DE60110152T2

DE60110152T2 - Flachdruckplattenträger und Verfahren zur Herstellung

Info

Publication number: DE60110152T2
Application number: DE60110152T
Authority: DE
Inventors: Hideki Yoshida-cho Miwa; Teruyoshi Yoshida-cho Yasutake; Atsushi Yoshida-cho Matsuura; Akio Yoshida-cho Uesugi
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2000-06-09
Filing date: 2001-06-11
Publication date: 2005-09-29
Anticipated expiration: 2021-06-12
Also published as: EP1162081A3; US6575094B2; CN1328921A; CN1192906C; US20020011168A1; US6805051B2; EP1162081A2; US20040045466A1; ATE293540T1; DE60110152D1; EP1162081B1

Description

Hintergrund der Erfindung
Bereich der Erfindung
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Lithographie-Druckplattenträgers, einen Lithographie-Druckplattenträger und eine PS-Platte. Insbesondere betrifft die vorliegende Erfindung einen Lithographie-Druckplattenträger, der der Träger einer PS-Platte wird, die ausgezeichnete Druck-Eigenschaften und ein Vermögen aufweist, wiederholtem Drucken standzuhalten, und betrifft ein Herstellungsverfahren, das es ermöglicht, dass der Lithographie-Druckplattenträger mit hoher Produktions-Stabilität hergestellt werden kann, und betrifft eine PS-Platte, die die oben angegebenen vorteilhaften Eigenschaften aufweist.
Beschreibung des verwandten Standes der Technik
Allgemein wird ein Lithographie-Druckplattenträger durch die folgenden Verfahrensschritte hergestellt, die aufeinanderfolgend durchgeführt werden. Während eine Abrasivstoff-Aufschlämmung, in der ein Abrasiv-Stoff in Wasser suspendiert ist, der Oberfläche einer Platte aus Aluminium oder aus einer Aluminium-Legierung (nachfolgend bezeichnet als „Aluminium-Platte") oder einem Gewebe oder dergleichen zugeführt wird, wird die Oberfläche einer mechanischen Oberflächen-Aufrauh-Behandlung unterzogen, bei der ein mechanisches Anrauhen mittels einer Walzenbürste oder dergleichen durchgeführt wird. Als nächstes wird der Lithographie-Druckplattenträger einer Ätz-Behandlung mit einem alkalischen Mittel, einer elektrolytischen Oberflächen-Aufrauh-Behandlung, einer Anodisierungs-Behandlung und dergleichen unterworfen.
Bei der mechanischen Oberflächen-Aufrauh-Behandlung wird allgemein ein Anrauhen mittels einer walzenähnlichen Bürste oder dergleichen durchgeführt, wobei eine Abra siv-Aufschlämmung zugeführt wird, in der ein Schleifmittel in Form von Teilchen in Wasser oder dergleichen suspendiert wird.
Jedoch wird herkömmlicherweise zum Zeitpunkt der mechanischen Oberflächen-Aufrauhung die Oberfläche der Aluminium-Platte oder dergleichen mittels der Borsten der Walzen-ähnlichen Bürste abgerieben, und Kratzer einer Länge von 1 mm werden gebildet, oder das Abrasiv-Material perforiert die Oberfläche, so dass eine große Zahl von Vertiefungen gebildet werden.
Weiter werden diese Kratzer und Vertiefungen selbst durch die Ätz-Behandlung und die elektrolytische Oberflächen-Aufrauhungs-Behandlung und dergleichen, die danach durchgeführt werden, nicht entfernt und bleiben auf der Oberfläche.
Bei dem vorgenannten mechanischen Aufrauhen werden in weitem Umfang eine Rückgewinnung und Wiederverwendung der Abrasiv-Aufschlämmung mit der Absicht durchgeführt, die Abrasiv-Aufschlämmung zu erhalten und die Menge an gebildetem Abwasser niedrig zu halten. Jedoch wird zum Zeitpunkt des mechanischen Aufrauhens wenigstens eine Teilmenge der Abrasiv-Teilchen in der Abrasiv-Aufschlämmung zermahlen und werden feinere Teilchen. Dementsprechend sammeln sich dann, wenn die Abrasiv-Aufschlämmung nur zurückgewonnen und wiederverwendet wird, die fein gemahlenen Abrasiv-Teilchen in der Abrasiv-Aufschlämmung an, und der mittlere Teilchen-Durchmesser des Abrasiv-Materials in der Abrasiv-Aufschlämmung sinkt schrittweise. Als Ergebnis wird der mittlere Teilchen-Durchmesser der abtragenden Teilchen übermäßig klein, und die Qualität des Lithographie-Druckplattenträgers ist nicht stabil.
Ein Verfahren gemäß dem Oberbegriff von Patentanspruch 1 ist aus der Druckschrift EP-A 0 979 738 bekannt. Um das aus diesem Stand der Technik bekannte Verfahren wirksam durchzuführen, ist es wichtig, die Geschwindigkeit der Körnungsbürste zu steuern und diese ohne Rücksicht auf eine Änderung der Höhe des Drucks konstant zu halten. Weiter können wichtige Parameter die Art der Körnung und die Körnungsgröße sowie die Korngrößen-Verteilung des verwendeten abtragenden Materials sein.
In dem aus der Druckschrift JP-A 62-001,586 bekannten Verfahren sind die verwendeten Abrasiv-Materialien sehr fein, und der Ra-Wert beträgt bis zu 20 μm.
Die Druckschrift JP-A 10-315,651 des Standes der Technik offenbart ein Verfahren, in dem das Abrasiv-Material, das Teilchengrößen von 20 bis 80 μm aufweist, zum mechanischen Aufrauhen verwendet wird. Dieser Stand der Technik enthält jedoch keine Information über die Rauheit des durch das Verfahren erhaltenen Produkts.
Eine Lithographie-Druckplatte und ein Verfahren zu deren Herstellung sind aus der Druckschrift EP-A 0 841 190 bekannt, in dem aus diesem Dokument des Standes der Technik bekannten Verfahren werden Abrasiv-Materialien mit einer Teilchengröße von 30 bis 60 μm verwendet. Weiter lehrt das Verfahren dieses Standes der Technik, das im Fall der Verwendung einer Bürste zum Aufbringen eines mechanischen Körnens die Bürsten-Borsten vorzugsweise einen Biegeelastizitäts-Modul von 15.000 bis 35.000 kg/cm² haben sollten.
Eine Druckplatte, die aus einer PS-Platte hergestellt wird, bei der eine photoempfindliche Schicht auf einem derartigen Lithographie-Druckplattenträger gebildet wird, weist ein schlechtes Vermögen auf, wiederholtem Drucken standzuhalten. Wenn weiter ein Drucken unter Verwendung dieser Druckplatte durchgeführt wird, haftet Druckfarbe auf der Trommel der Kautschuk-Walze des Druckers, und Druckfarbe tritt in die durch das Perforieren der Druckplatte durch das abtragende Material hervorgerufenen Kratzer ein, so dass es ein Verschmutzen der Nicht-Bild-Abschnitte der Oberfläche des gedruckten Blatts gibt.
Zusammenfassung der Erfindung
Im Hinblick auf die vorstehend genannten Probleme ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, einen Lithographie-Druckplattenträger bereitzustellen, der der Träger einer PS-Platte wird, die ein ausgezeichnetes Vermögen aufweist, wiederholtem Drucken standzuhalten, und bei dem Defekte im Aussehen wie beispielsweise ein Verschmutzen der Gummi-Walze, bei dem die Kautschuk-Walze einer Offset-Druckeinrichtung verschmutzt wird, und ein Punkt-Verschmutzen der Oberfläche des gedruckten Blatts und dergleichen nicht auftreten, und ein Verfahren zur Herstellung des Lithographie-Druckplattenträgers und einer PS-Platte, die die oben angegebenen vorteilhaften Eigenschaften aufweist, bereitzustellen.
Ein Aspekt der vorliegenden Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung eines Lithographie-Druckplattenträgers, wie es in Patentanspruch 1 definiert ist.
Eine PS-Platte, deren Träger der Lithographie-Druckplattenträger ist, der durch das oben beschriebene Herstellungsverfahren erhalten wird, weist die vorteilhaften Eigenschaften auf, ein besonders gutes Vermögen aufzuweisen, wiederholtem Drucken standzuhalten, und geringes Verschmutzen der Oberflächen gedruckter Blätter hervorzurufen.
Die vorliegende Erfindung betrifft auch eine PS-Platte, wie sie in Anspruch 6 definiert ist, bei der die Oberfläche des Lithographie-Druckplattenträgers, die einer Oberflächen-Aufrauhungs-Behandlung unterzogen wurde, einer Anodisierungs-Behandlung unterzogen wird und eine photoempfindliche Schicht auf der Oberfläche gebildet wird.
Diese PS-Platte weist ein ausgezeichnetes Vermögen auf, wiederholtem Drucken standzuhalten, und Defekte im Aussehen auf Oberflächen gedruckter Blätter treten nicht auf, selbst wenn eine große Anzahl von Blättern gedruckt wird. So ist die PS-Platte besonders geeignet zum Offset-Drucken von Zeitungen und Magazinen, bei dem ein Vermögen, wiederholtem Drucken standzuhalten, und Bildqualität der Oberflächen gedruckter Blätter in starkem Maße erforderlich sind.
Ein weiterer Aspekt der vorliegenden Erfindung betrifft einen Lithographie-Druckplattenträger, wie er in Anspruch 5 definiert ist.
Die Oberfläche des Lithographie-Druckplattenträgers wird so ausgebildet, dass sie einheitlich rauh ist. Dementsprechend weist eine PS-Platte, die diesen Lithographie-Druckplattenträger als ihren Träger aufweist, die Vorteile auf, dass sie aufweist: ein exzellentes Vermögen, wiederholtem Drucken standzuhalten; ein exzellentes Wasser-Halte-Vermögen, eine exzellente Farbton-Reproduzierbarkeit, die Schwierigkeit, die Nicht-Bild-Abschnitte zu verschmutzen sowie Wasser-Druckfarben-Ausgewogenheit sowie einen geringen Punkt-Zuwachs.
Da die PS-Platte gemäß der Erfindung eine ausgezeichnete Haftung zwischen dem Lithographie-Druckplattenträger und der photoempfindlichen Schicht aufweist, ist das Vermögen, wiederholtem Drucken standzuhalten, hoch. Weiter sind das Wasser-Halte-Vermögen, die Farbton-Reproduzierbarkeit, die Schwierigkeit des Verschmutzens der Nicht-Bild-Bereiche und die Wasser-Druckfarben-Ausgewogenheit ausgezeichnet, und der Punkt-Zuwachs ist gering. Darüber hinaus treten Defekte im Aussehen wie beispielsweise ein Verschmutzen der Gummi-Walze und ein Punkt-Verschmutzen und dergleichen nicht auf.
Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform umfaßt das erfindungsgemäße Verfahren einen Schritt des Zuführens einer abtragenden oder Abrasiv-Aufschlämmung, in dem eine abtragende Aufschlämmung wenigstens einer Oberfläche des Lithographie-Druckplattenträgers zugeführt wird; einen Schritt des mechanischen Abtragens, in dem eine Oberfläche des Lithographie-Druckplattenträgers auf einer Seite, der die abtragende Aufschlämmung zugeführt wurde, mechanisch abgetragen wird; und einen Schritt der Rückgewinnung der gebrauchten abtragenden Aufschlämmung, in dem die gebrauchte Flüssigkeit der abtragenden Aufschlämmung, die in dem mechanischen Abtrage-Schritt erzeugt wird, zurückgewonnen wird und Teilchen, deren mittlerer Teilchendurchmesser im Bereich von 1/3 bis 1/10 des mittleren Teilchen-Durchmessers der abtragenden Teilchen liegt, die in der abtragenden Aufschlämmung enthalten sind, die in dem Schritt des Zuführens der abtragenden Aufschlämmung zugeführt wird, von der gebrauchten Flüssigkeit der abtragenden Aufschlämmung entfernt werden und die ver bleibende Aufschlämmung dem Schritt des Zuführens der abtragenden Aufschlämmung wieder zugeführt wird.
Gemäß dieser bevorzugten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens werden in der Abfall-Flüssigkeit bzw. gebrauchten Flüssigkeit der abtragenden Aufschlämmung Teilchen kleinen Durchmessers, die einen mittleren Teilchen-Durchmesser in einem speziellen Bereich aufweisen, entfernt, und die verbleibende Aufschlämmung wird erneut verwendet. So kann nicht nur die Menge an abtragender Aufschlämmung, die verbraucht wird, verringert werden, sondern wird auch der mittlere Teilchen-Durchmesser der abtragenden Teilchen in der abtragenden Aufschlämmung nicht übermäßig groß oder übermäßig klein. Dementsprechend weist eine PS-Platte, deren Träger der Lithographie-Druckplattenträger ist, der durch dieses Herstellungsverfahren erhalten wird, ein exzellentes Vermögen auf, wiederholtem Drucken standzuhalten. Weiter gibt es dann, wenn die PS-Platte beim Offset-Drucken verwendet wird, nur geringe Haftung der Druckfarbe an der Gummi-Walze des Druckers, und damit ist es schwierig, dass ein sogenanntes „Verschmutzen der Gummi-Walze" auftritt.
Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens liegt der mittlere Teilchen-Durchmesser des Abrasiv-Materials in der abtragenden Aufschlämmung bei 10 bis 70 μm.
Eine PS-Platte; deren Träger der Lithographie-Druckplattenträger ist, der durch diese bevorzugte Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens erhalten wird, weist insbesondere ein ausgezeichnetes Vermögen auf, wiederholtem Drucken standzuhalten, und es ist schwierig, dass ein Verschmutzen der Gummi-Walze auftritt.
Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens werden in dem Schritt der Rückgewinnung der Abfall-Flüssigkeit bzw. verbrauchten Flüssigkeit der abtragenden Aufschlämmung die Teilchen, deren mittlerer Teilchen-Durchmesser im Bereich von 1/3 bis 1/10 des mittleren Teilchen-Durchmessers der abtragenden Teilchen liegt, die in der abtragenden Aufschlämmung enthalten sind, die in dem Schritt des Zuführens der abtragenden Aufschlämmung zugeführt wird, durch Klassierung mittels eines Zyklons entfernt.
Ein Zyklon weist keine bewegbaren Bereiche auf, und sein Druckverlust ist gering, verglichen mit demjenigen eines üblichen Filters oder dergleichen. Dementsprechend ist in dieser bevorzugten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens wenig Energie für die Entfernung der Teilchen erforderlich, die einen mittleren Teilchen-Durchmesser innerhalb des oben angegebenen Bereichs aufweisen, und die Zuverlässigkeit ist hoch.
Kurze Beschreibung der Figuren
1 ist eine schematische Ansicht, die ein Beispiel einer abtragenden Vorrichtung zeigt, wie sie beim Herstellen eines Lithographie-Druckplattenträgers gemäß der vorliegenden Erfindung verwendet wird, worin A ein Aluminium-Substrat ist und 2A, 4A und 6A Bürsten-Borsten sind.
2 ist eine schematisch Ansicht, die eine Grund-Struktur eines Beispiels einer Lithographie-Druckplattenträger-Herstellungsvorrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung veranschaulicht, worin zwei für eine Bürsten-Körnungs-Verarbeitungs-Vorrichtung steht, 6 für eine Vorrichtung zur Rückgewinnung von gebrauchter Flüssigkeit der abtragenden Aufschlämmung steht, 8 für eine Walzen-Bürste (mechanische Abtrage-Vorrichtung) steht, 10 für eine Walzen-Bürste (mechanische Abtrage-Vorrichtung) steht, 18 eine erste Sprüh-Vorrichtung für Abrasiv-Material (Vorrichtung zum Zuführen einer abtragenden Aufschlämmung) steht, 20 für eine zweite Sprühvorrichtung für Abrasiv-Material (Vorrichtung zum Zuführen von abtragender Aufschlämmung) steht, und 22 eine Leitung zum Zuführen einer abtragenden Aufschlämmung (Vorrichtung zum Zuführen einer abtragenden Aufschlämmung) steht.
3 ist eine graphische Darstellung der Teilchengröße-Verteilung, die eine Beziehung zwischen einer Teilchengröße-Verteilung von abtragenden Teilchen, die in einem Schritt des Zuführens einer abtragenden Aufschlämmung in dem Verfahren zur Herstel lung eines Lithographie-Druckplattenträgers gemäß der vorliegenden Erfindung zugeführt werden, und einer Teilchengröße-Verteilung von Teilchen zeigt, die in dem Schritt der Rückgewinnung der verbrauchten Flüssigkeit der abtragenden Aufschlämmung entfernt werden.
Detaillierte Beschreibung der bevorzugten Ausführungsformen
1. Lithographie-Druckplattenträger
Die Oberflächen-Rauheit Ra der Oberfläche, die einer Oberflächen-Aufrauhungs-Behandlung und einer Anodisierungs-Behandlung unterzogen wurde, des Lithographie-Druckplattenträgers gemäß der vorliegenden Erfindung liegt im Bereich von 0,3 bis 1,0 μm, und noch mehr bevorzugt im Bereich von 0,45 bis 0,7 μm. Die Oberflächen-Rauheit Ra ist ein Wert, der durch die folgende Formel 1 wiedergegeben wird:
worin nur eine Referenz-Länge L in Richtung einer mittleren Linie von einer Rauheits-Kurve der Oberfläche herausgezogen wird, bei der die Oberflächen-Rauheit gemessen wird, und die Richtung dieser mittleren Linie des herausgezogenen Teils erstreckt sich entlang der X-Achse, und die Richtung der vertikalen Vergrößerung erstreckt sich entlang der Y-Achse, und die Rauheits-Kurve wird ausgedrückt als y = f (x). Die Einheit der Oberflächen-Rauheit Ra ist üblicherweise μm. Die Referenz-Länge L ist üblicherweise 3 mm, ist jedoch nicht auf diese Länge beschränkt.
Die maximale Rauheit Rmax bei der vorgenannten Oberfläche des Lithographie-Druckplattenträgers gemäß der vorliegenden Erfindung beträgt 10 μm oder weniger und vorzugsweise 7 μm oder weniger und noch mehr bevorzugt von 7 bis 2 μm.
Die maximale Rauheit Rmax ist der maximale Wert der Entfernung zwischen der Peak-Linie der Vorsprünge und der Grundlinie der Vertiefungen in einem Abschnitt einer Bewertungslänge d. Die Bewertungslänge liegt üblicherweise bei 3 mm, ist jedoch in derselben Weise wie die Oberflächen-Rauheit Ra nicht auf diese Länge beschränkt.
Die Zahl Pc der Rauheits-Vorsprünge ist 15 bis 35 Vorsprünge pro mm und vorzugsweise 23 bis 30 Vorsprünge mm für Vorsprünge mit einer Vorsprungs-Höhe, die größer ist als ein festgesetzter Wert +0,3 μm und eine Vertiefungs-Tiefe, die tiefer ist als ein festgesetzter Wert –0,3 μm. Die Zahl Pc von Rauheitsvorsprüngen beträgt 7 bis 25 Vorsprünge pro mm und vorzugsweise 13 bis 20 Vorsprünge pro mm für Vorsprünge mit einer Vorsprungs-Höhe, die größer ist als der festgesetzte Wert +0,6 μm und eine Vertiefungs-Tiefe, die tiefer ist als ein festgesetzter Wert –0,6 μm. Die Zahl Pc von Rauheits-Vorsprüngen beträgt 2 bis 18 Vorsprünge pro mm und vorzugsweise 5 bis 10 Vorsprünge pro mm für Vorsprünge mit einer Vorsprungs-Höhe, die größer ist als der festgesetzte Wert +1,0 μm und eine Vertiefungs-Tiefe, die tiefer ist als der festgesetzte Wert –1,0 μm.
Der festgesetzte Wert der Zahl Pc von Rauhheits-Vorsprüngen ist eine Höhe, die ein Referenz-Wert ist. Dementsprechend ist die Zahl von Pc von Rauheits-Vorsprüngen von Vorsprüngen mit einer Vorspungs-Höhe, die größer ist als der festgesetzte Wert +0,3 μm und einer Vertiefungs-Tiefe, die tiefer ist als der festgesetzte Wert –0,3 μm, diejenige Zahl pro Einheit gemessener Länge der Vorsprünge, deren Vorsprungshöhe größer ist als der Referenz-Wert +0,3 μm und deren Vertiefungs-Tiefe tiefer ist als der Referenz-Wert –0,3 μm, und speziell die Zahl derartiger Vorsprünge pro gemessener Länge von 1 mm.
In ähnlicher Weise ist die Zahl Pc von Rauheits-Vorsprüngen von Vorsprüngen mit einer Vorspungs-Höhe, die größer ist als der festgesetzte Wert +0,6 μm, und einer Vertiefungs-Tiefe, die tiefer ist als der festgesetzte Wert –0,6 μm, diejenige Zahl pro gemessener Länge von 1 mm der Vorsprünge, deren Vorsprungshöhe größer ist als der Referenz-Wert +0,6 μm und deren Vertiefungs-Tiefe tiefer ist als der Referenz-Wert –0,6 μm.
Weiter ist die Zahl Pc von Rauheits-Vorsprüngen von Vorsprüngen mit einer Vorsprungs-Höhe, die größer ist als der festgesetzte Wert +1,0 μm, und einer Vertiefungs-Tiefe, die tiefer ist als der festgesetzte Wert –1,0 μm, diejenige Zahl pro gemessener Länge von 1 mm an Vorsprüngen, deren Vorsprungs-Höhe größer ist als der Referenz-Wert +1,0 μm und deren Vertiefungs-Tiefe tiefer ist als der Referenz-Wert –1,0 μm.
Die Werte der Oberflächen-Rauheit Ra, der maximalen Rauheit Rmax und der Zahl Pc an Rauhheits-Vorsprüngen können auf der Grundlage von Ergebnissen der Messung der Rauheit der Oberfläche der lithographischen Druckplatte mittels einer üblichen Oberflächen-Rauhheits-Meßvorrichtung ein Lithographie-Druckplattenträger, dessen Oberflächen-Rauheit Ra, maximale Rauheit Rmax und Zahl Pc von Rauheits-Vorsprüngen der Oberfläche der Lithographie-Druckplatte, deren Oberfläche einer Oberflächen-Rauhungs-Behandlung und Anodisierungs-Behandlung unterzogen wurde, in die vorgenannten Bereiche fallen, weist eine Struktur auf, bei der an der vorgenannten Oberfläche relativ grobkörnige Vorspungs- und Vertiefungs-Abschnitte einheitlich gebildet werden, und an der Innenseite dieser Vorsprungs- und Vertiefungs-Bereiche werden feiner körnige, einheitliche Vorsprungs- und Vertiefungs-Abschnitte gebildet. Dementsprechend weist eine PS-Platte, bei der eine photoempfindliche Schicht an der vorgenannten Oberfläche der Lithographie-Druckplatte gebildet wird, gute Beständigkeit gegenüber wiederholtem Drucken aufgrund der exzellenten Haftung zwischen der photoempfindlichen Schicht und dem Lithographie-Druckplattenträger auf. Weiter hat die PS-Platte ein gutes Wasser-Halte-Vermögen von deren Oberfläche, ist schwierig durch Druckfarbe zu verschmutzen und weist eine exzellente Farbton-Reproduzierbarkeit und ein exzellentes Wasser-Druckfarben-Gleichgewicht auf. So kann eine klare und attraktive Oberfläche der gedruckten Seite erhalten werden, d. h. eine Druckblatt-Oberfläche mit ausgezeichneter Bild-Qualität.
Der Lithographie-Druckplattenträger gemäß der vorliegenden Erfindung kann ein Trä ger sein, der dadurch gebildet wird, dass man die Oberfläche eines Aluminium-Substrats oder dergleichen einer Oberflächen-Aufrauhungs-Behandlung und einer Anodisierungs-Behandlung unterzieht.
Das Material für das Aluminium-Substrat kann gewählt werden aus bekannten Aluminium-Materialien und Aluminium-Legierungen.
2. Verfahren des Herstellens eines Lithographie-Druckplattenträgers
Der Lithographie-Druckplattenträger gemäß der vorliegenden Erfindung kann beispielsweise dadurch hergestellt werden, dass man ein Metall-Substrat für eine Lithographie-Druckplatte einer Oberflächen-Aufrauhungs-Behandlung und anschließend einer Anodisierungs-Behandlung unterzieht.
2-1. Oberflächen-Aufrauhen
In dem Herstellungsverfahren gemäß der vorliegenden Erfindung wird bei der Oberflächen-Aufrauhungs-Behandlung unter Zuführen abtragender Teilchen, deren Haupt-Komponente SiO₂-Teilchen sind und die einen mittleren Teilchen-Durchmesser und eine Teilchen-Durchmesser-Verteilung innerhalb spezieller Bereiche aufweisen, eine mechanische Oberflächen-Aufrauhungs-Behandlung unter Schleifen mittels einer Bürsten-Walze an wenigstens einer Oberfläche des Metall-Substrats für eine Lithographie-Druckplatte durchgeführt. Anschließend kann wenigstens einer der Behandlungsschritte Ätz-Bearbeitungs-Behandlung und elektrolytische Oberflächen-Aufrauhungs-Behandlung durchgeführt werden.
A. Mechanische Oberflächen-Aufrauhungs-Behandlung
Bei der mechanischen Oberflächen-Aufrauhungs-Behandlung kann eine Bürsten-Körnungs-Behandlung durchgeführt werden, bei der die Oberfläche des Metall-Substrats für eine Lithographie-Druckplatte mittels einer Walzen-Bürste gerieben bzw. geschliffen wird.
Beispielsweise kann eine Metallplatte oder ein Metall-Gewebe (nachfolgend „Metall-Gewebe für eine Lithographie-Druckplatte" bezeichnet), die/das üblicherweise als Träger für eine PS-Platte oder dergleichen verwendet wird, als Metall-Substrat für eine Lithographie-Druckplatte verwendet werden. Beispielsweise kann eine Platte oder ein Blech oder dergleichen, die/das aus reinem Aluminium oder einer Aluminium-Legierung (nachfolgend als „Aluminium oder dergleichen" bezeichnet) gebildet wird, als Metall-Gewebe für eine Lithographie-Druckplatte verwendet werden. Das Metall-Substrat (Aluminium-Substrat) für eine Lithographie-Druckplatte kann in Form eines kontinuierlichen Blechs vorliegen oder kann in Form getrennter Bleche bzw. Platten vorliegen, die Größen aufweisen, die der PS-Platte entsprechen und die als Produkte versandt werden.
Die Bürsten-Körnungs-Behandlung kann durchgeführt werden, während man abtragende Teilchen zwischen eine Walzen-Bürste und dem Aluminium-Substrat zuführt.
Der mittlere Teilchen-Durchmesser der abtragenden Teilchen, die in der Bürsten-Körnungs-Behandlung verwendet werden, liegt bei 5 bis 70 μm und besonders bevorzugt bei 10 bis 40 μm und am meisten bevorzugt bei 15 bis 35 μm.
Die Menge an Teilchen, die einen Teilchen-Durchmesser von 100 μm oder mehr aufweisen, die in die abtragenden Teilchen eingeschlossen sind, beträgt 10 Gewichtsprozent oder weniger und überschreitet besonders bevorzugt 5 Gewichtsprozent nicht. Es ist am meisten bevorzugt, dass solche Teilchen in einer Menge enthalten sind, die 2,5 Gewichtsprozent nicht übersteigt, oder sie sind im wesentlichen überhaupt nicht enthalten.
Die Menge an Teilchen, die einen Teilchen-Durchmesser von 500 μm oder mehr aufweisen und in die abtragenden Teilchen eingeschlossen sind, beträgt 1 Gewichtsprozent oder weniger und übersteigt besonders bevorzugt nicht 0,5 Gewichtsprozent. Es ist am meisten bevorzugt, dass solche Teilchen in einer Menge enthalten sind, die 0,2 Ge wichtsprozent nicht übersteigt oder dass sie im wesentlichen überhaupt nicht enthalten sind.
90 Gewichtsprozent oder mehr der abtragenden Teilchen sind SiO₂-Teilchen. Die abtragenden Teilchen können nur SiO₂-Teilchen sein. Alternativ dazu können zusätzlich zu SiO₂-Teilchen Kratzer-abtragende Mittel wie beispielsweise Aluminium, Eisen, Ton, Talkum, Eisenoxid, Chromoxid, calciniertes Aluminiumoxid oder dergleichen sowie Schleifmittel wie Diamant, Schleifkorund, Spinell, Korund, Carborund, Borcarbid und dergleichen enthalten sein.
Aufgrund der mechanischen Oberflächen-Aufrauhungs-Behandlung werden hauptsächlich extrem große Wellen, die die am rauhesten gekörnten Vorsprungs- und Vertiefungs-Bereichs sind, und große Wellen, die Vorsprungs- und Vertiefungs-Bereiche sind, die ein wenig feiner-körnig sind als die extrem großen Wellen, auf der Oberfläche des Lithographie-Druckplattenträgers gebildet. Die Einheitlichkeit der extrem großen Wellen und der großen Wellen ist besonders stark bezogen auf die Größe der Punkt-Zunahme, die Farbton-Reproduzierbarkeit, das Wasser-Halte-Vermögen der Oberfläche und die Schwierigkeit der PS-Platte, durch Druckfarbe verschmutzt zu werden. Bei der mechanischen Oberflächen-Aufrauhungs-Behandlung beißen sich dann, wenn die oben beschriebenen abtragenden Teilchen verwendet werden, die abtragenden Teilchen nicht in die Oberfläche des Metall-Gewebes für die Lithographie-Druckplatte ein, und die Oberfläche wird durch abtragende Teilchen mit einem großen Teilchen-Durchmesser nicht eingeschnitten. So werden keine großen Kratzer in der Oberfläche des Lithographie-Druckplattenträgers gebildet, die zu einer sogenannten Verschmutzung der Gummi-Walze führen, bei der die Kautschuk-Walze einer Offset-Druckeinrichtung verschmutzt wird, oder zu Punkt-Verschmutzung der Oberfläche des gedruckten Blattes oder dergleichen führen. Insbesondere weist eine PS-Platte, die einen Lithographie-Druckplattenträger aufweist, der durch mechanische Oberflächen-Aufrauhungs-Behandlung unter Verwendung der oben beschriebenen abtragenden Teilchen erhalten wird und dessen maximale Rauheit Rmax der Oberfläche 10 μm oder weniger beträgt und dessen Oberflächen-Rauheit Ra 0,3 bis 1,0 μm beträgt, d. h. eine PS-Platte, die ei nen Lithographie-Druckplattenträger aufweist, in dem extrem große Wellen und großen Wellen einheitlich gebildet werden, eine geringe Punkt-Zunahme, eine exzellente Farbton-Reproduzierbarkeit, ein exzellentes Wasser-Halte-Vermögen der Oberfläche auf und ist schwierig zu verschmutzen.
Die abtragenden Teilchen können beispielsweise als Aufschlämmung oder dergleichen verwendet werden. Die Aufschlämmung kann eine Suspension oder dergleichen sein, in der die abtragenden Teilchen in Wasser in einer Konzentration von etwa 5 bis 70 Gewichtsprozent suspendiert sind. Verdickungsmittel, Dispergiermittel wie beispielsweise oberflächenaktive Mittel bzw. Tenside, Konservierungsmittel und dergleichen können auch in die Suspension einkompoundiert werden.
Die mechanische Oberflächen-Aufrauhungs-Behandlung kann beispielsweise unter Verwendung einer abtragenden Vorrichtung wie derjenigen durchgeführt werden, die in 1 gezeigt ist.
Wie in 1 gezeigt, ist diese abtragende Vorrichtung mit drei Walzen-ähnlichen Bürsten, 2, 4, 6 versehen, die parallel und in derselben Höhe angeordnet sind und die ein Aluminium-Substrat A abtragen, das in einer konstanten Richtung A gefördert wird, mit Träger-Walzen 8A, 8B, 10A, 10B, 12A, 12B, die in parallelen Paaren für die Walzen-ähnlichen Bürsten 2, 4, 6 vorgesehen werden und die das Aluminium-Substrat A von unten stützen, und mit einem im wesentlichen Parallelepiped-artigen Gehäuse 14, in dem die Walzen-ähnlichen Bürsten 2, 4, 6 und die Träger-Walzen 8A, 8B, 10A, 10B, 12A, 12B untergebracht sind und durch dessen Inneres das Aluminium-Substrat A hindurchtritt.
Wie in 1 gezeigt, sind die Walzen-artigen Bürsten 2, 4, 6 mit umlaufenden Wellen 2C, 4C, 6C versehen, die parallel zueinander angeordnet sind, mit Trommeln 2B, 4B, 6B versehen, die um die umlaufenden Wellen 2C, 4C, 6C umlaufen, und mit Bürsten-Borsten 2A, 4A, 6A, die in die seitlichen Oberflächen der Trommeln 2B, 4B, 6B eingebettet sind und sich zur Außenseite hin entlang einer radialen Richtung erstrecken.
Die Bürsten-Borsten 2A, 4A, 6A haben einen Durchmesser von 0,15 bis 1,35 mm und eine Länge von 10 bis 100 mm.
Beispiele von Bürsten-Borsten 2A, 4A, 6A sind Bürsten-Materialien, die gewählt sind aus Borsten aus synthetischem Harz, die aus einem synthetischen Harz wie beispielsweise Nylon, Propylen, Polyvinylchlorid-Harz oder dergleichen gebildet sind, Borsten aus Tier-Haar wie beispielsweise Rinderhaar, Schweineborsten, Pferdehaar oder dergleichen und Borsten aus Naturfasern wie beispielsweise Wolle oder dergleichen.
Die Bürsten-Borsten 2A, 4A, 6A sind in die Trommeln 2B, 4B, 6B in einer Einbettungs-Dichte von 30 bis 5.000 Borsten pro cm² eingebettet. Die Borsten können einzeln eingebettet sein oder zu mehreren Borsten, z. B. Bündeln von 10 bis 5.000 Borsten, eingebettet sein.
Bei der mechanischen Aufrauhungs-Behandlung ist es bevorzugt, eine Walzen-ähnliche Bürste zu verwenden, deren Bürsten-Borsten-Durchmesser und eingebettete Dichte in die obigen Bereiche fallen, zusammen mit dem oben beschriebenen abtragenden bzw. abrasiven Mittel, da sogar noch mehr einheitliche extrem große Wellen und große Wellen in der Oberfläche des Aluminium-Substrats gebildet werden können.
Die Träger-Walzen 8A, 10A, 12A werden so vorgesehen, dass sie an die Spitzen der Bürsten-Borsten 2A, 4A, 6A der Walzen-artigen Bürsten 2, 4, 6 in der Transport-Richtung stromaufwärts anstoßen (nachfolgend als „stromaufwärts" bezeichnet). Die Träger-Walzen 8B, 10B, 12B werden so vorgesehen, dass sie an die Spitzen der Bürsten-Borsten 2A, 4A, 6A der Walzen-artigen Bürsten 2, 4, 6 in der Transport-Richtung stromabwärts anstoßen (nachfolgend „stromabwärts" bezeichnet).
Wie in 1 gezeigt, laufen an der abzutragenden Oberfläche des Aluminium-Substrats die Walzen-ähnlichen Bürsten 2 und 4 in der Richtung von der stromaufwärts gelegenen Seite in Richtung auf die stromabwärts gelegene Seite um. Die Walzen-ähnliche Bürste läuft an der abzutragenden Oberfläche in der Richtung von der strom abwärts gelegenen Seite in Richtung auf die stromaufwärts gelegene Seite oder in dazu gegenläufiger Richtung um. Die Umlaufgeschwindigkeit der Walzen-ähnlichen Bürsten 2, 4, 6 beträgt vorzugsweise etwa 100 bis 1.000 Upm.
Die Träger-Walzen 8A, 8B, 10A, 10B, 12A, 12B werden alle so vorgesehen, dass sie frei um ihre Achsen umlaufen.
Wie in 1 gezeigt, wird eine erste, auf der stromaufwärts gelegenen Seite angeordnete Leit-Walze 16A, die das Aluminium-Substrat A in das Innere des Gehäuses 14 leitet, auf der Eintritt-Seite für das Aluminium-Substrat A oberhalb des Gehäuses 14 vorgesehen. Eine erste, auf der stromabwärts gelegenen Seite angeordnete Leit-Walze 18A, die das Aluminium-Substrat A zur Außenseite des Gehäuses 14 leitet, wird auf der Austritts-Seite für das Aluminium-Substrat A vorgesehen. Innerhalb des Gehäuses 14 wird eine zweite, auf der stromaufwärts gelegenen Seite angeordnete Leitwalze 16B parallel zu den Träger-Walzen 4A und 4C an der stromaufwärts gelegenen Seite in der Nachbarschaft der Träger-Walze 4A vorgesehen. Die zweite, auf der stromaufwärts gelegenen Seite angeordnete Leit-Walze 16B leitet zwischen der Walzen-ähnlichen Bürste 2 und den Träger-Walzen 2A und 2B das Aluminium-Substrat A, das durch die erste, auf der stromaufwärts gelegenen Seite angeordnete Leit-Walze 16A in das Gehäuse 14 geleitet wurde.
Auf der stromabwärts gelegenen Seite in der Nähe der Träger-Walze 6B wird eine zweite, auf der stromabwärts gelegenen Seite angeordnete Leit-Walze 18B parallel zu den Träger-Walzen 12A, 12B vorgesehen. Die zweite, auf der stromabwärtigen Seite gelegene Leit-Walze 18B leitet das Aluminium-Substrat A, das zwischen den Walzen-artigen Bürsten 2, 4, 6 und den Träger-Walzen 8A, 8B, 10A, 10B, 12A, 12B hindurchgetreten ist, in Richtung auf die erste, auf der stromabwärtigen Seite gelegene Leit-Walze 18A. Düsen 20A, 20B, 20C zum Zuführen von abtragender Aufschlämmung, die die abtragende Aufschlämmung zuführen, sind an den stromabwärtig gelegenen Seiten in der Nähe der Walzen-artigen Bürsten 2, 4 bzw. 6 vorgesehen.
Wie in 1 gezeigt, wird ein Rückgewinnungs-Tank 22 für abtragende Aufschlämmung, der die abtragende Aufschlämmung auffängt, die durch die Zufuhrdüsen 20A, 20B, 20C für die abtragende Aufschlämmung zugeleitet wird, unter dem Gehäuse 14 vorgesehen. Der Auffang-Tank 22 für abtragende Aufschlämmung steht in Verbindung mit dem Boden-Abschnitt des Gehäuses 14, und zwar über eine Rückführ-Leitung 24 für abtragende Aufschlämmung.
Der Rückgewinnungs-Tank 22 für abtragende Aufschlämmung ist über eine Aufschlämmungs-Übertragungs-Leitung 28 mit einem Zyklon 26 verbunden, der das abtragende bzw. abrasive Material in der abtragenden Aufschlämmung in ein abtragendes bzw. abrasives Material mit großen Teilchen-Durchmessern und ein abtragendes bzw. abrasives Material mit kleinen Teilchen-Durchmessern trennt. Eine Pumpe 28A und ein Überlauf-Tank 28B sind an der Aufschlämmungs-Übertragungs-Leitung 28 angeordnet. Die Pumpe 28A transferiert die abtragende Aufschlämmung in dem Auffang-Tank 22 zu dem Zyklon 26. Der Überlauf-Tank 28B ist zwischen der Pumpe 28A und dem Auffang-Tank 22 für die abrasive Aufschlämmung angeordnet.
Der Zyklon 26 ist in einer im Wesentlichen konischen Konfiguration ausgebildet, deren Durchmesser in Richtung auf dessen Unterteil sinkt.
Eine die Aufschlämmung einleitende Rohrleitung 26A, durch die die abtragende Aufschlämmung eingeleitet wird, ist an der Seitenfläche des Zyklons 26 in der Nähe von dessen oberer Fläche vorgesehen. Eine die Aufschlämmung ableitende Rohrleitung 26B ist an einem zentralen Abschnitt der oberen Fläche des Zyklons 26 vorgesehen. Die die Aufschlämmung ableitende Rohrleitung 26B leitet die Aufschlämmung ab, die hauptsächlich abtragende bzw. abrasive Teilchen kleinen Teilchen-Durchmessers enthält, zusammen mit der Aufschlämmung, die an dem Zyklon 26 abgetrennt wird. Eine die Aufschlämmung herausleitende Rohrleitung 26C ist am unteren Endabschnitt des Zyklons 26 vorgesehen. Die die Aufschlämmung herausleitende Rohrleitung 26C leitet die Aufschlämmung ab, die hauptsächlich abtragende bzw. abrasive Teilchen eines großen Teilchen-Durchmessers zusammen mit der Aufschlämmung enthält. Die die Auf schlämmung einleitende Rohrleitung 26A ist mit der Aufschlämmungs-Transfer-Leitung 28 verbunden. Die die Aufschlämmung herausleitende Rohrleitung 26C steht in Verbindung mit dem Rückgewinnungs- bzw. Auffang-Tank 22 für die abtragende Aufschlämmung, und zwar über eine Aufschlämmungs-Rückgewinnungs-Leitung 30. Die die Aufschlämmung herausleitende Rohrleitung 26B ist mit einer Rest- bzw. Abfall-Flüssigkeit-Leitung 38 verbunden, die später beschrieben wird.
Der Rückgewinnungs- bzw. Auffang-Tank 22 für abtragende Aufschlämmung steht in Verbindung mit den Düsen 20A, 20B und 20C zur Zufuhr von abtragender Aufschlämmung, und zwar über eine Zufuhr-Leitung 32 für abtragende Aufschlämmung, die zu einem Punkt in der Nähe des unteren Abschnitts des Rückgewinnungs-Tanks 22 für abtragende Aufschlämmung verbunden ist. Eine Pumpe 32A, die die abtragende Aufschlämmung zu den Düsen 20A, 20B, 20C zur Zufuhr von abtragender Aufschlämmung zuführt, ist an der Leitung 32 für abtragende Aufschlämmung vorgesehen.
Eine Leitung 34 zum Nachfüllen von abtragendem Mittel bzw. Abrasiv-Mittel, die das abtragende Mittel nachfüllt, und eine Leitung 36 zum Nachfüllen von Wasser, die Wasser nachfüllt, sind an dem Tank 22 zum Auffangen bzw. Rückgewinnen der abtragenden Aufschlämmung vorgesehen.
Ein Zentrifugen-Separator 40, der die von der Leitung 26B zum Abführen der Aufschlämmung abgeführte Aufschlämmung in abtragende Teilchen bzw. Abrasiv-Teilchen und Wasser trennt, ist an der Leitung 38 für Rest- bzw. Abfall-Flüssigkeit vorgesehen.
In der in 1 gezeigten abtragenden Vorrichtung wird das Aluminium-Substrat A, das in Richtung auf das Gehäuse 14 entlang der Transport-Richtung a transportiert wurde, mittels der ersten, auf der stromaufwärts gelegenen Seite angeordneten Leit-Walze 16A und der zweiten, auf der stromaufwärts gelegenen Seite angeordneten Leit-Walze 16B zwischen die Walzen-artige Bürste 2 und die Träger-Walze 8A geleitet.
Das Aluminium-Substrat A, das zwischen die Walzen-artige Bürste 2 und die Träger-Walze 8A geleitet wurde, tritt zwischen der Walzen-artigen Bürste 2 und der Träger-Walze 8B hindurch und tritt anschließend zwischen der Walzen-artigen Bürste 4 und den Träger-Walzen 10A und 10B hindurch und tritt dann zwischen der Walzen-artigen Bürste 6 und den Träger-Walzen 12A und 12B hindurch. Danach wird die abtragende Aufschlämmung, die in dem Tank 22 zur Rückgewinnung bzw. zum Auffangen der abtragenden Aufschlämmung gespeichert ist, der oberen Fläche des Aluminium-Substrats A von den Düsen 20A, 20B, 20C zum Zuführen der abtragenden Aufschlämmung zugeführt. Dementsprechend wird aufgrund der Reibung der Bürsten-Borsten 2A, 4A, 6A und der abtragenden Wirkung der abtragenden Teilchen in der abtragenden Aufschlämmung die obere Fläche des Aluminium-Substrats A mechanisch an der Oberfläche aufgerauht, so dass extrem große Wellen und große Wellen gebildet werden, wie oben beschrieben wurde.
Das Aluminium-Substrat A, das zwischen der Walzen-artigen Bürste 6 und der Träger-Walze 12B hindurchtritt, wird zur Außenseite des Gehäuses 14 mittels der zweiten, auf der stromabwärtigen Seite gelegenen Leit-Walze 18B und die erste, auf der stromabwärtigen Seite angeordneten Leit-Walze 18A geleitet.
Die abtragende Aufschlämmung, die von den Düsen 20A, 20B, 20C zum Zuführen abtragender Aufschlämmung zugeführt wurde, fließt nach unten in den Tank 22 zur Rückgewinnung bzw. zum Auffangen abtragender Aufschlämmung, und zwar durch die Leitung 24 zum Zurückleiten der abtragenden Aufschlämmung.
Die abtragende Aufschlämmung in dem Tank 22 zur Rückgewinnung bzw. zum Auffangen der abtragenden Aufschlämmung wird durch die Aufschlämmungs-Übertragungs-Leitung 28 mittels der Pumpe 28A in Richtung auf den Zyklon 26 überführt.
In dem Zyklon 26 wird die abtragende Aufschlämmung entlang der inneren Seitenwand-Oberfläche eingeleitet und fließt in Richtung auf den unteren Endabschnitt, wobei sie entlang der innenseitigen Wandungs-Oberfläche in Umlauf versetzt wird. Dementsprechend sammeln sich unter den abtragenden Teilchen in der abtragenden Aufschlämmung die Teilchen, die einen großen Teilchen-Durchmesser aufweisen, in der Nähe der innenseitigen Wand-Oberfläche aufgrund der Zentrifugalkräfte, während sich die Teilchen mit einem kleinen Durchmesser im zentralen Abschnitt sammeln. Die Aufschlämmung wird in eine Aufschlämmung, die hauptsächlich abtragende Teilchen mit relativ großen Teilchen-Durchmessern enthält, und eine Aufschlämmung, die hauptsächlich abtragende Teilchen mit Teilchen-Durchmessern enthält, die viel kleiner sind als der mittlere Teilchen-Durchmesser der abtragenden Teilchen, getrennt. Die ersteren werden von der Rohrleitung 26C zum Herausleiten der Aufschlämmung vom unteren Endabschnitt des Zyklons 26 in Richtung auf die Leitung 30 zur Rückgewinnung der Aufschlämmung geleitet. Die zweitgenannte Aufschlämmung wird von der Leitung 26B zum Herausleiten der Aufschlämmung am zentralen Abschnitt der oberen Fläche des Zyklons 26 der Abfallflüssigkeits-Leitung 38 zugeleitet.
Die Aufschlämmung, die in Richtung auf die Leitung 30 zur Rückgewinnung der Aufschlämmung geleitet wird, wird in den Tank 22 zur Rückgewinnung der abtragenden Aufschlämmung zurückgeführt.
Die Aufschlämmung, die der Abfallflüssigkeits-Leitung 38 zugeleitet wird, wird dem Zentrifugen-Separator 40 zugeleitet und in eine im Wesentlichen transparente Flüssigkeit und abtragende Teilchen getrennt. Die erstere wird als Abfallflüssigkeit abgelassen, während die letztgenannten Teilchen einer passenden Behandlung als Industrie-Abfall unterzogen werden.
Im Unterschied zu der mechanischen Oberflächen-Aufrauhungs-Bearbeitung des Lithographie-Druckplattenträgers gemäß der vorliegenden Erfindung kann der Lithographie-Druckplattenträger beispielsweise mit einer Herstellungs-Vorrichtung hergestellt werden, die mit einer abtragenden Vorrichtung ausgerüstet ist, wie sie in 2 gezeigt ist.
Die Herstellungs-Vorrichtung, die in 2 gezeigt ist, ist mit einer Bürsten-Körnungs-Bearbeitungs-Vorrichtung 2 ausgestattet, die eine abtragende Verarbeitung mittels Walzen-Bürsten durchführt, während sie eine abtragende Aufschlämmung der Oberfläche eines Aluminium-Gewebes W zuführt, das entlang einer fixierten Richtung a transportiert wird, d. h. eine Bürsten-Körnungs-Bearbeitung, einer Spühl-Vorrichtung 4, die das Aluminium-Gewebe W spült, das der Bürsten-Körnungs-Bearbeitung an der Bürsten-Körnungs-Bearbeitungs-Vorrichtung 2 unterzogen wurde, und einer Vorrichtung 6 zur Rückgewinnung von Rest-Flüssigkeit bzw. Abfall-Flüssigkeit der abtragenden Aufschlämmung, die die abtragende Aufschlämmung zurückgewinnt, die an der Bürsten-Körnungs-Bearbeitungs-Vorrichtung 2 erzeugt wurde, die Teilchen kleinen Durchmessers heraustrennt und danach die Aufschlämmung zu der Bürsten-Körnungs-Bearbeitungs-Vorrichtung 2 zurückführt.
Wie in 2 gezeigt, ist die Bürsten-Körnungs-Bearbeitungs-Vorrichtung 2 versehen mit: Einer Walzen-Bürste 8, die die Oberfläche des Aluminium-Gewebes W abträgt; einer Walzen-Bürste 10, die in der Transport-Richtung auf der stromabwärts gelegenen Seite der Walzen-Bürste 8 vorgesehen ist und in ähnlicher Weise die Oberfläche des Aluminium-Gewebes W abträgt; Träger-Walzen 12A, 12B, 14A, 14B, die an der Seite einer Transport-Oberfläche T vorgesehen sind, die ein Weg ist, entlang dem das Aluminium-Gewebe W gefördert wird, wobei die Seite der Seite gegenüberliegend ist, auf der die Walzen-Bürsten 8 und 10 vorgesehen sind, und die das Aluminium-Gewebe W von dessen Unterseite tragen, und ein Gehäuse 16, das die Walzen-Bürsten 9, 10 und die Träger-Walzen 12A, 12B, 14A, 14B unterbringt und das eine Öffnung 16A an seiner oberen Fläche aufweist. Nachfolgend wird bei der Förder-Richtung die stromabwärts gelegene Seite als „stromabwärts gelegene Seite" bezeichnet, und es wird bei der Förder-Richtung die stromaufwärts gelegene Seite als „stromaufwärts gelegene Seite" bezeichnet. Das Aluminium-Gewebe W ist ein Beispiel des Lithographie-Druckplattenträgers gemäß der vorliegenden Erfindung. Die Walzen-Bürsten 8, 10 und die Träger-Walzen 12A, 12B, 14A, 14B entsprechen der mechanischen abtragenden Vorrichtung in der Herstellungs-Vorrichtung für einen Lithographie-Druckplattenträger gemäß der vorliegenden Erfindung.
Die Walzen-Bürsten 8, 10 sind mit umlaufenden Wellen 8C, 10C versehen, die parallel zur Förder-Oberfläche T sind und sich in einer Richtung quer zur Förder-Oberfläche T erstrecken, mit zylindrischen Trommeln 8B, 10B, die um die umlaufenden Wellen 8C, 10C umlaufen, und Bürsten-Borsten 8A, 10A, die in die Seiten-Flächen der Trommeln 8B, 10B eingebettet sind. Die Bürsten-Borsten 8A, 10A haben vorzugsweise einen Durchmesser von 0,15 bis 1,35 mm und eine Länge von 20 bis 100 mm. Die Bürsten-Borsten 8A, 10A sind in die Trommeln 8B, 10B in einer Einbettungs-Dichte von 30 bis 5.000 Borsten pro cm² eingebettet. Beispiele der Bürsten-Borsten 8A, 10A sind Borsten aus synthetischem Harz, die aus einem synthetischen Harz wie beispielsweise Nylon, Propylen, Polyvinylchlorid-Harz oder dergleichen gebildet sind.
Die Walzen-Bürsten 8, 10 sind so angeordnet, dass ein Teil des Außenumfangs-Bereichs jeder der Walzen-Bürsten 8, 10 niedriger angeordnet ist als die Beförderungs-Oberfläche T. Wie durch Pfeile b und c in 2 gezeigt ist, laufen die Walzen-Bürsten 8, 10 mittels einer passenden Umlauf- Einrichtung in derselben Richtung um wie die Beförderungsrichtung a an der abzutragenden Oberfläche des Aluminium-Gewebes W.
Die Träger-Walze 12A ist auf der stromaufwärts gelegenen Seite der Walzen-Bürste 8 vorgesehen, und die Träger-Walze 12B ist an der stromabwärts gelegenen Seite der Walzen-Bürste 8 vorgesehen. In ähnlicher Weise ist die Träger-Walze 14A auf der stromaufwärts gelegenen Seite der Walzen-Bürste 10 vorgesehen, und die Träger-Walze 14B ist auf der stromabwärts gelegenen Seite der Bürsten-Walze 10 vorgesehen.
Wie in 2 gezeigt, wird eine erste Sprüh-Einrichtung 18 für abtragendes bzw. Abrasiv-Material in der Nähe der Walzen-Bürste 8 vorgesehen und wird eine zweite Sprüh-Einrichtung 20 für abtragendes bzw. Abrasiv-Material in der Nähe der Walzen-Bürste 10 vorgesehen. Die erste Sprüh-Einrichtung 18 für abtragendes Material sprüht die abtragende Aufschlämmung in Richtung auf den Bereich zwischen der Walzen-Bürste 8 und dem Aluminium-Gewebe W von einem Punkt oberhalb der Beförderungs- Oberfläche T. Die zweite Sprüh-Einrichtung 20 für abtragendes Material sprüht die abtragende Aufschlämmung in Richtung auf den Bereich zwischen der Walzen-Bürste 10 und dem Aluminium-Gewebe W von einem Punkt oberhalb der Beförderungs-Oberfläche T.
Sowohl die erste Sprüh-Einrichtung 18 für abtragendes Material als auch die zweite Sprüh-Einrichtung 20 für abtragendes Material sind rohrförmig und erstrecken sich parallel in Bezug auf die Beförderungs-Oberfläche T entlang der Querrichtung der Beförderungs-Oberfläche T. Eine Mehrzahl von Sprüh-Löchern 18A, 20A ist in einer Reihe entlang der Längs-Richtung gebildet. Die Sprüh-Löcher 18A, 20A sind so gebildet, dass sie die abtragende Aufschlämmung in einem nach unten gerichteten Winkel in Richtung auf die stromabwärts gelegene Seite sprühen, d. h. in Richtung auf die untere linke Seite in 2. Ein Ende jeder ersten Sprüh-Einrichtung 18 für abtragendes Material und zweiten Sprüh-Einrichtung 20 für abtragendes Material ist mit der Leitung 22 zum Zuführen von abtragender Aufschlämmung verbunden, die die abtragende Aufschlämmung zuführt, und die anderen Enden sind geschlossen. Die erste Sprüh-Einrichtung 18 für abtragendes Material, die zweite Sprüh-Einrichtung 20 für abtragendes Material und die Leitung 22 zum Zuführen von abtragender Aufschlämmung entsprechen der Vorrichtung zum Zuführen von abtragender Aufschlämmung in der Lithographie-Druckplattenträger-Herstellungsvorrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung.
Wie in 2 gezeigt, sind an der am weitesten stromabwärts gelegenen Seite innerhalb des Gehäuses 16 vorgesehen: Eine Vorab-Spül-Sprüheinrichtung 24, die oberhalb der Beförderungs-Oberfläche T vorgesehen ist und Wasch-Wasser auf die Oberfläche des Aluminium-Gewebes W sprüht; eine Vorab-Spül-Sprüheinrichtung 26, die unterhalb der Beförderungs-Oberfläche T vorgesehen ist und Wasch-Wasser auf die rückseitige Oberfläche des Aluminium-Gewebes W sprüht; und Wasser-Abquetsch-Walzen 28A, 28B, die das Wasser, das von den Vorab-Spül-Sprüheinrichtungen 24, 26 aufgesprüht wurde, von der Oberfläche und der rückseitigen Oberfläche des Aluminium-Gewebes W abquetschen.
Beide Vorab-Spül-Sprüheinrichtungen 24, 26 sind rohrförmig und erstrecken sich parallel in Bezug auf die Beförderungs-Oberfläche T entlang der Querrichtung der Beförderungs-Oberfläche T. Eine Mehrzahl von Waschwasser-Sprühlöchern 24A, 26A ist entlang der Längsrichtung gebildet. Die Waschwasser-Sprühlöcher 24A, 26A sind in der Weise gebildet, dass sie Waschwasser in Richtung auf die Beförderungs-Oberfläche T sprühen, wie dies in 2 gezeigt ist. Eines der Enden der Vorab-Spül-Sprüheinrichtung 24, 26, ist mit Wasserzufuhr-Leitungen 24B, 26B verbunden. Die Menge an Waschwasser, die aus der Vorab-Spül-Sprüheinrichtung 24 versprüht wird, liegt vorzugsweise im Bereich von 5 bis 50 l/min und besonders bevorzugt im Bereich von 10 bis 50 l/min pro 1 m Breite des Aluminium-Gewebes W. Andererseits liegt die Menge an Waschwasser, die aus der Vorab-Spül-Sprüheinrichtung 26 versprüht wird, vorzugsweise im Bereich von 5 bis 50 l/min und besonders bevorzugt im Bereich von 10 bis 35 l/min pro 1 m Breite des Aluminium-Gewebes W.
Wenn die Menge an Waschwasser, die in einem Vorab-Spühl-Bereich 2C versprüht wird, in den obigen Bereichen liegt, wird die abtragende bzw. Abrasiv-Aufschlämmung, die an dem Aluminium-Gewebe W haftet, in ausreichendem Maße weggewaschen, und daher kann die Menge an abtragenden Mittel bzw. Abrasiv-Mittel, die in die Spül-Einrichtung 4 ausgebracht wird, klein gemacht werden. Weiter ist der Grad, in dem die abgewaschene abtragende bzw. Abrasiv-Aufschlämmung durch das Waschwasser verdünnt wird, gering. So können an der Vorrichtung 6 zur Rückgewinnung der Abrasiv-Aufschlämmungs-Abfall-Flüssigkeit die Schwankungen der Konzentration der abtragenden bzw. Abrasiv-Teilchen in der abtragenden Aufschlämmung aufgrund der Rückgewinnung der abtragenden Aufschlämmung klein gehalten werden.
Wie in 2 gezeigt ist, sind die Wasser-Abquetsch-Walzen 28A, 28B auf den stromabwärts liegenden Seiten der Vorab-Spül-Sprüheinrichtungen 24, 26 angeordnet und sind in der Weise vorgesehen, dass sie frei umlaufen können, so dass sie umlaufen, während sie an die obere Fläche bzw. untere Fläche des Aluminium-Gewebes W anstoßen.
Auf der stromaufwärts gelegenen Seite angeordnete Leitwalzen 30A, 30B werden an der am meisten stromaufwärts gelegenen Seite des Innern des Gehäuses 16 vorgesehen, wie dies in 2 gezeigt ist. Die auf der stromaufwärts gelegenen Seite angeordneten Leitwalzen 30A, 30B leiten das Aluminium-Gewebe W, das in Richtung auf das Gehäuse 16 transportiert wurde, von der Öffnung 16A zu dem Bereich zwischen der umlaufenden Bürste 8 und den Träger-Walzen 12A, 12B. Andererseits werden die auf der stromabwärts gelegenen Seite angeordneten Leitwalzen 32A, 32B auf der am meisten stromabwärts gelegenen Seite des Innern des Gehäuses 16 vorgesehen. Die auf der stromabwärts gelegenen Seite angeordneten Leitwalzen 32A, 32B leiten das Aluminium-Gewebe W, das durch die Wasser-Abquetsch-Walzen 28A, 28B hindurchgeführt wurde, zur Außenseite des Gehäuses 16.
Die Spüleinrichung 4 wird stromabwärts des Gehäuses 16 vorgesehen. Die Spüleinrichtung 4 schließt ein: ein Gehäuse 34, dessen obere Fläche offen ist und durch das das Aluminium-Gewebe W hindurchtritt; eine stromaufwärts angeordnete Leit-Walze 36, die das Aluminium-Gewebe W von einer Öffnung 34A des Gehäuses 34 in das Gehäuse 34 leitet; eine Umkehr-Walze 38, die in der Nähe der unteren Fläche des Gehäuses 34 vorgesehen ist und die das Aluminium-Gewebe W, das in das Gehäuse 34 durch die auf der stromaufwärts gelegenen Seite angeordnete Leit-Walze 36 geleitet wurde, in einem Winkel in Richtung auf die Öffnung 34A nach oben, eine auf der stromabwärts gelegenen Seite angeordnete Leit-Walze 40, die das Aluminium-Gewebe, das durch das Innere des Gehäuses hindurchgetreten ist, in Richtung auf die stromabwärts gelegene Seite der Spüleinrichtung 4 leitet, und Spül-Sprüheinrichtungen 42, die rohrförmige Sprüheinrichtungen sind, die Waschwasser in Richtung auf beide Oberflächen des Aluminium-Gewebes W sprühen, das durch das Innere des Gehäuses 34 hindurchtritt.
Wie in 2 gezeigt, sind die Wasch-Sprüheinrichtungen 42 parallel in Bezug auf den Beförderungs-Weg des Aluminium-Gewebes W innerhalb des Gehäuses 34 angeordnet. Eine Mehrzahl von Waschwasser-Sprühlöchern 42A, die Waschwasser in Richtung auf das Aluminium-Gewebe W sprühen, ist in einer Reihe entlang der Längsrichtung gebildet. Die Strömungsgeschwindigkeit von Waschwasser an der Waschwasser- Sprüheinrichtung 42 ist üblicherweise 300 bis 5.000 l/min pro 1 m Breite des Aluminium-Gewebes W, ist jedoch nicht auf diesen Bereich beschränkt.
Eine Abwasser-Leitung 46, die das Abwasser wegleitet, das in dem Sprüh-Prozeß erzeugt wurde, wird im unteren Abschnitt des Gehäuses 34 vorgesehen. Eine Absetz-Grube oder -Vertiefung (nicht gezeigt), in der die Feststoffe in den Abwasser gefällt und beseitigt werden, ist an der Abwasser-Leitung 46 vorgesehen.
Wie in 2 gezeigt, ist die Vorrichtung 6 zur Rückgewinnung von Abrasiv-Aufschlämmungs-Abwasser-Flüssigkeit mit einem Aufschlämmungs-Zirkulationstank 50 versehen, der unterhalb des Gehäuses 16 angeordnet ist und in dem die abtragende bzw. Abrasiv-Aufschlämmung gespeichert wird, einer Leitung 52, die mit dem unteren Teil des Gehäuses 16 und dem Aufschlämmungs-Zirkulationstank 50 in Verbindung steht und die zu dem Aufschlämmungs-Zirkulationstank 50 Abwasser-Flüssigkeit der abtragenden Aufschlämmung wie beispielsweise die abtragende Aufschlämmung zuleitet, die der Bürstenkörnungs-Verarbeitungs-Vorrichtung 2 zugeleitet wird, und die abtragende Aufschlämmung, die durch das Waschwasser abgewaschen wird, das aus dem Vorab-Spül-Sprüheinrichtungen 24, 26 gesprüht wird; Zyklone 54A, 54B, die in Reihe angeordnet sind und die von der abtragenden Aufschlämmung in dem Aufschlämmungs-Zirkulationstank 50 Teilchen (nachfolgend bezeichnet als „Teilchen mit kleinem Durchmesser") eines kleineren mittleren Teilchen-Durchmessers entfernen als die abtragenden Teilchen, die in der abtragenden Aufschlämmung enthalten sind; eine Aufschlämmungs-Rückführ-Leitung 58, die dem Aufschlämmungs-Zirkulationstank 50 die abtragende Aufschlämmung wieder zuführt, von der Teilchen mit kleinem Durchmesser durch die Zyklone 54A, 54B entfernt wurden, und die Leitung 22 zum Zuleiten der abtragenden Aufschlämmung, die die abtragende Aufschlämmung innerhalb des Aufschlämmungs-Zirkulationstanks 50 der ersten Sprüheinrichtung 18 für abtragendes Mittel und der zweiten Sprüheinrichtung 20 für abtragendes Mittel zuleitet.
Ein Ende der Leitung 22 zum Zuleiten abtragender Aufschlämmung wird in der Nähe des unteren Teils des Aufschlämmungs-Zirkulationstanks 50 vorgesehen. Eine Pumpe 22A, die die abtragende Aufschlämmung in Richtung auf die erste Sprüheinrichtung für abtragendes Mittel und die zweite Sprüheinrichtung für abtragendes Mittel fördert, ist an der Leitung 22 zum Zuführen der abtragenden Aufschlämmung vorgesehen.
Der Zyklon 54A ist versehen mit: einem Zyklon-Hauptkörper 54C, der in im wesentlichen konischer Form ausgebildet ist, deren Durchmesser in Richtung auf dessen Boden abnimmt; ein die Aufschlämmung einführenden Rohr 54E, das an der Seitenfläche des Zyklon-Hauptkörpers 54C vorgesehen ist und sich von einem Punkt in der Nähe der oberen Fläche in tangentialer Richtung erstreckt und durch das abtragende Aufschlämmung von dem Aufschlämmungs-Zirkulationstank 50 eingeführt wird; einem Abschlämmungs-Ausleitungs-Rohr 54G, das am unteren Endabschnitt des Zyklon-Hauptkörpers 54C vorgesehen ist und durch das die abtragende Aufschlämmung ausgeleitet wird, von der Teilchen mit kleinem Durchmesser in dem Zyklon 54A entfernt wurden; und einem Ablaß-Rohr 54I für Aufschlämmung mit Teilchen kleinen Durchmessers, das an der oberen Fläche des Zyklon-Hauptkörpers 54C vorgesehen ist und sich von dem zentralen Abschnitt nach oben erstreckt und durch das die Aufschlämmung mit Teilchen kleinen Durchmessers abgeführt wird, die in dem Zyklon 54A klassiert wurde.
Der Zyklon 54B ist versehen mit: einem Zyklon-Hauptkörper 54D, der ähnlich geformt ist wie der Zyklon-Hauptkörper 54C des Zyklons 54A; einem Aufschlämmung zuführenden Rohr 54F, das ähnlich gebildet ist wie das Aufschlämmung zuführende Rohr 54E, und durch das die abtragende bzw. Abrasiv-Aufschlämmung eingeleitet wird, die von dem Aufschlämmungs-Auslaß-Rohr 54i an dem Zyklon 54A ausgelassen wurde; einem Rohr 54H zum Abführen von zurückgewonnener Aufschlämmung, das – ähnlich dem Rohr 54G zum Auslassen von zurückgewonnener Aufschlämmung am unteren Endabschnitt des Zyklon-Hauptköpers 54D vorgesehen ist und durch das zurückgewonnene Aufschlämmung abgelassen wird, von der die Teilchen mit kleinem Durchmesser im Zyklon 54B entfernt wurden; und einem Ablaß-Rohr 54J für eine Aufschlämmung mit Teilchen kleinen Durchmessers, das – ähnlich dem Rohr 54i zum Ablassen von Aufschlämmung mit Teilchen kleinen Durchmessers an der oberen Oberfläche des Zyk lon-Hauptköpers 54D vorgesehen ist und durch das die Aufschlämmung mit Teilchen mit kleinem Durchmesser abgelassen wird, die in dem Zyklon 54B klassiert wurde.
Die Innenwandungen der Zyklon-Hauptköper 54C, 54D sind mit einem Abrieb-beständigen Material wie beispielsweise mit einem Abrieb-beständigen Kautschuk, Polyurethan-Harz, Keramik-Material oder dergleichen ausgekleidet oder sind in Abrieb-beständiger Weise mit einer Chrom-Plattierung oder dergleichen plattiert.
Das Aufschlämmung zuführende Rohr 54E an dem Zyklon 54A steht in Verbindung mit einem Punkt in der Nähe des Boden-Abschnitts des Aufschlämmungs-Zirkulationstanks 50 über eine Aufschlämmung-einführende Leitung 56. Eine Pumpe 56A, die die abtragende Aufschlämmung innerhalb des Aufschlämmungs-Zirkulationstanks 50 dem Aufschlämmung zuführenden Rohr 54 zuleitet, ist an der Aufschlämmung-zuleitenden Leitung 56 angeordnet, und ein Überlauf-Tank 56B ist an der Aufschlämmung-zuleitenden Leitung 56 zwischen dem Aufschlämmungs-Zirkulationstank 50 und der Pumpe 56A angeordnet.
Das Rohr 54G zum Einleiten von zurückgewonnener Aufschlämmung an dem Zyklon 54A und das Rohr 54H zum Einleiten zurückgewonnener Aufschlämmung an dem Zyklon 54B stehen über eine Aufschlämmungs-Rückführungs-Leitung 58a und eine Aufschlämmungs-Rückführungs-Leitung 58b mit dem Aufschlämmungs-Zirkulationstank 50 in Verbindung.
Eine abtragendes Mittel bzw. Abrasiv-Mittel nachfüllende Leitung 62, die das Abrasiv-Mittel nachfüllt, und eine Wasser nachfüllende Leitung 64, die Wasser nachfüllt, werden an dem Aufschlämmungs-Zirkulationstank 50 vorgesehen.
Ein Rohr 54i zum Ablassen von Aufschlämmung mit Teilchen kleinen Durchmessers an dem Zyklon 54a ist mit dem Aufschlämmung-einleitenden Rohr 54F an dem Zyklon B verbunden. Das Rohr 54J zum Ablassen von Aufschlämmung mit Teilchen kleinen Durchmessers an dem Zyklon 54B ist mit einer Abwasser-Leitung 60 verbunden.
Nachfolgend wird der Betrieb der Herstell-Vorrichtung beschrieben, die in 2 gezeigt ist.
Das Aluminium-Gewebe W wird in Richtung von Pfeil a durch eine Transport-Vorrichtung (nicht gezeigt) transportiert und wird in die Bürsten-Körnungs-Bearbeitungs-Vorrichtung 2 durch die auf der stromaufwärts gelegenen Seite angebrachten Leit-Walzen 30A, 30B geleitet.
Die abtragende bzw. Abrasiv-Mittel umfassende Aufschlämmung in dem Aufschlämmungs-Zirkulationstank 50 wird von der ersten Sprüh-Vorrichtung 18 für abtragendes Mittel auf die Oberfläche des Aluminium-Gewebes W aufgebracht, das in die Bürsten-Körnungs-Verarbeitungs-Vorrichtung 2 geleitet wird.
Im Rahmen der vorliegenden Ausführungsform ist der mittlere Teilchendurchmesser der abtragenden bzw. Abrasiv-Teilchen in der abtragenden Aufschlämmung von 10 bis 70 μm und liegt vorzugsweise bei 25 bis 50 μm. Wenn der mittlere Teilchen-Durchmesser der abtragenden Teilchen in diesen Bereich fällt, wird ein Lithographie-Druckplattenträger erhalten, der der Träger einer PS-Platte mit besonders ausgezeichneten Druckeigenschaften und dem Vermögen wird, wiederholten Druckvorgängen standzuhalten.
Das Aluminium-Gewebe W, auf das die abtragende Aufschlämmung von der ersten Sprüheinrichtung 18 für ein abtragendes Mittel geleitet wurde, tritt zwischen der umlaufenden Bürste 8 und den Stütz-Walzen 12A, 12B hindurch, und seine Oberfläche wird mechanisch durch die Bürstenborsten 8A der Walzen-Bürste 8 bzw. umlaufenden Bürste 8 abgetragen.
Eine abtragende Aufschlämmung, die dieselbe ist wie diejenige, die von der ersten Sprüheinrichtung 18 für ein abtragendes Mittel zugeführt wurde, wird von der zweiten Sprüheinrichtung 20 für ein abrasives Mittel auf die Oberfläche des Aluminium- Gewebes W geleitet, die mechanisch durch die Walzen-Bürste 8 abgetragen wurde. Das Aluminium-Gewebe W, auf das die abtragende Aufschlämmung von der zweiten Sprüheinrichtung 20 für ein abtragendes Mittel geleitet wurde, tritt zwischen der Walzen-Bürste 10 und den Stütz-Walzen 14A, 14B hindurch, und seine Oberfläche wird mechanisch durch die Bürstenborsten 10A der Walzen-Bürste 10 abgetragen.
Das Aluminium-Gewebe W, dessen Oberfläche durch die Walzen-Bürsten 8, 10 abgetragen wurde, tritt als nächstes zwischen der Vorab-Spül-Sprüheinrichtung 24 und der Vorab-Spül-Sprüheinrichtung 26 hindurch. Aufgrund des auf die Oberflächenseite des Aluminium-Gewebes W von den Vorab-Spül-Sprüheinrichtungen 24, 26 gesprühten Waschwassers wird die überwiegende Menge der abtragenden Aufschlämmung, die auf der vorderen Oberfläche und der rückseitigen Oberfläche des Aluminium-Gewebes W bei dem oben beschriebenen Schritt des mechanischen Abtragens gehaftet hat, abgewaschen.
Das Aluminium-Gewebe W tritt als nächstes zwischen den Wasser-Abquetsch-Walzen 28A, 28B hindurch, und die Wassertropfen und dergleichen, die auf der vorderen Oberfläche und der rückseitigen Oberfläche haften, werden abgequetscht.
Das Aluminium-Gewebe W, das zwischen den Wasser-Abquetsch-Walzen 28A, 28B hindurchgeführt wurde, wird an der Außenseite des Gehäuses 16 durch die auf der stromabwärtig gelegenen Seite angeordneten Führungs-Walzen 32A, 32B geleitet. Als nächstes wird das Aluminium-Gewebe W in das Gehäuse 34 bei der Spül-Vorrichtung 4 über die auf der stromaufwärts angeordnete Leit-Walze 36 geleitet, und Waschwasser wird auf seine Vorderfläche und seine Rückfläche von den Spül-Sprüheinrichtungen 42 gesprüht. Der Spülprozeß in dem Herstellungs-Verfahren der vorliegenden Erfindung wird dadurch durchgeführt.
Das Aluminium-Gewebe W, das in der Spül-Vorrichtung 4 gespült wurde, wird durch die auf der stromabwärts gelegenen Seite angeordnete Leit-Walze 40 zu einem Nach- Prozeß geleitet, z. B. zu einer Ätz-Vorrichtung (nicht gezeigt), wo ein Ätz-Prozeß durchgeführt wird.
Die Abrasiv-Aufschlämmungs-Abfall-Flüssigkeit, die die abtragende Aufschlämmung, die von der ersten Sprüheinrichtung 18 für ein abtragendes Mittel und der zweiten Sprüheinrichtung 20 für ein abtragendes Mittel zugeführt wurde, das Waschwasser von den Vorab-Spül-Sprüheinrichtungen 24, 26 und die abtragende Aufschlämmung, die von der vorderen Fläche und der rückseitigen Fläche des Aluminium-Gewebes W abgespült wurde, werden im unteren Abschnitt des Gehäuses 16 gemischt und strömen nach unten in den Aufschlämmungs-Zirkulationstank 50 durch die Leitung 52. So wird die Abrasiv-Aufschlämmungs-Abfall-Flüssigkeit in die abtragende Aufschlämmung in dem Aufschlämmungs-Zirkulationstank 50 eingemischt.
Die Abrasiv-Aufschlämmungs-Abfall-Flüssigkeit schließt als Teilchen mit kleinem Durchmesser fein gemahlene Abrasiv-Teilchen ein, die abtragende Teilchen sind, die durch mechanisches Abtragen bei der Bürsten-Körnungs-Verarbeitungs-Vorrichtung 2 in der Weise gemahlen wurden, dass deren Teilchen-Durchmesser verringert wurden, und Abrasiv-Mittel-Bodensatz, der während des Abtragens gebildet wurde, und dergleichen. So werden Teilchen mit kleinem Durchmesser in die abrasive Aufschlämmung in dem Aufschlämmungs-Zirkulationstank 50 eingemischt.
Die Abrasiv-Mittel-Aufschlämmung innerhalb des Aufschlämmungs-Zirkulationstank 50 wird von dem Aufschlämmungs-Einleitungs-Rohr 54E in den Zyklon 54A durch die Pumpe 56A über den Überlauftank 56B eingeleitet.
Wie oben beschrieben, wird das Aufschlämmungs-Einleitungs-Rohr 54E in einer tangentialen Richtung des Zyklon-Hauptköpers 54A vorgesehen. So wird in der in den Zyklon-Hauptköper 54A eingeleiteten Abrasiv-Mittel-Aufschlämmung ein Strom erzeugt, der um die Achse des Zyklon-Hauptköpers 54A umläuft. Dementsprechend bewegt sich der überwiegende Teil der Teilchen mit großem Durchmesser, wie die Abrasiv-Mittel-Teilchen in der Abrasiv-Mittel-Aufschlämmung und dergleichen, in Rich tung auf die Wandungsfläche des Zyklon-Hauptköpers 54A, und die überwiegende Menge der Teilchen mit kleinem Durchmesser versammelt sich im zentralen Bereich des Zyklon-Hauptköpers 54A. Auf diese Weise kann die überwiegende Menge der Teilchen mit kleinem Durchmesser von der Abrasiv-Mittel-Aufschlämmung entfernt werden. Die Abrasiv-Mittel-Aufschlämmung, von der die Mehrheit der Teilchen mit kleinem Durchmesser entfernt wurde, wird von dem Aufschlämmungs-Ausleit-Rohr 54G durch die Aufschlämmungs-Rückführungs-Leitung 58a dem Aufschlämmungs-Zirkulationstank 50 wieder zugeleitet.
Die Aufschlämmung, die von dem Aufschlämmungs-Ableit-Rohr 54i an dem Zyklon 54A abgeleitet wird, wird in das Aufschlämmungs-Einleit-Rohr 54F des Zyklons 54B geleitet. Von der oben beschriebenen Aufschlämmung wird die Abrasiv-Mittel-Aufschlämmung, von der Teilchen mit kleinem Durchmesser in dem Zyklon 54B entfernt wurden, wird von dem Aufschlämmungs-Ableit-Rohr 54H durch das Aufschlämmungs-Rückführungs-Rohr 58b in den Aufschlämmungs-Zirkulationstank 50 zurückgeführt.
Die Teilchen in der Aufschlämmung, die in dem Zyklon 54B abgetrennt wurden, sind fast ausschließlich Teilchen mit kleinem Durchmesser und werden an das Äußere des Systems von dem Aufschlämmungs-Abgabe-Rohr 54J durch die Aufschlämmungs-Abgabe-Leitung 60 abgeleitet.
Abtragende Teilchen und Wasser können dem Abrasiv-Mittel-Zirkulationstank 50 über die Abrasiv-Mittel-Nachfüll-Leitung 62 und die Wasser-Nachfüll-Leitung 64 nachgefüllt werden, wenn dies erforderlich ist, so dass die Konzentration an abtragendem Mittel und die Teilchengrößen-Verteilung des abtragenden Mittels in der Abrasiv-Mittel-Aufschlämmung in dem Abrasiv-Mittel-Zirkulationstank 50 konstant sind.
Der mittlere Teilchen-Durchmesser der Teilchen mit kleinem Durchmesser, die in dem Zyklon 54B abgetrennt werden, ist ein Drittel bis ein Zehntel des mittleren Teilchen-Durchmessers der Abrasiv-Teilchen in der abtragenden Aufschlämmung. In diesem Fall ist der mittlere Teilchen-Durchmesser der Abrasiv-Teilchen in der abtragenden Aufschlämmung beispielsweise der mittlere Teilchen-Durchmesser der abtragenden Aufschlämmung, die in die abtragende Aufschlämmung in dem Aufschlämmungs-Zirkulationstank 50 eingeschlossen ist. Die Beziehung zwischen dem mittleren Teilchen-Durchmesser der abtragenden Teilchen in der abtragenden Aufschlämmung und dem mittleren Teilchen-Durchmesser der Teilchen mit kleinem Durchmesser ist in 2 gezeigt. Wie aus 2 ersichtlich ist, sind in derselben Weise wie bei den Abrasiv-Teilchen in der abtragenden Aufschlämmung die Teilchen-Durchmesser der Teilchen mit kleinem Durchmesser genauso entlang einer Normal-Kurve verteilt. Wenn angenommen wird, dass der mittlere Teilchen-Durchmesser der Abrasiv-Teilchen in der abtragenden Aufschlämmung d ist, ist der mittlere Teilchen-Durchmesser x der Teilchen mit kleinem Durchmesser d/3 bis d/10.
Die Teilchen-Verteilung der Teilchen mit kleinem Durchmesser kann beispielsweise bestimmt werden durch Messen der Teilchen-Durchmesser-Verteilung der Teilchen in der Aufschlämmung von Teilchen mit kleinem Durchmesser, die von dem Aufschlämmungs-Abgabe-Rohr 54J abgegeben wird, in Übereinstimmung mit einem üblichen Verfahren. Beispiele eines derartigen Verfahrens schließen ein Sieb-Verfahren, ein Fällungs-Verfahren, ein Lichtstreungs-Verfahren, ein Verfahren mit optischer Beugung und dergleichen ein. Der mittlere Teilchen-Durchmesser der Abrasiv-Teilchen in der abrasiven Aufschlämmung in dem Aufschlämmungs-Zirkulationstank 50 kann in derselben Weise bestimmt werden.
Wenn der mittlere Teilchen-Durchmesser der Teilchen mit kleinem Durchmesser, die in dem Zyklon 54B abgetrennt wurden, innerhalb des oben angegebenen Bereichs liegt, wird weniger abtragende Aufschlämmung verbraucht, was wirtschaftlich ist. Weiter kann deswegen, weil der mittlere Teilchen-Durchmesser der abtragenden Teilchen in der abtragenden Aufschlämmung nicht übermäßig groß wird, verhindert werden, dass die Oberflächen-Rauheit Ra des Trägers für eine Lithographie-Druckplatte übermäßig groß wird. Dementsprechend kann der Träger für die Lithographie-Druckplatte mit hoher Produktions-Stabilität hergestellt werden. Weiter weist eine PS-Platte, deren Träger der oben beschriebene Träger für eine Lithographie-Druckplatte ist, ausgezeichnete Druck-Eigenschaften und ein Vermögen auf, wiederholten Druckvorgängen standzuhalten.
Um zu erreichen, dass der mittlere Teilchen-Durchmesser der Teilchen mit kleinem Durchmesser in den oben angegebenen Bereich fällt, kann die Zuleitungs-Strömungsgeschwindigkeit und der Zuleitungs-Druck der abtragenden Aufschlämmung an den Zyklonen 54A, 54B reguliert werden. Alternativ dazu kann durch Regulieren der Teilchen-Durchmesser-Verteilung des Abrasiv-Mittels, das von der Abrasiv-Mittel-Nachfüll-Leitung 62 nachgefüllt wird, der mittlere Teilchen-Durchmesser des Abrasiv-Mittels bzw. abtragenden Mittels in der abtragenden Aufschlämmung in dem Aufschlämmungs-Zirkulationstank 50 reguliert werden.
In der oben beschriebenen Vorrichtung zur Herstellung des Lithographie-Druckplattenträgers sind zwei Zyklone in Reihe angeordnet. Jedoch kann ein Zyklon verwendet werden, oder drei oder mehr Zyklone können in Reihe angeordnet werden. Weiter können zwei oder mehr Zyklone parallel angeordnet werden.
In der oben beschriebenen Herstellungs-Vorrichtung werden die fein gemahlenen Abrasiv-Teilchen und die Abrasiv-Schwebstoffe und dergleichen in der Abrasiv-Aufschlämmungs-Abfall-Flüssigkeit als Aufschlämmung von Teilchen mit kleinem Durchmesser durch den Zyklon 54B entfernt, und die verbleibende Aufschlämmung wird wiedergewonnen und als abtragende Aufschlämmung wiederverwendet. So kann die Menge an abtragender Aufschlämmung, die verbraucht wird, verringert werden. Darüber hinaus kann die Konzentration und Teilchen-Durchmesser-Verteilung der abtragenden Teilchen in der abtragenden Aufschlämmung über einen langen Zeitraum konstant gehalten werden. So können Lithographie-Druckplattenträger, die die Träger von PS-Platten mit exzellenten Druckeigenschaften und exzellentem Vermögen, wiederholtem Drucken standzuhalten, werden, mit hoher Produktionsstabilität hergestellt werden.
Da keiner der Zyklone 54A, 54B bewegbare Teile aufweist, ist die Struktur der Vorrichtung 6 zum Rückgewinnen der Abrasiv-Aufschlämmungs-Abfall-Flüssigkeit einfach, und die Vorrichtung 6 zur Wiedergewinnung der Abrasiv-Aufschlämmungs-Abfall-Flüssigkeit fällt selten aus.
Nach der oben beschriebenen mechanischen Behandlung zur Aufrauhung der Oberfläche kann das Aluminium-Substrat wenigstens einem der Schritte Ätz-Behandlung und elektrolytische Oberflächen-Aufrauh-Behandlung unterworfen werden. Weiter kann nach einer elektrolytischen Oberflächen-Aufrauh-Behandlung das Aluminium-Substrat einer zweiten Ätz-Behandlung unterworfen werden. Alternativ dazu kann das Aluminium-Substrat die folgenden Verfahrensschritte in der folgenden Reihenfolge durchlaufen: Eine erste Ätz-Behandlung, eine erste Glatt-Matteriungs-Behandlung, eine elektrolytische Oberflächen-Aufrauh-Behandlung, eine zweite Ätz-Behandlung und eine zweite Glatt-Mattierungs-Behandlung.
B. Ätz-Behandlung
Die Ätz-Behandlung wird durchgeführt unter Verwendung eines Alkali-Mittels.
Beispiele des Alkali-Mittels sind Lösungen von Alkalimetallhydroxid (kaustischem Alkali) oder eines Alkalimetall-Salzes. Die Konzentration des Alkali-Mittels in der Lösung liegt bei 0,01 bis 30 Gew.-%, und die Temperatur liegt vorzugsweise in einem Bereich von 20 bis 90°C.
Beispiele des Alkalimetallhydroxids schließen kaustische Soda (Natriumhydroxid), kaustische Pottasche (Kaliumhydroxid) und dergleichen ein.
Beispiele des Alkalimetall-Salzes schließen ein: Alkalimetallsilicate wie beispielsweise Natriummetasilicat, Natriumsilicat, Kaliummetasilicat, Kaliumsilicat und dergleichen; Alkalimetallcarbonate wie beispielsweise Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat und dergleichen; Alkalimetallaluminate wie beispielsweise Natriumaluminat, Kaliumaluminat und dergleichen; Alkalimetallaldonate wie beispielsweise Natriumgluconat, Kaliumgluconat und dergleichen; und Alkalimetallhydrogenphosphate wie beispielsweise Natrium-sec-Phosphat, Kalium-sec-Phosphat, Natrium-tert-Phosphat, Kalium-tert-Phosphat und dergleichen. Aus Sicht einer hohen Ätz-Geschwindigkeit und niedriger Kosten ist eine kaustische Alkali-Lösung (Alkalimetallhydroxid-Lösung) besonders bevorzugt als das alkalische Mittel.
Die Menge des Ätzens beträgt vorzugsweise 0,1 bis 20 g/m² und besonders bevorzugt 1 bis 15 g/m² und am meisten bevorzugt 2 bis 10 g/m². Die Ätz-Zeit liegt bevorzugt bei 5 s bis 5 min.
Wenn die Ätz-Menge und Ätz-Zeit innerhalb der oben angegebenen Bereiche liegen, werden die abgeschabten feinteiligen Niederschläge, die bei der mechanischen Oberflächen-Aufrauh-Behandlung erzeugt wurden, und der Film, der auf der Oberfläche des Aluminium-Substrats verbleibt, und dergleichen gelöst und entfernt. Jedoch bleiben die extrem großen Wellen und großen Wellen zurück, ohne abgeflacht zu werden, was bevorzugt ist.
Die Ätz-Behandlung kann durchgeführt werden unter Verwendung eines Ätz-Tanks, wie er üblicherweise bei einer Ätz-Behandlung eines Aluminium-Substrats verwendet wird. Der Ätz-Tank kann entweder ein Tank des Batch-Typs oder ein Tank des kontinuierlichen Typs sein.
Eine erste Glatt-Mattierungs-Behandlung, die die restlichen feinteiligen Niederschläge entfernt, die auf der Oberfläche des Aluminium-Substrats zurückbleiben und die nicht in der Alkali-Lösung benötigt werden, kann durchgeführt werden zwischen der Ätz-Behandlung und der nachfolgenden Behandlung zur Aufrauhung der Oberfläche durch Elektrolyse. Die erste Glatt-Mattierungs-Behandlung kann beispielsweise durchgeführt werden unter Spülen des Aluminium-Substrats, das einer Ätz-Behandlung unterzogen wurde, und anschließendes Bearbeiten des Aluminium-Substrats mit einer starken Säure wie beispielsweise Salpetersäure, Phosphorsäure, Schwefelsäure, Chromsäure oder dergleichen, oder einer Mischung daraus.
C. Elektrolytische Oberflächen-Aufrauh-Behandlung
Bei der elektrolytischen Oberflächen-Aufrauh-Behandlung wird das Aluminium-Substrat, das in dem oben beschriebenen Schritt des chemischen Ätzens geätzt wurde, beispielsweise durch Anwendung eines Wechselstroms auf eine saure elektrolytische Lösung einer Wechselstrom-Elektrolyse unterworfen.
Ein Beispiel der sauren elektrolytischen Lösung ist eine elektrolytische Lösung, die wenigstens eine der Säuren Schwefelsäure, Chlorwasserstoffsäure und Salpetersäure enthält. Die Konzentration der Schwefelsäure, Chlorwasserstoffsäure und Salpetersäure in der sauren elektrolytischen Lösung kann in passender Weise bestimmt werden in Übereinstimmung mit den Bedingungen der Elektrolyse oder dergleichen, liegt jedoch vorzugsweise bei insgesamt 0,3 bis 15 Gew.-%. Die saure elektrolytische Lösung kann auch eine organische Säure wie beispielsweise Oxalsäure, Essigsäure, Citronensäure, Weinsäure, Milchsäure oder dergleichen, Phosphorsäure, Chromsäure, Nitrate, Chloride, Amine und Aldehyde enthalten, sofern dies nötig ist. Die saure elektrolytische Lösung kann Aluminium-Ionen einschließen, jedoch liegt der Gehalt an Aluminium-Ionen vorzugsweise bei 50 g/l oder weniger. Die Temperatur der sauren elektrolytischen Lösung kann auch in passender Weise in Übereinstimmung mit den Bedingungen der Elektrolyse oder dergleichen eingestellt werden, liegt jedoch vorzugsweise bei 30 bis 80°C.
Die Frequenz des Wechselstroms, der an das Aluminium-Substrat angelegt wird, liegt vorzugsweise bei 0,1 bis 100 Hz. Die Spannung ist vorzugsweise 10 bis 50 V, bei Anoden-Zeit-Spannung als Referenz. Die Kathoden-Zeit-Spannung kann dieselbe sein wie die Anoden-Zeit-Spannung, oder sie kann geringer sein als die Anoden-Zeit-Spannung.
Die Stromdichte liegt vorzugsweise bei 5 bis 100 A/dm², und die Elektrizitätsmenge an der Anode ist vorzugsweise 150 bis 600 C/dm².
Der Wechselstrom kann ein sinusartiger Wellen-Strom sein, oder kann ein Rechteckswellen-Strom sein. Alternativ kann der Wechselstrom ein trapezförmiger Wellenstrom sein, wie er offenbart ist in der japanischen offengelegten Patentanmeldung (JP-A) Nr. 52-58602.
Es kann ein Wechselstrom-Elektrolyt-Tank des Batch-Typs oder ein Wechselstrom-Elektrolyttank des kontinuierlichen Typs bei der Wechselstrom-Elektrolyt-Behandlung verwendet werden.
Aufgrund der elektrolytischen Oberflächen-Aufrauh-Behandlung werden hauptsächlich Honigwaben-Strukturen, die Vorsprungs- und Vertiefungs-Abschnitte mit einer feineren Körnung als die großen Wellen sind, und Mikroporen, die Vorsprungs- und Vertiefungs-Abschnitte mit feinerer Körnung als die Honigwaben-Strukturen sind, hauptsächlich gebildet. Die Honigwaben-Strukturen und die Mikroporen sind hauptsächlich bezogen auf die Haftung zwischen der photoempfindlichen Schicht und dem Träger bei der PS-Platte, der Wasser-Rückhalte-Eigenschaft, der Schwierigkeit, verschmutzt zu werden, der Ausgewogenheit von Wasser und Druckfarbe, der Abriebbeständigkeit oder dergleichen. Bei Durchführen eines elektrolytischen Aufrauhens der Oberfläche unter den oben beschriebenen Bedingungen fällt die Zahl Pc der Rauheits-Vorsprünge in den Bereich, der in Anspruch 1 der vorliegenden Anmeldung vorgeschrieben ist, das heißt, dass ein Träger für eine Lithographie-Druckplatte erhalten werden kann, bei dem Honigwaben-Strukturen und Mikroporen einheitlich gebildet sind. Dementsprechend weist eine PS-Platte, die von diesem Lithographie-Druckplattenträger als Träger Gebrauch macht, eine geringe Punkte-Zunahme, eine exzellente Farbton-Reproduzierbarkeit, ein ausgezeichnetes Wasser-Rückhalte-Vermögen der Oberfläche auf und ist schwierig zu verschmutzen und hat darüber hinaus ein exzellentes Vermögen, wiederholtem Druckvorgängen standzuhalten, und weist eine ausgezeichnete Ausgewogenheit zwischen Wasser und Druckfarbe und ein gute Abriebbeständigkeit auf.
Nach der elektrolytischen Oberflächen-Aufrauh-Behandlung kann ein zweiter Ätz-Prozeß durchgeführt werden. Der zweite Ätz-Prozeß kann durchgeführt werden in einer Alkali-Lösung mit einem pH-Wert von 10 oder mehr. Ein spezielles Beispiel der Alkali-Lösung ist eine Lösung, die dieselbe Art von Alkali-Mittel enthält wie dasjenige, das oben in Verbindung mit der vorher beschriebenen Ätz-Behandlung beschrieben wurde. Die Konzentration des alkalischen Mittels in der Alkali-Lösung ist dieselbe wie diejenige, die oben in Verbindung mit der vorher beschrieben Ätz-Behandlung erwähnt wurde. Die Temperatur der Alkali-Lösung liegt vorzugsweise bei 25 bis 60°C. Die Menge des Ätzens beträgt vorzugsweise 0,1 bis 5 g/m². Die Ätz-Zeit kann in passender Weise in Übereinstimmung mit der Ätz-Menge, der Zusammensetzung der Alkali-Lösung, der Temperatur und dergleichen festgesetzt werden, und es ist beispielsweise ein Bereich von 1 bis 10 s bevorzugt.
Nachdem diese Ätz-Behandlung durchgeführt wurde, kann das Aluminium-Substrat einer zweiten Glatt-Mattierungs-Behandlung unterzogen werden, indem es in eine wässrige Schwefelsäure-Lösung einer Temperatur von 25 bis 65°C eingetaucht wird, die eine Schwefelsäure-Konzentration von 5 bis 40 Gew.-% aufweist.
2-2 Anodisierungs-Behandlung
Bei der Anodisierungs-Behandlung wird das Aluminium-Substrat, das den oben beschriebenen Behandlungen der Aufrauhung der Oberfläche unterworfen wurde, einer Anodisierungs-Behandlung in Übereinstimmung mit einem bekannten Verfahren unterzogen.
Bei der Anodisierungs-Behandlung wird ein Gleichstrom oder ein pulsierender Strom auf das Aluminium-Substrat in einer Elektrolyt-Lösung aufgebracht, die wenigstens eine Säure aus der Gruppe von beispielsweise Schwefelsäure, Phosphorsäure, Oxalsäure, und Amidosulfonsäure enthält.
Im Unterschied zu der oben erwähnten Elektrolyt-Lösung ist ein Beispiel der Elektrolyt-Lösung, die bei der Anodisierungs-Behandlung verwendet wird, eine Lösung, die Aluminium-Ionen und wenigstens eine der Säuren Schwefelsäure, Phosphorsäure, Oxalsäure, Chromsäure und Amidosulfonsäure enthält.
Die Konzentration der Elektrolyte in der Elektrolyt-Lösung liegt vorzugsweise bei 1 bis 80 Gew.-%, und die Temperatur ist vorzugsweise 5 bis 70°C.
Die Anodisierungs-Behandlung wird vorzugsweise so durchgeführt, dass die Menge des anodisierten Films 0,1 bis 10 g/m² beträgt. Die Stromdichte ist vorzugsweise 0,5 bis 60 A/dm², und die Spannung ist vorzugsweise 1 bis 100 V. Die Elektrolyse-Zeit liegt vorzugsweise bei 1 s bis 5 min.
Bei dem Lithographie-Druckplattenträger, der einer Anodisierungs-Behandlung unterzogen wurde, so dass die Menge des anodisierten Films in den oben genannten Bereich fällt, ist ein anodisierter Film mit einer ausreichenden Dicke und Härte einheitlich auf der Oberfläche gebildet. So weist eine PS-Platte, die Gebrauch von diesem Lithographie-Druckplattenträger als Träger macht, eine ausgezeichnete Abriebbeständigkeit der Nicht-Bild-Bereiche auf.
3. PS-Platte
Die PS-Platte gemäß der vorliegenden Erfindung wird hergestellt durch Bilden einer photoempfindlichen Schicht auf der Oberfläche des oben beschriebenen Lithographie-Druckplattenträgers, die einer Oberflächen-Aufrauh-Behandlung unterworfen wurde und auf der ein anodisierter Film gebildet wurde.
Die photoempfindliche Schicht kann gebildet werden durch Aufbringen einer Lösung eines photoempfindlichen Harzes, die ein photoempfindliches Harz enthält, auf die vorstehend genannte Oberfläche des Lithographie-Druckplattenträgers, und Trocknen der aufgebrachten Lösung an einem dunklen Platz.
Beispiele des photoempfindlichen Harzes sind ein photoempfindliches Harz des Positiv-Typs, das sich in einer Entwicklungs-Lösung löst, wenn Licht darauf aufgebracht wird, und ein photoempfindliches Harz des Negativ-Typs, das sich nicht in einer Entwicklungs-Lösung löst, wenn Licht darauf aufgebracht wird.
Beispiele des photoempfindlichen Harzes des Positiv-Typs sind Kombinationen aus Diazid-Verbindungen wie beispielsweise eine Chinondiazid-Verbindung oder eine Naphthochinondiazid-Verbindung und ein Phenol-Harz wie beispielsweise ein Phenol-Novolack-Harz oder ein Cresol-Novolack-Harz oder dergleichen.
Beispiele des photoempfindlichen Harzes des Negativ-Typs sind Kombinationen einer Diazo-Verbindung wie beispielsweise ein Diazo-Harz (z. B. ein Kondensationsprodukt aus einem aromatischen Diazonium-Salz und einem Aldehyd wie beispielsweise Formaldehyd) und einem Bindemittel wie beispielsweise ein (Meth-) Acrylat-Harz, Polyamid-Harz, Polyurethan oder dergleichen; Kombinationen eines Vinylpolymers wie beispielsweise ein (Meth-) Acrylat-Harz oder Polystyrol-Harz und ein Vinyl-Monomer wie beispielsweise ein (Meth-) Acryl-Ester oder Styrol und einem Photopolymerisationsinitiator wie beispielsweise einem Benzoin-Derivat, einem Benzophenon-Derivat oder einem Thioxanthon-Derivat und dergleichen.
Ein Beispiel der Lösung in der Lösung des photoempfindlichen Harzes ist eine Lösung, die das photoempfindliche Harz löst und die bei Raumtemperatur in einem gewissen Umfang flüchtig ist. Spezielle Beispiele schließen Alkohol-Lösungsmittel, Keton-Lösungsmittel, Ester-Lösungsmittel, Ether-Lösungsmittel, Glycolether-Lösungsmittel, Amid-Lösungsmittel und Carbonat-Lösungsmittel ein.
Beispiele des Alkohol-Lösungsmittels sind Ethanol, Propanol, Butanol und dergleichen. Beispiele des Keton-Lösungsmittels sind Aceton, Methylethylketon, Methylpropylketon, Methylisopropylketon, Diethylketon und dergleichen. Beispiele des Ester-Lösungsmittels schließen Ethylacetat, Propylacetat, Methylformiat, Ethylformiat und dergleichen ein. Beispiele des Ether-Lösungsmittels schließen Tetrahydrofuran, Dioxan und dergleichen ein. Beispiele des Glycolether-Lösungsmittels schließen Ethylcellosolve, Methylcellosolve, Butylcellosolve und dergleichen ein. Beispiele des Amid-Lösungsmittels schließen Dimethylformamid, Dimethylacetamid und dergleichen ein. Beispiele des Carbonat-Lösungsmittels schließen Ethylencarbonat, Propylencarbonat, Diethylcarbonat, Dibutylcarbonat und dergleichen ein.
Irgendeines von verschiedenen Färbemitteln kann in die Lösung des photoempfindlichen Harzes einkompoundiert werden. Anders als übliche Farbstoffe kann ein bei Belichtung Farbe bildender Farbstoff, der Farbe bei Belichtung bildet, und ein bei Belichtung entfärbender Farbstoff, der bei Belichtung nahezu achromatisch oder vollständig achromatisch (farblos) wird, als Färbemittel verwendet werden. Beispiele der bei Belichtung Farbe bildenden Farbstoffe schließen Leuko-Farbstoffe und dergleichen ein. Beispiele der sich bei Belichtung entfärbenden Farbstoffe schließen Triphenylmethan-Farbstoffe, Diphenylmethan-Farbstoffe, Oxazin-Farbstoffe, Xanthen-Farbstoffe, Iminonaphthochinon-Farbstoffe, Azomethin-Farbstoffe, Anthrachinon-Farbstoffe und dergleichen ein.
Die PS-Platte der vorliegenden Erfindung wird in Übereinstimmung mit den folgenden Prozessen hergestellt:
Als erstes wird – sofern dies nötig ist – der Lithographie-Druckplattenträger in eine wässrige Lösung eines Alkalimetallsilicats wie beispielsweise von Natriumsilicat oder Kaliumsilicat oder dergleichen eingetaucht, um dessen Oberfläche einer Hydrophilisierungs-Behandlung zu unterziehen, wie dies in den US-Patenten Nrn. 2,714,066 und 3,181,461 offenbart ist. Alternativ dazu wird – sofern dies erforderlich ist – eine hydrophile Unter-Beschichtungsschicht auf dem Lithographie-Druckplattenträger gebildet, indem man darauf eine hydrophile Verbindung aufbringt, die eine NH₂-Gruppe, eine COOH-Gruppe und eine Sulfon-Gruppe aufweist, oder indem man darauf ein Copolymer eines Vinyl-Monomers aufbringt, das eine Sulfonsäure-Gruppe wie beispielsweise eine p-Styrol-Sulfonsäure-Gruppe aufweist, die eine Sulfonsäure-Gruppe aufweist, und ein übliches Vinyl-Monomer wie beispielsweise Acrylester (Meth-) Acrylat oder dergleichen, wie dies in den Druckschriften JP-A Nr. 59-101,651 und 60-149,491 offenbart ist.
Als nächstes wird – wie oben beschrieben – eine Lösung eines photoempfindlichen Harzes auf die Oberfläche des Lithographie-Druckplattenträgers aufgebracht, die einer Oberflächen-Aufrauh-Behandlung unterzogen worden war und auf der ein anodisierter Film gebildet worden war, und die aufgebrachte Lösung wird an einem dunklen Platz getrocknet, so dass eine photoempfindliche Schicht gebildet wird.
Beispiele des Verfahrens zur Aufbringung der Lösung eines photoempfindlichen Harzes schließen herkömmlicherweise bekannte Verfahrensweisen wie beispielsweise ein Walzen-Beschichtungsverfahren, ein Drahtbarren-Beschichtungsverfahren, ein Eintauch-Beschichtungsverfahren, ein Luftmesser-Beschichtungsverfahren, ein Walzen-Beschichtungsverfahren, ein Platten-Beschichtungsverfahren und dergleichen ein.
Nachdem die PS-Platte in eine passende Größe geschnitten wurde, wie sie benötigt wird, werden eine Belichtung und eine Entwicklung durchgeführt, um eine Druckplatte zu bilden. Die Belichtung und Entwicklung können in Übereinstimmung mit denselben Verfahren durchgeführt werden, wie sie bei herkömmlicherweise bekannten PS-Platten angewendet werden.
Beispiele
Nachfolgend wird die vorliegende Erfindung speziell unter Verwendung der Beispiele beschrieben.
1. Herstellung eines Lithographie-Druckplattenträgers
Beispiele 1 bis 6, Vergleichbeispiele 1 bis 8
1-1 Oberflächen-Aufrauh-Behandlung
A. Mechanische Oberflächen-Aufrauh-Behandlung
Eine Oberfläche eines Aluminium-Substrats (eine Aluminium-Platte einer Dicke von 0,3 mm) wurde einer mechanischen Oberflächen-Aufrauh-Behandlung unter Verwendung der abtragenden Vorrichtung unterzogen, wie sie in 1 gezeigt ist. Eine Nylonbürste Nr. 8 wurde als Walzen-artige Bürste verwendet. Die Nylonbürste Nr. 8 hatte einen Außendurchmesser von 600 mm, einen Bürsten-Borsten-Durchmesser von 0,5 nun, eine Bürsten-Borsten-Länge von 50 mm und eine Borsten-Einbettungsdichte von 400 Borsten/cm². Der abtragende Druck betrug 0,5 A/100 mm, und die Umfangsgeschwindigkeit der Walzen-artigen Bürste betrug 470 m/min.
Zum Zeitpunkt der mechanischen Oberflächen-Aufrauh-Behandlung wurden in den Beispielen 1 bis 3 und den Vergleichsbeispielen 1 bis 5 Teilchen als abtragende Teilchen verwendet, deren Haupt-Komponente SiO₂ war, die einen mittleren Teilchen-Durchmesser von 20 μm hatten, worin der Anteil von Teilchen mit einem Teilchen-Durchmesser von 100 μm oder mehr 2 Gew.-% betrug und worin der Anteil an Teilchen mit einem Teilchen-Durchmesser von 500 μm oder mehr 0 Gew.-% betrug.
In den Beispielen 4 bis 6 wurden abtragende Teilchen verwendet, deren Hauptkomponente SiO₂ war und deren mittlerer Teilchen-Durchmesser und Anteil der Teilchen mit einem Teilchen-Durchmesser von 100 μm oder mehr und von Teilchen mit einem Teilchen-Durchmesser von 500 μm oder mehr so war, wie dies in Tabelle 1 angegeben ist. In den Vergleichsbeispielen 6 bis 8 wurden abtragende Teilchen verwendet, deren Haupt-Komponente SiO₂ war und deren mittlerer Teilchen-Durchmesser und Anteil der Teilchen mit einem Teilchen-Durchmesser von 100 μm oder mehr und von Teilchen mit einem Teilchen-Durchmesser von 500 μm oder mehr so war, wie das in Tabelle 2 angegeben ist.
Eine abtragende Aufschlämmung, in der die abtragenden Teilchen in Wasser in einer Menge von 400 g/l suspendiert waren, wurde auf die abzutragende Oberfläche der Aluminium-Platte von Sprühdüsen für das abtragende Mittel in einer Menge von 200 l/min für jede Sprühdüse aufgebracht. Die Transport-Geschwindigkeit des Aluminium-Substrats betrug 30 m/min.
B. Ätz-Behandlung
Das Aluminium-Substrat, das der mechanischen Oberflächen-Aufrauh-Behandlung unterworfen worden war, wurde dazu gebracht, mit der vorgenannten Zufuhr-Geschwindigkeit durch einen Ätz-Tank des kontinuierlichen Typs hindurchzulaufen, in dem eine Natriumhydroxid-Lösung in einer Konzentration von 10 Gew.-% und bei einer Flüssigkeits-Temperatur von 60°C gespeichert wurde, und die Ätz-Behandlung wurde so durchgeführt, dass die Ätz-Menge 10 g/m² betrug.
Das Aluminium-Substrat wurde nach der Ätz-Behandlung gespült, indem man es dazu brachte, durch einen Wassertank hindurchzulaufen, und wurde dann dazu gebracht, durch einen Glatt-Mattierungs-Prozeß-Tank des kontinuierlichen Typs zu laufen, in dem eine wässrige Schwefelsäure-Lösung in einer Konzentration von 30 Gew.-% und einer Flüssigkeits-Temperatur von 60°C gespeichert wurde, so dass die erste Glatt-Mattierungs-Behandlung durchgeführt wurde.
C. Elektrolytische Oberflächen-Aufrauh-Behandlung
Eine verdünnte Salpetersäure einer Konzentration von 2 Gew.-% und einer Flüssigkeits-Temperatur von 40°C wurde als saure Elektrolyt-Lösung verwendet. Eine elektrolytische Oberflächen-Aufrauh-Behandlung wurde durchgeführt, während man das Aluminium-Substrat nach der Glatt-Mattierungs-Behandlung dazu brachte, kontinuierlich durch die saure Elektrolyt-Lösung zu laufen, indem das Aluminium-Substrat einer Wechselstrom-Elektrolyse durch Anlegen eines Wechselstroms einer Frequenz von 60 Hz, einer Strom-Dichte von 20 A/dm², einer Anoden Elektrizitätsmenge von 200 C/cm² und einer Spannung von 20 V unterworfen wurde.
Das Aluminium-Substrat, das der elektrolytischen Oberflächen-Aufrauh-Behandlung unterzogen worden war, ließ man dann kontinuierlich durch eine Natriumhydroxid-Lösung einer Konzentration von 10 Gew.-% und einer Flüssigkeits-Temperatur von 35°C hindurchlaufen, so dass die Menge des Ätzens 1,5 g/m² betrug, und dadurch wurde die zweite Ätz-Behandlung durchgeführt. Das Aluminium-Substrat, das der zweiten Ätz-Behandlung unterzogen worden war, wurde gespült und wurde dann kontinuierlich durch eine verdünnte Schwefelsäure einer Konzentration von 30 Gew.-% und einer Flüssigkeits-Temperatur von 60°C hindurchgeführt, so dass die zweite Glatt-Mattierungs-Behandlung durchgeführt wurde.
1-2 Anodisierungs-Behandlung
Das Aluminium-Substrat wurde nach den Oberflächen-Aufrauh-Behandlungsschritten kontinuierlich in eine verdünnte Schwefelsäure-Lösung einer Konzentration von 10 Gew.-% und einer Flüssigkeits-Temperatur von 30°C eingetaucht. Ein Gleichstrom (DC) von 40 Volt wurde derart angelegt, dass die Stromdichte 10 A/dm² betrug. Eine Anodisierungs-Behandlung wurde so durchgeführt, dass die Menge des anodisierten Films 2 g/m² betrug, und es wurde so ein Lithographie-Druckplattenträger hergestellt.
Für die Beispiele 1 bis 3 und die Vergleichsbeispiele 1 bis 5 wurde die Oberflächen-Rauheit der Oberfläche des Lithographie-Druckplattenträgers, der in Übereinstimmung mit den oben beschriebenen Verfahrensschritten hergestellt worden war und dessen Oberfläche eine Oberflächen-Aufrauh-Behandlung und Anodisierungs-Behandlung unterworfen worden war, unter Verwendung eines Oberflächen-Rauheits-Meßgeräts messen (hergestellt von der Firma Tokyo Seimitsu Co., Ltd.; Handelsname: SURFCOM 47057A^®; Stift: 2 μmR). Aus diesen Ergebnissen wurden bestimmt: Die Oberflächen-Rauheit Ra, die maximale Rauheit Rmax, die Zahl Pc der Rauheits-Vorsprünge von Vorsprüngen mit einer Vorsprungs-Höhe, die größer war als der gesetzte Wert von 0,3 μm und einer Vertiefungs-Tiefe, die tiefer war als der gesetzte Wert von –0,3 μm; die Zahl Pc der Rauheits-Vorsprünge von Vorsprüngen mit einer Vorsprungs-Höhe, die größer war als der gesetzte Wert +0,6 μm und eine Vertiefungs-Tiefe, die tiefer war als der gesetzte Wert von –0,6 μm; und die Zahl Pc von Rauheits-Vorsprüngen von Vorsprüngen mit einer Vorsprungs-Höhe, die größer war als der gesetzte Wert +1,0 μm und einer Vertiefungs-Tiefe, die tiefer war als der gesetzte Wert von –1,0 μm. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt.
2. Herstellung einer PS-Platte
Der wie oben beschrieben hergestellte Lithographie-Druckplattenträger wurde für 30 s in eine Natriumsilicat-Lösung einer Konzentration von 3 Gew.-% und einer Flüssigkeits-Temperatur von 70°C eingetaucht, so dass die Oberfläche hydrophil gemacht wurde.
Als nächstes wurde eine Lösung eines photoempfindlichen Harzes, das die folgende Zusammensetzung aufwies, in einer Beschichtungsmenge von 1,5 g/m² so aufgebracht, dass eine photoempfindliche Schicht gebildet wurde.

(a) Eine Ester-Verbindung aus 1,2-Diazonaphthochinon-5-sulfonylchlorid und Pyrogallol-Aceton-Harz (angegeben in Beispiel 1 des US-Patents Nr. 3,635,709): 0,8 g;
(b) ein Novolack-Harz I, das durch die folgende Struktur-Formel I wiedergegeben wird: 1,5 g;
(c) ein Novolack-Harz II, das durch die folgende Struktur-Formel II wiedergegeben wird: 0,2 g;
(d) ein Novolack-Harz III, das durch die folgende Struktur-Formel III wiedergegeben wird: 0,4 g;
(e) 2-n-Octylphenol-Formaldehyd-Harz (Bezug genommen im US-Patent Nr. 4,123,279): 0,02 g;
(f) Naphthochinon-1,2-diazid-4-sulfonylchlorid: 0,01 g;
(g) Tetrahydrophthalsäureanhydrid: 0,02 g;
(h) Benzoesäure: 0,02 g;
(i) Pyrogallol: 0,05 g;
(j) 4-[p-N,N-Bis(Ethoxycarbonylmethyl-)aminophenyl-]2,6-bis(trichlormethyl-) S-triazin: 0,07 g;
(k) ein Farbstoff, in dem das Gegen-Anion von Victoria Pure Blue (hergestellt von der Firma Hodogaya Chemical Co., Ltd.) ersetzt wurde durch 1-Naphthalinsulfonsäure: 0,045 g;
(l) Tensid auf Fluor-Basis (Handelsname: F176PF^®, hergestellt von der Firma Dainippon Ink & Chemicals, Inc.): 0,01 g;
(m) Methylethylketon: 15 g
(n) 1-Methoxy-2-propanol: 10 g.

Struktur-Formel I
Struktur-Formel II
Struktur-Formel III
3. Bewertung der Druckeigenschaften
Die oben beschriebene PS-Platte wurde 1 min lang durch eine Metallhalogenid-Lampe von 3 kW aus einer Entfernung von 1 m belichtet.
Die belichtete PS-Platte wurde bei 30°C für 12 s durch einen PS-Prozessor (Handelsname: 900 VR^®, hergestellt von der Firma Fuji Photo Film Co., Ltd., unter Verwendung einer Entwicklungs-Lösung A und einer Entwicklungs-Lösung B entwickelt, die die folgenden Zusammensetzungen hatten:
Zusammensetzung der Entwicklungs-Lösung A

(a) Sorbitol: 5,1 Gewichts-Teile;
(b) Natriumhydroxid: 1,1 Gewichts-Teile;
(c) Triethanolamin-Ethylenoxid-Additionsverbindung (30 Mol): 0,03 Gewichts-Teile;
(d) Wasser: 93,8 Gewichts-Teile.

Zusammensetzung der Entwicklungs-Lösung B

(a) wässrige Natriumsilicat-Lösung, deren Mol-Verhältnis [SiO₂/Na₂O] 1,2 war und die SiO₂ in einer Menge von 1,4 Gew.-% enthielt;
(b) Ethylendiamin-Ethylenoxid-Additionsverbindung (30 Mol): 0,03 Gewichts-Teile.

Das Vermögen, wiederholtem Drucken standzuhalten, und die Leichtigkeit des Verschmutzens der PS-Platte, die wie oben beschrieben bearbeitet worden war, wurden bewertet in Übereinstimmung mit den folgenden Verfahrensschritten. Die Ergebnisse sind in den Tabellen 1 und 2 gezeigt.
Vermögen, wiederholtem Drucken standzuhalten:
Ein Druckvorgang wurde durchgeführt unter Verwendung eines Druckers (Handelsname: LITHRONE26^®; hergestellt von der Firma Komori Insasuki KK), und das Vermögen, wiederholtem Drucken standzuhalten, wurde bewertet durch die Zahl von Blättern, bis ein normales Drucken nicht mehr länger ausgeführt werden konnte. Je höher die Zahl der Blätter, desto besser ist das Vermögen, einem wiederholtem Drucken standzuhalten.
Leichtigkeit des Verschmutzens
Nachdem 1.000 Blatt unter Verwendung eines Druckers (Handelsname: Daiya 1F-2^®; hergestellt von der Firma Mitsubishi Heary Industries, Ltd.) gedruckt worden waren, wurde das Drucken angehalten, und die PS-Platte wurde entfernt. Man ließ die PS-Platte, die von dem Drucker entfernt worden war, 30 min lang stehen. Danach wurde die PS-Platte wieder in den Drucker eingesetzt, und 100 Blatt wurden gedruckt. Das Verschmutzen der Druckwalzen-Trommel in dem Drucker zu diesem Zeitpunkt (Druckwalzen-Verschmutzung) und das Verschmutzen der Oberfläche des gedruckten Blatts (Punkt-Verschmutzung) wurden beobachtet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt. In Tabelle 1 bedeuten die Ausdrücke „0,3-0,3", „0,6-0,6" und „1,0-1,0" jeweils die Vorsprünge, die eine Vorsprungs-Höhe aufweisen, die größer ist als der festgesetzte Wert von 0,3 μm und eine Vertiefungs-Tiefe, die tiefer ist als der festgesetzte Wert von –0,3 μm, die Vorsprünge, die eine Vorsprungs-Höhe aufweisen, die größer ist als der festgesetzte Wert von 0,6 μm und eine Vertiefungs-Tiefe, die tiefer ist als der festgesetzte Wert von –0,6 μm, die Vorsprünge, die eine Vorsprungs-Höhe aufweisen, die größer ist als der festgesetzte Wert von 1,0 μm und eine Vertiefungs-Tiefe, die tiefer ist als der festgesetzte Wert von –1,0 μm
Beispiele 7 und 8 und Vergleichsbeispiele 9 und 10
Ein mechanisches Abtragen wurde durchgeführt unter Verwendung der Herstellungs-Vorrichtung wie sie in 2 gezeigt ist, unter denselben Bedingungen wie in Beispiel 1. MD-II-Zyklone^® (Handelsname; Hersteller: Firma Daiki Engineering Co., Ltd.) wurden als Zyklone 54A, 54B verwendet. Danach wurden eine Ätz-Behandlung, eine elektrolytische Oberflächen-Aufrauh-Behandlung und eine Anodisierungs-Behandlung unter denselben Bedingungen durchgeführt wie in Beispiel 1, so dass Lithographie-Druckplattenträger der Beispiele 7 und 8 und der Vergleichsbeispiele 9 und 10 hergestellt wurden.
Die Lithographie-Druckplattenträger wurden 14 s in eine Natriumsilicat-Lösung eingetaucht, deren Konzentration 2,5 Gew.-% betrug und deren Flüssigkeits-Temperatur 70°C betrug, so dass die Oberfläche hydrophilisiert wurde. Danach wurde eine Lösung eines photoempfindlichen Harzes, das die folgende Zusammensetzung hatte, auf den Lithographie-Druckplattenträger mittels des Drahtbarren-Beschichtungsverfahrens in einer Dicke bis zu 2,0 g/m² aufgebracht, und ein Trocknungsvorgang wurde für die Zeit von 1 min bei 100°C durchgeführt, so dass eine PS-Platte hergestellt wurde.
Copolymer aus N-(4-Hydroxyphenyl-)methacrylamid/2-Hydroxyethylmethacrylat/Acrylnitril/Methylmethacrylat/Methacrylsäure (Monomereinheiten-Molverhältnis = 15 : 10 : 30 : 38 : 7)(mittleres Molekulargewicht: 60.000) 5,0 g;
Hexafluorphosphat eines Kondensationsprodukts von 4-Diazodiphenylamid und Formaldehyd 0,5 g;
Phosphorsäure 0,05 g;
Victoria Pure Blue – BOH (Hersteller: Firma Hodogaya Chemical Co., Ltd.) 0,1 g;
2-Methoxyethanol 100,0 g.
Ein Film, auf dem ein Test-Muster gedruckt worden war, wurde auf die PS-Platte aufgelegt, und eine Belichtung wurde durchgeführt durch Belichten mit einer 3 kW-Metallhalogenid-Lampe für 50 s aus einer Entfernung von 1 mm.
Die belichtete PS-Platte wurde mit einer Entwicklungs-Lösung entwickelt, die folgende Zusammensetzung hatte, so dass eine Druckplatte für das Offset-Drucken hergestellt wurde:
Natriumsulfit 5,0 g;
Benzylalkohol 30,0 g;
Natriumcarbonat 5,0 g;
Natriumisopropylnaphthalinsulfonat 12,0 g;
Reines Wasser 1.000,0 g.
In dem oben beschriebenen mechanischen Abtrage-Schritt wurde eine abtragende Aufschlämmung, in der die abtragenden Teilchen in Wasser in einer Menge von 400 g/l suspendiert waren, auf die abrasiv zu behandelnde Oberfläche des Aluminium-Gewebes W von einer ersten Sprüheinrichtung 18 für ein Abrasiv-Mittel und einer zweiten Sprüheinrichtung 20 für ein Abrasiv-Mittel in einer Menge von 200 l/min für jede Sprüheinrichtung aufgebracht. Die Transportgeschwindigkeit des Aluminium-Gewebes W betrug 50 m/min. Der mittlere Teilchen-Durchmesser der Abrasiv-Teilchen, die in der abtragenden Aufschlämmung enthalten waren, in dem Aufschlämmungs-Zirkulationstank 50 wurde gemessen unter Verwendung einer Teilchengröße-Verteilungs-Meßvorrichtung des Laserbeugungs/-Streuungs-Typs (Handelsname: LA-910^®; Hersteller: Firma Horiba Ltd.).
Für den mittleren Teilchen-Durchmesser der Teilchen mit kleinem Teilchen-Durchmesser wurde der mittlere Teilchen-Durchmesser der Teilchen, die in die Aufschlämmung mit kleinem Durchmesser eingeschlossen waren, die an die Außenumgebung des Systems über die Abfallwasser-Leitung 60 abgegeben wurde, die in der Herstellungs-Vorrichtung vorgesehen ist, in derselben Weise gemessen wie der mittlere Teilchen-Durchmesser der Abrasiv-Teilchen, die in der abtragenden Aufschlämmung enthalten waren.
Die Abrasiv-Aufschlämmung wurde dem Aufschlämmungs-Zirkulationstank 50 so nachgefüllt, dass die Konzentration und der mittlere Teilchen-Durchmesser der Abrasiv-Teilchen in dem Aufschlämmungs-Zirkulationstank 50 konstant waren. Auf der Basis der nachgefüllten Menge der abtragenden Aufschlämmung wurde eine Bewertung vorgenommen, und vier Stufen sind angegeben
, O, Δ und X.
Die Druckplatte zum Offset-Drucken wurde auf eine Offset-Druckvorrichtung montiert, und ein Testmuster wurde unter Verwendung einer schwarzen Druckfarbe gedruckt. Die Oberflächen der gedruckten Blätter wurden visuell angeschaut, und das Vermögen der Lithographie-Druckplatte, wiederholtem Drucken standzuhalten, wurde bewertet durch die Zahl von gedruckten Blättern, bis Defekte im Erscheinungsbild der gedruckten Oberfläche auftraten. Weiter wurde die Gummi-Druckwalze in dem Offset-Drucker visuell beobachtet, und die Größe der Verschmutzungen der Druckwalze wurde bewertet. Das Vermögen, wiederholtem Drucken standzuhalten, wurde als Prozentwert der vorgenannten Zahl von gedruckten Blättern bewertet, wobei 70.000 gedruckte Blätter 100% entsprachen. Die Verschmutzung der Druckwalze wurde visuell untersucht und eine Bewertung wurde nach vier Stufen vorgenommen, nämlich
, O, Δ und X. Die Ergebnisse sind in Tabelle 3 gezeigt.
Wie von den obigen Ausführungen klar ist, werden ein Lithographie-Druckplattenträger, der der Träger für eine PS-Platte wird, die ausgezeichnete Druckeigenschaften aufweist und das Vermögen aufweist, wiederholtem Drucken standzuhalten, und ein Verfahren zur Herstellung, das die Herstellung des Lithographie-Druckplattenträgers mit hoher Produktionsstabilität ermöglicht, sowie eine PS-Platte, die die oben angegebenen vorteilhaften Eigenschaften aufweist, in Übereinstimmung mit der vorliegenden Erfindung erhalten.

Claims

Verfahren zum Herstellen eines Lithographie-Druckplattenträgers, das die folgenden Schritte umfasst: Ausführen einer mechanischen Oberflächen-Aufrauungsbehandlung wenigstens einer Oberfläche eines Lithographie-Druckplattenträgers (W) durch Reiben mit einer Drehbürste (8, 10), während abtragende Teilchen zugeführt werden, wobei die abtragenden Teilchen so sind, dass ein durchschnittlicher Teilchendurchmesser desselben 5 bis 70 μm beträgt, eine enthaltene Menge von Teilchen mit einem Teilchendurchmesser von 100 μm oder mehr 10 Gew.-% oder weniger beträgt, eine enthaltene Menge an Teilchen mit einem Teilchendurchmesser von 500 μm oder mehr 1 Gew.-% oder weniger beträgt und der Teilchen-Gehalt an SiO₂ 90 Gew.-% oder mehr beträgt, dadurch gekennzeichnet, dass: der Durchmesser von Bürstenborsten (8A, 10A) der Drehbürste (8, 10) zwischen 0,15 und 1,35 mm beträgt und eine Einbettungsdichte der Bürstenborsten zwischen 30 und 5000 Borsten/cm² beträgt.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei die abtragenden Teilchen der Oberfläche des Lithographie-Druckplattenträgers (W) in einer abtragenden Aufschlämmung zugeführt werden; die Oberfläche des Lithographie-Druckplattenträgers (W) an einer Seite, der die abtragende Aufschlämmung zugeführt worden ist, mechanisch abgetragen wird, und wobei Abfallflüssigkeit der abtragenden Aufschlämmung, die beim Schritt des mechanischen Abtragens erzeugt wird, zurückgewonnen wird und Teilchen, deren durchschnittlicher Teilchendurchmesser zwischen 1/3 und 1/10 eines durchschnitt lichen Teilchendurchmessers abtragender Teilchen liegt, die in der abtragenden Aufschlämmung enthalten sind, die beim Schritt des Zuführens der abtragenden Aufschlämmung zugeführt wird, aus der Abfallflüssigkeit der abtragenden Aufschlämmung entfernt werden und die restliche Aufschlämmung dem Schritt des Zuführens der abtragenden Aufschlämmung wieder zugeführt wird.
Verfahren zum Herstellen eines Lithographie-Druckplattenträgers (W) nach Anspruch 2, wobei der durchschnittliche Teilchendurchmesser eines Schleifmittels in der abtragenden Aufschlämmung zwischen 10 und 70 μm liegt.
Verfahren zum Herstellen eines Lithographie-Druckplattenträgers (W) nach Anspruch 2 oder 3, wobei beim Schritt des Zurückgewinnens der Abfallflüssigkeit der abtragenden Aufschlämmung die Teilchen, deren durchschnittlicher Teilchendurchmesser zwischen 1/3 und 1/10 des durchschnittlichen Teilchendurchmessers der abtragenden Teilchen liegt, die in der abtragenden Aufschlämmung enthalten sind, die beim Schritt des Zuführens der abtragenden Aufschlämmung zugeführt wird, durch Klassierung mit einem Zyklon entfernt werden.
Lithographie-Druckplattenträger (W), der mit einem Verfahren nach einem der Ansprüche 1–4 erzeugt werden kann, wobei an einer Oberfläche, die der mechanischen Oberflächen-Aufrauungsbehandlung und einer Anodisierungsbehandlung unterzogen wird, eine Oberflächenrauhigkeit Ra zwischen 0,3 und 1,0 μm liegt, eine maximale Rauhigkeit Rmax 10 μm oder weniger beträgt, eine Anzahl Pc von Rauigkeitsvorsprüngen 15 bis 35 Vorsprünge pro mm für Vorsprünge beträgt, die eine Vorsprungshöhe, die +0,3 μm größer ist als ein Sollwert, und eine Eindrucktiefe haben, die –0,3 μm tiefer ist als der Sollwert, und eine Anzahl Pc von Rauigkeitsvorsprüngen 7 bis 25 Vorsprünge pro mm für Vorsprünge beträgt, die eine Vorsprungshöhe, die +0,6 μm größer ist als der Sollwert, und eine Eindrucktiefe haben, die –0,6 μm tiefer ist als der Sollwert, und die Anzahl Pc von Rauigkeitsvorsprüngen 2 bis 18 Vorsprünge pro mm für Vorsprünge beträgt, die eine Vorsprungshöhe, die +1,0 μm größer ist als der Sollwert, und eine Eindrucktiefe haben, die –1,0 μm tiefer ist als der Sollwert.
PS-Platte, wobei die Oberfläche des Lithographie-Druckplattenträgers (W) Anspruch 5 entspricht und die Oberfläche der Oberflächen-Aufrauungsbehandlung unterzogen worden ist und einer Anodisierungsbehandlung unterzogen wird und eine fotoempfindliche Schicht auf der Oberfläche ausgebildet ist.