-Substrat A, das zwischen der Walzen-artigen Bürste 6 und
der Träger-Walze 12B hindurchtritt,
wird zur Außenseite
des Gehäuses 14 mittels
der zweiten, auf der stromabwärtigen
Seite gelegenen Leit-Walze 18B und die erste, auf der stromabwärtigen Seite
angeordneten Leit-Walze 18A geleitet.
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Die
abtragende Aufschlämmung,
die von den Düsen 20A, 20B, 20C zum
Zuführen
abtragender Aufschlämmung
zugeführt
wurde, fließt
nach unten in den Tank 22 zur Rückgewinnung bzw. zum Auffangen
abtragender Aufschlämmung,
und zwar durch die Leitung 24 zum Zurückleiten der abtragenden Aufschlämmung.
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Die
abtragende Aufschlämmung
in dem Tank 22 zur Rückgewinnung
bzw. zum Auffangen der abtragenden Aufschlämmung wird durch die Aufschlämmungs-Übertragungs-Leitung 28 mittels
der Pumpe 28A in Richtung auf den Zyklon 26 überführt.
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In
dem Zyklon 26 wird die abtragende Aufschlämmung entlang
der inneren Seitenwand-Oberfläche eingeleitet
und fließt
in Richtung auf den unteren Endabschnitt, wobei sie entlang der
innenseitigen Wandungs-Oberfläche
in Umlauf versetzt wird. Dementsprechend sammeln sich unter den
abtragenden Teilchen in der abtragenden Aufschlämmung die Teilchen, die einen
großen
Teilchen-Durchmesser aufweisen, in der Nähe der innenseitigen Wand-Oberfläche aufgrund
der Zentrifugalkräfte,
während
sich die Teilchen mit einem kleinen Durchmesser im zentralen Abschnitt
sammeln. Die Aufschlämmung
wird in eine Aufschlämmung,
die hauptsächlich
abtragende Teilchen mit relativ großen Teilchen-Durchmessern enthält, und
eine Aufschlämmung,
die hauptsächlich
abtragende Teilchen mit Teilchen-Durchmessern enthält, die
viel kleiner sind als der mittlere Teilchen-Durchmesser der abtragenden
Teilchen, getrennt. Die ersteren werden von der Rohrleitung 26C zum
Herausleiten der Aufschlämmung
vom unteren Endabschnitt des Zyklons 26 in Richtung auf
die Leitung 30 zur Rückgewinnung
der Aufschlämmung
geleitet. Die zweitgenannte Aufschlämmung wird von der Leitung 26B zum
Herausleiten der Aufschlämmung
am zentralen Abschnitt der oberen Fläche des Zyklons 26 der Abfallflüssigkeits-Leitung 38 zugeleitet.
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Die
Aufschlämmung,
die in Richtung auf die Leitung 30 zur Rückgewinnung
der Aufschlämmung
geleitet wird, wird in den Tank 22 zur Rückgewinnung
der abtragenden Aufschlämmung
zurückgeführt.
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Die
Aufschlämmung,
die der Abfallflüssigkeits-Leitung 38 zugeleitet
wird, wird dem Zentrifugen-Separator 40 zugeleitet und
in eine im Wesentlichen transparente Flüssigkeit und abtragende Teilchen
getrennt. Die erstere wird als Abfallflüssigkeit abgelassen, während die
letztgenannten Teilchen einer passenden Behandlung als Industrie-Abfall
unterzogen werden.
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Im
Unterschied zu der mechanischen Oberflächen-Aufrauhungs-Bearbeitung
des Lithographie-Druckplattenträgers
gemäß der vorliegenden
Erfindung kann der Lithographie-Druckplattenträger beispielsweise
mit einer Herstellungs-Vorrichtung hergestellt werden, die mit einer
abtragenden Vorrichtung ausgerüstet
ist, wie sie in 2 gezeigt ist.
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Die
Herstellungs-Vorrichtung, die in 2 gezeigt
ist, ist mit einer Bürsten-Körnungs-Bearbeitungs-Vorrichtung 2 ausgestattet,
die eine abtragende Verarbeitung mittels Walzen-Bürsten durchführt, während sie
eine abtragende Aufschlämmung
der Oberfläche
eines Aluminium-Gewebes W zuführt,
das entlang einer fixierten Richtung a transportiert wird, d. h.
eine Bürsten-Körnungs-Bearbeitung,
einer Spühl-Vorrichtung 4,
die das Aluminium-Gewebe W spült,
das der Bürsten-Körnungs-Bearbeitung
an der Bürsten-Körnungs-Bearbeitungs-Vorrichtung 2 unterzogen
wurde, und einer Vorrichtung 6 zur Rückgewinnung von Rest-Flüssigkeit bzw.
Abfall-Flüssigkeit
der abtragenden Aufschlämmung,
die die abtragende Aufschlämmung
zurückgewinnt, die
an der Bürsten-Körnungs-Bearbeitungs-Vorrichtung 2 erzeugt
wurde, die Teilchen kleinen Durchmessers heraustrennt und danach
die Aufschlämmung
zu der Bürsten-Körnungs-Bearbeitungs-Vorrichtung 2 zurückführt.
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Wie
in 2 gezeigt, ist die Bürsten-Körnungs-Bearbeitungs-Vorrichtung 2 versehen
mit: Einer Walzen-Bürste 8,
die die Oberfläche
des Aluminium-Gewebes W abträgt;
einer Walzen-Bürste 10,
die in der Transport-Richtung auf der stromabwärts gelegenen Seite der Walzen-Bürste 8 vorgesehen
ist und in ähnlicher
Weise die Oberfläche
des Aluminium-Gewebes W abträgt;
Träger-Walzen 12A, 12B, 14A, 14B,
die an der Seite einer Transport-Oberfläche T vorgesehen sind, die
ein Weg ist, entlang dem das Aluminium-Gewebe W gefördert wird,
wobei die Seite der Seite gegenüberliegend
ist, auf der die Walzen-Bürsten 8 und 10 vorgesehen sind,
und die das Aluminium-Gewebe W von dessen Unterseite tragen, und
ein Gehäuse 16,
das die Walzen-Bürsten 9, 10 und
die Träger-Walzen 12A, 12B, 14A, 14B unterbringt
und das eine Öffnung 16A an
seiner oberen Fläche
aufweist. Nachfolgend wird bei der Förder-Richtung die stromabwärts gelegene
Seite als „stromabwärts gelegene
Seite" bezeichnet,
und es wird bei der Förder-Richtung
die stromaufwärts
gelegene Seite als „stromaufwärts gelegene
Seite" bezeichnet.
Das Aluminium-Gewebe W ist ein Beispiel des Lithographie-Druckplattenträgers gemäß der vorliegenden
Erfindung. Die Walzen-Bürsten 8, 10 und
die Träger-Walzen 12A, 12B, 14A, 14B entsprechen
der mechanischen abtragenden Vorrichtung in der Herstellungs-Vorrichtung für einen
Lithographie-Druckplattenträger
gemäß der vorliegenden
Erfindung.
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Die
Walzen-Bürsten 8, 10 sind
mit umlaufenden Wellen 8C, 10C versehen, die parallel
zur Förder-Oberfläche T sind
und sich in einer Richtung quer zur Förder-Oberfläche T erstrecken, mit zylindrischen Trommeln 8B, 10B,
die um die umlaufenden Wellen 8C, 10C umlaufen,
und Bürsten-Borsten 8A, 10A,
die in die Seiten-Flächen
der Trommeln 8B, 10B eingebettet sind. Die Bürsten-Borsten 8A, 10A haben
vorzugsweise einen Durchmesser von 0,15 bis 1,35 mm und eine Länge von
20 bis 100 mm. Die Bürsten-Borsten 8A, 10A sind
in die Trommeln 8B, 10B in einer Einbettungs-Dichte
von 30 bis 5.000 Borsten pro cm2 eingebettet.
Beispiele der Bürsten-Borsten 8A, 10A sind
Borsten aus synthetischem Harz, die aus einem synthetischen Harz wie
beispielsweise Nylon, Propylen, Polyvinylchlorid-Harz oder dergleichen
gebildet sind.
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Die
Walzen-Bürsten 8, 10 sind
so angeordnet, dass ein Teil des Außenumfangs-Bereichs jeder der Walzen-Bürsten 8, 10 niedriger
angeordnet ist als die Beförderungs-Oberfläche T. Wie
durch Pfeile b und c in 2 gezeigt ist, laufen die Walzen-Bürsten 8, 10 mittels
einer passenden Umlauf- Einrichtung in derselben Richtung um wie
die Beförderungsrichtung
a an der abzutragenden Oberfläche
des Aluminium-Gewebes
W.
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Die
Träger-Walze 12A ist
auf der stromaufwärts
gelegenen Seite der Walzen-Bürste 8 vorgesehen, und
die Träger-Walze 12B ist
an der stromabwärts
gelegenen Seite der Walzen-Bürste 8 vorgesehen.
In ähnlicher
Weise ist die Träger-Walze 14A auf
der stromaufwärts
gelegenen Seite der Walzen-Bürste 10 vorgesehen,
und die Träger-Walze 14B ist
auf der stromabwärts
gelegenen Seite der Bürsten-Walze 10 vorgesehen.
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Wie
in 2 gezeigt, wird eine erste Sprüh-Einrichtung 18 für abtragendes
bzw. Abrasiv-Material in der Nähe
der Walzen-Bürste 8 vorgesehen
und wird eine zweite Sprüh-Einrichtung 20 für abtragendes
bzw. Abrasiv-Material in der Nähe
der Walzen-Bürste 10 vorgesehen.
Die erste Sprüh-Einrichtung 18 für abtragendes
Material sprüht
die abtragende Aufschlämmung
in Richtung auf den Bereich zwischen der Walzen-Bürste 8 und
dem Aluminium-Gewebe W von einem Punkt oberhalb der Beförderungs- Oberfläche T. Die
zweite Sprüh-Einrichtung 20 für abtragendes
Material sprüht
die abtragende Aufschlämmung
in Richtung auf den Bereich zwischen der Walzen-Bürste 10 und
dem Aluminium-Gewebe W von einem Punkt oberhalb der Beförderungs-Oberfläche T.
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Sowohl
die erste Sprüh-Einrichtung 18 für abtragendes
Material als auch die zweite Sprüh-Einrichtung 20 für abtragendes
Material sind rohrförmig
und erstrecken sich parallel in Bezug auf die Beförderungs-Oberfläche T entlang
der Querrichtung der Beförderungs-Oberfläche T. Eine
Mehrzahl von Sprüh-Löchern 18A, 20A ist
in einer Reihe entlang der Längs-Richtung
gebildet. Die Sprüh-Löcher 18A, 20A sind
so gebildet, dass sie die abtragende Aufschlämmung in einem nach unten gerichteten
Winkel in Richtung auf die stromabwärts gelegene Seite sprühen, d.
h. in Richtung auf die untere linke Seite in 2. Ein Ende
jeder ersten Sprüh-Einrichtung 18 für abtragendes
Material und zweiten Sprüh-Einrichtung 20 für abtragendes
Material ist mit der Leitung 22 zum Zuführen von abtragender Aufschlämmung verbunden,
die die abtragende Aufschlämmung
zuführt,
und die anderen Enden sind geschlossen. Die erste Sprüh-Einrichtung 18 für abtragendes
Material, die zweite Sprüh-Einrichtung 20 für abtragendes
Material und die Leitung 22 zum Zuführen von abtragender Aufschlämmung entsprechen
der Vorrichtung zum Zuführen
von abtragender Aufschlämmung
in der Lithographie-Druckplattenträger-Herstellungsvorrichtung
gemäß der vorliegenden
Erfindung.
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Wie
in 2 gezeigt, sind an der am weitesten stromabwärts gelegenen
Seite innerhalb des Gehäuses 16 vorgesehen:
Eine Vorab-Spül-Sprüheinrichtung 24,
die oberhalb der Beförderungs-Oberfläche T vorgesehen
ist und Wasch-Wasser auf die Oberfläche des Aluminium-Gewebes W
sprüht;
eine Vorab-Spül-Sprüheinrichtung 26,
die unterhalb der Beförderungs-Oberfläche T vorgesehen
ist und Wasch-Wasser auf die rückseitige
Oberfläche
des Aluminium-Gewebes W sprüht;
und Wasser-Abquetsch-Walzen 28A, 28B, die das
Wasser, das von den Vorab-Spül-Sprüheinrichtungen 24, 26 aufgesprüht wurde,
von der Oberfläche und
der rückseitigen
Oberfläche
des Aluminium-Gewebes
W abquetschen.
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Beide
Vorab-Spül-Sprüheinrichtungen 24, 26 sind
rohrförmig
und erstrecken sich parallel in Bezug auf die Beförderungs-Oberfläche T entlang
der Querrichtung der Beförderungs-Oberfläche T. Eine
Mehrzahl von Waschwasser-Sprühlöchern 24A, 26A ist
entlang der Längsrichtung
gebildet. Die Waschwasser-Sprühlöcher 24A, 26A sind
in der Weise gebildet, dass sie Waschwasser in Richtung auf die
Beförderungs-Oberfläche T sprühen, wie
dies in 2 gezeigt ist. Eines der Enden
der Vorab-Spül-Sprüheinrichtung 24, 26,
ist mit Wasserzufuhr-Leitungen 24B, 26B verbunden.
Die Menge an Waschwasser, die aus der Vorab-Spül-Sprüheinrichtung 24 versprüht wird,
liegt vorzugsweise im Bereich von 5 bis 50 l/min und besonders bevorzugt
im Bereich von 10 bis 50 l/min pro 1 m Breite des Aluminium-Gewebes
W. Andererseits liegt die Menge an Waschwasser, die aus der Vorab-Spül-Sprüheinrichtung 26 versprüht wird,
vorzugsweise im Bereich von 5 bis 50 l/min und besonders bevorzugt
im Bereich von 10 bis 35 l/min pro 1 m Breite des Aluminium-Gewebes
W.
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Wenn
die Menge an Waschwasser, die in einem Vorab-Spühl-Bereich 2C versprüht wird,
in den obigen Bereichen liegt, wird die abtragende bzw. Abrasiv-Aufschlämmung, die
an dem Aluminium-Gewebe W haftet, in ausreichendem Maße weggewaschen,
und daher kann die Menge an abtragenden Mittel bzw. Abrasiv-Mittel,
die in die Spül-Einrichtung 4 ausgebracht
wird, klein gemacht werden. Weiter ist der Grad, in dem die abgewaschene
abtragende bzw. Abrasiv-Aufschlämmung
durch das Waschwasser verdünnt
wird, gering. So können
an der Vorrichtung 6 zur Rückgewinnung der Abrasiv-Aufschlämmungs-Abfall-Flüssigkeit
die Schwankungen der Konzentration der abtragenden bzw. Abrasiv-Teilchen
in der abtragenden Aufschlämmung
aufgrund der Rückgewinnung
der abtragenden Aufschlämmung
klein gehalten werden.
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Wie
in 2 gezeigt ist, sind die Wasser-Abquetsch-Walzen 28A, 28B auf
den stromabwärts
liegenden Seiten der Vorab-Spül-Sprüheinrichtungen 24, 26 angeordnet
und sind in der Weise vorgesehen, dass sie frei umlaufen können, so
dass sie umlaufen, während
sie an die obere Fläche
bzw. untere Fläche
des Aluminium-Gewebes W anstoßen.
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Auf
der stromaufwärts
gelegenen Seite angeordnete Leitwalzen 30A, 30B werden
an der am meisten stromaufwärts
gelegenen Seite des Innern des Gehäuses 16 vorgesehen,
wie dies in 2 gezeigt ist. Die auf der stromaufwärts gelegenen
Seite angeordneten Leitwalzen 30A, 30B leiten
das Aluminium-Gewebe W, das in Richtung auf das Gehäuse 16 transportiert
wurde, von der Öffnung 16A zu
dem Bereich zwischen der umlaufenden Bürste 8 und den Träger-Walzen 12A, 12B.
Andererseits werden die auf der stromabwärts gelegenen Seite angeordneten
Leitwalzen 32A, 32B auf der am meisten stromabwärts gelegenen
Seite des Innern des Gehäuses 16 vorgesehen.
Die auf der stromabwärts
gelegenen Seite angeordneten Leitwalzen 32A, 32B leiten
das Aluminium-Gewebe W, das durch die Wasser-Abquetsch-Walzen 28A, 28B hindurchgeführt wurde, zur
Außenseite
des Gehäuses 16.
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Die
Spüleinrichung 4 wird
stromabwärts
des Gehäuses 16 vorgesehen.
Die Spüleinrichtung 4 schließt ein:
ein Gehäuse 34,
dessen obere Fläche
offen ist und durch das das Aluminium-Gewebe W hindurchtritt; eine stromaufwärts angeordnete
Leit-Walze 36, die das Aluminium-Gewebe W von einer Öffnung 34A des
Gehäuses 34 in
das Gehäuse 34 leitet;
eine Umkehr-Walze 38, die in der Nähe der unteren Fläche des
Gehäuses 34 vorgesehen
ist und die das Aluminium-Gewebe W, das in das Gehäuse 34 durch
die auf der stromaufwärts gelegenen
Seite angeordnete Leit-Walze 36 geleitet wurde, in einem
Winkel in Richtung auf die Öffnung 34A nach
oben, eine auf der stromabwärts
gelegenen Seite angeordnete Leit-Walze 40, die das Aluminium-Gewebe,
das durch das Innere des Gehäuses
hindurchgetreten ist, in Richtung auf die stromabwärts gelegene
Seite der Spüleinrichtung 4 leitet,
und Spül-Sprüheinrichtungen 42,
die rohrförmige
Sprüheinrichtungen
sind, die Waschwasser in Richtung auf beide Oberflächen des
Aluminium-Gewebes
W sprühen,
das durch das Innere des Gehäuses 34 hindurchtritt.
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Wie
in 2 gezeigt, sind die Wasch-Sprüheinrichtungen 42 parallel
in Bezug auf den Beförderungs-Weg
des Aluminium-Gewebes W innerhalb des Gehäuses 34 angeordnet.
Eine Mehrzahl von Waschwasser-Sprühlöchern 42A, die Waschwasser
in Richtung auf das Aluminium-Gewebe W sprühen, ist in einer Reihe entlang
der Längsrichtung
gebildet. Die Strömungsgeschwindigkeit
von Waschwasser an der Waschwasser- Sprüheinrichtung 42 ist üblicherweise
300 bis 5.000 l/min pro 1 m Breite des Aluminium-Gewebes W, ist
jedoch nicht auf diesen Bereich beschränkt.
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Eine
Abwasser-Leitung 46, die das Abwasser wegleitet, das in
dem Sprüh-Prozeß erzeugt
wurde, wird im unteren Abschnitt des Gehäuses 34 vorgesehen.
Eine Absetz-Grube
oder -Vertiefung (nicht gezeigt), in der die Feststoffe in den Abwasser
gefällt
und beseitigt werden, ist an der Abwasser-Leitung 46 vorgesehen.
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Wie
in 2 gezeigt, ist die Vorrichtung 6 zur
Rückgewinnung
von Abrasiv-Aufschlämmungs-Abwasser-Flüssigkeit
mit einem Aufschlämmungs-Zirkulationstank 50 versehen,
der unterhalb des Gehäuses 16 angeordnet
ist und in dem die abtragende bzw. Abrasiv-Aufschlämmung gespeichert
wird, einer Leitung 52, die mit dem unteren Teil des Gehäuses 16 und
dem Aufschlämmungs-Zirkulationstank 50 in
Verbindung steht und die zu dem Aufschlämmungs-Zirkulationstank 50 Abwasser-Flüssigkeit
der abtragenden Aufschlämmung
wie beispielsweise die abtragende Aufschlämmung zuleitet, die der Bürstenkörnungs-Verarbeitungs-Vorrichtung 2 zugeleitet
wird, und die abtragende Aufschlämmung,
die durch das Waschwasser abgewaschen wird, das aus dem Vorab-Spül-Sprüheinrichtungen 24, 26 gesprüht wird;
Zyklone 54A, 54B, die in Reihe angeordnet sind und
die von der abtragenden Aufschlämmung
in dem Aufschlämmungs-Zirkulationstank 50 Teilchen
(nachfolgend bezeichnet als „Teilchen
mit kleinem Durchmesser")
eines kleineren mittleren Teilchen-Durchmessers entfernen als die
abtragenden Teilchen, die in der abtragenden Aufschlämmung enthalten
sind; eine Aufschlämmungs-Rückführ-Leitung 58,
die dem Aufschlämmungs-Zirkulationstank 50 die
abtragende Aufschlämmung
wieder zuführt,
von der Teilchen mit kleinem Durchmesser durch die Zyklone 54A, 54B entfernt
wurden, und die Leitung 22 zum Zuleiten der abtragenden
Aufschlämmung,
die die abtragende Aufschlämmung
innerhalb des Aufschlämmungs-Zirkulationstanks 50 der
ersten Sprüheinrichtung 18 für abtragendes
Mittel und der zweiten Sprüheinrichtung 20 für abtragendes
Mittel zuleitet.
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Ein
Ende der Leitung 22 zum Zuleiten abtragender Aufschlämmung wird
in der Nähe
des unteren Teils des Aufschlämmungs-Zirkulationstanks 50 vorgesehen.
Eine Pumpe 22A, die die abtragende Aufschlämmung in
Richtung auf die erste Sprüheinrichtung
für abtragendes
Mittel und die zweite Sprüheinrichtung
für abtragendes
Mittel fördert,
ist an der Leitung 22 zum Zuführen der abtragenden Aufschlämmung vorgesehen.
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Der
Zyklon 54A ist versehen mit: einem Zyklon-Hauptkörper 54C,
der in im wesentlichen konischer Form ausgebildet ist, deren Durchmesser
in Richtung auf dessen Boden abnimmt; ein die Aufschlämmung einführenden
Rohr 54E, das an der Seitenfläche des Zyklon-Hauptkörpers 54C vorgesehen
ist und sich von einem Punkt in der Nähe der oberen Fläche in tangentialer
Richtung erstreckt und durch das abtragende Aufschlämmung von
dem Aufschlämmungs-Zirkulationstank 50 eingeführt wird;
einem Abschlämmungs-Ausleitungs-Rohr 54G,
das am unteren Endabschnitt des Zyklon-Hauptkörpers 54C vorgesehen
ist und durch das die abtragende Aufschlämmung ausgeleitet wird, von
der Teilchen mit kleinem Durchmesser in dem Zyklon 54A entfernt
wurden; und einem Ablaß-Rohr 54I für Aufschlämmung mit
Teilchen kleinen Durchmessers, das an der oberen Fläche des
Zyklon-Hauptkörpers 54C vorgesehen
ist und sich von dem zentralen Abschnitt nach oben erstreckt und
durch das die Aufschlämmung
mit Teilchen kleinen Durchmessers abgeführt wird, die in dem Zyklon 54A klassiert
wurde.
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Der
Zyklon 54B ist versehen mit: einem Zyklon-Hauptkörper 54D,
der ähnlich
geformt ist wie der Zyklon-Hauptkörper 54C des Zyklons 54A;
einem Aufschlämmung
zuführenden
Rohr 54F, das ähnlich
gebildet ist wie das Aufschlämmung
zuführende
Rohr 54E, und durch das die abtragende bzw. Abrasiv-Aufschlämmung eingeleitet
wird, die von dem Aufschlämmungs-Auslaß-Rohr 54i an
dem Zyklon 54A ausgelassen wurde; einem Rohr 54H zum
Abführen
von zurückgewonnener
Aufschlämmung,
das – ähnlich dem
Rohr 54G zum Auslassen von zurückgewonnener Aufschlämmung am
unteren Endabschnitt des Zyklon-Hauptköpers 54D vorgesehen
ist und durch das zurückgewonnene
Aufschlämmung
abgelassen wird, von der die Teilchen mit kleinem Durchmesser im
Zyklon 54B entfernt wurden; und einem Ablaß-Rohr 54J für eine Aufschlämmung mit Teilchen
kleinen Durchmessers, das – ähnlich dem
Rohr 54i zum Ablassen von Aufschlämmung mit Teilchen kleinen
Durchmessers an der oberen Oberfläche des Zyk lon-Hauptköpers 54D vorgesehen
ist und durch das die Aufschlämmung
mit Teilchen mit kleinem Durchmesser abgelassen wird, die in dem
Zyklon 54B klassiert wurde.
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Die
Innenwandungen der Zyklon-Hauptköper 54C, 54D sind
mit einem Abrieb-beständigen Material wie
beispielsweise mit einem Abrieb-beständigen Kautschuk, Polyurethan-Harz,
Keramik-Material oder dergleichen ausgekleidet oder sind in Abrieb-beständiger Weise
mit einer Chrom-Plattierung oder dergleichen plattiert.
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Das
Aufschlämmung
zuführende
Rohr 54E an dem Zyklon 54A steht in Verbindung
mit einem Punkt in der Nähe
des Boden-Abschnitts des Aufschlämmungs-Zirkulationstanks 50 über eine
Aufschlämmung-einführende Leitung 56.
Eine Pumpe 56A, die die abtragende Aufschlämmung innerhalb
des Aufschlämmungs-Zirkulationstanks 50 dem
Aufschlämmung
zuführenden
Rohr 54 zuleitet, ist an der Aufschlämmung-zuleitenden Leitung 56 angeordnet,
und ein Überlauf-Tank 56B ist
an der Aufschlämmung-zuleitenden
Leitung 56 zwischen dem Aufschlämmungs-Zirkulationstank 50 und
der Pumpe 56A angeordnet.
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Das
Rohr 54G zum Einleiten von zurückgewonnener Aufschlämmung an
dem Zyklon 54A und das Rohr 54H zum Einleiten
zurückgewonnener
Aufschlämmung
an dem Zyklon 54B stehen über eine Aufschlämmungs-Rückführungs-Leitung 58a und
eine Aufschlämmungs-Rückführungs-Leitung 58b mit
dem Aufschlämmungs-Zirkulationstank 50 in
Verbindung.
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Eine
abtragendes Mittel bzw. Abrasiv-Mittel nachfüllende Leitung 62,
die das Abrasiv-Mittel
nachfüllt, und
eine Wasser nachfüllende
Leitung 64, die Wasser nachfüllt, werden an dem Aufschlämmungs-Zirkulationstank 50 vorgesehen.
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Ein
Rohr 54i zum Ablassen von Aufschlämmung mit Teilchen kleinen
Durchmessers an dem Zyklon 54a ist mit dem Aufschlämmung-einleitenden
Rohr 54F an dem Zyklon B verbunden. Das Rohr 54J zum
Ablassen von Aufschlämmung
mit Teilchen kleinen Durchmessers an dem Zyklon 54B ist
mit einer Abwasser-Leitung 60 verbunden.
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Nachfolgend
wird der Betrieb der Herstell-Vorrichtung beschrieben, die in 2 gezeigt
ist.
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Das
Aluminium-Gewebe W wird in Richtung von Pfeil a durch eine Transport-Vorrichtung (nicht
gezeigt) transportiert und wird in die Bürsten-Körnungs-Bearbeitungs-Vorrichtung 2 durch
die auf der stromaufwärts
gelegenen Seite angebrachten Leit-Walzen 30A, 30B geleitet.
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Die
abtragende bzw. Abrasiv-Mittel umfassende Aufschlämmung in
dem Aufschlämmungs-Zirkulationstank 50 wird
von der ersten Sprüh-Vorrichtung 18 für abtragendes
Mittel auf die Oberfläche
des Aluminium-Gewebes W aufgebracht, das in die Bürsten-Körnungs-Verarbeitungs-Vorrichtung 2 geleitet
wird.
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Im
Rahmen der vorliegenden Ausführungsform
ist der mittlere Teilchendurchmesser der abtragenden bzw. Abrasiv-Teilchen
in der abtragenden Aufschlämmung
von 10 bis 70 μm
und liegt vorzugsweise bei 25 bis 50 μm. Wenn der mittlere Teilchen-Durchmesser der abtragenden
Teilchen in diesen Bereich fällt,
wird ein Lithographie-Druckplattenträger erhalten,
der der Träger
einer PS-Platte mit besonders ausgezeichneten Druckeigenschaften
und dem Vermögen
wird, wiederholten Druckvorgängen
standzuhalten.
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Das
Aluminium-Gewebe W, auf das die abtragende Aufschlämmung von
der ersten Sprüheinrichtung 18 für ein abtragendes
Mittel geleitet wurde, tritt zwischen der umlaufenden Bürste 8 und
den Stütz-Walzen 12A, 12B hindurch,
und seine Oberfläche
wird mechanisch durch die Bürstenborsten 8A der
Walzen-Bürste 8 bzw.
umlaufenden Bürste 8 abgetragen.
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Eine
abtragende Aufschlämmung,
die dieselbe ist wie diejenige, die von der ersten Sprüheinrichtung 18 für ein abtragendes
Mittel zugeführt
wurde, wird von der zweiten Sprüheinrichtung 20 für ein abrasives
Mittel auf die Oberfläche
des Aluminium- Gewebes
W geleitet, die mechanisch durch die Walzen-Bürste 8 abgetragen
wurde. Das Aluminium-Gewebe W, auf das die abtragende Aufschlämmung von
der zweiten Sprüheinrichtung 20 für ein abtragendes
Mittel geleitet wurde, tritt zwischen der Walzen-Bürste 10 und
den Stütz-Walzen 14A, 14B hindurch,
und seine Oberfläche
wird mechanisch durch die Bürstenborsten 10A der
Walzen-Bürste 10 abgetragen.
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Das
Aluminium-Gewebe W, dessen Oberfläche durch die Walzen-Bürsten 8, 10 abgetragen
wurde, tritt als nächstes
zwischen der Vorab-Spül-Sprüheinrichtung 24 und
der Vorab-Spül-Sprüheinrichtung 26 hindurch. Aufgrund
des auf die Oberflächenseite
des Aluminium-Gewebes W von den Vorab-Spül-Sprüheinrichtungen 24, 26 gesprühten Waschwassers
wird die überwiegende
Menge der abtragenden Aufschlämmung,
die auf der vorderen Oberfläche
und der rückseitigen
Oberfläche
des Aluminium-Gewebes W bei dem oben beschriebenen Schritt des mechanischen
Abtragens gehaftet hat, abgewaschen.
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Das
Aluminium-Gewebe W tritt als nächstes
zwischen den Wasser-Abquetsch-Walzen 28A, 28B hindurch,
und die Wassertropfen und dergleichen, die auf der vorderen Oberfläche und
der rückseitigen
Oberfläche
haften, werden abgequetscht.
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Das
Aluminium-Gewebe W, das zwischen den Wasser-Abquetsch-Walzen 28A, 28B hindurchgeführt wurde,
wird an der Außenseite
des Gehäuses 16 durch
die auf der stromabwärtig
gelegenen Seite angeordneten Führungs-Walzen 32A, 32B geleitet.
Als nächstes
wird das Aluminium-Gewebe W in das Gehäuse 34 bei der Spül-Vorrichtung 4 über die
auf der stromaufwärts
angeordnete Leit-Walze 36 geleitet, und Waschwasser wird
auf seine Vorderfläche
und seine Rückfläche von
den Spül-Sprüheinrichtungen 42 gesprüht. Der
Spülprozeß in dem
Herstellungs-Verfahren der vorliegenden Erfindung wird dadurch durchgeführt.
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Das
Aluminium-Gewebe W, das in der Spül-Vorrichtung 4 gespült wurde,
wird durch die auf der stromabwärts
gelegenen Seite angeordnete Leit-Walze 40 zu einem Nach- Prozeß geleitet,
z. B. zu einer Ätz-Vorrichtung
(nicht gezeigt), wo ein Ätz-Prozeß durchgeführt wird.
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Die
Abrasiv-Aufschlämmungs-Abfall-Flüssigkeit,
die die abtragende Aufschlämmung,
die von der ersten Sprüheinrichtung 18 für ein abtragendes
Mittel und der zweiten Sprüheinrichtung 20 für ein abtragendes Mittel
zugeführt
wurde, das Waschwasser von den Vorab-Spül-Sprüheinrichtungen 24, 26 und
die abtragende Aufschlämmung,
die von der vorderen Fläche
und der rückseitigen
Fläche
des Aluminium-Gewebes W abgespült
wurde, werden im unteren Abschnitt des Gehäuses 16 gemischt und
strömen
nach unten in den Aufschlämmungs-Zirkulationstank 50 durch
die Leitung 52. So wird die Abrasiv-Aufschlämmungs-Abfall-Flüssigkeit
in die abtragende Aufschlämmung
in dem Aufschlämmungs-Zirkulationstank 50 eingemischt.
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Die
Abrasiv-Aufschlämmungs-Abfall-Flüssigkeit
schließt
als Teilchen mit kleinem Durchmesser fein gemahlene Abrasiv-Teilchen
ein, die abtragende Teilchen sind, die durch mechanisches Abtragen
bei der Bürsten-Körnungs-Verarbeitungs-Vorrichtung 2 in
der Weise gemahlen wurden, dass deren Teilchen-Durchmesser verringert
wurden, und Abrasiv-Mittel-Bodensatz, der während des Abtragens gebildet
wurde, und dergleichen. So werden Teilchen mit kleinem Durchmesser
in die abrasive Aufschlämmung
in dem Aufschlämmungs-Zirkulationstank 50 eingemischt.
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Die
Abrasiv-Mittel-Aufschlämmung
innerhalb des Aufschlämmungs-Zirkulationstank 50 wird
von dem Aufschlämmungs-Einleitungs-Rohr 54E in
den Zyklon 54A durch die Pumpe 56A über den Überlauftank 56B eingeleitet.
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Wie
oben beschrieben, wird das Aufschlämmungs-Einleitungs-Rohr 54E in
einer tangentialen Richtung des Zyklon-Hauptköpers 54A vorgesehen.
So wird in der in den Zyklon-Hauptköper 54A eingeleiteten
Abrasiv-Mittel-Aufschlämmung
ein Strom erzeugt, der um die Achse des Zyklon-Hauptköpers 54A umläuft. Dementsprechend
bewegt sich der überwiegende
Teil der Teilchen mit großem
Durchmesser, wie die Abrasiv-Mittel-Teilchen in der Abrasiv-Mittel-Aufschlämmung und
dergleichen, in Rich tung auf die Wandungsfläche des Zyklon-Hauptköpers 54A,
und die überwiegende
Menge der Teilchen mit kleinem Durchmesser versammelt sich im zentralen
Bereich des Zyklon-Hauptköpers 54A.
Auf diese Weise kann die überwiegende
Menge der Teilchen mit kleinem Durchmesser von der Abrasiv-Mittel-Aufschlämmung entfernt
werden. Die Abrasiv-Mittel-Aufschlämmung, von der die Mehrheit
der Teilchen mit kleinem Durchmesser entfernt wurde, wird von dem Aufschlämmungs-Ausleit-Rohr 54G durch
die Aufschlämmungs-Rückführungs-Leitung 58a dem
Aufschlämmungs-Zirkulationstank 50 wieder
zugeleitet.
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Die
Aufschlämmung,
die von dem Aufschlämmungs-Ableit-Rohr 54i an
dem Zyklon 54A abgeleitet wird, wird in das Aufschlämmungs-Einleit-Rohr 54F des
Zyklons 54B geleitet. Von der oben beschriebenen Aufschlämmung wird
die Abrasiv-Mittel-Aufschlämmung, von
der Teilchen mit kleinem Durchmesser in dem Zyklon 54B entfernt
wurden, wird von dem Aufschlämmungs-Ableit-Rohr 54H durch
das Aufschlämmungs-Rückführungs-Rohr 58b in
den Aufschlämmungs-Zirkulationstank 50 zurückgeführt.
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Die
Teilchen in der Aufschlämmung,
die in dem Zyklon 54B abgetrennt wurden, sind fast ausschließlich Teilchen
mit kleinem Durchmesser und werden an das Äußere des Systems von dem Aufschlämmungs-Abgabe-Rohr 54J durch
die Aufschlämmungs-Abgabe-Leitung 60 abgeleitet.
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Abtragende
Teilchen und Wasser können
dem Abrasiv-Mittel-Zirkulationstank 50 über die Abrasiv-Mittel-Nachfüll-Leitung 62 und
die Wasser-Nachfüll-Leitung 64 nachgefüllt werden,
wenn dies erforderlich ist, so dass die Konzentration an abtragendem
Mittel und die Teilchengrößen-Verteilung
des abtragenden Mittels in der Abrasiv-Mittel-Aufschlämmung in dem Abrasiv-Mittel-Zirkulationstank 50 konstant
sind.
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Der
mittlere Teilchen-Durchmesser der Teilchen mit kleinem Durchmesser,
die in dem Zyklon 54B abgetrennt werden, ist ein Drittel
bis ein Zehntel des mittleren Teilchen-Durchmessers der Abrasiv-Teilchen in
der abtragenden Aufschlämmung.
In diesem Fall ist der mittlere Teilchen-Durchmesser der Abrasiv-Teilchen
in der abtragenden Aufschlämmung
beispielsweise der mittlere Teilchen-Durchmesser der abtragenden
Aufschlämmung,
die in die abtragende Aufschlämmung
in dem Aufschlämmungs-Zirkulationstank 50 eingeschlossen
ist. Die Beziehung zwischen dem mittleren Teilchen-Durchmesser der
abtragenden Teilchen in der abtragenden Aufschlämmung und dem mittleren Teilchen-Durchmesser
der Teilchen mit kleinem Durchmesser ist in 2 gezeigt.
Wie aus 2 ersichtlich ist, sind in derselben
Weise wie bei den Abrasiv-Teilchen in der abtragenden Aufschlämmung die
Teilchen-Durchmesser der Teilchen mit kleinem Durchmesser genauso
entlang einer Normal-Kurve verteilt. Wenn angenommen wird, dass
der mittlere Teilchen-Durchmesser der Abrasiv-Teilchen in der abtragenden
Aufschlämmung
d ist, ist der mittlere Teilchen-Durchmesser x der Teilchen mit
kleinem Durchmesser d/3 bis d/10.
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Die
Teilchen-Verteilung der Teilchen mit kleinem Durchmesser kann beispielsweise
bestimmt werden durch Messen der Teilchen-Durchmesser-Verteilung
der Teilchen in der Aufschlämmung
von Teilchen mit kleinem Durchmesser, die von dem Aufschlämmungs-Abgabe-Rohr 54J abgegeben
wird, in Übereinstimmung
mit einem üblichen
Verfahren. Beispiele eines derartigen Verfahrens schließen ein
Sieb-Verfahren, ein Fällungs-Verfahren,
ein Lichtstreungs-Verfahren, ein Verfahren mit optischer Beugung
und dergleichen ein. Der mittlere Teilchen-Durchmesser der Abrasiv-Teilchen
in der abrasiven Aufschlämmung
in dem Aufschlämmungs-Zirkulationstank 50 kann
in derselben Weise bestimmt werden.
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Wenn
der mittlere Teilchen-Durchmesser der Teilchen mit kleinem Durchmesser,
die in dem Zyklon 54B abgetrennt wurden, innerhalb des
oben angegebenen Bereichs liegt, wird weniger abtragende Aufschlämmung verbraucht,
was wirtschaftlich ist. Weiter kann deswegen, weil der mittlere
Teilchen-Durchmesser der abtragenden Teilchen in der abtragenden
Aufschlämmung
nicht übermäßig groß wird,
verhindert werden, dass die Oberflächen-Rauheit Ra des Trägers für eine Lithographie-Druckplatte übermäßig groß wird.
Dementsprechend kann der Träger
für die
Lithographie-Druckplatte mit hoher Produktions-Stabilität hergestellt
werden. Weiter weist eine PS-Platte, deren Träger der oben beschriebene Träger für eine Lithographie-Druckplatte
ist, ausgezeichnete Druck-Eigenschaften und ein Vermögen auf,
wiederholten Druckvorgängen
standzuhalten.
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Um
zu erreichen, dass der mittlere Teilchen-Durchmesser der Teilchen
mit kleinem Durchmesser in den oben angegebenen Bereich fällt, kann
die Zuleitungs-Strömungsgeschwindigkeit
und der Zuleitungs-Druck der abtragenden Aufschlämmung an den Zyklonen 54A, 54B reguliert
werden. Alternativ dazu kann durch Regulieren der Teilchen-Durchmesser-Verteilung
des Abrasiv-Mittels, das von der Abrasiv-Mittel-Nachfüll-Leitung 62 nachgefüllt wird,
der mittlere Teilchen-Durchmesser des Abrasiv-Mittels bzw. abtragenden Mittels in
der abtragenden Aufschlämmung
in dem Aufschlämmungs-Zirkulationstank 50 reguliert
werden.
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In
der oben beschriebenen Vorrichtung zur Herstellung des Lithographie-Druckplattenträgers sind zwei
Zyklone in Reihe angeordnet. Jedoch kann ein Zyklon verwendet werden,
oder drei oder mehr Zyklone können
in Reihe angeordnet werden. Weiter können zwei oder mehr Zyklone
parallel angeordnet werden.
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In
der oben beschriebenen Herstellungs-Vorrichtung werden die fein
gemahlenen Abrasiv-Teilchen und die Abrasiv-Schwebstoffe und dergleichen
in der Abrasiv-Aufschlämmungs-Abfall-Flüssigkeit
als Aufschlämmung
von Teilchen mit kleinem Durchmesser durch den Zyklon 54B entfernt,
und die verbleibende Aufschlämmung
wird wiedergewonnen und als abtragende Aufschlämmung wiederverwendet. So kann
die Menge an abtragender Aufschlämmung,
die verbraucht wird, verringert werden. Darüber hinaus kann die Konzentration
und Teilchen-Durchmesser-Verteilung der abtragenden Teilchen in
der abtragenden Aufschlämmung über einen
langen Zeitraum konstant gehalten werden. So können Lithographie-Druckplattenträger, die
die Träger von
PS-Platten mit exzellenten Druckeigenschaften und exzellentem Vermögen, wiederholtem
Drucken standzuhalten, werden, mit hoher Produktionsstabilität hergestellt
werden.
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Da
keiner der Zyklone 54A, 54B bewegbare Teile aufweist,
ist die Struktur der Vorrichtung 6 zum Rückgewinnen
der Abrasiv-Aufschlämmungs-Abfall-Flüssigkeit
einfach, und die Vorrichtung 6 zur Wiedergewinnung der
Abrasiv-Aufschlämmungs-Abfall-Flüssigkeit
fällt selten
aus.
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Nach
der oben beschriebenen mechanischen Behandlung zur Aufrauhung der
Oberfläche
kann das Aluminium-Substrat wenigstens einem der Schritte Ätz-Behandlung
und elektrolytische Oberflächen-Aufrauh-Behandlung
unterworfen werden. Weiter kann nach einer elektrolytischen Oberflächen-Aufrauh-Behandlung
das Aluminium-Substrat einer zweiten Ätz-Behandlung unterworfen werden.
Alternativ dazu kann das Aluminium-Substrat die folgenden Verfahrensschritte
in der folgenden Reihenfolge durchlaufen: Eine erste Ätz-Behandlung,
eine erste Glatt-Matteriungs-Behandlung, eine elektrolytische Oberflächen-Aufrauh-Behandlung,
eine zweite Ätz-Behandlung
und eine zweite Glatt-Mattierungs-Behandlung.
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B. Ätz-Behandlung
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Die Ätz-Behandlung
wird durchgeführt
unter Verwendung eines Alkali-Mittels.
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Beispiele
des Alkali-Mittels sind Lösungen
von Alkalimetallhydroxid (kaustischem Alkali) oder eines Alkalimetall-Salzes.
Die Konzentration des Alkali-Mittels in der Lösung liegt bei 0,01 bis 30
Gew.-%, und die Temperatur liegt vorzugsweise in einem Bereich von
20 bis 90°C.
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Beispiele
des Alkalimetallhydroxids schließen kaustische Soda (Natriumhydroxid),
kaustische Pottasche (Kaliumhydroxid) und dergleichen ein.
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Beispiele
des Alkalimetall-Salzes schließen
ein: Alkalimetallsilicate wie beispielsweise Natriummetasilicat,
Natriumsilicat, Kaliummetasilicat, Kaliumsilicat und dergleichen;
Alkalimetallcarbonate wie beispielsweise Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat
und dergleichen; Alkalimetallaluminate wie beispielsweise Natriumaluminat,
Kaliumaluminat und dergleichen; Alkalimetallaldonate wie beispielsweise
Natriumgluconat, Kaliumgluconat und dergleichen; und Alkalimetallhydrogenphosphate
wie beispielsweise Natrium-sec-Phosphat, Kalium-sec-Phosphat, Natrium-tert-Phosphat,
Kalium-tert-Phosphat und dergleichen. Aus Sicht einer hohen Ätz-Geschwindigkeit
und niedriger Kosten ist eine kaustische Alkali-Lösung (Alkalimetallhydroxid-Lösung) besonders
bevorzugt als das alkalische Mittel.
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Die
Menge des Ätzens
beträgt
vorzugsweise 0,1 bis 20 g/m2 und besonders
bevorzugt 1 bis 15 g/m2 und am meisten bevorzugt
2 bis 10 g/m2. Die Ätz-Zeit liegt bevorzugt bei
5 s bis 5 min.
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Wenn
die Ätz-Menge
und Ätz-Zeit
innerhalb der oben angegebenen Bereiche liegen, werden die abgeschabten
feinteiligen Niederschläge,
die bei der mechanischen Oberflächen-Aufrauh-Behandlung
erzeugt wurden, und der Film, der auf der Oberfläche des Aluminium-Substrats
verbleibt, und dergleichen gelöst
und entfernt. Jedoch bleiben die extrem großen Wellen und großen Wellen
zurück,
ohne abgeflacht zu werden, was bevorzugt ist.
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Die Ätz-Behandlung
kann durchgeführt
werden unter Verwendung eines Ätz-Tanks,
wie er üblicherweise
bei einer Ätz-Behandlung
eines Aluminium-Substrats verwendet wird. Der Ätz-Tank kann entweder ein Tank des
Batch-Typs oder ein Tank des kontinuierlichen Typs sein.
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Eine
erste Glatt-Mattierungs-Behandlung, die die restlichen feinteiligen
Niederschläge
entfernt, die auf der Oberfläche
des Aluminium-Substrats zurückbleiben
und die nicht in der Alkali-Lösung
benötigt
werden, kann durchgeführt
werden zwischen der Ätz-Behandlung und der
nachfolgenden Behandlung zur Aufrauhung der Oberfläche durch
Elektrolyse. Die erste Glatt-Mattierungs-Behandlung kann beispielsweise
durchgeführt werden
unter Spülen
des Aluminium-Substrats, das einer Ätz-Behandlung unterzogen wurde,
und anschließendes
Bearbeiten des Aluminium-Substrats mit einer starken Säure wie
beispielsweise Salpetersäure,
Phosphorsäure,
Schwefelsäure,
Chromsäure
oder dergleichen, oder einer Mischung daraus.
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C. Elektrolytische Oberflächen-Aufrauh-Behandlung
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Bei
der elektrolytischen Oberflächen-Aufrauh-Behandlung
wird das Aluminium-Substrat,
das in dem oben beschriebenen Schritt des chemischen Ätzens geätzt wurde,
beispielsweise durch Anwendung eines Wechselstroms auf eine saure
elektrolytische Lösung
einer Wechselstrom-Elektrolyse unterworfen.
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Ein
Beispiel der sauren elektrolytischen Lösung ist eine elektrolytische
Lösung,
die wenigstens eine der Säuren
Schwefelsäure,
Chlorwasserstoffsäure
und Salpetersäure
enthält.
Die Konzentration der Schwefelsäure,
Chlorwasserstoffsäure
und Salpetersäure
in der sauren elektrolytischen Lösung
kann in passender Weise bestimmt werden in Übereinstimmung mit den Bedingungen
der Elektrolyse oder dergleichen, liegt jedoch vorzugsweise bei
insgesamt 0,3 bis 15 Gew.-%. Die saure elektrolytische Lösung kann
auch eine organische Säure
wie beispielsweise Oxalsäure,
Essigsäure,
Citronensäure,
Weinsäure,
Milchsäure
oder dergleichen, Phosphorsäure,
Chromsäure,
Nitrate, Chloride, Amine und Aldehyde enthalten, sofern dies nötig ist.
Die saure elektrolytische Lösung
kann Aluminium-Ionen einschließen,
jedoch liegt der Gehalt an Aluminium-Ionen vorzugsweise bei 50 g/l
oder weniger. Die Temperatur der sauren elektrolytischen Lösung kann
auch in passender Weise in Übereinstimmung
mit den Bedingungen der Elektrolyse oder dergleichen eingestellt
werden, liegt jedoch vorzugsweise bei 30 bis 80°C.
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Die
Frequenz des Wechselstroms, der an das Aluminium-Substrat angelegt
wird, liegt vorzugsweise bei 0,1 bis 100 Hz. Die Spannung ist vorzugsweise
10 bis 50 V, bei Anoden-Zeit-Spannung als Referenz. Die Kathoden-Zeit-Spannung
kann dieselbe sein wie die Anoden-Zeit-Spannung, oder sie kann geringer
sein als die Anoden-Zeit-Spannung.
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Die
Stromdichte liegt vorzugsweise bei 5 bis 100 A/dm2,
und die Elektrizitätsmenge
an der Anode ist vorzugsweise 150 bis 600 C/dm2.
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Der
Wechselstrom kann ein sinusartiger Wellen-Strom sein, oder kann
ein Rechteckswellen-Strom sein. Alternativ kann der Wechselstrom
ein trapezförmiger
Wellenstrom sein, wie er offenbart ist in der japanischen offengelegten
Patentanmeldung (JP-A) Nr. 52-58602.
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Es
kann ein Wechselstrom-Elektrolyt-Tank des Batch-Typs oder ein Wechselstrom-Elektrolyttank des kontinuierlichen
Typs bei der Wechselstrom-Elektrolyt-Behandlung verwendet werden.
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Aufgrund
der elektrolytischen Oberflächen-Aufrauh-Behandlung
werden hauptsächlich
Honigwaben-Strukturen, die Vorsprungs- und Vertiefungs-Abschnitte
mit einer feineren Körnung
als die großen
Wellen sind, und Mikroporen, die Vorsprungs- und Vertiefungs-Abschnitte
mit feinerer Körnung
als die Honigwaben-Strukturen sind, hauptsächlich gebildet. Die Honigwaben-Strukturen
und die Mikroporen sind hauptsächlich
bezogen auf die Haftung zwischen der photoempfindlichen Schicht
und dem Träger
bei der PS-Platte, der Wasser-Rückhalte-Eigenschaft,
der Schwierigkeit, verschmutzt zu werden, der Ausgewogenheit von
Wasser und Druckfarbe, der Abriebbeständigkeit oder dergleichen.
Bei Durchführen
eines elektrolytischen Aufrauhens der Oberfläche unter den oben beschriebenen
Bedingungen fällt
die Zahl Pc der Rauheits-Vorsprünge
in den Bereich, der in Anspruch 1 der vorliegenden Anmeldung vorgeschrieben
ist, das heißt,
dass ein Träger
für eine Lithographie-Druckplatte
erhalten werden kann, bei dem Honigwaben-Strukturen und Mikroporen
einheitlich gebildet sind. Dementsprechend weist eine PS-Platte,
die von diesem Lithographie-Druckplattenträger als Träger Gebrauch macht, eine geringe
Punkte-Zunahme, eine exzellente Farbton-Reproduzierbarkeit, ein
ausgezeichnetes Wasser-Rückhalte-Vermögen der
Oberfläche
auf und ist schwierig zu verschmutzen und hat darüber hinaus
ein exzellentes Vermögen,
wiederholtem Druckvorgängen
standzuhalten, und weist eine ausgezeichnete Ausgewogenheit zwischen
Wasser und Druckfarbe und ein gute Abriebbeständigkeit auf.
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Nach
der elektrolytischen Oberflächen-Aufrauh-Behandlung
kann ein zweiter Ätz-Prozeß durchgeführt werden.
Der zweite Ätz-Prozeß kann durchgeführt werden
in einer Alkali-Lösung
mit einem pH-Wert von 10 oder mehr. Ein spezielles Beispiel der
Alkali-Lösung ist
eine Lösung,
die dieselbe Art von Alkali-Mittel enthält wie dasjenige, das oben
in Verbindung mit der vorher beschriebenen Ätz-Behandlung beschrieben wurde.
Die Konzentration des alkalischen Mittels in der Alkali-Lösung ist
dieselbe wie diejenige, die oben in Verbindung mit der vorher beschrieben Ätz-Behandlung
erwähnt
wurde. Die Temperatur der Alkali-Lösung liegt vorzugsweise bei
25 bis 60°C.
Die Menge des Ätzens
beträgt
vorzugsweise 0,1 bis 5 g/m2. Die Ätz-Zeit
kann in passender Weise in Übereinstimmung
mit der Ätz-Menge,
der Zusammensetzung der Alkali-Lösung,
der Temperatur und dergleichen festgesetzt werden, und es ist beispielsweise
ein Bereich von 1 bis 10 s bevorzugt.
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Nachdem
diese Ätz-Behandlung
durchgeführt
wurde, kann das Aluminium-Substrat einer zweiten Glatt-Mattierungs-Behandlung
unterzogen werden, indem es in eine wässrige Schwefelsäure-Lösung einer Temperatur
von 25 bis 65°C
eingetaucht wird, die eine Schwefelsäure-Konzentration von 5 bis
40 Gew.-% aufweist.
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2-2 Anodisierungs-Behandlung
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Bei
der Anodisierungs-Behandlung wird das Aluminium-Substrat, das den
oben beschriebenen Behandlungen der Aufrauhung der Oberfläche unterworfen
wurde, einer Anodisierungs-Behandlung in Übereinstimmung mit einem bekannten
Verfahren unterzogen.
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Bei
der Anodisierungs-Behandlung wird ein Gleichstrom oder ein pulsierender
Strom auf das Aluminium-Substrat in einer Elektrolyt-Lösung aufgebracht,
die wenigstens eine Säure
aus der Gruppe von beispielsweise Schwefelsäure, Phosphorsäure, Oxalsäure, und
Amidosulfonsäure
enthält.
-
Im
Unterschied zu der oben erwähnten
Elektrolyt-Lösung
ist ein Beispiel der Elektrolyt-Lösung, die
bei der Anodisierungs-Behandlung verwendet wird, eine Lösung, die
Aluminium-Ionen und wenigstens eine der Säuren Schwefelsäure, Phosphorsäure, Oxalsäure, Chromsäure und
Amidosulfonsäure
enthält.
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Die
Konzentration der Elektrolyte in der Elektrolyt-Lösung liegt
vorzugsweise bei 1 bis 80 Gew.-%, und die Temperatur ist vorzugsweise
5 bis 70°C.
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Die
Anodisierungs-Behandlung wird vorzugsweise so durchgeführt, dass
die Menge des anodisierten Films 0,1 bis 10 g/m2 beträgt. Die
Stromdichte ist vorzugsweise 0,5 bis 60 A/dm2,
und die Spannung ist vorzugsweise 1 bis 100 V. Die Elektrolyse-Zeit
liegt vorzugsweise bei 1 s bis 5 min.
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Bei
dem Lithographie-Druckplattenträger,
der einer Anodisierungs-Behandlung unterzogen wurde, so dass die
Menge des anodisierten Films in den oben genannten Bereich fällt, ist
ein anodisierter Film mit einer ausreichenden Dicke und Härte einheitlich
auf der Oberfläche
gebildet. So weist eine PS-Platte, die Gebrauch von diesem Lithographie-Druckplattenträger als
Träger
macht, eine ausgezeichnete Abriebbeständigkeit der Nicht-Bild-Bereiche
auf.
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3. PS-Platte
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Die
PS-Platte gemäß der vorliegenden
Erfindung wird hergestellt durch Bilden einer photoempfindlichen
Schicht auf der Oberfläche
des oben beschriebenen Lithographie-Druckplattenträgers, die einer Oberflächen-Aufrauh-Behandlung
unterworfen wurde und auf der ein anodisierter Film gebildet wurde.
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Die
photoempfindliche Schicht kann gebildet werden durch Aufbringen
einer Lösung
eines photoempfindlichen Harzes, die ein photoempfindliches Harz
enthält,
auf die vorstehend genannte Oberfläche des Lithographie-Druckplattenträgers, und
Trocknen der aufgebrachten Lösung
an einem dunklen Platz.
-
Beispiele
des photoempfindlichen Harzes sind ein photoempfindliches Harz des
Positiv-Typs, das
sich in einer Entwicklungs-Lösung
löst, wenn
Licht darauf aufgebracht wird, und ein photoempfindliches Harz des Negativ-Typs,
das sich nicht in einer Entwicklungs-Lösung löst, wenn Licht darauf aufgebracht
wird.
-
Beispiele
des photoempfindlichen Harzes des Positiv-Typs sind Kombinationen
aus Diazid-Verbindungen wie beispielsweise eine Chinondiazid-Verbindung
oder eine Naphthochinondiazid-Verbindung und ein Phenol-Harz wie
beispielsweise ein Phenol-Novolack-Harz
oder ein Cresol-Novolack-Harz oder dergleichen.
-
Beispiele
des photoempfindlichen Harzes des Negativ-Typs sind Kombinationen
einer Diazo-Verbindung wie beispielsweise ein Diazo-Harz (z. B.
ein Kondensationsprodukt aus einem aromatischen Diazonium-Salz und
einem Aldehyd wie beispielsweise Formaldehyd) und einem Bindemittel
wie beispielsweise ein (Meth-) Acrylat-Harz, Polyamid-Harz, Polyurethan
oder dergleichen; Kombinationen eines Vinylpolymers wie beispielsweise
ein (Meth-) Acrylat-Harz oder Polystyrol-Harz und ein Vinyl-Monomer
wie beispielsweise ein (Meth-) Acryl-Ester oder Styrol und einem
Photopolymerisationsinitiator wie beispielsweise einem Benzoin-Derivat,
einem Benzophenon-Derivat oder einem Thioxanthon-Derivat und dergleichen.
-
Ein
Beispiel der Lösung
in der Lösung
des photoempfindlichen Harzes ist eine Lösung, die das photoempfindliche
Harz löst
und die bei Raumtemperatur in einem gewissen Umfang flüchtig ist.
Spezielle Beispiele schließen
Alkohol-Lösungsmittel,
Keton-Lösungsmittel,
Ester-Lösungsmittel,
Ether-Lösungsmittel,
Glycolether-Lösungsmittel,
Amid-Lösungsmittel
und Carbonat-Lösungsmittel
ein.
-
Beispiele
des Alkohol-Lösungsmittels
sind Ethanol, Propanol, Butanol und dergleichen. Beispiele des Keton-Lösungsmittels
sind Aceton, Methylethylketon, Methylpropylketon, Methylisopropylketon,
Diethylketon und dergleichen. Beispiele des Ester-Lösungsmittels schließen Ethylacetat,
Propylacetat, Methylformiat, Ethylformiat und dergleichen ein. Beispiele
des Ether-Lösungsmittels
schließen
Tetrahydrofuran, Dioxan und dergleichen ein. Beispiele des Glycolether-Lösungsmittels
schließen
Ethylcellosolve, Methylcellosolve, Butylcellosolve und dergleichen
ein. Beispiele des Amid-Lösungsmittels
schließen
Dimethylformamid, Dimethylacetamid und dergleichen ein. Beispiele
des Carbonat-Lösungsmittels
schließen
Ethylencarbonat, Propylencarbonat, Diethylcarbonat, Dibutylcarbonat
und dergleichen ein.
-
Irgendeines
von verschiedenen Färbemitteln
kann in die Lösung
des photoempfindlichen Harzes einkompoundiert werden. Anders als übliche Farbstoffe
kann ein bei Belichtung Farbe bildender Farbstoff, der Farbe bei
Belichtung bildet, und ein bei Belichtung entfärbender Farbstoff, der bei
Belichtung nahezu achromatisch oder vollständig achromatisch (farblos)
wird, als Färbemittel
verwendet werden. Beispiele der bei Belichtung Farbe bildenden Farbstoffe
schließen
Leuko-Farbstoffe und dergleichen ein. Beispiele der sich bei Belichtung
entfärbenden
Farbstoffe schließen
Triphenylmethan-Farbstoffe,
Diphenylmethan-Farbstoffe, Oxazin-Farbstoffe, Xanthen-Farbstoffe,
Iminonaphthochinon-Farbstoffe, Azomethin-Farbstoffe, Anthrachinon-Farbstoffe
und dergleichen ein.
-
Die
PS-Platte der vorliegenden Erfindung wird in Übereinstimmung mit den folgenden
Prozessen hergestellt:
-
Als
erstes wird – sofern
dies nötig
ist – der
Lithographie-Druckplattenträger
in eine wässrige
Lösung eines
Alkalimetallsilicats wie beispielsweise von Natriumsilicat oder
Kaliumsilicat oder dergleichen eingetaucht, um dessen Oberfläche einer
Hydrophilisierungs-Behandlung zu unterziehen, wie dies in den US-Patenten
Nrn. 2,714,066 und 3,181,461 offenbart ist. Alternativ dazu wird – sofern
dies erforderlich ist – eine
hydrophile Unter-Beschichtungsschicht auf dem Lithographie-Druckplattenträger gebildet,
indem man darauf eine hydrophile Verbindung aufbringt, die eine
NH2-Gruppe, eine COOH-Gruppe und eine Sulfon-Gruppe
aufweist, oder indem man darauf ein Copolymer eines Vinyl-Monomers
aufbringt, das eine Sulfonsäure-Gruppe wie
beispielsweise eine p-Styrol-Sulfonsäure-Gruppe aufweist, die eine
Sulfonsäure-Gruppe
aufweist, und ein übliches
Vinyl-Monomer wie beispielsweise Acrylester (Meth-) Acrylat oder
dergleichen, wie dies in den Druckschriften JP-A Nr. 59-101,651
und 60-149,491 offenbart ist.
-
Als
nächstes
wird – wie
oben beschrieben – eine
Lösung
eines photoempfindlichen Harzes auf die Oberfläche des Lithographie-Druckplattenträgers aufgebracht,
die einer Oberflächen-Aufrauh-Behandlung
unterzogen worden war und auf der ein anodisierter Film gebildet
worden war, und die aufgebrachte Lösung wird an einem dunklen
Platz getrocknet, so dass eine photoempfindliche Schicht gebildet
wird.
-
Beispiele
des Verfahrens zur Aufbringung der Lösung eines photoempfindlichen
Harzes schließen
herkömmlicherweise
bekannte Verfahrensweisen wie beispielsweise ein Walzen-Beschichtungsverfahren,
ein Drahtbarren-Beschichtungsverfahren, ein Eintauch-Beschichtungsverfahren,
ein Luftmesser-Beschichtungsverfahren, ein Walzen-Beschichtungsverfahren,
ein Platten-Beschichtungsverfahren und dergleichen ein.
-
Nachdem
die PS-Platte in eine passende Größe geschnitten wurde, wie sie
benötigt
wird, werden eine Belichtung und eine Entwicklung durchgeführt, um
eine Druckplatte zu bilden. Die Belichtung und Entwicklung können in Übereinstimmung
mit denselben Verfahren durchgeführt
werden, wie sie bei herkömmlicherweise bekannten
PS-Platten angewendet werden.
-
Beispiele
-
Nachfolgend
wird die vorliegende Erfindung speziell unter Verwendung der Beispiele
beschrieben.
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1. Herstellung eines Lithographie-Druckplattenträgers
-
Beispiele 1 bis 6, Vergleichbeispiele
1 bis 8
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1-1 Oberflächen-Aufrauh-Behandlung
-
A. Mechanische Oberflächen-Aufrauh-Behandlung
-
Eine
Oberfläche
eines Aluminium-Substrats (eine Aluminium-Platte einer Dicke von
0,3 mm) wurde einer mechanischen Oberflächen-Aufrauh-Behandlung unter
Verwendung der abtragenden Vorrichtung unterzogen, wie sie in 1 gezeigt
ist. Eine Nylonbürste
Nr. 8 wurde als Walzen-artige Bürste
verwendet. Die Nylonbürste
Nr. 8 hatte einen Außendurchmesser
von 600 mm, einen Bürsten-Borsten-Durchmesser
von 0,5 nun, eine Bürsten-Borsten-Länge von
50 mm und eine Borsten-Einbettungsdichte von 400 Borsten/cm2. Der abtragende Druck betrug 0,5 A/100
mm, und die Umfangsgeschwindigkeit der Walzen-artigen Bürste betrug
470 m/min.
-
Zum
Zeitpunkt der mechanischen Oberflächen-Aufrauh-Behandlung wurden
in den Beispielen 1 bis 3 und den Vergleichsbeispielen 1 bis 5 Teilchen
als abtragende Teilchen verwendet, deren Haupt-Komponente SiO2 war, die einen mittleren Teilchen-Durchmesser von 20 μm hatten,
worin der Anteil von Teilchen mit einem Teilchen-Durchmesser von 100 μm oder mehr 2 Gew.-% betrug
und worin der Anteil an Teilchen mit einem Teilchen-Durchmesser
von 500 μm
oder mehr 0 Gew.-% betrug.
-
In
den Beispielen 4 bis 6 wurden abtragende Teilchen verwendet, deren
Hauptkomponente SiO2 war und deren mittlerer
Teilchen-Durchmesser und Anteil der Teilchen mit einem Teilchen-Durchmesser
von 100 μm
oder mehr und von Teilchen mit einem Teilchen-Durchmesser von 500 μm oder mehr
so war, wie dies in Tabelle 1 angegeben ist. In den Vergleichsbeispielen
6 bis 8 wurden abtragende Teilchen verwendet, deren Haupt-Komponente
SiO2 war und deren mittlerer Teilchen-Durchmesser
und Anteil der Teilchen mit einem Teilchen-Durchmesser von 100 μm oder mehr
und von Teilchen mit einem Teilchen-Durchmesser von 500 μm oder mehr
so war, wie das in Tabelle 2 angegeben ist.
-
Eine
abtragende Aufschlämmung,
in der die abtragenden Teilchen in Wasser in einer Menge von 400 g/l
suspendiert waren, wurde auf die abzutragende Oberfläche der
Aluminium-Platte von Sprühdüsen für das abtragende
Mittel in einer Menge von 200 l/min für jede Sprühdüse aufgebracht. Die Transport-Geschwindigkeit
des Aluminium-Substrats
betrug 30 m/min.
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B. Ätz-Behandlung
-
Das
Aluminium-Substrat, das der mechanischen Oberflächen-Aufrauh-Behandlung unterworfen
worden war, wurde dazu gebracht, mit der vorgenannten Zufuhr-Geschwindigkeit durch
einen Ätz-Tank
des kontinuierlichen Typs hindurchzulaufen, in dem eine Natriumhydroxid-Lösung in
einer Konzentration von 10 Gew.-% und bei einer Flüssigkeits-Temperatur
von 60°C
gespeichert wurde, und die Ätz-Behandlung
wurde so durchgeführt,
dass die Ätz-Menge
10 g/m2 betrug.
-
Das
Aluminium-Substrat wurde nach der Ätz-Behandlung gespült, indem
man es dazu brachte, durch einen Wassertank hindurchzulaufen, und
wurde dann dazu gebracht, durch einen Glatt-Mattierungs-Prozeß-Tank des
kontinuierlichen Typs zu laufen, in dem eine wässrige Schwefelsäure-Lösung in
einer Konzentration von 30 Gew.-% und einer Flüssigkeits-Temperatur von 60°C gespeichert
wurde, so dass die erste Glatt-Mattierungs-Behandlung
durchgeführt
wurde.
-
C. Elektrolytische Oberflächen-Aufrauh-Behandlung
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Eine
verdünnte
Salpetersäure
einer Konzentration von 2 Gew.-% und einer Flüssigkeits-Temperatur von 40°C wurde als saure Elektrolyt-Lösung verwendet.
Eine elektrolytische Oberflächen-Aufrauh-Behandlung wurde
durchgeführt,
während
man das Aluminium-Substrat nach der Glatt-Mattierungs-Behandlung
dazu brachte, kontinuierlich durch die saure Elektrolyt-Lösung zu
laufen, indem das Aluminium-Substrat einer Wechselstrom-Elektrolyse
durch Anlegen eines Wechselstroms einer Frequenz von 60 Hz, einer
Strom-Dichte von 20 A/dm2, einer Anoden
Elektrizitätsmenge
von 200 C/cm2 und einer Spannung von 20
V unterworfen wurde.
-
Das
Aluminium-Substrat, das der elektrolytischen Oberflächen-Aufrauh-Behandlung
unterzogen worden war, ließ man
dann kontinuierlich durch eine Natriumhydroxid-Lösung
einer Konzentration von 10 Gew.-% und einer Flüssigkeits-Temperatur von 35°C hindurchlaufen,
so dass die Menge des Ätzens
1,5 g/m2 betrug, und dadurch wurde die zweite Ätz-Behandlung
durchgeführt.
Das Aluminium-Substrat, das der zweiten Ätz-Behandlung unterzogen worden
war, wurde gespült
und wurde dann kontinuierlich durch eine verdünnte Schwefelsäure einer
Konzentration von 30 Gew.-% und einer Flüssigkeits-Temperatur von 60°C hindurchgeführt, so
dass die zweite Glatt-Mattierungs-Behandlung
durchgeführt
wurde.
-
1-2 Anodisierungs-Behandlung
-
Das
Aluminium-Substrat wurde nach den Oberflächen-Aufrauh-Behandlungsschritten
kontinuierlich in eine verdünnte
Schwefelsäure-Lösung einer
Konzentration von 10 Gew.-% und einer Flüssigkeits-Temperatur von 30°C eingetaucht.
Ein Gleichstrom (DC) von 40 Volt wurde derart angelegt, dass die
Stromdichte 10 A/dm2 betrug. Eine Anodisierungs-Behandlung
wurde so durchgeführt,
dass die Menge des anodisierten Films 2 g/m2 betrug,
und es wurde so ein Lithographie-Druckplattenträger hergestellt.
-
Für die Beispiele
1 bis 3 und die Vergleichsbeispiele 1 bis 5 wurde die Oberflächen-Rauheit der Oberfläche des
Lithographie-Druckplattenträgers,
der in Übereinstimmung
mit den oben beschriebenen Verfahrensschritten hergestellt worden
war und dessen Oberfläche
eine Oberflächen-Aufrauh-Behandlung
und Anodisierungs-Behandlung unterworfen worden war, unter Verwendung
eines Oberflächen-Rauheits-Meßgeräts messen
(hergestellt von der Firma Tokyo Seimitsu Co., Ltd.; Handelsname:
SURFCOM 47057A®;
Stift: 2 μmR).
Aus diesen Ergebnissen wurden bestimmt: Die Oberflächen-Rauheit Ra, die maximale
Rauheit Rmax, die Zahl Pc der Rauheits-Vorsprünge von Vorsprüngen mit
einer Vorsprungs-Höhe,
die größer war
als der gesetzte Wert von 0,3 μm
und einer Vertiefungs-Tiefe, die tiefer war als der gesetzte Wert
von –0,3 μm; die Zahl
Pc der Rauheits-Vorsprünge
von Vorsprüngen
mit einer Vorsprungs-Höhe,
die größer war
als der gesetzte Wert +0,6 μm und
eine Vertiefungs-Tiefe, die tiefer war als der gesetzte Wert von –0,6 μm; und die
Zahl Pc von Rauheits-Vorsprüngen
von Vorsprüngen
mit einer Vorsprungs-Höhe,
die größer war
als der gesetzte Wert +1,0 μm und
einer Vertiefungs-Tiefe, die tiefer war als der gesetzte Wert von –1,0 μm. Die Ergebnisse
sind in Tabelle 1 gezeigt.
-
2. Herstellung einer PS-Platte
-
Der
wie oben beschrieben hergestellte Lithographie-Druckplattenträger wurde
für 30
s in eine Natriumsilicat-Lösung
einer Konzentration von 3 Gew.-% und einer Flüssigkeits-Temperatur von 70°C eingetaucht, so
dass die Oberfläche
hydrophil gemacht wurde.
-
Als
nächstes
wurde eine Lösung
eines photoempfindlichen Harzes, das die folgende Zusammensetzung
aufwies, in einer Beschichtungsmenge von 1,5 g/m2 so
aufgebracht, dass eine photoempfindliche Schicht gebildet wurde.
- (a) Eine Ester-Verbindung aus 1,2-Diazonaphthochinon-5-sulfonylchlorid
und Pyrogallol-Aceton-Harz (angegeben in Beispiel 1 des US-Patents
Nr. 3,635,709): 0,8 g;
- (b) ein Novolack-Harz I, das durch die folgende Struktur-Formel
I wiedergegeben wird: 1,5 g;
- (c) ein Novolack-Harz II, das durch die folgende Struktur-Formel
II wiedergegeben wird: 0,2 g;
- (d) ein Novolack-Harz III, das durch die folgende Struktur-Formel
III wiedergegeben wird: 0,4 g;
- (e) 2-n-Octylphenol-Formaldehyd-Harz (Bezug genommen im US-Patent
Nr. 4,123,279): 0,02 g;
- (f) Naphthochinon-1,2-diazid-4-sulfonylchlorid: 0,01 g;
- (g) Tetrahydrophthalsäureanhydrid:
0,02 g;
- (h) Benzoesäure:
0,02 g;
- (i) Pyrogallol: 0,05 g;
- (j) 4-[p-N,N-Bis(Ethoxycarbonylmethyl-)aminophenyl-]2,6-bis(trichlormethyl-)
S-triazin: 0,07 g;
- (k) ein Farbstoff, in dem das Gegen-Anion von Victoria Pure
Blue (hergestellt von der Firma Hodogaya Chemical Co., Ltd.) ersetzt
wurde durch 1-Naphthalinsulfonsäure: 0,045
g;
- (l) Tensid auf Fluor-Basis (Handelsname: F176PF®, hergestellt
von der Firma Dainippon Ink & Chemicals, Inc.):
0,01 g;
- (m) Methylethylketon: 15 g
- (n) 1-Methoxy-2-propanol: 10 g.
-
-
-
-
3. Bewertung der Druckeigenschaften
-
Die
oben beschriebene PS-Platte wurde 1 min lang durch eine Metallhalogenid-Lampe
von 3 kW aus einer Entfernung von 1 m belichtet.
-
Die
belichtete PS-Platte wurde bei 30°C
für 12
s durch einen PS-Prozessor (Handelsname: 900 VR®, hergestellt
von der Firma Fuji Photo Film Co., Ltd., unter Verwendung einer
Entwicklungs-Lösung
A und einer Entwicklungs-Lösung
B entwickelt, die die folgenden Zusammensetzungen hatten:
-
Zusammensetzung der Entwicklungs-Lösung A
-
- (a) Sorbitol: 5,1 Gewichts-Teile;
- (b) Natriumhydroxid: 1,1 Gewichts-Teile;
- (c) Triethanolamin-Ethylenoxid-Additionsverbindung (30 Mol):
0,03 Gewichts-Teile;
- (d) Wasser: 93,8 Gewichts-Teile.
-
Zusammensetzung der Entwicklungs-Lösung B
-
- (a) wässrige
Natriumsilicat-Lösung,
deren Mol-Verhältnis
[SiO2/Na2O] 1,2
war und die SiO2 in einer Menge von 1,4
Gew.-% enthielt;
- (b) Ethylendiamin-Ethylenoxid-Additionsverbindung (30 Mol):
0,03 Gewichts-Teile.
-
Das
Vermögen,
wiederholtem Drucken standzuhalten, und die Leichtigkeit des Verschmutzens
der PS-Platte, die wie oben beschrieben bearbeitet worden war, wurden
bewertet in Übereinstimmung
mit den folgenden Verfahrensschritten. Die Ergebnisse sind in den
Tabellen 1 und 2 gezeigt.
-
Vermögen, wiederholtem
Drucken standzuhalten:
-
Ein
Druckvorgang wurde durchgeführt
unter Verwendung eines Druckers (Handelsname: LITHRONE26®;
hergestellt von der Firma Komori Insasuki KK), und das Vermögen, wiederholtem
Drucken standzuhalten, wurde bewertet durch die Zahl von Blättern, bis
ein normales Drucken nicht mehr länger ausgeführt werden konnte. Je höher die
Zahl der Blätter,
desto besser ist das Vermögen,
einem wiederholtem Drucken standzuhalten.
-
Leichtigkeit des Verschmutzens
-
Nachdem
1.000 Blatt unter Verwendung eines Druckers (Handelsname: Daiya
1F-2®;
hergestellt von der Firma Mitsubishi Heary Industries, Ltd.) gedruckt
worden waren, wurde das Drucken angehalten, und die PS-Platte wurde
entfernt. Man ließ die
PS-Platte, die von
dem Drucker entfernt worden war, 30 min lang stehen. Danach wurde
die PS-Platte wieder in den Drucker eingesetzt, und 100 Blatt wurden
gedruckt. Das Verschmutzen der Druckwalzen-Trommel in dem Drucker
zu diesem Zeitpunkt (Druckwalzen-Verschmutzung) und das Verschmutzen
der Oberfläche
des gedruckten Blatts (Punkt-Verschmutzung) wurden beobachtet. Die Ergebnisse
sind in Tabelle 1 gezeigt. In Tabelle 1 bedeuten die Ausdrücke „0,3-0,3", „0,6-0,6" und „1,0-1,0" jeweils die Vorsprünge, die
eine Vorsprungs-Höhe
aufweisen, die größer ist
als der festgesetzte Wert von 0,3 μm und eine Vertiefungs-Tiefe,
die tiefer ist als der festgesetzte Wert von –0,3 μm, die Vorsprünge, die
eine Vorsprungs-Höhe
aufweisen, die größer ist
als der festgesetzte Wert von 0,6 μm und eine Vertiefungs-Tiefe, die
tiefer ist als der festgesetzte Wert von –0,6 μm, die Vorsprünge, die
eine Vorsprungs-Höhe
aufweisen, die größer ist
als der festgesetzte Wert von 1,0 μm und eine Vertiefungs-Tiefe,
die tiefer ist als der festgesetzte Wert von –1,0 μm
-
-
-
Beispiele 7 und 8 und
Vergleichsbeispiele 9 und 10
-
Ein
mechanisches Abtragen wurde durchgeführt unter Verwendung der Herstellungs-Vorrichtung wie sie
in 2 gezeigt ist, unter denselben Bedingungen wie
in Beispiel 1. MD-II-Zyklone® (Handelsname; Hersteller:
Firma Daiki Engineering Co., Ltd.) wurden als Zyklone 54A, 54B verwendet.
Danach wurden eine Ätz-Behandlung,
eine elektrolytische Oberflächen-Aufrauh-Behandlung
und eine Anodisierungs-Behandlung unter denselben Bedingungen durchgeführt wie
in Beispiel 1, so dass Lithographie-Druckplattenträger der Beispiele 7 und 8 und
der Vergleichsbeispiele 9 und 10 hergestellt wurden.
-
Die
Lithographie-Druckplattenträger
wurden 14 s in eine Natriumsilicat-Lösung eingetaucht, deren Konzentration
2,5 Gew.-% betrug und deren Flüssigkeits-Temperatur
70°C betrug,
so dass die Oberfläche
hydrophilisiert wurde. Danach wurde eine Lösung eines photoempfindlichen
Harzes, das die folgende Zusammensetzung hatte, auf den Lithographie-Druckplattenträger mittels
des Drahtbarren-Beschichtungsverfahrens in einer Dicke bis zu 2,0
g/m2 aufgebracht, und ein Trocknungsvorgang
wurde für
die Zeit von 1 min bei 100°C durchgeführt, so
dass eine PS-Platte hergestellt wurde.
-
Copolymer
aus N-(4-Hydroxyphenyl-)methacrylamid/2-Hydroxyethylmethacrylat/Acrylnitril/Methylmethacrylat/Methacrylsäure (Monomereinheiten-Molverhältnis =
15 : 10 : 30 : 38 : 7)(mittleres Molekulargewicht: 60.000) 5,0 g;
Hexafluorphosphat
eines Kondensationsprodukts von 4-Diazodiphenylamid und Formaldehyd
0,5 g;
Phosphorsäure
0,05 g;
Victoria Pure Blue – BOH (Hersteller: Firma Hodogaya
Chemical Co., Ltd.) 0,1 g;
2-Methoxyethanol 100,0 g.
-
Ein
Film, auf dem ein Test-Muster gedruckt worden war, wurde auf die
PS-Platte aufgelegt, und eine Belichtung wurde durchgeführt durch
Belichten mit einer 3 kW-Metallhalogenid-Lampe
für 50
s aus einer Entfernung von 1 mm.
-
Die
belichtete PS-Platte wurde mit einer Entwicklungs-Lösung entwickelt,
die folgende Zusammensetzung hatte, so dass eine Druckplatte für das Offset-Drucken
hergestellt wurde:
Natriumsulfit 5,0 g;
Benzylalkohol
30,0 g;
Natriumcarbonat 5,0 g;
Natriumisopropylnaphthalinsulfonat
12,0 g;
Reines Wasser 1.000,0 g.
-
In
dem oben beschriebenen mechanischen Abtrage-Schritt wurde eine abtragende
Aufschlämmung, in
der die abtragenden Teilchen in Wasser in einer Menge von 400 g/l
suspendiert waren, auf die abrasiv zu behandelnde Oberfläche des
Aluminium-Gewebes W von einer ersten Sprüheinrichtung 18 für ein Abrasiv-Mittel
und einer zweiten Sprüheinrichtung 20 für ein Abrasiv-Mittel
in einer Menge von 200 l/min für
jede Sprüheinrichtung
aufgebracht. Die Transportgeschwindigkeit des Aluminium-Gewebes
W betrug 50 m/min. Der mittlere Teilchen-Durchmesser der Abrasiv-Teilchen,
die in der abtragenden Aufschlämmung
enthalten waren, in dem Aufschlämmungs-Zirkulationstank 50 wurde
gemessen unter Verwendung einer Teilchengröße-Verteilungs-Meßvorrichtung des Laserbeugungs/-Streuungs-Typs
(Handelsname: LA-910®;
Hersteller: Firma Horiba Ltd.).
-
Für den mittleren
Teilchen-Durchmesser der Teilchen mit kleinem Teilchen-Durchmesser wurde
der mittlere Teilchen-Durchmesser der Teilchen, die in die Aufschlämmung mit
kleinem Durchmesser eingeschlossen waren, die an die Außenumgebung
des Systems über
die Abfallwasser-Leitung 60 abgegeben wurde, die in der
Herstellungs-Vorrichtung vorgesehen ist, in derselben Weise gemessen
wie der mittlere Teilchen-Durchmesser der Abrasiv-Teilchen, die
in der abtragenden Aufschlämmung
enthalten waren.
-
Die
Abrasiv-Aufschlämmung
wurde dem Aufschlämmungs-Zirkulationstank
50 so
nachgefüllt,
dass die Konzentration und der mittlere Teilchen-Durchmesser der
Abrasiv-Teilchen
in dem Aufschlämmungs-Zirkulationstank
50 konstant
waren. Auf der Basis der nachgefüllten
Menge der abtragenden Aufschlämmung
wurde eine Bewertung vorgenommen, und vier Stufen sind angegeben
,
O, Δ und
X.
-
Die
Druckplatte zum Offset-Drucken wurde auf eine Offset-Druckvorrichtung
montiert, und ein Testmuster wurde unter Verwendung einer schwarzen
Druckfarbe gedruckt. Die Oberflächen
der gedruckten Blätter
wurden visuell angeschaut, und das Vermögen der Lithographie-Druckplatte,
wiederholtem Drucken standzuhalten, wurde bewertet durch die Zahl
von gedruckten Blättern,
bis Defekte im Erscheinungsbild der gedruckten Oberfläche auftraten.
Weiter wurde die Gummi-Druckwalze in dem Offset-Drucker visuell
beobachtet, und die Größe der Verschmutzungen
der Druckwalze wurde bewertet. Das Vermögen, wiederholtem Drucken standzuhalten,
wurde als Prozentwert der vorgenannten Zahl von gedruckten Blättern bewertet,
wobei 70.000 gedruckte Blätter
100% entsprachen. Die Verschmutzung der Druckwalze wurde visuell
untersucht und eine Bewertung wurde nach vier Stufen vorgenommen,
nämlich
,
O, Δ und
X. Die Ergebnisse sind in Tabelle 3 gezeigt.
-
-
Wie
von den obigen Ausführungen
klar ist, werden ein Lithographie-Druckplattenträger, der der Träger für eine PS-Platte
wird, die ausgezeichnete Druckeigenschaften aufweist und das Vermögen aufweist,
wiederholtem Drucken standzuhalten, und ein Verfahren zur Herstellung,
das die Herstellung des Lithographie-Druckplattenträgers mit hoher Produktionsstabilität ermöglicht,
sowie eine PS-Platte, die die oben angegebenen vorteilhaften Eigenschaften
aufweist, in Übereinstimmung
mit der vorliegenden Erfindung erhalten.