DE69923622T2

DE69923622T2 - Aluminiumträger für Flachdruckplatten und Verfahren zur Herstellung

Info

Publication number: DE69923622T2
Application number: DE69923622T
Authority: DE
Inventors: Atsuo Haibara-gun Nishino; Yoshitaka Haibara-gun Masuda; Hirokazu Haibara-gun Sawada; Akio Haibara-gun Uesugi; Masahiro Haibara-gun Endo
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 1998-05-28
Filing date: 1999-05-28
Publication date: 2005-07-07
Anticipated expiration: 2019-05-29
Also published as: ATE288836T1; US6596150B2; EP0960743A3; EP0960743B1; US20020153253A1; DE69923622D1; EP0960743A2

Description

GEBIET DER ERFINDUNG
Die vorliegende Erfindung basiert auf den japanischen Anmeldungen Nr. Hei. 10-147690, Hei. 10-219303 und Hei. 10-367618.
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf einen Träger für eine Flachdruckplatte (lithografische Druckplatte) und ein Herstellungsverfahren dafür. Spezieller bezieht sich die vorliegende Erfindung auf einen Aluminiumträger für eine Flachdruckplatte, in welcher die Oberfläche des Aluminiumträgers gleichmäßig aufgeraut ist, so dass, wenn ein Flachdruckbild auf der Oberfläche gebildet ist, eine gute Eignung für die Prüfung der Platte erreicht wird, eine hohe Dauerhaftigkeit beim Drucken aufgrund einer guten Haftung zwischen dem Aluminiumträger und der lichtempfindlichen Schicht erhalten wird, eine gute Wasseraufnahmefähigkeit sichergestellt wird, und die Menge von Feuchtwasser auf der Plattenoberfläche beim Drucken in einfacher Weise gesehen werden kann.
HINTERGRUND DER ERFINDUNG
Auf dem Gebiet von Flachdruckplatten ist es bekannt, eine Flachdruckplatte durch Aufbringen einer positiven oder negativen lichtempfindlichen Zusammensetzung auf die Oberfläche eines Aluminiumträgers und anschließendes Trocknen der Zusammensetzung und Aussetzen gegen eine chemische radioaktive Strahlung und Entwickeln herzustellen.
Im Allgemeinen ist es notwendig, dass die Aluminiumplatte einige Behandlungen durchläuft, bevor sie tatsächlich als Träger einer Flachdruckplatte verwendet wird. So wird z.B. die Aluminiumplatte durch eine Kombination von einer oder mehreren Maßnahmen aus der Gruppe des mechanischen Oberflächenkörnens, des chemischen Ätzens, des elektrochemischen Oberflächenkörnens und Ähnlichem behandelt, um ihr Wasseraufnahmevermögen und Haftung an die lichtempfindliche Schicht zu verleihen. Die Aluminiumoberfläche, die keiner Anodisierung unterworfen ist, ist ziemlich weich und wird leicht abgerieben, daher wird die Oberfläche gewöhnlich anodisiert, um eine Oxidbeschichtung darauf zu bilden. Die so behandelte Aluminiumplatte hat eine harte Oberfläche und zeichnet sich durch ausgezeichnete Abriebbeständigkeit, hohe Affinität für Wasser, gute Halteeigenschaft und starke Haftung an die lichtempfindliche Schicht aus. Danach wird die Oberfläche gewöhnlich mit einer Zusammensetzung versiegelt, um ihr Benetzbarkeit für Wasser zu verleihen, und dann wird darauf eine lichtempfindliche Zusammensetzung aufgebracht.
Als Oberflächenkörnungsverfahren eines Aluminiumträgers für eine Flachdruckplatte wird gewöhnlich Ätzen mit Wechselstrom verwendet, worin der verwendete Strom ein spezieller Strom mit alternierender Wellenform, wie normaler sinusförmiger Strom und Rechteckwelle, ist, und ein Wechselstrom wird unter Verwendung einer geeigneten Elektrode, wie Grafit, als Gegenelektrode durchgeleitet, um dadurch die Oberfläche einer Aluminiumplatte aufzurauen. Die Behandlung wird gewöhnlich einmal durchgeführt, aber die erhaltene Lochtiefe ist durchgehend gering, und die Platte hat keine gute Dauerhaftigkeit beim Drucken. Um dieses Problem zu bewältigen, ist eine Anzahl von Verfahren vorgeschlagen worden mit einem Versuch, eine als Träger für eine Druckplatte geeignete Aluminiumplatte zu erhalten, die so gekörnt ist, dass Löcher mit einer Tiefe größer als der Durchmesser gleichmäßig und in dichter Folge vorhanden sind. So sind z.B. ein Oberflächenkörnungsverfahren unter Verwendung einer speziellen Elektrolyse-Stromquelle-Wellenform (vgl. JP-A-53-67507 (der Ausdruck "JP-A" wie hierin verwendet, bedeutet eine "ungeprüfte veröffentlichte japanische Patentanmeldung")) und Verfahren, gekennzeichnet durch das Verhältnis der Elektrizitätsmenge zwischen der Anodenzeit und der Kathodenzeit an der Elektrolyse-Oberflächenkörnung unter Verwendung von Wechselstrom (vgl. JP-A-54-65607), die Stromquelle-Wellenform (vgl. JP-A-56-25381) oder die Kombination der Elektrizitätsmengen, die durch eine Flächeneinheit hindurchgehen (vgl. JP-A-56-29699), bekannt.
Andererseits wird ein Aluminiumträger durch ein Verfahren hergestellt, bei dem ein Aluminiumblock zur Herstellung einer Platte (Dicke: von 400 bis 600 nm, Breite: von 1000 bis 2000 mm, Länge: von 2000 bis 6000 mm) aufgelöst und gehalten wird, und die Platte wird durch einen Skalping-Schritt des Schneidens des Strukturteils mit Verunreinigungen auf der Plattenoberfläche durch eine Skalping-Maschine bei jeweils 3 bis 10 mm und dann durch einen Wärmebehandlungsschritt des Haltens der Platte in einer Wärme behandlungsgrube bei 480 bis 540°C für 6 bis 12 Stunden zum Entfernen der Spannung im Inneren der Platte und zur Vergleichmäßigung der Struktur geführt. Danach wird die Aluminiumplatte durch Warmwalzen bei 480 bis 540°C zu einer Dicke von 5 bis 40 mm gewalzt, bei Raumtemperatur zu einer vorbestimmten Dicke kaltgewalzt, zur Vergleichmäßigung der Struktur getempert, um die gewalzte Struktur und Ähnliches zu homogenisieren, zu einer vorbestimmten Dicke kaltgewalzt und dann zum Erhalt einer Folie mit guter Ebenheit verarbeitet. Der so hergestellte Aluminiumträger wird als Träger für eine Flachdruckplatte verwendet.
Im Hinblick auf Energieeinsparungen oder die wirksame Verwendung von Ressourcen ist es erwünscht, eine Aluminiumplatte für allgemeine Zwecke oder eine Aluminiumplatte, hergestellt durch Weglassen des Zwischenglühens oder des Wärmebehandelns aus dem Herstellungsverfahren der Aluminiumplatte, als Aluminiumträger für eine Flachdruckplatte zu verwenden.
Wenn ein Aluminiumträger für eine Flachdruckplatte aus einer solchen Aluminiumplatte hergestellt wird, wird jedoch leicht eine Unebenheit, die als Streifen oder körnige Unebenheit bezeichnet wird, gebildet. Es wird angenommen, dass dies auftritt, weil die chemische Auflösungsreaktion von Aluminium mit einer verschiedenen Geschwindigkeit in Abhängigkeit von der Kristallorientierung abläuft, und wiederum die elektrochemische Lochbildungsreaktion von Aluminium in Abhängigkeit von der Kristallorientierung verschieden abläuft.
Mit anderen Worten treten Unregelmäßigkeiten, die durch den Unterschied in der Auflösungsgeschwindigkeit bei der chemischen Auflösungsreaktion gebildet werden, als Streifen oder körnige Unebenheit auf, oder der Unterschied in der Lochbildungsreaktion in Abhängigkeit von der Kristallorientierung (Unterschied in der Lochzahl oder -größe) treten als Streifen oder körnige Unebenheit auf.
Um die Verzögerung des Tonens beim Drucken zu verbessern, wenn eine Druckplatte hergestellt wird, ist es bekannt, ein chemisches Ätzen nach dem Oberflächenkörnen durchzuführen. Wenn die Platte als PS-Platte für das Abziehdrucken verwendet wird, ist eine Disinklination zum Festhalten eines Feuchtwasser liefernden Schwammes eine der wichtigen Leistungsfähigkeiten beim Drucken. Wenn es schwierig ist, den Schwamm festzuhalten, werden Abriebteilchen des Schwammes kaum gebildet, und die Druckplatte neigt nicht zum Tonen. Der Anstieg der Ätzmenge nach dem Oberflächenkörnen ist von dem folgenden Vorteil und Nachteil begleitet.
Wenn die Menge des chemischen Ätzens erhöht ist, ist der gedruckte Gegenstand in schwieriger Weise verunreinigt; aufgrund des Unterschieds der Aluminiumauflösungsgeschwindigkeit, die der Kristallorientierung von Aluminium zuzuschreiben ist, werden jedoch Streifen oder körnige Unebenheit herausragend. Weiterhin wird die Haftung zwischen der lichtempfindlichen Schicht und dem Aluminiumträger verschlechtert, wodurch die Haltbarkeit beim Drucken verringert wird.
Im Allgemeinen wird ein Aluminiumträger für eine Flachdruckplatte der Anodisierung unterworfen, nachdem das Oberflächenkörnen ein weißes Aussehen hat, welches als bevorzugt betrachtet wird, so dass, wenn eine Flachdruckplatte darauf gebildet wird, ein guter visueller Kontrast zwischen dem Bildbereich und dem Nichtbildbereich erreicht werden kann, und die Bewertung der Bildqualität durch einen Drucker erleichtert werden kann. Hierfür ist es erwünscht, dass die Aluminiumplatte eine weiße Oberfläche hat, so dass ein guter Bildkontrast erhalten wird und gleichzeitig eine Bildhaftung auf der Oberfläche der Folie, die dem Oberflächenkörnen und der Anodisierung unterworfen wurde, sichergestellt ist, und dass sie auch eine Oberflächenhärte hat.
Andererseits ist es im Allgemeinen für eine Aluminiumplatte, die als Flachdruckplattenträger verwendet wird, erforderlich, dass sie eine geeignete Haftung an das lichtempfindliche Material und eine geeignete Wasseraufnahmefähigkeit hat und auch gleichmäßig oberflächengekörnt sein muss. Der Ausdruck "gleichmäßig oberflächengekörnt", wie hierin verwendet, bedeutet, dass hergestellte Löcher in geeigneter Weise gleichmäßig in der Größe sind, und dass solche Löcher in gleichmäßiger Weise auf der ganzen Oberfläche hergestellt sind. Das Loch hat eine herausragende Wirkung auch auf die Druckleistung des Druckmaterials, wie eine Disinklination für Tonen und eine Haltbarkeit beim Drucken, und die Lochqualität ist ein wichtiger Faktor bei der Herstellung eines Druckmaterials. In den letzten Jahren ist es ein zu lösendes Problem, in kontinuierlicher und stabiler Weise Löcher von guter Qualität herzustellen.
JP-A-6-92052 (der Ausdruck "JP-A", wie hierin verwendet, bedeutet eine "ungeprüfte veröffentlichte japanische Patentanmeldung") hat ein Patent vorgeschlagen, bestehend aus einem Schritt des mechanischen Oberflächenkörnens, einem Schritt des Ätzens von 0,5 bis 30 g/m² und einem Schritt des Pulsdurchgangs von 200 bis 600 C/dm². JP-A-7-9776 hat vorgeschlagen, ein mechanisches Oberflächenkörnen, ein Ätzen von 1 bis 5 g/m² und dann ein elektrochemisches Oberflächenkörnen mit einer Wechselstrommenge von 300 bis 800 C/dm² durchzuführen. Es ist auch ein Patent vorgeschlagen worden, bestehend aus einem mechanischen Oberflächenkörnen, einem Ätzen von 0,5 bis 30 g/m² und einer Wechselstrom-Elektrolyse von 200 bis 600 C/dm². Das Oberflächenkörnen der Trägeroberfläche umfasst ein mechanisches Oberflächenkörnen, ein chemisches Oberflächenkörnen und ein elektrochemisches Oberflächenkörnen. In diesem Zusammenhang beschreibt JP-A-6-24166 ein Patent, wo verschiedene Bedingungen für das mechanische Oberflächenkörnen, das chemische Ätzen und das elektrochemische Oberflächenkörnen variiert werden, spezieller wird nach dem mechanischen Oberflächenkörnen ein chemisches Ätzen von 0,5 bis 30 g/m² durchgeführt, ein elektrochemisches Oberflächenkörnen wird bei einer geeigneten Stromdichte mit einer geeigneten Elektrizitätsmenge angewandt, ein Ätzen von 0,1 bis 10 g/m² wird durchgeführt, um glatte Winkel zu erhalten, und dann wird eine Anodisierung angewandt.
Als Erfordernis von Kunden in den letzten Jahren wird jedoch eine qualitativ hochwertige Druckplatte gewünscht, die eine geringere lokale Unebenheit hat. Daher wird ein Flachdruckplattenträger, der befähigt ist, ein solches Erfordernis zu erfüllen, gewünscht, und gleichzeitig müssen die Produktionskosten minimiert werden. Gemäß den in JP-A-6-92052 und JP-A-6-24166 beschriebenen Techniken wird ein vorhergehendes Polieren weggelassen; wenn ein ursprüngliches Al mit lokalen Vertiefungen einem mechanischen Oberflächenkörnen, einem chemischen Ätzen und einem elektrochemischen Oberflächenkörnen unterworfen wird, wird demgemäß in dem Vertiefungsteil kein gleichmäßiges chemisches Ätzen oder elektrochemisches Oberlächenkörnen erreicht, und in diesem Teil treten Probleme auf, wie die Verringerung der Haltbarkeit beim Drucken oder die Verschlechterung der Disinklination für die Aufnahme von Tinte auf der Vertiefung.
EP-A-0835764 beschreibt ein Verfahren zur Herstellung eines Trägers für eine Flachdruckplatte, umfassend das Aufrauen der Oberfläche einer Aluminiumbahn mit einer durchschnittlichen Mittenrauheit von 0,15 bis 0,35 μm und einer maximalen Oberflä chenrauheit von 1 bis 3,5 μm durch wenigstens ein mechanisches Oberflächenaufrauen, ein chemisches Ätzen und ein elektrochemisches Oberflächenaufrauen.
Die vorliegende Erfindung ist unter diesen Umständen gemacht worden. Demgemäß ist die Aufgabe der vorliegenden Erfindung ein Verfahren zur Herstellung eines qualitativ hochwertigen Flachdruckplattenträgers, der frei von lokaler Unebenheit ist, bereitzustellen.
ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
Als Ergebnis von ausgedehnten Untersuchungen haben die Erfinder der vorliegenden Erfindung festgestellt, dass, wenn eine Aluminiumplatte einem mechanischen Polieren nach dem Oberflächenkörnen unterworfen wird, der vorstehende Teil rund geformt wird, und die Disinklination zur Aufnahme eines Schwammes und wiederum die Verringerung des Tonens verbessert werden können.
Die Erfinder der vorliegenden Erfindung haben ferner ein Herstellungsverfahren für einen Aluminiumträger für eine Flachdruckplatte aufgefunden, dahingehend, dass durch Unterwerfen einer Aluminiumplatte, die so behandelt ist, dass sie feine Unregelmäßigkeiten hat, einem elektrochemischen Oberflächenkörnen in einer sauren wässrigen Lösung und anschließendem Polieren, ein Aluminiumträger erhalten werden kann, bei dem die Bildung von Problemen, die als Streifen oder körnige Unebenheit bezeichnet werden, die der Aluminiumkristallorientierung zuzuschreiben sind, verhindert werden kann, und dass sie nicht zum Tonen neigt.
Wenn feine Unregelmäßigkeiten auf eine Aluminiumplatte aufgebracht werden, verursachen die feinen Unregelmäßigkeiten eine unregelmäßige Reflexion, und dadurch wird es schwierig, den Streifen oder die körnige Unebenheit festzustellen. Darüber hinaus hat die Anwesenheit von feinen Unregelmäßigkeiten die Wirkung, dass Wabenlöcher von 0,1 bis 3 μm danach in gleichmäßiger Weise in einer wässrigen Salpetersäurelösung unabhängig von der Kristallorientierung gebildet werden, und als Ergebnis werden der Streifen oder die körnige Unebenheit kaum sichtbar.
KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
In den beigefügten Zeichnungen ist
1 ein Wellenprofil, welches ein Beispiel eines Trapezwellen-Wechselstroms zeigt, der bevorzugt in dem elektrochemischen Oberflächenkörnen der vorliegenden Erfindung verwendet wird,
2 eine schematische Ansicht, die ein Beispiel der Elektrolysevorrichtung zur Verwendung in dem elektrochemischen Oberflächenkörnen der vorliegenden Erfindung zeigt,
3 eine Seitenschnittansicht, die ein Beispiel der Poliervorrichtung zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung zeigt,
4 eine Seitenschnittansicht, die ein anderes Beispiel der Poliervorrichtung zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung zeigt, und
5 eine Seitenansicht, welche die Anordnung einer Walze zeigt, welche Spitzen von Vorsprüngen auf einer oberflächengekörnten Aluminiumplatte abträgt.
AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG
Die vorliegende Erfindung ist fertiggestellt durch Oberflächenkörnen und anschließendes mechanisches Polieren einer Aluminiumplatte oder durch abwechselndes Durchführen des Oberflächenkörnens und des mechanischen Polierens. Die praktische Ausführungsform des Oberflächenkörnungsverfahrens der vorliegenden Erfindung ist im Einzelnen nachstehend beschrieben.
Besonders bevorzugte praktische Ausführungsformen des Oberflächenkörnens eines Aluminiumträgers der vorliegenden Erfindung sind wie folgt.
Praktische Ausführungsform 1:
Ein Verfahren zur Herstellung eines Aluminiumträgers für eine Flachdruckplatte, umfassend das Unterwerfen einer Aluminiumplatte:

(1) dem Oberflächenkörnen,
(2) dem mechanischen Polieren und
(3) dem Anodisieren in dieser Reihenfolge.

Praktische Ausführungsform 2:
Ein Verfahren zur Herstellung eines Aluminiumträgers für eine Flachdruckplatte, umfassend das Unterwerfen einer Aluminiumplatte:

(1) dem Oberflächenkörnen,
(2) dem mechanischen Polieren,
(3) dem Oberflächenkörnen,
(4) optional dem mechanischen Polieren und
(5) dem Anodisieren in dieser Reihenfolge.

In den praktischen Ausführungsformen 1 oder 2 ist es bevorzugter, das chemische Ätzen vor und/oder nach dem mechanischen Polieren durchzuführen. Die Oberflächenkörnungsbehandlung ist eine Behandlung, umfassend eine Kombination von einem oder mehreren Schritten des mechanischen Oberflächenkörnens, des elektrochemischen Oberflächenkörnens, des elektrolytischen Polierens und des chemischen Ätzens.
Praktische Ausführungsform 3:
Ein Verfahren zur Herstellung eines Aluminiumträgers für eine Flachdruckplatte, umfassend das Unterwerfen einer Aluminiumplatte:

(1) dem chemischen Ätzen oder elektrolytischen Polieren,
(2) dem vorhergehenden elektrochemischen Oberflächenkörnen von 1 bis 300 C/dm² unter Verwendung eines Wechselstroms in einer wässrigen Lösung, die hauptsächlich Chlorwasserstoffsäure enthält,
(3) dem chemischen Ätzen von 0,1 bis 1,0 g/m² in einer wässrigen Alkalilösung,
(4) dem elektrochemischen Oberflächenkörnen,
(5) dem chemischen Ätzen oder dem elektrolytischen Polieren,
(6) dem mechanischen Polieren und
(7) dem Anodisieren in dieser Reihenfolge.

Praktische Ausführungsform 4:
Ein Verfahren zur Herstellung eines Aluminiumträgers für eine Flachdruckplatte, umfassend das Unterwerfen einer Aluminiumplatte:

(1) dem mechanischen Oberflächenkörnen,
(2) dem chemischen Ätzen oder dem elektrolytischen Polieren,
(3) dem elektrochemischen Oberflächenkörnen,
(4) dem chemischen Ätzen oder dem elektrolytischen Polieren,
(5) dem mechanischen Polieren und
(6) dem Anodisieren in dieser Reihenfolge.

Praktische Ausführungsform 5:
Ein Verfahren zur Herstellung eines Aluminiumträgers für eine Flachdruckplatte, umfassend das Unterwerfen einer Flachdruckplatte:

(1) dem mechanischen Oberflächenkörnen,
(2) dem chemischen Ätzen oder dem elektrolytischen Polieren,
(3) dem vorhergehenden elektrochemischen Oberflächenkörnen von 1 bis 300 C/dm² unter Verwendung eines Wechselstroms in einer wässrigen Lösung, die hauptsächlich Chlorwasserstoffsäure enthält,
(4) dem chemischen Ätzen von 0,1 bis 1,0 g/m² in einer wässrigen Alkalilösung,
(5) dem elektrochemischen Oberflächenkörnen,
(6) dem chemischen Ätzen oder elektrolytischen Polieren,
(7) dem mechanischen Polieren und
(8) dem Anodisieren in dieser Reihenfolge.

In den praktischen Ausführungsformen 1 bis 5 ist es bevorzugter, vorher ein Polieren oder ein Polieren durch Schwabbeln durchzuführen.
In der vorliegenden Erfindung ist das Oberflächenkörnen bevorzugt eine Behandlung, die eine Kombination von einem oder mehreren Schritten des mechanischen Oberflächenkörnens, des elektrochemischen Oberflächenkörnens, des elektrolytischen Polierens und des chemischen Ätzens umfasst.
In dem Fall, wo das Oberflächenkörnen ein elektrochemisches Oberflächenkörnen unter Verwendung von Gleichstrom oder Wechselstrom in einer wässrigen Salpetersäurelösung ist, wird bevorzugt eine vorhergehende Oberflächenkörnungsbehandlung zum Herstellen von feinen Unregelmäßigkeiten vor dem elektrochemischen Oberflächenkörnen unter Verwendung von Gleichstrom oder Wechselstrom in einer wässrigen Salpetersäurelösung durchgeführt.
Die vorhergehende Oberflächenkörnungsbehandlung umfasst bevorzugt:

(i) ein vorhergehendes elektrochemisches Oberflächenkörnen von 1 bis 300 C/dm² unter Verwendung eines Wechselstroms in einer wässrigen Lösung, die hauptsächlich Chlorwasserstoffsäure enthält, und
(ii) ein chemisches Ätzen von 0,1 bis 1,0 g/m² in einer wässrigen Alkalilösung.

Vor oder nach dem mechanischen Polieren oder vor und nach dem mechanischen Polieren wird bevorzugt ein chemisches Ätzen der Auflösung einer Aluminiumplatte in einer Menge von 0,01 bis 30 g/m² durchgeführt.
Das mechanische Polieren wird bevorzugt unter Verwendung von Nylonbürsten, Gummi, Gewebe, Faservlies, Nylon-Faservlies, Schwamm, Filz, Leder oder Poliergewebe, während Wasser oder eine Lösung mit einer Ätzwirkung auf das Aluminium gesprüht wird, oder in Wasser oder einer Lösung mit einer Ätzwirkung auf das Aluminium durchgeführt.
In der vorliegenden Erfindung wird das mechanische Polieren durchgeführt, wobei ein Schleifmittel in Kombination verwendet wird.
In der vorliegenden Erfindung wird das chemische Ätzen vor oder nach dem elektrolytischen Polieren oder vor und nach dem elektrolytischen Polieren durchgeführt.
Nach dem chemischen Ätzen wird bevorzugt ein Entschmutzen in einer sauren wässrigen Lösung durchgeführt.
Nach dem Anodisieren wird bevorzugt eine Hydrophilisierungsbehandlung durchgeführt.
Wenn die Oberfläche eines Aluminiumträgers für eine Flachdruckplatte durch ein Abtast-Elektronenmikroskop beobachtet wird, um die Zahl langwelliger Vorsprünge zu zählen, und etwa 10 % oder mehr der Winkel in sämtlichen Vorsprüngen gerundet sind, ist der Aluminiumträger für eine Flachdruckplatte vorteilhaft dahingehend, dass die Disinklination zum Aufnehmen eines Feuchtwasser liefernden Schwammes und die Verzögerung gegen das Tonen eines bedruckten Gegenstandes verbessert sind. Vor dem ersten Oberflächenkörnen wird bevorzugt ein mechanisches Polieren durchgeführt.
Wenn die Oberfläche eines Aluminiumträgers für eine Flachdruckplatte durch ein Abtast-Elektronenmikroskop beobachtet wird, um die Zahl von langwelligen Vorsprüngen zu zählen, und etwa 10 % oder mehr der Winkel in sämtlichen Vorsprüngen durch das Polieren gerundet sind, ist der Aluminiumträger für eine Flachdruckplatte vorteilhaft dahingehend, dass die Disinklination zum Aufnehmen eines Feuchtwasser liefernden Schwammes und die Verzögerung gegen das Tonen eines bedruckten Gegenstands verbessert sind.
Die Aluminiumplatte zur Verwendung in dem Oberflächenkörnen der vorliegenden Erfindung oder der Aluminiumträger für eine Flachdruckplatte, der in der vorliegenden Erfindung beschrieben ist, ist bevorzugt eine Aluminiumplatte, hergestellt durch ein DC-Gießverfahren, wo Zwischenglühen oder Wärmebehandeln weggelassen wird oder Zwischenglühen und Wärmebehandeln weggelassen werden, oder durch ein kontinuierliches Gießverfahren, wo Zwischenglühen weggelassen wird, und die Aluminiumlegierung insbesondere bevorzugt Heteroelemente in einem solchen Anteil enthält, dass Si 0,05 bis 1,0 Gew.-% beträgt, Fe 0,1 bis 1,0 Gew.-% beträgt, Cu 0,01 bis 0,2 Gew.-% beträgt, Ti 0,01 bis 0,1 Gew.-% beträgt, Mn 0 bis 1,5 Gew.-% beträgt, Mg 0,0 bis 0,3 Gew.-% beträgt und Zn 0 bis 0,1 Gew.-% beträgt.
Das in der vorliegenden Erfindung genannte mechanische Oberflächenkörnen ist bevorzugt ein mechanisches Oberflächenkörnen mittels einer rotierenden Nylonbürstenwalze mit einem Borstendurchmesser von 0,2 bis 1,61 mm und einer auf die Oberfläche einer Aluminiumplatte zugeführten Aufschlämmungslösung. Das Schleifmittel kann ein bekanntes Schleifmittel sein, aber Quarzsand, Quarz, Aluminiumhydroxid oder eine Mischung davon ist bevorzugt. Diese Schleifmittel sind im Einzelnen in JP-A-6-135175 und JP-B-50-40047 beschrieben (der Ausdruck "JP-B", wie hierin verwendet, bedeutet eine "geprüfte japanische Patentveröffentlichung"). Die Aufschlämmungslösung hat bevorzugt eine Dichte von 1,05 bis 1,3.
Natürlich können auch ein Verfahren des Sprühens einer Aufschlämmungslösung, ein Verfahren der Verwendung einer Drahtbürste, ein Verfahren der Übertragung der Oberflächenform einer sich drehenden Walze mit Unregelmäßigkeiten auf eine Aluminiumplatte verwendet werden. Andere Verfahren sind in JP-A-55-074898, JP-A-61-162351 und JP-A-63-104889 beschrieben.
Das in der vorliegenden Erfindung genannte elektrochemische Oberflächenkörnen bedeutet ein elektrochemisches Oberflächenkörnen unter Verwendung von Gleichstrom oder Wechselstrom in einer wässrigen Lösung, die hauptsächlich eine Salpetersäure oder Chlorwasserstoffsäure enthält.
Das in der vorliegenden Erfindung genannte chemische Ätzen bedeutet eine chemische Auflösung einer Aluminiumplatte durch eine wässrige Säure- oder Alkalilösung.
Das in der vorliegenden Erfindung genannte elektrolytische Polieren bedeutet ein elektrochemisches Polieren einer Aluminiumplatte unter Verwendung von Gleichstrom oder Wechselstrom in einer wässrigen Säure- oder Alkalilösung.
Die Aluminiumplatte zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung ist ausgewählt aus einer reinen Aluminiumplatte, einer Legierungsfolie, die hauptsächlich Aluminium umfasst und ein Spurenheteroelement enthält und einen Kunststofffilm auf dem Aluminium laminiert oder aufgedampft hat. Das Spurenheteroelement ist ausgewählt aus solchen, die in dem Periodischen System der Elemente beschrieben sind, und eines oder mehrere Elemente sind in einer Menge von 0,001 bis 1,5 Gew.-% enthalten. Repräsentative Beispiele des in der Aluminiumlegierung enthaltenen Heteroelements umfassen Silicium, Eisen, Nickel, Mangan, Kupfer, Magnesium, Chrom, Zink, Wismut, Titan und Vana dium. Gewöhnlich können herkömmlicherweise bekannte Materialien, die im Aluminum Handbook, 4. Aufl., Keikinzoku Kyokai (1990), z.B. JIS A 1050-Material, JIS A 3103-Material, JIS A 3005-Material, JIS A 1100-Material, JIS A 3004-Material und Legierungen, erhalten durch Zugabe von 5 Gew.-% oder weniger Magnesium zu diesen Materialien zum Zwecke der Erhöhung der Zugfestigkeit, verwendet werden. Diese sind besonders geeignet für das Oberflächenkörnen einer Aluminiumplatte, bei welcher Probleme auftreten, die der Orientierung des Kristallkorns zuzuschreiben sind. Der Anteil von Heteroelementen, die in der Aluminiumlegierung enthalten sind, ist bevorzugt derart, dass Si 0,03 bis 1,0 Gew.-% beträgt, Fe 0,05 bis 1,0 Gew.-% beträgt, Cu 0,001 bis 0,2 Gew.-% beträgt, Ti 0,01 bis 0,1 Gew.-% beträgt, Mn 0 bis 1,5 Gew.-% beträgt, Mg 0,0 bis 0,3 Gew.-% beträgt und Zn 0 bis 0,1 Gew.-% beträgt, bevorzugter beträgt Si 0,05 bis 0,15 Gew.-%, Fe beträgt 0,1 bis 0,3 Gew.-%, Cu beträgt 0,1 bis 0,02 Gew.-%, Ti beträgt 0,02 bis 0,03 Gew.-%, Mn beträgt 0,01 bis 0,03 Gew.-%, Mg beträgt 0,01 bis 0,03 Gew.-% und Zn beträgt 0,01 bis 0,02 Gew.-%.
Wenn die vorstehend beschriebenen Spurenelemente in einer großen Menge enthalten sind, sind gleichmäßige wabenförmige Löcher schwierig bei dem elektrochemischen Obertlächenkörnen in einer sauren wässrigen Lösung herzustellen. Wenn die Si-Komponente in einer großen Menge enthalten ist, wird durch das Anodisieren nach dem Oberflächenkörnen ein mangelhafter anodischer Oxidfilm gebildet, und der mangelhafte Teil weist eine geringe Wasseraufnahmefähigkeit auf, was rasch ein Fleckig werden des Papiers beim Drucken hervorruft. Wenn die Cu-Komponente in einer großen Menge enthalten ist, nimmt die Fläche des Teils, der frei von der Herstellung von wabenförmigen Löchern ist, zu, was ein verschlechtertes Aussehen hervorruft. Wenn die Si-Komponente in einer großen Menge enthalten ist, beträgt die Menge des anodischen Oxidfilms, bestimmt durch eine gravimetrische Methode, bevorzugt 3 bis 10 g/m². Wenn die Menge des anodischen Oxidfilms groß ist, neigt der anodische Oxidfilm dazu, sich an dem Kantenteil von Aluminium zu konzentrieren. Der Unterschied in der Menge des anodischen Oxidfilms zwischen dem Kantenteil und dem Mittelteil einer Aluminiumplatte beträgt bevorzugt 1 g/m² oder weniger.
Nach dem Anodisieren kann manchmal eine Hydrophilisierungsbehandlung durch Eintauchen der Aluminiumplatte in eine wässrige Lösung, die hauptsächlich eine Kieselsäu re enthält, durchgeführt werden. Die Si-Menge, bestimmt durch ein Fluoreszenz-Röntgenstrahlengerät, beträgt bevorzugt 0,1 bis 100 mg/m², bevorzugter 1 bis 50 g/m².
Die Aluminiumplatte kann eine Aluminiumplatte, hergestellt durch ein übliches DC-Gießverfahren, oder eine Aluminiumplatte, hergestellt durch ein kontinuierliches Gieß-Walzen-Verfahren, sein. Beispiele des kontinuierlichen Gieß-Walzen-Verfahrens, welches verwendet werden kann, umfassen das Zwillingswalzenverfahren, das Band-Gleitrolle-Verfahren und das Block-Gleitrolle-Verfahren. Die Aluminiumplatte zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung hat eine Dicke von etwa 0,1 bis 0,6 mm.
Die Aluminiumplatte, die leicht Unebenheit in dem Alkaliätzen hat, was dem Unterschied in der Auflösungsgeschwindigkeit von Aluminium aufgrund des Unterschieds in der Orientierung des Kristallkorns zuzuschreiben ist, ist bevorzugt eine Aluminiumplatte, hergestellt durch ein DC-Gießverfahren, wo das Zwischenglühen oder Wärmebehandeln weggelassen ist oder das Zwischenglühen und das Wärmebehandeln weggelassen sind, oder eine Aluminiumplatte, hergestellt durch ein kontinuierliches Gießverfahren, wo das Zwischenglühen weggelassen ist.
Der Begriff "Aluminiumplatte, die leicht Behandlungsunebenheit in dem Alkaliätzen hat, was dem Unterschied in der Auflösungsgeschwindigkeit von Aluminium aufgrund des Unterschieds in der Orientierung des Kristallkorns zuzuschreiben ist", wie in der vorliegenden Erfindung verwendet, bedeutet eine Aluminiumplatte, auf welcher streifige Behandlungsunebenheit, genannt Streifen, oder Fehler, genannt körnige Unebenheit, in einfacher Weise nach dem Alkaliätzen gebildet wird.
Das Oberflächenkörnungsverfahren der vorliegenden Erfindung ist für das gleichmäßige Körnen einer Aluminiumlegierungsfolie geeignet, worin eine Aluminiumplatte fertig bearbeitet wird, um eine Spiegelfläche durch Polieren durch Schwabbeln ihrer Oberfläche zu haben, und in einer wässrigen Ätznatronlösung so alkaligeätzt wird, dass 15 g/m² der Aluminiumplatte aufgelöst werden, wobei der gebildete Höhenunterschied aufgrund des Unterschieds in der Ätzgeschwindigkeit 0,01 bis 0,5 μm, bevorzugt 0,02 bis 0,2 μm, beträgt. Bei der Beobachtung der Oberfläche einer Aluminiumplatte, die durch Schwabbeln poliert und dann durch eine Fluorwasserstoffsäure geätzt ist, haben die Kristallkörner entlang der Walzrichtung eine Breite von etwa 0,01 bis 10 mm, bevorzugt 5 mm oder weniger, bevorzugter 3 mm oder weniger, und eine Länge von 0,5 bis 300 mm.
Die Vorrichtung zur Verwendung in dem elektrochemischen Oberflächenkörnen unter Verwendung von Gleichstrom oder Wechselstrom oder in dem elektrolytischen Polieren der vorliegenden Erfindung ist eine von bekannten Vorrichtungen, die in der kontinuierlichen Oberflächenbehandlung einer Metallbahn verwendet werden.
Die durch die vorliegende Erfindung gekörnte Aluminiumplatte wird bevorzugt so anodisiert, dass sich die Abriebbeständigkeit auf der Oberfläche einer Aluminiumplatte erhöht.
Nach dem Anodisieren oder nach dem Anodisieren und der Hydrophilisierungsbehandlung werden eine lichtempfindliche Schicht oder eine Zwischenschicht und eine lichtempfindliche Schicht aufgebracht und gemäß einem üblichen Verfahren getrocknet. Als Ergebnis kann eine PS-Platte mit ausgezeichnetem Druckverhalten erhalten werden. Auf der lichtempfindlichen Schicht kann eine Mattierungsschicht so vorgesehen sein, dass gute Haftung mit dem Lithfilm beim Vakuumdrucken erhalten wird. Auf der Rückseitenoberfläche kann eine Rückseitenschicht zum Zwecke der Verhinderung des Auflösens von Aluminium bei der Entwicklung vorgesehen sein. Die vorliegende Erfindung kann nicht nur auf eine auf einer Seite behandelte PS-Platte, sondern auch auf eine auf zwei Seiten behandelte PS-Platte angewandt werden.
Weiterhin kann die vorliegende Erfindung nicht nur auf das Oberflächenkörnen eines Aluminiumträgers für eine Flachdruckplatte, sondern auch auf das Oberflächenkörnen von jeder Art von Aluminiumplatten angewandt werden.
Die mechanische Polierbehandlung in der vorliegenden Erfindung wird nachstehend im Einzelnen beschrieben.
Beispiele des mechanischen Polierens umfassen das Strahlsprühen von Schleifkörnern, das Strahlsprühen von Wasser, das Strahlsprühen von magnetischen Schleifkörnern, das magnetische Polieren, das Bandschleifen, das Bürsten und Flüssighonen. Die Aluminiumoberfläche wird bevorzugt unter Verwendung eines Rades oder einer Walze poliert, hergestellt aus einer Nylonbürste, Gummi, Gewebe, Faservlies, Nylon-Faservlies, Schwamm, Filz, Leder oder Poliergewebe. Eine mechanische Nasspolierbehandlung ist bevorzugter als eine mechanische Trockenpolierbehandlung, da große Kratzer, die zu einer Aussehensverschlechterung führen, kaum gebildet werden. Das mechanische Nasspolieren wird bevorzugt durchgeführt, während Wasser oder eine Lösung mit einer Ätzwirkung auf Aluminium oder in Wasser oder eine Lösung mit einer Ätzwirkung auf Aluminium gesprüht wird. Unabhängig davon, ob nass oder trocken gearbeitet wird, wird das mechanische Polieren bevorzugt unter Verwendung eines Schleifmittels in Kombination aufgrund der hohen Wirkung des Rundens der Oberfläche mit geringer Energie durchgeführt.
Wenn das mechanische Polieren während des Ätzens der Aluminiumplatte unter Verwendung einer Säure- oder Alkalilösung durchgeführt wird, löst sich der Aluminiumabrieb oder Ähnliches in der Ätzlösung und bildet kaum Kratzer während des Polierens. Weiterhin können durch Durchführen des mechanischen Polierens während des Ätzens der Aluminiumplatte unter Verwendung einer Säure- oder Alkalilösung die Kratzer, falls sie gebildet werden, durch die Auflösungswirkung der Ätzlösung am Auftreten gehindert werden. Die Menge der geätzten Aluminiumplatte während des Polierens der Folie beträgt bevorzugt 0,001 bis 4 g/m².
Nach dem mechanischen Polieren wird die Aluminiumplatte bevorzugt einem Waschen mit Wasser oder einem chemischen Ätzen in einer wässrigen Säure- oder Alkalilösung unterworfen, um die Aluminiumplatte in einer Menge von 0,01 bis 1 g/m² aufzulösen, so dass der Abrieb oder das Schleifmittel entfernt werden.
Wenn eine Aluminiumplatte in einer Menge von 0,01 bis 30 g/m², bevorzugt von 0,1 bis 3 g/m², unter Verwendung einer wässrigen Säure- oder Alkalilösung vor dem mechanischen Polieren aufgelöst wird, wird die Oberfläche der Aluminiumplatte erweicht, und das mechanische Polieren wird erleichtert.
Es wird in Betracht gezogen, dass durch das mechanische Polieren die Unregelmäßigkeiten auf dem oberflächengekörnten Aluminiumträger abgetragen werden, als Ergebnis wird Tinte beim Drucken kaum aufgenommen, und dadurch tritt ein Tonen des bedruckten Gegenstands kaum auf, oder ein Schwamm wird an der leichten Aufnahme zur Zeit der Lieferung von Feuchtwasser gehindert.
Die Aluminiumplatte kann mit einer Nylonbürste, einem Schwamm, Gummi, Faservlies oder Leder zur Verwendung beim mechanischen Polieren gerieben werden, um eine glatte Oberfläche zu haben, oder sie kann unter Verwendung eines Walzenmaterials gedreht werden. Wenn die Aluminiumplatte unter Verwendung eines Walzenmaterials gedreht wird, besteht bevorzugt ein Unterschied in der Drehgeschwindigkeit zwischen der Aluminiumplatte und dem äußeren Umfang der Walze. Das mechanische Polieren wird bevorzugt unter Verwendung von Schleifmitteln mit einer mittleren Teilchengröße von 0,001 bis 0,1 μm als Polierhilfe durchgeführt. Glas- oder Zirkonoxidkügelchen mit einem mittleren Durchmesser von 0,1 bis 5 mm können ebenfalls als Hilfsmittel verwendet werden. Das Schleifmittel hat bevorzugt eine runde Form, wobei die spitzen Winkel so weit wie möglich verringert sind. Sowohl das Trockenverfahren als auch das Nassverfahren ist wirksam, aber unter dem Gesichtspunkt, dass die Bildung von Kratzern schwierig sein soll, ist das Nassverfahren bevorzugter. In dem Nassverfahren hat die Flüssigkeit eine Gleitwirkung und eine Reinigungswirkung für die Abtragungen, und daher ist es schwierig, dass Kratzer gebildet werden. Die Flüssigkeit ist bevorzugt Wasser, da es unschädlich ist, es kann jedoch auch eine wässrige Säure- oder Alkalilösung mit einer Konzentration von 0,01 bis 30 Gew.-% und einem Gehalt von Aluminiumionen von 0 bis 10 Gew.-% verwendet werden. Die wässrige Säure- oder Alkalilösung umfasst speziell Ätznatron, Schwefelsäure, Phosphorsäure, Salpetersäure, Chlorwasserstoffsäure oder Chromsäure. Nach dem Polieren unter Verwendung einer wässrigen Alkalilösung, während ein Ätzen durchgeführt wird, wird Schmutz gebildet. Demgemäß wird ähnlich zum gewöhnlichen Alkaliätzen bevorzugt ein Entschmutzen als Nachbehandlung in einer wässrigen Lösung von Schwefelsäure, Phosphorsäure, Salpetersäure, Chlorwasserstoffsäure oder Chromsäure durchgeführt. Im Falle der Verwendung einer Flüssigkeit, die ein Schleifmittel enthält, ist eine wässrige Lösung mit einer Konzentration von 0,1 bis 50 Gew.-% bevorzugt. Das Schleifmittel ist bevorzugt Aluminiumoxid, Siliciumdioxid, Aluminumoxidhydroxid oder Ähnliches. Die Nassbehandlung kann bei einer Flüssigkeitstemperatur von 10 bis 90°C durchgeführt werden. Das mechanische Polieren wird unter einem Druck von 0,001 bis 100 kg/cm² mit einem Unterschied in der Geschwindigkeit von der Aluminiumplatte von 0,001 bis 100 m/s durchgeführt.
In dem mechanischen Polieren kann eine Vielzahl von Rädern, Walzen oder Abschnitten in Kombination verwendet werden. Im Falle der Verwendung einer Mehrzahl solcher Einrichtungen in Kombination ist es bevorzugt, Schritte, die in der Drehrichtung verschieden sind, abwechselnd zu kombinieren.
In dem Fall, wo das mechanische Polieren durchgeführt wird, während Wasser oder eine Säure- oder Alkalilösung gegen die Aluminiumoberfläche unter Polieren gesprüht wird, oder durch Eintauchen der Aluminiumplatte in eine Lösung, hat die Lösung bevorzugt eine Viskosität von 1 bis 200 cP, bevorzugter von 1,5 bis 50 cP. Wenn die Viskosität der Lösung ansteigt, wird rasch eine flüssige Beschichtung auf der Aluminiumoberfläche gebildet, als Ergebnis neigt die Aluminiumoberfläche nicht zu Kratzern. Die Viskosität wird durch Zugabe eines Verdickungsmittels erhöht. Das Verdickungsmittel ist bevorzugt eine Polymerverbindung. So wird z.B. Polyethylenglycol in einer Menge von 0,01 bis 60 Gew.-% zugesetzt, oder ein Polymer-Koagulans zur Verwendung in der Wasserbehandlung oder Abwasserbehandlung wird in einer Menge von 0,01 bis 5 Gew.-% zugesetzt. Beispiele des Polymer-Koagulans umfassen nicht ionische Koagulanzien, anionische Koagulanzien und Koagulanzien auf Polyacrylsäurebasis. Weiterhin können industrielle Produkte, erhältlich von Kurita Kogyo K.K. unter den Handelsbezeichnungen PN-161, PN-162, PN-133, PN-171, PA-328, PA-371, PA-322, PA-331, PA-349, PA-372, PA-318, PA-362, PA-363, PA-364, PA-365, PA-374, PA-375, PA-376, PA-377, PA-378, PA-379, PA-312, LC-541 und LC-551 verwendet werden.
Die hauptsächlich Chlorwasserstoffsäure enthaltende wässrige Lösung zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung kann eine Lösung sein, die beim gewöhnlichen elektrochemischen Oberflächenkörnen unter Verwendung von Gleichstrom oder Wechselstrom verwendet wird. So kann z.B. 1 bis 100 g/l einer wässrigen Chlorwasserstoffsäurelösung verwendet werden, die dazu zugesetzt 1 g/l bis zur Sättigung einer oder mehrerer Salpetersäureverbindungen mit Nitrationen, wie Aluminiumnitrat, Natriumnitrat und Ammoniumnitrat, und Chlorwasserstoffsäureverbindungen mit Chloridionen, wie Aluminiumchlorid, Natriumchlorid und Ammoniumchlorid, enthält. In der hauptsächlich Chlorwasserstoffsäure enthaltenden wässrigen Lösung können auch Metalle, die in Aluminiummetall enthalten sind, wie Eisen, Kupfer, Mangan, Nickel, Titan, Magnesium und Silicium, aufgelöst werden. Hypochlorige Säure kann ebenfalls verwendet werden.
Um vorbereitend feine Unregelmäßigkeiten unter Verwendung von Wechselstrom in einer hauptsächlich Chlorwasserstoffsäure enthaltenden wässrigen Lösung herzustellen, ist eine wässrige Lösung bevorzugter, die eine Flüssigkeitstemperatur von 15 bis 45°C hat und so eingestellt ist, dass sie eine Aluminiumionenkonzentration von 3 bis 50 g/l durch Zugabe eines Aluminiumsalzes zu einer 5 bis 15 g/l enthaltenden wässrigen Lösung hat.
Mit Bezug auf Zusätze zu der hauptsächlich Chlorwasserstoffsäure enthaltenden wässrigen Lösung, die Vorrichtung, die Energiequelle, die Stromdichte, die Fließgeschwindigkeit und die Temperatur, können solche verwendet werden, die bei dem bekannten elektrochemischen Oberflächenkörnen verwendet werden. Eine hauptsächlich Salpetersäure oder Chlorwasserstoffsäure enthaltende wässrige Lösung ist bevorzugt. Die Energiequelle zur Verwendung in dem elektrochemischen Oberflächenkörnen kann Wechselstrom oder Gleichstrom sein, und Wechselstrom ist bevorzugt.
In dem elektrochemischen Oberflächenkörnen in einer hauptsächlich Chlorwasserstoffsäure enthaltenden wässrigen Lösung beträgt die Elektrizitätsmenge, die an der Anodisierung einer Aluminiumplatte beteiligt ist, 1 bis 300 C/dm², bevorzugt 5 bis 150 C/dm², bevorzugter 10 bis 100 C/dm².
Nach der Herstellung von feinen Unregelmäßigkeiten durch das elektrochemische Oberflächenkörnen wird ein Schmutz- oder Oxidfilm gebildet. Um das nächste elektrochemische Oberflächenkörnen gleichmäßig durchzuführen, wird demgemäß ein leichtes Ätzen bevorzugt in einer wässrigen Säure- oder Alkalilösung derart durchgeführt, dass die Aluminiumplatte in einer Menge von 0,01 bis 3 g/m², bevorzugter von 0,01 bis 1,5 g/m², aufgelöst wird.
Das vorbereitende elektrochemische Oberflächenkörnen mit einer Elektrizitätsmenge von 1 bis 300 C/dm² unter Verwendung von Wechselstrom in einer hauptsächlich Chlorwasserstoffsäure enthaltenden wässrigen Lösung wird bevorzugt derart durchgeführt, dass die Oberfläche frei von nicht geätzten Teilen ist, dass aber Löcher gleichmäßig über die Oberfläche hinweg gebildet werden, oder selbst wenn nicht geätzte Teile vorhanden sind, die nicht geätzten Teile gleichmäßig verteilt sind.
Nachstehend wird das elektrolytische Polieren in einer wässrigen Alkalilösung beschrieben.
Das elektrolytische Polieren in einer wässrigen Alkalilösung, wie in der vorliegenden Erfindung verwendet, bedeutet eine elektrolytische Behandlung, die unter Verwendung von Aluminium als Anode in einer wässrigen Lösung durchgeführt wird, die nur eine alkalische Substanz, wie Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Natriumcarbonat und Natriumphosphat oder eine Mischung dieser alkalischen Substanzen, eine Mischung der alkalischen Substanz mit Zinkhydroxid oder Aluminiumhydroxid, oder eine Mischung der alkalischen Substanz mit einem Salz, wie Natriumchlorid oder Kaliumchlorid, enthält, die so eingestellt ist, dass sie die Zusammensetzung einer elektrolytischen Lösung, eine Temperatur und eine Konzentration hat, die fähig sind, auf ein elektrisch deoxidierendes Material zu wirken. Um in stabiler Weise einen gleichmäßigen Oxidfilm herzustellen, kann Wasserstoffperoxid oder Phosphat in einer Konzentration von 1 Gew.-% oder weniger zugesetzt werden. Bekannte wässrige Lösungen zur Verwendung im elektrolytischen Polieren können verwendet werden, eine hauptsächlich Natriumhydroxid enthaltende wässrige Lösung ist jedoch bevorzugt. Eine wässrige Lösung, die 2 bis 30 Gew.-% enthält, ist bevorzugter, und eine wässrige Lösung, die 3 bis 20 Gew.-% enthält, ist noch bevorzugter. Die Flüssigkeitstemperatur, die Stromdichte und die Elektrolysezeit können ausgewählt sein von 10 bis 90°C (bevorzugt von 35 bis 60°C), von 1 bis 200 A/dm² (bevorzugt von 20 bis 80 A/dm²) und von 1 bis 180 Sekunden. Der Strom kann Gleichstrom, gepulster Gleichstrom oder Wechselstrom sein, ein kontinuierlicher Gleichstrom ist jedoch bevorzugt. Die Vorrichtung für die elektrolytische Behandlung kann eine herkömmlicherweise bekannte Vorrichtung sein, die in der elektrolytischen Behandlung verwendet wird, wie ein Flachbad oder ein Radialbad.
Nach der vollständigen Behandlung werden bevorzugt eine Flüssigkeitsabquetschung durch Quetschwalzen und ein Waschen durch Besprühen mit Wasser durchgeführt, um so das Überschleppen der Behandlungslösung in den nächsten Schritt zu verhindern.
Bevorzugter wird ein chemisches Ätzen in einer wässrigen Säure- oder Alkalilösung vor oder nach dem elektrolytischen Polieren oder vor und nach dem elektrolytischen Polieren derart durchgeführt, dass die Aluminiumplatte in einer Menge von 0,01 bis 3 g/m² aufgelöst wird.
Zu der wässrigen Alkalilösung kann eine wasserlösliche Polymerverbindung als Verdickungsmittel in einer Menge von 0,1 bis 60 Gew.-% zugesetzt werden, um die Viskosität der elektrolytischen Lösung zu erhöhen, so dass der vorstehende Teil eines Loches, das durch das elektrochemische Oberflächenkörnen hergestellt wurde, bevorzugt leicht aufgelöst wird, und eine Druckplatte, die beim Drucken nicht zum Tonen neigt, mit der verringerten Menge von aufgelöstem Aluminium hergestellt werden kann. Es ist auch bevorzugter, 0,001 bis 10 g/l eines Aufhellers, wie ein oberflächenaktives Mittel, zuzusetzen. Beispiele der wasserlöslichen Polymerverbindung umfassen Polyvinylalkohol. Eine wasserlösliche Polymerverbindung mit einem mittleren Molekulargewicht von 200 bis 20000 kann verwendet werden, eine Polymerverbindung mit einem mittleren Molekulargewicht von 600 oder weniger wird jedoch bevorzugt verwendet, da sie flüssig ist.
Andere Beispiele des Verfahrens zum Erhöhen der Viskosität der elektrolytischen Lösung umfassen ein Verfahren der Zugabe eines Polymer-Koagulans, das in der Wasserbehandlung oder Abwasserbehandlung in einer Menge von 0,01 bis 5 Gew.-% verwendet wird. Das Polymer-Koagulans umfasst nicht ionische Koagulanzien, anionische Koagulanzien und Koagulanzien auf Polyacrylsäurebasis. Weiterhin können industrielle Produkte, erhältlich von Kurita Kogyo K. K. unter den Handelsbezeichnungen PN-161, PN-162, PN-133, PN-171, PA-328, PA-371, PA-322, PA-331, PA-349, PA-372, PA-318, PA-362, PA-363, PA-364, PA-365, PA-374, PA-375, PA-376, PA-377, PA-378, PA-379, PA-312, LC-541 und LC-551 verwendet werden.
Das elektrolytische Polieren in einer sauren wässrigen Lösung zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung wird nachstehend beschrieben.
Die wässrige Lösung zur Verwendung in dem elektrolytischen Polieren einer Aluminiumplatte in einer sauren wässrigen Lösung, die in der vorliegenden Erfindung genannt ist, kann eine bekannte wässrige Lösung sein, die in dem elektrolytischen Polieren verwendet wird, eine hauptsächlich Schwefelsäure oder Phosphorsäure enthaltende wässrige Lösung ist jedoch bevorzugt. Die wässrige Lösung enthält bevorzugt 20 bis 90 Gew.-% (bevorzugter 40 bis 80 Gew.-%) Schwefelsäure oder Phosphorsäure. Die Flüssigkeitstemperatur beträgt 10 bis 90°C (bevorzugt 50 bis 80°C), die Stromdichte beträgt 1 bis 200 A/dm² (bevorzugt 5 bis 80 A/dm²), und die Elektrolysezeit beträgt 1 bis 180 Sekunden. Zu dieser wässrigen Lösung kann Schwefelsäure, Phosphorsäure, Chromsäure, Wasserstoffperoxid, Borsäure, Fluorwasserstoffsäure oder Phthalsäureanhydrid in einer Menge von 1 bis 50 Gew.-% zugesetzt werden. Weiterhin kann die wässrige Lösung 0 bis 10 Gew.-% Aluminium oder eine Legierungskomponente, die in der Aluminiumlegierung enthalten ist, enthalten. Die Konzentration von Sulfonationen oder Phosphationen und die Konzentration von Aluminiumionen ist jeweils bevorzugt eine Konzentration, die selbst bei gewöhnlicher Temperatur keine Kristallisation hervorruft.
Der Strom kann Gleichstrom, gepulster Gleichstrom oder Wechselstrom sein, ist jedoch bevorzugt kontinuierlicher Gleichstrom. Die Vorrichtung für die elektrolytische Behandlung kann eine bekannte Vorrichtung sein, die in der elektrolytischen Behandlung verwendet wird, wie ein Flachbad oder ein Radialbad. Nach der vollständigen Behandlung werden ein Flüssigkeitsabquetschen durch Quetschwalzen und ein Waschen durch Besprühen mit Wasser bevorzugt durchgeführt, um so das Überschleppen der Behandlungslösung in den nächsten Schritt zu verhindern.
Bevorzugter wird ein chemisches Ätzen in einer wässrigen Säure- oder Alkalilösung vor oder nach dem elektrolytischen Polieren oder vor und nach dem elektrolytischen Polieren derart durchgeführt, dass die Aluminiumplatte in einer Menge von 0,01 bis 3 g/m² aufgelöst wird.
Zu der sauren wässrigen Lösung kann eine wasserlösliche Polymerverbindung als Verdickungsmittel zur Erhöhung der Viskosität der elektrolytischen Lösung zugesetzt werden, wie in JP-A-57-44000 beschrieben, so dass der vorstehende Teil eines durch das elektrochemische Oberflächenkörnen hergestellten Loches bevorzugt einfach aufgelöst werden kann, und eine Druckplatte, die beim Drucken nicht zum Tonen neigt, mit einer verringerten Menge von aufgelöstem Aluminium hergestellt werden kann. Es ist ebenfalls bevorzugter, 0,001 bis 10 g/l eines Aufhellers, wie ein oberflächenaktives Mittel, zuzusetzen. Beispiele der wasserlöslichen Polymerverbindung umfassen Polyvinylalkohol. Eine wasserlösliche Polymerverbindung mit einem mittleren Molekulargewicht von 200 bis 20000 kann verwendet werden, eine Polymerverbindung mit einem mittleren Molekulargewicht von 600 oder weniger wird jedoch bevorzugt verwendet, da sie flüssig ist.
Nachstehend wird das chemische Ätzen in einer wässrigen Säure- oder Alkalilösung zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung beschrieben.
Die wässrige Alkalilösung hat bevorzugt eine Konzentration von 1 bis 30 Gew.-% und kann natürlich Aluminium oder sogar eine Legierungskomponente, die in der Aluminiumlegierung enthalten ist, in einer Menge von 0 bis 10 Gew.-% enthalten. Die wässrige Alkalilösung ist bevorzugt eine wässrige Lösung, die hauptsächlich Ätznatron enthält. Die Behandlung wird bevorzugt bei einer Flüssigkeitstemperatur von gewöhnlicher Temperatur bis 95°C für 1 bis 120 Sekunden durchgeführt.
Beispiele der Säure, die in der sauren wässrigen Lösung verwendet werden kann, umfassen Phosphorsäure, Salpetersäure, Schwefelsäure, Chromsäure, Chlorwasserstoffsäure und eine Säuremischung, die zwei oder mehrere dieser Säuren enthält. Die saure wässrige Lösung hat bevorzugt eine Konzentration von 0,5 bis 65 Gew.-% und kann natürlich Aluminium oder sogar eine Legierungskomponente, die in der Aluminiumlegierung enthalten ist, in einer Menge von 0 bis 10 Gew.-% enthalten. Die Behandlung wird bevorzugt bei einer Flüssigkeitstemperatur von 30 bis 95°C für 1 bis 120 Sekunden durchgeführt. Die wässrige Säurelösung ist bevorzugt eine wässrige Lösung, die hauptsächlich Schwefelsäure enthält. Die Schwefelsäurekonzentration und die Aluminiumkonzentration werden jeweils bevorzugt aus dem Bereich ausgewählt, der bei gewöhnlicher Temperatur keine Kristallisation hervorruft.
Nach dem vollständigen Ätzen werden eine Flüssigkeitsabquetschung durch Quetschwalzen und ein Waschen durch Besprühen mit Wasser bevorzugt durchgeführt, um das Überschleppen der Behandlungslösung in den nächsten Schritt zu verhindern.
Nachstehend wird das Entschmutzen in einer sauren wässrigen Lösung beschrieben.
In dem Fall, wo das chemische Ätzen unter Verwendung einer wässrigen Alkalilösung durchgeführt wird, wird gewöhnlich Schmutz auf der Aluminiumoberfläche gebildet. In diesem Fall wird ein Entschmutzen mit Phosphorsäure, Salpetersäure, Schwefelsäure, Chromsäure, Chlorwasserstoffsäure oder einer Säuremischung durchgeführt, die zwei oder mehrere dieser Säuren enthält. Die saure wässrige Lösung hat bevorzugt eine Konzentration von 0,5 bis 60 Gew.-%. In der sauren wässrigen Lösung kann natürlich Aluminium oder sogar eine Legierungskomponente, die in der Aluminiumlegierung enthalten ist, in einer Menge von etwa 0 bis 5 Gew.-% aufgelöst sein. Die Behandlung wird bei einer Flüssigkeitstemperatur von gewöhnlicher Temperatur bis 95°C für eine Behandlungszeit von 1 bis 120 Sekunden durchgeführt. Nach dem vollständigen Entschmutzen werden eine Flüssigkeitsabquetschung durch Quetschwalzen und ein Waschen durch Besprühen mit Wasser bevorzugt durchgeführt, um das Überschleppen der Behandlungslösung in den nächsten Schritt zu verhindern.
Wässrige Lösung, die hauptsächlich Salpetersäure enthält:
Die hauptsächlich Salpetersäure enthaltende wässrige Lösung, die in der vorliegenden Erfindung genannt wird, kann eine Lösung sein, die im gewöhnlichen elektrochemischen Oberflächenkörnen unter Verwendung von Gleichstrom oder Wechselstrom verwendet wird. So kann z.B. 1 bis 400 g/l einer wässrigen Salpetersäurelösung verwendet werden, die zugesetzt 1 g/l bis zur Sättigung einer oder mehrerer Salpetersäureverbindungen mit Nitrationen, wie Aluminiumnitrat, Natriumnitrat und Ammoniumnitrat, und Chlorwasserstoffsäureverbindungen mit Chloridionen, wie Aluminiumchlorid, Natriumchlorid und Ammoniumchlorid, enthält. In der hauptsächlich Salpetersäure enthaltenden wässrigen Lösung können Metalle, die in einer Aluminiumlegierung enthalten sind, wie Eisen, Kupfer, Mangan, Nickel, Titan, Magnesium und Silicium, aufgelöst werden. Insbesondere wird bevorzugt eine Lösung verwendet, die zugesetzt Aluminiumchlorid oder Aluminiumnitrat derart enthält, dass die Aluminiumionen in einer Menge von 3 bis 50 g/l in einer wässrigen Lösung, die 5 bis 20 g/l Salpetersäure enthält, vorhanden sind. Die Temperatur beträgt bevorzugt 10 bis 95°C, bevorzugter 40 bis 80°C.
Nachstehend wird das elektrochemische Oberflächenkörnen unter Verwendung von Wechselstrom zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung beschrieben.
Die saure wässrige Lösung zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung kann eine wässrige Lösung sein, die in dem gewöhnlichen elektrochemischen Oberflächenkörnen unter Verwendung von Gleichstrom oder Wechselstrom verwendet wird. Eine wässrige Lösung, ausgewählt aus den vorstehend beschriebenen wässrigen Lösungen, die hauptsächlich Salpetersäure oder Chlorwasserstoffsäure enthalten, können vorteilhafterweise verwendet werden.
Die Wechselstromquelle zur Verwendung in dem elektrochemischen Oberflächenkörnen kann eine Wellenform haben, wie eine Sinuswelle, eine Rechteckwelle, eine trapezförmige Welle und eine Dreieckwelle. Die Rechteckwelle und die trapezförmige Welle sind bevorzugt, und die trapezförmige Welle ist bevorzugter. Die Frequenz beträgt 0,1 bis 250 Hz.
1 zeigt ein Beispiel der trapezförmigen Welle, die in der vorliegenden Erfindung bevorzugt verwendet wird. In der trapezförmigen Welle beträgt die Zeit tp, bis der Strom ausgehend von 0 die Spitze erreicht, bevorzugt 0,1 bis 10 Millisekunden, bevorzugter 0,3 bis 2 Millisekunden. Falls tp kleiner ist als 1, ist eine hohe Spannung der Energiequelle bei dem ersten Übergang der trapezförmigen Wellenform aufgrund der Wirkung der Impedanz der Energiequellenschaltung notwendig, und dies erhöht die Kosten für die Energiequellenausrüstung, während falls tp 10 Millisekunden übersteigt, wird die Behandlung rasch durch die Spurenkomponente in der elektrolytischen Lösung beeinträchtigt, und ein gleichmäßiges Oberflächenkörnen kann nicht in einfacher Weise erreicht werden.
Die Bedingungen in einem Zyklus des Wechselstroms zur Verwendung in dem elektrochemischen Oberflächenkörnen sind bevorzugt derart, dass das Verhältnis von tc/ta der Anodenreaktionszeit ta der Aluminiumplatte zu der Kathodenreaktionszeit tc 1 bis 20 beträgt, das Verhältnis Qc/Qa der Elektrizitätsmenge Qc bei der Kathodenzeit der Aluminiumplatte zu der Elektrizitätsmenge Qa bei der Anodenzeit 0,3 bis 20 beträgt, und die Kathodenreaktionszeit ta 5 bis 1000 Millisekunden beträgt, bevorzugter beträgt tc/ta 2,5 bis 15, und Qc/Qa beträgt 2,5 bis 15.
Die Stromdichte, ausgedrückt als Spitzenwert der trapezförmigen Welle beträgt bevorzugt 10 bis 200 A/dm² sowohl in der Anodenzyklusseite Ia als auch der Kathodenzyklusseite Ic des Stroms. Ic/Ia beträgt bevorzugt 0,3 bis 20.
Die gesamte Elektrizitätsmenge, die in der Anodenreaktion der Aluminiumplatte beteiligt ist, beträgt bevorzugt 1 bis 1000 C/dm² zu der Zeit, wenn das elektrochemische Oberflächenkörnen vervollständigt ist.
Das elektrolytische Bad zur Verwendung in dem elektrochemischen Oberflächenkörnen der vorliegenden Erfindung unter Verwendung von Wechselstrom kann ein bekanntes elektrolytisches Bad sein, das in der Oberflächenbehandlung verwendet wird, wie vom vertikalen Typ, flachen Typ und radialen Typ, ein elektrolytisches Bad vom radialen Typ, das in der JP-A-5-195300 beschrieben ist, ist jedoch bevorzugt. Die durch das elektrolytische Bad laufende Elektrolytlösung kann parallel oder entgegen der Richtung der Aluminiumbahn gehen. An ein elektrolytisches Bad können eine oder mehrere Wechselstromquellen angeschlossen werden. Es können auch zwei oder mehrere elektrolytische Bäder verwendet werden.
Für das elektrochemische Oberflächenkörnen unter Verwendung von Wechselstrom kann eine in 2 gezeigte Vorrichtung verwendet werden. Wenn zwei oder mehrere elektrolytische Bäder verwendet werden, können die Elektrolysebedingungen gleich oder verschieden sein.
Eine Aluminiumplatte W wird durch Winden um eine Radialtrommelwalze 52 zugeführt, die in ein elektrolytisches Hauptbad 50 eingetaucht ist, und auf dem Transportweg durch Hauptelektroden 53a und 53b elektrolysiert, die an eine Wechselstromquelle 51 angeschlossen sind. Eine Elektrolytlösung 55 wird von einem Zufuhreinlass 54 für die Elektrolytlösung zu einem Elektrolytlösungsweg 57 zwischen der Radialtrommelwalze 52 und der Hauptelektrode 53a oder 53b durch einen Schlitz 56 zugeführt. Die in dem Hauptelektrolysebehälter 50 behandelte Aluminiumplatte W wird dann in einem Hilfsanodenbad 60 elektrolysiert. In diesem Hilfsanodenbad 60 ist eine Hilfsanode 58 gegenüber der Aluminiumplatte angeordnet, und die Elektrolytlösung wird so zugeführt, dass sie durch den Raum zwischen der Hilfsanode 58 und der Aluminiumplatte W läuft.
Elektrochemisches Oberflächenkörnen unter Verwendung von Gleichstrom:
Das elektrochemische Oberflächenkörnen unter Verwendung von Gleichstrom, wie es in der vorliegenden Erfindung verwendet wird, bedeutet ein Verfahren der Durchführung des elektrochemischen Oberflächenkörnens durch Anwenden eines Gleichstroms zwischen einer Aluminiumplatte und einer gegenüberliegenden Elektrode. Die Elektrolytlösung kann eine bekannte Elektrolytlösung sein, die im elektrolytischen Oberflächenkörnen unter Verwendung von Gleichstrom oder Wechselstrom verwendet wird. Eine Elekt rolytlösung, ausgewählt aus den vorstehend beschriebenen wässrigen Lösungen, die hauptsächlich Salpetersäure oder Chlorwasserstoffsäure enthält, kann vorteilhafterweise verwendet werden. Die Temperatur beträgt bevorzugt 10 bis 80°C. Die Vorrichtung für das elektrochemische Oberflächenkörnen unter Verwendung von Gleichstrom kann eine bekannte Vorrichtung unter Verwendung von Gleichstrom sein, eine in JP-A-1-141094 beschriebene Vorrichtung ist jedoch bevorzugt, wo ein oder mehrere Paare von Anode und Kathode abwechselnd angeordnet sind. Beispiele von bekannten Vorrichtungen umfassen solche, die in JP-A-6-328876, JP-A-8-67078, JP-A-61-19115 und JP-B-57-44760 beschrieben sind. Das elektrochemische Oberflächenkörnen kann auch durch Anlegen von Gleichstrom zwischen einer Leiterwalze in Kontakt mit einer Aluminiumplatte und einer gegenüberliegenden Kathode und unter Verwendung der Aluminiumplatte als Anode durchgeführt werden. Nach der vollständigen Elektrolysebehandlung werden bevorzugt ein Flüssigkeitsabquetschen durch Quetschwalzen und ein Waschen durch Besprühen mit Wasser durchgeführt, um so das Überschleppen d er Behandlungslösung in den nächsten Schritt zu verhindern. Der Gleichstrom zur Verwendung in dem elektrochemischen Oberflächenkörnen ist bevorzugt ein Gleichstrom mit einem Welligkeitsverhältnis von 20 % oder weniger. Die Stromdichte beträgt bevorzugt 10 bis 200 A/dm², und die Elektrizitätsmenge, wenn die Aluminiumplatte an der Anodenzeit ist, beträgt bevorzugt 1 bis 1000 C/dm². Die Anode, die verwendet werden kann kann aus bekannten Elektroden zur Verwendung in der Sauerstoffbildung, wie Ferrit, Iridiumoxid, Platin oder platinbeschichtetes Titan, Niob oder Zirconium-Ventilmetall, ausgewählt werden. Die Kathode, die verwendet werden kann, kann Kohlenstoff, Platin, Titan, Niob, Zirconium oder nicht rostender Strahl sein oder kann aus den Elektroden ausgewählt werden, die als Kathode von Brennstoffzellen verwendet wird.
Die Anodisierung zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung wird nachstehend beschrieben.
Die Aluminiumplatte wird einer Anodisierung unterworfen, um so die Abriebbeständigkeit auf ihrer Oberfläche zu erhöhen. Der Elektrolyt zur Verwendung in der Anodisierung einer Aluminiumplatte kann jeder Elektrolyt sein, sofern ein poröser Oxidfilm gebildet werden kann. Im Allgemeinen wird Schwefelsäure, Phosphorsäure, Oxalsäure, Chromsäure oder ein Lösungsgemisch davon verwendet. Die Konzentration des Elektrolyts wird in geeigneter Weise in Abhängigkeit von der Art des Elektrolyts festgelegt. Die Bedingun gen für die Anodisierung variieren in Abhängigkeit von dem verwendeten Elektrolyt und können nicht wahllos spezifiziert werden, es kann jedoch im Allgemeinen genügen, wenn die Elektrolytkonzentration 1 bis 80 Gew.-% beträgt, die Flüssigkeitstemperatur 5 bis 70°C beträgt, die Stromdichte 1 bis 60 A/dm² beträgt, die Spannung 1 bis 100 V beträgt, und die Elektrolysezeit 10 bis 300 s beträgt.
Die Behandlung durch ein Schwefelsäureverfahren wird gewöhnlich unter Verwendung von Gleichstrom durchgeführt, kann aber auch unter Verwendung von Wechselstrom durchgeführt werden. Die Menge des anodischen Oxidfilms beträgt geeigneterweise 1 bis 10 g/m². Wenn sie kleiner ist als 1 g/m², ist die Haltbarkeit beim Drucken nicht ausreichend lang, oder der Nichtbildbereich einer hergestellten Flachdruckplatte wird rasch zerkratzt, was zu einer Haftung von Tinte an dem zerkratzten Teil führt, der sogenannten Kratzverschmutzung.
Falls erwünscht, wird die Aluminiumoberfläche nach der Anodisierung einer hydrophilisierenden Behandlung unterworfen. Beispiele der hydrophilisierenden Behandlung zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung umfassen ein Alkalimetallsilicat-Verfahren (z.B. eine wässrige Natriumsilicatlösung), das in den US-Patentschriften 2,714,066, 3,181,461, 3,280,734 und 3,902,734 beschrieben ist. Gemäß diesem Verfahren wird der Träger in eine wässrige Natriumsilicatlösung eingetaucht oder elektrolysiert. Andere Beispiele umfassen Behandlungen mit Kaliumfluorzirconat, beschrieben in JP-B-36-22063, oder mit einer Polyvinylphosphonsäure, beschrieben in den US-Patentschriften 3,276,868, 4,153,461 und 4,689,272.
Eine Aluminiumplatte wird bevorzugt einem Versiegeln nach dem Körnen und der Anodisierung unterworfen. Das Versiegeln wird durch das Eintauchen in eine heiße wässrige Lösung, die heißes Wasser und ein anorganisches oder organisches Salz enthält, und anschließend in ein Dampfbad durchgeführt.
Die verwendbare Qualität der Aluminiumoberfläche wird durch ihre Oberflächenstruktur, Gleitfähigkeit und Farbeigenschaften bestimmt. Die feine Struktur auf der Oberfläche eines Aluminiumträgers beeinflusst in großem Maß die Leistungsfähigkeit der Folie, die als Träger für eine Flachdruckplatte verwendet wird. Es ist festgestellt worden, dass eine ausgezeichnete Flachdruckplatte aufgrund der Oberflächeneigenschaften einer Alumini umplatte, die durch die vorliegende Erfindung hergestellt ist, erhalten werden kann. Die Aluminiumplatte hat eine harte und dauerhafte Oberfläche, die sich durch ausgezeichnete Affinität für Wasser und hervorragende Haftung an die lichtempfindliche Schicht auszeichnet. Weiterhin kann die Aluminiumplatte der vorliegenden Erfindung selbst nach der Anodisierung weiß und frei von Unebenheit gehalten werden, daher kann die daraus hergestellte Flachdruckplatte einen guten Kontrast haben. Aufgrund des hohen Kontrasts zwischen dem Bildbereich und dem Nichtbildbereich kann der Drucker in einfacher Weise die Qualität des Bildbereichs untersuchen. Weiterhin wird bei der Flachdruckplatte das leichte Abstreifen des Bildbereichs aufgrund der Verteilung von Spitzen und Vertiefungen, welche die Oberflächenstruktur bilden, verhindert, demgemäß kann sie eine ausgezeichnete Haltbarkeit beim Drucken haben. Darüber hinaus ist der Glanz der Oberfläche unterdrückt und blendet kaum, so dass die Menge von Feuchtwasser beim Drucken in einfacher Weise durch den Bediener der Druckmaschine untersucht werden kann. Hierzu hat der Aluminiumträger für eine Flachdruckplatte bevorzugt Parameter für die Struktur der aufgerauten Oberfläche, die in die folgenden Bereiche fallen.
Der Träger für eine Flachdruckplatte mit einer Oberfläche, die dem Oberflächenkörnen und dann der Anodisierung unterworfen wurde, hat zweidimensionale Rauheitsparameter derart, dass Ra 0,1 bis 1 μm beträgt, Ry 1 bis 10 μm beträgt, Rz 1 bis 10 μm beträgt, Sm 5 bis 80 μm beträgt, S 5 bis 80 μm beträgt, Rt 1 bis 10 μm beträgt, Rp 1 bis 10 μm beträgt, und Rv 1 bis 10 μm beträgt.
Der Träger für eine lithografische Druckplatte mit einer Oberfläche, die dem Oberflächenkörnen und dann der Anodisierung unterworfen wurde, hat dreidimensionale Rauheitsparameter derart, dass SRp 1 bis 15 μm beträgt, SRv 1 bis 20 μm beträgt, SRmax 5 bis 30 μm beträgt, SRa 0,1 bis 2 μm beträgt, SGr 50 bis 500 μm beträgt, SSr 10 bis 90 % beträgt, SRz 5 bis 30 μm beträgt, SRq 0,5 bis 3 μm beträgt, SRsk –0,9 bis +0,9 beträgt, SΔa 0,2 bis 1,5 Radiant beträgt, und Sλa 5 bis 20 μm beträgt.
Die Parameter für die Oberflächenrauheit können durch ein Spurverfahren-Rauheitsmessgerät oder ein optisches Rauheitsmessgerät gemessen werden.
Wenn die Tristimulus-Chromatizitätskoordinatenwerte L, a und b auf der Oberfläche einer bereitgestellten Druckplatte gemessen werden, beträgt L 35,00 bis 95,0, a beträgt –4,00 bis +4,00, und b beträgt –4,00 bis +4,00.
Der 85°-Glanz beträgt 1 bis 40, der 70°-Glanz beträgt 1 bis 15, der 60°-Glanz beträgt 1 bis 10, der 45°-Glanz beträgt 1 bis 10, und der 20°-Glanz beträgt 1 bis 5.
Die vorstehend beschriebenen Parameter sind wie folgt definiert.
(1) Zweidimensionale Rauheitsparameter
Ra: mittlere Mittelliniehöhe:
Ein Teil der gemessenen Länge L wird aus der Rauheitskurve in Richtung der Mittellinie und einem arithmetischen Mittel von Absolutwerten in der Abweichung zwischen der Mittellinie extrahiert, und die Rauheitskurve in diesem extrahierten Teil wird als mittlere Mittelliniehöhe verwendet.
Ry: Maximalhöhe:
Ein Teil genau in der Standardlänge wird aus der Rauheitskurve in Richtung der Mittellinie extrahiert, und der Abstand zwischen der Spitzenlinie und der Vertiefungslinie in diesem extrahierten Teil wird in Richtung der Längsvergrößerung der Rauheitskurve bestimmt und als Maximalhöhe verwendet.
Rz: mittlere Zehnpunkthöhe:
Ein Teil genau in der Standardlänge wird aus der Rauheitskurve in Richtung ihres Mittelwerts extrahiert. Ein Mittelwert von Absolutwerten in der Höhe (Yp) von den höchsten zu den fünften Spitzen und ein Mittelwert der Absolutwerte in der Höhe (Yv) von den niedrigsten zu den fünften Vertiefungen, gemessen in der Richtung der Längsvergrößerung von der Mittellinie in diesem extrahierten Teil, werden bestimmt, und die Summe von Mittelwerten wird durch μm angegeben und als mittlere Zehnpunkthöhe verwendet.
Sm: mittlerer Abstand von Unregelmäßigkeiten:
Ein Teil genau in der Standardlänge wird aus der Rauheitskurve in Richtung ihres Mittelwerts extrahiert, die Summe der Durchschnittslinien, die jeweils dem Abstand zwischen einer Spitze und einer Vertiefung in diesem extrahierten Teil entsprechen, wird bestimmt, und ein arithmetisches Mittel von Abständen dieser zahlreichen Unregelmäßigkeiten wird durch mm angegeben und als mittlerer Abstand von Unregelmäßigkeiten verwendet.
S: mittlerer Abstand von lokalen Spitzen:
Die Länge jeder Durchschnittslinie entsprechend dem Abstand zwischen lokalen Spitzen wird bestimmt, und ein arithmetisches Mittel der Abstände dieser zahlreichen lokalen Spitzen wird durch mm angegeben und als mittlerer Abstand von lokalen Spitzen verwendet.
Rt: Maximalhöhe:
Ein Teil genau in der Standardlänge wird aus der Rauheitskurve extrahiert, zwei gerade Linien parallel zu der Mittellinie werden gezogen, um den extrahierten Teil dazwischenzuschieben, und der Abstand zwischen diesen zwei geraden Linien wird als Maximalhöhe verwendet.
Rp: Mittellinie-Spitzenhöhe:
Ein Teil genau in der Standardlänge wird aus der Rauheitskurve in Richtung ihres Mittelwerts extrahiert, und der Abstand zwischen der Durchschnittslinie und einer dazu parallel verlaufenden und durch die höchste Spitze gehenden Linie wird als Mittellinie-Spitzenhöhe verwendet.
Ry: Tiefe der Mittellinietiefe:
Ein Teil der gemessenen Länge L wird aus der Rauheitskurve in Richtung der Mittellinie extrahiert, und der Abstand zwischen der Mittellinie und einer dazu parallel verlaufenden und durch die tiefste Vertiefung gehenden Linie wird als Tiefe der Mittellinietiefe verwendet.
(2) Dreidimensionale Rauheitsparameter
SRp: Mittelebene-Spitzenhöhe:
Der Abstand zwischen der Mittelebene und der höchsten Spitze auf der Rauheits-Kurvenfläche wird als Mittellinie-Spitzenhöhe verwendet.
SRv: Tiefe der Mittelebenetiefe:
Der Abstand zwischen der Mittelebene und der niedrigsten Vertiefung auf der Rauheits-Kurvenfläche wird als Tiefe der Mittellinietiefe verwendet.
SRmax: Maximalhöhe:
Der Abstand zwischen zwei Ebenen parallel zu der Mittelebene auf der Teilkurvenfläche und Einschieben der Teilkurvenfläche wird als Mittelebene-Spitzenhöhe verwendet.
SRa: Mittlere Mittelliniehöhe:
Rechtwinklige Koordinatenachsen X und Y werden auf die Mittelebene der Rauheitskurvenfläche gebracht, eine Achse, welche die Mittelebene im rechten Winkel trifft, wird als Achse Z angenommen, und ein aus der Rauheitskurvenfläche f(X, Y) und der Größe Lx, LY der Standardebene berechneter Wert wird als mittlere Mittelliniehöhe verwendet.
SGr: Mittelebene-Flächenverhältnis:
Eine mittlere Fläche von wesentlichen Teilchen, die auf der Mittelebene der Rauheitskurvenfläche auftreten.
SSr: Zentrales Flächenverhältnis:
Das Verhältnis zwischen der wesentlichen Fläche und der Standardfläche auf der Mittelebene der Rauheitsfläche wird durch einen Prozentsatz (%) angegeben und als zentrales Flächenverhältnis verwendet.
SRz: Mittlere Zehnpunkthöhe:
Der Abstand zwischen der mittleren Höhe von den höchsten bis zu den fünften Spitzen und der mittleren Tiefe von den tiefsten bis zu den fünften Vertiefungen mit Bezug auf die mittlere Ebene der Teilkurvenfläche, wird als mittlere Zehnpunktrauheit verwendet.
SRq:
Die Amplitude von der Mittellinie auf der zweidimensionalen Rauheitskurve wird ausgedrückt durch einen effektiven Wert, und ein daraus berechneter dreidimensionaler Wert wird als SRq verwendet.
SRsK:
Der Wert, welcher die Symmetrie der Amplitudenverteilungskurve in der Richtung der Längsvergrößerung der Rauheitskurve anzeigt, wird dreidimensional berechnet und als SRsK verwendet.
SΔa: Mittlerer Inklinationsgrad:
Rechtwinklige Koordinatenachsen X und Y werden auf die Mittellinie der Rauheitskurvenfläche gebracht, eine Achse, die die Mittellinie im rechten Winkel trifft, wird als Achse Z angenommen, und ein aus der Rauheitskurvenfläche f(X, Y) und der Größe Lx, Ly der Standardebene wird als mittlerer Inklinationsgrad verwendet.
Sλa: mittlere Wellenlänge:
Sλa ist π·SRa/SΔa.
Die Aluminiumplatte zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung umfasst reines Aluminium und Aluminiumlegierungen. Für die Aluminiumlegierung können verschiedene Materialien verwendet werden, und z.B. wird eine Legierung aus Silicium, Kupfer, Mangan, Magnesium, Chrom, Zink, Blei, Nickel oder Wismut mit Aluminium verwendet. Die Aluminiumlegierung umfasst verschiedene Aluminiumlegierungen, und Beispiele davon umfassen als Offset-Druckplattenmaterial eine Aluminiumlegierung, beschrieben in JP-B-58-6635 (der Ausdruck "JP-B", wie hierin verwendet, bedeutet eine "geprüfte japanische Patenveröffentlichung"), wo Fe- und Si-Komponenten spezifiziert sind und eine spezielle intermetallische Verbindung verwendet wird, eine Aluminiumlegierung, beschrieben in JP-B-55-28874, wo Kaltwalzen und Zwischenglühen durchgeführt werden, und das Verfahren zum Anwenden einer Spannung in dem elektrolytischen Oberflächenkörnen beschränkt ist, und Aluminiumlegierungen, beschrieben in JP-B-62-41304, JP-B-1-45677, JP-A-1-46578, JP-B-1-47545, JP-B-1-35910, JP-B-63-60823, JP-B-63-60824, JP-B-4-13417, JP-B-4-19290, JP-B-4-19291, JP-B-4-19293, JP-B-62-50540, JP-A-61-272357, JP-A-62-74060, JP-A-61-201747, JP-A-63-143234, JP-A-63-143235, JP-A-63-255338, JP-A-1-283350, in EP 272528 , in den US-Patentschriften 4,902,353 und 4,818,300, in EP 394816 , in der US-Patentschrift 5,010,188, in der westdeutschen Patentschrift 3,232,810, in der US-Patentschrift 4,352,230, in EP 239995 , in der US-Patentschrift 4,822,715, in der westdeutschen Patentschrift 3,507,402, in der US-Patentschrift 4,715,903, in der westdeutschen Patentschrift 3,507,402, in EP 289844 , in den US-Patentschriften 5,009,722 und 4,945,004, in der westdeutschen Patentschrift 3,714,059, in den US-Patentschriften 4,686,083 und 4,861,396 und in EP 158941 . Es können nicht nur diejenigen Aluminiumlegierungen, die in diesen Patentveröffentlichungen beschrieben sind, sondern auch alle anderen allgemein üblichen Aluminiumlegierungen verwendet werden. Mit Bezug auf das Herstellungsverfahren des Plattenmaterials ist ein Verfahren zum kontinuierlichen Gießen als Patent angemeldet worden, das verschieden ist von dem Verfahren unter Verwendung von Warmwalzen. So führt z.B. die ostdeutsche Patentschrift 252799 ein Plattenmaterial ein, hergestellt durch ein Zwillingswalzensystem, EP 223737 und die US-Patentschriften 4,802,935 und 4,800,950 beschreiben Techniken, wo die Legierungsspurenkomponenten beschränkt sind, und EP 415 238 schlägt kontinuierliches Gießen oder kontinuierliches Gießen und Warmwalzen vor.
In der vorliegenden Erfindung wird eine solche Aluminiumplatte verschiedenen Oberflächenbehandlungen und der Übertragung unterworfen, so dass eine Originaldruckplatte mit gleichmäßigen Unregelmäßigkeiten erhalten werden kann. Indem eine lichtempfindliche Schicht, wie eine Diazoverbindung, darauf vorgesehen ist, kann eine ausgezeichnete lichtempfindliche Flachdruckplatte erhalten werden. In jedem Fall ist es notwendig, geeignete Materialien auszuwählen.
Abhängig von dem betreffenden Fall kann zuerst ein Entfetten durchgeführt werden. Beim Durchführen des Entfettens ist ein Verfahren der Verwendung eines Lösemittels oder eines oberflächenaktiven Materials, wie Tricrene, oder eines Alkaliätzmittels, wie Natriumhydroxid und Kaliumhydroxid, allgemein bekannt. JP-A-2-026793 beschreibt das Entfetten. So umfasst z.B. das Lösemittelentfetten ein Verfahren der Verwendung eines Lösemittels auf Erdölbasis, wie Gasolin, Kerosin, Benzin, Lösemittelnaphtha und Normalhexan, und ein Verfahren der Verwendung eines Lösemittels auf Chlorbasis, wie Trichlorethylen, Methylenchlorid, Perchlorethylen und 1,1,1-Trichlorethan. Das Alkalientfetten umfasst ein Verfahren der Verwendung einer wässrigen Lösung von Natriumsalz, wie Natriumhydroxid, Natriumcarbonat, Natriumbicarbonat und Natriumsulfat, ein Verfahren der Verwendung einer wässrigen Lösung von Silicat, wie Natriumorthosilicat, Natriummetasilicat, Natriumsilicat Nr. 2 und Natriumsilicat Nr. 3, und ein Verfahren der Verwendung einer wässrigen Lösung von Phosphat, wie primäres Natriumphosphat, tertiäres Natriumphosphat, sekundäres Natriumphosphat, Natriumtripolyphosphat, Natriumpyrophosphat und Natriumhexametaphosphat. Im Falle der Verwendung von Alkalientfetten kann sich die Aluminiumoberfläche abhängig von der Verarbeitungszeit oder der Verarbeitungstemperatur auflösen, daher muss das Entfetten so durchgeführt werden, dass das Auflösungsphänomen nicht eintritt. Das Entfetten durch ein oberflächenaktives Mittel verwendet eine wässrige Lösung von anionischem oberflächenaktivem Mittel, kationischem oberflächenaktivem Mittel, nicht ionischem oberflächenaktivem Mittel oder amphoterem aktivem Mittel. Verschiedene im Handel erhältliche oberflächenaktive Mittel können ebenfalls verwendet werden. Mit Bezug auf das Verfahren zum Entfetten kann ein Eintauchverfahren, ein Sprühverfahren oder ein Verfahren des Reibens mit einem Tuch, das mit einer Lösung imprägniert ist, verwendet werden. Beim Eintauch- oder Sprühverfahren können auch Ultraschallwellen verwendet werden.
In dem Fall, wo ein vorhergehendes Polieren durchgeführt wird, wird das elektrochemische Polieren durch eine Gleichstromelektrolyse in einer Schwefelsäurelösung durchgeführt. Bedingungen für das elektrochemische Polieren sind geeigneterweise derart, dass die Schwefelsäurekonzentration 15 bis 80 % beträgt, die Temperatur 40 bis 80°C beträgt, die Energiequelle Gleichstrom ist, die Stromdichte 5 bis 50 A/dm² beträgt, und die Elektrizitätsmenge 100 bis 3000 C/dm² beträgt. In dem Fall des mechanischen Polierens wird das vorhergehende Polieren bevorzugt unter Verwendung einer Walze durchgeführt, hergestellt durch Einarbeiten von Schleifmitteln mit einer mittleren Teilchengröße von 1 bis 25 μm in ein Faservlies aus Polyamid, Polyester oder Rayon. Die Bedingungen für das vorhergehende Polieren müssen so ausgewählt sein, dass die Oberflächenrauheit bis zu einem gewissen Ausmaß aufrechterhalten werden kann. Die Walzengröße beträgt 200 bis 1000 mm, und um eine gleichmäßige Oberflächenqualität aufrechtzuerhalten, werden Schwingungen von 5- bis 2000-mal pro Minute bevorzugt in der Richtung senkrecht zu der Walzrichtung der Originalplatte oder im Falle einer kontinuierlichen Behandlung senkrecht zu der Bahnrichtung angewandt. In jedem Fall ist es wichtig, eine Mittellinie-Oberflächenrauheit von 0,15 bis 0,35 μm und eine maximale Oberflächenrauheit von 1 bis 3,5 μm durch das vorhergehende Polieren zu erreichen. Mit anderen Worten ist es wichtig, nicht nur in der vorstehend beschriebenen Gleichstromelektrolyse und/oder dem vorhergehenden Walzenpolieren eine erwünschte mittlere Mittelliniehöhe und eine erwünschte maximale Oberflächenrauheit zu erzielen.
Das mechanische Oberflächenkörnen umfasst verschiedene Verfahren, die Übertragung, Bürsten, Flüssighonen oder Ähnliches umfassen, und das Verfahren muss unter Berücksichtigung der Produktivität ausgewählt werden.
Das Übertragungsverfahren, wo eine Oberfläche mit Unregelmäßigkeiten unter Druck mit einer Aluminiumplatte in Kontakt gebracht wird, umfasst verschiedene Verfahren. So können z.B. die in JP-A-55-74898, JP-A-60-36195 und JP-A-60-203496 supra, ein in JP-A-6-55871 beschriebenes Verfahren, wo die Übertragung mehrmals durchgeführt wird, und ein in JP-A-6-24168 beschriebenes Verfahren, wo die Oberfläche elastisch ist, in geeigneter Weise verwendet werden.
Weiterhin kann die Übertragung wiederholt unter Verwendung einer Walze durchgeführt werden, auf welche feine Unregelmäßigkeiten durch Entladung, Abstrahlen, Laser- oder Plasmaätzen geätzt sind. Es kann auch eine Oberfläche mit Unregelmäßigkeiten als Ergebnis des Aufbringens feiner Teilchen mit einer Aluminiumplatte in Kontakt gebracht werden, und ein Druck kann wiederholt darauf aufgebracht werden, so dass ein Muster von Unregelmäßigkeiten entsprechend dem mittleren Durchmesser von feinen Teilchen wiederholt auf die Aluminiumplatte übertragen werden kann.
Um feine Unregelmäßigkeiten auf eine Übertragungswalze aufzubringen, sind Verfahren bekannt, die in JP-A-5-08635, JP-A-3-066404 und JP-A-63-065017 beschrieben sind. Es können auch winkelförmige Unregelmäßigkeiten auf die Oberfläche einer Walze durch Schneiden feiner Rillen auf der Oberfläche aus zwei Richtungen unter Verwendung einer Prägeplatte, Ätzen oder Laser aufgebracht werden. Diese Walzenoberfläche kann einer bekannten Ätzbehandlung unterworfen werden, so dass die gebildeten winkelförmigen Unregelmäßigkeiten gerundet werden können. Es versteht sich von selbst, dass Quenchen oder Hartchromplattieren durchgeführt werden können, um die Oberflächenhärte zu erhöhen.
Das Oberflächenkörnen durch eine Bürste umfasst Oberflächenkörnen durch eine Nylonbürste und Oberflächenkörnen durch eine Drahtbürste. Das Oberflächenkörnen durch Wasser unter hohem Druck ist in JP-A-59-21469, JP-A-60-19595 und JP-A-60-18390 beschrieben.
Die durch ein solches mechanisches Oberflächenkörnen behandelte Aluminiumplatte wird, falls erwünscht, einer chemischen Behandlung der Aluminiumoberfläche mit einer Säure oder einem Alkali unterworfen, um so die Aluminiumplatte zu glätten und zu egalisieren. Der Grund dafür ist, dass, wenn das elektrochemische Oberflächenkörnen direkt anschließend an die Übertragung durchgeführt wird, eine unebene Oberflächenkörnung erhalten wird. Speziell umfassen Beispiele der chemischen Behandlung unter Verwendung einer Säure oder eines Alkali ein Verfahren der Verwendung einer wässrigen Säurelösung, wie Phosphorsäure, Schwefelsäure, Chlorwasserstoffsäure und Salpetersäure, ein Verfahren der Verwendung einer wässrigen Natriumsalzlösung, wie Natriumhydroxid, Natriumcarbonat, Natriumbicarbonat und Natriumsulfat, ein Verfahren der Verwendung einer wässrigen Silicatlösung, wie Natriumorthosilicat, Natriummetasilicat, Natriumsilicat Nr. 2 und Natriumsilicat Nr. 3, und ein Verfahren der Verwendung einer wässrigen Phosphatlösung, wie primäres Natriumphosphat, tertiäres Natriumphos phat, sekundäres Natriumphosphat, Natriumtripolyphosphat, Natriumpyrophosphat und Natriumhexametaphosphat. Die Behandlungsbedingungen werden in geeigneter Weise derart ausgewählt, dass die Konzentration 0,01 bis 50 Gew.-% beträgt, die Temperatur 20 bis 90°C beträgt, und die Zeit 5 Sekunden bis 5 Minuten beträgt. Die Ätzmenge wird in geeigneter Weise ausgewählt abhängig vom Aufbau des Aluminiummaterials oder der gewünschten Qualität. JP-A-54-65607 und JP-A-55-125299 schlagen eine Vorbehandlung des elektrochemischen Oberflächenkörnens vor. Verschiedene Vorbehandlungen sind in JP-A-63-235500, JP-A-63-307990, JP-A-1-127388, JP-A-1-160690, JP-A-1-136789, JP-A-1-136788, JP-A-1-178497, JP-A-1-308689, JP-A-3-126871, JP-A-3-126900 und JP-A-3-173900 beschrieben, die vorliegende Erfindung ist jedoch keinesfalls darauf beschränkt. Nach der chemischen Behandlung der Aluminiumoberfläche mit einer wässrigen Lösung von Säure oder Alkali ist ein unlöslicher Restteil, nämlich Schmutz auf der Oberfläche gebildet. Dieser Schmutz kann durch eine Phosphorsäure, eine Salpetersäure, eine Schwefelsäure, eine Chromsäure oder eine Mischung davon entfernt werden. In der vorliegenden Erfindung ist die Aluminiumoberfläche zur Verwendung in dem elektrochemischen Oberflächenkörnen bevorzugt eine reine Oberfläche frei von Schmutz. In dem Fall, wo die Elektrolytlösung eine Säure ist und eine entschmutzende Wirkung hat, kann jedoch der Schritt zur Schmutzentfernung weggelassen werden.
Die so behandelte Aluminiumplatte wird dem elektrochemischen Oberflächenkörnen unterworfen, und während des elektrolytischen Oberflächenkörnens wird Schmutz durch die gleichen Komponenten wie die Elektrolytlösung entfernt. Das elektrochemische Oberflächenkörnen ist in JP-B-48-28123 und in der britischen Patentschrift 896,563 beschrieben. Im elektrochemischen Oberflächenkörnen ist bisher ein Wechselstrom mit Sinuswellenform verwendet worden, es kann jedoch auch eine spezielle Wellenform, die in JP-A-52-58602 beschrieben ist, verwendet werden. Weiterhin können Verfahren, die in JP-A-55-158298, JP-A-56-28898, JP-A-52-58602, JP-A-52-152302, JP-A-54-85802, JP-A-60-190392, JP-A-58-120531, JP-A-63-176187, JP-A-1-5889, JP-A-1-280590, JP-A-1-118489, JP-A-1-148592, JP-A-1-178496, JP-A-1-188315, JP-A-1-154797, JP-A-2-235794, JP-A-3-260100, JP-A-3-253600, JP-A-4-72079, JP-A-4-72098, JP-A-3-267400 und JP-A-1-141094 beschrieben sind, verwendet werden.
Was die Frequenz betrifft, so können neben den vorstehend beschriebenen Frequenzen solche Frequenzen verwendet werden, die für elektrolytische Kondensatoren vorgeschlagen sind, z.B. in den US-Patentschriften 4,276,129 und 4,676,879.
Die Elektrolytlösung, die verwendet werden kann, umfasst die vorstehend beschriebene Salpetersäure, Chlorwasserstoffsäure und Ähnliches und umfasst zusätzlich Elektrolytlösungen, die in den US-Patentschriften 4,671,859, 466,576, 4,661,219, 4,618,405, 462,628, 4,600,482, 4,566,960, 4,566,958, 4,566,959, 4,416,972, 4,374,710, 4,336,113 und 4,184,932 beschrieben sind. Was den Elektrolysebehälter und die Energiequelle betrifft, so sind verschiedene Vorschläge gemacht und in der US-Patentschrift 4,203,637 und in JP-A-56-123400, JP-A-57-59770, 53-12738, JP-A-53-32821, JP-A-53-32822, JP-A-53-32823, JP-A-55-122896, JP-A-55-132884, JP-A-62-127500, JP-A-1-52100, JP-A-1-52098, JP-A-60-67700, JP-A-1-230800 und JP-A-3-25199 beschrieben worden. Neben diesen Patentveröffentlichungen sind verschiedene Vorschläge gemacht worden, und so können z.B. natürlich diejenigen verwendet werden, die in JP-A-52-58602, JP-A-52-152302, JP-A-53-12738, JP-A-53-12739, JP-A-53-32821, JP-A-53-32822, JP-A-53-32833, JP-A-53-32824, JP-A-53-32825, JP-A-54-85802, JP-A-55-122896, JP-A-55-132884, JP-B-48-28123, JP-B-51-7081, JP-A-52-133838, JP-A-52-133840, JP-A-52-133844, JP-A-52-133845, JP-A-53-149135 und JP-A-54-146234 beschrieben sind.
Das Entschmutzen wird mit einer Lösung durchgeführt, welche die gleichen Komponenten wie die vorstehend beschriebene Elektrolytlösung hat. Falls das Entschmutzen mit einer Lösung mit Komponenten durchgeführt wird, die verschieden sind von der Elektrolytlösung, ist ein Waschschritt mit Wasser nach dem Entschmutzen notwendig, und dies führt nicht nur zu einem Kostenanstieg, sondern beeinflusst auch die elektrolytische Körnungseigenschaft. Die Verwendung der gleichen Komponenten ist vorteilhaft dahingehend, dass selbst wenn die Temperatur oder die Konzentration in dem Entschmutzungssystem geändert wird, die Temperatur oder Konzentration in dem elektrolytischen Oberflächenkörnungsschritt gelenkt oder geregelt werden kann. Der Schmutz kann durch chemisches Auflösen des Schmutzes entfernt werden, oder er kann erzwungen durch Kollidieren einer Lösung mit der Bahn bei einer hohen Geschwindigkeit durch ein Spray oder Ähnliches entfernt werden. Das Verfahren kann ausgewählt werden, indem insgesamt die Produktivität, die Ausrüstungskosten, die Zellform des elektrolytischen Oberflächenkörnens und Ähnliches in Betracht gezogen werden. In jedem Verfahren ist es wichtig, den Schmutz in einer Menge von 5 bis 70 % zu entfernen. Die Menge von Schmutz, der durch das elektrolytische Oberflächenkörnen gebildet ist, ändert sich in dem Bereich von etwa 0,2 bis 5 g/m² abhängig von den Elektrolysebedingungen, daher kann die Menge von entferntem Schmutz innerhalb dieses Bereichs gemäß der angestrebten Leistungsqualität geändert werden.
Die so erhaltene Aluminiumplatte wird, falls erwünscht, mit einem Alkali oder einer Säure behandelt. Eine Alkalibehandlung wird wie in JP-A-56-51388 durchgeführt, und eine Entschmutzungsbehandlung wird durch eine Schwefelsäure wie in JP-A-53-12739 durchgeführt. Weiterhin können auch eine Phosphorsäurebehandlung, beschrieben in JP-A-53-115302, und Behandlungen, beschrieben in JP-A-60-8091, JP-A-63-176188, JP-A-1-38291, JP-A-1-127389, JP-A-1-188699, JP-A-3-177600, JP-A-3-126891 und JP-A-3-191100, verwendet werden.
Nach dem vorstehend beschriebenen Oberflächenkörnen oder Ätzen durch mechanisches Oberflächenkörnen, chemisches Ätzen oder elektrochemisches Oberflächenkörnen sind Unregelmäßigkeiten gebildet. Zum Abtragen von Vorsprüngen werden fadenförmige Fasern mit einem Durchmesser von 5 bis 500 μm verwendet. Wenn der Durchmesser kleiner ist als 5 μm, können die Spitzen nicht abgetragen werden, während wenn der Durchmesser 500 μm übersteigt, werden Kratzer auf der Oberfläche gebildet, und eine Verwendung als Flachdruckplatte ist nicht mehr möglich. Der Durchmesser beträgt bevorzugt 10 bis 100 μm, bevorzugter 15 bis 50 μm. Der Durchmesser wird bestimmt als Mittelwert auf einer vergrößerten Fotografie von zehn oder mehr Vorsprüngen, die durch eine SEM-Fotografie aufgenommen wurden. Das Aufbaumaterial für die Faser ist eine chemische Faser, wie Nylon-6 und Nylon-6-10 oder ein Tierhaar. Zum Binden des Nylons wird ein Bindemittel, wie Acryl oder NBR, verwendet. Um die Produktivität zu verbessern, muss die Al-Platte kontinuierlich behandelt werden, und in einem solchen Fall sind die Fasern zu einer Walze geformt und rotieren mit hoher Geschwindigkeit, um Vorsprünge abzutragen. Bei der Bildung einer Walze muss die Walzenhärte auf 60° oder weniger eingestellt werden, da, wenn die Härte auf der Walzenoberfläche zu hoch ist, die Al-Oberfläche leicht zerkratzt wird. Die Härte kann gemäß SRISO101 (Standard von Nippon Rubber Society) oder JISS6050 bestimmt werden. Das Modell des Messgeräts ist ein Federsystem-Härteprüfgerät ASKER-C. Die Umfangsgeschwin digkeit der Walze beträgt geeigneterweise 50 bis 2000 m/min. Wenn die Walze rotiert, während Wasser zum Zweck der Verhinderung von Wärmebildung zugeführt wird, kann das Abtragen in stabiler Weise durchgeführt werden.
Dieser Schritt ist nach dem Oberflächenkörnen oder Ätzen durch mechanisches Oberflächenkörnen, chemisches Ätzen oder elektrochemisches Oberflächenkörnen vorgesehen, kann aber nach sämtlichen Schritten oder nach einem Oberflächenkörnungs- oder Ätzschritt vorgesehen sein. Die Zeitsteuerung kann in geeigneter Weise in Abhängigkeit von der angestrebten Qualität variiert werden.
Auf der Oberfläche des so erhaltenen Aluminiumträgers wird bevorzugt ein anodischer Oxidfilm gebildet. Der anodische Oxidfilm kann auf der Aluminiumoberfläche durch Durchleiten eines elektrischen Stroms durch eine Elektrolytlösung gebildet werden, die eine wässrige oder nicht wässrige Lösung einer Schwefelsäure, einer Phosphorsäure, einer Chromsäure, einer Oxalsäure, einer Sulfaminsäure, einer Benzolsulfonsäure oder einer Mischung von zwei oder mehreren davon enthält, wobei das Aluminium als Anode verwendet wird. Bedingungen für das Anodisieren ändern sich in verschiedener Weise abhängig von der verwendeten Elektrolytlösung und können nicht wahllos spezifiziert werden, im Allgemeinen sind jedoch die Bedingungen geeigneterweise derart, dass die Konzentration der Elektrolytlösung 1 bis 80 Gew.-% beträgt, die Flüssigkeitstemperatur 5 bis 70°C beträgt, die Stromdichte 0,5 bis 60 A/cm² beträgt, die Spannung 1 bis 100V beträgt, und die Elektrolysezeit 15 Sekunden bis 50 Minuten beträgt. Die Elektrolysevorrichtung ist in JP-A-48-26638, JP-A-47-18739 und JP-B-58-24517 beschrieben. Weiterhin können natürlich die Verfahren verwendet werden, die in JP-A-54-81133, JP-A-57-47894, JP-A-57-51289, JP-A-57-51290, JP-A-57-54300, JP-A-57-136596, JP-A-58-107498, JP-A-60-200256, JP-A-62-136596, JP-A-63-176494, JP-A-4-176897, JP-A-4-280997, JP-A-6-207299, JP-A-5-32083, JP-A-5-125597 und JP-A-5-195291 beschrieben sind. Was die Behandlungslösung betrifft, so können die in JP-A-3-253956, JP-A-62-82089, JP-A-1-133794, JP-A-54-32424 und JP-A-5-42783 beschriebenen Lösungen ohne Probleme verwendet werden.
Nach der Bildung des anodischen Oxidfilms, wie vorstehend beschrieben, wird der anodische Oxidfilm geätzt, und dann wird die Al-Folie einer Versiegelungsbehandlung unterworfen, so dass eine optimale Haftung zwischen dem Träger und der lichtempfindli chen Zusammensetzung erhalten werden kann. Eine Vorrichtung für die Versiegelungsbehandlung eines Trägers ist bekannt (vgl. JP-B-56-12518), wo eine lichtempfindliche Druckplatte, die eine gute Alterungsstabilität und eine gute Entwickelbarkeit hat und frei ist von Tonen auf dem Nichtbildbereich, erhalten werden kann. Die Versiegelungsbehandlung nach der Bildung des anodischen Oxidfilms kann unter Verwendung einer solchen Vorrichtung durchgeführt werden. Weiterhin kann die Versiegelungsbehandlung unter Verwendung der Vorrichtung oder des Verfahrens durchgeführt werden, die in JP-A-4-4194, JP-A-5-202496 und JP-A-5-179482 beschrieben sind.
Zusätzlich können die folgenden Behandlungen angewandt werden: eine Behandlung mit Kaliumfluorzirconat, beschrieben in der US-Patentschrift 2,946,638, eine Behandlung mit Phosphomolybdat, beschrieben in der US-Patentschrift 3,201,247, eine Behandlung mit Alkyltitanat, beschrieben in der britischen Patentschrift 1,108,559, eine Behandlung mit Polyacrylsäure, beschrieben in der deutschen Patentschrift 1,091,433, eine Behandlung mit Polyvinylphosphonsäure, beschrieben in der deutschen Patentschrift 1,134,093 und in der britischen Patentschrift 1,230,447, eine Behandlung mit Phosphonsäure, beschrieben in JP-B-44-6409, eine Behandlung mit Phytinsäure, eine Behandlung mit einem Salz einer lipophilen organischen Polymerverbindung mit einem zweiwertigen Metall, beschrieben in JP-A-58-16893 und JP-A-58-18291, eine Technik der Bildung einer Unterschicht aus einer hydrophilen Cellulose (z.B. Carboxymethylcellulose), die ein wasserlösliches Metallsalz (z.B. Zinkacetat) enthält, beschrieben in der US-Patentschrift 3,860,426, eine hydrophilisierende Behandlung durch die Unterbeschichtung aus einem wasserlöslichen Polymer mit einer Sulfonsäuregruppe, beschrieben in JP-A-59-101651, eine Technik der Unterbeschichtung einer Verbindung, wie ein Phosphat, beschrieben in JP-A-62-019494, eine wasserlösliche Epoxyverbindung, beschrieben in JP-A-62-033692, eine mit Phosphorsäure modifizierte Stärke, beschrieben in JP-A-62-097892, eine Diaminverbindung, beschrieben in JP-A-63-056498, eine anorganische oder organische Säure von Aminosäure, beschrieben in JP-A-63-130391, eine organische Phosphonsäure, die eine Carboxylgruppe oder eine Hydroxylgruppe enthält, beschrieben in JP-A-63-145092, eine Verbindung mit einer Aminogruppe und einer Phosphonsäuregruppe, beschrieben in JP-A-63-165183, ein spezielles Carbonsäurederivat, beschrieben in JP-A-2-316290, ein Phosphorsäureester, beschrieben in JP-A-1-272594, eine Verbindung mit einer Aminogruppe und einer Oxysäuregruppe, ein Phosphorsäureester, beschrieben in JP-A-3-215095, eine aliphatische oder aromatische Phosphonsäure, wie Phenylphosphonsäure, eine ein Schwefelatom enthaltende Verbindung, wie Thiosalicylsäure, beschrieben in JP-A-1-307745, oder eine Verbindung mit einer Oxysäuregruppe von Phosphor, beschrieben in JP-A-4-282637 oder eine Technik des Färbens durch einen sauren Farbstoff, beschrieben in JP-A-60-64352. Die maximale Oberflächenrauheit ist ein Wert, der in einer solchen Weise bestimmt wird, dass ein Teil genau in der Standardlänge aus der Teilkurve extrahiert wird, zwei gerade Linien parallel zu der Mittellinie gezogen werden, um den extrahierten Teil einzuschieben, und der Abstand zwischen diesen zwei geraden Linien in der Richtung der Längsvergrößerung der Teilkurve gemessen wird, und der Wert durch μm (Mikrometer) angegeben wird.
Auf dem Träger der vorliegenden Erfindung ist zur Herstellung einer lichtempfindlichen Flachdruckplatte eine lichtempfindliche Schicht vorgesehen, die nachstehend durch Bezug auf Beispiele davon beschrieben ist.
[1] Die lichtempfindliche Schicht enthält o-Naphthochinondiazidsulfonsäureester und eine Phenol·Kresol-Novolak-Harzmischung
Die o-Chinondiazidverbindung ist eine o-Naphthochinondiazidverbindung, und Beispiele davon sind in einer großen Anzahl von Publikationen einschließlich den US-Patentschriften 2,766,118, 2,767,092, 2,772,972, 2,859,112, 3,102,809, 3,106,465, 3,635,709 und 3,647,443 beschrieben. Diese Verbindungen können in geeigneter Weise verwendet werden. Unter diesen sind o-Naphthochinondiazidsulfonsäureester und o-Naphthochinondiazidcarbonsäureester einer aromatischen Hydroxyverbindung und o-Naphthochinondiazidsulfonsäureamid und o-Naphthochinondiazidcarbonsäureamid einer aromatischen Aminoverbindung bevorzugt. Insbesondere sind ganz ausgezeichnete Verbindungen ein Veresterungsprodukt eines Kondensats von Pyrogallol mit Aceton mit einem o-Naphthochinondiazidsulfonsäureester, beschrieben in der US-Patentschrift 3,635,709, ein Veresterungsprodukt von Polyester mit einer Hydroxygruppe am Ende mit o-Naphthochinondiazidsulfonsäure oder o-Naphthochinondiazidcarbonsäure, beschrieben in der US-Patentschrift 4,028,111, ein Veresterungsprodukt eines p-Hydroxystyrol-Homopolymers oder eines Copolymers von p-Hydroxystyrol und einem anderen damit copolymerisierbaren Monomer mit o-Naphthochinondiazidsulfonsäure oder o-Naphthochinondiazidcarbonsäure, beschrieben in der britischen Patentschrift 1,494,043, und ein Amidierungsprodukt eines Copolymers von p-Aminostyrol und einem anderen damit copolymerisierbaren Monomer mit o-Naphthochinondiazidsulfonsäure oder o-Naphthochinondiazidcarbonsäureamid, beschrieben in der US-Patentschrift 3,759,711.
Diese o-Chinondiazidverbindungen können einzeln verwendet werden, werden aber bevorzugt als eine Mischung mit einem alkalilöslichen Harz verwendet. Geeignete alkalilösliche Harze umfassen ein Phenolharz vom Novolak-Typ, und spezielle Beispiele davon umfassen Phenol-Formaldehyd-Harz, o-Kresol-Formaldehyd-Harz und m-Kresol-Formaldehyd-Harz. Eine kombinierte Verwendung des vorstehend beschriebenen Phenolharzes mit einem Kondensat von Phenol oder Kresol, substituiert durch eine Alkylgruppe mit 3 bis 8 Kohlenstoffatomen, mit Formaldehyd, wie t-Butylphenol-Formaldehyd-Harz, beschrieben in der US-Patentschrift 4,028,111, ist bevorzugter.
Zur Bildung eines sichtbaren Bildes durch Belichtung wird eine Verbindung, wie ein anorganisches Anionsalz von o-Naphthochinondiazido-4-sulfonylchlorid oder p-Diazodiphenylamin, eine Trihalomethyloxadiazolverbindung oder eine Trihalomethyloxadiazolverbindung mit einem Benzofuranring, zugesetzt. Als bildfärbendes Mittel werden Triphenylmethanfarbstoffe, wie Victoria Blue BOH, Crystal Violet und Oil Blue, verwendet. Die in JP-A-62-293247 beschriebenen Farbstoffe sind bevorzugter.
Weiterhin kann die lichtempfindliche Schicht als ein Tintenaufnahmemittel ein mit einer Alkylgruppe mit 3 bis 15 Kohlenstoffatomen substituiertes Phenol enthalten, beschrieben in JP-B-57-23253, wie t-Butylphenol, N-Octylphenol, Novolakharz als Kondensat von t-Butylphenol mit Formaldehyd, oder einen o-Naphthochinondiazido-4- oder -5-sulfonsäureester (z.B. diejenigen, die in JP-A-61-242446 beschrieben sind) enthalten.
Um eine gute Entwickelbarkeit zu erzielen, kann die lichtempfindliche Schicht auch ein nicht ionisches oberflächenaktives Mittel, beschrieben in JP-A-62-251740, enthalten.
Die vorstehend beschriebene Zusammensetzung wird nach ihrem Auflösen in einem Lösemittel, in welchem sich die Komponenten auflösen können, auf einen Träger aufgebracht.
Beispiele des hier verwendeten Lösemittels umfassen Ethylendichlorid, Cyclohexanon, Methylethylketon, Ethylenglycolmonomethylether, Ethylenglycolmonoethylether, 2-Methoxyethylacetat, 1-Methoxy-2-propanol, 1-Methoxy-2-propylacetat, Methyllactat, Ethyllactat, Dimethylsulfoxid, Dimethylacetamid, Dimethylformamid, Wasser, N-Methylpyrrolidon, Tetrahydrofurfurylalkohol, Aceton, Diacetonalkohol, Methanol, Ethanol, Isopropanol und Diethylenglycoldimethylether. Diese Lösemittel werden einzeln oder in Kombination verwendet.
Die lichtempfindliche Zusammensetzung, welche diese Komponenten umfasst, ist in einer Menge, als Feststoffgehalt, von 0,5 bis 3,0 g/m² vorgesehen.
[2] Die lichtempfindliche Schicht enthält Diazoharz und wasserunlösliche und lipophile Polymerverbindung:
Beispiele des Diazoharzes umfassen ein anorganisches Salz eines Diazoharzes als in organischem Lösemittel lösliches Reaktionsprodukt eines Kondensats von p-Diazodiphenylamin mit Formaldehyd oder Acetaldehyd mit Hexafluorphosphat oder Tetrafluorphosphat und ein in organischem Lösemittel lösliches organisches Säuresalz eines Diazoharzes als Reaktionsprodukt des vorstehend beschriebenen Kondensats mit einer Sulfonsäure, wie p-Toluolsulfonsäure oder einem Salz davon, einer Phosphonsäure, wie Benzolphosphinsäure oder einem Salz davon, oder eine Hydroxylgruppe enthaltende Verbindung, wie 2,4-Dihydroxybenzophenon, 2-Hydroxy-4-methoxybenzophenon-5-sulfonsäure oder ein Salz davon, beschrieben in der US-Patentschrift 3,300,309.
Ein anderes Diazoharz, das in geeigneter Weise in der vorliegenden Erfindung verwendet werden kann, ist ein Copolykondensat, umfassend als Aufbaueinheiten eine aromatische Verbindung mit wenigstens einer organischen Gruppe, ausgewählt aus einer Carboxylgruppe, einer Sulfonsäuregruppe, einer Sulfinsäuregruppe, einer Oxysäuregruppe von Phosphor und einer Hydroxylgruppe und einer Diazoniumverbindung, bevorzugt einer aromatischen Diazoniumverbindung.
Bevorzugte Beispiele des aromatischen Rings umfassen eine Phenylgruppe und eine Naphthylgruppe.
Beispiele der aromatischen Verbindung mit wenigstens einer organischen Gruppe, ausgewählt aus einer Carboxylgruppe, einer Sulfonsäuregruppe, einer Sulfinsäuregruppe, einer Oxysäuregruppe von Phosphor und einer Hydroxylgruppe, umfassen zahlreiche Verbindungen, und unter diesen sind 4-Methoxybenzoesäure, 3-Chlorbenzoesäure, 2,4-Dimethoxybenzoesäure, p-Phenoxybenzoesäure, 4-Anilinobenzoesäure, Phenoxyessigsäure, Phenylessigsäure, p-Hydroxybenzoesäure, 2,4-Dihydroxybenzoesäure, Benzolsulfonsäure, p-Toluolsulfinsäure, 1-Naphthalinsulfonsäure, Phenylphosphorsäure und Phenylphosphonsäure bevorzugt. Beispiele der aromatischen Diazoniumverbindung, die als Aufbaueinheit des Copolykondensat-Diazoharzes verwendet werden kann, umfassen Diazoniumsalze, die in JP-B-49-48001 beschrieben sind, wobei Diphenylamin-4-diazoniumsalze bevorzugt sind.
Die Diphenylamin-4-diazoniumsalze sind von 4-Aminodiphenylaminen abgeleitet, und Beispiele der 4-Amindiphenylamine umfassen 4-Aminodiphenylamin, 4-Amino-3-methoxydiphenylamin, 4-Amino-2-methoxydiphenylamin, 4'-Amino-2-methoxydiphenylamin, 4'-Amino-4-methoxydiphenylamin, 4-Amino-3-methyldiphenylamin, 4-Amino-3-ethoxydiphenylamin, 4-Amino-3-β-hydroxyethoxydiphenylamin, 4-Aminodiphenylamin-2-sulfonsäure, 4-Aminodiphenylamin-2-carbonsäure und 4-Aminodiphenylamin-2'-carbonsäure, wobei 4-Methoxy-4-amino-4-diphenylamin und 4-Aminodiphenylamin bevorzugt sind.
Als von dem Polykondensat-Diazoharz mit einer aromatischen Verbindung mit einer Säuregruppe verschiedenes Diazoharz kann das mit einem Aldehyd kondensierte Diazoharz mit einer Säuregruppe oder einer Acetalverbindung davon kondensierte Diazoharz, beschrieben in JP-A-4-18559, JP-A-3-163551 und JP-A-3-253857, bevorzugt verwendet werden.
Das Gegenion des Diazoharzes umfasst ein Anion, das zur stabilen Bildung eines Salzes mit dem Diazoharz befähigt ist und das Harz in einem organischen Lösemittel löslich macht. Das Anion umfasst eine organische Säure, wie Decansäure und Benzoesäure, eine organische Phosphorsäure, wie Phenylphosphorsäure, und eine Sulfonsäure. Typische Beispiele davon umfassen aliphatische oder aromatische Sulfonsäuren, wie Methansulfonsäure, Fluoralkansulfonsäure (z.B. Trifluormethansulfonsäure), Laurylsulfonsäure, Dioctylsulfobernsteinsäure, Dicyclohexylsulfobernsteinsäure, Camphersulfonsäu re, Trioxy-3-propansulfonsäure, Nonylphenoxy-3-propansulfonsäure, Nonylphenoxy-4-butansulfonsäure, Dibutylphenoxy-3-propansulfonsäure, Diamylphenoxy-3-propansulfonsäure, Dinonylphenoxy-3-propansulfonsäure, Dibutylphenoxy-4-butansulfonsäure, Dinonylphenoxy-4-butansulfonsäure, Benzolsulfonsäure, Toluolsulfonsäure, Mesitylensulfonsäure, p-Chlorbenzolsulfonsäure, 2,5-Dichlorbenzolsulfonsäure, Sulfosalicylsäure, 2,5-Dimethylbenzolsulfonsäure, p-Acetylbenzolsulfonsäure, 5-Nitro-o-toluolsulfonsäure, 2-Nitrobenzolsulfonsäure, 3-Chlorbenzolsulfonsäure, 3-Brombenzolsulfonsäure, 2-Chlor-5-nitrobenzolsulfonsäure, Butylbenzolsulfonsäure, Octylbenzolsulfonsäure, Decylbenzolsulfonsäure, Dodecylbenzolsulfonsäure, Butoxybenzolsulfonsäure, Dodecyloxybenzolsulfonsäure, 2-Hydroxy-4-methoxybenzophenon-5-sulfonsäure, Isopropylnaphthalinsulfonsäure, Butylnaphthalinsulfonsäure, Hexylnaphthalinsulfonsäure, Octylnaphthalinsulfonsäure, Butoxynaphthalinsulfonsäure, Dodecyloxynaphthalinsulfonsäure, Dibutylnaphthalinsulfonsäure, Dioctylnaphthalinsulfonsäure, Triisopropylnaphthalinsulfonsäure, Tributylnaphthalinsulfonsäure, 1-Naphthol-5-sulfonsäure, Naphthalin-1-sulfonsäure, Naphthalin-2-sulfonsäure, 1,8-Dinitronaphthalin-3,6-disulfonsäure und Dimethyl-5-sulfoisophthalat; Hydroxygruppe enthaltende aromatische Verbindungen, wie 2,2',4,4'-Tetrahydroxybenzophenon, 1,2,3-Trihydroxybenzophenon und 2,2',4-Trihydroxybenzophenon; halogenierte Lewis-Säuren, wie Hexafluorphosphorsäure und Tetrafluorborsäure; und Perhalogensäuren, wie HClO₄ und HIO₄, die vorliegende Erfindung ist jedoch keinesfalls darauf beschränkt. Unter diesen sind Butylnaphthalinsulfonsäure, Dibutylnaphthalinsulfonsäure, Hexafluorphosphorsäure, 2-Hydroxy-4-methoxybenzophenon-5-sulfonsäure und Dodecylbenzolsulfonsäure bevorzugt.
Das Molekulargewicht des Diazoharzes zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung kann frei durch verschiedene Änderungen des molaren Verhältnisses der jeweiligen Monomere und den Kondensationsbedingungen ausgewählt werden, zur wirksamen Verwendung des Diazoharzes zum Erreichen des Ziels der vorliegenden Erfindung hat das Harz jedoch geeignetennreise ein Molekulargewicht von 400 bis 100000, bevorzugt 800 bis 8000.
Beispiele der wasserunlöslichen und lipophilen Polymerverbindung umfassen Copolymere, die gewöhnlich ein Molekulargewicht von 1 bis 200000 haben und ein oder mehrere der folgenden Monomere (1) bis (15) als Aufbaueinheiten enthalten:

(1) Acrylamide, Methacrylamide, Acrylsäureester, Methacrylsäureester und Hydroxystyrole, die jeweils eine aromatische Hydroxylgruppe haben, wie N-(4-Hydroxyphenyl)acrylamid, N-(4-Hydroxyphenyl)methacrylamid, o-Hydroxystyrol, m-Hydroxystyrol, p-Hydroxystyrol, o-Hydroxyphenylacrylat, m-Hydroxyphenylacrylat, p-Hydroxyphenylacrylat, o-Hydroxyphenylmethacrylat, m-Hydroxyphenylmethacrylat und p-Hydroxyphenylmethacrylat;
(2) Acrylsäureester und Methacrylsäureester, die jeweils eine aliphatische Hydroxylgruppe haben, wie 2-Hydroxyethylacrylat, 2-Hydroxyethylmethacrylat und 4-Hydroxybutylmethacrylat;
(3) ungesättigte Carbonsäuren, wie Acrylsäure, Methacrylsäure, Maleinsäureanhydrid und Itaconsäure;
(4) (substituierte) Alkylacrylate, wie Methylacrylat, Ethylacrylat, Propylacrylat, Butylacrylat, Amylacrylat, Hexylacrylat, Cyclohexylacrylat, Octylacrylat, Benzylacrylat, 2-Chlorethylacrylat, Glycidylacrylat und N-Dimethylaminoethylacrylat;
(5) (substituierte) Alkylmethacrylate, wie Methylmethacrylat, Ethylmethacrylat, Propylmethacrylat, Butylmethacrylat, Amylmethacrylat, Cyclohexylmethacrylat, Benzylmethacrylat, Glycidylmethacrylat und N-Dimethylaminoethylmethacrylat;
(6) Acrylamide und Methacrylamide, wie Acrylamid, Methacrylamid, N-Methylolacrylamid, N-Methylolmethacrylamid, N-Ethylacrylamid, N-Hexylmethacrylamid, N-Cyclohexylacrylamid, N-Hydroxyethylacrylamid, N-Phenylacrylamid, N-Nitrophenylacrylamid und N-Ethyl-N-phenylacrylamid;
(7) Vinylether, wie Ethylvinylether, 2-Chlorethylvinylether, Hydroxyethylvinylether, Propylvinylether, Butylvinylether, Octylvinylether und Phenylvinylether;
(8) Vinylester, wie Vinylacetat, Vinylchloracetat, Vinylbutyrat und Vinylbenzoat;
(9) Styrole, wie Styrol, α-Methylstyrol und Chlormethylstyrol;
(10) Vinylketone, wie Methylvinylketon, Ethylvinylketon, Propylvinylketon und Phenylvinylketon;
(11) Olefine, wie Ethylen, Propylen, Isobutylen, Butadien und Isopren;
(12) N-Vinylpyrrolidon, N-Vinylcarbazol, 4-Vinylpyridin, Acrylnitril und Methacrylnitril;
(13) ungesättigte Imide, wie Maleimid, N-Acryloylacrylamid, N-Aceketylmethacrylamid, N-Propionylmethacrylamid, N-(p-Chlorbenzoyl)methacrylamid;
(14) ungesättigte Sulfonamide einschließlich Methacrylamide, wie N-(o-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid, N-(m-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid, N-(p-Amino)sulfonylphenylmethacrylamid, N-(1-(3-Aminosulfonyl)naphthyl)methacrylamid und N-(2-Aminosulfonylethyl)methacrylamid, Acrylamide mit den gleichen Substituenten wie vorstehend, Methacrylsäureester, wie o-Aminosulfonylphenylmethacrylat, m-Aminosulfonylphenylmethacrylat, p-Aminosulfonylphenylmethacrylat und 1-(3-Aminosulfonylnaphthyl)methacrylat, und Acrylsäureester mit den gleichen Substituenten wie vorstehend;
(15) ungesättigte Monomere mit einer vernetzbaren Gruppe an der Seitenkette, wie N-(2-(Methacryloyloxy)ethyl)-2,3-dimethylmaleimid und Vinylcinnamat, und diese Monomere copolymerisiert mit einem damit copolymerisierbaren Monomer;
(16) Phenolharze, beschrieben in der US-Patentschrift 3,751,257 und Polyvinylacetalharze, wie Polyvinylformalharz und Polyvinylbutyralharz; und
(17) Polymerverbindungen, die aus der Alkalisolubilisierung von Polyurethan herrühren, beschrieben in JP-B-54-19773, JP-A-57-904747, JP-A-60-182437, JP-A-62-58242, JP-A-62-123452, JP-A-62-123453, JP-A-63-113450 und JP-A-2-146042.

Diese Copolymere können, falls erwünscht, Polyvinylbutyralharz, Polyurethanharz, Polyamidharz, Epoxyharz, Novolakharz oder natürliches Harz enthalten.
Die auf den Träger der vorliegenden Erfindung aufgebrachte lichtempfindliche Zusammensetzung kann ferner einen Farbstoff zum Zweck des Erhalts eines sichtbaren Farbstoffs durch Belichtung und eines sichtbaren Farbstoffs nach der Entwicklung enthalten.
Beispiele des Farbstoffs als Verfärbungsmittel zum Hervorrufen einer Änderung von einem Farbton zu einem Nichtfarbton oder zu einem verschiedenen Farbton umfassen Farbstoffe auf Triphenylmethanbasis, Diphenylmethanbasis, Oxazinbasis, Xanthenbasis, Iminonaphthochinonbasis, Azomethinbasis und Anthrachinonbasis, repräsentiert durch Victoria Pure Blue BOH (hergestellt von Hodogaya Kagaku KK), Oil Blue #603 (hergestellt von Orient Kagaku Kogyo KK), Patent Pure Blue (hergestellt von Sumitomo Mikuni Kagaku KK), Crystal Violet, Brilliant Green, Ethyl Violet, Methyl Violet, Methyl Green, Erythrosine B, Basic Fuchsine, Malachite Green, Oil Red, m-Cresol Purple, Rhodamine B, Auramine, 4-p-Diethylaminophenyliminonaphthochinon und Cyan-p-diethylaminophenylacetanilid.
Beispiele des Verfärbungsmittels zum Hervorrufen einer Änderung von einem Nichtfarbton zu einem Farbton umfassen primäre oder sekundäre Farbstoffe auf Arylaminbasis, repräsentiert durch Triphenylamin, Diphenylamin, o-Chloranilin, 1,2,3-Triphenylguanidin, Naphthylamin, Diaminodiphenylmethan, p,p'-Bis-dimethylaminodiphenylamin, 1,2-Dianilinoethylen, p,p',p''-Tris-dimethylaminotriphenylmethan, p,p-Bis-dimethylaminodiphenylmethylimin, p,p,p''-Triamino-o-methyltriphenylmethan, p,p-Bis-dimethylaminodiphenyl-4-anilinonaphthylmethan und p,p,p''-Triaminotriphenylmethan. Unter diesen sind bevorzugte und wirksame Farbstoffe Farbstoffe auf Triphenylmethanbasis und Diphenylmethanbasis, bevorzugter sind Farbstoffe auf Triphenylmethanbasis, und noch bevorzugter ist Victoria Pure Blue BOH.
Die auf den Träger der vorliegenden Erfindung aufgebrachte lichtempfindliche Zusammensetzung kann ferner verschiedene Zusätze enthalten.
Bevorzugte Beispiele davon umfassen Alkylether (z.B. Ethylcellulose und Methylcellulose) zur Verbesserung der Beschichtbarkeit; oberflächenaktive Mittel auf Fluorbasis und nicht ionische oberflächenaktive Mittel (bevorzugt oberflächenaktive Mittel auf Fluorbasis); einen Weichmacher, um der Beschichtung Flexibilität und Abriebbeständigkeit zu verleihen (z.B. Butylphthalyl, Polyethylenglycol, Tributylcitrat, Diethylphthalat, Dibutyl phthalat, Dihexylphthalat, Dioctylphthalat, Trikresylphosphat, Tributylphosphat, Trioctylphosphat, Tetrahydrofurfuryloleat und Oligomer oder Polymer von Acrylsäure oder Methacrylsäure, wobei Trikresylphosphat bevorzugter ist); ein Tintenaufnahmemittel zur Verbesserung des Tintenaufnahmevermögens des Bildbereichs (z.B. ein halbverestertes Produkt von Styrol-Maleinsäure-Copolymer mit Alkohol, beschrieben in JP-A-55-527, ein Novolakharz, wie p-t-Butylphenol-Formaldehyd-Harz, und ein 50 %iger Fettsäureester von p-Hydroxystyrol); einen Stabilisator (z.B. Phosphorsäure, phosphorige Säure und organische Säure (z.B. Citronensäure, Oxalsäure, Dipicolinsäure, Benzolsulfonsäure, Naphthalinsulfonsäure, Sulfosalicylsäure, 4-Methoxy-2-hydroxybenzophenon-5-sulfonsäure, Weinsäure)); und einen Entwicklungsbeschleuniger (z.B. höherer Alkohol und Säureanhydrid).
Die lichtempfindliche Zusammensetzung kann auf den Träger aufgebracht werden durch Auflösen des lichtempfindlichen Diazoharzes, der lipophilen Polymerverbindung und, falls erwünscht, verschiedener Zusätze, jeweils in einer vorbestimmten Menge, in einem geeigneten Lösemittel (z.B. Methylcellosolve, Ethylcellosolve, Dimethoxyethan, Diethylenglycolmonomethylether, Diethylenglycoldimethylether, 1-Methoxy-2-propanol, Methylcellosolveacetat, Aceton, Methylethylketon, Methanol, Dimethylformamid, Dimethylacetamid, Cyclohexanon, Dioxan, Tetrahydrofuran, Methyllactat, Ethyllactat, Ethylendichlorid, Dimethylsulfoxid, Wasser oder eine Mischung davon) zum Herstellen einer Beschichtungslösung der lichtempfindlichen Zusammensetzung, Aufbringen der Lösung auf den Träger und anschließendes Trocknen.
Es kann ein einziges Lösemittel verwendet werden, aber eine Mischung eines Lösemittels mit hohem Siedepunkt, wie Methylcellosolve, 1-Methoxy-2-propanol und Methyllactat, mit einem Lösemittel mit niedrigem Siedepunkt, wie Methanol und Methylethylketon, ist bevorzugt.
Die aufgebrachte lichtempfindliche Zusammensetzung hat bevorzugt einen Feststoffgehalt von 1 bis 50 Gew.-%, und zu diesem Zweck wird die lichtempfindliche Zusammensetzung in einer Menge von etwa 0,2 bis 10 g/m² aufgebracht.
Die Menge kann in der Größenordnung des Trockengewichts liegen. Bevorzugter beträgt die aufgebrachte Menge 0,5 bis 3 g/m².
[3] Die lichtempfindliche Schicht enthält eine lichtempfindliche Zusammensetzung vom Fotodimerisationstyp und eine fotopolymerisierbare lichtempfindliche Zusammensetzung:
Beispiele der lichtempfindlichen Zusammensetzung vom Fotodimerisationstyp umfassen Polymere mit einer Maleimidogruppe, einer Cinnamylgruppe, einer Cinnamoylgruppe, einer Cinnamylidengruppe, einer Cynnamylidenacetylgruppe oder einer Chalcongruppe an der Seitenkette oder Hauptkette. Beispiele des Polymers mit einer Maleimidogruppe an der Seitenkette umfassen Polymere, beschrieben in JP-A-52-988 (entsprechend der US-Patentschrift 4,079,041), in der deutschen Patentschrift 2,626,769, in den europäischen Patentschriften 21,019 und 3,552, in Die Angewandte Makromoleculare Chemie, 115, Seiten 163 – 181 (1983), in JP-A-49-128991, JP-A-49-128992, JP-A-49-128993, JP-A-50-5376, JP-A-50-5377, JP-A-50-5379, JP-A-50-5378, JP-A-50-5380, JP-A-53-5298, JP-A-53-5299, JP-A-53-5300, JP-A-50-50107, JP-A-51-47940, JP-A-52-13907, JP-A-50-45076, JP-A-52-121700, JP-A-50-10884, JP-A-50-15087 und in den deutschen Patentschriften 2,349,948 und 2,616,276.
Um ein solches Polymer löslich oder quellbar in Alkaliwasser zu machen, ist es zweckdienlich, eine Carbonsäure, eine Sulfonsäure, eine Phosphorsäure, eine Phosphonsäure, ein Alkalimetallsalz oder ein Ammoniumsalz davon oder eine Säuregruppe mit einem pKa von 6 bis 12, die in Alkaliwasser dissoziierbar ist, einzuarbeiten. Falls erwünscht, können 13 Arten der Monomere mit einer Säuregruppe mit einem Monomer mit einer Maleimidogruppe copolymerisiert werden.
Das Maleimidpolymer mit einer Säuregruppe hat bevorzugt einen Säurewert von 30 bis 300, und unter den Polymeren mit einem solchen Säurewert sind Copolymere von N-[2-Methacryloyloxy)ethyl)-2,3-dimethylmaleimid mit Methacryl- oder Acrylsäure brauchbar, beschrieben in Die Angewandte Makromoleculare Chemie, 128, Seiten 71 – 91 (1984). Weiterhin kann durch Copolymerisieren eines Vinylmonomers als dritte Komponente in der Synthese des vorstehend beschriebenen Copolymers ein Hyperkomplexpolymer in einfacher Weise entsprechend dem Zweck synthetisiert werden. So kann z.B. unter Verwendung eines Alkylmethacrylats oder Alkylacrylats, dessen Homopolymer einen Glasübergangspunkt von Raumtemperatur oder weniger hat, als dritte Vinylmonomerkomponente das erhaltene Copolymer Flexibilität haben.
Beispiele des fotovernetzbaren Polymers mit einer Cinnamylgruppe, einer Cinnamoylgruppe, einer Cinnamylidengruppe, einer Cinnamylidenacetylgruppe oder einer Chalcongruppe an der Seiten- oder Hauptkette umfassen lichtempfindliche Polyester, die in der US-Patentschrift 3,030,208 beschrieben sind.
Beispiele dieser fotovernetzbaren Polymere, die in Alkaliwasser solubilisiert sind, umfassen die folgenden Verbindungen.
Lichtempfindliche Polymere, beschrieben in JP-A-60-191244, sind umfasst.
Weiterhin sind lichtempfindliche Polymere umfasst, die in JP-A-62-125729, JP-A-62-175730, JP-A-63-25443, JP-A-63-218944 und JP-A-63-218945 beschrieben sind.
Die lichtempfindliche Schicht, welche diese Polymere enthält, kann auch ein Sensibilisierungsmittel enthalten. Beispiele des Sensibilisierungsmittels umfassen Benzophenonderivate, Benzanthronderivate, Chinone, aromatische Nitroverbindungen, Naphthothiazolinderivate, Benzothiazolinderivate, Thioxanthonderivate, Naphthothiazolderivate, Ketocumarinverbindungen, Benzothiazolderivate, Naphthofuranverbindungen, Pyryliumsalze und Thiapyryliumsalze. Weiterhin kann die lichtempfindliche Schicht, falls erwünscht, ein Bindemittel, wie ein Copolymer mit wenigstens einem Monomer, ausgewählt aus chloriertem Polyethylen, chloriertem Polypropylen, Polyacrylsäurealkylester, Acrylsäurealkylester, Acrylnitril, Vinylchlorid, Styrol und Butadien, einem Polyamid, einer Methylcellulose, einem Polyvinylformal, einem Polyvinylbutyral, einem Methacrylsäurecopolymer, einem Acrylsäurecopolymer und einem Itaconsäurecopolymer, und einen Weichmacher, einschließlich ein Phthalsäuredialkylester, wie Dibutylphthalat, Oligoethylenglycolalkylester und Phosphorsäureester, enthalten. Zum Zweck der Färbung der lichtempfindlichen Schicht kann zusätzlich ein Farbstoff, ein Pigment oder ein pH-Haltemittel als Kopiermittel ebenfalls bevorzugt zugesetzt werden.
Beispiele der fotopolymerisierbaren lichtempfindlichen Zusammensetzung umfassen eine ungesättigte Carbonsäure und ein Salz davon, Ester einer ungesättigten Carbonsäu re mit einer aliphatischen mehrwertigen Alkoholverbindung und Amide einer ungesättigten Carbonsäure mit einer aliphatischen mehrwertigen Aminverbindung.
Beispiele des Fotopolymerisationsinitiators umfassen eine vic-Polytaketardonyl(?)-verbindung, eine α-Carbonylverbindung, einen Acyloinether, eine Kombination von Triallylimidazol-Dimer/p-Aminophenylketon, eine Verbindung auf Benzothiazolbasis, eine Trihalomethyl-s-triazinverbindung, Acridin- und Phenanzinverbindungen und eine Oxadiazolverbindung. Beispiele des hochmolekularen Polymers, das in Alkaliwasser zusammen mit dem Fotopolymerisationsinitiator löslich oder quellbar und zur Bildung eines Films befähigt ist, umfassen ein Benzyl(meth)acrylat/(Meth)acrylsäure/anderes additionspolymerisierbares Vinylmonomer, falls erwünscht, Copolymer, ein Methacrylsäure/Methylmethacrylat- (oder Methacrylsäureester)-Copolymer, ein Maleinsäureanhydrid-Copolymer, zugesetzt durch Halbveresterung mit Pentaerythrittriacrylat, und ein saures Vinylcopolymer.
[4] Lichtempfindliche Schicht für die Elektrofotografie
Es kann eine lichtempfindliche Schicht aus ZnO verwendet werden, die z.B. in der US-Patentschrift 3,001,782 beschrieben ist. Weiterhin kann auch eine lichtempfindliche Schicht unter Verwendung eines elektrofotografischen Fotorezeptors, beschrieben in JP-A-56-161550, JP-A-60-186847 und JP-A-61-238063, verwendet werden.
Die Menge der auf den Träger aufgebrachten lichtempfindlichen Schicht beträgt etwa 0,1 bis etwa 7 g/m², bevorzugt 0,5 bis 4 g/m², ausgedrückt als Trockengewicht nach dem Beschichten.
In dem Herstellungsverfahren eines Trägers für eine Flachdruckplatte gemäß der vorliegenden Erfindung kann eine Zwischenschicht vorgesehen sein, falls erwünscht, um die Haftung zwischen dem Träger und der lichtempfindlichen Schicht zu erhöhen, um der lichtempfindlichen Schicht nach der Entwicklung kein Zurückbleiben zu erlauben oder um Lichthofbildung zu vermeiden.
Die zum Zweck der Haftungserhöhung vorgesehene Zwischenschicht enthält gewöhnlich ein Diazoharz, eine Phosphorsäure, die z.B. an Aluminium adsorbiert wird, eine Aminoverbindung oder eine Carbonsäureverbindung. Die Zwischenschicht, welche eine Substanz mit hoher Löslichkeit enthält, so dass die lichtempfindliche Schicht nach der Entwicklung nicht zurückbleibt, umfasst gewöhnlich ein Polymer mit guter Löslichkeit oder ein wasserlösliches Polymer. Die Zwischenschicht, die zur Verhinderung von Lichthofbildung vorgesehen ist, enthält gewöhnlich einen Farbstoff oder ein UV-Absorbens. Die Zwischenschicht kann jede Dicke haben, die Dicke muss aber groß genug sein, um die Reaktion zur Bildung einer gleichmäßigen Bindung mit der fotoempfindlichen Schicht als obere Schicht zu erlauben, die zur Zeit der Belichtung abläuft. Das Beschichtungsverhältnis als trockener Feststoff beträgt gewöhnlich 1 bis 100 mg/m², bevorzugt 5 bis 40 mg/m².
Auf der aufgebrachten lichtempfindlichen Schicht kann auch eine aus Vorsprüngen, die unabhängig voneinander vorgesehen sind, aufgebaute Mattierungsschicht vorgesehen sein.
Die Mattierungsschicht ist zum Zweck der Verbesserung der Haftung im Vakuum zwischen einem Negativbildfilm und einer lichtempfindlichen Flachdruckplatte bei der Kontaktbelichtung vorgesehen, wodurch die Zeit zum Erhalt des Vakuums verringert und weiter das Zusetzen von feinen Halbtonpunkten aufgrund eines Kontaktversagens zur Zeit der Belichtung verhindert werden.
Das Verfahren zum Aufbringen der Mattierungsschicht umfasst ein Verfahrens des Pulverisierens eines Polymers und seines Anhaftens durch Wärmeschmelzen, beschrieben in JP-A-55-12974, und ein Verfahren des Aufsprühens und anschließenden Trocknens eines Polymer enthaltenden Wassers, beschrieben in JP-A-58-182636. Jedes Verfahren kann verwendet werden, aber ein Verfahren, wo die Mattierungsschicht selbst in einem wässrigen Alkalientwickler, der im Wesentlichen frei von organischem Lösemittel ist, aufgelöst oder durch ihn entfernt werden kann, ist bevorzugt.
Die so hergestellte lichtempfindliche Flachdruckplatte wird bildweise belichtet und dann der Verarbeitung einschließlich der Entwicklung in üblicherweise zur Bildung eines Harzbildes unterworfen. So wird z.B. im Fall einer lichtempfindlichen Flachdruckplatte mit einer lichtempfindlichen Schicht von [1] vorstehend die Entwicklung mit einer wässrigen Alkalilösung, beschrieben in der US-Patenschrift 4,259,434, nach der Belichtung durchgeführt, um die belichtete Fläche zu entfernen und dadurch eine Flachdruckplatte zu erhalten. Im Fall einer lichtempfindlichen Flachdruckplatte mit einer lichtempfindlichen Schicht von [2] vorstehend, wird die Entwicklung nach bildweiser Belichtung mit einem Entwickler, beschrieben in der US-Patentschrift 4,186,006 durchgeführt, um die lichtempfindliche Schicht in dem nicht belichteten Bereich zu entfernen und dadurch eine Flachdruckplatte zu erhalten. Es kann auch eine wässrige Alkalientwicklerzusammensetzung, die bei der Entwicklung einer positiven Flachdruckplatte verwendet wird, beschrieben in JP-A-59-84241, JP-A-57-192952 und JP-A-62-24263, verwendet werden.
BEISPIELE
Die vorliegende Erfindung wird nachstehend im Einzelnen mit Bezug auf die Beispiele beschrieben.
Beispiel 1
Eine Aluminiumplatte gemäß JIS A 1050 mit einer Dicke von 0,24 mm und einer Breite von 1030 mm, hergestellt durch ein DC-Gießverfahren, wo Zwischenglühen und Wärmebehandeln weggelassen waren, wurde chemisch in einer wässrigen Säure- oder Alkalilösung, die zum Auftreten von Streifen und körniger Unebenheit neigt, geätzt und dann kontinuierlich behandelt.
Diese Aluminiumplatte enthielt Verunreinigungsspurenkomponenten in einem solchen Anteil, dass Si 0,15 Gew.-% betrug, Fe 0,28 % betrug, Cu 0,019 Gew.-% betrug, Ti 0,03 Gew.-% betrug, Mn 0,02 Gew.-% betrug, Mg 0,023 Gew.-% betrug, und Zn 0,02 Gew.-% betrug.
(1) Mechanisches Oberflächenkörnen
Unter Zuführen einer Suspension von Quarzsand mit einer Dichte von 1,12 und Wasser als Abriebaufschlämmungslösung auf die Oberfläche der Aluminiumplatte wurde das mechanische Oberflächenkörnen unter Verwendung von rotierenden walzenförmigen Nylonbürsten durchgeführt. Das Konstruktionsmaterial der verwendeten Nylonbürste war Nylon 6-10, die Borstenlänge betrug 50 mm, und der Borstendurchmesser betrug 0,48 mm. Die Borsten der Nylonbürste waren dicht in Löcher implantiert, die auf einem aus nicht rostendem Stahl hergestellten Rohr mit 300 mm Durchmesser gebohrt waren. Es wurden drei rotierende Bürsten verwendet. Der Abstand zwischen zwei Stützwalzen (Durchmesser 200 mm), die an dem unteren Teil der Bürsten angeordnet waren, betrug 300 mm. Die Bürstenwalzen wurden gepresst, bis die Last eines Antriebsmotors zum Rotieren der Bürsten (die Last vor dem Pressen der Bürstenwalzen auf die Aluminiumplatte) + 6 kw erreichte. Die Rotationsrichtung der Bürsten war die gleiche wie die Bewegungsrichtung der Aluminiumplatte. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen. Die Bewegungsgeschwindigkeit der Aluminiumplatte betrug 50 m/min.
(2) Ätzen in wässriger Alkalilösung
Die Aluminiumplatte wurde geätzt durch Eintauchen in eine wässrige Lösung, die 27 Gew.-% NaOH und 6,5 Gew.-% Aluminiumionen bei 70°C enthielt. Die Menge der aufgelösten Aluminiumplate betrug 10 g/m². Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen.
(3) Entschmutzen
Als nächstes wurde die Aluminiumplatte entschmutzt durch Eintauchen für 10 Sekunden in eine wässrige Lösung, die 1 Gew.-% Chlorwasserstoffsäure bei 35°C enthielt. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen.
(4) Vorhergehendes elektrochemisches Oberflächenkörnen in wässriger Chlorwasserstoffsäurelösung
Unter Verwendung der Wechselstromspannung von 1 und eines Behälters der Vorrichtung von 2 wurde ein kontinuierliches elektrochemisches Oberflächenkörnen durchgeführt. Zu dieser Zeit war die Elektrolytlösung eine wässrige Lösung, die 1 Gew.-% Chlorwasserstoffsäure (enthaltend 0,5 Gew.-% Aluminiumionen) enthielt, und die Flüssigkeitstemperatur betrug 35°C. In diesem elektrochemischen Oberflächenkörnen war die verwendete Wechselstrom-Wellenform eine trapezförmige rechtwinklige Wechselstromwelle von 60 Hz derart, dass die Zeit TP, bis der Stromwert ausgehend von Null die Spitze erreichte, 1 Millisekunde betrug, und das Leistungsverhältnis betrug 1:1, und eine Kohlenstoffelektrode wurde als Gegenelektrode verwendet. Die verwendete Hilfsanode war Ferrit.
Die Stromdichte betrug 50 A/dm², ausgedrückt als Stromspitzenwert, und die Elektrizitätsmenge betrug 40 C/dm², ausgedrückt als Gesamtelektrizitätsmenge, wenn die Aluminiumplatte bei der Anodenzeit war. In die Hilfsanode wurden 5 % des aus der Energiequelle fließenden Stroms abgespalten. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser durch ein Spray gewaschen.
(5) Ätzen in wässriger Alkalilösung
Die Aluminiumplatte wurde geätzt durch Eintauchen in eine wässrige Lösung, die 27 Gew.-% NaOH und 6,5 Gew.-% Aluminiumionen bei 70°C enthielt. Die Menge der aufgelösten Aluminiumplatte betrug 0,3 g/m². Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen.
(6) Entschmutzen
Dann wurde die Aluminiumplatte entschmutzt durch Eintauchen für 10 Sekunden in eine wässrige Lösung, die 1 Gew.-% Salpetersäure (enthaltend 0,5 Gew.-% Aluminiumionen und 0,007 Gew.-% Ammoniumionen) bei 35°C enthielt. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen.
(7) Elektrochemisches Oberflächenkörnen in wässriger Salpetersäurelösung
Unter Verwendung der Wechselstromspannung von 1 und eines Behälters der Vorrichtung von 2 wurde ein elektrochemisches Oberflächenkörnen durchgeführt. Zu dieser Zeit war die Elektrolytlösung eine wässrige Lösung, die 1 Gew.-% Salpetersäure (enthaltend 0,5 Gew.-% Aluminiumionen und 0,007 Gew.-% Ammoniumionen) enthielt, und die Flüssigkeitstemperatur betrug 70°C. In diesem elektrochemischen Oberflächenkörnen war die verwendete Wechselstromwellenform eine trapezförmige rechtwinklige Wechselstromwelle von 60 Hz derart, dass die Zeit TP, bis der Stromwert ausgehend von Null die Spitze erreichte, 1 Millisekunde betrug, und das Leistungsverhältnis betrug 1:1, und eine Kohlenstoffelektrode wurde als Gegenelektrode verwendet. Die verwendete Hilfsanode war Ferrit.
Die Stromdichte betrug 50 A/dm², ausgedrückt als Stromspitzenwert, und die Elektrizitätsmenge betrug 125 C/dm², ausgedrückt als Gesamtelektrizitätsmenge, wenn die Aluminiumplatte bei der Anodenzeit war. In die Hilfsanode wurden 5 % des aus der Energiequelle fließenden Stroms abgespalten. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser durch ein Spray gewaschen.
(8) Ätzen in wässriger Alkalilösung
Die Aluminiumplatte wurde geätzt durch Eintauchen in eine wässrige Lösung, die 26 Gew.-% NaOH und 6,5 Gew.-% Aluminiumionen bei 45°C enthielt. Die Menge der aufgelösten Aluminiumplatte betrug 1 g/m². Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen.
(9) Entschmutzen
Die Aluminiumplatte wurde mit Wasser gewaschen und dann entschmutzt durch Eintauchen in eine wässrige Lösung, die 25 Gew.-% Schwefelsäure bei 60°C enthielt. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen.
(10) Mechanisches Polieren
Das Polieren wurde unter Verwendung von vier Walzen mit jeweils einem Durchmesser von 300 mm und aufgebaut aus einem Nylon-Faservlies durchgeführt, wobei sich die Walzen bei 1000 Upm drehten. Während des Polierens wurde 1 gew.-%iges Ätznatron (enthaltend 0,1 % Aluminiumion) bei 30°C zwischen die Aluminiumplatte und die Walze aus Nylon-Faservlies gesprüht. Zu dieser Zeit betrug die Menge des aufgelösten Aluminiums 0,1 g/m². Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen und weiter in einer wässrigen Lösung entschmutzt, die 15 Gew.-% Schwefelsäure (enthaltend 0,5 Gew.-% Aluminiumionen) enthielt.
(11) Anodisierung
Die Anodisierung wurde in einer wässrigen Lösung mit einer Schwefelsäurekonzentration von 15 Gew.-% (enthaltend 0,5 Gew.-% Aluminiumionen) bei einer Flüssigkeitstemperatur von 35°C unter Verwendung einer Gleichstromspannung bei einer Stromdichte von 2 A/dm² derart durchgeführt, dass die Menge des gebildeten anodischen Oxidfilms 2,4 g/m² betrug. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser durch ein Spray gewaschen.
Auf der Oberfläche der erhaltenen Aluminiumplatte zeigte sich kein Auftreten von Streifen und körniger Unebenheit, die der Orientierung des Kristallkorns zuzuschreiben sind.
Auf die Aluminiumplatte wurden eine Zwischenschicht und eine lichtempfindliche Schicht aufgebracht und getrocknet, wodurch eine positive PS-Platte mit einer Trockendicke von 2,0 g/m² hergestellt wurde. Das Drucken wurde unter Verwendung dieser PS-Platte durchgeführt, als Ergebnis wurde bestätigt, dass die Platte eine gute Druckplatte war.
Diese Flachdruckplatte wurde in einer Probedruckmaschine verwendet und dann als gute Druckplatte bestätigt, die keinen Schwamm aufnimmt zu der Zeit, wenn der Bediener Feuchtwasser durch den Schwamm zuführte, und die leichte Bildung von Schwammabrieb wurde verhindert. Aufgrund des Nichtauftretens von Streifen und körniger Unebenheit war weiterhin die Oberfläche der Aluminiumplatte frei von Unebenheit, daher war ihre Eignung für eine Plattenuntersuchung hoch.
Wenn dieser Träger durch ein Abtastelektronenmikroskop betrachtet wurde, waren etwa 25 % der Langwellenvorsprünge abgerundet.
Beispiel 2
Das Aluminiumsubstrat nach der Anodisierung in Beispiel 1 wurde hydrophilisiert durch Eintauchen für 14 Sekunden in eine wässrige Lösung bei 70°, die 2,5 Gew.-% Natriumsilicat enthielt. Dann wurde das Substrat mit Wasser durch ein Spray gewaschen und getrocknet. Nach jeder Behandlung und dem Waschen mit Wasser wurde das Abquetschen der Flüssigkeit durch Quetschwalzen durchgeführt.
Auf der so behandelten Aluminiumplatte wurden eine Zwischenschicht und eine negative lichtempfindliche Schicht aufgebracht und getrocknet, wodurch eine PS-Platte hergestellt wurde. Unter Verwendung dieser PS-Platte wurde ein Drucken durchgeführt, als Ergebnis wurde bestätigt, dass die Platte eine gute Druckplatte war.
Beispiel 3
Ein Aluminiumsubstrat wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 gründlich oberflächengekörnt mit der Ausnahme, dass (8) das chemische Ätzen in einer wässrigen Alkalilösung von Beispiel 1 ersetzt wurde durch eine Anodisierung in einer wässrigen Lösung, die 9 Gew.-% Ätznatron und 0,5 Gew.-% Aluminiumionen enthielt, bei 35°C mit einer Stromdichte von 20 A/dm² unter Verwendung der Aluminiumplatte als Anode derart, dass die Menge des aufgelösten Aluminiums 1 g/m² betrug. Auf die so behandelte Aluminiumplatte wurde eine Zwischenschicht und eine negative lichtempfindliche Schicht aufgebracht und getrocknet, wodurch eine PS-Platte hergestellt wurde. Unter Verwendung dieser PS-Platte wurde ein Drucken durchgeführt, als Ergebnis wurde bestätigt, dass die Platte eine gute Druckplatte war.
Beispiel 4
Das Aluminiumsubstrat nach der Anodisierung in Beispiel 3 wurde hydrophilisiert durch Eintauchen für 14 Sekunden in eine wässrige Lösung bei 70°C, die 2,5 Gew.-% Natriumsilicat enthielt. Dann wurde das Substrat mit Wasser durch ein Spray gewaschen und getrocknet. Nach jeder Behandlung und dem Waschen mit Wasser wurde ein Abquetschen der Flüssigkeit durch Quetschwalzen durchgeführt.
Auf die so behandelte Aluminiumplatte wurden eine Zwischenschicht und eine negative lichtempfindliche Schicht aufgebracht und getrocknet, wodurch eine PS-Platte hergestellt wurde. Unter Verwendung dieser PS-Platte wurde ein Drucken durchgeführt, als Ergebnis wurde bestätigt, dass die Platte eine gute Druckplatte war.
Beispiel 5
Ein Aluminiumsubstrat wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 gründlich oberflächengekörnt mit der Ausnahme, dass Wasser und ein Abriebmittel mit einer mittleren Teilchengröße von 0,05 μm in (10) dem Polieren von Beispiel 1 verwendet wurde. Auf die so behandelte Aluminiumplatte wurden eine Zwischenschicht und eine positive lichtempfindliche Schicht aufgebracht und getrocknet, wodurch eine PS-Platte hergestellt wurde. Unter Verwendung dieser PS-Platte wurde ein Drucken durchgeführt, als Ergebnis wurde bestätigt, dass die Platte eine gute Druckplatte war.
Beispiel 6
Eine Aluminiumplatte gemäß JIS A 1050 mit einer Dicke von 0,24 mm und einer Breite von 1030 mm, hergestellt durch ein DC-Gießverfahren, wo Zwischenglühen und Wärmebehandeln weggelassen waren, wurde chemisch in einer wässrigen Säure- oder Alkalilösung, die zum Auftreten von Streifen und körniger Unebenheit neigt, geätzt und dann kontinuierlich behandelt.
Diese Aluminiumplatte enthielt Verunreinigungsspurenkomponenten in einem solchen Anteil, dass Si 0,06 Gew.-% betrug, Fe 0,1 % betrug, Cu 0,01 Gew.-% betrug, Ti 0,02 Gew.-% betrug, Mn 0,01 Gew.-% betrug, Mg 0,01 Gew.-% betrug, und Zn 0,01 Gew.-% betrug.
Die Aluminiumplatte wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 oberflächengekörnt.
(1) Ätzen in wässriger Alkalilösung
Die Aluminiumplatte wurde geätzt durch Eintauchen in eine wässrige Lösung, die 27 Gew.-% NaOH und 6,5 Gew.-% Aluminiumionen bei 70°C enthielt. Die Menge der aufgelösten Aluminiumplatte betrug 2 g/m². Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen.
(2) Entschmutzen
Als nächstes wurde die Aluminiumplatte entschmutzt durch Eintauchen für 10 Sekunden in eine wässrige Lösung, die 1 Gew.-% Chlorwasserstoffsäure bei 35°C enthielt. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen.
(3) Elektrochemisches Oberflächenkörnen in wässriger Chlorwasserstoffsäurelösung
Unter Verwendung der Wechselstromspannung von 1 und zwei Bädern der Vorrichtung von 2 wurde ein kontinuierliches elektrochemisches Oberflächenkörnen durchgeführt. Zu dieser Zeit war die Elektrolytlösung eine 1 gew.-%ige wässrige Chlorwasserstoffsäure (enthaltend 0,5 Gew.-% Aluminiumionen), und die Flüssigkeitstemperatur betrug 35°C. In diesem elektrochemischen Oberflächenkörnen war die verwendete Wechselstromwellenform eine trapezförmige rechtwinklige Wechselstromwelle von 60 Hz derart, dass die Zeit TP, bis der Stromwert ausgehend von Null die Spitze erreichte 1 Millisekunde betrug, und das Leistungsverhältnis betrug 1:1, und eine Kohlenstoffelektrode wurde als Gegenelektrode verwendet. Die verwendete Hilfsanode war Ferrit.
Die Stromdichte betrug 50 A/dm², ausgedrückt als Stromspitzenwert, und die Elektrizitätsmenge betrug 400 C/dm², ausgedrückt als Gesamtelektrizitätsmenge, wenn die Aluminiumplatte bei der Anodenzeit war. In die Hilfsanode wurden 5 % des aus der Energiequelle fließenden Stroms abgespalten. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser durch ein Spray gewaschen.
(4) Ätzen in wässriger Alkalilösung
Die Aluminiumplatte wurde geätzt durch Eintauchen in eine wässrige Lösung, die 26 Gew.-% NaOH und 6,5 Gew.-% Aluminiumionen bei 45°C enthielt. Die Menge der aufgelösten Aluminiumplatte betrug 0,3 g/m². Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen.
(5) Entschmutzen
Die Aluminiumplatte wurde mit Wasser gewaschen und dann entschmutzt durch Eintauchen in eine wässrige Lösung, die 25 Gew.-% Schwefelsäure bei 60°C enthielt. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen.
(6) Mechanisches Polieren
Unter Verwendung von vier Walzen mit einem Durchmesser von jeweils 300 mm und konstruiert aus einem Nylon-Faservlies wurde das Polieren durchgeführt, wobei die Walzen bei 300 Upm rotierten. Während des Polierens wurde Wasser zwischen die Aluminiumplatte und die Nylon-Faservlies-Walze gesprüht. Zu dieser Zeit betrug die aufgelöste Aluminiummenge 0,1 g/m². Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen und dann wieder in einer wässrigen Lösung entschmutzt, die 15 Gew.-% Schwefelsäure (enthaltend 0,5 Gew.-% Aluminiumionen) enthielt. Die für das Polieren verwendeten Walzen wurden so angeordnet, dass sie normal, normal, umgekehrt und umgekehrt in Folge mit Bezug auf die Bewegungsrichtung der Aluminiumplatte rotierten.
(7) Anodisierung
Die Anodisierung wurde in einer wässrigen Lösung mit einer Schwefelsäurekonzentration von 15 Gew.-% (enthaltend 0,5 Gew.-% Aluminiumionen) bei einer Flüssigkeitstemperatur von 35°C unter Verwendung einer Gleichstromspannung bei einer Stromdichte von 2 A/dm² derart durchgeführt, dass die Menge des gebildeten anodischen Oxidfilms 2,4 g/m² betrug. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser durch ein Spray gewaschen.
Auf der Oberfläche der erhaltenen Aluminiumplatte zeigte sich kein Auftreten von Streifen und körniger Unebenheit, die der Orientierung des Kristallkorns zuzuschreiben sind.
Auf die Aluminiumplatte wurden eine Zwischenschicht und eine lichtempfindliche Schicht aufgebracht und getrocknet, wodurch eine positive PS-Platte mit einer Trockendicke von 2,0 g/m² hergestellt wurde. Das Drucken wurde unter Verwendung dieser PS-Platte durchgeführt, als Ergebnis wurde bestätigt, dass die Platte eine gute Druckplatte war.
Diese Flachdruckplatte wurde in einer Probedruckmaschine verwendet und dann als gute Druckplatte bestätigt, die keinen Schwamm aufnimmt zu der Zeit, wenn der Bediener Feuchtwasser durch den Schwamm zuführte, und die leichte Bildung von Schwammabrieb wurde verhindert. Aufgrund des Nichtauftretens von Streifen und körniger Unebenheit war weiterhin die Oberfläche der Aluminiumplatte frei von Unebenheit, daher war ihre Eignung für eine Plattenuntersuchung hoch.
Beispiel 7
Eine Aluminiumplatte wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 6 gründlich oberflächengekörnt mit der Ausnahme, dass die Behandlungen (1), (2) und (3) von Beispiel 6 durch die folgenden Behandlungen ersetzt wurden.
(1) Ätzen in wässriger Alkalilösung
Die Aluminiumplatte wurde geätzt durch Eintauchen in eine wässrige Lösung, die 27 Gew.-% NaOH und 6,5 Gew.-% Aluminiumionen bei 70°C enthielt. Die Menge der aufgelösten Aluminiumplatte betrug 8 g/m². Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen.
(2) Entschmutzen
Als nächstes wurde die Aluminiumplatte entschmutzt durch Eintauchen für 10 Sekunden in eine wässrige Lösung bei 35°C, die 1 Gew.-% Salpetersäure enthielt. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen.
(3) Elektrochemisches Oberflächenkörnen in wässriger Salpetersäurelösung
Unter Verwendung der Wechselstromspannung von 1 und zwei Bädern der Vorrichtung von 2 wurde ein kontinuierliches elektrochemisches Oberflächenkörnen durchgeführt. Zu dieser Zeit war die Elektrolytlösung eine wässrige Lösung, die 1 Gew.-% Salpetersäure (enthaltend 0,5 Gew.-% Aluminiumionen) enthielt, und die Flüssigkeitstemperatur betrug 50°C. In diesem elektrochemischen Oberflächenkörnen war die ver wendete Wechselstromwellenform eine trapezförmige rechtwinklige Wechselstromwelle von 60 Hz derart, dass die Zeit TP, bis der Stromwert ausgehend von Null die Spitze erreichte, 1 Millisekunde betrug, und das Leistungsverhältnis betrug 1:1, und eine Kohlenstoffelektrode wurde als Gegenelektrode verwendet. Die verwendete Hilfsanode war Ferrit.
Die Stromdichte betrug 50 A/dm², ausgedrückt als Stromspitzenwert, und die Elektrizitätsmenge betrug 250 C/dm², ausgedrückt als Gesamtelektrizitätsmenge, wenn die Aluminiumplatte bei der Anodenzeit war. In die Hilfsanode wurden 5 % des aus der Energiequelle fließenden Stroms abgespalten. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser durch ein Spray gewaschen.
Auf der Oberfläche der erhaltenen Aluminiumplatte zeigte sich kein Auftreten von Streifen und körniger Unebenheit, die der Orientierung des Kristallkorns zuzuschreiben sind.
Auf die Aluminiumplatte wurden eine Zwischenschicht und eine lichtempfindliche Schicht aufgebracht und getrocknet, wodurch eine positive PS-Platte mit einer Trockendicke von 2,0 g/m² hergestellt wurde. Das Drucken wurde unter Verwendung dieser PS-Platte durchgeführt, als Ergebnis wurde bestätigt, dass die Platte eine gute Druckplatte war.
Diese Flachdruckplatte wurde in einer Probedruckmaschine verwendet und dann als gute Druckplatte bestätigt, die keinen Schwamm aufnimmt zu der Zeit, wenn der Bediener Feuchtwasser durch den Schwamm zuführte, und die leichte Bildung von Schwammabrieb wurde verhindert. Aufgrund des Nichtauftretens von Streifen und körniger Unebenheit war weiterhin die Oberfläche der Aluminiumplatte frei von Unebenheit, daher war ihre Eignung für eine Plattenuntersuchung hoch.
Beispiel 8
Eine Aluminiumplatte gemäß JIS A 1050 mit einer Dicke von 0,24 mm und einer Breite von 1030 mm, hergestellt durch ein DC-Gießverfahren, wo Zwischenglühen und Wärmebehandeln weggelassen waren, wurde chemisch in einer wässrigen Säure- oder Alkalilösung, die zum Auftreten von Streifen und körniger Unebenheit neigt, geätzt und dann kontinuierlich behandelt.
Diese Aluminiumplatte enthielt Verunreinigungsspurenkomponenten in einem solchen Anteil, dass Si 0,15 Gew.-% betrug, Fe 0,28 % betrug, Cu 0,019 Gew.-% betrug, Ti 0,03 Gew.-% betrug, Mn 0,02 Gew.-% betrug, Mg 0,023 Gew.-% betrug, und Zn 0,02 Gew.-% betrug.
(1) Mechanisches Oberflächenkörnen
Unter Zuführen einer Suspension von Quarzsand mit einer Dichte von 1,12 und Wasser als Abriebaufschlämmungslösung auf die Oberfläche der Aluminiumplatte wurde das mechanische Oberflächenkörnen unter Verwendung von rotierenden walzenförmigen Nylonbürsten durchgeführt. Das Konstruktionsmaterial der verwendeten Nylonbürste war Nylon 6-10, die Borstenlänge betrug 50 mm, und der Borstendurchmesser betrug 0,48 mm. Die Borsten der Nylonbürste waren dicht in Löcher implantiert, die auf einem aus nicht rostendem Stahl hergestellten Rohr mit 300 mm Durchmesser gebohrt waren. Es wurden drei rotierende Bürsten verwendet. Der Abstand zwischen zwei Stützwalzen (Durchmesser 200 mm), die an dem unteren Teil der Bürsten angeordnet waren, betrug 300 mm. Die Bürstenwalzen wurden gepresst, bis die Last eines Antriebsmotors zum Rotieren der Bürsten (die Last vor dem Pressen der Bürstenwalzen auf die Aluminiumplatte) + 6 kw erreichte. Die Rotationsrichtung der Bürsten war die gleiche wie die Bewegungsrichtung der Aluminiumplatte. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen. Die Bewegungsgeschwindigkeit der Aluminiumplatte betrug 50 m/min.
(2) Ätzen in wässriger Alkalilösung
Die Aluminiumplatte wurde geätzt durch Eintauchen in eine wässrige Lösung, die 27 Gew.-% NaOH und 6,5 Gew.-% Aluminiumionen bei 70°C enthielt. Die Menge der aufgelösten Aluminiumplatte betrug 2 g/m². Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen.
(3) Entschmutzen
Als nächstes wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen und dann entschmutzt durch Eintauchen in eine wässrige Lösung bei 35°C, die 15 Gew.-% Schwefelsäure (enthaltend 0,5 Gew.-% Aluminiumionen) enthielt. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen.
(4) Mechanisches Polieren
Unter Verwendung von vier Walzen mit einem Durchmesser von jeweils 300 mm und konstruiert aus einem Nylon-Faservlies wurde das Polieren durchgeführt, wobei die Walzen bei 2000 Upm rotierten. Während des Polierens wurde Wasser zwischen die Aluminiumplatte und die Nylon-Faservlies-Walze gesprüht. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen.
(5) Anodisierung
Die Anodisierung wurde in einer wässrigen Lösung mit einer Schwefelsäurekonzentration von 15 Gew.-% (enthaltend 0,5 Gew.-% Aluminiumionen) bei einer Flüssigkeitstemperatur von 35°C unter Verwendung einer Gleichstromspannung bei einer Stromdichte von 2 A/dm² derart durchgeführt, dass die Menge des gebildeten anodischen Oxidfilms 2,4 g/m² betrug. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser durch ein Spray gewaschen.
Auf der Oberfläche der erhaltenen Aluminiumplatte zeigte sich kein Auftreten von Streifen und körniger Unebenheit, die der Orientierung des Kristallkorns zuzuschreiben sind. Auf die Aluminiumplatte wurden eine Zwischenschicht und eine lichtempfindliche Schicht aufgebracht und getrocknet, wodurch eine positive PS-Platte mit einer Trockendicke von 2,0 g/m² hergestellt wurde. Das Drucken wurde unter Verwendung dieser PS-Platte durchgeführt, als Ergebnis wurde bestätigt, dass die Platte eine gute Druckplatte war.
Diese Flachdruckplatte wurde in einer Probedruckmaschine verwendet und dann als gute Druckplatte bestätigt, die keinen Schwamm aufnimmt zu der Zeit, wenn der Bediener Feuchtwasser durch den Schwamm zuführte, und die leichte Bildung von Schwammabrieb wurde verhindert. Aufgrund des Nichtauftretens von Streifen und körniger Unebenheit war weiterhin die Oberfläche der Aluminiumplatte frei von Unebenheit, daher war ihre Eignung für eine Plattenuntersuchung hoch.
Eine Aluminiumplatte gemäß JIS A 1050 mit einer Dicke von 0,24 mm und einer Breite von 1030 mm, hergestellt durch ein DC-Gießverfahren, wo Zwischenglühen und Wärmebehandeln weggelassen waren, wurde chemisch in einer wässrigen Säure- oder Alkalilösung, die zum Auftreten von Streifen und körniger Unebenheit neigt, geätzt und dann kontinuierlich behandelt.
Diese Aluminiumplatte enthielt Verunreinigungsspurenkomponenten in einem solchen Anteil, dass Si 0,15 Gew.-% betrug, Fe 0,28 % betrug, Cu 0,019 Gew.-% betrug, Ti 0,03 Gew.-% betrug, Mn 0,02 Gew.-% betrug, Mg 0,023 Gew.-% betrug, und Zn 0,02 Gew.-% betrug.
Beispiel 9
Eine Aluminiumplatte, gleich wie in Beispiel 8, wurde kontinuierlich behandelt.
(1) Mechanisches Oberflächenkörnen
Unter Zuführen einer Suspension von Quarzsand mit einer Dichte von 1,12 und Wasser als Abriebaufschlämmungslösung auf die Oberfläche der Aluminiumplatte wurde das mechanische Oberflächenkörnen unter Verwendung von rotierenden walzenförmigen Nylonbürsten durchgeführt. Das Konstruktionsmaterial der verwendeten Nylonbürste war Nylon 6-10, die Borstenlänge betrug 50 mm, und der Borstendurchmesser betrug 0,48 mm. Die Borsten der Nylonbürste waren dicht in Löcher implantiert, die auf einem aus nicht rostendem Stahl hergestellten Rohr mit 300 mm Durchmesser gebohrt waren. Es wurden drei rotierende Bürsten verwendet. Der Abstand zwischen zwei Stützwalzen (Durchmesser 200 mm), die an dem unteren Teil der Bürsten angeordnet waren, betrug 300 mm. Die Bürstenwalzen wurden gepresst, bis die Last eines Antriebsmotors zum Rotieren der Bürsten (die Last vor dem Pressen der Bürstenwalzen auf die Aluminiumplatte) + 6 kw erreichte. Die Rotationsrichtung der Bürsten war die gleiche wie die Bewegungsrichtung der Aluminiumplatte. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen. Die Bewegungsgeschwindigkeit der Aluminiumplatte betrug 50 m/min.
(2) Ätzen in wässriger Alkalilösung
Die Aluminiumplatte wurde geätzt durch Eintauchen in eine wässrige Lösung, die 27 Gew.-% NaOH und 6,5 Gew.-% Aluminiumionen bei 70°C enthielt. Die Menge der aufgelösten Aluminiumplatte betrug 10 g/m². Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen.
(3) Entschmutzen
Als nächstes wurde die Aluminiumplatte entschmutzt durch Eintauchen für 10 Sekunden in eine wässrige Lösung bei 35°C, die 1 Gew.-% Salpetersäure (enthaltend 0,5 Gew.-% Aluminiumionen und 0,007 Gew.-% Ammoniumionen) enthielt. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen.
(4) Elektrochemisches Oberflächenkörnen in wässriger Salpetersäurelösung
Unter Verwendung der Wechselstromspannung von 1 und zwei Bädern der Vorrichtung von 2 wurde ein kontinuierliches elektrochemisches Oberflächenkörnen durchgeführt. Zu dieser Zeit war die Elektrolytlösung eine wässrige Lösung, die 1 Gew.-% Salpetersäure (enthaltend 0,5 Gew.-% Aluminiumionen und 0,007 Gew.-% Ammoniumionen) enthielt, und die Flüssigkeitstemperatur betrug 50°C. In diesem elektrochemischen Oberflächenkörnen war die verwendete Wechselstromwellenform eine trapezförmige rechtwinklige Wechselstromwelle von 60 Hz derart, dass die Zeit TP, bis der Stromwert ausgehend von Null die Spitze erreichte, 1 Millisekunde betrug, und das Leistungsverhältnis betrug 1:1, und eine Kohlenstoffelektrode wurde als Gegenelektrode verwendet. Die verwendete Hilfsanode war Ferrit. Die Stromdichte betrug 50 A/dm², ausgedrückt als Stromspitzenwert, und die Elektrizitätsmenge betrug 230 C/dm², ausgedrückt als Gesamtelektrizitätsmenge, wenn die Aluminiumplatte bei der Anodenzeit war. In die Hilfsanode wurden 5 % des aus der Energiequelle fließenden Stroms abgespalten. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser durch ein Spray gewaschen.
(5) Ätzen in wässriger Alkalilösung
Die Aluminiumplatte wurde geätzt durch Eintauchen in eine wässrige Lösung, die 26 Gew.-% NaOH und 6,5 Gew.-% Aluminiumionen bei 45°C enthielt. Die Menge der aufgelösten Aluminiumplatte betrug 1 g/m². Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen.
(6) Entschmutzen
Die Aluminiumplatte wurde mit Wasser gewaschen und dann entschmutzt durch Eintauchen in eine wässrige Lösung bei 60°C, die 25 Gew.-% Schwefelsäure enthielt. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen.
(7) Mechanisches Polieren
Unter Verwendung von drei Walzen mit einem Durchmesser von jeweils 300 mm und konstruiert aus einem Nylon-Faservlies wurde das Polieren durchgeführt, wobei die Walzen bei 1000 Upm rotierten. Während des Polierens wurde Wasser zwischen die Aluminiumplatte und die Nylon-Faservlies-Walze gesprüht.
(8) Anodisierung
Die Anodisierung wurde in einer wässrigen Lösung mit einer Schwefelsäurekonzentration von 15 Gew.-% (enthaltend 0,5 Gew.-% Aluminiumionen) bei einer Flüssigkeitstemperatur von 35°C unter Verwendung einer Gleichstromspannung bei einer Stromdichte von 2 A/dm² derart durchgeführt, dass die Menge des gebildeten anodischen Oxidfilms 2,4 g/m² betrug. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser durch ein Spray gewaschen.
Auf der Oberfläche der erhaltenen Aluminiumplatte zeigte sich kein Auftreten von Streifen und körniger Unebenheit, die der Orientierung des Kristallkorns zuzuschreiben sind.
Auf die Aluminiumplatte wurden eine Zwischenschicht und eine lichtempfindliche Schicht aufgebracht und getrocknet, wodurch eine positive PS-Platte mit einer Trockendicke von 2,0 g/m² hergestellt wurde. Das Drucken wurde unter Verwendung dieser PS-Platte durchgeführt, als Ergebnis wurde bestätigt, dass die Platte eine gute Druckplatte war.
Diese Flachdruckplatte wurde in einer Probedruckmaschine verwendet und dann als gute Druckplatte bestätigt, die keinen Schwamm aufnimmt zu der Zeit, wenn der Bediener Feuchtwasser durch den Schwamm zuführte, und die leichte Bildung von Schwammabrieb wurde verhindert. Aufgrund des Nichtauftretens von Streifen und körniger Unebenheit war weiterhin die Oberfläche der Aluminiumplatte frei von Unebenheit, daher war ihre Eignung für eine Plattenuntersuchung hoch.
Beispiel 10
Eine Aluminiumplatte gemäß JIS A 1050 mit einer Dicke von 0,24 mm und einer Breite von 1030 mm, hergestellt durch ein DC-Gießverfahren, wo Zwischenglühen und Wärmebehandeln weggelassen waren, wurde chemisch in einer wässrigen Säure- oder Alkalilösung, die zum Auftreten von Streifen und körniger Unebenheit neigt, geätzt und dann kontinuierlich behandelt.
Diese Aluminiumplatte enthielt Verunreinigungsspurenkomponenten in einem solchen Anteil, dass Si 0,15 Gew.-% betrug, Fe 0,28 % betrug, Cu 0,019 Gew.-% betrug, Ti 0,03 Gew.-% betrug, Mn 0,02 Gew.-% betrug, Mg 0,023 Gew.-% betrug, und Zn 0,02 Gew.-% betrug.
(1) Mechanisches Polieren
Unter Verwendung von vier Walzen mit einem Durchmesser von jeweils 300 mm und konstruiert aus einem Nylon-Faservlies wurde das Polieren durchgeführt, wobei die Walzen bei 1000 Upm rotierten. Während des Polierens wurde Wasser zwischen die Aluminiumplatte und die Nylon-Faservlies-Walze gesprüht.
(2) Mechanisches Oberflächenkörnen
Unter Zuführen einer Suspension von Quarzsand mit einer Dichte von 1,12 und Wasser als Abriebaufschlämmungslösung auf die Oberfläche der Aluminiumplatte wurde das mechanische Oberflächenkörnen unter Verwendung von rotierenden walzenförmigen Nylonbürsten durchgeführt. Das Konstruktionsmaterial der verwendeten Nylonbürste war Nylon 6-10, die Borstenlänge betrug 50 mm, und der Borstendurchmesser betrug 0,48 mm. Die Borsten der Nylonbürste waren dicht in Löcher implantiert, die auf einem aus nicht rostendem Stahl hergestellten Rohr mit 300 mm Durchmesser gebohrt waren. Es wurden drei rotierende Bürsten verwendet. Der Abstand zwischen zwei Stützwalzen (Durchmesser 200 mm), die an dem unteren Teil der Bürsten angeordnet waren, betrug 300 mm. Die Bürstenwalzen wurden gepresst, bis die Last eines Antriebsmotors zum Rotieren der Bürsten (die Last vor dem Pressen der Bürstenwalzen auf die Aluminiumplatte) + 6 kw erreichte. Die Rotationsrichtung der Bürsten war die gleiche wie die Bewegungsrichtung der Aluminiumplatte. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen. Die Bewegungsgeschwindigkeit der Aluminiumplatte betrug 50 m/min.
(3) Ätzen in wässriger Alkalilösung
Die Aluminiumplatte wurde geätzt durch Eintauchen in eine wässrige Lösung, die 27 Gew.-% NaOH und 6,5 Gew.-% Aluminiumionen bei 70°C enthielt. Die Menge der aufgelösten Aluminiumplatte betrug 10 g/m². Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen.
(4) Entschmutzen
Als nächstes wurde die Aluminiumplatte entschmutzt durch Eintauchen für 10 Sekunden in eine wässrige Lösung, die 1 Gew.-% Chlorwasserstoffsäure bei 35°C enthielt. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen.
(4) Vorhergehendes elektrochemisches Oberflächenkörnen in wässriger Chlorwasserstoffsäurelösung
Unter Verwendung der Wechselstromspannung von 1 und der Vorrichtung von 2 wurde ein kontinuierliches elektrochemisches Oberflächenkörnen durchgeführt. Zu dieser Zeit war die Elektrolytlösung eine wässrige Lösung, die 1 Gew.-% Chlorwasserstoffsäure (enthaltend 0,5 Gew.-% Aluminiumionen) enthielt, und die Flüssigkeitstemperatur betrug 35°C. In diesem elektrochemischen Oberflächenkörnen war die verwendete Wechselstrom-Wellenform eine trapezförmige rechtwinklige Wechselstromwelle von 60 Hz derart, dass die Zeit TP, bis der Stromwert ausgehend von Null die Spitze erreichte, 1 Millisekunde betrug, und das Leistungsverhältnis betrug 1:1, und eine Kohlenstoffelektrode wurde als Gegenelektrode verwendet. Die verwendete Hilfsanode war Ferrit.
Die Stromdichte betrug 50 A/dm², ausgedrückt als Stromspitzenwert, und die Elektrizitätsmenge betrug 40 C/dm², ausgedrückt als Gesamtelektrizitätsmenge, wenn die Aluminiumplatte bei der Anodenzeit war. In die Hilfsanode wurden 5 % des aus der Energiequelle fließenden Stroms abgespalten. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser durch ein Spray gewaschen.
(6) Ätzen in wässriger Alkalilösung
Die Aluminiumplatte wurde geätzt durch Eintauchen in eine wässrige Lösung, die 27 Gew.-% NaOH und 6,5 Gew.-% Aluminiumionen bei 70°C enthielt. Die Menge der aufgelösten Aluminiumplatte betrug 0,3 g/m². Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen.
(7) Entschmutzen
Dann wurde die Aluminiumplatte entschmutzt durch Eintauchen für 10 Sekunden in eine wässrige Lösung, die 1 Gew.-% Salpetersäure (enthaltend 0,5 Gew.-% Aluminiumionen und 0,007 Gew.-% Ammoniumionen) bei 35°C. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen.
(8) Elektrochemisches Oberflächenkörnen in wässriger Salpetersäurelösung
Unter Verwendung der Wechselstromspannung von 1 und zwei Bädern der Vorrichtung von 2 wurde ein kontinuierliches elektrochemisches Oberflächenkörnen durchgeführt. Zu dieser Zeit war die Elektrolytlösung eine wässrige Lösung, die 1 Gew.-% Salpetersäure (enthaltend 0,5 Gew.-% Aluminiumionen und 0,007 Gew.-% Ammoniumionen) enthielt, und die Flüssigkeitstemperatur betrug 50°C. In diesem elektrochemischen Oberflächenkörnen war die verwendete Wechselstromwellenform eine trapezförmige rechtwinklige Wechselstromwelle von 60 Hz derart, dass die Zeit TP, bis der Stromwert ausgehend von Null die Spitze erreichte, 1 Millisekunde betrug, und das Leistungsverhältnis betrug 1:1, und eine Kohlenstoffelektrode wurde als Gegenelektrode verwendet. Die verwendete Hilfsanode war Ferrit. Die Stromdichte betrug 50 A/dm², ausgedrückt als Stromspitzenwert, und die Elektrizitätsmenge betrug 190 C/dm², ausgedrückt als Gesamtelektrizitätsmenge, wenn die Aluminiumplatte bei der Anodenzeit war. In die Hilfsanode wurden 5 % des aus der Energiequelle fließenden Stroms abgespalten. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser durch ein Spray gewaschen.
(9) Ätzen in wässriger Alkalilösung
Die Aluminiumplatte wurde geätzt durch Eintauchen in eine wässrige Lösung, die 26 Gew.-% NaOH und 6,5 Gew.-% Aluminiumionen bei 45°C enthielt. Die Menge der aufgelösten Aluminiumplatte betrug 0,7 g/m². Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen.
(10) Entschmutzen
Die Aluminiumplatte wurde mit Wasser gewaschen und dann entschmutzt durch Eintauchen in eine wässrige Lösung bei 60°C, die 25 Gew.-% Schwefelsäure enthielt. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen.
(11) Mechanisches Polieren
Unter Verwendung von vier Walzen mit einem Durchmesser von jeweils 300 mm und konstruiert aus einem Nylon-Faservlies wurde das Polieren durchgeführt, wobei die Walzen bei 1000 Upm rotierten. Während des Polierens wurde Wasser zwischen die Aluminiumplatte und die Nylon-Faservlies-Walze gesprüht.
(12) Anodisierung
Die Anodisierung wurde in einer wässrigen Lösung mit einer Schwefelsäurekonzentration von 15 Gew.-% (enthaltend 0,5 Gew.-% Aluminiumionen) bei einer Flüssigkeitstemperatur von 35°C unter Verwendung einer Gleichstromspannung bei einer Stromdichte von 2 A/dm² derart durchgeführt, dass die Menge des gebildeten anodischen Oxidfilms 2,4 g/m² betrug. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser durch ein Spray gewaschen.
Auf der Oberfläche der erhaltenen Aluminiumplatte zeigte sich kein Auftreten von Streifen und körniger Unebenheit, die der Orientierung des Kristallkorns zuzuschreiben sind.
Auf die Aluminiumplatte wurden eine Zwischenschicht und eine lichtempfindliche Schicht aufgebracht und getrocknet, wodurch eine positive PS-Platte mit einer Trockendicke von 2,0 g/m² hergestellt wurde. Das Drucken wurde unter Verwendung dieser PS-Platte durchgeführt, als Ergebnis wurde bestätigt, dass die Platte eine gute Druckplatte war.
Diese Flachdruckplatte wurde in einer Probedruckmaschine verwendet und dann als gute Druckplatte bestätigt, die keinen Schwamm aufnimmt zu der Zeit, wenn der Bediener Feuchtwasser durch den Schwamm zuführte, und die leichte Bildung von Schwammabrieb wurde verhindert. Aufgrund des Nichtauftretens von Streifen und körniger Unebenheit war weiterhin die Oberfläche der Aluminiumplatte frei von Unebenheit, daher war ihre Eignung für eine Plattenuntersuchung hoch.
Wenn dieser Träger durch ein Abtastelektronenmikroskop betrachtet wurde, waren etwa 25 % der Langwellenvorsprünge abgerundet.
Beispiel 11
Das Substrat nach der Anodisierung in Beispiel 10 wurde hydrophilisiert durch Eintauchen für 14 Sekunden in eine wässrige Lösung bei 70°C, die 25 Gew.-% Natriumsilicat enthielt. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen und dann getrocknet. Nach jeder Behandlung und dem Waschen mit Wasser wurde ein Abquetschen der Flüssigkeit durch Quetschwalzen durchgeführt.
Auf die so behandelte Aluminiumplatte wurden eine Zwischenschicht und eine negative lichtempfindliche Schicht aufgebracht und getrocknet, wodurch eine PS-Platte hergestellt wurde. Unter Verwendung dieser PS-Platte wurde ein Drucken durchgeführt, als Ergebnis wurde bestätigt, dass die Platte eine gute Druckplatte war.
Beispiel 12
Eine Aluminiumplatte gemäß JIS A 1050 mit einer Dicke von 0,24 mm und einer Breite von 1030 mm, hergestellt durch ein DC-Gießverfahren, wo Zwischenglühen und Wärmebehandeln weggelassen waren, wurde chemisch in einer wässrigen Säure- oder Alkalilösung, die zum Auftreten von Streifen und körniger Unebenheit neigt, geätzt und dann kontinuierlich behandelt.
Diese Aluminiumplatte enthielt Verunreinigungsspurenkomponenten in einem solchen Anteil, dass Si 0,06 Gew.-% betrug, Fe 0,1 % betrug, Cu 0,01 Gew.-% betrug, Ti 0,02 Gew.-% betrug, Mn 0,01 Gew.-% betrug, Mg 0,01 Gew.-% betrug, und Zn 0,01 Gew.-% betrug.
Die Aluminiumplatte wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 oberflächengekörnt.
(1) Mechanisches Polieren
Unter Verwendung von drei Walzen mit einem Durchmesser von jeweils 300 mm und konstruiert aus einem Nylon-Faservlies, an welches ein Schleifmittel gebunden war, wurde das Polieren durchgeführt, wobei die Walzen bei 1000 Upm rotierten. Während des Polierens wurde Wasser zwischen die Aluminiumplatte und die Nylon-Faservlies-Walze gesprüht.
(2) Ätzen in wässriger Alkalilösung
Die Aluminiumplatte wurde geätzt durch Eintauchen in eine wässrige Lösung, die 27 Gew.-% NaOH und 6,5 Gew.-% Aluminiumionen bei 70°C enthielt. Die Menge der aufgelösten Aluminiumplatte betrug 3 g/m². Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen.
(3) Elektrochemisches Oberflächenkörnen in wässriger Chlorwasserstoffsäurelösung
Unter Verwendung der Wechselstromspannung von 1 und der Vorrichtung von 2 wurde ein kontinuierliches elektrochemisches Oberflächenkörnen durchgeführt. Zu dieser Zeit war die Elektrolytlösung eine wässrige Lösung, die 1 Gew.-% Chlorwasserstoffsäure (enthaltend 0,5 Gew.-% Aluminiumionen) enthielt, und die Flüssigkeitstemperatur betrug 35°C. In diesem elektrochemischen Oberflächenkörnen war die verwendete Wechselstromwellenform eine trapezförmige rechtwinklige Wechselstromwelle von 60 Hz derart, dass die Zeit TP, bis der Stromwert ausgehend von Null die Spitze erreichte, 1 Millisekunde betrug, und das Leistungsverhältnis betrug 1:1, und eine Kohlenstoffelektrode wurde als Gegenelektrode verwendet. Die verwendete Hilfsanode war Ferrit.
Die Stromdichte betrug 50 A/dm², ausgedrückt als Stromspitzenwert, und die Elektrizitätsmenge betrug 40 C/dm², ausgedrückt als Gesamtelektrizitätsmenge, wenn die Aluminiumplatte bei der Anodenzeit war. In die Hilfsanode wurden 5 % des aus der Energiequelle fließenden Stroms abgespalten. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser durch ein Spray gewaschen.
(4) Ätzen in wässriger Alkalilösung
Die Aluminiumplatte wurde geätzt durch Eintauchen in eine wässrige Lösung, die 27 Gew.-% NaOH und 6,5 Gew.-% Aluminiumionen bei 70°C enthielt. Die Menge der aufgelösten Aluminiumplatte betrug 0,3 g/m². Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen.
(5) Entschmutzen
Dann wurde die Aluminiumplatte entschmutzt durch Eintauchen für 10 Sekunden in eine wässrige Lösung, die 1 Gew.-% Salpetersäure (enthaltend 0,5 Gew.-% Aluminiumionen und 0,007 Gew.-% Ammoniumionen) bei 35°C. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen.
(6) Entschmutzen
Dann wurde die Aluminiumplatte entschmutzt durch Eintauchen für 10 Sekunden in eine wässrige Lösung, die 1 Gew.-% Salpetersäure bei 35°C enthielt. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen.
(7) Elektrochemisches Oberflächenkörnen in wässriger Salpetersäurelösung
Unter Verwendung der Wechselstromspannung von 1 und zwei Bädern der Vorrichtung von 2 wurde ein kontinuierliches elektrochemisches Oberflächenkörnen durchgeführt. Zu dieser Zeit war die Elektrolytlösung eine wässrige Lösung, die 1 Gew.-% Salpetersäure (enthaltend 0,5 Gew.-% Aluminiumionen und 0,007 Gew.-% Ammoniumionen) enthielt, und die Flüssigkeitstemperatur betrug 50°C. In diesem elektrochemischen Oberflächenkörnen war die verwendete Wechselstromwellenform eine trapezförmige rechtwinklige Wechselstromwelle von 60 Hz derart, dass die Zeit TP, bis der Stromwert ausgehend von Null die Spitze erreichte, 1 Millisekunde betrug, und das Leistungsverhältnis betrug 1:1, und eine Kohlenstoffelektrode wurde als Gegenelektrode verwendet. Die verwendete Hilfsanode war Ferrit. Die Stromdichte betrug 50 A/dm², ausgedrückt als Stromspitzenwert, und die Elektrizitätsmenge betrug 250 C/dm², ausgedrückt als Gesamtelektrizitätsmenge, wenn die Aluminiumplatte bei der Anodenzeit war. In die Hilfsanode wurden 5 % des aus der Energiequelle fließenden Stroms abgespalten. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser durch ein Spray gewaschen.
(8) Ätzen in wässriger Alkalilösung
Die Aluminiumplatte wurde geätzt durch Eintauchen in eine wässrige Lösung, die 26 Gew.-% NaOH und 6,5 Gew.-% Aluminiumionen bei 45°C erhielt. Die Menge der aufgelösten Aluminiumplatte betrug 0,5 g/m². Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen.
(9) Entschmutzen
Die Aluminiumplatte wurde mit Wasser gewaschen und dann entschmutzt durch Eintauchen in eine wässrige Lösung bei 60°C, die 25 Gew.-% Schwefelsäure enthielt. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen.
(10) Mechanisches Polieren
Unter Verwendung von drei Walzen mit einem Durchmesser von jeweils 300 mm und konstruiert aus einem Nylon-Faservlies wurde das Polieren durchgeführt, wobei die Walzen bei 1000 Upm rotierten. Während des Polierens wurde Wasser zwischen die Aluminiumplatte und die Nylon-Faservlies-Walze gesprüht.
(11) Anodisierung
Die Anodisierung wurde in einer wässrigen Lösung mit einer Schwefelsäurekonzentration von 15 Gew.-% (enthaltend 0,5 Gew.-% Aluminiumionen) bei einer Flüssigkeitstemperatur von 35°C unter Verwendung einer Gleichstromspannung bei einer Stromdichte von 2 A/dm² derart durchgeführt, dass die Menge des gebildeten anodischen Oxidfilms 2,4 g/m² betrug. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser durch ein Spray gewaschen.
Auf der Oberfläche der erhaltenen Aluminiumplatte zeigte sich kein Auftreten von Streifen und körniger Unebenheit, die der Orientierung des Kristallkorns zuzuschreiben sind.
Auf die Aluminiumplatte wurden eine Zwischenschicht und eine lichtempfindliche Schicht aufgebracht und getrocknet, wodurch eine positive PS-Platte mit einer Trockendicke von 2,0 g/m² hergestellt wurde. Das Drucken wurde unter Verwendung dieser PS-Platte durchgeführt, als Ergebnis wurde bestätigt, dass die Platte eine gute Druckplatte war.
Diese Flachdruckplatte wurde in einer Probedruckmaschine verwendet und dann als gute Druckplatte bestätigt, die keinen Schwamm aufnimmt zu der Zeit, wenn der Bediener Feuchtwasser durch den Schwamm zuführte, und die leichte Bildung von Schwammabrieb wurde verhindert. Aufgrund des Nichtauftretens von Streifen und körniger Unebenheit war weiterhin die Oberfläche der Aluminiumplatte frei von Unebenheit, daher war ihre Eignung für eine Plattenuntersuchung hoch.
Beispiel 13
Das Substrat nach der Anodisierung in Beispiel 12 wurde hydrophilisiert durch Eintauchen für 14 Sekunden in eine wässrige Lösung bei 70°C, die 25 Gew.-% Natriumsilicat enthielt. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen und dann getrocknet. Nach jeder Behandlung und dem Waschen mit Wasser wurde ein Abquetschen der Flüssigkeit durch Quetschwalzen durchgeführt.
Auf die so behandelte Aluminiumplatte wurden eine Zwischenschicht und eine negative lichtempfindliche Schicht aufgebracht und getrocknet, wodurch eine PS-Platte hergestellt wurde. Unter Verwendung dieser PS-Platte wurde ein Drucken durchgeführt, als Ergebnis wurde bestätigt, dass die Platte eine gute Druckplatte war.
Beispiel 14
Eine Aluminiumplatte gemäß JIS A 1050 mit einer Dicke von 0,24 mm und einer Breite von 1030 mm, hergestellt durch ein DC-Gießverfahren, wo Zwischenglühen und Wärmebehandeln weggelassen waren, wurde chemisch in einer wässrigen Säure- oder Alkalilösung, die zum Auftreten von Streifen und körniger Unebenheit neigt, geätzt und dann kontinuierlich behandelt.
Diese Aluminiumplatte enthielt Verunreinigungsspurenkomponenten in einem solchen Anteil, dass Si 0,06 Gew.-% betrug, Fe 0,1 % betrug, Cu 0,01 Gew.-% betrug, Ti 0,02 Gew.-% betrug, Mn 0,01 Gew.-% betrug, Mg 0,01 Gew.-% betrug, und Zn 0,01 Gew.-% betrug.
Die Aluminiumplatte wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 oberflächengekörnt.
(1) Ätzen in wässriger Alkalilösung
Die Aluminiumplatte wurde geätzt durch Eintauchen in eine wässrige Lösung, die 27 Gew.-% NaOH und 6,5 Gew.-% Aluminiumionen bei 70°C enthielt. Die Menge der aufgelösten Aluminiumplatte betrug 5 g/m². Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen.
(2) Entschmutzen
Als nächstes wurde die Aluminiumplatte entschmutzt durch Eintauchen für 10 Sekunden in eine wässrige Lösung, die 1 Gew.-% Chlorwasserstoffsäure bei 35°C enthielt. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen.
(4) Vorhergehendes elektrochemisches Oberflächenkörnen in wässriger Chlorwasserstoffsäurelösung
Unter Verwendung der Wechselstromspannung von 1 und eines Bades der Vorrichtung von 2 wurde ein kontinuierliches elektrochemisches Oberflächenkörnen durchgeführt. Zu dieser Zeit war die Elektrolytlösung eine wässrige Lösung, die 1 Gew.-% Chlorwasserstoffsäure (enthaltend 0,5 Gew.-% Aluminiumionen) enthielt, und die Flüssigkeitstemperatur betrug 35°C. In diesem elektrochemischen Oberflächenkörnen war die verwendete Wechselstrom-Wellenform eine trapezförmige rechtwinklige Wechselstromwelle von 60 Hz derart, dass die Zeit TP, bis der Stromwert ausgehend von Null die Spitze erreichte, 1 Millisekunde betrug, und das Leistungsverhältnis betrug 1:1, und eine Kohlenstoffelektrode wurde als Gegenelektrode verwendet. Die verwendete Hilfsanode war Ferrit.
Die Stromdichte betrug 50 A/dm² ausgedrückt als Stromspitzenwert, und die Elektrizitätsmenge betrug 40 C/dm², ausgedrückt als Gesamtelektrizitätsmenge, wenn die Aluminiumplatte bei der Anodenzeit war. In die Hilfsanode wurden 5 % des aus der Energiequelle fließenden Stroms abgespalten. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser durch ein Spray gewaschen.
(4) Ätzen in wässriger Alkalilösung
Die Aluminiumplatte wurde geätzt durch Eintauchen in eine wässrige Lösung, die 27 Gew.-% NaOH und 6,5 Gew.-% Aluminiumionen bei 70°C enthielt. Die Menge der aufgelösten Aluminiumplatte betrug 0,3 g/m². Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen.
(5) Entschmutzen
Dann wurde die Aluminiumplatte entschmutzt durch Eintauchen für 10 Sekunden in eine wässrige Lösung, die 1 Gew.-% Salpetersäure bei 35°C enthielt. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen.
(6) Elektrochemisches Oberflächenkörnen in wässriger Salpetersäurelösung
Unter Verwendung der Wechselstromspannung von 1 und zwei Bädern der Vorrichtung von 2 wurde ein kontinuierliches elektrochemisches Oberflächenkörnen durchgeführt. Zu dieser Zeit war die Elektrolytlösung eine wässrige Lösung, die 1 Gew.-% Salpetersäure (enthaltend 0,5 Gew.-% Aluminiumionen) enthielt, und die Flüssigkeitstemperatur betrug 50°C. In diesem elektrochemischen Oberflächenkörnen war die verwendete Wechselstromwellenform eine trapezförmige rechtwinklige Wechselstromwelle von 60 Hz derart, dass die Zeit TP, bis der Stromwert ausgehend von Null die Spitze erreichte, 1 Millisekunde betrug, und das Leistungsverhältnis betrug 1:1, und eine Kohlenstoffelektrode wurde als Gegenelektrode verwendet. Die verwendete Hilfsanode war Ferrit.
Die Stromdichte betrug 50 A/dm², ausgedrückt als Stromspitzenwert, und die Elektrizitätsmenge betrug 125 C/dm², ausgedrückt als Gesamtelektrizitätsmenge, wenn die Aluminiumplatte bei der Anodenzeit war. In die Hilfsanode wurden 5 % des aus der Energiequelle fließenden Stroms abgespalten. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser durch ein Spray gewaschen.
(7) Ätzen in wässriger Alkalilösung
Die Aluminiumplatte wurde geätzt durch Eintauchen in eine wässrige Lösung, die 26 Gew.-% NaOH und 6,5 Gew.-% Aluminiumionen bei 45°C enthielt. Die Menge der aufgelösten Aluminiumplatte betrug 0,1 g/m². Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen.
(8) Entschmutzen
Die Aluminiumplatte wurde mit Wasser gewaschen und dann entschmutzt durch Eintauchen in eine wässrige Lösung bei 60°C, die 25 Gew.-% Schwefelsäure enthielt. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen.
(9) Mechanisches Polieren
Das Polieren wurde unter Verwendung von drei Walzen mit jeweils einem Durchmesser von 300 mm und aufgebaut aus einem Nylon-Faservlies von feiner Textur durchgeführt, wobei sich die Walzen bei 1000 Upm drehten. Während des Polierens wurde 1 gew.-%iges Ätznatron (enthaltend 0,1 % Aluminiumionen) bei 30°C zwischen die Aluminiumplatte und die Walze aus Nylon-Faservlies gesprüht. Zu dieser Zeit betrug die Menge des aufgelösten Aluminiums 0,1 g/m². Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen und weiter in einer wässrigen Lösung entschmutzt, die 15 Gew.-% Schwefelsäure (enthaltend 0,5 Gew.-% Aluminiumionen) enthielt.
(10) Anodisierung
Die Anodisierung wurde in einer wässrigen Lösung mit einer Schwefelsäurekonzentration von 15 Gew.-% (enthaltend 0,5 Gew.-% Aluminiumionen) bei einer Flüssigkeitstemperatur von 35°C unter Verwendung einer Gleichstromspannung bei einer Stromdichte von 2 A/dm² derart durchgeführt, dass die Menge des gebildeten anodischen Oxidfilms 2,4 g/m² betrug. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser durch ein Spray gewaschen.
Auf der Oberfläche der erhaltenen Aluminiumplatte zeigte sich kein Auftreten von Streifen und körniger Unebenheit, die der Orientierung des Kristallkorns zuzuschreiben sind.
Auf die Aluminiumplatte wurden eine Zwischenschicht und eine lichtempfindliche Schicht aufgebracht und getrocknet, wodurch eine positive PS-Platte mit einer Trockendicke von 2,0 g/m² hergestellt wurde. Das Drucken wurde unter Verwendung dieser PS-Platte durchgeführt, als Ergebnis wurde bestätigt, dass die Platte eine gute Druckplatte war.
Diese Flachdruckplatte wurde in einer Probedruckmaschine verwendet und dann als gute Druckplatte bestätigt, die keinen Schwamm aufnimmt zu der Zeit, wenn der Bediener Feuchtwasser durch den Schwamm zuführte, und die leichte Bildung von Schwammabrieb wurde verhindert. Aufgrund des Nichtauftretens von Streifen und körniger Unebenheit war weiterhin die Oberfläche der Aluminiumplatte frei von Unebenheit, daher war ihre Eignung für eine Plattenuntersuchung hoch.
Kratzer durch mechanisches Polieren wurden ebenfalls nicht gebildet.
Beispiel 15
Eine Oberflächenkörnungsbehandlung wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 gründlich durchgeführt mit der Ausnahme, dass vor dem mechanischen Oberflächenkörnen in Beispiel 1 ein mechanisches Polieren unter Verwendung von drei Walzen mit jeweils einem Durchmesser von 300 mm und konstruiert aus einem Nylon-Faservlies mit einem daran gebundenen Schleifmittel durchgeführt wurde, wobei die Walzen mit 1000 Upm rotierten, und während des Polierens Wasser zwischen die Aluminiumplatte und die Nylon-Faservlies-Walze gesprüht wurde.
Die Oberfläche der so behandelten Aluminiumplatte wurde untersucht, und es wurde festgestellt, dass keine durch die Endwalze beim Endkaltwalzen gebildeten Kratzer beobachtet werden konnten. Als Ergebnis war die Ausbeute des Produkts erhöht.
Beispiel 16
Eine Oberflächenkörnungsbehandlung wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 3 oder 4 gründlich durchgeführt mit der Ausnahme, dass vor dem Alkaliätzen in (1) von Beispiel 3 oder (1) von Beispiel 4 ein Polieren unter Verwendung von drei Walzen mit jeweils einem Durchmesser von 300 mm und konstruiert aus einem Nylon-Faservlies mit einem daran gebundenen Schleifmittel durchgeführt wurde, wobei die Walzen mit 1000 Upm rotierten, und während des Polierens Wasser zwischen die Aluminiumplatte und die Nylon-Faservlies-Walze gesprüht wurde.
Die Oberfläche der so behandelten Aluminiumplatte wurde untersucht, und es wurde festgestellt, dass keine durch die Endwalze beim Endkaltwalzen gebildeten Kratzer beobachtet werden konnten. Als Ergebnis war die Ausbeute des Produkts erhöht.
Beispiel 17
Anstelle des chemischen Ätzens in einer wässrigen Alkalilösung in (8) von Beispiel 1, (4) von Beispiel 3 oder (6) von Beispiel 4 wurde ein elektrolytisches Polieren bei 35°C in einer wässrigen Alkalilösung, die 9 Gew.-% Ätznatron, 0,5 Gew.-% Aluminium und 250 g/l Polyethylenglycol enthielt, unter Verwendung der Aluminiumplatte als Anode durchgeführt. Es wurde eine Gleichstrom-Energiequelle verwendet, und die Stromdichte betrug 20 A/dm². Die Durchgangszeit des Stroms wurde so geregelt, dass die aufgelöste Aluminiummenge die gleiche sein konnte wie in (8) von Beispiel 1, (4) von Beispiel 3 oder (6) von Beispiel 4. Als Ergebnis waren die Streifen schwieriger zu unterscheiden als in Beispiel 1, 3 oder 4. Darüber hinaus konnte ein weißer Aluminiumträger für eine Flachdruckplatte, die für eine Plattenuntersuchung hoch geeignet war, hergestellt werden.
Spezieller wurden Aluminiumplatten gemäß JIS A 1050 mit einer Dicke von 0,24 mm und einer Breite von 1030 mm, hergestellt durch ein DC-Gießverfahren, wo Zwischenglühen und Wärmebehandeln weggelassen wurden, jeweils chemisch in einer wässrigen Säure- oder Alkalilösung geätzt, die zum Auftreten von Streifen und körniger Unebenheit neigte, und dann kontinuierlich behandelt.
Diese Aluminiumplatten enthielten jeweils Verunreinigungsspurkomponenten in einem solchen Anteil, dass Si 0,15 Gew.-% betrug, Fe 0,28 % betrug, Cu 0,019 Gew.-% betrug, Ti 0,03 Gew.-% betrug, Mn 0,02 Gew.-% betrug, Mg 0,023 Gew.-% betrug, und Zn 0,02 Gew.-% betrug.
(1) Mechanisches Oberflächenkörnen
Unter Zuführen einer Suspension von Quarzsand mit einer Dichte von 1,12 und Wasser als Abriebaufschlämmungslösung auf die Oberfläche der Aluminiumplatte wurde das mechanische Oberflächenkörnen unter Verwendung von rotierenden walzenförmigen Nylonbürsten durchgeführt. Das Konstruktionsmaterial der verwendeten Nylonbürste war Nylon 6-10, die Borstenlänge betrug 50 mm, und der Borstendurchmesser betrug 0,48 mm. Die Borsten der Nylonbürste waren dicht in Löcher implantiert, die auf einem aus nicht rostendem Stahl hergestellten Rohr mit 300 mm Durchmesser gebohrt waren. Es wurden drei rotierende Bürsten verwendet. Der Abstand zwischen zwei Stützwalzen (Durchmesser 200 mm), die an dem unteren Teil der Bürsten angeordnet waren, betrug 300 mm. Die Bürstenwalzen wurden gepresst, bis die Last eines Antriebsmotors zum Rotieren der Bürsten (die Last vor dem Pressen der Bürstenwalzen auf die Aluminiumplatte) + 6 kw erreichte. Die Rotationsrichtung der Bürsten war die gleiche wie die Bewegungsrichtung der Aluminiumplatte. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen. Die Bewegungsgeschwindigkeit der Aluminiumplatte betrug 50 m/min.
(2) Ätzen in wässriger Alkalilösung
Die Aluminiumplatten wurden jeweils geätzt durch Eintauchen in eine wässrige Lösung, die 27 Gew.-% NaOH und 6,5 Gew.-% Aluminiumionen bei 70°C enthielt. Die Menge der aufgelösten Aluminiumplatte betrug 10 g/m². Danach wurden die Aluminiumplatten mit Wasser gewaschen.
(3) Entschmutzen
Als nächstes wurden die Aluminiumplatten entschmutzt durch Eintauchen für 10 Sekunden in eine wässrige Lösung, die 1 Gew.-% Chlorwasserstoffsäure bei 35°C enthielt. Danach wurden die Aluminiumplatten mit Wasser gewaschen.
(4) Vorhergehendes elektrochemisches Oberflächenkörnen in wässriger Chlorwasserstoffsäurelösung
Unter Verwendung der Wechselstromspannung von 1 und eines Bades der Vorrichtung von 2 wurde ein kontinuierliches elektrochemisches Oberflächenkörnen durchgeführt. Zu dieser Zeit war die Elektrolytlösung eine wässrige Lösung, die 1 Gew.-% Chlorwasserstoffsäure (enthaltend 0,5 Gew.-% Aluminiumionen) enthielt, und die Flüssigkeitstemperatur betrug 35°C. In diesem elektrochemischen Oberflächenkörnen war die verwendete Wechselstrom-Wellenform eine trapezförmige rechtwinklige Wechselstromwelle von 60 Hz derart, dass die Zeit TP, bis der Stromwert ausgehend von Null die Spitze erreichte, 1 Millisekunde betrug, und das Leistungsverhältnis betrug 1:1, und eine Kohlenstoffelektrode wurde als Gegenelektrode verwendet. Die verwendete Hilfsanode war Ferrit. Die Stromdichte betrug 50 A/dm², ausgedrückt als Stromspitzenwert, und die Elektrizitätsmenge betrug 40 C/dm², ausgedrückt als Gesamtelektrizitätsmenge, wenn die Aluminiumplatte bei der Anodenzeit war. In die Hilfsanode wurde 5 % des aus der Energiequelle fließenden Stroms abgespalten. Danach wurden die Aluminiumplatten mit Wasser durch ein Spray gewaschen.
(5) Ätzen in wässriger Alkalilösung
Die Aluminiumplatten wurden jeweils geätzt durch Eintauchen in eine wässrige Lösung, die 27 Gew.-% NaOH und 6,5 Gew.-% Aluminiumionen bei 70°C enthielt. Die Menge der aufgelösten Aluminiumplatte betrug 0,5 g/m² (Beispiel 1-1), 1 g/m² (Beispiel 1-2), 2 g/m² (Beispiel 1-3) oder 4 g/m² (Beispiel 1-4). Danach wurden die Aluminiumplatten mit Wasser gewaschen.
(6) Entschmutzen
Dann wurden die Aluminiumplatten jeweils entschmutzt durch Eintauchen für 10 Sekunden in eine wässrige Lösung, die 1 Gew.-% Salpetersäure (enthaltend 0,5 Gew.-% Aluminiumionen und 0,007 Gew.-% Ammoniumionen) bei 35°C enthielt. Danach wurden die Aluminiumplatten mit Wasser gewaschen.
(7) Elektrochemisches Oberflächenkörnen in wässriger Salpetersäurelösung
Unter Verwendung der Wechselstromspannung von 1 und eines Bades der Vorrichtung von 2 wurde ein elektrochemisches Oberflächenkörnen durchgeführt. Zu dieser Zeit war die Elektrolytlösung eine wässrige Lösung, die 1 Gew.-% Salpetersäure (enthaltend 0,5 Gew.-% Aluminiumionen und 0,007 Gew.-% Ammoniumionen) enthielt, und die Flüssigkeitstemperatur betrug 70°C. In diesem elektrochemischen Oberflächenkörnen war die verwendete Wechselstromwellenform eine trapezförmige rechtwinklige Wechselstromwelle von 60 Hz derart, dass die Zeit TP, bis der Stromwert ausgehend von Null die Spitze erreichte, 1 Millisekunde betrug, und das Leistungsverhältnis betrug 1:1, und eine Kohlenstoffelektrode wurde als Gegenelektrode verwendet. Die verwendete Hilfsanode war Ferrit.
Die Stromdichte betrug 50 A/dm², ausgedrückt als Stromspitzenwert, und die Elektrizitätsmenge betrug 120 C/dm², ausgedrückt als Gesamtelektrizitätsmenge, wenn die Aluminiumplatte bei der Anodenzeit war. In die Hilfsanode wurden 5 % des aus der Energiequelle fließenden Stroms abgespalten. Danach wurden die Aluminiumplatten mit Wasser durch ein Spray gewaschen.
(8) Ätzen in wässriger Alkalilösung
Die Aluminiumplatten wurden jeweils durch Eintauchen in eine wässrige Lösung geätzt, die 27 Gew.-% NaOH und 6,5 Gew.-% Aluminiumionen bei 70°C enthielt. Die Menge der aufgelösten Aluminiumplatte betrug 0,7 g/m². Danach wurden die Aluminiumplatten mit Wasser gewaschen.
(9) Entschmutzen
Die Aluminiumplatten wurden jeweils mit Wasser gewaschen und dann entschmutzt durch Eintauchen in eine wässrige Lösung, die 25 Gew.-% Schwefelsäure bei 60°C enthielt. Danach wurden die Aluminiumplatten mit Wasser gewaschen.
(10) Mechanisches Polieren
Unter Verwendung von vier Walzen mit jeweils einem Durchmesser von 300 mm und konstruiert aus einem Nylon-Faservlies von feiner Textur wurde das Polieren durchgeführt, wobei die Walzen bei 200 Upm rotierten. Es wurde die in 3 gezeigte Vorrichtung verwendet, wo die Aluminiumplatte und die Nylon-Faservlies-Walzen in die Lösung eingetaucht wurden. Die Flüssigkeitstemperatur betrug 35°C. Die Lösung wurde auf eine Viskosität von 20 cP durch Zugabe von 0,02 Gew.-% eines Polymer-Koagulans PA-362, hergestellt von Kurita Kogyo KK, zu Brunnenwasser eingestellt.
(11) Anodisierung
Die Anodisierung wurde in einer wässrigen Lösung mit einer Schwefelsäurekonzentration von 15 Gew.-% (enthaltend 0,5 Gew.-% Aluminiumionen) bei einer Flüssigkeitstemperatur von 35°C unter Verwendung einer Gleichstromspannung bei einer Stromdichte von 2 A/dm² derart durchgeführt, dass die Menge des gebildeten anodischen Oxidfilms 2,4 g/m² betrug. Danach wurden die Aluminiumplatten mit Wasser durch ein Spray gewaschen.
Auf der Oberfläche jeder erhaltenen Aluminiumplatte zeigte sich kein Auftreten von Streifen und körniger Unebenheit, die der Orientierung des Kristallkorns zuzuschreiben sind.
Auf jede der Aluminiumplatten wurden eine Zwischenschicht und eine lichtempfindliche Schicht aufgebracht und getrocknet, wodurch eine positive PS-Platte mit einer Trockendicke von 2,0 g/m² hergestellt wurde. Das Drucken wurde unter Verwendung dieser PS-Platten durchgeführt, als Ergebnis wurde bestätigt, dass die Platten gute Druckplatten waren.
Diese Flachdruckplatten wurden jeweils in einer Probedruckmaschine verwendet und dann als gute Druckplatte bestätigt, die keinen Schwamm aufnimmt zu der Zeit, wenn der Bediener Feuchtwasser durch den Schwamm zuführte, und die leichte Bildung von Schwammabrieb wurde verhindert. Aufgrund des Nichtauftretens von Streifen und körniger Unebenheit war weiterhin die Oberfläche der Aluminiumplatte frei von Unebenheit, daher war ihre Eignung für eine Plattenuntersuchung hoch.
Beispiel 18
Eine Polierbehandlung wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 10 gründlich durchgeführt mit der Ausnahme, dass die in 4 gezeigte Vorrichtung für das Polieren in (10) von Beispiel 10 verwendet wurde.
Auf die so behandelte Aluminiumplatte wurden eine Zwischenschicht und eine lichtempfindliche Schicht aufgebracht und getrocknet, wodurch eine positive PS-Platte mit einer Trockendicke von 2,0 g/m² hergestellt wurde. Das Drucken wurde unter Verwendung dieser PS-Platte durchgeführt, als Ergebnis wurde bestätigt, dass die Platte eine gute Druckplatte war.
Diese Flachdruckplatte wurde in einer Probedruckmaschine verwendet und dann als gute Druckplatte bestätigt, die keinen Schwamm aufnimmt zu der Zeit, wenn der Bediener Feuchtwasser durch den Schwamm zuführte, und die leichte Bildung von Schwammabrieb wurde verhindert. Aufgrund des Nichtauftretens von Streifen und körniger Unebenheit war weiterhin die Oberfläche der Aluminiumplatte frei von Unebenheit, daher war ihre Eignung für eine Plattenuntersuchung hoch.
Die Oberfläche dieser Aluminiumplatte wurde durch AFM gemessen.
Das für die Messung in diesem Beispiel verwendete Rasterkraftmikroskop (AFM) war SP13700, hergestellt von Seiko Denshi Kogyo KK. Die Messung wurde in der Weise durchgeführt, dass eine auf eine Größe von 1 cm-Quadrat geschnittene Aluminiumplattenprobe auf eine horizontale Probenplatte über einem Piezo-Scanner angebracht wurde, ein Ausleger nahe der Probenoberfläche bewegt wurde, und wenn er den Bereich erreichte, wo die Rasterkraft wirkt, wurde ein Abtasten in der XY-Richtung durchgeführt. Zu dieser Zeit wurden Unregelmäßigkeiten der Probe durch die Piezo-Versetzung in der Z-Richtung erkannt. Der verwendete Piezo-Scanner konnte 150 μm von XY und 10 μm von Z abtasten. Der Ausleger war ein Si-Ausleger SI-DF20, hergestellt von NANOPROBE, mit einer Resonanzfrequenz von 120 bis 150 kHz und einer Federkonstante von 12 bis 20 M/m, und ein DMF-Modus (dynamischer Kraftmodus) wurde zur Messung verwendet. Die erhaltenen dreidimensionalen Daten wurden auf die kleinsten Quadrate approximiert, um dadurch die geringe Inklination der Probe zu korrigieren, und dann wurde die Standardebene bestimmt.
In der Messung der Langwellenriffelung, der mittleren Oberflächenrauheit und des Inklinationsgrades wurden vier sichtbare Felder von 50 μm-Quadrat-Messbereichen, nämlich ein 100 μm-Quadrat, gemessen. Die Auflösung in der XY-Richtung betrug 0,1 μm, die Auflösung in der Z-Richtung betrug 1 nm, und die Abtastgeschwindigkeit betrug 25 μm/s. Die Neigung der Langwellenriffelung wurde durch die Frequenzanalyse der dreidimensionalen Daten berechnet. Die mittlere Rauheit ist ein dreidimensional erstreckter Wert der mittleren Mittellinienhöhe Ra, definiert in JIS B060. Der Oberflächeninklinationsgrad wurde in einer solchen Weise gemessen, dass drei benachbarte Punkte aus den dreidimensionalen Daten extrahiert wurden, der Winkel gebildet wurde durch das kleine Dreieck, definiert durch die drei Punkte, und die Standardplatte wurde aus allen Daten berechnet, wodurch eine Inklinationsgrad-Verteilungskurve erhalten wurde, und der Anteil (%) von Inklinationsgraden von 45° oder mehr wurde bestimmt. Die spezi fische Oberfläche ΔS war der Anstieg in Prozent von S2, berechnet aus der Oberfläche S1 einer glatten Fläche und der Oberfläche S2 auf einer gekörnten Oberfläche.
Die Oberfläche der vorstehend erhaltenen Aluminiumplatte wurde durch AMF gemessen, als Ergebnis wurde festgestellt, dass Ra 0,48 μm betrug, a45 13 % betrug, und ΔS 19,8 betrug.
Vergleichsbeispiel 1
Eine Aluminiumplatte wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 10 gründlich oberflächengekörnt mit der Ausnahme, dass das mechanische Polieren von Beispiel 10 weggelassen wurde. Die so behandelte Aluminiumplatte neigte dazu, den Schwamm zum Zuführen von Feuchtwasser aufzunehmen und wurde im Vergleich mit der Aluminiumplatte von Beispiel 10 rasch verschmutzt. Die Oberfläche dieser Aluminiumplatte wurde durch AFM gemessen, als Ergebnis wurde festgestellt, dass Ra 0,48 μm betrug, a45 15 % betrug, und ΔS 21 % betrug.
Gemäß der vorliegenden Erfindung wird ein stabiles und mit geringen Kosten verbundenes Herstellungsverfahren eines Aluminiumträgers bereitgestellt, bei dem die Bildung von Behandlungsunebenheit, genannt Streifen oder körnige Unebenheit, die dem Unterschied in der Aluminiumauflösungsgeschwindigkeit aufgrund des Unterschieds in der Orientierung von Kristallkörnern zuzuschreiben ist, fast verhindert wird. Die Druckplatte unter Verwendung des Aluminiumträgers der vorliegenden Erfindung weist eine ausgezeichnete Haltbarkeit beim Drucken und eine hohe Leistung gegen Tonen bei der Verwendung in einer gewöhnlichen Druckmaschine auf und weist auch eine Disinklination zum Aufnehmen eines Schwammes auf, wenn Feuchtwasser durch den Schwamm bei der Verwendung in einer Druckmaschine für das Probeabzugdrucken zugeführt wird.
Weiterhin wird gemäß der vorliegenden Erfindung die Aluminiumplatte poliert, wobei sie in einer wässrigen Säure- oder Alkalilösung geätzt wird, daher werden Kratzer während des Polierens schwierig gebildet.

Claims

Verfahren zum Herstellen eines Aluminiumträgers für eine Flachdruckplatte, umfassend das Unterwerfen einer Aluminiumplatte dem Oberflächenkörnen und dann dem mechanischen Polieren.
Verfahren nach Anspruch 1, umfassend das abwechselnde Durchführen des Oberflächenkörnens und des mechanischen Polierens.
Verfahren nach Anspruch 1, umfassend das Unterwerfen einer Aluminiumplatte: (1) dem Oberflächenkörnen, (2) dem mechanischen Polieren und (3) dem Anodisieren in dieser Reihenfolge.
Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, umfassend das Unterwerfen einer Aluminiumplatte: (1) dem Oberflächenkörnen, (2) dem mechanischen Polieren, (3) dem Oberflächenkörnen, (4) optional dem mechanischen Polieren und (5) dem Anodisieren in dieser Reihenfolge.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, worin die Oberflächenkörnungsbehandlung eine Behandlung ist, die eine Kombination von einem oder mehreren Schritten des mechanischen Oberflächenkörnens, des elektrochemischen Oberflächenkörnens, des elektrolytischen Polierens und des chemischen Ätzens umfasst.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, worin im Falle der Oberflächenkörnungsbehandlung als elektrochemisches Oberflächenkörnen unter Verwendung eines Gleichstroms oder Wechselstroms in einer wässrigen Salpetersäurelösung die Aluminiumplatte einer vorhergehenden Oberflächenkörnungsbehandlung zur Bildung feiner Unregelmäßigkeiten vor dem elektrochemischen Oberflächenkörnen unter Verwendung eines Gleichstroms oder Wechselstroms in einer wässrigen Salpetersäurelösung unterworfen wird.
Verfahren nach Anspruch 6, worin die vorhergehende Oberflächenkörnungsbehandlung umfasst: (i) vorhergehendes elektrochemisches Oberflächenkörnen von 1 bis 300 C/dm² unter Verwendung eines Wechselstroms in einer wässrigen Lösung, die hauptsächlich Chlorwasserstoffsäure enthält, und (ii) chemisches Ätzen von 0,1 bis 1,0 g/m² in einer wässrigen Alkalilösung.
Verfahren nach Anspruch 1, umfassend das Unterwerfen einer Aluminiumplatte: (1) dem chemischen Ätzen oder elektrolytischen Polieren, (2) dem vorhergehenden elektrochemischen Oberflächenkörnen von 1 bis 300 C/dm² unter Verwendung eines Wechselstroms in einer wässrigen Lösung, die hauptsächlich Chlorwasserstoffsäure enthält, (3) dem chemischen Ätzen von 0,1 bis 1,0 g/m² in einer wässrigen Alkalilösung, (4) dem elektrochemischen Oberflächenkörnen, (5) dem chemischen Ätzen oder elektrolytischen Polieren, (6) dem mechanischen Polieren und (7) dem Anodisieren in dieser Reihenfolge.
Verfahren nach Anspruch 1, umfassend das Unterwerfen einer Aluminiumplatte: (1) dem mechanischen Oberflächenkörnen, (2) dem chemischen Ätzen oder elektrolytischen Polieren, (3) dem elektrochemischen Oberflächenkörnen, (4) dem chemischen Ätzen oder elektrolytischen Polieren, (5) dem mechanischen Polieren und (6) dem Anodisieren in dieser Reihenfolge.
Verfahren nach Anspruch 1, umfassend das Unterwerfen einer Aluminiumplatte: (1) dem mechanischen Oberflächenkörnen, (2) dem chemischen Ätzen oder elektrolytischen Polieren, (3) dem vorhergehenden elektrochemischen Oberflächenkörnen von 1 bis 300 C/dm² unter Verwendung eines Wechselstroms in einer wässrigen Lösung, die hauptsächlich Chlorwasserstoffsäure enthält, (4) dem chemischen Ätzen von 0,1 bis 1,0 g/m² in einer wässrigen Alkalilösung, (5) dem elektrochemischen Oberflächenkörnen, (6) dem chemischen Ätzen oder elektrolytischen Polieren, (7) dem mechanischen Polieren und (8) dem Anodisieren in dieser Reihenfolge.
Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 10, worin die Elektrolytlösung zur Verwendung in dem elektrolytischen Polieren eine Viskosität von 1 bis 200 cP hat.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 10, worin das chemische Ätzen vor oder nach dem mechanischen Polieren oder vor und nach dem mechanischen Polieren durchgeführt wird.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 12, worin das mechanische Polieren unter Verwendung von Nylonbürste(n), Gummi, Gewebe, Faservlies, Nylon-Faservlies, Schwamm, Filz, Leder oder Poliertuch, während Wasser oder eine Lösung für chemisches Ätzen des Aluminiums aufgesprüht wird, oder in Wasser oder einer Lösung für chemisches Ätzen des Aluminiums durchgeführt wird.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 13, worin das mechanische Polieren durchgeführt wird, während ein Schleifmittel in Kombination verwendet wird.
Verfahren nach einem der Ansprüche 5 bis 10, worin das chemische Ätzen vor oder nach dem elektrolytischen Polieren oder vor und nach dem elektrolytischen Polieren durchgeführt wird.
Verfahren nach einem der Ansprüche 5 bis 13, worin die Aluminiumplatte in einer wässrigen Lösung nach dem chemischen Ätzen entschmutzt wird.
Verfahren nach einem der Ansprüche 3 bis 16, worin die Aluminiumplatte nach dem Anodisieren hydrophilisiert wird.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 17, worin die Aluminiumplatte durch ein Gleichstrom-Gießverfahren, wo Zwischenglühen oder Wärmebehandeln weggelassen wird oder Zwischenglühen und Wärmebehandeln weggelassen werden, oder durch ein kontinuierliches Gießverfahren, wo Zwischenglühen weggelassen wird, hergestellt wird, und die Aluminiumlegierung Heteroelemente in einem solchen Anteil enthält, dass Si 0,03 bis 1,0 Gew.-% beträgt, Fe 0,05 bis 1,0 Gew.-% beträgt, Cu 0,001 bis 0,2 Gew.-% beträgt, Ti 0,01 bis 0,1 Gew.-% beträgt, Mn 0 bis 1,5 Gew.-% beträgt, Mg 0,0 bis 0,3 Gew.-% beträgt, und Zn 0 bis 0,1 Gew.-% beträgt.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 18, worin das mechanische Polieren ebenfalls vor der ersten Oberflächenkörnungsbehandlung durchgeführt wird.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 19, worin die Aluminiumplatte vorher dem Polieren oder Schwabbelpolieren unterworfen wird.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 20, welches einen oder mehrere Schritte zum Polieren einer Aluminiumplatte umfasst, während eine Säure- oder Alkaliätzlösung aufgesprüht wird, oder die Aluminiumplatte in einer Säure- oder Alkaliätzlösung aufgelöst wird.
Verfahren nach einem der Ansprüche 5 bis 21, worin die für das elektrolytische Polieren verwendete Elektrolytlösung eine Polymerverbindung als Verdickungsmittel enthält.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 22, worin das mechanische Polieren, während eine Lösung mit einer Viskosität von 1 bis 200 cP auf die Oberfläche der Aluminiumplatte unter Polieren aufgesprüht wird, oder durch Eintauchen der Aluminiumplatte in eine Lösung mit einer Viskosität von 1 bis 200 cP durchgeführt wird.
Verfahren nach einem der Ansprüche 5 bis 22, worin die Elektrolytlösung zur Verwendung in dem elektrolytischen Polieren eine Viskosität von 1 bis 200 cP hat.
Aluminiumträger für eine Flachdruckplatte, erhältlich durch das Verfahren gemäß einem der Ansprüche 1 bis 22, worin wenn der Aluminiumträger durch ein Abtastelektronenmikroskop zum Zählen der Anzahl von Langwellenvorsprüngen untersucht wird, etwa 10 % oder mehr der Winkel in sämtlichen Vorsprüngen gerundet sind.