JP2001347769A - 平版印刷版用支持体及びｐｓ版 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 印刷紙面にブラシ汚れやポツ汚れが生じ
ず、印刷紙面の画質に優れたＰＳ版と、その支持体にな
る平版印刷版用支持体の提供。 【解決手段】 粗面化及び陽極酸化処理を施した面のＲ
ａが0.3〜1.0μｍ、Ｒmax≦10μｍ、粗さ山個数Ｐｃ
が、設定値＋０．３μｍよりも高い山高さと設定値−
０．３μｍよりも深い谷深さとを有する山については１
５〜３５個／ｍｍであり、設定値＋０．６μｍよりも高
い山高さと設定値−０．６μｍよりも深い谷深さと有す
る山については７〜２５個／ｍｍであり、設定値＋１．
０μｍよりも高い山高さと設定値−１．０μｍよりも深
い谷深さとを有する山については２〜１８個／ｍｍであ
る前記平版印刷版用支持体、及び前記平版印刷版用支持
体の粗面化及び陽極酸化処理を施した面に感光層を形成
したＰＳ版。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、平版印刷版用支持
体及びＰＳ版に関し、特に、耐刷性及び印刷性能に優れ
るＰＳ版の支持体になる平版印刷版用支持体、及び前記
特長を有するＰＳ版に関する。

【０００２】

【従来の技術】平版印刷版用支持体は、一般的に、アル
ミニウム板又はアルミニウム合金板等（以下、「アルミ
ニウム板等」という。）の表面に、機械的粗面化処理を
施し、次いでアルカリ剤によるエッチング処理、電解粗
面化処理、及び陽極酸化処理等を順次施すことにより製
造される。

【０００３】前記機械的粗面化処理においては、粒子状
の研磨材を水等に懸濁させた研磨材スラリーを供給しつ
つローラ状ブラシ等により研磨するのが一般的であっ
た。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来
は、機械的粗面化の際に、アルミニウム板等の表面がロ
ーラ状ブラシの毛で擦られて長さ１ｍｍ程度の大きな傷
が生じたり、前記表面に研磨材が刺さって多数の凹みが
形成されたりし、しかもこれらの傷及び凹みが、その後
のエッチング処理及び電解粗面化処理等によっても除去
されずに残ることがあった。

【０００５】このような平版印刷板用支持体に感光層を
形成したＰＳ版から作製された刷版は、耐刷性が低く、
しかも、前記傷及び凹みにインキが入り、これが印刷機
のゴムロールの胴や印刷紙面に転写されて所謂ブラン汚
れ及びポツ汚れ等が生じることが多かった。

【０００６】本発明は、前記事実を考慮し、耐刷性に優
れ、ブラン汚れ及びポツ汚れ等の外観不良が発生するこ
とが無いＰＳ版の支持体になる平版印刷版用支持体、及
び前記特長を有するＰＳ版を提供することを目的とす
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、粗面化処理及び陽極酸化処理を施した面における表
面粗さＲａが０．３〜１．０μｍの範囲であり、最大粗
さＲｍａｘが１０μｍ以下であり、粗さ山個数Ｐｃが、
設定値＋０．３μｍよりも高い山高さと設定値−０．３
μｍよりも深い谷深さとを有する山については１５〜３
５個／ｍｍであり、設定値＋０．６μｍよりも高い山高
さと設定値−０．６μｍよりも深い谷深さと有する山に
ついては７〜２５個／ｍｍであり、設定値＋１．０μｍ
よりも高い山高さと設定値−１．０μｍよりも深い谷深
さとを有する山については２〜１８個／ｍｍであること
を特徴とする平版印刷版用支持体に関する。

【０００８】前記平版印刷版用支持体における前記面
は、均一に砂目立てされている。したがって、この平版
印刷版用支持体を支持体として有するＰＳ版は、耐刷
性、保水性、調子再現性、非画像部の汚れ難さ、及び水
／インキバランスに優れ、ドットゲインが小さいという
特長を有する。

【０００９】請求項２は、請求項１に記載された平版印
刷版用支持体における粗面化処理及び陽極酸化処理を施
した面に感光層を形成したことを特徴とするＰＳ版に関
する。

【００１０】前記ＰＳ版は、平版印刷版用支持体と感光
層との密着性に優れているから、耐刷性が高い。又、保
水性、調子再現性、非画像部の汚れ難さ、及び水／イン
キバランスに優れ、ドットゲインが小さい。更に、ブラ
ン汚れ及びポツ汚れなどの外観不良が発生することがな
い。

【００１１】

【発明の実施の形態】１．平版印刷版用支持体 本発明の平版印刷版用支持体における粗面化処理及び陽
極酸化処理を施した面における表面粗さＲａは、０．３
〜１．０μｍの範囲であり、好ましくは０．４５〜０．
７μｍの範囲である。ここで、表面粗さＲａは、ＪＩＳ
Ｂ ０６０１に定義されているように、表面の粗さを
測定した面の粗さ曲線からその平均線の方向に基準長さ
Ｌだけ抜き取り、この抜き取り部分の平均線の方向にＸ
軸を、縦倍率の方向にＹ軸をとり、粗さ曲線をｙ＝ｆ
（ｘ）で表したときに、次の式、即ち

【００１２】

【数１】

【００１３】で表される値であり、通常μｍの単位で表
される。基準長さＬは、通常３ｍｍであるが、前記長さ
には限定されない。

【００１４】本発明の平版印刷版用支持体の前記面にお
ける最大粗さＲｍａｘは、１０μｍ以下であり、好まし
くは７μｍ以下であり、更に好ましくは７〜２μｍであ
る。

【００１５】最大粗さＲｍａｘは、ＪＩＳ Ｂ ０６０
１に定義されているように、評価長さｄの部分における
山頂線と谷底線との間の距離の最大値である。評価長さ
は、通常３ｍｍであるが、前記長さには限定されないこ
とは、表面粗さＲａと同様である。

【００１６】粗さ山個数Ｐｃは、設定値＋０．３μｍよ
りも高い山高さと設定値−０．３μｍよりも深い谷深さ
とを有する山については１５〜３５個／ｍｍであり、２
３〜３０個／ｍｍが好ましく、設定値＋０．６μｍより
も高い山高さと設定値−０．６μｍよりも深い谷深さと
を有する山については７〜２５個／ｍｍであり、１３〜
２０個／ｍｍが好ましい。そして、設定値＋１．０μｍ
よりも高い山高さと設定値−１．０μｍよりも深い谷深
さとを有する山については２〜１８個／ｍｍであり、５
〜１０個／ｍｍの範囲が好ましい。

【００１７】前記粗さ山個数Ｐｃにおける設定値は、Ｓ
ＡＥ−Ｊ９１１―１９８６（自動車技術会）に規定され
ているように、基準レベルとなる高さである。したがっ
て、設定値＋０．３μｍよりも高い山高さと設定値−
０．３μｍよりも深い谷深さとを有する山の粗さ山個数
Ｐｃは、山の高さが前記基準レベル＋０．３μｍよりも
高く、谷の深さが前記基準レベル−０．３μｍよりも深
い山の、単位測定長さ当たりの個数、具体的には測定長
さ１ｍｍ当たりの個数である。

【００１８】同様に、設定値＋０．６μｍよりも高い山
高さと設定値−０．６μｍよりも深い谷深さとを有する
山の粗さ山個数Ｐｃは、山の高さが前記基準レベル＋
０．６μｍよりも高く、谷の深さが前記基準レベル−
０．６μｍよりも深い山の、測定長さ１ｍｍ当たりの個
数である。

【００１９】又、設定値＋１．０μｍよりも高い山高さ
と設定値−１．０μｍよりも深い谷深さとを有する山の
粗さ山個数Ｐｃは、山の高さが前記基準レベル＋１．０
μｍよりも高く、谷の深さが前記基準レベル−１．０μ
ｍよりも深い山の、測定長さ１ｍｍ当たりの個数であ
る。

【００２０】表面粗さＲａ、最大粗さＲｍａｘ、及び粗
さ山個数Ｐｃは、いずれも、平版印刷版の表面の粗さを
通常の表面粗さ計で測定した結果に基づき、求めること
ができる。

【００２１】平版印刷版における粗面化処理及び陽極酸
化処理を施した面における表面粗さＲａ、最大粗さＲｍ
ａｘ、及び粗さ山個数Ｐｃが前記範囲内である平版印刷
板用支持体は、前記面において、比較的目の粗い凹凸部
が均一に形成され、前記凹凸部の内側に、目のより細か
い均一な凹凸部が形成された構造を有する。したがっ
て、前記平版印刷版の前記面に感光層を形成したＰＳ版
は、感光層と平版印刷版用支持体との密着性に優れるか
ら耐刷性が高い。しかも前記ＰＳ版は、表面の保水性が
高く、印刷インキで汚れ難く、調子再現性及び水／イン
キバランスに優れるから、明瞭で美麗な印刷紙面、即ち
優れた画質を有する印刷紙面が得られる。

【００２２】本発明の平版印刷版用支持体としては、た
とえば、アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる
基板（以下、「アルミニウム基板」という。）等の表面
に粗面化処理及び陽極酸化処理を施したものが挙げられ
る。

【００２３】前記アルミニウム基板の材質としては、た
とえばＪＩＳ Ａ−１０５０材、ＪＩＳ Ａ−１１００
材、ＪＩＳ Ａ−３００３材、ＪＩＳ Ａ−３１０３
材、及びＪＩＳ Ａ−５００５材等が挙げられる。

【００２４】２．平版印刷版用支持体の製造方法 本発明の平版印刷版用支持体は、たとえばアルミニウム
基板を粗面化処理し、次いで陽極酸化処理することによ
り製造できる。 ２−１ 粗面化処理 粗面化処理においては、機械的粗面化処理を行ない、次
いでエッチング処理及び電解粗面化処理の少なくとも一
方を行なうことができる。

【００２５】Ａ．機械的粗面化処理 機械的粗面化処理においては、アルミニウム基板の表面
を回転ブラシで擦るブラシグレイン処理を行なうことが
できる。

【００２６】前記アルミニウム基板は、連続したシート
状の形態を有していてもよく、製品として出荷されるＰ
Ｓ版に対応した大きさの枚葉状の形態を有していてもよ
い。

【００２７】前記ブラシグレイン処理は、回転ブラシと
前記アルミニウム基板との間に研磨材粒子を供給しなが
ら行なうことができる。

【００２８】前記ブラシグレイン処理において使用され
る研磨材粒子としては、平均粒径が５〜７０μｍの範囲
であるものが好ましく、特に１０〜４０μｍの範囲のも
のが好ましく、１５〜３５μｍの範囲のものが最も好ま
しい。

【００２９】前記研磨材粒子における粒径１００μｍ以
上の粒子の含有量は、１０重量％以内が好ましく、５重
量％を超えないことが特に好ましい。そして、前記粒子
を２．５重量％を超えない含有量で含有するか、又は実
質的に含有しないことが最も好ましい。

【００３０】前記研磨材粒子における粒径５００μｍ以
上の粒子の含有量は、１重量％以内が好ましく、特に
０．５重量％を超えないことが好ましく、前記粒子を
０．２重量％を超えない含有量で含有するか、又は実質
的に含有しないことが最も好ましい。

【００３１】前記研磨材粒子は、ＳｉＯ₂粒子を９０重
量％以上含有するものが好ましい。前記研磨材粒子は、
ＳｉＯ₂粒子のみを含有してもよいが、ＳｉＯ₂粒子の他
にアルミニウム分、鉄分、粘土、タルク、酸化鉄、酸化
クロム、及び焼成アルミナ等の琢磨材、並びにダイヤモ
ンド、エメリー、スピネル、コランダム、カーボランダ
ム、及び炭化硼素等の研削材等を含有してもよい。

【００３２】機械的粗面化処理により、平版印刷用支持
体の表面に、最も目の粗い凹凸部である超大波、及び超
大波よりもやや目の細かい凹凸部である大波が主に形成
されると考えられる。そして、超大波及び大波の均一さ
は、ＰＳ版におけるドットゲインの大小、調子再現性、
及び表面の保水性と印刷インキによる汚れ難さとに特に
深く関連するとされている。前記研磨材粒子を使用して
機械的粗面化処理を行なうことにより、表面の最大粗さ
Ｒｍａｘが１０μｍ以下であり、表面粗さＲａが０．３
〜１．０μｍである平版印刷版用支持体、言い換えれば
超大波及び大波が均一に形成された平版印刷版用支持体
が得られる。前記平版印刷版用支持体を有するＰＳ版
は、ドットゲインが小さく、調子再現性、及び表面の保
水性、汚れ難さに優れる。

【００３３】前記研磨材粒子は、たとえばスラリー等と
して使用することができる。前記スラリーとしては、前
記研磨材粒子を５〜７０重量％程度の濃度で水中に懸濁
させた懸濁液等が挙げられる。前記懸濁液には、他に、
増粘剤、界面活性剤等の分散剤、及び防腐剤等を配合し
てもよい。

【００３４】機械的粗面化処理は、たとえば、図１に示
すような研磨装置を用いて行なうことができる。

【００３５】前記研磨装置は、図１に示すように、互い
に平行に、しかも同一の高さに配設され、一定の方向ａ
に沿って搬送されるアルミニウム基板Ａを研磨する３本
のローラ状ブラシ２、４、及び６と、ローラ状ブラシ
２、４、及び６のそれぞれに対して平行に２本づつ設け
られ、アルミニウム基板Ａを下方から支持する支持ロー
ラ８Ａ、８Ｂ、１０Ａ、１０Ｂ、１２Ａ、及び１２Ｂ
と、ローラ状ブラシ２、４、及び６と支持ローラ８Ａ、
８Ｂ、１０Ａ、１０Ｂ、１２Ａ、及び１２Ｂとを収容す
るとともに、アルミニウム基板Ａが内部を通過する略直
方体状の筐体１４とを備える。

【００３６】ローラ状ブラシ２、４、及び６は、図１に
示すように、それぞれ、互いに平行な回転軸２Ｃ、４
Ｃ、及び６Ｃと、回転軸２Ｃ、４Ｃ、及び６Ｃの周りに
回転する胴２Ｂ、４Ｂ、及び６Ｂと、胴２Ｂ、４Ｂ、及
び６Ｂの側面に植設され、半径方向に沿って外側に向か
って伸びるブラシ毛２Ａ、４Ａ、及び６Ａとを備えてい
る。

【００３７】ブラシ毛２Ａ、４Ａ、及び６Ａは、直径が
０．１５〜１．３５ｍｍであることが好ましく、長さが
１０〜１００ｍｍの範囲であることが好ましい。

【００３８】ブラシ毛２Ａ、４Ａ、及び６Ａとしては、
ナイロン、プロピレン、及び塩化ビニル樹脂等の合成樹
脂からなる合成樹脂毛、牛毛、豚毛、及び馬毛等の動物
毛、並びに羊毛などの天然繊維から選択されるブラシ材
等が挙げられる。

【００３９】ブラシ毛２Ａ、４Ａ、及び６Ａは、胴２
Ｂ、４Ｂ、及び６Ｂに、３０〜５，０００本／ｃｍ²の
植毛密度で植設することが好ましく、１本づつ植設して
もよく、複数本、たとえば１０〜５０００本づつ束ねて
植設してもよい。

【００４０】機械的粗面化において、ブラシ毛の直径及
び植設密度が前記範囲であるローラ状ブラシを前記研磨
材と併用すれば、アルミニウム基板の表面に更に均一な
超大波及び大波を形成できるから好ましい。

【００４１】支持ローラ８Ａ、１０Ａ、及び１２Ａは、
ローラ状ブラシ２、４、及び６におけるブラシ毛２Ａ、
４Ａ、及び６Ａの先端に、搬送方向ａに対して上流側
（以下、「上流側」という。）において当接するように
設けられ、支持ローラ８Ｂ、１０Ｂ、及び１２Ｂは搬送
方向ａに対して下流側（以下、「下流側」という。）に
おいて当接するように設けられている。

【００４２】図１に示すように、ローラ状ブラシ２及び
４は、アルミニウム基板の研磨面において、上流側から
下流側に向かう方向に回転し、ローラ状ブラシ６は、前
記研磨面において下流側から上流側に向かう方向、又は
前記方向とは反対の方向に回転する。ローラ状ブラシ
２、４、及び６の回転速度は、何れも１００〜１０００
回転／分程度が好ましい。

【００４３】一方、支持ローラ８Ａ、８Ｂ、１０Ａ、１
０Ｂ、１２Ａ、及び１２Ｂは、何れも軸線の周りに回転
自在に設けられている。

【００４４】図１に示すように、筐体１４の上方におけ
るアルミニウム基板Ａの入口側には、アルミニウム基板
Ａを筐体１４の内部に案内する第１上流側案内ローラ１
６Ａが設けられ、アルミニウム基板Ａの出口側には、ア
ルミニウム基板Ａを筐体１４の外部に導く第１下流側案
内ローラ１８Ａが設けられている。筐体１４の内部に
は、第１上流側案内ローラ１６Ａによって筐体１４の内
部に案内されたアルミニウム基板Ａを、ローラ状ブラシ
１と支持ローラ２Ａ及び２Ｂとの間に案内する第２上流
側案内ローラ１６Ｂが、支持ローラ４Ａの近傍における
上流側に、支持ローラ４Ａ及び４Ｂに対して平行に設け
られている。

【００４５】支持ローラ６Ｂの近傍における下流側に
は、ローラ状ブラシ２、４、及び６と支持ローラ８Ａ、
８Ｂ、１０Ａ、１０Ｂ、１２Ａ、及び１２Ｂとの間を通
過したアルミニウム基板Ａを第１下流側案内ローラ１８
Ａに向かって案内する第２下流側案内ローラ１８Ｂが、
支持ローラ１２Ａ及び１２Ｂに対して平行に設けられて
いる。

【００４６】ローラ状ブラシ２、４、及び６の近傍にお
ける上流側には、それぞれ研磨材スラリーを供給する研
磨材スラリー供給ノズル２０Ａ、２０Ｂ、及び２０Ｃが
設けられている。

【００４７】図１に示すように、筐体１４の下方には、
研磨材スラリー供給ノズル２０Ａ、２０Ｂ、及び２０Ｃ
から供給された研磨材スラリーを回収する研磨材スラリ
ー回収タンク２２が設けられている。研磨材スラリー回
収タンク２２は、研磨材スラリー戻り管路２４により、
筐体１４の底部に連通している。

【００４８】研磨材スラリー回収タンク２２は、研磨材
スラリー中の研磨材を、粒径の大きなものと小さなもの
とに分離するサイクロン２６に、スラリー移送管路２８
によって接続されている。スラリー移送管路２８には、
回収タンク２２内の研磨材スラリーをサイクロン２６に
移送するポンプ２８Ａと、ポンプ２８Ａと研磨材スラリ
ー回収タンク２２との間に位置するオーバーフロータン
ク２８Ｂとが介装されている。

【００４９】サイクロン２６は、下方に向かって直径の
縮小する略円錐形状に形成され、側面における上面近傍
部には、研磨材スラリーが導入されるスラリー導入管２
６Ａが設けられている。そして上面における中央部に
は、前記サイクロン２６で分離されたスラリーのうち、
主に粒径の小さな研磨材粒子を含有するスラリーを排出
するスラリー導出管２６Ｂが設けられ、下端部には、前
記スラリーのうち、主に粒径の大きな研磨材粒子を含有
するスラリーを排出するスラリー導出管２６Ｃが設けら
れている。スラリー導入管２６Ａは、スラリー移送管路
２８に接続されている。一方、スラリー導出管２６Ｃ
は、スラリー回収管路３０によって研磨材スラリー回収
タンク２２に連通し、スラリー導出管２６Ｂは、後述す
る廃液ライン３８に接続されている。

【００５０】研磨材スラリー回収タンク２２は、又、底
部近傍に接続された研磨材スラリー供給管路３２によっ
て、研磨材スラリー供給ノズル２０Ａ、２０Ｂ、及び２
０Ｃに連通している。研磨材スラリー供給管路３２に
は、研磨材スラリーを研磨材スラリー供給ノズル２０
Ａ、２０Ｂ、及び２０Ｃに供給するポンプ３２Ａが介装
されている。

【００５１】研磨材スラリー回収タンク２２には、更
に、研磨材を補充する研磨材補充管路３４と、水を補充
する水補充管路３６とが設けられている。

【００５２】廃液ライン３８には、スラリー導出管２６
Ｂから排出されたスラリーから研磨材粒子と水とを分離
する遠心分離機４０が設けられている。

【００５３】図１に示す研磨装置においては、搬送方向
ａに沿って筐体１４に向かって搬送されてきたアルミニ
ウム基板Ａは、第１上流側案内ローラ１６Ａ及び第２上
流側案内ローラ１６Ｂにより、ローラ状ブラシ２と支持
ローラ８Ａとの間に案内される。

【００５４】ローラ状ブラシ２と支持ローラ８Ａとの間
に案内されたアルミニウム基板Ａは、ローラ状ブラシ２
と支持ローラ８Ｂとの間を通過し、次いでローラ状ブラ
シ４と支持ローラ１０Ａ及び１０Ｂとの間を通過し、更
に、ローラ状ブラシ６と支持ローラ１２Ａ及び１２Ｂと
の間を通過する。そして、研磨材スラリー回収タンク２
２内に貯留された研磨材スラリーが、研磨材スラリー供
給ノズル２０Ａ、２０Ｂ、及び２０Ｃからアルミニウム
基板Ａの上面に供給される。したがって、ブラシ毛２
Ａ、４Ａ、及び６Ａによる摩擦と、前記研磨材スラリー
中の研磨材粒子の研磨作用とにより、アルミニウム板Ａ
等の上面が機械的に粗面化され、前述のように超大波及
び大波が形成される。

【００５５】ローラ状ブラシ６と支持ローラ１２Ｂとの
間を通過したアルミニウム板Ａは、第２下流側案内ロー
ラ１８Ｂ及び第１下流側案内ローラ１８Ａにより、筐体
１４の外部に導かれる。

【００５６】一方、研磨材スラリー供給ノズル２０Ａ、
２０Ｂ、及び２０Ｃから供給された研磨材スラリーは、
研磨材スラリー戻り流路２４を通って研磨材スラリー回
収タンク２２に流下する。

【００５７】研磨材スラリー回収タンク２２中の研磨材
スラリーは、ポンプ２８Ａによって、スラリー移送管路
２８中をサイクロン２６に向かって移送される。

【００５８】サイクロン２６においては、前記研磨材ス
ラリーは、内側壁面に沿って導入され、前記内側壁面に
沿って回転しながら下端部に向かって流れる。したがっ
て、前記研磨材スラリー中の研磨材粒子の内、粒径の大
きなものは、遠心力により前記内側壁面の近傍に集ま
り、粒径の小さなものは、中心部に集まり、粒径の比較
的大きな研磨材粒子を主に含むスラリーと、研磨材粒子
の平均粒径よりも遥かに粒径の小さな研磨材粒子を主に
含むスラリーとに分離される。前者は、サイクロン２６
の下端部におけるスラリー導出管２６Ｃからスラリー回
収管路３０に向かって導出され、後者のスラリーは、サ
イクロン２６の上面中央部におけるスラリー導出管２６
Ｂから廃液ライン３８に導出される。

【００５９】スラリー回収管路３０に向かって導出され
たスラリーは、研磨材スラリー回収タンク２２に戻され
る。

【００６０】一方、廃液ライン３８に導出されたスラリ
ーは、遠心分離機４０に導かれ、ほぼ透明な液と研磨材
粒子とに分離される。前者は、廃液として放流され、後
者は、産業廃棄物として適宜処理される。

【００６１】アルミニウム基板には、機械的粗面化処理
に引きづついて、エッチング処理及び電解粗面化処理の
少なくとも一方を施すことができる。又、電解粗面化処
理の後に更に第２回目のエッチング処理を施してもよ
い。更に、第１回目のエッチング処理、第１回目のデス
マット処理、電解粗面化処理、第２回目のエッチング処
理、及び第２回目のデスマット処理をこの順で施しても
よい。

【００６２】Ｂ．エッチング処理 エッチング処理は、アルカリ剤を用いて行なう。

【００６３】前記アルカリ剤としては、苛性アルカリ及
びアルカリ金属塩の溶液等が挙げられる。前記溶液にお
けるアルカリ剤の濃度は０．０１〜３０重量％が好まし
く、温度は２０〜９０℃の範囲が好ましい。

【００６４】苛性アルカリとしては、苛性ソーダ及び苛
性カリ等が挙げられる。

【００６５】前記アルカリ金属塩としては、メタ珪酸ソ
ーダ、珪酸ソーダ、メタ珪酸カリ、及び珪酸カリ等のア
ルカリ金属珪酸塩、炭酸ソーダ及び炭酸カリ等のアルカ
リ金属炭酸塩、アルミン酸ソーダ及びアルミン酸カリ等
のアルカリ金属アルミン酸塩、グルコン酸ソーダ及びグ
ルコン酸カリ等のアルカリ金属アルドン酸塩、並びに第
二燐酸ソーダ、第二燐酸カリ、第三燐酸ソーダ、及び第
三燐酸カリ等のアルカリ金属燐酸水素塩等が挙げられ
る。前記アルカリ剤としては、エッチング速度が速い
点、及び安価である点から苛性アルカリの溶液が特に好
ましい。

【００６６】エッチング量は、０．１〜２０ｇ／ｍ²の
範囲が好ましく、１〜１５ｇ／ｍ²の範囲が特に好まし
く、２〜１０ｇ／ｍ²の範囲が最も好ましい。エッチン
グ時間は、５秒〜５分の範囲が好ましい。

【００６７】エッチング量及びエッチング時間が前記範
囲内であれば、機械的粗面化処理で生じた削り滓及びア
ルミニウム基板の表面に残存する皮膜などは溶解・除去
されるが、超大波及び大波は平滑化されずに残るから好
ましい。

【００６８】エッチング処理は、アルミニウム基板のエ
ッチング処理に通常に使用されるエッチング槽を用いて
行うことができる。前記エッチング槽としては、バッチ
式及び連続式の何れも使用できる。

【００６９】尚、エッチング処理と次の電解粗面化処理
との間に、アルミニウム基板の表面に残存し、アルカリ
溶液に不要な残滓を除去する第１回目のデスマット処理
を行ってもよい。第１回目のデスマット処理は、たとえ
ばエッチング処理後のアルミニウム基板を水洗し、次い
で硝酸、燐酸、硫酸、クロム酸等の強酸、又はこれらの
混合物で処理することにより、行うことができる。

【００７０】Ｃ．電解粗面化処理 電解粗面化処理においては、前記化学エッチング工程で
エッチングされたアルミニウム基板を、たとえば酸性電
解液中で交流を印加して交流電解する。

【００７１】酸性電解液としては、たとえば、硫酸、塩
酸、及び硝酸の少なくとも１種を含有する電解液が挙げ
られる。前記酸性電解液中の硫酸、塩酸、及び硝酸の濃
度は、電解条件等に応じて適宜定めることができるが、
合計で０．３〜１５重量％の範囲が好ましい。前記酸性
電解液には、他に、必要に応じて蓚酸、酢酸、クエン
酸、酒石酸、及び乳酸等の有機酸類、燐酸、クロム酸、
硝酸塩、塩化物、アミン類、並びにアルデヒド類等を配
合してもよい。酸性電解液は、アルミニウムイオンを含
んでいてもよいが、アルミニウムイオンの含有量は５０
ｇ／リットル以下が好ましい。酸性電解液の温度も又、
電解条件等に応じて適宜定めることができるが、３０〜
８０℃の範囲が好ましい。

【００７２】アルミニウム基板に印加する交流の周波数
は、０．１〜１００Ｈｚの範囲が好ましく、電圧は、陽
極時電圧を基準にして１０〜５０Ｖの範囲が好ましい。
陰極時電圧は、陽極時電圧と同一であってもよく、陽極
時電圧よりも小さくてもよい。

【００７３】電流密度は、５〜１００Ａ／ｄｍ²の範囲
が好ましく、陽極電気量は、１５０〜６００クーロン／
ｄｍ²の範囲が好ましい。

【００７４】前記交流は、正弦波電流であってもよく、
矩形波電流であってもよく、特開昭５２−５８６０２号
公報に記載されているような台形波電流であってもよ
い。

【００７５】前記交流電解処理においては、バッチ式及
び連続式の交流電解槽が使用できる。

【００７６】電解粗面化処理により、大波よりも目の細
かい凹凸部であるハニカム、及びハニカムよりも更に目
の細かい凹凸部であるマイクロポアが、主に形成される
と考えられる。前記ハニカム及びマイクロポアは、主
に、ＰＳ版における感光層と支持体との密着性、保水
性、汚れ難さ、水／インキバランス、及び耐磨耗性など
に関係するといわれている。そして、前記条件で電解粗
面化することにより、粗さ山個数Ｐｃが本明細書の請求
項１において規定した範囲であり、言い換えればハニカ
ム及びマイクロポアが均一に形成された平版印刷版用支
持体が得られると考えられる。したがって、この平版印
刷版用支持体を支持体として有するＰＳ版は、ドットゲ
インが小さく、調子再現性、表面の保水性、及び汚れ難
さに優れるだけでなく、耐刷性、水／インキバランス、
及び耐磨耗性にも優れている。

【００７７】電解粗面化処理の後に、第２回目のエッチ
ング処理を行うことができる。

【００７８】第２回目のエッチング処理は、ｐＨ１０以
上のアルカリ溶液中で行なうことができる。前記アルカ
リ溶液としては、具体的には、前記エッチング処理のと
ころで述べたのと同様のアルカリ剤を含有する溶液が挙
げられる。アルカリ溶液におけるアルカリ剤の濃度は、
前記エッチング処理のところで述べたのと同様である。
アルカリ溶液の温度は２５〜６０℃の範囲が好ましい。
エッチング量は、０．１〜５ｇ／ｍ²が好ましい。エッ
チング時間は、エッチング量とアルカリ液の組成及び温
度などに応じて適宜定めることができるが、たとえば１
〜１０秒の範囲が好ましい。

【００７９】前記エッチング処理を行った後のアルミニ
ウム基板を、温度が２５〜６５℃であり、硫酸の濃度が
５〜４０重量％の硫酸水溶液に浸漬して第２回目のデス
マット処理を行なってもよい。

【００８０】２−２ 陽極酸化処理 陽極酸化処理においては、前記粗面化処理が施されたア
ルミニウム基板を、常法に従って陽極酸化処理すること
ができる。

【００８１】陽極酸化処理においては、たとえば硫酸、
燐酸、蓚酸、クロム酸、及びアミドスルホン酸の少なく
とも１種を含有する電解液中で、前記アルミニウム基板
に直流又は脈流を印加する。

【００８２】陽極酸化処理に使用される電解液として
は、前記電解液のほかに、硫酸、燐酸、蓚酸、クロム
酸、及びアミドスルホン酸の少なくとも１種とアルミニ
ウムイオンとを含有するものも挙げられる。

【００８３】電解液における電解質の濃度は、１〜８０
重量％の範囲が好ましく、温度は、５〜７０℃の範囲が
好ましい。

【００８４】陽極酸化処理は、陽極酸化皮膜の量が０．
１〜１０ｇ／ｍ²になるように行なうことが好ましく、
電流密度は、０．５〜６０Ａ／ｄｍ²の範囲が好まし
く、電圧は、１〜１００Ｖの範囲が好ましい。電解時間
は１秒〜５分の範囲が好ましい。

【００８５】陽極酸化皮膜の量が前記範囲になるように
陽極酸化処理を行なった平版印刷版用支持体は、十分な
厚さと硬度とを有する陽極酸化皮膜が表面に均一に形成
されているから、この平版印刷版用支持体を支持体とし
て有するＰＳ版は、非画像部の耐磨耗性に優れている。

【００８６】３．ＰＳ版 本発明のＰＳ版は、前記平版印刷版用支持体において、
粗面化処理され、陽極酸化皮膜が形成された側の表面
に、感光層を形成することにより作製できる。

【００８７】前記感光層は、平版印刷版用支持体の前記
表面に、感光性樹脂を含有する感光性樹脂溶液を塗布
し、暗所で乾燥することにより形成できる。

【００８８】前記感光性樹脂としては、光が当たると現
像液に溶けるようになるポジ型感光性樹脂、及び光が当
たると現像液に溶解しなくなるネガ型感光性樹脂が挙げ
られる。

【００８９】ポジ型感光性樹脂としては、キノンジアジ
ド化合物及びナフトキノンジアジド化合物等のジアジド
化合物と、フェノールノボラック樹脂及びクレゾールノ
ボラック樹脂等のフェノール樹脂との組み合わせ等が挙
げられる。

【００９０】一方、ネガ型感光性樹脂としては、芳香族
ジアゾニウム塩とホルムアルデヒド等のアルデヒド類と
の縮合物等のジアゾ樹脂、前記ジアゾ樹脂の無機酸塩、
及び前記ジアゾ樹脂の有機酸塩等のジアゾ化合物と、
（メタ）アクリレート樹脂、ポリアミド樹脂、及びポリ
ウレタン等の結合剤との組み合わせ、並びに（メタ）ア
クリレート樹脂及びポリスチレン樹脂等のビニルポリマ
ーと、（メタ）アクリル酸エステル及びスチレン等のビ
ニルモノマーと、ベンゾイン誘導体、ベンゾフェノン誘
導体、及びチオキサントン誘導体等の光重合開始剤との
組み合わせ等が挙げられる。

【００９１】前記感光性樹脂溶液における溶剤として
は、前記感光性樹脂を溶解し、しかも、室温である程度
の揮発性を有する溶剤が挙げられ、具体的には、たとえ
ばアルコール系溶剤、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、
エーテル系溶剤、グリコールエーテル系溶剤、アミド系
溶剤、及び炭酸エステル系溶剤等が挙げられる。

【００９２】アルコール系溶剤としては、エタノール、
プロパノール、及びブタノール等が挙げられる。ケトン
系溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチ
ルプロピルケトン、メチルイソプロピルケトン、及びジ
エチルケトン等が挙げられる。エステル系溶剤として
は、酢酸エチル、酢酸プロピル、蟻酸メチル、蟻酸エチ
ル等が挙げられる。エーテル系溶剤としては、テトラヒ
ドロフラン及びジオキサン等が挙げられ、グリコールエ
ーテル系溶剤としては、エチルセロソルブ、メチルセロ
ソルブ、及びブチルセロソルブ等が挙げられる。アミド
系溶剤としては、ジメチルホルムアミド及びジメチルア
セトアミド等が挙げられる。炭酸エステル系溶剤として
は、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、炭酸ジエチル、及
び炭酸ジブチル等が挙げられる。

【００９３】感光性樹脂の溶液には、更に、各種着色剤
等を配合することができる。前記着色剤としては、通常
の色素のほか、露光により発色する露光発色色素、及び
露光により殆ど又は完全に無色になる露光消色色素等が
使用できる。前記露光発色色素としては、たとえばロイ
コ色素等が挙げられる。一方、前記露光消色色素として
は、トリフェニルメタン系色素、ジフェニルメタン系色
素、オキザジン系色素、キサンテン系色素、イミノナフ
トキノン系色素、アゾメチン系色素、及びアントラキノ
ン系色素等が挙げられる。

【００９４】本発明のＰＳ版は、以下の手順に従って作
製できる。

【００９５】まず、前記平版印刷版用支持体を、必要に
応じて、米国特許第２，７１４，０６６号明細書及び米
国特許第３，１８１，４６１号明細書に記載されている
ように、珪酸ソーダ及び珪酸カリ等のアルカリ金属珪酸
塩の水溶液に浸漬して表面を親水化処理するか、又は、
特開昭５９−１０１６５１号公報及び特開昭６０−１４
９４９１号公報に記載されているように、スルホン酸基
を有するｐ−スチレンスルホン酸等のスルホン酸基含有
ビニルモノマーと（メタ）アクリル酸アルキルエステル
等の通常のビニルモノマーとの共重合体、又はＮＨ
₂基、−ＣＯＯＨ基、及びスルホン基を有する親水性化
合物を塗布し、親水性の下塗り層を形成する。

【００９６】次いで、前記平版印刷版用支持体における
粗面化処理され、陽極酸化皮膜が形成された表面に前述
のように感光性樹脂溶液を塗布し、暗所で乾燥して感光
層を形成する。

【００９７】感光性樹脂溶液の塗布方法としては、回転
塗布法、ワイヤーバー法、ディップ塗布法、エアーナイ
フ塗布法、ロール塗布法、及びブレード塗布法等、従来
公知の方法が挙げられる。

【００９８】前記ＰＳ版を、必要に応じて適宜の大きさ
に裁断した後、露光,及び現像を行って製版する。露光
及び現像は、従来公知のＰＳ版と同様の手順に沿って行
うことができる。

【００９９】

【実施例】以下、本発明について、実施例を用いて具体
的に説明する。 （実施例１〜３、比較例１〜５）

【０１００】１．平版印刷版用支持体の作製 以下の手順に従い、種々の表面粗さＲａ、最大粗さＲｍ
ａｘ、及び粗さ山個数Ｐｃとを有する平板印刷版用支持
体を作成した。

【０１０１】１−１ 粗面化処理 Ａ．機械的粗面化処理 アルミニウム基板（アルミニウム板、厚さ０．３ｍｍ）
における一方の面を、図１に示す研磨装置を用いて機械
的粗面化処理した。ローラ状ブラシとしてナイロンブラ
シ８号を用いた。前記ナイロンブラシ８号は、外径が６
００ｍｍであり、ブラシ毛の直径が０．５ｍｍであり、
長さが５０ｍｍであり、植毛密度が４００本／ｃｍ²で
あった。研磨圧力は、０．５Ａ／１００ｍｍであり、ロ
ーラ状ブラシの周速は、４７０ｍ／分であった。

【０１０２】研磨材粒子として、平均粒径が２０μであ
り、粒径１００μｍ以上の粒子の割合が２重量％であ
り、粒径５００μｍ以上の粒子の割合が０重量％であ
り、ＳｉＯ₂を主成分とする粒子を用いた。

【０１０３】前記研磨材粒子を４００ｇ／リットルの割
合で水で懸濁させた研磨材スラリーを、研磨材スラリー
ノズルから、それぞれ２００リットル／分の割合でアル
ミニウム基板の研磨面上に供給した。アルミニウム基板
の搬送速度は３０ｍ／分であった。

【０１０４】Ｂ．エッチング処理 機械的粗面化処理を施したアルミニウム基板を、前記送
り速度で、液温６０℃、濃度１０重量％の苛性ソーダ溶
液が貯留された連続式エッチング槽を通過させ、エッチ
ング量が１０ｇ／ｍ²になるようにエッチング処理し
た。

【０１０５】エッチング処理後のアルミニウム基板を、
水槽に通して水洗し、更に濃度３０重量％、液温６０℃
の硫酸水溶液が貯留された連続式デスマット処理槽に通
過させて第１回目のデスマット処理を行った。

【０１０６】Ｃ．電解粗面化処理 液温４０℃、濃度２重量％の希硝酸を酸性電解液として
使用し、デスマット処理後のアルミニウム基板を連続的
に通過させつつ、周波数６０Ｈｚ、電流密度２０Ａ／ｄ
ｍ²、陽極電気量２００クーロン／ｃｍ²、電圧２０Ｖの
交流を印加して交流電解し、電解粗面化処理を行った。

【０１０７】電解粗面化処理を行ったアルミニウム基板
を、液温３５℃、濃度１０重量％の苛性ソーダ溶液中
を、エッチング量が１．５ｇ／ｍ²になるように連続的
に通過させて第２のエッチング処理を行った。第２回目
のエッチング処理を行なったアルミニウム基板を水洗
し、液温６０℃、濃度３０重量％の希硫酸中を、連続的
に通過させて第２回目のデスマット処理を施した。

【０１０８】１−２ 陽極酸化処理 粗面化処理後のアルミニウム基板を、液温３０℃、濃度
１０重量％の希硫酸の溶液中に連続的に浸漬し、電流密
度が１０Ａ／ｄｍ²になるように、４０Ｖの直流電流を
印加し、陽極酸化皮膜量が２ｇ／ｍ²になるように陽極
酸化処理を行って平版印刷版用支持体を作製した。

【０１０９】前述の手順によって作製した平版印刷版用
支持体における粗面化処理及び陽極酸化処理を施した側
の面について、表面粗さ計（東京精密株式会社製 Ｓｕ
ｒｆｃｏｍ ４７０５７０Ａ、触針２μｍＲ）を用いて
表面の粗さを測定し、その結果から、表面粗さＲａ、最
大粗さＲｍａｘ、及び設定値＋０．３μｍよりも高い山
高さと設定値−０．３μｍよりも深い谷深さとを有する
山と、設定値＋０．６μｍよりも高い山高さと設定値−
０．６μｍよりも深い谷深さと有する山と、設定値＋
１．０μｍよりも高い山高さと設定値−１．０μｍより
も深い谷深さとを有する山との粗さ山個数Ｐｃを求め
た。結果を表１に示す。

【０１１０】２．ＰＳ版の作製 前記平版印刷版用支持体を、濃度が３重量％であり、液
温が７０℃である珪酸ソーダ溶液に３０秒間浸漬して表
面を親水化した。

【０１１１】ついで、前記平版印刷版用支持体に、下記
の組成、即ち (a)１，２−ジアゾナフトキノン−５−スルホニルクロ
リドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステル化物
（米国特許第３，６３５，７０９号明細書の実施例１に
記載されているもの）：０．８ｇ (b)下記構造式Ｉで表されるノボラック樹脂Ｉ：１．５
ｇ (c)下記構造式ＩＩで表されるノボラック樹脂ＩＩ：
０．２ｇ (d)下記構造式ＩＩＩで表される非ノボラック樹脂ＩＩ
Ｉ：０．４ｇ (e)２−ノルマルオクチルフェノール−ホルムアルデヒ
ド樹脂（米国特許第４，１２３，２７９号明細書に記載
されているもの）：０．０２ｇ (f)ナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸
クロリド：０．０１ｇ (g)テトラヒドロ無水フタル酸：０．０２ｇ (h)安息香酸：０．０２ｇ (i)ピロガロール：０．０５ｇ (j)４−［ｐ−Ｎ，Ｎ−ビス（エトキシカルボニルメチ
ル）アミノフェニル］−２，６−ビス（トリクロロメチ
ル）−Ｓ−トリアジン：０．０７ｇ (k)ビクトリアピュアブルー（保土谷化学（株）製）の
対アニオンを１−ナフタレンスルホン酸に代えた染料：
０．０４５ｇ (l)F176PF（フッ素系界面活性剤、大日本インキ化学工
業（株）製）：０．０1ｇ (m)メチルエチルケトン：１５ｇ (n)１−メトキシ−２−プロパノール：１０ｇ を有する感光性樹脂溶液を１．５ｇ／ｍ²の塗布量で塗
布して感光層を形成した。

【０１１２】

【化１】

【０１１３】３．印刷特性の評価 前記ＰＳ版を、１ｍの距離から３ｋＷのメタルハライド
ランプにより１分間露光した。

【０１１４】露光後のＰＳ版を、下記の組成の現像液Ａ
又は現像液Ｂを用い、富士写真フイルム（株）製ＰＳプ
ロセッサー９００ＶＲにより、３０℃で１２秒間現像し
た。 ＜現像液Ａの組成＞ (a)ソルビトール：５．１重量部 (b)水酸化ナトリウム：１．１重量部 (c)トリエタノールアミン・エチレンオキサイド付加物
（３０モル）：０．０３重量部 (d)水：９３．８重量部 ＜現像液Ｂの組成＞ (a)［ＳｉＯ₂］／［Ｎａ₂Ｏ］のモル比が１．２であ
り、ＳｉＯ₂が１．４重量％の珪酸ナトリウム水溶液：
１００重量部 (b)エチレンジアミン・エチレンオキサイド付加物（３
０モル）：０．０３重量部

【０１１５】以上のように処理したＰＳ版について以下
の手順に従って耐刷性及び汚れ性を評価した。結果を表
１に示す。

【０１１６】＜耐刷性＞小森印刷機（株）製のリスロン
２６型印刷機を用いて印刷を行ない、正常に印刷されな
くなるまでの印刷枚数を以って耐刷性を評価した。印刷
枚数が多いほど耐刷性が良好なことを示す。

【０１１７】＜汚れ性＞三菱重工（株）のダイヤ１Ｆ−
２型印刷機を用いて１０００枚印刷後、印刷を停止して
ＰＳ版を外した。印刷機から外したＰＳ版を３０分間静
置した後、再度前記印刷機に装着して１００枚印刷し、
このときの前記印刷機におけるゴムロールの胴の汚れ
（ブラン汚れ）、及び印刷紙面の汚れ（ポツ汚れ）を観
察した。結果を表１に示す。尚、表１における「０．３
−０．３」、「０．６−０．６」、及び「１．０−１．
０」は、それぞれ設定値＋０．３μｍよりも高い山高さ
と設定値−０．３μｍよりも深い谷深さとを有する山、
設定値＋０．６μｍよりも高い山高さと設定値−０．６
μｍよりも深い谷深さと有する山、及び設定値＋１．０
μｍよりも高い山高さと設定値−１．０μｍよりも深い
谷深さとを有する山を意味する。

【０１１８】

【表１】

【０１１９】

【発明の効果】本発明によれば、耐刷性に優れ、ブラン
汚れ及びポツ汚れ等の外観不良が発生することのないＰ
Ｓ版の支持体になる平版印刷版用支持体とその製造方
法、及び前記特長を有するＰＳ版が提供される。

【０１２０】本発明によって提供されるＰＳ版は、更に
印刷紙面の面質も優れている。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、本発明に係る平版印刷版用支持体を製
造するのに使用される研磨装置の一例を示す概略図であ
る。

【符号の説明】

Ａ アルミニウム基板 ２Ａ ブラシ毛 ４Ａ ブラシ毛 ６Ａ ブラシ毛

フロントページの続き (72)発明者 松浦 睦 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内 Ｆターム(参考） 2H025 AA04 AA12 AB03 DA36 2H096 AA06 CA03 2H114 AA04 AA14 BA01 DA04 DA24 DA26 DA49 DA73 DA78 EA01 EA03 GA03 GA05 GA06 GA08 GA09 GA34 GA38

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 粗面化処理及び陽極酸化処理を施した
   面における表面粗さＲａが０．３〜１．０μｍの範囲で
   あり、最大粗さＲｍａｘが１０μｍ以下であり、粗さ山
   個数Ｐｃが、設定値＋０．３μｍよりも高い山高さと設
   定値−０．３μｍよりも深い谷深さとを有する山につい
   ては１５〜３５個／ｍｍであり、設定値＋０．６μｍよ
   りも高い山高さと設定値−０．６μｍよりも深い谷深さ
   と有する山については７〜２５個／ｍｍであり、設定値
   ＋１．０μｍよりも高い山高さと設定値−１．０μｍよ
   りも深い谷深さとを有する山については２〜１８個／ｍ
   ｍであることを特徴とする平版印刷版用支持体。
2. 【請求項２】 請求項１に記載された平版印刷版用支
   持体における粗面化処理及び陽極酸化処理を施した面に
   感光層を形成したことを特徴とするＰＳ版。