JP2000219984A - 金属ウェブの洗浄方法 - Google Patents
金属ウェブの洗浄方法Info
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- JP2000219984A JP2000219984A JP11020611A JP2061199A JP2000219984A JP 2000219984 A JP2000219984 A JP 2000219984A JP 11020611 A JP11020611 A JP 11020611A JP 2061199 A JP2061199 A JP 2061199A JP 2000219984 A JP2000219984 A JP 2000219984A
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- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 平版印刷版用アルミニウム支持体等を作る場
合等に、前処理からの液によりウェブ表面等にスケ−ル
の発生を防止する方法を提供する。 【解決手段】 表面が汚染された金属ウェブをローラを
介して連続的に走行させつつ水洗する洗浄方法におい
て、該ローラと金属ウェブの接触面に形成される液面の
ｐＨを３．５以上又は８．５以下に制御する。
合等に、前処理からの液によりウェブ表面等にスケ−ル
の発生を防止する方法を提供する。 【解決手段】 表面が汚染された金属ウェブをローラを
介して連続的に走行させつつ水洗する洗浄方法におい
て、該ローラと金属ウェブの接触面に形成される液面の
ｐＨを３．５以上又は８．５以下に制御する。
Description
【０００１】
【発明が属する技術分野】本発明は、金属ウェブ、特に
表面処理中の平版印刷版用金属支持体の洗浄方法に関す
る。
表面処理中の平版印刷版用金属支持体の洗浄方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】以下、従来技術及び本発明を、主として
平版印刷版用アルミニウム支持体を製造する場合を例に
して説明するが、本発明が、平版印刷版用アルミニウム
支持体の洗浄方法に限られず、その他の平版印刷版用金
属支持体や、一般に金属ウェブの洗浄にも適用できるこ
とは勿論である。従来、例えば、平版印刷版用アルミニ
ウム支持体を製造する場合には、連続的に走行するアル
ミニウムウェブに各種の表面処理（粗面化処理）が施さ
れれる。これらの表面処理は、一般に処理液を用いて行
われるが、各処理の間で、前の処理でウェブ表面に付着
した処理液をウェブ面の上方に設けた洗浄装置を用いて
水で洗い落としていた。例えば、特開平３−１２６９０
０号公報に開示されているように、各工程の後に、処理
されたアルミニウム板をスプレーノズルから清浄な水を
噴射して水洗している（第１図等参照）。また特開昭６
２−５９０９４号公報には、連続的に走行するアルミニ
ウム板のごとき金属ウェブにノズルからスラリー液を吹
き付けて粗面化を行うに際して、スラリー液を吹き付け
る直前に、金属ウェブ表面を水洗スプレーによって洗浄
する装置が開示されている。
平版印刷版用アルミニウム支持体を製造する場合を例に
して説明するが、本発明が、平版印刷版用アルミニウム
支持体の洗浄方法に限られず、その他の平版印刷版用金
属支持体や、一般に金属ウェブの洗浄にも適用できるこ
とは勿論である。従来、例えば、平版印刷版用アルミニ
ウム支持体を製造する場合には、連続的に走行するアル
ミニウムウェブに各種の表面処理（粗面化処理）が施さ
れれる。これらの表面処理は、一般に処理液を用いて行
われるが、各処理の間で、前の処理でウェブ表面に付着
した処理液をウェブ面の上方に設けた洗浄装置を用いて
水で洗い落としていた。例えば、特開平３−１２６９０
０号公報に開示されているように、各工程の後に、処理
されたアルミニウム板をスプレーノズルから清浄な水を
噴射して水洗している（第１図等参照）。また特開昭６
２−５９０９４号公報には、連続的に走行するアルミニ
ウム板のごとき金属ウェブにノズルからスラリー液を吹
き付けて粗面化を行うに際して、スラリー液を吹き付け
る直前に、金属ウェブ表面を水洗スプレーによって洗浄
する装置が開示されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】平版印刷版用アルミニ
ウム支持体の製造に際しては、各種薬品を用いた処理が
施され、前工程て表面に付着した処理液が次工程に持ち
込まれるのを防ぐために、必然的に水洗が行われる。し
かしながら、この水洗処理時につぎのような問題が発生
する。 アルミニウムウェブと共に持ち出された処理液（例
えば、アルミニウムを含んだ酸性液またはアルカリ性
液）が水洗処理で希釈されスケール[ Ａｌ（ＯＨ）3 ]
が発生する。 で発生したスケールが、アルミニウムウェブを搬
送するロール表面に付着（又は、このようなスケールが
ローラ表面で発生）し、これによって、アルミニウムウ
ェブにきず等の故障を発生させる。 このような故障の発生を防止する為には、製造を中
止し、ローラの研磨（掃除）を実施しているが、作業負
荷が大きくなるという欠点がある。
ウム支持体の製造に際しては、各種薬品を用いた処理が
施され、前工程て表面に付着した処理液が次工程に持ち
込まれるのを防ぐために、必然的に水洗が行われる。し
かしながら、この水洗処理時につぎのような問題が発生
する。 アルミニウムウェブと共に持ち出された処理液（例
えば、アルミニウムを含んだ酸性液またはアルカリ性
液）が水洗処理で希釈されスケール[ Ａｌ（ＯＨ）3 ]
が発生する。 で発生したスケールが、アルミニウムウェブを搬
送するロール表面に付着（又は、このようなスケールが
ローラ表面で発生）し、これによって、アルミニウムウ
ェブにきず等の故障を発生させる。 このような故障の発生を防止する為には、製造を中
止し、ローラの研磨（掃除）を実施しているが、作業負
荷が大きくなるという欠点がある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記した
ような、ローラ表面に付着またはローラ表面で発生する
スケールを防止するために種々検討を重ねた結果、洗浄
処理部の下方の設けられたアルミニウムウェブを搬送す
るローラとアルミニウムウェブとの接触面で形成される
液膜のｐＨを３．５以下又は８．５以上にすることによ
って、上記したスケールの付着または発生を完全に防止
することができることを見出し、本発明を達成した。即
ち、本発明は、表面が汚染された金属ウェブを、洗浄処
理部に設けられたローラを介して連続的に走行させつつ
水洗して洗浄する金属ウェブの洗浄方法において、該ロ
ーラと金属ウェブの接触面に形成される液膜のｐＨ値を
３．５以下または８．５以上に制御することを特徴とす
る金属ウェブの洗浄方法である。本発明においては、液
膜のｐＨ値の制御を、水、酸性液、及びアルカリ性液を
適時組み合わせて適用できる手段を金属ウェブの両側に
設けて行うことが好ましい。また、ｐＨ値を制御するに
際し、該液膜のｐＨ値を測定する装置を設けてｐＨ値を
測定することが好ましい。
ような、ローラ表面に付着またはローラ表面で発生する
スケールを防止するために種々検討を重ねた結果、洗浄
処理部の下方の設けられたアルミニウムウェブを搬送す
るローラとアルミニウムウェブとの接触面で形成される
液膜のｐＨを３．５以下又は８．５以上にすることによ
って、上記したスケールの付着または発生を完全に防止
することができることを見出し、本発明を達成した。即
ち、本発明は、表面が汚染された金属ウェブを、洗浄処
理部に設けられたローラを介して連続的に走行させつつ
水洗して洗浄する金属ウェブの洗浄方法において、該ロ
ーラと金属ウェブの接触面に形成される液膜のｐＨ値を
３．５以下または８．５以上に制御することを特徴とす
る金属ウェブの洗浄方法である。本発明においては、液
膜のｐＨ値の制御を、水、酸性液、及びアルカリ性液を
適時組み合わせて適用できる手段を金属ウェブの両側に
設けて行うことが好ましい。また、ｐＨ値を制御するに
際し、該液膜のｐＨ値を測定する装置を設けてｐＨ値を
測定することが好ましい。
【０００５】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
図１は、本発明を実施する洗浄装置に一例を示す略図で
あって、連続的に走行するアルミニウムウェブを、Ａ槽
において、例えば、アルミニウムイオンを少量含んだ苛
性ソーダ水溶液でエッチング処理（図示せず）し、ガイ
ドローラを介して洗浄処理槽（洗浄処理部）に送られ、
同処理槽の下方部に設けられたローラ９を介して搬送さ
れ、アルミニウムウェブの両側に設けられた洗浄装置
５、５及び６、６によってウェブの両面が水洗されて、
次のＢ槽に送られ、同様又は異なる表面処理され、必要
に応じて、同様な洗浄処理槽に送られ、同様に洗浄され
次の工程に送られる。なお、図中４はローラ９の洗浄装
置である。この場合、前記したように、Ａ槽における処
理液である、アルミニウムを含んだ苛性ソーダ水溶液が
洗浄処理槽内で水洗処理で希釈されアルミニウムウェブ
表面にＡｌ(ＯＨ）3 のスケールが発生し、ウェブを搬
送するローラ９の表面に付着するか、スケールがローラ
表面で発生して付着し、ローラ９表面の沿って搬送され
るアルミニウムウェブに傷等の故障を発生させる。アル
ミニウムウェブ表面にこのような故障が発生すると、以
後の表面処理に悪影響を与え、表面性の良い平版印刷版
用アルミニウム支持体を得ることができない。また、上
記の如きスケールは、ウェブの表面のみならず裏面にも
発生し、ローラ９表面の移ったり、次のガイドローラに
付着してきず故障を生じる。
図１は、本発明を実施する洗浄装置に一例を示す略図で
あって、連続的に走行するアルミニウムウェブを、Ａ槽
において、例えば、アルミニウムイオンを少量含んだ苛
性ソーダ水溶液でエッチング処理（図示せず）し、ガイ
ドローラを介して洗浄処理槽（洗浄処理部）に送られ、
同処理槽の下方部に設けられたローラ９を介して搬送さ
れ、アルミニウムウェブの両側に設けられた洗浄装置
５、５及び６、６によってウェブの両面が水洗されて、
次のＢ槽に送られ、同様又は異なる表面処理され、必要
に応じて、同様な洗浄処理槽に送られ、同様に洗浄され
次の工程に送られる。なお、図中４はローラ９の洗浄装
置である。この場合、前記したように、Ａ槽における処
理液である、アルミニウムを含んだ苛性ソーダ水溶液が
洗浄処理槽内で水洗処理で希釈されアルミニウムウェブ
表面にＡｌ(ＯＨ）3 のスケールが発生し、ウェブを搬
送するローラ９の表面に付着するか、スケールがローラ
表面で発生して付着し、ローラ９表面の沿って搬送され
るアルミニウムウェブに傷等の故障を発生させる。アル
ミニウムウェブ表面にこのような故障が発生すると、以
後の表面処理に悪影響を与え、表面性の良い平版印刷版
用アルミニウム支持体を得ることができない。また、上
記の如きスケールは、ウェブの表面のみならず裏面にも
発生し、ローラ９表面の移ったり、次のガイドローラに
付着してきず故障を生じる。
【０００６】上記の如きスケールは単なる水による洗浄
では殆ど除去することができないので、本発明者らは、
このようなスケールを完全に除去するための検討を行
い、例えば、図１において、アルミニウムウェブ両面の
洗浄装置５、５と６、６及びローラ面の洗浄装置４を用
いて、水、酸性液、及びアルカリ性液を適時組み合わせ
て適用し、ローラ９とアルミニウムウェブ１との接触面
で形成される液膜２、３のｐＨを３．５以下又は８．５
以上にすることによって、上記したスケールの付着また
は発生を完全に防止することができた。また、このよう
な、液の組み合わせをウェブ裏面にも適用することによ
り、ウェブ裏面に発生したスケールも完全に除去するこ
とができた。図２は、本発明に用いる洗浄処理槽の他の
態様を示すもので、図１における洗浄装置を５、５−−
−８、８と増加させｐＨの調節を多様に行えるようにし
てある。本発明で、酸性液とする場合には、例えば、硝
酸、塩酸、硫酸、燐酸等をスケールの種類等によって用
い、アルカリ性液とする場合には、苛性ソーダ（ＮａＯ
Ｈ），苛性カリ（ＫＯＨ），等を用いる。また、本発明
においては、液膜のｐＨをｐＨメーターで測定し、液膜
のｐＨが上記した値になるように、水、酸性液、及びア
ルカリ性液を適時組み合わせて適用することが好まし
い。ｐＨを測定する液膜は、ローラ９の両側の液膜２、
３でもよく、また後の実施例２に示すように、ローラ９
後方の液膜１８のみでもよい。但し、この場合は、ウェ
ブに裏面のスケールが除去出来ないから、裏面のスケー
ルが少ないか、裏面にスケールがあっても特に問題が生
じないような場合に適用される。
では殆ど除去することができないので、本発明者らは、
このようなスケールを完全に除去するための検討を行
い、例えば、図１において、アルミニウムウェブ両面の
洗浄装置５、５と６、６及びローラ面の洗浄装置４を用
いて、水、酸性液、及びアルカリ性液を適時組み合わせ
て適用し、ローラ９とアルミニウムウェブ１との接触面
で形成される液膜２、３のｐＨを３．５以下又は８．５
以上にすることによって、上記したスケールの付着また
は発生を完全に防止することができた。また、このよう
な、液の組み合わせをウェブ裏面にも適用することによ
り、ウェブ裏面に発生したスケールも完全に除去するこ
とができた。図２は、本発明に用いる洗浄処理槽の他の
態様を示すもので、図１における洗浄装置を５、５−−
−８、８と増加させｐＨの調節を多様に行えるようにし
てある。本発明で、酸性液とする場合には、例えば、硝
酸、塩酸、硫酸、燐酸等をスケールの種類等によって用
い、アルカリ性液とする場合には、苛性ソーダ（ＮａＯ
Ｈ），苛性カリ（ＫＯＨ），等を用いる。また、本発明
においては、液膜のｐＨをｐＨメーターで測定し、液膜
のｐＨが上記した値になるように、水、酸性液、及びア
ルカリ性液を適時組み合わせて適用することが好まし
い。ｐＨを測定する液膜は、ローラ９の両側の液膜２、
３でもよく、また後の実施例２に示すように、ローラ９
後方の液膜１８のみでもよい。但し、この場合は、ウェ
ブに裏面のスケールが除去出来ないから、裏面のスケー
ルが少ないか、裏面にスケールがあっても特に問題が生
じないような場合に適用される。
【０００７】
【実施例】以下、本発明を実施例によって具体的に説明
する。 実施例１ 厚さ０．２４ｍｍ、巾１３００ｍｍのアルミニウムウェ
ブを図３に示す装置を用いて処理した。アルミニウムウ
ェブを連続的に走行させ、Ａ槽において、アルミニウム
５％含む１０％苛性ソーダ水溶液によってエッチング処
理を行い、洗浄処理槽で洗浄処理を行った後に、Ｂ槽に
て、アルミニウム０．１％含む１％硝酸水溶液でデスマ
ット処理を行い、次工程に送った。この際、洗浄処理槽
では、それぞれ２対（ウェブの両側に設けられている）
の洗浄装置１１〜１４及びローラ１６の洗浄装置１５に
て、表１に示す処理液をスプレイし、液膜１７、１８の
ｐＨとローラ１６上のスケールの状態を表１に示した。
表１の結果から明らかなように、従来のように、洗浄を
水のみで行った場合には、ローラ１６の全面にスケール
〔Ａｌ（ＯＨ）3 〕が発生していたが、液膜のｐＨを本
発明で規定している範囲とした場合にはローラにスケー
ルの発生が生じていないことがわかる。また、各洗浄液
として、本発明で用いた洗浄液を用いた場合には、アル
ミニウムウェブの裏面にも何らのスケールが発生してい
なかった。
する。 実施例１ 厚さ０．２４ｍｍ、巾１３００ｍｍのアルミニウムウェ
ブを図３に示す装置を用いて処理した。アルミニウムウ
ェブを連続的に走行させ、Ａ槽において、アルミニウム
５％含む１０％苛性ソーダ水溶液によってエッチング処
理を行い、洗浄処理槽で洗浄処理を行った後に、Ｂ槽に
て、アルミニウム０．１％含む１％硝酸水溶液でデスマ
ット処理を行い、次工程に送った。この際、洗浄処理槽
では、それぞれ２対（ウェブの両側に設けられている）
の洗浄装置１１〜１４及びローラ１６の洗浄装置１５に
て、表１に示す処理液をスプレイし、液膜１７、１８の
ｐＨとローラ１６上のスケールの状態を表１に示した。
表１の結果から明らかなように、従来のように、洗浄を
水のみで行った場合には、ローラ１６の全面にスケール
〔Ａｌ（ＯＨ）3 〕が発生していたが、液膜のｐＨを本
発明で規定している範囲とした場合にはローラにスケー
ルの発生が生じていないことがわかる。また、各洗浄液
として、本発明で用いた洗浄液を用いた場合には、アル
ミニウムウェブの裏面にも何らのスケールが発生してい
なかった。
【０００８】実施例２ 実施例１と同様なアルミニウムウェブを図３の装置を用
いて処理し、Ａ槽において、アルミニウム１％含む５％
硝酸水溶液を用いて電気化学的粗面化処理を行い、洗浄
処理槽で洗浄後、Ｂ槽にて、アルミニウム５％含む１０
％苛性ソーダ水溶液にてエッチング処理を行った。この
際も、洗浄処理槽では、それぞれ２対（ウェブの両側に
設けられている）の洗浄装置１１〜１４及びローラ１６
の洗浄装置１５にて、表１に示す処理液をスプレイし、
液膜１７、１８のｐＨとローラ１６上のスケールの状態
を表１に示した。表１の結果から明らかなように、実施
例１と同様に、従来のように、洗浄を水のみで行った場
合には、ローラ１６の全面にスケールが発生していた
が、液膜のｐＨを本発明で規定している範囲とした場合
にはローラにスケールの発生が生じていないことがわか
る。また、各洗浄液として、本発明で用いた洗浄液を用
いた場合には、アルミニウムウェブの裏面のスケールも
除去されていた。
いて処理し、Ａ槽において、アルミニウム１％含む５％
硝酸水溶液を用いて電気化学的粗面化処理を行い、洗浄
処理槽で洗浄後、Ｂ槽にて、アルミニウム５％含む１０
％苛性ソーダ水溶液にてエッチング処理を行った。この
際も、洗浄処理槽では、それぞれ２対（ウェブの両側に
設けられている）の洗浄装置１１〜１４及びローラ１６
の洗浄装置１５にて、表１に示す処理液をスプレイし、
液膜１７、１８のｐＨとローラ１６上のスケールの状態
を表１に示した。表１の結果から明らかなように、実施
例１と同様に、従来のように、洗浄を水のみで行った場
合には、ローラ１６の全面にスケールが発生していた
が、液膜のｐＨを本発明で規定している範囲とした場合
にはローラにスケールの発生が生じていないことがわか
る。また、各洗浄液として、本発明で用いた洗浄液を用
いた場合には、アルミニウムウェブの裏面のスケールも
除去されていた。
【０００９】
【表１】
【００１０】実施例３ 実施例１と同様なアルミニウムウェブを図４の装置を用
いて処理し、Ａ槽において、アルミニウム１％含む５％
硝酸水溶液を用いて電気化学的粗面化処理を行い、洗浄
処理槽で洗浄後、Ｂ槽にて、アルミニウム５％含む１０
％苛性ソーダ水溶液にてエッチング処理を行った。この
例では、洗浄処理槽のそれぞれ２対（ウェブの両側に設
けられている）の洗浄装置１１〜１４は水洗浄とし、膜
液１８のｐＨをｐＨメーターで測定し、その測定値に応
じてローラ１６の洗浄装置１５より酸性液またはアルカ
リ性液を供給し、液膜１７、１８のｐＨを３．５以下又
は８．５以上にする。このような操作によっても、ロー
ラ１６には、スケールの発生は全く生じなかった。
いて処理し、Ａ槽において、アルミニウム１％含む５％
硝酸水溶液を用いて電気化学的粗面化処理を行い、洗浄
処理槽で洗浄後、Ｂ槽にて、アルミニウム５％含む１０
％苛性ソーダ水溶液にてエッチング処理を行った。この
例では、洗浄処理槽のそれぞれ２対（ウェブの両側に設
けられている）の洗浄装置１１〜１４は水洗浄とし、膜
液１８のｐＨをｐＨメーターで測定し、その測定値に応
じてローラ１６の洗浄装置１５より酸性液またはアルカ
リ性液を供給し、液膜１７、１８のｐＨを３．５以下又
は８．５以上にする。このような操作によっても、ロー
ラ１６には、スケールの発生は全く生じなかった。
【００１１】
【発明の効果】本発明によるときは、金属ウェブの前処
理に起因するスケールが、洗浄処理槽のローラに付着す
るのを完全に防止することができ、製品の品質維持及び
製造の安定化を図ることができるとともに、従来のよう
に、操作を中止してスケールが付着したローラから除去
する等の作業を不要とし、設備のメンテナンスの負荷を
減少させることができる。
理に起因するスケールが、洗浄処理槽のローラに付着す
るのを完全に防止することができ、製品の品質維持及び
製造の安定化を図ることができるとともに、従来のよう
に、操作を中止してスケールが付着したローラから除去
する等の作業を不要とし、設備のメンテナンスの負荷を
減少させることができる。
【図１】本発明を実施する洗浄処理槽の一例を示す概略
断面図。
断面図。
【図２】本発明を実施する洗浄処理槽の他の一例を示す
概略断面図。
概略断面図。
【図３】本発明の実施例１、２で用いた洗浄処理槽を示
す概略断面図。
す概略断面図。
【図４】本発明の実施例３で用いた洗浄処理槽を示す概
略断面図。
略断面図。
１ アルミニウムウェブ、 ２、３ 液膜、 ４ ローラ洗浄装置、 ５、５−−−８、８ ウェブ洗浄装置、 ９ 搬送ローラ、 １１−−−１４ ウェブ洗浄装置、 １５ ローラ洗浄装置、 １６ 搬送ローラ、 １７、１８ 液膜、
Claims (4)
- 【請求項１】表面が汚染された金属ウェブを、洗浄処理
部に設けられたローラを介して連続的に走行させつつ水
洗して洗浄する金属ウェブの洗浄方法において、該ロー
ラと金属ウェブの接触面に形成される液膜のｐＨ値を
３．５以下または８．５以上に制御することを特徴とす
る金属ウェブの洗浄方法。 - 【請求項２】ｐＨ値を制御する方法として、水、酸性
液、及びアルカリ性液を適時組み合わせて洗浄できる手
段を金属ウェブの両側に設けて行う請求項１に記載の金
属ウェブの洗浄方法。 - 【請求項３】ｐＨ値を制御するに際し、該液膜のｐＨ値
を測定する装置を設けてｐＨ値を測定する請求項１に記
載の金属ウェブの洗浄方法。 - 【請求項４】金属ウェブが表面処理中の平版印刷版用金
属支持体である請求項１に記載の金属ウェブの洗浄方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11020611A JP2000219984A (ja) | 1999-01-28 | 1999-01-28 | 金属ウェブの洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11020611A JP2000219984A (ja) | 1999-01-28 | 1999-01-28 | 金属ウェブの洗浄方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000219984A true JP2000219984A (ja) | 2000-08-08 |
| JP2000219984A5 JP2000219984A5 (ja) | 2005-07-07 |
Family
ID=12032070
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11020611A Abandoned JP2000219984A (ja) | 1999-01-28 | 1999-01-28 | 金属ウェブの洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000219984A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100407408B1 (ko) * | 2000-12-26 | 2003-11-28 | 주식회사 포스코 | 수세용액 중성화를 이용한 열연강판의 부식 발생 방지방법 및 그 시스템 |
| KR100550286B1 (ko) * | 2001-12-21 | 2006-02-08 | 재단법인 포항산업과학연구원 | 전기인가를 이용한 열연강판 부식방지 방법 |
| KR100823619B1 (ko) * | 2001-12-21 | 2008-04-21 | 재단법인 포항산업과학연구원 | 질소분사를 이용한 열연강판 부식방지 방법 |
-
1999
- 1999-01-28 JP JP11020611A patent/JP2000219984A/ja not_active Abandoned
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100407408B1 (ko) * | 2000-12-26 | 2003-11-28 | 주식회사 포스코 | 수세용액 중성화를 이용한 열연강판의 부식 발생 방지방법 및 그 시스템 |
| KR100550286B1 (ko) * | 2001-12-21 | 2006-02-08 | 재단법인 포항산업과학연구원 | 전기인가를 이용한 열연강판 부식방지 방법 |
| KR100823619B1 (ko) * | 2001-12-21 | 2008-04-21 | 재단법인 포항산업과학연구원 | 질소분사를 이용한 열연강판 부식방지 방법 |
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