JP2002011663A - 平版印刷版用支持体の製造方法及び製造装置 - Google Patents
平版印刷版用支持体の製造方法及び製造装置Info
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
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- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 研磨材スラリーの損失が小さく、耐刷性
に優れ、ブラン汚れの発生が少ない平版印刷版用支持体
を、高い生産安定性で製造できる平版印刷版用支持体の
製造方法及び製造装置の提供。 【解決手段】 平版印刷版用支持体に研磨材スラリーを
供給する研磨材スラリー供給工程と、前記平版印刷版用
支持体の前記面を機械的に研磨する機械的研磨工程と、
前記機械的研磨工程で研磨材スラリー廃液を回収し、平
均粒径が、前記研磨材スラリーに含まれる研磨材粒子の
平均粒径の1/3〜1/10である粒子を除去し、残り
を前記研磨材スラリー供給工程に戻す研磨材スラリー廃
液回収工程とを有する平版印刷版用支持体の製造方法。
に優れ、ブラン汚れの発生が少ない平版印刷版用支持体
を、高い生産安定性で製造できる平版印刷版用支持体の
製造方法及び製造装置の提供。 【解決手段】 平版印刷版用支持体に研磨材スラリーを
供給する研磨材スラリー供給工程と、前記平版印刷版用
支持体の前記面を機械的に研磨する機械的研磨工程と、
前記機械的研磨工程で研磨材スラリー廃液を回収し、平
均粒径が、前記研磨材スラリーに含まれる研磨材粒子の
平均粒径の1/3〜1/10である粒子を除去し、残り
を前記研磨材スラリー供給工程に戻す研磨材スラリー廃
液回収工程とを有する平版印刷版用支持体の製造方法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、平版印刷版用支持
体の製造方法及び製造装置に関し、特に研磨材の消費量
が削減でき、高い耐刷性及び印刷性能を有するPS版の
支持体となる平版印刷版用支持体を高い生産安定性で生
産できる平版印刷版用支持体の製造方法及び製造装置に
関する。
体の製造方法及び製造装置に関し、特に研磨材の消費量
が削減でき、高い耐刷性及び印刷性能を有するPS版の
支持体となる平版印刷版用支持体を高い生産安定性で生
産できる平版印刷版用支持体の製造方法及び製造装置に
関する。
【0002】
【従来の技術】平版印刷版用支持体は、通常、アルミニ
ウム又はアルミニウム合金のウェブに、研磨材を水に懸
濁させた研磨材スラリーを供給しつつ、たとえば回転ブ
ラシで機械的研磨を施し、次いでエッチング処理及び電
解粗面化処理を施し、最後に陽極酸化処理を施すという
手順に従って製造される。
ウム又はアルミニウム合金のウェブに、研磨材を水に懸
濁させた研磨材スラリーを供給しつつ、たとえば回転ブ
ラシで機械的研磨を施し、次いでエッチング処理及び電
解粗面化処理を施し、最後に陽極酸化処理を施すという
手順に従って製造される。
【0003】前記機械的研磨においては、研磨材スラリ
ーを節約することと、廃水の発生量を小さく押さえるこ
とを目的として、研磨材スラリーを回収して再利用する
ことが広く行なわれている。
ーを節約することと、廃水の発生量を小さく押さえるこ
とを目的として、研磨材スラリーを回収して再利用する
ことが広く行なわれている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら前記研磨
材スラリー中の研磨材粒子は、機械的研磨の際に、少な
くともその一部が粉砕されて微粒子化する。
材スラリー中の研磨材粒子は、機械的研磨の際に、少な
くともその一部が粉砕されて微粒子化する。
【0005】したがって、単に研磨材スラリーを回収し
て再利用したのでは、微粒子化した研磨材粒子が研磨材
スラリー中に蓄積し、前記研磨材スラリー中の研磨材の
平均粒径が次第に小さくなる。
て再利用したのでは、微粒子化した研磨材粒子が研磨材
スラリー中に蓄積し、前記研磨材スラリー中の研磨材の
平均粒径が次第に小さくなる。
【0006】その結果、研磨材粒子の平均粒径が過小に
なり、平版印刷版用支持体の品質が安定せず、たとえば
前記平版印刷版用支持体を支持体とするPS版をオフセ
ット印刷に使用したときに耐刷力が不充分であったり、
オフセット印刷機のブランケットロールの表面が印刷イ
ンキで汚れる所謂ブラン汚れが発生したりすることがあ
った。
なり、平版印刷版用支持体の品質が安定せず、たとえば
前記平版印刷版用支持体を支持体とするPS版をオフセ
ット印刷に使用したときに耐刷力が不充分であったり、
オフセット印刷機のブランケットロールの表面が印刷イ
ンキで汚れる所謂ブラン汚れが発生したりすることがあ
った。
【0007】本発明は、上記事実を考慮して、研磨材ス
ラリーの損失が小さく、しかも耐刷性に優れ、ブラン汚
れの発生が少ないPS版の支持体になる平版印刷版用支
持体を、高い生産安定性で製造できる平版印刷版用支持
体の製造方法及び製造装置を提供することを目的とす
る。
ラリーの損失が小さく、しかも耐刷性に優れ、ブラン汚
れの発生が少ないPS版の支持体になる平版印刷版用支
持体を、高い生産安定性で製造できる平版印刷版用支持
体の製造方法及び製造装置を提供することを目的とす
る。
【0008】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、平版印刷版用支持体の少なくとも一方の面に研磨材
スラリーを供給する研磨材スラリー供給工程と、前記平
版印刷版用支持体における前記研磨材スラリーを供給し
た側の面を機械的に研磨する機械的研磨工程と、前記機
械的研磨工程において発生した研磨材スラリー廃液を回
収し、前記研磨材スラリー廃液から、平均粒径が、前記
研磨材スラリー供給工程において供給される研磨材スラ
リーに含まれる研磨材粒子の平均粒径の1/3〜1/1
0である粒子を除去し、残りを前記研磨材スラリー供給
工程に戻す研磨材スラリー廃液回収工程とを有すること
を特徴とする平版印刷版用支持体の製造方法である。
は、平版印刷版用支持体の少なくとも一方の面に研磨材
スラリーを供給する研磨材スラリー供給工程と、前記平
版印刷版用支持体における前記研磨材スラリーを供給し
た側の面を機械的に研磨する機械的研磨工程と、前記機
械的研磨工程において発生した研磨材スラリー廃液を回
収し、前記研磨材スラリー廃液から、平均粒径が、前記
研磨材スラリー供給工程において供給される研磨材スラ
リーに含まれる研磨材粒子の平均粒径の1/3〜1/1
0である粒子を除去し、残りを前記研磨材スラリー供給
工程に戻す研磨材スラリー廃液回収工程とを有すること
を特徴とする平版印刷版用支持体の製造方法である。
【0009】前記製造方法においては、研磨材スラリー
廃液回収工程において特定の範囲の平均粒径を有する小
径粒子を除去し、残りを再利用しているから、研磨材ス
ラリーの消費量を低減できるだけでなく、研磨材スラリ
ー中の研磨材粒子の平均粒径が過大になったり過小にな
ったりすることがない。したがって、前記製造方法で得
られた平版印刷版用支持体を支持体とするPS版は、耐
刷性に優れ、しかも、オフセット印刷に使用したとき
に、印刷機におけるブランケットロールへの印刷インキ
の付着が少ないから、所謂ブラン汚れが生じ難い。
廃液回収工程において特定の範囲の平均粒径を有する小
径粒子を除去し、残りを再利用しているから、研磨材ス
ラリーの消費量を低減できるだけでなく、研磨材スラリ
ー中の研磨材粒子の平均粒径が過大になったり過小にな
ったりすることがない。したがって、前記製造方法で得
られた平版印刷版用支持体を支持体とするPS版は、耐
刷性に優れ、しかも、オフセット印刷に使用したとき
に、印刷機におけるブランケットロールへの印刷インキ
の付着が少ないから、所謂ブラン汚れが生じ難い。
【0010】請求項2に記載の発明は、前記研磨材スラ
リー中の研磨材の平均粒径が10〜70μmである平版
印刷版用支持体の製造方法である。
リー中の研磨材の平均粒径が10〜70μmである平版
印刷版用支持体の製造方法である。
【0011】前記製造方法によって得られる平版印刷版
用支持体を支持体とするPS版は、特に耐刷性に優れ、
ブラン汚れが生じ難い。
用支持体を支持体とするPS版は、特に耐刷性に優れ、
ブラン汚れが生じ難い。
【0012】請求項3に記載の発明は、前記研磨材スラ
リー廃液回収工程において、平均粒径が、前記研磨材ス
ラリー供給工程において供給される研磨材スラリーに含
まれる研磨材粒子の平均粒径の1/3〜1/10である
粒子を、サイクロンによる分級により除去する平版印刷
版用支持体の製造方法である。
リー廃液回収工程において、平均粒径が、前記研磨材ス
ラリー供給工程において供給される研磨材スラリーに含
まれる研磨材粒子の平均粒径の1/3〜1/10である
粒子を、サイクロンによる分級により除去する平版印刷
版用支持体の製造方法である。
【0013】サイクロンは、可動部分を有さず、しかも
通常のフィルター等と比較して圧力損失が小さい。した
がって、前記製造方法においては、前記範囲の平均粒径
を有する粒子の除去に必要なエネルギーが小さく、しか
も信頼性が高い。
通常のフィルター等と比較して圧力損失が小さい。した
がって、前記製造方法においては、前記範囲の平均粒径
を有する粒子の除去に必要なエネルギーが小さく、しか
も信頼性が高い。
【0014】請求項4に記載の発明は、平版印刷版用支
持体の研磨面に研磨材スラリーを供給する研磨材スラリ
ー供給装置と、平版印刷版用支持体における前記研磨材
スラリーを供給した側の面を機械的に研磨する機械的研
磨装置と、前記機械的研磨工程において発生した研磨材
スラリー廃液を回収し、前記研磨材スラリー廃液から、
平均粒径が、前記研磨材スラリー供給工程において供給
される研磨材スラリーに含まれる研磨材粒子の平均粒径
の1/3〜1/10である粒子を除去し、残りを前記研
磨材スラリー供給工程に戻す研磨材スラリー廃液回収装
置とを有することを特徴とする平版印刷版用支持体の製
造装置である。
持体の研磨面に研磨材スラリーを供給する研磨材スラリ
ー供給装置と、平版印刷版用支持体における前記研磨材
スラリーを供給した側の面を機械的に研磨する機械的研
磨装置と、前記機械的研磨工程において発生した研磨材
スラリー廃液を回収し、前記研磨材スラリー廃液から、
平均粒径が、前記研磨材スラリー供給工程において供給
される研磨材スラリーに含まれる研磨材粒子の平均粒径
の1/3〜1/10である粒子を除去し、残りを前記研
磨材スラリー供給工程に戻す研磨材スラリー廃液回収装
置とを有することを特徴とする平版印刷版用支持体の製
造装置である。
【0015】前記製造装置においては、請求項1に記載
の製造方法を特に好適に実施できる。
の製造方法を特に好適に実施できる。
【0016】
【発明の実施の形態】1.第1実施形態 本発明に係る平版印刷版用支持体の製造装置の一例を図
1に示す。
1に示す。
【0017】図1に示すように、前記製造装置は、一定
の方向aに沿って搬送されるアルミニウムウェブWの表
面に研磨材スラリーを供給しつつ、回転ブラシによる研
磨処理、即ちブラシグレイン処理を施すブラシグレイン
処理装置2と、ブラシグレイン処理装置2でブラシグレ
イン処理されたアルミニウムウェブWを水洗する水洗装
置4と、前記ブラシグレイン処理装置2において発生し
た研磨材スラリー廃液を回収し、小径粒子を分離した後
にブラシグレイン処理装置2に戻す研磨材スラリー廃液
回収装置6とを備える。
の方向aに沿って搬送されるアルミニウムウェブWの表
面に研磨材スラリーを供給しつつ、回転ブラシによる研
磨処理、即ちブラシグレイン処理を施すブラシグレイン
処理装置2と、ブラシグレイン処理装置2でブラシグレ
イン処理されたアルミニウムウェブWを水洗する水洗装
置4と、前記ブラシグレイン処理装置2において発生し
た研磨材スラリー廃液を回収し、小径粒子を分離した後
にブラシグレイン処理装置2に戻す研磨材スラリー廃液
回収装置6とを備える。
【0018】ブラシグレイン処理装置2は、図1に示す
ように、アルミニウムウェブWの表面を研磨する回転ブ
ラシ8と、回転ブラシ8よりも搬送方向aに対して下流
側に設けられ、同様にアルミニウムウェブWの表面を研
磨する回転ブラシ10と、アルミニウムウェブWが搬送
される経路である搬送面Tを挟んで回転ブラシ8及び1
0の反対側に設けられ、前記アルミニウムウェブWを下
方から支持する支持ローラ12A、12B、14A、及
び14Bと、回転ブラシ8、10、及び支持ローラ12
A、12B、14A、14Bを収容し、上面に開口16
Aを有する筐体16とを備える。以下、搬送方向aに対
して下流側を「下流側」といい、搬送方向aに対して上
流側を「上流側」という。アルミニウムウェブWは、本
発明における平版印刷版用支持体の一例であり、回転ブ
ラシ8、10、及び支持ローラ12A、12B、14
A、14Bは、本発明に係る平版印刷版用支持体の製造
装置における機械的研磨装置に相当する。
ように、アルミニウムウェブWの表面を研磨する回転ブ
ラシ8と、回転ブラシ8よりも搬送方向aに対して下流
側に設けられ、同様にアルミニウムウェブWの表面を研
磨する回転ブラシ10と、アルミニウムウェブWが搬送
される経路である搬送面Tを挟んで回転ブラシ8及び1
0の反対側に設けられ、前記アルミニウムウェブWを下
方から支持する支持ローラ12A、12B、14A、及
び14Bと、回転ブラシ8、10、及び支持ローラ12
A、12B、14A、14Bを収容し、上面に開口16
Aを有する筐体16とを備える。以下、搬送方向aに対
して下流側を「下流側」といい、搬送方向aに対して上
流側を「上流側」という。アルミニウムウェブWは、本
発明における平版印刷版用支持体の一例であり、回転ブ
ラシ8、10、及び支持ローラ12A、12B、14
A、14Bは、本発明に係る平版印刷版用支持体の製造
装置における機械的研磨装置に相当する。
【0019】回転ブラシ8及び10は、搬送面Tに対し
て平行であり、前記搬送面Tの幅方向に延在する回転軸
8C及び10Cと、回転軸8C及び10Cを中心として
回転する円柱形の胴8B及び10Bと、胴8B及び10
Bのそれぞれの側面に植設されたブラシ毛8A及び10
Aとを有している。ブラシ毛8A及び10Aは、直径が
0.15〜1.35mmであることが好ましく、長さが
20〜100mmの範囲であることが好ましい。そし
て、胴8B及び10Bに、30〜5,000本/cm2
の植毛密度で植設されていることが好ましい。ブラシ毛
8A及び10Aとしては、ナイロン、プロピレン、及び
塩化ビニル樹脂等の合成樹脂からなる合成樹脂毛などが
挙げられる。
て平行であり、前記搬送面Tの幅方向に延在する回転軸
8C及び10Cと、回転軸8C及び10Cを中心として
回転する円柱形の胴8B及び10Bと、胴8B及び10
Bのそれぞれの側面に植設されたブラシ毛8A及び10
Aとを有している。ブラシ毛8A及び10Aは、直径が
0.15〜1.35mmであることが好ましく、長さが
20〜100mmの範囲であることが好ましい。そし
て、胴8B及び10Bに、30〜5,000本/cm2
の植毛密度で植設されていることが好ましい。ブラシ毛
8A及び10Aとしては、ナイロン、プロピレン、及び
塩化ビニル樹脂等の合成樹脂からなる合成樹脂毛などが
挙げられる。
【0020】回転ブラシ8及び10は、外周部の一部
が、搬送面Tよりも下方に位置するように配設され、図
1において矢印b及びcで示すように、適宜の回転手段
により、アルミニウムウェブWの研磨面において、搬送
方向aと同方向に回転する。
が、搬送面Tよりも下方に位置するように配設され、図
1において矢印b及びcで示すように、適宜の回転手段
により、アルミニウムウェブWの研磨面において、搬送
方向aと同方向に回転する。
【0021】支持ローラ12Aは、回転ブラシ8よりも
上流側に設けられ、支持ローラ12Bは、回転ブラシ8
よりも下流側に設けられている。同様に、支持ローラ1
4Aは、回転ブラシ10よりも上流側に設けられ、支持
ローラ14Bは、回転ブラシ10よりも下流側に設けら
れている。
上流側に設けられ、支持ローラ12Bは、回転ブラシ8
よりも下流側に設けられている。同様に、支持ローラ1
4Aは、回転ブラシ10よりも上流側に設けられ、支持
ローラ14Bは、回転ブラシ10よりも下流側に設けら
れている。
【0022】回転ブラシ8及び10の近傍には、それぞ
れ、図1に示すように、搬送面Tの上方から回転ブラシ
8とアルミニウムウェブWとの間に向かって研磨材スラ
リーを噴射する第1研磨材スプレー18、及び回転ブラ
シ10とアルミニウムウェブWとの間に向かって研磨材
スラリーを噴射する第2研磨材スプレー20が設けられ
ている。
れ、図1に示すように、搬送面Tの上方から回転ブラシ
8とアルミニウムウェブWとの間に向かって研磨材スラ
リーを噴射する第1研磨材スプレー18、及び回転ブラ
シ10とアルミニウムウェブWとの間に向かって研磨材
スラリーを噴射する第2研磨材スプレー20が設けられ
ている。
【0023】第1研磨材スプレー18及び第2研磨材ス
プレー20の何れも、管状の形態を有し、搬送面Tの幅
方向に沿って搬送面Tに対して平行に延在する。そし
て、長手方向に沿って多数の噴射孔18A及び20Aが
それぞれ一列に穿設されている。噴射孔18A及び20
Aの何れも、下流側に向かって、斜め下方、言い換えれ
ば図1における右下方に向かって研磨材スラリーをスプ
レーするように穿設されている。第1研磨材スプレー1
8及び第2研磨材スプレー20の何れも、研磨材スラリ
ーを供給する研磨材スラリー供給管路22に一端が接続
され、他端が閉塞されている。第1研磨材スプレー1
8、第2研磨材スプレー20、及び研磨材スラリー供給
管路22は、本発明に係る平版印刷版用支持体の製造装
置における研磨材スラリー供給装置に相当する。
プレー20の何れも、管状の形態を有し、搬送面Tの幅
方向に沿って搬送面Tに対して平行に延在する。そし
て、長手方向に沿って多数の噴射孔18A及び20Aが
それぞれ一列に穿設されている。噴射孔18A及び20
Aの何れも、下流側に向かって、斜め下方、言い換えれ
ば図1における右下方に向かって研磨材スラリーをスプ
レーするように穿設されている。第1研磨材スプレー1
8及び第2研磨材スプレー20の何れも、研磨材スラリ
ーを供給する研磨材スラリー供給管路22に一端が接続
され、他端が閉塞されている。第1研磨材スプレー1
8、第2研磨材スプレー20、及び研磨材スラリー供給
管路22は、本発明に係る平版印刷版用支持体の製造装
置における研磨材スラリー供給装置に相当する。
【0024】筐体16の内部における最も下流側には、
図1に示すように、搬送面Tの上方に設けられ、アルミ
ニウムウェブWの表面に洗浄水をスプレーする予備水洗
スプレー24と、搬送面Tの下方に設けられ、アルミニ
ウムウェブWの裏面に洗浄水をスプレーする予備水洗ス
プレー26と、予備水洗スプレー24及び26からスプ
レーされた水をアルミニウムウェブWの表面及び裏面か
ら絞り取る一対の水絞りローラ28A及び28Bとが配
設されている。
図1に示すように、搬送面Tの上方に設けられ、アルミ
ニウムウェブWの表面に洗浄水をスプレーする予備水洗
スプレー24と、搬送面Tの下方に設けられ、アルミニ
ウムウェブWの裏面に洗浄水をスプレーする予備水洗ス
プレー26と、予備水洗スプレー24及び26からスプ
レーされた水をアルミニウムウェブWの表面及び裏面か
ら絞り取る一対の水絞りローラ28A及び28Bとが配
設されている。
【0025】予備水洗スプレー24及び26の何れも、
管状に形成され、搬送面Tに対して平行に、しかも搬送
面Tの幅方向に延在し、長手方向に沿って多数の洗浄水
噴射孔24A及び26Aが穿設されている。洗浄水噴射
孔24A及び26Aの何れも、図1に示すように、搬送
面Tに向かって洗浄水をスプレーするように穿設されて
いる。予備水洗スプレー24及び26の一端は、それぞ
れ給水管路24B及び26Bに接続されている。予備水
洗スプレー24における洗浄水の噴射量は、アルミニウ
ムウェブWの幅1m当たり5〜50リットル/分の範囲
が好ましく、特に10〜50リットル/分の範囲が好ま
しい。一方、予備水洗スプレー26における洗浄水の噴
射量は、アルミニウムウェブWの幅1m当たり5〜50
リットル/分の範囲が好ましく、特に10〜35リット
ル/分の範囲が好ましい。
管状に形成され、搬送面Tに対して平行に、しかも搬送
面Tの幅方向に延在し、長手方向に沿って多数の洗浄水
噴射孔24A及び26Aが穿設されている。洗浄水噴射
孔24A及び26Aの何れも、図1に示すように、搬送
面Tに向かって洗浄水をスプレーするように穿設されて
いる。予備水洗スプレー24及び26の一端は、それぞ
れ給水管路24B及び26Bに接続されている。予備水
洗スプレー24における洗浄水の噴射量は、アルミニウ
ムウェブWの幅1m当たり5〜50リットル/分の範囲
が好ましく、特に10〜50リットル/分の範囲が好ま
しい。一方、予備水洗スプレー26における洗浄水の噴
射量は、アルミニウムウェブWの幅1m当たり5〜50
リットル/分の範囲が好ましく、特に10〜35リット
ル/分の範囲が好ましい。
【0026】予備水洗部2Cにおける洗浄水の噴射量が
前記範囲内であれば、アルミニウムウェブWに付着した
研磨材スラリーを十分に洗い流せるから、水洗装置4へ
の研磨材の持ち出しを少なくできる。又、洗い流された
研磨材スラリーが洗浄水により希釈される度合いが少な
いから、研磨材スラリー廃液回収装置6において研磨材
スラリーを回収することによる研磨材スラリー中の研磨
材粒子濃度の変動を少なくできる。
前記範囲内であれば、アルミニウムウェブWに付着した
研磨材スラリーを十分に洗い流せるから、水洗装置4へ
の研磨材の持ち出しを少なくできる。又、洗い流された
研磨材スラリーが洗浄水により希釈される度合いが少な
いから、研磨材スラリー廃液回収装置6において研磨材
スラリーを回収することによる研磨材スラリー中の研磨
材粒子濃度の変動を少なくできる。
【0027】水絞りローラ28A及び28Bは、図1に
示すように、予備水洗スプレー24及び26よりも下流
側に位置し、それぞれアルミニウムウェブWの上面及び
下面に当接しつつ回転するように、回転自在に設けられ
ている。
示すように、予備水洗スプレー24及び26よりも下流
側に位置し、それぞれアルミニウムウェブWの上面及び
下面に当接しつつ回転するように、回転自在に設けられ
ている。
【0028】筐体16の内部における最も上流側には、
図1に示すように、筐体16に向かって搬送されたアル
ミニウムウェブWを、開口部16Aから回転ブラシ8と
支持ローラ12A及び12Bとの間に案内する上流側案
内ローラ30A及び30Bが設けられている。一方、筐
体16の内部における最も下流側には、水絞りローラ2
8A及び28Bの間を通過したアルミニウムウェブWを
筐体16の外部に案内する下流側案内ローラ32A及び
32Bが設けられている。
図1に示すように、筐体16に向かって搬送されたアル
ミニウムウェブWを、開口部16Aから回転ブラシ8と
支持ローラ12A及び12Bとの間に案内する上流側案
内ローラ30A及び30Bが設けられている。一方、筐
体16の内部における最も下流側には、水絞りローラ2
8A及び28Bの間を通過したアルミニウムウェブWを
筐体16の外部に案内する下流側案内ローラ32A及び
32Bが設けられている。
【0029】水洗装置4は、図1に示すように、筐体1
6よりも下流側に設けられている。水洗装置4は、上面
が開口し、アルミニウムウェブWが通過する筐体34
と、アルミニウムウェブWを筐体34の開口34Aから
内部に案内する上流側案内ローラ36と、筐体34の底
面近傍に設けられ、上流側案内ローラ36によって筐体
34の内部に案内されたアルミニウムウェブWを開口3
4Aに向かって斜め上方に案内する折り返しローラ38
と、筐体34内部を通過したアルミニウムウェブを水洗
装置4の下流に向かって案内する下流側案内ローラ40
と、筐体34内部を通過するアルミニウムウェブWの両
面に洗浄水を噴射する管状のスプレーである水洗スプレ
ー42とを備える。
6よりも下流側に設けられている。水洗装置4は、上面
が開口し、アルミニウムウェブWが通過する筐体34
と、アルミニウムウェブWを筐体34の開口34Aから
内部に案内する上流側案内ローラ36と、筐体34の底
面近傍に設けられ、上流側案内ローラ36によって筐体
34の内部に案内されたアルミニウムウェブWを開口3
4Aに向かって斜め上方に案内する折り返しローラ38
と、筐体34内部を通過したアルミニウムウェブを水洗
装置4の下流に向かって案内する下流側案内ローラ40
と、筐体34内部を通過するアルミニウムウェブWの両
面に洗浄水を噴射する管状のスプレーである水洗スプレ
ー42とを備える。
【0030】水洗スプレー42は、図1に示すように、
筐体34の内部におけるアルミニウムウェブWの搬送経
路に対して平行に配設されている。そして、アルミニウ
ムウェブWに洗浄水を噴射する洗浄水噴射孔42Aが、
長手方向に沿って一列に多数穿設されている。水洗スプ
レー42における洗浄水の流量は、通常、アルミニウム
ウェブWの幅1m当たり300〜5000リットル/分
であるが、前記範囲には限定されない。
筐体34の内部におけるアルミニウムウェブWの搬送経
路に対して平行に配設されている。そして、アルミニウ
ムウェブWに洗浄水を噴射する洗浄水噴射孔42Aが、
長手方向に沿って一列に多数穿設されている。水洗スプ
レー42における洗浄水の流量は、通常、アルミニウム
ウェブWの幅1m当たり300〜5000リットル/分
であるが、前記範囲には限定されない。
【0031】尚、筐体34の底部には、水洗工程で生じ
た廃水を排出する廃水ライン46が設けられている。前
記廃水ライン46には、前記廃水中の固形分を沈殿させ
て除去するピット(図示せず。)が設けられている。
た廃水を排出する廃水ライン46が設けられている。前
記廃水ライン46には、前記廃水中の固形分を沈殿させ
て除去するピット(図示せず。)が設けられている。
【0032】研磨材スラリー廃液回収装置6は、図1に
示すように、筐体16の下方に位置し、研磨材スラリー
が貯留されているスラリー循環タンク50と、筐体16
の底部とスラリー循環タンク50とを連通し、ブラシグ
レイン処理装置2において供給された研磨材スラリー、
及び予備水洗スプレー24及び26から噴射された洗浄
水により洗い流された研磨材スラリーなどの研磨材スラ
リー廃液をスラリー循環タンク50に導く管路52と、
直列に配列され、スラリー循環タンク50内の研磨材ス
ラリーから、前記研磨材スラリーに含まれる研磨材粒子
よりも小さな平均粒径を有する粒子(以下、「小径粒
子」という。)を除去するサイクロン54A及び54B
と、サイクロン54A及び54Bによって小径粒子が除
去された研磨材スラリーをスラリー循環タンク50に戻
すスラリー戻し管路58と、スラリー循環タンク50中
の研磨材スラリーを第1研磨材スプレー18及び第2研
磨材スプレー20に供給する研磨材スラリー供給管路2
2とを備えている。
示すように、筐体16の下方に位置し、研磨材スラリー
が貯留されているスラリー循環タンク50と、筐体16
の底部とスラリー循環タンク50とを連通し、ブラシグ
レイン処理装置2において供給された研磨材スラリー、
及び予備水洗スプレー24及び26から噴射された洗浄
水により洗い流された研磨材スラリーなどの研磨材スラ
リー廃液をスラリー循環タンク50に導く管路52と、
直列に配列され、スラリー循環タンク50内の研磨材ス
ラリーから、前記研磨材スラリーに含まれる研磨材粒子
よりも小さな平均粒径を有する粒子(以下、「小径粒
子」という。)を除去するサイクロン54A及び54B
と、サイクロン54A及び54Bによって小径粒子が除
去された研磨材スラリーをスラリー循環タンク50に戻
すスラリー戻し管路58と、スラリー循環タンク50中
の研磨材スラリーを第1研磨材スプレー18及び第2研
磨材スプレー20に供給する研磨材スラリー供給管路2
2とを備えている。
【0033】研磨材スラリー供給管路22の一端は、ス
ラリー循環タンク50の底部近傍に設けられ、途中に
は、第1研磨材スプレー及び代2研磨材スプレーに向か
って研磨材スラリーを送出するポンプ22Aが介装され
ている。
ラリー循環タンク50の底部近傍に設けられ、途中に
は、第1研磨材スプレー及び代2研磨材スプレーに向か
って研磨材スラリーを送出するポンプ22Aが介装され
ている。
【0034】サイクロン54Aは、下方に向かって直径
の縮小する略円錐形状に形成されたサイクロン本体54
Cと、サイクロン本体54Cの側面における上面近傍部
から接線方向に向かって延在し、スラリー循環タンク5
0からの研磨材スラリーが導入されるスラリー導入管5
4Eと、サイクロン本体54Cの下端部に設けられ、サ
イクロン54Aにおいて小径粒子が除去された研磨材ス
ラリーが導出されるスラリー導出管54Gと、サイクロ
ン本体54Cの上面における中央部から上方に向かって
延在し、サイクロン54Aで分級された小径粒子のスラ
リーが排出される小径粒子スラリー排出管54iとを備
える。
の縮小する略円錐形状に形成されたサイクロン本体54
Cと、サイクロン本体54Cの側面における上面近傍部
から接線方向に向かって延在し、スラリー循環タンク5
0からの研磨材スラリーが導入されるスラリー導入管5
4Eと、サイクロン本体54Cの下端部に設けられ、サ
イクロン54Aにおいて小径粒子が除去された研磨材ス
ラリーが導出されるスラリー導出管54Gと、サイクロ
ン本体54Cの上面における中央部から上方に向かって
延在し、サイクロン54Aで分級された小径粒子のスラ
リーが排出される小径粒子スラリー排出管54iとを備
える。
【0035】サイクロン54Bは、サイクロン54Aに
おけるサイクロン本体54Cと同様に形成されたサイク
ロン本体54Dと、スラリー導入管54Eと同様に形成
され、サイクロン54Aにおけるスラリー導出管54i
から導出された研磨材スラリーが導入されるスラリー導
入管54Fと、回収スラリー導出管54Gと同様に、サ
イクロン本体54Dの下端部に設けられ、サイクロン5
4Bにおいて小径粒子が除去された回収スラリーが導出
される回収スラリー導出管54Hと、小径粒子スラリー
排出管54iと同様に、サイクロン本体54Dの上面に
設けられ、サイクロン54Bで分級された小径粒子のス
ラリーが排出される小径粒子スラリー排出管54Jとを
備える。
おけるサイクロン本体54Cと同様に形成されたサイク
ロン本体54Dと、スラリー導入管54Eと同様に形成
され、サイクロン54Aにおけるスラリー導出管54i
から導出された研磨材スラリーが導入されるスラリー導
入管54Fと、回収スラリー導出管54Gと同様に、サ
イクロン本体54Dの下端部に設けられ、サイクロン5
4Bにおいて小径粒子が除去された回収スラリーが導出
される回収スラリー導出管54Hと、小径粒子スラリー
排出管54iと同様に、サイクロン本体54Dの上面に
設けられ、サイクロン54Bで分級された小径粒子のス
ラリーが排出される小径粒子スラリー排出管54Jとを
備える。
【0036】サイクロン本体54C及び54Dの内壁に
は、耐磨耗性ゴム、ポリウレタン樹脂、セラミックス等
の耐磨耗性材料の内張りを施すか、又はクロームメッキ
等の耐磨耗性メッキを施すことが好ましい。
は、耐磨耗性ゴム、ポリウレタン樹脂、セラミックス等
の耐磨耗性材料の内張りを施すか、又はクロームメッキ
等の耐磨耗性メッキを施すことが好ましい。
【0037】サイクロン54Aにおけるスラリー導入管
54Eは、スラリー循環タンク50の底部近傍に、スラ
リー導入管路56によって連通されている。スラリー導
入管路56には、スラリー循環タンク50内の研磨材ス
ラリーをスラリー導入管54Eに送出するポンプ56A
が介装され、更に、スラリー循環タンク50とポンプ5
6Aとの間にオーバーフロータンク56Bが介装されて
いる。
54Eは、スラリー循環タンク50の底部近傍に、スラ
リー導入管路56によって連通されている。スラリー導
入管路56には、スラリー循環タンク50内の研磨材ス
ラリーをスラリー導入管54Eに送出するポンプ56A
が介装され、更に、スラリー循環タンク50とポンプ5
6Aとの間にオーバーフロータンク56Bが介装されて
いる。
【0038】サイクロン54Aにおける回収スラリー導
出管54G及びサイクロンBにおける回収スラリー導出
管54Hは、それぞれスラリー戻し管路58a及びスラ
リー戻し管路58bを介してスラリー循環タンク50に
連通している。
出管54G及びサイクロンBにおける回収スラリー導出
管54Hは、それぞれスラリー戻し管路58a及びスラ
リー戻し管路58bを介してスラリー循環タンク50に
連通している。
【0039】スラリー循環タンク50には、更に研磨材
を補充する研磨材補充管路62と、水を補充する水補充
管路64とが設けられている。
を補充する研磨材補充管路62と、水を補充する水補充
管路64とが設けられている。
【0040】サイクロン54Aにおける小径粒子スラリ
ー排出管54iは、サイクロン54Bにおけるスラリー
導入管54Fに接続され、サイクロンBにおける小径粒
子スラリー排出管54Jは、廃水ライン60に接続され
ている。
ー排出管54iは、サイクロン54Bにおけるスラリー
導入管54Fに接続され、サイクロンBにおける小径粒
子スラリー排出管54Jは、廃水ライン60に接続され
ている。
【0041】図1に示された製造装置の作用について以
下に説明する。
下に説明する。
【0042】アルミニウムウェブWは、搬送装置(図示
せず。)により、矢印aの方向に搬送され、上流側案内
ローラ30A及び30Bにより、ブラシグレイン処理装
置2の内部に案内される。
せず。)により、矢印aの方向に搬送され、上流側案内
ローラ30A及び30Bにより、ブラシグレイン処理装
置2の内部に案内される。
【0043】ブラシグレイン処理装置2の内部に案内さ
れたアルミニウムウェブWの表面に、スラリー循環層5
0内の研磨材スラリーが、第1研磨材スプレー18から
供給される。
れたアルミニウムウェブWの表面に、スラリー循環層5
0内の研磨材スラリーが、第1研磨材スプレー18から
供給される。
【0044】前記研磨材スラリー中の研磨材粒子の平均
粒径は、10〜70μmの範囲が好ましく、特に25〜
50μmの範囲が好ましい。研磨材粒子の平均粒径が前
記範囲内であれば、耐刷性及び印刷性能に特に優れたP
S版の支持体になる平版印刷版用支持体が得られる。
粒径は、10〜70μmの範囲が好ましく、特に25〜
50μmの範囲が好ましい。研磨材粒子の平均粒径が前
記範囲内であれば、耐刷性及び印刷性能に特に優れたP
S版の支持体になる平版印刷版用支持体が得られる。
【0045】前記研磨材粒子としては、粘土、タルク、
酸化鉄、酸化クロム、及び焼成アルミナ等の琢磨材、並
びにシリカ、ダイヤモンド、エメリー、スピネル、コラ
ンダム、カーボランダム、及び炭化硼素等の研削材、並
びにこれらの混合物などが挙げられる。前記研磨材粒子
は、シリカ(SiO2)を90重量%以上含有するもの
が好ましい。前記研磨材スラリー中の研磨材粒子の濃度
は、5〜40重量%の範囲が好ましい。
酸化鉄、酸化クロム、及び焼成アルミナ等の琢磨材、並
びにシリカ、ダイヤモンド、エメリー、スピネル、コラ
ンダム、カーボランダム、及び炭化硼素等の研削材、並
びにこれらの混合物などが挙げられる。前記研磨材粒子
は、シリカ(SiO2)を90重量%以上含有するもの
が好ましい。前記研磨材スラリー中の研磨材粒子の濃度
は、5〜40重量%の範囲が好ましい。
【0046】第1研磨材スプレー18から研磨材スラリ
ーが供給されたアルミニウムウェブWは、回転ブラシ8
と支持ローラ12A及び12Bとの間を通過し、回転ブ
ラシ8のブラシ毛8Aにより、表面が機械的研磨され
る。
ーが供給されたアルミニウムウェブWは、回転ブラシ8
と支持ローラ12A及び12Bとの間を通過し、回転ブ
ラシ8のブラシ毛8Aにより、表面が機械的研磨され
る。
【0047】回転ブラシ8により機械的研磨されたアル
ミニウムウェブWの表面に、第1研磨材スプレー18で
供給されたのと同様の研磨材スラリーが第2研磨材スプ
レー20から供給される。第2研磨材スプレー20から
研磨材スラリーが供給されたアルミニウムウェブWは、
回転ブラシ10と支持ローラ14A及び14Bとの間を
通過し、回転ブラシ10のブラシ毛10Aにより、表面
が機械的研磨される。
ミニウムウェブWの表面に、第1研磨材スプレー18で
供給されたのと同様の研磨材スラリーが第2研磨材スプ
レー20から供給される。第2研磨材スプレー20から
研磨材スラリーが供給されたアルミニウムウェブWは、
回転ブラシ10と支持ローラ14A及び14Bとの間を
通過し、回転ブラシ10のブラシ毛10Aにより、表面
が機械的研磨される。
【0048】回転ブラシ8及び10で表面を研磨された
アルミニウムウェブWは、次ぎに予備水洗スプレー24
と予備水洗スプレー26との間を通過し、予備水洗スプ
レー24及び26からアルミニウムウェブWの表側に噴
射された洗浄水により、前記機械的研磨においてアルミ
ニウムウェブWの表面及び裏面に付着した研磨材スラリ
ーの大部分が洗い流される。
アルミニウムウェブWは、次ぎに予備水洗スプレー24
と予備水洗スプレー26との間を通過し、予備水洗スプ
レー24及び26からアルミニウムウェブWの表側に噴
射された洗浄水により、前記機械的研磨においてアルミ
ニウムウェブWの表面及び裏面に付着した研磨材スラリ
ーの大部分が洗い流される。
【0049】アルミニウムウェブWは、次ぎに水絞りロ
ール28A及び28Bの間を通過し、表面及び裏面に付
着した水滴などが搾り取られる。
ール28A及び28Bの間を通過し、表面及び裏面に付
着した水滴などが搾り取られる。
【0050】水絞りロール28A及び28Bの間を通過
したアルミニウムウェブWは、下流側案内ローラ32A
及び32Bにより、筐体16の外部に案内され、次い
で、上流側案内ローラ36により、水洗装置4における
筐体34の内部に案内され、水洗スプレー42から表面
及び裏面に向かって洗浄水が噴射される。これによっ
て、本発明の製造方法における水洗工程が行なわれる。
したアルミニウムウェブWは、下流側案内ローラ32A
及び32Bにより、筐体16の外部に案内され、次い
で、上流側案内ローラ36により、水洗装置4における
筐体34の内部に案内され、水洗スプレー42から表面
及び裏面に向かって洗浄水が噴射される。これによっ
て、本発明の製造方法における水洗工程が行なわれる。
【0051】水洗装置4で水洗されたアルミニウムウェ
ブWは、下流側案内ローラ40によって後工程、たとえ
ばエッチング工程を行なうエッチング装置(図示せ
ず。)に案内される。
ブWは、下流側案内ローラ40によって後工程、たとえ
ばエッチング工程を行なうエッチング装置(図示せ
ず。)に案内される。
【0052】第1研磨材スプレー18及び第2研磨材ス
プレー20から供給された研磨材スラリーと、予備水洗
スプレー24及び26からの洗浄水と、アルミニウムウ
ェブWの表面及び裏面から洗い流された研磨材スラリー
とを含む研磨材スラリー廃液は、筐体16の底部におい
て混ざり、管路52を通ってスラリー循環タンク50に
流下するから、スラリー循環タンク50中の研磨材スラ
リーには、研磨材スラリー廃液が混入する。
プレー20から供給された研磨材スラリーと、予備水洗
スプレー24及び26からの洗浄水と、アルミニウムウ
ェブWの表面及び裏面から洗い流された研磨材スラリー
とを含む研磨材スラリー廃液は、筐体16の底部におい
て混ざり、管路52を通ってスラリー循環タンク50に
流下するから、スラリー循環タンク50中の研磨材スラ
リーには、研磨材スラリー廃液が混入する。
【0053】前記研磨材スラリー廃液には、小径粒子と
して、ブラシグレイン処理装置2における機械的研磨で
粉砕されて粒径が小さくなった研磨材粒子である微粒化
研磨材粒子、及び前記研磨で生じた研磨屑などが含まれ
ているから、スラリー循環タンク50中の研磨材スラリ
ーにも前記小径粒子が混入する。
して、ブラシグレイン処理装置2における機械的研磨で
粉砕されて粒径が小さくなった研磨材粒子である微粒化
研磨材粒子、及び前記研磨で生じた研磨屑などが含まれ
ているから、スラリー循環タンク50中の研磨材スラリ
ーにも前記小径粒子が混入する。
【0054】スラリー循環タンク50中の研磨材スラリ
ーは、オーバーフロータンク56Bを経由し、ポンプ5
6Aによってスラリー導入管54Eからサイクロン54
A内部に導入される。
ーは、オーバーフロータンク56Bを経由し、ポンプ5
6Aによってスラリー導入管54Eからサイクロン54
A内部に導入される。
【0055】前述のように、スラリー導入管54Eは、
サイクロン本体54Aの接線方向に設けられているか
ら、サイクロン本体54Aの内部に導入された研磨材ス
ラリーには、サイクロン本体54Aの軸線の周りに回転
する流れが生じる。したがって前記研磨材スラリー中の
研磨材粒子などの大径粒子の大部分は、サイクロン本体
54Aの壁面に向かい、小径粒子の大部分は、サイクロ
ン本体54Aの中央部に集まる。これにより、前記研磨
材スラリーから大部分の小径粒子が除去される。大部分
の小径粒子が除去された研磨材スラリーは、スラリー導
出管54Gからスラリー戻し管路58aを通ってスラリ
ー循環タンク50に戻される。
サイクロン本体54Aの接線方向に設けられているか
ら、サイクロン本体54Aの内部に導入された研磨材ス
ラリーには、サイクロン本体54Aの軸線の周りに回転
する流れが生じる。したがって前記研磨材スラリー中の
研磨材粒子などの大径粒子の大部分は、サイクロン本体
54Aの壁面に向かい、小径粒子の大部分は、サイクロ
ン本体54Aの中央部に集まる。これにより、前記研磨
材スラリーから大部分の小径粒子が除去される。大部分
の小径粒子が除去された研磨材スラリーは、スラリー導
出管54Gからスラリー戻し管路58aを通ってスラリ
ー循環タンク50に戻される。
【0056】サイクロン54Aにおけるスラリー排出管
54iから排出されたスラリーは、サイクロン54Bの
スラリー導入管54Fに導入される。
54iから排出されたスラリーは、サイクロン54Bの
スラリー導入管54Fに導入される。
【0057】前記スラリーのうち、サイクロン54Bに
おいて小径粒子が除去された研磨材スラリーは、スラリ
ー導出管54Hからスラリー戻し管路58bを通ってス
ラリー循環タンク50に戻される。
おいて小径粒子が除去された研磨材スラリーは、スラリ
ー導出管54Hからスラリー戻し管路58bを通ってス
ラリー循環タンク50に戻される。
【0058】一方、サイクロン54Bで分離されたスラ
リー中の粒子は、殆どが小径粒子であり、スラリー排出
管54Jからスラリー排出管路60を通って系外に排出
される。
リー中の粒子は、殆どが小径粒子であり、スラリー排出
管54Jからスラリー排出管路60を通って系外に排出
される。
【0059】尚、研磨材循環タンク50内の研磨材スラ
リーにおける研磨材濃度及び研磨材の粒度分布が一定に
なるように、必要に応じて研磨材補充管路62及び水補
充管路64から研磨材循環タンク50に研磨材粒子及び
水を補充することができる。
リーにおける研磨材濃度及び研磨材の粒度分布が一定に
なるように、必要に応じて研磨材補充管路62及び水補
充管路64から研磨材循環タンク50に研磨材粒子及び
水を補充することができる。
【0060】サイクロン54Bにおいて分離される小径
粒子の平均粒径は、研磨材スラリーにおける研磨材粒子
の平均粒径の1/3〜1/10の範囲である。ここで、
研磨材スラリーにおける研磨材粒子の平均粒径は、たと
えばスラリー循環タンク50内の研磨材スラリーに含ま
れる研磨材スラリーの平均粒径である。前記研磨材スラ
リー中の研磨材粒子の平均粒径と前記小径粒子の平均粒
径との関係を図2に示す。図2に示すように、小径粒子
の粒径も、前記研磨材スラリー中の研磨材粒子と同様に
正規曲線に従って分布すると考えられる。そして、前記
研磨材スラリー中の研磨材粒子の平均粒径をdとする
と、小径粒子の平均粒径xは、d/3〜d/10の範囲
である。
粒子の平均粒径は、研磨材スラリーにおける研磨材粒子
の平均粒径の1/3〜1/10の範囲である。ここで、
研磨材スラリーにおける研磨材粒子の平均粒径は、たと
えばスラリー循環タンク50内の研磨材スラリーに含ま
れる研磨材スラリーの平均粒径である。前記研磨材スラ
リー中の研磨材粒子の平均粒径と前記小径粒子の平均粒
径との関係を図2に示す。図2に示すように、小径粒子
の粒径も、前記研磨材スラリー中の研磨材粒子と同様に
正規曲線に従って分布すると考えられる。そして、前記
研磨材スラリー中の研磨材粒子の平均粒径をdとする
と、小径粒子の平均粒径xは、d/3〜d/10の範囲
である。
【0061】小径粒子の粒径分布は、たとえば、スラリ
ー排出管54Jから排出された小径粒子スラリー中の粒
子の粒径分布を常法に従って測定することにより求める
ことができる。このような方法としては、篩い分け法、
沈降法、光散乱法、光回折法などが挙げられる。スラリ
ー循環タンク50内における研磨材スラリー中の研磨材
粒子の平均粒径も同様にして求めることができる。
ー排出管54Jから排出された小径粒子スラリー中の粒
子の粒径分布を常法に従って測定することにより求める
ことができる。このような方法としては、篩い分け法、
沈降法、光散乱法、光回折法などが挙げられる。スラリ
ー循環タンク50内における研磨材スラリー中の研磨材
粒子の平均粒径も同様にして求めることができる。
【0062】前記サイクロン54Bにおいて分離される
小径粒子の平均粒径が前記範囲であれば、研磨材スラリ
ーの消費量が少なくなるから経済的であり、しかも、研
磨材スラリー中の研磨材粒子の平均粒径が過大になるこ
とがないから、平版印刷版用支持体の表面粗さRaが過
大になることが防止できる。したがって、高い生産安定
性で平版印刷版用支持体を製造でき、しかも、前記平版
印刷版用支持体を支持体とするPS版は、耐刷性及び印
刷性能に優れている。
小径粒子の平均粒径が前記範囲であれば、研磨材スラリ
ーの消費量が少なくなるから経済的であり、しかも、研
磨材スラリー中の研磨材粒子の平均粒径が過大になるこ
とがないから、平版印刷版用支持体の表面粗さRaが過
大になることが防止できる。したがって、高い生産安定
性で平版印刷版用支持体を製造でき、しかも、前記平版
印刷版用支持体を支持体とするPS版は、耐刷性及び印
刷性能に優れている。
【0063】小径粒子の平均粒径が前記範囲内になるよ
うにするには、サイクロン54A及び54Bにおける研
磨材スラリーの導入流量及び導入圧力を調節してもよ
く、研磨材補充管路62から補充される研磨材の粒径分
布を調節することにより、スラリー循環タンク50内に
おける研磨材スラリー中の研磨材の平均粒径を調節して
もよい。
うにするには、サイクロン54A及び54Bにおける研
磨材スラリーの導入流量及び導入圧力を調節してもよ
く、研磨材補充管路62から補充される研磨材の粒径分
布を調節することにより、スラリー循環タンク50内に
おける研磨材スラリー中の研磨材の平均粒径を調節して
もよい。
【0064】前記平版印刷版用支持体の製造装置におい
ては、サイクロンが2台直列に配列されているが、サイ
クロンは1台のみであってもよく、3台以上が直列に配
列されていてもよい。又、2台以上が並列に配列されて
いてもよい。
ては、サイクロンが2台直列に配列されているが、サイ
クロンは1台のみであってもよく、3台以上が直列に配
列されていてもよい。又、2台以上が並列に配列されて
いてもよい。
【0065】前記製造装置においては、研磨材スラリー
廃液中の微粒子化研磨材粒子及び研磨屑などを、サイク
ロン54Bによって小径粒子スラリーとして除去し、残
りを回収し、研磨材スラリーとして再利用しているか
ら、研磨材スラリーの消費量を削減できる。しかも、研
磨材スラリー中の研磨材粒子の濃度及び粒径分布を、長
時間に亘り一定に保持できるから、耐刷性及び印刷性能
に優れたPS版の支持体になる平版印刷版用支持体を、
高い生産安定性を以って製造できる。
廃液中の微粒子化研磨材粒子及び研磨屑などを、サイク
ロン54Bによって小径粒子スラリーとして除去し、残
りを回収し、研磨材スラリーとして再利用しているか
ら、研磨材スラリーの消費量を削減できる。しかも、研
磨材スラリー中の研磨材粒子の濃度及び粒径分布を、長
時間に亘り一定に保持できるから、耐刷性及び印刷性能
に優れたPS版の支持体になる平版印刷版用支持体を、
高い生産安定性を以って製造できる。
【0066】更に、サイクロン54A及び54Bの何れ
も可動部を有しないから、研磨材スラリー廃液回収装置
6は、構造が単純であり、しかも故障が少ないという特
長を有する。
も可動部を有しないから、研磨材スラリー廃液回収装置
6は、構造が単純であり、しかも故障が少ないという特
長を有する。
【0067】
【実施例】以下、本発明について、実施例を用いて具体
的に説明する。 (実施例1、2、比較例1、2) 1.平版印刷版用支持体の作製 1−1 粗面化処理 A.機械的研磨 アルミニウムウェブW(厚さ0.3mm)における一方
の面を、図1に示す製造装置を用いて機械的研磨を行な
った。ブラシグレイン装置2におけるローラ状ブラシ8
及び10としてナイロンブラシ8号を用いた。前記ナイ
ロンブラシ8号は、外径が600mmであり、ブラシ毛
の直径が0.5mmであり、長さが50mmであり、植
毛密度が400本/cm2であった。研磨圧力は0.5
A/100mmであり、ローラ状ブラシの周速は、47
0m/分であった。そして、サイクロン54A及び54
Bとしては、MD−II型サイクロン(大機エンジニア
リング株式会社製) を用いた。
的に説明する。 (実施例1、2、比較例1、2) 1.平版印刷版用支持体の作製 1−1 粗面化処理 A.機械的研磨 アルミニウムウェブW(厚さ0.3mm)における一方
の面を、図1に示す製造装置を用いて機械的研磨を行な
った。ブラシグレイン装置2におけるローラ状ブラシ8
及び10としてナイロンブラシ8号を用いた。前記ナイ
ロンブラシ8号は、外径が600mmであり、ブラシ毛
の直径が0.5mmであり、長さが50mmであり、植
毛密度が400本/cm2であった。研磨圧力は0.5
A/100mmであり、ローラ状ブラシの周速は、47
0m/分であった。そして、サイクロン54A及び54
Bとしては、MD−II型サイクロン(大機エンジニア
リング株式会社製) を用いた。
【0068】前記研磨材粒子を400g/リットルの割
合で水で懸濁させた研磨材スラリーを、第1研磨材スプ
レー18及び第2研磨材スプレー20から、それぞれ2
00リットル/分の割合でアルミニウムウェブWの研磨
面上に供給した。アルミニウムウェブWの搬送速度は5
0m/分であった。スラリー循環タンク50中の研磨材
スラリーに含まれる研磨材粒子の平均粒径は、(株)堀
場製作所製LA−910レーザ回折/散乱式粒度分布測
定装置を用いて測定した。
合で水で懸濁させた研磨材スラリーを、第1研磨材スプ
レー18及び第2研磨材スプレー20から、それぞれ2
00リットル/分の割合でアルミニウムウェブWの研磨
面上に供給した。アルミニウムウェブWの搬送速度は5
0m/分であった。スラリー循環タンク50中の研磨材
スラリーに含まれる研磨材粒子の平均粒径は、(株)堀
場製作所製LA−910レーザ回折/散乱式粒度分布測
定装置を用いて測定した。
【0069】又、小径粒子の平均粒径については、前記
製造装置の備える廃水ライン60から系外に排出される
小径スラリーに含まれる粒子の平均粒径を、前記研磨材
スラリーに含まれる研磨材粒子の平均粒径と同様にして
測定した。
製造装置の備える廃水ライン60から系外に排出される
小径スラリーに含まれる粒子の平均粒径を、前記研磨材
スラリーに含まれる研磨材粒子の平均粒径と同様にして
測定した。
【0070】尚、前記スラリー循環タンク50中の研磨
材スラリーの濃度及び平均粒径が一定になるように、前
記スラリー循環タンク50に研磨材スラリーを補充し、
前記研磨材スラリーの補充量に基づいて、◎、○、△、
及び×の4段階で評価した。
材スラリーの濃度及び平均粒径が一定になるように、前
記スラリー循環タンク50に研磨材スラリーを補充し、
前記研磨材スラリーの補充量に基づいて、◎、○、△、
及び×の4段階で評価した。
【0071】結果を表1に示す。
【0072】B.エッチング処理 機械的研磨を施したアルミニウムウェブWを、前記送り
速度で、液温60℃、濃度10重量%の苛性ソーダ溶液
が貯留された連続式エッチング槽を通過させ、エッチン
グ量が10g/m2になるようにエッチング処理した。
速度で、液温60℃、濃度10重量%の苛性ソーダ溶液
が貯留された連続式エッチング槽を通過させ、エッチン
グ量が10g/m2になるようにエッチング処理した。
【0073】エッチング処理後のアルミニウムウェブW
を、水槽に通して水洗し、更に濃度30重量%、液温6
0℃の硫酸水溶液が貯留された連続式デスマット処理槽
に通過させて第1回目のデスマット処理を行った。
を、水槽に通して水洗し、更に濃度30重量%、液温6
0℃の硫酸水溶液が貯留された連続式デスマット処理槽
に通過させて第1回目のデスマット処理を行った。
【0074】C.電解粗面化処理 液温40℃、濃度2重量%の希硝酸を酸性電解液として
使用し、デスマット処理後のアルミニウムウェブWを連
続的に通過させつつ、周波数60Hz、電流密度20A
/dm2、陽極電気量200クーロン/cm2の交流を印
加して交流電解し、電解粗面化処理を行った。
使用し、デスマット処理後のアルミニウムウェブWを連
続的に通過させつつ、周波数60Hz、電流密度20A
/dm2、陽極電気量200クーロン/cm2の交流を印
加して交流電解し、電解粗面化処理を行った。
【0075】電解粗面化処理を行ったアルミニウムウェ
ブWを、液温35℃、濃度10重量%の苛性ソーダ溶液
中に、エッチング量が1.5g/m2になるように連続
的に通過させて第2回目のエッチング処理を行った。第
2回目のエッチング処理を行なったアルミニウムウェブ
Wを水洗し、液温60℃、濃度30重量%の希硫酸中
を、連続的に通過させて第2回目のデスマット処理を施
した。
ブWを、液温35℃、濃度10重量%の苛性ソーダ溶液
中に、エッチング量が1.5g/m2になるように連続
的に通過させて第2回目のエッチング処理を行った。第
2回目のエッチング処理を行なったアルミニウムウェブ
Wを水洗し、液温60℃、濃度30重量%の希硫酸中
を、連続的に通過させて第2回目のデスマット処理を施
した。
【0076】1−2 陽極酸化処理 粗面化処理後のアルミニウムウェブWを、液温30℃、
濃度10重量%の希硫酸の溶液中に連続的に浸漬し、陽
極酸化皮膜量が2g/m2になるように陽極酸化処理を
行って平版印刷版用支持体を作製した。
濃度10重量%の希硫酸の溶液中に連続的に浸漬し、陽
極酸化皮膜量が2g/m2になるように陽極酸化処理を
行って平版印刷版用支持体を作製した。
【0077】2.PS版の作製 前記平版印刷版用支持体を、濃度が2.5重量%であ
り、液温が70℃である珪酸ソーダ溶液に14秒間浸漬
して表面を親水化した。
り、液温が70℃である珪酸ソーダ溶液に14秒間浸漬
して表面を親水化した。
【0078】ついで、前記平版印刷版用支持体に、下記
の組成、即ち N-(4-ヒト゛ロキシフェニル)メタクリルアミト゛/2-ヒト゛ロキシエチルメタクリレート/アクリロニトリル/メチルメタクリレート /メタクリル酸(モノマーユニットモル比=15:10:30:38:7)共重合体(平均分子量=60,000) …5.0g 4-シ゛アソ゛シ゛フェニルアミンとホルムアルテ゛ヒト゛との縮合物の六弗化燐酸塩 …0.5g 亜 燐 酸 …0.05g ビクトリアピュアブルーBOH(保土ヶ谷化学(株)製)…0.1g 2−メトキシエタノール …100.0g を有する感光性樹脂溶液をワイヤーバー法で2.0g/
m2になるように塗布し、100℃で1分間乾燥してP
S版を作製した。
の組成、即ち N-(4-ヒト゛ロキシフェニル)メタクリルアミト゛/2-ヒト゛ロキシエチルメタクリレート/アクリロニトリル/メチルメタクリレート /メタクリル酸(モノマーユニットモル比=15:10:30:38:7)共重合体(平均分子量=60,000) …5.0g 4-シ゛アソ゛シ゛フェニルアミンとホルムアルテ゛ヒト゛との縮合物の六弗化燐酸塩 …0.5g 亜 燐 酸 …0.05g ビクトリアピュアブルーBOH(保土ヶ谷化学(株)製)…0.1g 2−メトキシエタノール …100.0g を有する感光性樹脂溶液をワイヤーバー法で2.0g/
m2になるように塗布し、100℃で1分間乾燥してP
S版を作製した。
【0079】3.印刷特性の評価 テストパターンを焼き付けたフィルムを前記PS版に重
ね、1mmの距離から3kwのメタルハライドランプに
より50秒間照射して露光した。
ね、1mmの距離から3kwのメタルハライドランプに
より50秒間照射して露光した。
【0080】露光後のPS版を、下記の組成、即ち 亜硫酸ナトリウム … 5.0g ベンジルアルコール …30.0g 炭酸ナトリウム … 5.0gイソフ゜ロヒ゜ルナフタレンスルホン 酸ソータ゛ …12.0g 純水 …1000.0g を有する現像液を用いて現像してオフセット印刷用の刷
版を作製した。
版を作製した。
【0081】前記刷版を、オフセット印刷機に取り付
け、黒色インクを用いてテストパターンを印刷した。印
刷紙面を目視で観察し、印刷面に外観不良が生じるまで
の印刷枚数により、前記平版印刷版の耐刷性を評価し
た。又、前記オフセット印刷機におけるブランケットロ
ールを目視で観察し、ブラン汚れの大小を評価した。耐
刷性は、印刷枚数7万枚を100%とし、前記印刷枚数
に対するパーセンテージで評価した。ブラン汚れについ
ては、目視チェックにより、◎、○、△、及び×の4段
階で評価した。結果を表1に示す。
け、黒色インクを用いてテストパターンを印刷した。印
刷紙面を目視で観察し、印刷面に外観不良が生じるまで
の印刷枚数により、前記平版印刷版の耐刷性を評価し
た。又、前記オフセット印刷機におけるブランケットロ
ールを目視で観察し、ブラン汚れの大小を評価した。耐
刷性は、印刷枚数7万枚を100%とし、前記印刷枚数
に対するパーセンテージで評価した。ブラン汚れについ
ては、目視チェックにより、◎、○、△、及び×の4段
階で評価した。結果を表1に示す。
【0082】
【表1】
【0083】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
研磨材スラリーの消耗量が少なく、しかも所謂ブラン汚
れが生じることがなく、耐刷性に優れたPS版の支持体
になる平版印刷版用支持体を高い生産安定性を以って製
造できる平版印刷版用支持体の製造方法及び製造装置が
提供される。
研磨材スラリーの消耗量が少なく、しかも所謂ブラン汚
れが生じることがなく、耐刷性に優れたPS版の支持体
になる平版印刷版用支持体を高い生産安定性を以って製
造できる平版印刷版用支持体の製造方法及び製造装置が
提供される。
【図1】本発明に係る平版印刷版用支持体の製造装置の
一例につき、構成の概略を示す概略図である。
一例につき、構成の概略を示す概略図である。
【図2】本発明に係る平版印刷版用支持体の製造方法に
おける研磨材スラリー工程で供給される研磨材粒子の粒
径分布と、研磨材スラリー廃液回収工程において除去さ
れる粒子の粒径分布との関係を示す粒径分布図である。
おける研磨材スラリー工程で供給される研磨材粒子の粒
径分布と、研磨材スラリー廃液回収工程において除去さ
れる粒子の粒径分布との関係を示す粒径分布図である。
2 ブラシグレイン処理装置 6 研磨材スラリー廃液回収装置 8 回転ブラシ(機械的研磨装置) 10 回転ブラシ(機械的研磨装置) 18 第1研磨材スプレー(研磨材スラリー供給装置) 20 第2研磨材スプレー(研磨材スラリー供給装置) 22 研磨材スラリー供給管路(研磨材スラリー供給装
置)
置)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松浦 睦 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内 Fターム(参考) 2H114 AA04 AA14 DA03 DA05 DA08 DA15 DA75 EA01 EA03 EA05 FA01 GA03 3C047 GG14 GG17
Claims (4)
- 【請求項1】 平版印刷版用支持体の少なくとも一方の
面に研磨材スラリーを供給する研磨材スラリー供給工程
と、 前記平版印刷版用支持体における前記研磨材スラリーを
供給した側の面を機械的に研磨する機械的研磨工程と、 前記機械的研磨工程において発生した研磨材スラリー廃
液を回収し、前記研磨材スラリー廃液から、平均粒径
が、前記研磨材スラリー供給工程において供給される研
磨材スラリーに含まれる研磨材粒子の平均粒径の1/3
〜1/10である粒子を除去し、残りを前記研磨材スラ
リー供給工程に戻す研磨材スラリー廃液回収工程とを有
することを特徴とする平版印刷版用支持体の製造方法。 - 【請求項2】 前記研磨材スラリー中の研磨材の平均粒
径が10〜70μmである請求項1に記載の平版印刷版
用支持体の製造方法。 - 【請求項3】 前記研磨材スラリー廃液回収工程におい
ては、平均粒径が、前記研磨材スラリー供給工程におい
て供給される研磨材スラリーに含まれる研磨材粒子の平
均粒径の1/3〜1/10である粒子を、サイクロンに
よる分級により除去する請求項1又は2に記載の平版印
刷版用支持体の製造方法。 - 【請求項4】 平版印刷版用支持体の少なくとも一方の
面に研磨材スラリーを供給する研磨材スラリー供給装置
と、 前記平版印刷版用支持体における前記研磨材スラリを供
給した側の面を機械的に研磨する機械的研磨装置と、 前記機械的研磨装置において発生した研磨材スラリー廃
液を回収し、前記研磨材スラリー廃液から、平均粒径
が、前記研磨材スラリー供給工程において供給される研
磨材スラリーに含まれる研磨材粒子の平均粒径の1/3
〜1/10である粒子を除去し、残りを前記研磨材スラ
リー供給装置に戻す研磨材スラリー廃液回収装置とを有
することを特徴とする平版印刷版用支持体の製造装置。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000191501A JP2002011663A (ja) | 2000-06-26 | 2000-06-26 | 平版印刷版用支持体の製造方法及び製造装置 |
| CN01115759.3A CN1192906C (zh) | 2000-06-09 | 2001-06-08 | 平版印刷印版支架及其生产方法 |
| EP01114166A EP1162081B1 (en) | 2000-06-09 | 2001-06-11 | Lithographic printing plate support and method of manufacturing the same |
| DE60110152T DE60110152T2 (de) | 2000-06-09 | 2001-06-11 | Flachdruckplattenträger und Verfahren zur Herstellung |
| US09/876,996 US6575094B2 (en) | 2000-06-09 | 2001-06-11 | Lithographic printing plate support having a roughened surface |
| AT01114166T ATE293540T1 (de) | 2000-06-09 | 2001-06-11 | Flachdruckplattenträger und verfahren zur herstellung |
| US10/418,217 US6805051B2 (en) | 2000-06-09 | 2003-04-18 | Lithographic printing plate support and method of manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000191501A JP2002011663A (ja) | 2000-06-26 | 2000-06-26 | 平版印刷版用支持体の製造方法及び製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002011663A true JP2002011663A (ja) | 2002-01-15 |
Family
ID=18690796
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000191501A Pending JP2002011663A (ja) | 2000-06-09 | 2000-06-26 | 平版印刷版用支持体の製造方法及び製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002011663A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108927735A (zh) * | 2017-05-23 | 2018-12-04 | 天津滨海光热反射技术有限公司 | 一种节能型抛光装置及抛光粉溶液循环使用方法 |
| CN109940504A (zh) * | 2017-12-20 | 2019-06-28 | 松下知识产权经营株式会社 | 研磨装置及研磨方法 |
-
2000
- 2000-06-26 JP JP2000191501A patent/JP2002011663A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108927735A (zh) * | 2017-05-23 | 2018-12-04 | 天津滨海光热反射技术有限公司 | 一种节能型抛光装置及抛光粉溶液循环使用方法 |
| CN108927735B (zh) * | 2017-05-23 | 2023-08-15 | 天津滨海光热反射技术有限公司 | 一种节能型抛光装置及抛光粉溶液循环使用方法 |
| CN109940504A (zh) * | 2017-12-20 | 2019-06-28 | 松下知识产权经营株式会社 | 研磨装置及研磨方法 |
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